KR101296476B1 - Transfer mechanism and processing system for object to be processed - Google Patents

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Abstract

본 발명의 과제는, 적은 대수의 이온 발생 수단으로 예를 들어 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 광범위에 걸쳐서 대전 부위의 제전 및 부유하는 대전 먼지의 제전을 행하는 것이 가능한 피처리체의 이동 적재 기구를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a mobile loading mechanism of a workpiece that can be charged with a small number of ion generating means, for example, to charge the charged portion and to remove floating charged dust over a wide range in the workpiece movement loading area. .

복수의 피처리체(W)를 복수단에 걸쳐서 보유 지지하여 수용하는 것이 가능한 수용 박스(6)와, 복수의 피처리체를 복수단에 걸쳐서 보유 지지하고, 피처리체에 대해 소정의 처리를 실시하기 위한 처리 용기(64) 내로 로드 및 언로드되는 피처리체 보유 지지 수단(18) 사이에서, 피처리체의 이동 적재를 행하는 피처리체의 이동 적재 기구(52)에 있어서, 승강 수단(54)에 의해 상하 방향으로 승강 가능하게 이루어진 승강대(56)와, 승강대에 설치되어, 피처리체를 적재하여 전진, 후퇴 및 선회 가능하게 이루어진 포크 수단(58)과, 포크 수단에 설치되어 정전기를 제거하는 이온을 발생시키는 이온 발생 수단(60)을 구비한다.A housing box 6 capable of holding and receiving a plurality of objects W over a plurality of stages, and holding a plurality of objects over a plurality of stages, and for carrying out a predetermined treatment on the object. Between the workpiece holding means 18 that is loaded and unloaded into the processing container 64, in the movable loading mechanism 52 of the workpiece to carry out the moving stack of the workpiece, the lifting means 54 moves upwards and downwards. An elevator platform 56 configured to be able to move up and down, a fork means 58 installed on the platform, and capable of moving forward, retracting and turning to load an object to be processed, and generating ions generated in the fork means to generate ions to remove static electricity. Means 60 are provided.

수용 박스, 포크 수단, 이온 발생 수단, 보트 승강 기구, 보트 이동 적재 기구 Storage box, fork means, ion generating means, boat lifting mechanism, boat moving loading mechanism

Description

피처리체의 이동 적재 기구 및 피처리체의 처리 시스템 {TRANSFER MECHANISM AND PROCESSING SYSTEM FOR OBJECT TO BE PROCESSED}Mobile loading mechanism of the object and processing system of the object {TRANSFER MECHANISM AND PROCESSING SYSTEM FOR OBJECT TO BE PROCESSED}

본 발명은, 반도체 웨이퍼 등의 피처리체를 수납하는 수용 박스로부터 피처리체를 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 피처리체 보트로 이동 적재하여 피처리체에 열처리를 실시하도록 한 처리 시스템 및 피처리체의 이동 적재 기구에 관한 것이다.The present invention is directed to a processing system and a mobile stacking mechanism of a workpiece to which a workpiece is transferred to a workpiece boat in a workpiece moving loading area from a receiving box for storing a workpiece such as a semiconductor wafer to heat-treat the workpiece. It is about.

일반적으로, IC나 LSI 등의 반도체 집적 회로를 제조하기 위해서는, 반도체 웨이퍼에 대해 각종 성막 처리, 산화 확산 처리, 에칭 처리 등을 반복하여 행하는데, 각 처리를 행하는 데 있어서, 반도체 웨이퍼를 대응하는 장치간에 반송할 필요가 있다. 이 경우, 반도체 웨이퍼는 복수매, 예를 들어 25매씩 수용 박스 내로 수용되어 반송된다. 이러한 종류의 수용 박스로서는, 카세트와 같이 대기에 대해 개방 상태에서 반송하는 것이나, FOUP(등록상표)와 같이 파티클이나 자연 산화막의 부착을 억제하기 위해, 개폐 덮개로 밀폐 상태가 된 상자 내를 N2 가스 등의 불활성 가스나 청정 공기의 분위기로 한 것이 알려져 있다(특허 문헌 1 내지 특허 문헌 3).In general, in order to manufacture a semiconductor integrated circuit such as an IC or an LSI, various film forming processes, oxidation diffusion processes, etching processes, and the like are repeatedly performed on a semiconductor wafer. In each process, an apparatus corresponding to a semiconductor wafer is used. It is necessary to carry back. In this case, a plurality of semiconductor wafers are accommodated in the storage box and conveyed, for example, 25 sheets. As a storage box of this kind, the inside of the box closed by an opening / closing cover N 2 is conveyed in an open state to the atmosphere like a cassette, or in order to suppress adhesion of particles and natural oxide films such as FOUP®. It is known to set it as atmosphere of inert gas, such as gas, or clean air (patent document 1-patent document 3).

그리고, 상기 수용 박스를 취급하는 예를 들어 뱃치(batch)식 처리 시스템에 있어서는, 상기 수용 박스를 반송 기구에 의해 반송하는 박스 반송 에어리어와, 이 수용 박스로부터 반도체 웨이퍼를 열처리를 위해 웨이퍼 보트 등으로 이동 적재하기 위한 피처리체 이동 적재 에어리어가 일반적으로는 있다(예를 들어 특허 문헌 4 내지 특허 문헌 6). 그리고, 양 에어리어는 웨이퍼의 전달을 행하기 위해 개폐 가능하게 이루어진 개구 게이트를 갖는 구획벽에 의해 구획되어 있고, 피처리체를 노출 상태에서 반송하는 상기 피처리체 이동 적재 에어리어 안은, 웨이퍼 표면에 자연 산화막 등이 부착하는 것을 방지하기 위해 불활성 가스, 예를 들어 질소 분위기로 이루어져 있는 경우도 있고, 청정 분위기로 이루어져 있는 경우도 있다.For example, in the batch processing system which handles the said accommodation box, the box conveyance area which conveys the said accommodation box with a conveyance mechanism, and from this accommodation box to a wafer boat etc. for heat processing are performed. There is generally a workpiece moving loading area for moving loading (for example, Patent Documents 4 to 6). And both areas are partitioned by the partition wall which has the opening gate which can be opened and closed so that a wafer may be transferred, The inside of the to-be-processed object moving area which conveys a to-be-processed object in an exposed state has a natural oxide film etc. on the wafer surface. In order to prevent this adhesion, it may consist of an inert gas, for example, nitrogen atmosphere, and may consist of a clean atmosphere.

그리고, 상기 피처리체 이동 적재 에어리어에서는, 상술한 바와 같은 예를 들어 25매의 웨이퍼를 수용하는 수용 박스 내의 웨이퍼를, 웨이퍼의 이동 적재 기구를 사용하여 석영 등으로 이루어지는 피처리체 보트로서의 웨이퍼 보트에 대해 이동 적재를 행한다. 이 웨이퍼 보트는 복수매, 예를 들어 50 내지 150매 정도의 웨이퍼를 등피치로 다단으로 보유 지지할 수 있도록 되어 있다. 또한 마찬가지로, 웨이퍼에 대한 열처리가 완료되면, 상기 이동 적재 기구를 사용하여 상기와는 반대로 웨이퍼 보트로부터 수용 박스에 대해 웨이퍼의 이동 적재를 행한다.In the above-described object moving loading area, for example, a wafer boat as an object boat made of quartz or the like using a wafer moving loading mechanism for a wafer in a housing box that holds 25 wafers as described above. Transfer stacking is performed. This wafer boat is capable of holding a plurality of wafers, for example, about 50 to 150 wafers in multiple stages at equal pitch. In the same manner, when the heat treatment for the wafer is completed, the mobile stacking mechanism is used to perform the mobile stacking of the wafer from the wafer boat to the housing box from the wafer boat as opposed to the above.

여기서, 일반적으로 종형의 열처리 유닛에 있어서는, 사용하는 석영제의 웨이퍼 보트로서는, 웨이퍼 보트를 구성하는 지지 기둥에 웨이퍼의 에지를 지지하는 웨이퍼 지지 홈부를 형성하여 이루어지는, 소위 래더형의 웨이퍼 보트나 지지 기둥 사이에 링 형상의 적재대를 다단으로 걸쳐서, 각 적재대에 웨이퍼의 에지를 지지하는 지지 갈고리부를 형성하여 이루어지는, 소위 링형의 웨이퍼 보트가 알려져 있다(특허 문헌 6 등).In general, in the vertical heat treatment unit, as a quartz wafer boat to be used, a so-called ladder wafer boat or support formed by forming a wafer support groove portion for supporting the edge of the wafer in a support column constituting the wafer boat is used. A so-called ring wafer boat is known which forms a support hook portion for supporting an edge of a wafer on each of the mounting boards by spreading a ring-shaped mounting table in multiple stages between the pillars (Patent Document 6 and the like).

그런데, 상술한 바와 같이 피처리체 이동 적재 에어리어 내에서 상기한 이동 적재 기구를 사용하여 수용 박스와 웨이퍼 보트 사이에서 반도체 웨이퍼의 이동 적재를 행하는 경우, 부재끼리간의 약간의 접촉, 혹은 미끄럼 접촉에 의해 상기 웨이퍼 자체, 수용 박스 자체, 또는 웨이퍼 보트 자체에 정전기가 발생하는 것은 피할 수 없다. 이 정전기가 발생하면, 분위기 중에 떠도는 약간의 파티클이라도 이를 흡착해 버려 제품의 수율 저하의 원인이 되어 버린다.By the way, when carrying out the transfer stack of a semiconductor wafer between a storage box and a wafer boat using the above-mentioned moving loading mechanism in the to-be-processed object moving loading area as mentioned above, by the slight contact or sliding contact between members, The generation of static electricity on the wafer itself, the receiving box itself, or the wafer boat itself is unavoidable. If this static electricity is generated, even a small amount of particles floating in the atmosphere will be adsorbed and cause a decrease in product yield.

그로 인해, 종래의 반송 기구에 있어서는, 상기 발생한 정전기를 제거할 목적으로 피처리체 이동 적재 에어리어 내에 이오나이저를 고정적으로 설치하거나, 혹은 카세트간의 웨이퍼 이동 적재시에 웨이퍼에 발생하는 정전기를 제거할 목적으로 이동 적재 기구의 이동 적재 아암의 밑동에 복수의 이오나이저를 설치하도록 하여, 상기 발생한 정전기를 제전하도록 하고 있었다(예를 들어 특허 문헌 7).Therefore, in the conventional conveyance mechanism, for the purpose of removing the generated static electricity, the ionizer is fixedly installed in the workpiece-moving loading area, or for removing the static electricity generated on the wafer during wafer transfer between cassettes. A plurality of ionizers were provided in the base of the movable loading arm of the movable loading mechanism to discharge the generated static electricity (for example, Patent Document 7).

[특허 문헌 1] 일본 특허 출원 공개 평8-279546호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 8-279546

[특허 문헌 2] 일본 특허 출원 공개 평9-306975호 공보[Patent Document 2] Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 9-306975

[특허 문헌 3] 일본 특허 출원 공개 평11-274267호 공보[Patent Document 3] Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 11-274267

[특허 문헌 4] 일본 특허 출원 공개 제2002-76089호 공보[Patent Document 4] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-76089

[특허 문헌 5] 일본 특허 출원 공개 제2003-37148호 공보[Patent Document 5] Japanese Patent Application Publication No. 2003-37148

[특허 문헌 6] 일본 특허 출원 공개 평9-213647호 공보[Patent Document 6] Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 9-213647

[특허 문헌 7] 일본 특허 출원 공개 평11-238778호 공보[Patent Document 7] Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 11-238778

그런데, 상술한 바와 같이 이오나이저를 피처리체 이동 적재 에어리어 내에 고정적으로 설치함으로써, 대전 부위나 부유하는 대전 먼지(파티클)의 어느 정도의 제전을 행할 수 있었다.By the way, as described above, the ionizer was fixedly installed in the object-moving loading area, whereby a certain amount of static charge of the charged portion and floating charged dust (particle) could be performed.

그러나, 실제 피처리체 이동 적재 에어리어 내에서는 이동 적재 기구가 이동하는 영역의 많은 부분에서 정전기의 대전이 발생하고 있고, 이들 대전 부위를 충분히 또한 효과적으로 제전하는 것은 상기한 종래 구성에서는 곤란하였다. 이 경우, 이동 적재 기구가 이동하는 모든 영역에 대해 이오나이저를 설치하는 것도 생각할 수 있지만, 이 경우에는 이오나이저의 설치 대수가 증가하여, 설비 비용이 대폭으로 증대해 버리므로, 현실적이지 않다.However, in the actual object to be processed moving area, charging of static electricity occurs in a large part of the area where the moving loading mechanism moves, and it is difficult in the above-described conventional configuration to sufficiently and effectively discharge these charged sites. In this case, it is also conceivable to install the ionizers in all the regions to which the mobile loading mechanism moves, but in this case, the number of ionizers installed increases and the installation cost greatly increases, which is not practical.

또한, 이동 적재 아암의 밑동에 이오나이저를 설치한 경우에는, 이것에 보유 지지한 예를 들어 웨이퍼 자체에 발생한 정전기의 제전은 유효하게 행할 수 있지만, 웨이퍼 보트 자체나 수용 박스 자체에 발생한 정전기의 제전은 유효하게 행할 수 없을 뿐만 아니라, 이 경우에도 설치하는 이오나이저의 수가 많아져 버리는 등의 문제가 있었다.In addition, when an ionizer is provided in the base of a movable loading arm, static electricity generated in the wafer itself, for example, held therein can be effectively discharged, but static electricity generated in the wafer boat itself or the receiving box itself can be effectively removed. Not only can not be effectively performed, but also in this case, there existed a problem that the number of ionizers installed increases.

본 발명은, 이상과 같은 문제점에 착안하여, 이를 유효하게 해결하기 위해 창안된 것이다. 본 발명의 목적은, 적은 대수의 이온 발생 수단으로 예를 들어 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 광범위에 걸쳐서 대전 부위의 제전 및 부유하는 대전 먼지의 제전을 행하는 것이 가능한 피처리체의 이동 적재 기구 및 피처리체의 처리 시스템을 제공하는 것에 있다.The present invention has been devised to solve the above problems and to effectively solve the above problems. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a mobile loading mechanism and an object to be processed that can be charged with a small number of ion generating means, for example, to charge the charged portion and to remove the charged charged dust over a wide range in the object moving load area. It is to provide a processing system.

청구항 1에 관한 발명은, 복수의 피처리체를 복수단에 걸쳐서 보유 지지하여 수용하는 것이 가능한 수용 박스와, 복수의 피처리체를 복수단에 걸쳐서 보유 지지하고, 상기 피처리체에 대해 소정의 처리를 실시하기 위한 처리 용기 내로 로드 및 언로드되는 피처리체 보유 지지 수단의 사이에서, 상기 피처리체의 이동 적재를 행하는 피처리체의 이동 적재 기구에 있어서, 승강 수단에 의해 상하 방향으로 승강 가능하게 이루어진 승강대와, 상기 승강대에 설치되어, 상기 피처리체를 적재하여 전진, 후퇴 및 선회 가능하게 이루어진 포크 수단과, 상기 포크 수단에 설치되어 정전기를 제거하는 이온을 발생시키는 이온 발생 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 피처리체의 이동 적재 기구이다.The invention according to claim 1 holds an accommodating box capable of holding and accommodating a plurality of workpieces over a plurality of stages, and holds a plurality of workpieces over a plurality of stages, and performs a predetermined process on the workpiece. In the movable loading mechanism of the workpiece to be loaded and unloaded into the processing container for carrying out the workpiece, the lifting table configured to be capable of lifting up and down by an elevating means; A fork means provided on a lift table, the fork means configured to load the object to be moved forwards, backwards, and pivotable; and an ion generating means installed on the fork means to generate ions to remove static electricity. It is a mobile loading mechanism.

이와 같이, 피처리체를 수용하는 수용 박스와 처리 용기 내로 로드 및 언로드되는 피처리체 보유 지지 수단 사이에서 피처리체의 이동 적재를 행하는 이동 적재 기구에 있어서, 피처리체를 적재하여 이동하는 포크 수단에 이온 발생 수단을 설치하여 정전기를 제거하도록 하였으므로, 적은 대수의 이온 발생 수단으로 예를 들어 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 광범위에 걸쳐서 대전 부위의 제전 및 부유하는 대전 먼지의 제전을 행할 수 있다.As described above, in the mobile stacking mechanism for moving the object to be processed between the receiving box containing the object and the object holding means loaded and unloaded into the processing container, ions are generated in the fork means that loads and moves the object. Since a means is provided to remove static electricity, a small number of ion generating means can perform, for example, the charging of the charged site and the charging of the floating charged dust over a wide range in the object-moving loading area.

청구항 2의 발명은, 청구항 1의 발명에 있어서, 상기 포크 수단은, 상기 승강대 상에 선회 가능하게 설치된 선회대와, 상기 선회대에 설치되어 상기 피처리체를 적재하여 전진 및 후퇴 가능하게 이루어진 복수의 포크 본체로 이루어지는 것을 특징으로 한다.In the invention according to claim 1, in the invention of claim 1, the fork means includes a plurality of pivots that are pivotably mounted on the platform and a plurality of pivots that are provided on the pivot to load the object to be processed and move forward and backward. It is characterized by consisting of the fork body.

청구항 3의 발명은, 청구항 2의 발명에 있어서, 상기 포크 수단은, 상기 선회대에 설치되어, 상기 피처리체의 유무를 검출하는 광 센서를 선단부에 갖고 전진 및 후퇴 가능하게 이루어진 센서가 부착된 포크 본체를 구비하고 있는 것을 특징으로 한다.In the invention of claim 3, in the invention of claim 2, the fork means is provided on the pivot table and has a fork with a sensor configured to be capable of moving forward and backward with an optical sensor at the distal end that detects the presence or absence of the object to be processed. A main body is provided.

청구항 4의 발명은, 청구항 2 또는 청구항 3의 발명에 있어서, 상기 이온 발생 수단은 상기 선회대에 설치되는 것을 특징으로 한다.The invention of claim 4 is the invention of claim 2 or 3, wherein the ion generating means is provided on the pivot table.

청구항 5의 발명은, 청구항 2 내지 청구항 4 중 어느 한 항의 발명에 있어서, 상기 이온 발생 수단은 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급 수단을 갖고 있고, 상기 이온 발생 수단의 이온 분출 노즐은 상기 선회대의 선단부에 설치되는 것을 특징으로 한다.The invention of claim 5 is the invention according to any one of claims 2 to 4, wherein the ion generating means has a carrier gas supply means for supplying a carrier gas, and the ion ejection nozzle of the ion generating means has a tip end portion of the pivot table. Characterized in that installed in.

청구항 6의 발명은, 청구항 3의 발명에 있어서, 상기 이온 발생 수단은 상기 센서가 부착된 포크 본체에 설치되는 것을 특징으로 한다.According to a sixth aspect of the present invention, in the invention according to the third aspect, the ion generating means is provided in a fork body to which the sensor is attached.

청구항 7의 발명은, 청구항 3 또는 청구항 6의 발명에 있어서, 상기 이온 발생 수단은 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급 수단을 갖고 있고, 상기 이온 발생 수단의 이온 분출 노즐은 상기 센서가 부착된 포크 본체의 선단부에 설치되는 것을 특징으로 한다.The invention of claim 7 is the invention of claim 3 or 6, wherein the ion generating means has a carrier gas supply means for supplying a carrier gas, and the ion ejection nozzle of the ion generating means has a fork body with the sensor. Characterized in that it is installed at the tip of the.

청구항 8의 발명은, 청구항 5 또는 청구항 7의 발명에 있어서, 상기 이온 분출 노즐에는 상기 이온의 분출 방향을 확산시키는 확산 헤드가 설치되는 것을 특징으로 한다.The invention of claim 8 is characterized in that, in the invention of claim 5 or 7, the ion ejection nozzle is provided with a diffusion head for diffusing the ejection direction of the ions.

청구항 9의 발명은, 청구항 5 또는 청구항 7의 발명에 있어서, 상기 이온 분출 노즐에는 상기 이온의 분출 방향을 변화시키기 위한 가변 루버가 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.In the invention of claim 9, in the invention of claim 5 or 7, the ion ejection nozzle is provided with a variable louver for changing the ejection direction of the ions.

청구항 10의 발명은, 청구항 1 내지 청구항 9의 어느 한 항의 발명에 있어서, 상기 이온이 분출되는 영역에 설치되는 대전량 검출 센서와, 상기 대전량 검출 센서의 검출값을 기초로 하여 상기 이온 발생 수단의 동작을 제어하는 이온용 제어부를 갖는 것을 특징으로 한다.In the invention according to any one of claims 1 to 9, the ion generating means is based on a charge amount detecting sensor provided in a region where the ions are ejected and the detected value of the charge amount detecting sensor. It characterized in that it has a control unit for the ion to control the operation of.

청구항 11의 발명은, 청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항의 발명에 있어서, 상기 이온 발생 수단은 이오나이저인 것을 특징으로 한다.The invention of claim 11 is the invention according to any one of claims 1 to 10, wherein the ion generating means is an ionizer.

청구항 12의 발명은, 청구항 1 내지 청구항 11 중 어느 한 항의 발명에 있어서, 상기 수용 박스는, 착탈 가능하게 이루어진 개폐 덮개를 갖고, 내부는 밀폐 가능하게 이루어져 있는 것을 특징으로 한다.The invention according to claim 12 is the invention according to any one of claims 1 to 11, wherein the storage box has an opening and closing lid made detachable, and the inside is made sealable.

청구항 13의 발명은, 청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 한 항의 발명에 있어서, 상기 처리 용기는, 저부에 개구를 갖는 동시에 천장이 있도록 이루어진 석영제의 원통체로 이루어지고, 상기 개구에는 기밀하게 착탈 가능하게 이루어진 캡이 장착되는 것을 특징으로 한다.In the invention according to any one of claims 1 to 12, the processing container is made of a cylindrical cylinder made of quartz having an opening at the bottom and having a ceiling, and the opening is hermetically detachable. Characterized in that the cap is mounted.

청구항 14의 발명은, 청구항 1 내지 청구항 13 중 어느 한 항의 발명에 있어서, 상기 피처리체의 이동 적재를 행하는 공간은, 상기 처리 용기의 하방의 피처리체 이동 적재 에어리어인 것을 특징으로 한다.In the invention according to claim 14, in the invention according to any one of claims 1 to 13, the space for moving the object to be processed is placed under the processing container.

청구항 15의 발명은, 청구항 1 내지 청구항 14 중 어느 한 항의 발명에 있어 서, 상기 피처리체 이동 적재 에어리어에는 청정 기체의 사이드 플로우가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.In the invention according to claim 15, the side flow of the clean gas is formed in the object-moving loading area of the object.

청구항 16에 관한 발명은, 복수의 피처리체를 수용하는 수용 박스로부터 상기 피처리체를 취출하여 상기 피처리체에 대해 열처리를 실시하도록 한 피처리체의 처리 시스템에 있어서, 상기 피처리체에 대해 열처리를 실시하기 위한 처리 용기를 갖는 종형의 처리 유닛과, 상기 처리 유닛의 하방에 설치되어 주위가 구획벽에 의해 구획된 피처리체 이동 적재 에어리어와, 상기 피처리체를 복수단에 걸쳐서 보유 지지하는 피처리체 보유 지지 수단과, 상기 피처리체 보유 지지 수단을 승강시켜 상기 처리 용기 내로 로드 및 언로드하는 보유 지지 수단용 승강 수단과, 상기 구획벽에 설치된 이동 적재 스테이지에 설치한 상기 수용 박스와 상기 피처리체 보유 지지 수단 사이에서 상기 피처리체를 이동 적재하기 위한 청구항 1 내지 청구항 15 중 어느 한 항에 기재된 피처리체의 이동 적재 기구를 구비한 것을 특징으로 하는 피처리체의 처리 시스템이다.The invention according to claim 16 is a treatment system for an object to be subjected to a heat treatment for the object to be processed by taking out the object from a receiving box containing a plurality of objects to be treated, wherein the object is to be heat treated. A processing unit of a vertical type having a processing container for processing, a processing object moving loading area provided below the processing unit and surrounded by a partition wall, and the processing target holding means for holding the processing target over a plurality of stages; And lifting means for holding means for lifting and unloading the object holding means by loading and unloading it into the processing container, between the receiving box and the object holding means provided in the movable loading stage provided in the partition wall. The method according to any one of claims 1 to 15, for moving and loading the object to be processed. Implicit a processing system of the subject comprising the moving loading mechanism of the object piece.

본 발명에 관한 피처리체의 이동 적재 기구 및 피처리체의 처리 시스템에 따르면, 다음과 같이 우수한 작용 효과를 발휘할 수 있다.According to the mobile loading mechanism of the object to be processed and the processing system of the object to be processed according to the present invention, excellent effects can be obtained as follows.

피처리체를 수용하는 수용 박스와 처리 용기 내로 로드 및 언로드되는 피처리체 보유 지지 수단 사이에서 피처리체의 이동 적재를 행하는 이동 적재 기구에 있어서, 피처리체를 적재하여 이동하는 포크 수단에 이온 발생 수단을 마련하여 정전기를 제거하도록 하였으므로, 적은 대수의 이온 발생 수단으로 예를 들어 피처리 체 이동 적재 에어리어 내의 광범위에 걸쳐서 대전 부위의 제전 및 부유하는 대전 먼지의 제전을 행할 수 있다.A mobile stacking mechanism for moving a workpiece between a receiving box for receiving a workpiece and a workpiece holding means loaded and unloaded into the processing vessel, the ion generating means being provided in a fork means for loading and moving the workpiece. Since the static electricity is removed, a small number of ion generating means can perform, for example, the charging of the charged portion and the charging of the floating charged dust over a wide range in the object-moving loading area.

이하에, 본 발명에 관한 피처리체의 이동 적재 기구 및 피처리체의 처리 시스템의 적합한 일 실시 형태를 첨부 도면을 기초로 하여 상세하게 서술한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, one suitable embodiment of the moving loading mechanism of the to-be-processed object which concerns on this invention, and the processing system of a to-be-processed object is described in detail based on an accompanying drawing.

도 1은 본 발명에 관한 피처리체의 처리 시스템의 일 실시 형태를 나타내는 개략 구성도, 도 2는 본 발명에 관한 피처리체의 이동 적재 기구를 설치한 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 각 구성 부재의 배열 위치의 일례를 나타내는 평면도, 도 3은 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 청정 기체의 흐름을 나타내는 사시도, 도 4는 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 각 구성 부재의 배열 위치와 이동 적재 기구의 동작 상황의 일례를 나타내는 사시도, 도 5는 이온 발생 수단을 갖는 이동 적재 기구를 나타내는 확대 사시도, 도 6은 이동 적재 기구의 포크 수단을 나타내는 측면도, 도 7은 이온 발생 수단의 각종 형태를 나타내는 블록 구성도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The schematic block diagram which shows one Embodiment of the processing system of the to-be-processed object which concerns on this invention, and FIG. 2 is the arrangement position of each structural member in the to-be-processed object loading area which provided the moving-loading mechanism of the to-be-processed object which concerns on this invention. Fig. 3 is a perspective view showing the flow of clean gas in the workpiece movement loading area, and Fig. 4 is a perspective view showing an example of the arrangement position of each component in the workpiece movement loading area and the operation situation of the movement loading mechanism. 5 is an enlarged perspective view showing a mobile loading mechanism having ion generating means, FIG. 6 is a side view showing a fork means of the mobile loading mechanism, and FIG. 7 is a block configuration diagram showing various forms of the ion generating means.

우선, 도 1 및 도 2에 도시하는 바와 같이, 이 피처리체의 처리 시스템(2)은, 전체가 구획벽으로서 기능하는 예를 들어 스테인레스 등으로 이루어지는 하우징(4)으로 둘러싸여 있고, 이 내부는 수용 박스(6)를 반송하기 위한 수용 박스 반송 에어리어(8)와 피처리체인 반도체 웨이퍼(W)를 이동 적재하는 피처리체 이동 적재 에어리어(10)로 구획벽(12)에 의해 2분되어 있다. 또한, 여기서는 웨이퍼(W)는 직경이 300㎜인 웨이퍼를 사용하지만, 이에 한정되지 않고, 직경이 450㎜, 8인치(203.2㎜), 6인치(152.4㎜)의 웨이퍼도 사용할 수 있다.First, as shown to FIG. 1 and FIG. 2, the processing system 2 of this to-be-processed object is surrounded by the housing 4 which consists of stainless steel etc. which function as a partition wall as a whole, and this inside is accommodated. The partition wall 12 is divided into a receiving box conveying area 8 for conveying the box 6 and a workpiece moving loading area 10 for moving and stacking the semiconductor wafer W which is the object to be processed. In addition, although the wafer W uses the wafer of 300 mm in diameter here, it is not limited to this, A wafer of 450 mm in diameter, 8 inches (203.2 mm), and 6 inches (152.4 mm) can also be used.

상기 수용 박스(6)에는 복수매, 예를 들어 25매의 웨이퍼가 단차부 형상으로 지지되어 개폐 덮개(6A)에 의해 밀폐 상태로 되어 있고, 내부는 N2 가스 등의 불활성 가스 분위기나 청정 공기의 분위기로 이루어져 있다. 그리고, 상기 수용 박스 반송 에어리어(8) 내에는 청정 공기의 다운 플로우가 흐르게 되고, 상기 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내에는 후술하는 바와 같이 N2 가스 등의 불활성 가스의 청정 기체의 사이드 플로우가 형성된 불활성 가스 분위기로 이루어져 있다. 또한, 이 에어리어(10) 내에 청정 공기를 흐르게 하는 경우도 있다.A plurality of wafers, for example, 25 wafers are supported in the housing box 6 in a stepped shape, and are closed by the opening / closing lid 6A, and the inside is inert gas atmosphere such as N 2 gas or clean air. It consists of an atmosphere. The downflow of clean air flows in the storage box conveyance area 8, and the side flow of clean gas of an inert gas such as N 2 gas is contained in the object to be processed moving area 10 as described later. Inert gas atmosphere formed. In addition, clean air may flow in this area 10.

이 처리 시스템(2)은, 주로 수용 박스(6)를 처리 시스템(2) 내에 대해 반입 반출시키기 위한 반출입 포트(14)와, 상기 수용 박스(6)를 일시적으로 저장하기 위한 스토커부(16)와, 이 수용 박스(6)와 피처리체 보유 지지 수단으로서의 웨이퍼 보트(18) 사이에서 반도체 웨이퍼(W)를 이동 적재하는 이동 적재 스테이지(20)와, 웨이퍼 보트(18)로 이동 적재되어 유지되어 있는 반도체 웨이퍼(W)에 대해 소정의 열처리를 실시하는 처리 유닛(22)에 의해 주로 구성된다.This processing system 2 mainly comprises a carry-out port 14 for carrying in and out of the housing box 6 into the processing system 2, and a stocker portion 16 for temporarily storing the storage box 6. And the movable stacking stage 20 for moving and stacking the semiconductor wafer W between the housing box 6 and the wafer boat 18 as the object holding means and the wafer boat 18. It is mainly comprised by the processing unit 22 which performs predetermined | prescribed heat processing with respect to the semiconductor wafer W which exists.

상기 반출입 포트(14)에 있어서, 하우징(4)에는 항상 개방되어 있는 박스 반출입구(24)가 형성되어 있다. 또한, 이 박스 반출입구(24)가 개폐 도어에 의해 개폐 가능하게 되어 있는 경우도 있다. 이 박스 반출입구(24)에는, 외부로부터 반송되어 온 수용 박스(6)를 적재하기 위한 외측 적재대(26)가 설치되어 있다. 이 외측 적재대(26)는 상기 박스 반출입구(24)의 내측과 외측에 걸치도록 하여 설치되어 있다. 상기 외측 적재대(26)의 상부에는, 이 외측 적재대(26) 상을 슬라이드 이동 가능하게 이루어진 슬라이드판(28)이 설치되어 있고, 이 위에 수용 박스(6)를 적재한 상태에서 이동할 수 있도록 되어 있다.In the carrying-out port 14, the box 4 is formed in the housing 4, which is always open. In addition, this box carry-out and opening 24 may be opened and closed by an opening / closing door in some cases. The box loading / unloading opening 24 is provided with an outer mounting table 26 for mounting the storage box 6 conveyed from the outside. The outer mounting table 26 is provided so as to extend inside and outside the box carry-out and exit 24. On the upper side of the outer mounting table 26, a slide plate 28 configured to slide on the outer mounting table 26 is provided, so that it can move in a state where the housing box 6 is placed thereon. It is.

한편, 수용 박스 반송 에어리어(8) 내의 상방에는, 상기 스토커부(16)가 위치되어 있다. 이 스토커부(16)는, 도시예에 있어서는 예를 들어 2열 2단으로 상기 수용 박스(6)를 일시적으로 적재하여 보관하는 선반단(30)이 병설되어 있다. 또한, 이 선반단(30)의 수량은 특별히 한정되지 않고, 실제로는 더욱 많이 설치된다.On the other hand, the stocker 16 is located above the storage box conveyance area 8. In the example of this stocker part 16, the shelf end 30 which temporarily loads and stores the said accommodating box 6 by 2 rows and 2 steps is provided, for example. In addition, the quantity of this shelf end 30 is not specifically limited, In fact, many more are provided.

상기 2개의 선반단(30) 사이에는, 승강 엘리베이터(32)가 기립하여 설치되어 있고, 이 승강 엘리베이터(32)에는, 수평 방향으로 전진 후퇴 및 선회 가능하게 이루어진 박스 반송 아암(34)이 설치되어 있다. 따라서, 이 박스 반송 아암(34)을 굴신 및 승강시킴으로써, 수용 박스(6)를 박스 반송 아암(34)으로 보유 지지하여, 반출입 포트(14)와 스토커부(16) 사이에서 반송할 수 있도록 되어 있다.An elevating elevator 32 stands up between the two shelf ends 30, and the elevating elevator 32 is provided with a box conveying arm 34 configured to be able to move forward and backward in the horizontal direction. have. Therefore, by flexing and lifting this box conveyance arm 34, the storage box 6 is hold | maintained by the box conveyance arm 34, and it can convey between the carrying-out port 14 and the stocker part 16, have.

또한, 상기 이동 적재 스테이지(20)에 있어서, 양 에어리어(8, 10) 사이를 구획하는 구획벽(12)에는 수용 박스(6)의 개폐 덮개(6A)보다도 약간 크게 이루어진 개구(36)가 형성되는 동시에, 이 개구(36)의 수용 박스 반송 에어리어(8)측에는 받침대(38)가 수평하게 설치되어 있어, 이 위에 수용 박스(6)를 적재할 수 있도록 되어 있다. 또한, 이 받침대(38)의 일측에는, 이 위에 적재된 수용 박스(6)를 구획벽(12)측으로 압박하기 위한 액추에이터(40)가 설치되어 있고, 상기 수용 박스(6)의 개폐 덮개(6A)를, 상기 개구(36)에 면하게 한 상태에서 수용 박스(6)의 개구부의 개구 테두리가 구획벽(12)의 개구(36)의 개구 테두리에 대략 기밀하게 접촉되게 된다. 또한, 상기 액추에이터(40)로서 수용 박스(6)를, 그 상방으로부터 압박하여 고정하도록 한 것도 있다.In the movable loading stage 20, an opening 36 formed slightly larger than the opening / closing lid 6A of the housing box 6 is formed in the partition wall 12 partitioning between the two areas 8 and 10. At the same time, a pedestal 38 is horizontally provided on the side of the housing box conveyance area 8 of the opening 36 so that the housing box 6 can be stacked thereon. In addition, an actuator 40 for pressing the housing box 6 stacked thereon to the partition wall 12 side is provided on one side of the pedestal 38, and the opening and closing lid 6A of the housing box 6 is provided. In the state facing the opening 36, the opening edge of the opening of the housing box 6 is brought into almost hermetic contact with the opening edge of the opening 36 of the partition wall 12. In addition, there may be a case in which the housing box 6 is pressed and fixed from above as the actuator 40.

또한, 이 개구(36)의 피처리체 이동 적재 에어리어(10)측에는, 이를 개폐하는 개폐 도어(42)가 횡방향으로 슬라이드 가능하게 설치되어 있다. 또한, 이 개폐 도어(42)가 상하 방향으로 슬라이드 이동 가능하게 설치되는 경우도 있다. 또한, 이 개폐 도어(42)에는 상기 수용 박스(6)의 개폐 덮개(6A)를 개폐하기 위한 덮개 개폐 기구(44)가 설치되어 있다(도 2 참조).Moreover, the opening-closing door 42 which opens and closes this opening is provided in the side of the to-be-processed object moving area 10 of this opening 36 so that a transverse direction is possible. In addition, the opening / closing door 42 may be provided to be slidably movable in the vertical direction. Moreover, the opening / closing door 42 is provided with the cover opening / closing mechanism 44 for opening / closing the opening / closing cover 6A of the housing box 6 (see FIG. 2).

그리고, 수용 박스 반송 에어리어(8) 내에 있어서, 이 개구(36)의 근방에 수용 박스(6)를 대기시키기 위한 대기용 박스 반송 아암(46)이 설치되어 있어, 다음에 처리해야 할 웨이퍼를 수용하는 수용 박스(6)를 박스 반송 아암(34)으로부터 수취하여, 대기 후에 이것을 이동 적재 스테이지(20)에 놓도록 되어 있다. 또한, 상기 대기용 박스 반송 아암(46)을 설치하지 않는 경우도 있어, 이 경우에는 상기 박스 반송 아암(34)에 의해 수용 박스(6)를 이동 적재 스테이지(20) 상에 설치하게 된다.And in the storage box conveyance area 8, the atmospheric box conveyance arm 46 for waiting the accommodating box 6 is provided in the vicinity of this opening 36, and accommodates the wafer to be processed next. The storage box 6 to be received is received from the box carrying arm 34 and placed on the moving stacking stage 20 after waiting. In addition, the waiting box conveyance arm 46 may not be provided. In this case, the box conveyance arm 34 provides the accommodating box 6 on the movable stacking stage 20.

한편, 상기 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내에는, 웨이퍼 보트(18)를 적재하는 2개의 보트 적재대, 즉 이동용 보트 적재대(48)와 대기용 보트 적재대(50)가 설치되어 있다. 상기 2개의 보트 적재대(48, 50) 중, 이 이동용 보트 적재대(48)와 상기 이동 적재 스테이지(20) 사이에는, 본 발명의 특징으로 하는 피처리체의 이동 적재 기구(52)가 설치되어 있다. 이 이동 적재 기구(52)는 승강 수단(54)에 의해 상하 방향으로 승강 가능하게 이루어진 승강대(56)와, 수평 방향으로 전진, 후퇴 및 선회 가능하게 이루어진 포크 수단(58)과, 정전기를 제거하는 이 온을 발생하는 이온 발생 수단(60)을 주로 갖고 있다. 또한, 이 이동 적재 기구(52)의 구조는 이후에 상세하게 서술한다.On the other hand, two boat loading tables for loading the wafer boat 18, that is, the moving boat loading table 48 and the waiting boat loading table 50 are provided in the object to be processed moving area 10. Between the two boat loading tables 48 and 50, between the moving boat loading table 48 and the moving loading stage 20, a moving loading mechanism 52 for the object to be treated according to the present invention is provided. have. The movable loading mechanism 52 includes a lifting table 56 configured to be capable of lifting up and down by the lifting means 54, a fork means 58 configured to be able to move forward, backward and turn in the horizontal direction, and to remove static electricity. It mainly has the ion generating means 60 which generate | occur | produces ion. In addition, the structure of this mobile loading mechanism 52 is demonstrated in detail later.

따라서, 이 이동 적재 기구(52)의 포크 수단(58)을 전진, 후퇴 및 승강 구동함으로써, 받침대(38) 상의 수용 박스(6)와 이동용 보트 적재대(48) 상의 웨이퍼 보트(18) 사이에서 웨이퍼(W)의 이동 적재를 행할 수 있도록 되어 있다. 여기서는 웨이퍼 보트(18)에 관해서는, 복수대, 예를 들어 2대의 웨이퍼 보트(18A, 18B)가 설치되어 있고, 이 2대가 교대로 사용된다. 또한, 웨이퍼 보트(18)를 1대, 또는 3대 이상 설치해도 좋고, 웨이퍼 보트(18)가 1대인 경우에는, 보트 적재대(48, 50)는 설치되지 않고, 후술하는 캡 상의 웨이퍼 보트와의 사이에서 웨이퍼의 이동 적재가 행해진다.Therefore, the fork means 58 of the movable loading mechanism 52 is moved forward, backward and lifted to drive the housing box 6 on the pedestal 38 and the wafer boat 18 on the movable boat loading table 48. The wafer W can be moved and stacked. Here, the wafer boat 18 is provided with a plurality of wafer boats 18A and 18B, for example, two of which are used alternately. In addition, one wafer boat 18 or three or more wafer boats 18 may be provided, and when there are one wafer boat 18, the boat mounting tables 48 and 50 are not provided, The wafer transfer is performed during the process.

이 웨이퍼 보트(18)는, 그 전체가 내열성 재료, 예를 들어 석영으로 구성되어 있고, 예를 들어 6개의 석영제의 지지 기둥을 갖고 있다. 이 지지 기둥에 등피치로 형성한 지지 홈 등에 웨이퍼(W)의 에지를 지지시킴으로써, 복수매의 웨이퍼(W)를 등피치로 지지하도록 되어 있다. 이 경우, 지지되는 웨이퍼(W)의 피치는, 예를 들어 4.0㎜ 정도로 설정되어 있다.The wafer boat 18 is entirely composed of a heat resistant material, for example, quartz, and has, for example, six support columns made of quartz. The plurality of wafers W are supported at equal pitch by supporting the edges of the wafer W at support grooves formed at equal pitches on the support pillar. In this case, the pitch of the wafer W supported is set to about 4.0 mm, for example.

상기 피처리체 이동 적재 에어리어(10)의 일측 상방에는, 종형 열처리로로 이루어지는 상기 처리 유닛(22)이 베이스판(62)에 의해 지지되어 배치되어 있다. 이 처리 유닛(22)은 저부에 개구를 갖는 동시에 천장이 있도록 된 석영제의 원통체로 이루어지는 처리 용기(64)를 갖고, 그 주위에는 원통 형상의 가열 히터(66)가 설치되어, 처리 용기(64) 내의 웨이퍼를 가열할 수 있도록 되어 있다. 여기서 처 리 용기(64) 내의 분위기는, 예를 들어 용기 하부의 측벽에 설치한 배기구나, 용기 천장부에 설치한 배기구 등으로부터 배기된다. 이에 의해, 한번에 다수매의 웨이퍼(W)에 대해 성막이나 산화 확산 등의 소정의 열처리를 실시하도록 되어 있다.Above one side of the object-moving loading area 10, the processing unit 22 made of a vertical heat treatment furnace is supported and arranged by a base plate 62. The processing unit 22 has a processing container 64 made of a quartz cylindrical body having an opening at the bottom and having a ceiling, and a cylindrical heating heater 66 is provided around the processing container 64. The wafer inside the wafer) can be heated. Here, the atmosphere in the processing container 64 is exhausted from, for example, an exhaust port provided in the side wall of the lower part of the container, an exhaust port provided in the ceiling part of the container, and the like. As a result, a predetermined heat treatment such as film formation or oxide diffusion is performed on a plurality of wafers W at a time.

이 경우, 처리 내용에도 따르지만, 웨이퍼 온도는 예를 들어 최대 800 내지 900℃ 정도가 된다. 이 처리 용기(64)의 하방, 즉 베이스판(62)보다 하방이 실질적인 피처리체 이동 적재 에어리어(10)가 된다. 이 처리 용기(64)의 하방에는, 승강 엘리베이터와 같은 보트 승강 기구(68)에 의해 승강 가능하게 이루어진 캡(70)이 배치되어 있다. 이 보트 승강 기구(68)로서 예를 들어 볼 나사 등을 사용할 수 있다. 그리고, 이 캡(70) 상에 웨이퍼 보트(18)를 적재하여 이를 상승시킴으로써, 이 웨이퍼 보트(18)를 처리 용기(64)의 하단부 개구부로부터 이 처리 용기(64) 내로 로드할 수 있도록 되어 있다. 이때, 처리 용기(64)의 하단부 개구부는 상기 캡(70)에 의해 기밀하게 폐쇄되도록 되어 있다.In this case, depending on the processing contents, the wafer temperature is, for example, about 800 to 900 ° C. at maximum. Below this processing container 64, that is, below the base plate 62, becomes the substantially to-be-processed object loading area 10. FIG. Below this processing container 64, the cap 70 which can be lifted and lowered by the boat lifting mechanism 68 like a lift elevator is arrange | positioned. As this boat elevating mechanism 68, a ball screw etc. can be used, for example. The wafer boat 18 is loaded on the cap 70 and lifted, so that the wafer boat 18 can be loaded into the processing container 64 from the lower end opening of the processing container 64. . At this time, the lower end opening portion of the processing container 64 is hermetically closed by the cap 70.

또한 처리 용기(64)의 하단부 개구부의 측부에는, 상기 웨이퍼 보트(18)를 언로드하여 이를 하방향으로 강하시켰을 때에, 상기 하단부 개구부를 폐쇄하는 셔터(72)가 슬라이드 가능하게 설치되어 있다. 그리고, 강하된 캡(70)과 상기 양 보트 적재대(48, 50)의 근방에는, 굴신 및 선회 가능하게 이루어진 보트 이동 적재 기구(74)가 설치되어 있어, 상기 양 보트 적재대(48, 50)와 캡(70) 사이 및 양 보트 적재대(48, 50) 사이에서 웨이퍼 보트(18)의 이동 적재를 할 수 있도록 이루어져 있다.Moreover, the shutter 72 which closes the said lower part opening part is slidably attached to the side part of the lower part opening part of the processing container 64, when the said wafer boat 18 is unloaded and it descends downward. In the vicinity of the lowered cap 70 and the two boat loading tables 48 and 50, a boat moving loading mechanism 74 made to be able to flex and pivot is provided. ) And the cap 70 and between the two boat loading tables 48 and 50 are configured to allow for the mobile loading of the wafer boat 18.

그리고, 이 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내의 일측에는, 고성능의 한 쌍의 필터(76)(도 2 및 도 3 참조)가 설치되어 있고, 이 필터(76)로부터 청정 공기, 또는 N2 가스 등의 불활성 가스를 수평 방향으로 분출함으로써 청정 기체의 사이드 플로우(78)가 항상 형성되어 있다. 이에 의해, 이 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내를 청정하게 유지하는 동시에, 이 분위기 온도를 냉각하도록 되어 있다. 또한, 상기 필터(76)의 설치면에 대향하는 면에는, 기체 흡입구(80)가 설치되어 있고, 여기서 흡입된 상기 사이드 플로우(78)는 저부에 설치한 덕트(82)(도 4도 참조) 등을 통해 상기 필터(76)측으로 복귀되고, 일부는 순환 사용되게 된다.A pair of high-performance filters 76 (see FIGS. 2 and 3) are provided on one side in the object-moving loading area 10, and clean air or N 2 gas is provided from the filter 76. The side flow 78 of a clean gas is always formed by blowing inert gas, such as these in the horizontal direction. Thereby, while maintaining the inside of this to-be-processed object loading area 10 cleanly, this atmospheric temperature is cooled. In addition, a gas suction port 80 is provided on a surface of the filter 76 opposite to the mounting surface, and the side flow 78 sucked here is provided with a duct 82 (see FIG. 4) provided at the bottom. It returns to the said filter 76 side through etc., and one part is used for circulation.

여기서 본 발명의 특징으로 하는 피처리체의 이동 적재 기구(52)에 대해 상세하게 설명하면, 전술한 바와 같이, 이 이동 적재 기구(52)는 승강 수단(54)에 의해 상하 방향으로 승강 가능하게 이루어진 승강대(56)과, 수평 방향으로 전진, 후퇴 및 선회 가능하게 이루어진 포크 수단(58)과, 정전기를 제거하는 이온을 발생하는 이온 발생 수단(60)을 주로 갖고 있다.Here, the moving stacking mechanism 52 of the object to be processed, which is a feature of the present invention, will be described in detail. As described above, the moving stacking mechanism 52 can be moved up and down by the lifting means 54. The platform 56 mainly includes a lift table 56, a fork means 58 configured to be able to move forward, backward and pivot in the horizontal direction, and an ion generating means 60 for generating ions for removing static electricity.

구체적으로는, 도 1 및 도 5에도 도시한 바와 같이, 상기 승강 수단(54)은 예를 들어 수직 방향으로 기립된 볼 나사(86)로 이루어지고, 이 볼 나사(86)를 따라 안내 레일(88)이 설치되어 있다. 상기 승강대(56)는 상기 볼 나사(86)에 나사 결합되어 있고, 이 볼 나사(86)를 정역 회전함으로써 상기 안내 레일(88)을 따라 상하 이동하도록 되어 있다. 그리고, 이 승강대(56)는 수평 방향으로 연장되는 설치 아암부(90)(도 5 참조)를 갖고 있고, 이 아암부(90)에 포크 수단(58)이 설치된다.Specifically, as shown in Figs. 1 and 5, the lifting means 54 is made of, for example, a ball screw 86 standing up in the vertical direction, and along the ball screw 86 a guide rail ( 88) is installed. The platform 56 is screwed to the ball screw 86, and the ball screw 86 is vertically rotated to move up and down along the guide rail 88. And the platform 56 has the installation arm part 90 (refer FIG. 5) extended in a horizontal direction, and the fork means 58 is provided in this arm part 90. As shown in FIG.

상기 포크 수단(58)은 상기 설치 아암부(90) 상에 화살표(91)로 나타낸 바와 같이 선회 가능하게 설치된 직육면체 형상의 선회대(92)와, 이 선회대(92)에 설치되어 전진 및 후퇴 가능하게 이루어진 복수의 포크 본체(94)에 의해 주로 구성되어 있다. 도 6에도 도시한 바와 같이, 여기서는 5개의 포크 본체(94A, 94B, 94C, 94D, 94E)를 상하 방향으로 등피치로 나란히 배열되어 있는 동시에, 선단부측은 2갈래 형상으로 이루어져 있고, 각 포크 본체(94A 내지 94E) 상에 각각 웨이퍼(W)를 적재할 수 있도록 되어 있다.The fork means 58 is a rectangular parallelepiped revolving table 92 which is rotatably mounted on the installation arm 90 as shown by an arrow 91, and is installed on the revolving table 92 to move forward and backward. It is mainly comprised by the several fork main body 94 comprised possible. As shown in Fig. 6, the five fork bodies 94A, 94B, 94C, 94D, and 94E are arranged side by side at equal pitches in the vertical direction, and the tip end side has a two-pronged shape. The wafers W can be loaded on the to 94E).

그리고, 상기 각 포크 본체(94A 내지 94E)의 기단부는 슬라이더(96)에 의해 지지되어 있고, 이 슬라이더(96)를 상기 선회대(92)의 길이 방향으로 화살표(97)(도 5 참조)에 나타낸 바와 같이 왕복 슬라이드 이동시킴으로써, 상술한 바와 같이 상기 포크 본체(94A 내지 94E)를 전진 및 후퇴시킬 수 있도록 되어 있다. 또한, 상기 포크 본체(94)의 개수는 5개에 한정되지 않고, 이것보다도 많아도 좋고 혹은 적어도 좋다.The proximal end of each of the fork main bodies 94A to 94E is supported by a slider 96, and the slider 96 is supported by an arrow 97 (see Fig. 5) in the longitudinal direction of the pivot table 92. By reciprocating slide movement as shown, it is possible to advance and retract the said fork main bodies 94A-94E as mentioned above. In addition, the number of the said fork bodies 94 is not limited to five, More than this may be sufficient or it may be at least.

상기 이온 발생 수단(60)은 상기 포크 수단(58)의 상기 선회대(92)에 설치되게 된다. 구체적으로는, 이 이온 발생 수단(60)은 예를 들어 이오나이저로 이루어지고, 도 5에 도시한 바와 같이 상기 직육면체 형상의 선회대(92)의 양측에 각각 이온 발생 수단(60)이 설치되어 있다. 또한, 여기서는 2대의 이온 발생 수단(60)을 설치하고 있지만, 이것을 1대 설치하도록 해도 좋다. 이 이온 발생 수단(60)은, 도 7의 (A)에도 도시한 바와 같이, 각각 이온 발생기(98)와, 이것으로부터 연장되는 이온 유로(100)와, 이 이온 유로(100)의 선단부에 접속되는 이온 분출 노 즐(102)에 의해 주로 형성되어 있다. 그리고, 상기 이온 발생기(98)에는, 이것에 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급 수단(104)이 설치되어 있다.The ion generating means 60 is installed on the pivot table 92 of the fork means 58. Specifically, this ion generating means 60 consists of an ionizer, for example, and ion generating means 60 is provided in the both sides of the said rectangular parallelepiped pivot 92 as shown in FIG. have. In addition, although two ion generating means 60 are provided here, you may provide one this. As shown in Fig. 7A, the ion generating means 60 is connected to the ion generator 98, the ion flow path 100 extending therefrom, and the tip of the ion flow path 100, respectively. It is mainly formed by the ion ejection nozzle 102 which becomes. The ion generator 98 is provided with a carrier gas supply means 104 for supplying a carrier gas thereto.

상기 캐리어 가스 공급 수단(104)은, 도중에 개폐 밸브(106)가 개재 설치된 캐리어 가스관(108)으로 이루어지고, 그 선단부측은 2개로 분기되어 상기 각 이온 발생기(98)에 접속되어, 캐리어 가스를 공급할 수 있도록 되어 있다. 이 캐리어 가스로서는, 여기서는 예를 들어 N2 가스를 사용하고 있지만, 이에 한정되지 않고, Ar, He 등의 희가스를 사용해도 좋다. 이 캐리어 가스관(108)의 재료로서는, 예를 들어 가요성이 있는 벨로우즈 형상으로 이루어진 스테인레스관, 테프론(상품명)제의 가스관, 세라믹제의 관 등을 사용할 수 있고, 상기 포크 수단(58)의 승강 이동에 추종할 수 있도록 충분히 길게 설정되어 있다.The carrier gas supply means 104 is composed of a carrier gas pipe 108 provided with an opening / closing valve 106 interposed therebetween, and its front end side is branched into two and connected to the respective ion generators 98 to supply the carrier gas. It is supposed to be. As the carrier gas, in this case, for example, but it is using a N 2 gas, not limited to this, and may be used in a rare gas such as Ar, He. As the material of the carrier gas pipe 108, for example, a stainless steel pipe made of a flexible bellows shape, a gas pipe made of Teflon (trade name), a pipe made of ceramic, and the like can be used. It is set long enough to follow the movement.

또한 상기 이온 발생기(98) 내에서는, 주지와 같이 복수의 플러스 방전침과 마이너스 방전침(도시하지 않음)이 내장되어 있고, 플러스 이온과 마이너스 이온을 발생시키도록 되어 있다. 여기서 이온 발생기(98)로서 사용하는 이오나이저로서는, 어떠한 종류의 것을 사용해도 좋고, 예를 들어 플러스 이온과 마이너스 이온을 동시에 발생시키는 더블 DC식 바아 타입의 이오나이저, 플러스 이온과 마이너스 이온을 일정한 간격으로 교대로 발생시키는 펄스 DC 타입 이오나이저, 플러스 이온과 마이너스 이온을 고속으로 교대로 발생시키는 AC식 바아 타입의 이오나이저, X선을 조사하여 플러스 이온과 마이너스 이온을 발생시키는 연X선 이오나이저 등을 사용할 수 있다.In addition, in the ion generator 98, a plurality of positive discharge needles and negative discharge needles (not shown) are built in as is known, so that positive ions and negative ions are generated. As the ionizer used as the ion generator 98, any type of ionizer may be used, for example, a double DC bar type ionizer for generating positive and negative ions simultaneously, and a constant interval between the positive and negative ions. Pulsed DC ionizer that generates alternating current, AC bar type ionizer that alternately generates positive and negative ions at high speed, and soft X-ray ionizer that generates positive and negative ions by irradiating X-rays Can be used.

여기서 발생된 플러스 이온과 마이너스 이온을 상기 캐리어 가스와 함께 상기 이온 유로(100) 내에 이송할 수 있도록 되어 있다. 이 이온 유로(100)는, 예를 들어 스테인레스제, 테프론(상품명)제, 세라믹제 등의 재질의 관으로 이루어지고, 바람직하게는 절연제 재질에 의해 구성하고, 발생한 상기 양 이온이 내부에서 가능한 한 소멸되지 않도록 한다. 또한, 상기 양 이온 분출 노즐(102)은, 상기 선회대(92)의 선단부에 각각 설치 고정되어 있고, 캐리어 가스와 함께 운반되고 또한 상기 이온을 필요에 따라서 화살표(110)(도 5 및 도 6 참조)로 나타낸 바와 같이, 전방으로 분출하도록 되어 있다.The positive and negative ions generated here can be transferred together with the carrier gas into the ion channel 100. The ion flow path 100 is made of, for example, a tube made of stainless steel, Teflon (trade name), ceramic, or the like, and is preferably made of an insulating material, and the generated positive ions are possible inside. Don't die out. In addition, the positive ion ejection nozzles 102 are respectively fixed to the distal end of the pivot table 92, are transported together with the carrier gas, and the ions are transferred to the arrow 110 (Figs. 5 and 6) as necessary. As shown in Fig. 8), the jet is directed forward.

또한, 도 2 및 도 7의 (A)에도 도시한 바와 같이, 상기 이온이 분출되는 영역, 즉 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내에는, 대전량 검출 센서(112)가 설치되어 있고, 이 대전량 검출 센서(112)의 검출값은, 예를 들어 컴퓨터 등으로 이루어지는 이온용 제어부(114)에 입력되어 있다. 그리고, 이 이온용 제어부(114)로부터의 제어 신호는, 상기 이온 발생 수단(60)측, 구체적으로는 이온 발생기(98)와 개폐 밸브(106)측에 입력되어 있고, 상기 대전량 검출 센서(112)의 검출값을 기초로 하여 이 이온 발생 수단(60)의 동작을 제어하도록 되어 있다. 또한, 상기 대전량 검출 센서(42)를 설치하지 않고, 처리 시스템의 동작 중에는 항상 상기 이온 발생 수단(60)을 동작시켜 이온을 분출하도록 해도 좋다.2 and 7 (A), the charge amount detecting sensor 112 is provided in the region where the ions are ejected, i.e., the object-moving loading area 10 to be processed. The detection value of the quantity detection sensor 112 is input to the ion control part 114 which consists of computers etc., for example. And the control signal from this ion control part 114 is input to the said ion generating means 60 side, specifically, the ion generator 98 and the opening / closing valve 106 side, and the said charge quantity detection sensor ( The operation of this ion generating means 60 is controlled based on the detected value of 112. In addition, the ion generating means 60 may be operated to eject ions at all times during the operation of the processing system without providing the charge amount detecting sensor 42.

그리고, 이 처리 시스템(2) 전체의 동작의 제어, 예를 들어 수용 박스 반송 에어리어(8) 내에 있어서의 수용 박스(6)의 반입 및 반출 조작, 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내에 있어서의 웨이퍼(W)의 이동 적재 조작, 웨이퍼 보트(18)의 이동 적재 조작, 웨이퍼 보트(18)의 승강 조작, 처리 유닛(22)에 있어서의 열처리 조작(성막 처리 등) 등은, 예를 들어 컴퓨터로 이루어지는 시스템 제어부(120)(도 1 참조)에 의해 제어된다. 이 경우, 상기 이온용 제어부(114)는 상기 시스템 제어부(120)의 지배 하로 되어 있다. 그리고, 상기 시스템 제어부(120)나 이온용 제어부(114)의 제어에 필요한 프로그램(컴퓨터에 의해 판독 가능)은 기억 매체(122)에 기억되어 있다. 이 기억 매체(122)로서는, 예를 들어 플렉시블 디스크나 CD(Compact Disc)나 하드 디스크나 플래시 메모리 등으로 이루어진다.And the control of the operation | movement of the whole this processing system 2, for example, carrying in and carrying out of the accommodation box 6 in the storage box conveyance area 8, the wafer in the to-be-processed object loading area 10 to-be-processed. The moving stacking operation of (W), the moving stacking operation of the wafer boat 18, the lifting operation of the wafer boat 18, and the heat treatment operation (film formation processing, etc.) in the processing unit 22 are, for example, performed by a computer. It is controlled by the system control part 120 (refer FIG. 1) made. In this case, the ion control unit 114 is under the control of the system control unit 120. The program (readable by the computer) necessary for the control of the system control unit 120 and the ion control unit 114 is stored in the storage medium 122. This storage medium 122 is made of, for example, a flexible disk, a compact disc (CD), a hard disk, a flash memory, or the like.

다음에, 이상과 같이 구성된 처리 시스템(2)의 동작에 대해 설명한다. 우선, 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내는, 웨이퍼 표면에의 자연 산화막의 부착을 방지하기 위해 불활성 가스, 예를 들어 N2 가스의 사이드 플로우(78)(도 3 참조)가 형성되어 N2 분위기로 이루어져 있다. 또한, 수용 박스 반송 에어리어(8) 안은, 청정 공기의 다운 플로우가 형성되어 청정 공기의 분위기로 유지되어 있다.Next, operation | movement of the processing system 2 comprised as mentioned above is demonstrated. First, a side flow 78 (see FIG. 3) of an inert gas, for example, an N 2 gas, is formed in the workpiece movement loading area 10 to prevent adhesion of a native oxide film to the wafer surface, thereby forming an N 2 atmosphere. Consists of Moreover, in the storage box conveyance area 8, the downflow of clean air is formed and is maintained in the atmosphere of clean air.

최초로, 반도체 웨이퍼(W)의 전체적인 흐름에 대해 설명하면, 수용 박스 반송 에어리어(8)측에 있어서 외부로부터 반송되어 온 수용 박스(6)는, 그 개폐 덮개(6A)를 박스 반출입구(24)측을 향해 외측 적재대(26) 상에 적재된다. 그리고, 수용 박스(6)가 적재되어 있는 외측 적재대(26) 상의 슬라이드판(28)을 전진시킴으로써, 이를 상기 수용 박스 반송 에어리어(8) 내에 이송한다.First, the overall flow of the semiconductor wafer W will be described. The storage box 6 transported from the outside on the storage box transport area 8 side has the opening / closing lid 6A at the box loading / unloading opening 24. It is loaded on the outer mounting table 26 toward the side. Then, by advancing the slide plate 28 on the outer mounting table 26 on which the housing box 6 is loaded, it is transferred into the housing box conveying area 8.

다음에, 박스 반송 아암(34)을 구동함으로써, 상기 슬라이드판(28) 상에 설치되어 있는 수용 박스(6)를 취하러 가서 이를 보유 지지하고, 또한 승강 엘리베이 터(32)를 구동함으로써, 이 수용 박스(6)를 상방의 스토커부(16)의 선반단(30)의 소정 위치까지 반송하여 설치하고, 이를 일시적으로 보관한다. 이와 동시에, 이미 선반단(30)에 일시 저장되어 있고, 처리 대상이 된 웨이퍼를 수용하는 수용 박스(6)를 이 박스 반송 아암(34)에 의해 취하러 가서, 상술한 바와 같이 승강 엘리베이터(32)를 구동하여 이것을 강하시킨다.Next, by driving the box transport arm 34, the storage box 6 provided on the slide plate 28 is taken out and held therein, and the elevating elevator 32 is driven. The storage box 6 is transported and installed to the predetermined position of the shelf end 30 of the upper stocker part 16, and it is temporarily stored. At the same time, the storage box 6 temporarily stored in the shelf end 30 and accommodating the wafer to be processed is taken out by the box transfer arm 34, and the elevating elevator 32 as described above. To lower this.

그리고, 이동 적재 스테이지(20)의 받침대(38)가 빈 경우에는, 이 수용 박스(6)를 이동 적재 스테이지(30)의 받침대(38) 상으로 이동 적재한다. 또한, 받침대(38) 상에 다른 수용 박스(6)가 이미 세트되어 있는 경우에는, 박스 반송 아암(34) 상의 수용 박스(6)를 대기용 박스 반송 아암(46)으로 파지하고, 이를 개구(36)의 근방까지 반송하여 대기시킨다. 그리고, 받침대(38) 상의 수용 박스(6)의 개폐 덮개(6A)는, 개폐 도어(42)측으로 향해져 있고, 게다가 받침대(38)의 일측에 설치한 수평 액추에이터(40)에 의해, 수용 박스(6)는 압박되어 받침대(38) 상에 고정되어 있다.And when the base 38 of the movable loading stage 20 is empty, this accommodation box 6 is moved and mounted on the base 38 of the movable mounting stage 30. As shown in FIG. In addition, when the other storage box 6 is already set on the pedestal 38, the storage box 6 on the box conveyance arm 34 is gripped by the atmospheric box conveyance arm 46, and the opening ( It returns to the vicinity of 36) and makes it stand by. The opening / closing cover 6A of the housing box 6 on the pedestal 38 is directed toward the opening / closing door 42 side, and the housing box is further provided by the horizontal actuator 40 provided on one side of the pedestal 38. 6 is pressed and fixed on the pedestal 38.

이 상태에서, 덮개 개폐 기구(44)(도 2 참조)를 구동함으로써, 개구(36)의 개폐 도어(42)와 수용 박스(6)의 개폐 덮개(6A)를 제거하고, 이들을 예를 들어 수평 방향으로 슬라이드 이동시켜 퇴피시킨다. 그리고, 본 발명에 관한 피처리체의 이동 적재 기구(52)를 구동함으로써, 수용 박스(6) 내에 수용되어 있던 웨이퍼(W)를, 여기서는 5매씩 취출하고, 이를 이동용 보트 적재대(48) 상에 설치되어 있는 웨이퍼 보트(18)로 이동 적재한다.In this state, by opening and closing the cover opening / closing mechanism 44 (refer FIG. 2), the opening / closing door 42 of the opening 36 and the opening / closing cover 6A of the storage box 6 are removed, and these are horizontal, for example. Move the slide in the direction to evacuate. Then, by driving the moving stacking mechanism 52 of the object to be processed according to the present invention, the wafers W accommodated in the housing box 6 are taken out of each of the five sheets, and on the moving boat mounting table 48. It moves and loads in the wafer boat 18 provided.

이 경우, 웨이퍼 보트(18)의 웨이퍼 수용 매수가 75매이고, 또한 수용 박 스(6) 내의 웨이퍼 수용 매수가 25매이면, 3개의 수용 박스(6) 내로부터 웨이퍼가 취출되어 이동 적재되어, 1뱃치의 처리가 행해지게 된다. 여기서 상기 피처리체의 이동 적재 기구(52)의 구동이 개시되면, 이에 설치된 이온 발생 수단(60)도 구동되어 이온의 방출이 개시된다.In this case, when the number of wafer storage sheets of the wafer boat 18 is 75 sheets and the number of wafer storage sheets in the housing box 6 is 25 sheets, the wafers are taken out from the three storage boxes 6 and moved and stacked. One batch of processing is performed. Here, when driving of the movable loading mechanism 52 of the to-be-processed object is started, the ion generating means 60 installed thereon is also driven, and release of ions is started.

상기 웨이퍼 보트(18)로의 웨이퍼(W)의 이동 적재가 완료되면, 다음에 보트 이동 적재 기구(74)를 구동하여, 이 이동용 보트 적재대(48) 상의 웨이퍼 보트(18)를 최하단부로 강하되어 있는 캡(70) 상에 적재한다. 여기서, 열처리가 완료되어 언로드된 웨이퍼를 수용하는 웨이퍼 보트(18)가 상기 캡(70) 상에 있는 경우에는, 보트 이동 적재 기구(74)를 사용하여 이 웨이퍼 보트(18)를 미리 대기용 보트 적재대(50) 상에 옮겨 놓는다.When the mobile stacking of the wafers W onto the wafer boat 18 is completed, the boat mobile stacking mechanism 74 is driven next to lower the wafer boat 18 on the mobile boat stack 48 to the lowest end. Load on a cap 70. Here, when the wafer boat 18 which accommodates the unloaded wafer after heat processing is on the said cap 70, the boat boat 18 for waiting for this wafer boat 18 beforehand using the boat movement loading mechanism 74 is carried out. It is placed on the mounting table 50.

그리고, 이 미처리의 웨이퍼를 수용하는 웨이퍼 보트(18)의 캡(70) 상으로의 이동 적재가 완료되면, 보트 승강 기구(68)를 구동시켜, 웨이퍼 보트(18)와, 이를 적재한 캡(70)을 일체적으로 상승시켜, 이 웨이퍼 보트(18)를 처리 유닛(22)의 처리 용기(64) 내로, 이 하단부 개구부로부터 도입하여 로드한다. 그리고, 이 캡(70)에 의해 처리 용기(64)의 하단부 개구부를 밀폐하고, 이 상태에서 처리 유닛(22) 내에서 웨이퍼(W)에 대해 소정의 열처리, 예를 들어 성막 처리나 산화 확산 처리 등을 행한다. 이 경우, 열처리의 형태에도 따르지만, 웨이퍼(W)의 온도는 800 내지 1000℃의 고온에 도달한다.When the transfer stacking on the cap 70 of the wafer boat 18 containing the unprocessed wafer is completed, the boat lifting mechanism 68 is driven to drive the wafer boat 18 and the cap (with the cap mounted thereon). The wafer boat 18 is introduced into the processing vessel 64 of the processing unit 22 and loaded from the lower end opening. The cap 70 seals the opening of the lower end of the processing container 64, and in this state, a predetermined heat treatment, for example, a film forming process or an oxidation diffusion treatment, is performed on the wafer W in the processing unit 22. And the like. In this case, depending on the form of heat treatment, the temperature of the wafer W reaches a high temperature of 800 to 1000 ° C.

이와 같이 하여, 소정 시간의 열처리가 종료되면, 전술한 것과 반대의 조작을 행하여, 처리가 끝난 웨이퍼(W)를 취출한다. 즉, 언로드를 개시함으로써 웨이 퍼 보트(18)를 처리 용기(64) 내로부터 강하시켜 언로드를 완료한다. 이때, 언로드를 개시하여 웨이퍼 보트(18)의 강하를 개시하면, 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내의 분위기는 고온 상태가 되지만 상술한 사이드 플로우(78)(도 3 참조)로 냉각된다. 그리고, 이 언로드된 웨이퍼 보트(18)는, 보트 이동 적재 기구(74)에 의해, 대기용 보트 적재대(50)를 경유하여, 혹은 이를 경유하지 않고 직접적으로 이동용 보트 적재대(48) 상에 이동 적재된다. 이 동안에 상기 처리가 끝난 웨이퍼(W)는 어느 정도 냉각되어 있다.In this manner, when the heat treatment for a predetermined time is completed, the operation opposite to that described above is performed, and the processed wafer W is taken out. That is, by starting the unloading, the wafer boat 18 is dropped from the processing container 64 to complete the unloading. At this time, when the unloading is started and the drop of the wafer boat 18 is started, the atmosphere in the workpiece moving loading area 10 becomes a high temperature state but is cooled by the side flow 78 (see FIG. 3) described above. The unloaded wafer boat 18 is directly on the moving boat mounting table 48 via or without the waiting boat loading table 50 by the boat moving loading mechanism 74. Are loaded to move. In the meantime, the processed wafer W is cooled to some extent.

그리고, 피처리체의 이동 적재 기구(52)의 승강 수단(54) 및 포크 수단(58)을 사용하여 처리가 끝난 웨이퍼(W)를 웨이퍼 보트(18)로부터 이동 적재 스테이지(20)의 받침대(38) 상의 빈 수용 박스(6) 내로 이동 적재한다. 이 경우에도, 상기 피처리체의 이동 적재 기구(52)에 설치된 이온 발생 수단(60)을 구동하고 있어, 이온을 방출하고 있다. 이 수용 박스(6) 내로의 처리가 끝난 웨이퍼(W)의 이동 적재가 완료되면, 개폐 도어(42)를 개구(36)에 장착하고, 또한 덮개 개폐 기구(44)(도 2 참조)를 구동하여, 이에 보유 지지되어 있던 개폐 덮개(6A)를 수용 박스(6)측에 장착한다.The pedestal 38 of the movable loading stage 20 is moved from the wafer boat 18 to the wafer W which has been processed using the elevating means 54 and the fork means 58 of the movable loading mechanism 52 of the object to be processed. It moves and loads into the empty accommodation box 6 on (). Also in this case, the ion generating means 60 provided in the movable loading mechanism 52 of the said to-be-processed object is driven, and ion is discharge | released. When the movement stacking of the processed wafer W into the housing box 6 is completed, the opening / closing door 42 is mounted in the opening 36, and the lid opening / closing mechanism 44 (see FIG. 2) is driven. Thus, the opening / closing lid 6A held therein is attached to the housing box 6 side.

다음에, 수용 박스 반송 에어리어(8) 내의 박스 반송 아암(34)을 구동하여 이 수용 박스(6)를 일시적으로 스토커부(16)에 저장하고, 혹은 저장하지 않고 박스 반출입구(24)를 통해 처리 시스템(2) 밖으로 반송하게 된다. 이 박스 반송 아암(34)이 처리가 끝난 웨이퍼를 수용한 수용 박스(6)를 반송하고 있는 동안, 이미 빈 수용 박스(6)를 파지하여 대기하고 있던 대기용 박스 반송 아암(46)은, 이 빈 수용 박스(6)를 받침대(38) 상에 세트하고, 처리가 끝난 웨이퍼의 수용 박스(6) 내로의 수용이 개시되게 된다.Next, the box transport arm 34 in the storage box transport area 8 is driven to temporarily store the storage box 6 in the stocker 16 or through the box carry-out port 24 without storing it. It will be conveyed out of the processing system 2. While the box conveying arm 34 conveys the containing box 6 containing the processed wafer, the waiting box conveying arm 46 that has already been held and held by the empty containing box 6 is The empty accommodating box 6 is set on the pedestal 38, and the acceptance of the processed wafer into the accommodating box 6 is started.

이 경우, 예를 들어 3개의 빈 수용 박스(6)가 사용되게 된다. 그리고, 이에 의해, 1뱃치의 웨이퍼의 처리가 완료된다. 이하, 같은 조작이 반복된다. 또한, 상기한 수용 박스(26)의 흐름은 단순히 일례를 나타낸 것에 지나지 않고, 이에 한정되지 않는 것은 물론이다.In this case, for example, three empty accommodation boxes 6 will be used. Then, the processing of one batch of wafers is completed. Hereinafter, the same operation is repeated. In addition, the flow of the accommodation box 26 is merely an example, and of course, it is not limited to this.

그런데, 이러한 일련의 동작이 행해지고 있는 가운데, 상기 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내에서의 반도체 웨이퍼(W)의 이동 적재에 대해 착안하면, 이 웨이퍼(W)는, 받침대(38) 상에 설치된 수용 박스(6)와 이동용 보트 적재대(48) 상에 설치된 웨이퍼 보트(18) 사이에서 피처리체의 이동 적재 기구(52)를 사용하여 이동 적재되게 된다. 즉, 도 5에 도시한 바와 같이, 피처리체의 이동 적재 기구(52)의 승강 수단(54)에 의해 승강대(56)는 승강 이동하고, 또한 포크 수단(58)의 선회대(92)는 승강대(56)로부터 연장되는 설치 아암(90) 상에서 필요에 따라서 선회 이동하고, 또한 선회대(92) 상의 슬라이더(96)가 전후로 슬라이드 이동함으로써 5개의 포크 본체(94A 내지 94E)는 전진 혹은 후퇴하고, 이에 의해 각 포크 본체(94A 내지 94E) 상에 웨이퍼(W)를 유지하여, 이를 이동 적재하게 된다.By the way, when such a series of operation | movement is performed and focuses on the moving stacking of the semiconductor wafer W in the said to-be-processed object loading area 10, this wafer W is provided on the base 38. Between the storage box 6 and the wafer boat 18 provided on the movable boat mounting base 48, it is movable-loaded using the movable loading mechanism 52 of a to-be-processed object. That is, as shown in FIG. 5, the lifting platform 56 is moved up and down by the lifting means 54 of the movable loading mechanism 52 of the to-be-processed object, and the turning table 92 of the fork means 58 is lifting platform. The five fork bodies 94A to 94E move forward or backward by pivoting as needed on the installation arm 90 extending from 56, and by sliding the slider 96 on the pivot table 92 back and forth, As a result, the wafer W is held on each of the fork bodies 94A to 94E, and the wafer W is moved and loaded.

이와 같이, 웨이퍼(W)를 이동 적재하는 결과, 웨이퍼(W) 자체 및 웨이퍼(W)를 유지하여 수용하게 되는 수용 박스(6)나 웨이퍼 보트(18)가 정전기에 의해 대전되는 경향이 된다. 또한, 다양한 원인에 의해, 이 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내에 존재하는 약간의 파티클(먼지)도 정전기에 의해 대전되는 경향이 있 다.As a result of the transfer of the wafer W as described above, the accommodation box 6 and the wafer boat 18 that hold and accommodate the wafer W itself and the wafer W tend to be charged by static electricity. Further, for a variety of reasons, some of the particles (dust) present in the object-moving loading area 10 tend to be charged by static electricity.

그러나, 본 발명에 있어서는, 상기 포크 수단(58)에 이온 발생 수단(60)을 설치하여, 이 이온 발생 수단(60)으로부터 플러스 이온과 마이너스 이온을 방출하고 있으므로, 상기 대전 부위나 부유하고 있는 대전 파티클이 제전되게 되어, 웨이퍼(W)에 파티클이 부착하는 것을 방지할 수 있다.However, in the present invention, since the ion generating means 60 is provided in the fork means 58 and the positive and negative ions are discharged from the ion generating means 60, the charging portion and the floating charging The particles are static discharged, and the particles can be prevented from adhering to the wafer (W).

즉, 도 7의 (A)에 도시한 바와 같이, 이온 발생 수단(60)의 이온 발생기(98)에서 발생한 플러스 이온과 마이너스 이온은, 캐리어 가스에 의해 수반되어 이온 유로(100) 내에서 흘러, 이 선단부에 접속한 이온 분출 노즐(102)로부터 전방을 향해 항상 방출되게 된다. 이 이온 분출 노즐(102)은, 상술한 바와 같이 웨이퍼(W)의 이동 적재 조작에 의해, 승강 이동, 선회 이동 및 전진 후퇴 이동하므로, 이 포크 수단(58)이 이동하는 모든 영역에 대해 상기 이온을 방출하게 된다.That is, as shown in FIG. 7A, the positive and negative ions generated in the ion generator 98 of the ion generating means 60 flow in the ion flow path 100 with the carrier gas, The ion ejection nozzle 102 connected to this tip is always discharged forward. As described above, the ion ejection nozzle 102 is moved up, down, and moved forward and backward by the stacking operation of the wafer W. Therefore, the ion ejection nozzles 102 are moved to all the regions to which the fork means 58 moves. Will emit.

예를 들어 도 4에서는, 포크 수단(58)이 좌우 반대측을 향한 상태를 나타내고 있고, 이와 같이 하여 포크 수단(58)이 이동하는 모든 경로에 있어서 이온을 방출시킬 수 있다. 따라서, 상술한 바와 같이 대전하는 경향이 있는 수용 박스(6) 및 웨이퍼 보트(18)를 효과적 및 효율적으로 제전할 수 있다.For example, in FIG. 4, the fork means 58 has shown the state which turned to the left and right opposite sides, and can discharge | release a ion in all the path | routes which the fork means 58 moves in this way. Therefore, the storage box 6 and the wafer boat 18 which tend to be charged as described above can be effectively and efficiently charged.

또한, 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내의 넓은 영역에 대해 광범위하게 이온을 방출할 수 있으므로, 이 에어리어 내에서 대전하여 부유하고 있는 파티클에 대해서도, 이를 효과적 및 효율적으로 제전할 수 있다. 이 경우, 이온 발생기(60)는, 1대 혹은 2대 정도이므로, 설비 비용은 매우 적어지고, 적은 대수의 이온 발생 수단(60)으로 광범위에 걸쳐서 이온을 방출시킬 수 있다.In addition, since a wide range of ions can be emitted to a large area in the object-moving loading area 10, it is possible to effectively and efficiently discharge the particles charged and suspended in the area. In this case, since there are about one or two ion generators 60, the equipment cost becomes very small, and a small number of ion generators 60 can emit ions over a wide range.

또한, 이 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내의 대전 상황은, 도 7의 (A)에 도시한 바와 같이, 대전량 검출 센서(112)에 의해 항상 검출되고 있고, 이 검출값이 소정값보다도 낮은 경우에는, 상기 이온용 제어부(114)는 이온 발생기(98)의 동작을 정지할 수 있으므로, 캐리어 가스 등을 불필요하게 소비하는 것을 방지할 수 있다.In addition, the charging situation in the object-moving loading area 10 is always detected by the charging amount detection sensor 112, as shown in Fig. 7A, and the detected value is lower than the predetermined value. In this case, since the ion control unit 114 can stop the operation of the ion generator 98, it is possible to prevent unnecessary consumption of the carrier gas and the like.

이와 같이, 피처리체인 예를 들어 반도체 웨이퍼(W)를 수용하는 수용 박스(6)와 처리 용기(64) 내로 로드 및 언로드되는 피처리체 보유 지지 수단인 웨이퍼 보트(18) 사이에서 피처리체의 이동 적재를 행하는 이동 적재 기구에 있어서, 피처리체를 적재하여 이동하는 포크 수단(58)에 이온 발생 수단(60)을 설치하여 정전기를 제거하도록 하였으므로, 적은 대수의 이온 발생 수단(60)으로 예를 들어 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내의 광범위에 걸쳐서 대전 부위의 제전 및 부유하는 대전 먼지의 제전을 행할 수 있다.In this way, the movement of the object between the receiving box 6, which contains the semiconductor wafer W, which is the object to be processed, and the wafer boat 18, which is the object holding means, which is loaded and unloaded into the processing container 64. In the mobile loading mechanism for loading, the ion generating means 60 is provided in the fork means 58 for loading and moving the object to remove static electricity. Thus, for example, a small number of ion generating means 60 are used. The charging of the charged portion and the floating of the charged dust can be performed over a wide range in the object-moving loading area 10.

또한, 상기 실시 형태의 경우에는, 선회대(92)의 양측에 2대의 이온 발생 수단(60)을 설치한 경우를 예로 들어 설명하였지만, 이에 한정되지 않고, 도 7의 (B)에 도시한 바와 같이 1대의 이온 발생 수단(60)을 설치하고, 이 이온 발생기(98)로부터 연장하는 이온 유로(100)를 도중에 2개로 분기하여, 분기한 각각의 이온 유로(100)의 선단부에 이온 분출 노즐(102)을 설치하도록 좋다. 이에 따르면, 이온 발생기(98)를 1대 감소시킨 분만큼, 설비 비용을 저감시킬 수 있다. 또한, 도 7의 (B)에 있어서, 도 7의 (A)에 도시하는 부분과 동일 구성의 부분에 대해서는 동일 참조 부호를 부여하고 있다.In the above embodiment, the case where two ion generating means 60 are provided on both sides of the swing table 92 has been described as an example, but the present invention is not limited thereto, and it is shown in FIG. 7B. Similarly, one ion generating means 60 is provided, the ion flow passages 100 extending from the ion generator 98 are branched into two in the middle, and ion ejection nozzles are formed at the front end of each of the branched ion flow passages 100. 102) is good to install. According to this, the installation cost can be reduced by the amount which reduced the ion generator 98 by one. In FIG. 7B, the same reference numerals are assigned to the parts shown in FIG. 7A and the parts having the same configuration.

<변형 실시 형태><Modification Embodiment>

다음에, 본 발명의 피처리체의 반송 기구의 변형 실시 형태에 대해 설명한다. 앞의 실시 형태에 있어서는, 이온 발생 수단(60)의 전체를 선회대(92)에 설치한 경우를 예로 들어 설명하였지만, 이에 한정되지 않고, 이온 발생 수단(60)의 일부, 혹은 전부를 포크 본체(94)측에 설치하도록 해도 좋다. 도 8은 이와 같은 본 발명의 피처리체의 반송 기구의 변형 실시 형태의 일례를 나타내는 측면도, 도 9는 본 발명의 피처리체의 반송 기구의 변형 실시 형태의 일례를 나타내는 평면도이며, 도 8 중의 A-A선 화살표 개략 단면도를 나타내고 있다. 또한, 도 8 및 도 9에 있어서, 도 5 중의 구성 부품과 동일 구성 부품에 대해서는 동일 참조 부호를 부여하고 있다.Next, the modified embodiment of the conveyance mechanism of the to-be-processed object of this invention is described. In the above embodiment, the case where the entire ion generating means 60 is provided on the pivot table 92 has been described as an example. However, the present invention is not limited thereto, and a part or all of the ion generating means 60 may be used in the fork body. It may be provided on the side (94). FIG. 8 is a side view showing an example of a modified embodiment of the conveyance mechanism of the object to be processed of the present invention, FIG. 9 is a plan view showing an example of a modified embodiment of the conveyance mechanism of the object to be processed according to the present invention, and line AA in FIG. 8. The arrow outline sectional drawing is shown. 8 and 9, the same reference numerals are given to the same components as those in FIG. 5.

일반적으로, 도 8 및 도 9에 도시한 바와 같이, 포크 수단(58)에는, 웨이퍼(W)를 보유 지지하는 포크 본체(94A 내지 94E) 이외에, 웨이퍼 보트(18)나 수용 박스(6) 내에 있어서의 웨이퍼의 수용 위치를 검출하는 센서가 부착된 포크 본체(94X)를 갖고 있는 경우가 있다.Generally, as shown in FIG. 8 and FIG. 9, the fork means 58 is provided in the wafer boat 18 or the receiving box 6 in addition to the fork bodies 94A to 94E for holding the wafer W. As shown in FIG. The fork main body 94X with the sensor which detects the accommodating position of the wafer in some cases may be provided.

이 센서가 부착된 포크 본체(94X)는, 다른 포크 본체(94A 내지 94E)와 마찬가지로, 전진 및 후퇴가 가능하게 이루어지고, 선단부측은 2갈래 형상으로 나누어져 있다. 그리고, 이 2갈래 형상의 선단부에 웨이퍼(W)의 유무를 검출하는 광 센서(130)가 설치된다. 이 광 센서(130)는 2갈래 형상의 선단부의 일단부에 설치한 발광 다이오드나 레이저 소자 등으로 이루어져 검사광(L)을 발하는 발광기(130A)와 다른 쪽 선단부에 설치한 수광기(130B)로 이루어지고, 이 센서가 부착된 포크 본 체(94X)를 전진시킨 상태에서, 웨이퍼(W)의 에지에 상당하는 부위를 상하 방향으로 주사 이동시킴으로써, 웨이퍼의 유무와, 그 위치를 검출하도록 되어 있다. 또한, 이 센서가 부착된 포크 본체(94X)를 사용하여 웨이퍼(W)의 반송을 할 수 있는 것은 물론이다.The fork main body 94X with this sensor is made to be able to move forward and backward similarly to the other fork main bodies 94A to 94E, and the tip end side is divided into a bifurcated shape. And the optical sensor 130 which detects the presence or absence of the wafer W is provided in the front-end | tip of this bifurcated shape. The optical sensor 130 is composed of a light emitting diode or a laser element provided at one end of a two-pronged tip, and emits 130A for emitting inspection light L and a light receiver 130B provided at the other end. In the state in which the fork main body 94X with this sensor is advanced, the portion corresponding to the edge of the wafer W is scanned in the vertical direction to detect the presence or absence of the wafer and its position. . In addition, of course, the wafer W can be conveyed using the fork main body 94X with this sensor.

그리고, 이 변형 실시 형태에서는, 상기 센서가 부착된 포크 본체(94X)의 양측에, 각각 상기 이온 발생 수단(60)을 설치하고 있다. 구체적으로는, 상기 센서가 부착된 포크 본체(94X)의 2갈래 형상의 선단부에, 2대의 이온 발생 수단(60)의 각 이온 분출 노즐(102)을 각각 설치하고 있다. 또한, 여기서는 각 이온 발생기(98)를 슬라이더(96)의 양측에 설치하도록 하고 있다. 이 경우에는, 상기 센서가 부착된 포크 본체(94X)를 전진시켜, 상기 이온 분출 노즐(102)을 상기 웨이퍼(W)나 웨이퍼 보트(18)나 수용 박스(6)에 더욱 접근시킨 상태에서 이온을 분출할 수 있으므로, 대전 부위 등을 더욱 효과적으로 제전할 수 있다. 또한, 이 경우에도, 도 7의 (B)에 도시한 바와 같이 이온 발생기(98)를 1대로 해도 좋은 것은 물론이다.And in this modified embodiment, the said ion generating means 60 is provided in the both sides of the fork main body 94X with the said sensor, respectively. Specifically, the ion ejection nozzles 102 of the two ion generating means 60 are respectively provided at the two-pronged ends of the fork main body 94X with the sensor. In addition, each ion generator 98 is provided in the both sides of the slider 96 here. In this case, the fork main body 94X with the sensor is advanced, and the ion ejection nozzle 102 is brought closer to the wafer W, the wafer boat 18, or the receiving box 6 in the state of ion. Can be ejected, so that the charged portion and the like can be discharged more effectively. Also in this case, of course, as shown in FIG. 7B, the ion generator 98 may be one.

또한, 상기 각 실시 형태에서는, 이온 분출 노즐(102)로부터의 이온의 분출 방향은, 전방으로 직선 형상이 되도록 설정하였지만, 이에 한정되지 않고, 도 10에 도시한 바와 같이, 이온 분출 노즐(102)의 선단부에 이온의 분출 방향을 확산시키는 확산 헤드(132)를 설치하도록 해도 좋다. 이 확산 헤드(132)에는, 분출 방향을 전방뿐만 아니라, 경사 전방을 향해 확산시키기 위한 복수의 분출 구멍(132A)이 형성되어 있어, 전방의 광범위한 영역에 이온을 분출할 수 있도록 되어 있다.In addition, in each said embodiment, although the ejection direction of the ion from the ion ejection nozzle 102 was set so that it might become linear linearly, it is not limited to this, As shown in FIG. 10, the ion ejection nozzle 102 is shown. A diffusion head 132 for diffusing the ion ejection direction may be provided at the front end of the. The diffusion head 132 is provided with a plurality of ejection holes 132A for diffusing not only the ejection direction toward the front but also the inclined front, so that ions can be ejected to a wide range of the front region.

또한, 도시되어 있지 않지만, 이 이온 분출 노즐(102)의 선단부에 이온의 분출 방향을 가변으로 하는 가변 루버를 설치하도록 해도 좋다. 또한 상기 각 실시 형태에서는, 이온 발생 수단(60)으로서 캐리어 가스를 사용한 것을 예로 들어 설명하였지만, 이에 한정되지 않고, 캐리어 가스를 사용하지 않도록 해도 좋다. 이 캐리어 가스를 사용하지 않는 경우에는, 발생한 이온을 사이드 플로우(78)(도 3 참조)에 수반시켜 이온을 확산시키도록 한다.Although not shown, a variable louver for varying the ion ejection direction may be provided at the tip of the ion ejection nozzle 102. In each of the embodiments described above, an example in which a carrier gas is used as the ion generating unit 60 has been described as an example. However, the present invention is not limited thereto, and the carrier gas may not be used. When the carrier gas is not used, the generated ions are diffused along with the side flow 78 (see FIG. 3).

또한, 이상의 각 실시 형태에서는 이온 발생기(98)와 이온 분출 노즐(102)을 이격시켜 양자를 이온 유로(100)에 의해 연결한 경우(도 7 참조)를 주로 예로 들어 설명하였지만, 이에 한정되지 않고, 도 11에 나타내는 이온 발생 수단의 다른 변형 실시 형태와 같이, 이온 발생기(98)와 이온 분출 노즐(102)을 바로 접합한 이온 발생 수단도 사용할 수 있다. 이와 같은 이온 발생 수단으로서는, 예를 들어 가부시끼가이샤 기엔스제(KEYENCE)의 마이크로 제전기 ST-M020 시리즈(상품명) 등을 사용할 수 있다. 또한, 이 경우에도, 캐리어 가스를 사용하는 형식의 것과, 사용하지 않는 형식의 것이 있고, 도 11에서는, 캐리어 가스를 사용한 형식을 도시하고 있다.In each of the above embodiments, the case where the ion generator 98 and the ion ejection nozzle 102 are spaced apart and connected to each other by the ion flow path 100 (see FIG. 7) has been mainly described as an example, but is not limited thereto. Like other modified embodiments of the ion generating means shown in FIG. 11, ion generating means in which the ion generator 98 and the ion ejection nozzle 102 are directly bonded can also be used. As such ion generating means, the micro static eliminator ST-M020 series (brand name) etc. made from KEYENCE, etc. can be used, for example. Also in this case, there are ones in which a carrier gas is used and ones in which a carrier gas is not used. In FIG. 11, a type using a carrier gas is shown.

또한, 여기서는 피처리체로서 반도체 웨이퍼를 예로 들어 설명하였지만, 이 반도체 웨이퍼에는 실리콘 기판이나 GaAs, SiC, GaN 등의 화합물 반도체 기판도 포함되고, 또한 이들 기판에 한정되지 않고, 액정 표시 장치에 사용하는 글래스 기판이나 세라믹 기판 등에도 본 발명을 적용할 수 있다.In addition, although the semiconductor wafer was demonstrated as an example to a to-be-processed object, this semiconductor wafer also contains a compound semiconductor substrate, such as a silicon substrate, GaAs, SiC, and GaN, and is not limited to these substrates, The glass used for a liquid crystal display device The present invention can also be applied to a substrate, a ceramic substrate and the like.

도 1은 본 발명에 관한 피처리체의 처리 시스템의 일 실시 형태를 나타내는 개략 구성도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The schematic block diagram which shows one Embodiment of the processing system of the to-be-processed object which concerns on this invention.

도 2는 본 발명에 관한 피처리체의 이동 적재 기구를 설치한 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 각 구성 부재의 배열 위치의 일례를 나타내는 평면도.2 is a plan view showing an example of an arrangement position of respective constituent members in a workpiece-moving loading area provided with a movable loading mechanism of a workpiece according to the present invention.

도 3은 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 청정 기체의 흐름을 나타내는 사시도.3 is a perspective view showing the flow of clean gas in the workpiece movement loading area;

도 4는 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 각 구성 부재의 배열 위치와 이동 적재 기구의 동작 상황의 일례를 나타내는 사시도.4 is a perspective view showing an example of an arrangement position of each structural member in the object to be processed object moving area and an operation situation of the movable stacking mechanism;

도 5는 이온 발생 수단을 갖는 이동 적재 기구를 나타내는 확대 사시도.5 is an enlarged perspective view showing a mobile loading mechanism having ion generating means.

도 6은 이동 적재 기구의 포크 수단을 나타내는 측면도.6 is a side view showing a fork means of a mobile loading mechanism.

도 7은 이온 발생 수단의 각종 형태를 나타내는 블록 구성도.Fig. 7 is a block diagram showing various aspects of ion generating means.

도 8은 본 발명의 피처리체의 반송 기구의 변형 실시 형태의 일례를 나타내는 측면도.The side view which shows an example of the modified embodiment of the conveyance mechanism of the to-be-processed object of this invention.

도 9는 본 발명의 피처리체의 반송 기구의 변형 실시 형태의 일례를 나타내는 평면도.The top view which shows an example of the modified embodiment of the conveyance mechanism of the to-be-processed object of this invention.

도 10은 이온 분출 노즐의 선단부에 설치하는 확산 헤드를 나타내는 사시도.The perspective view which shows the diffusion head provided in the front-end | tip part of an ion ejection nozzle.

도 11은 이온 발생 수단의 다른 변형 실시 형태를 나타내는 도면.11 shows another modified embodiment of the ion generating means.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

2 : 피처리체의 처리 시스템 2: treatment system of the object

4 : 하우징4: housing

6 : 수용 박스6: receiving box

8 : 수용 박스 반송 에어리어8: storage box conveyance area

10 : 피처리체 이동 적재 에어리어10: object to be processed loading area

18 : 웨이퍼 보트(피처리체 보유 지지 수단)18: wafer boat (target object holding means)

22 : 처리 유닛22: processing unit

32 : 승강 엘리베이터32: lifting elevator

34 : 박스 반송 아암34: box return arm

48 : 이동용 보트 적재대48: mobile boat loading platform

50 : 대기용 보트 적재대50: Waiting Boat Loading Platform

52 : 피처리체의 이동 적재 기구52: moving loading mechanism of the workpiece

54 : 승강 수단54: lifting means

56 : 승강대56: platform

58 : 포크 수단58: fork means

60 : 이온 발생 수단60: ion generating means

64 : 처리 용기64: processing container

68 : 보트 승강 기구68: boat hoist

70 : 캡70: cap

74 : 보트 이동 적재 기구74: boat moving loading mechanism

76 : 필터76: filter

78 : 사이드 플로우78: side flow

92 : 선회대92: Swivel

94, 94A 내지 94E : 포크 본체94, 94A to 94E: fork body

96 : 슬라이더96: slider

98 : 이온 발생기98: ion generator

100 : 이온 유로100: ion flow path

102 : 이온 분출 노즐102: ion ejection nozzle

104 : 캐리어 가스 공급 수단104: carrier gas supply means

108 : 캐리어 가스관108: carrier gas pipe

112 : 대전량 검출 센서112: charge detection sensor

114 : 이온용 제어부114: control unit for ions

120 : 시스템 제어부120: system control unit

130 : 광 센서130: light sensor

132 : 확산 헤드132 diffusion head

W : 반도체 웨이퍼(피처리체)W: semiconductor wafer (object to be processed)

Claims (16)

전체가 구획벽에 의해 둘러싸여 닫혀진 피처리체 이동 적재 에어리어 내에서, 복수의 피처리체를 복수단에 걸쳐서 보유 지지하여 수용하는 것이 가능한 수용 박스와, 복수의 피처리체를 복수단에 걸쳐서 보유 지지하고, 상기 피처리체에 대해 소정의 처리를 실시하기 위한 처리 용기 내로 로드 및 언로드되는 피처리체 보유 지지 수단의 사이에서, 상기 피처리체의 이동 적재를 행하는 피처리체의 이동 적재 기구에 있어서,In a workpiece-moving loading area in which the whole is surrounded by a partition wall and closed, a storage box capable of holding and storing a plurality of workpieces over a plurality of stages, and holding a plurality of workpieces over a plurality of stages, In the mobile stacking mechanism of an object to be subjected to the mobile stacking of the object, between the object holding means loaded and unloaded into the processing container for performing a predetermined process to the object, 승강 수단에 의해 상하 방향으로 승강 가능하게 이루어진 승강대와,A lift table made possible to lift in a vertical direction by a lift means, 상기 승강대에 설치되어, 상기 피처리체를 적재하여 전진, 후퇴 및 선회 가능하게 이루어진 포크 수단과,A fork means installed on the lifting table, the fork means configured to load the object and move forward, retract and pivot; 상기 포크 수단에 설치되어 정전기를 제거하는 이온을 발생시키는 동시에, 발생한 상기 이온을 상기 포크 수단의 전방을 향해 방출하는 이온 발생 수단과,Ion generating means installed in the fork means to generate ions for removing static electricity and releasing the generated ions toward the front of the fork means; 상기 피처리체 이동 적재 에어리어내에 설치되는 대전량 검출 센서와,A charge detection sensor provided in the object-moving loading area; 상기 대전량 검출 센서의 검출값을 기초로 하여 상기 이온 발생 수단의 동작을 제어하는 이온용 제어부를 구비하고,And a control unit for ions which controls the operation of the ion generating means on the basis of the detected value of the charge amount detecting sensor, 상기 포크 수단이 이동하는 전체 영역에 대하여 상기 이온을 방출하도록 한 것을 특징으로 하는, 피처리체의 이동 적재 기구.The fork movement mechanism of the to-be-processed object characterized in that the said fork means is made to discharge | release said ion with respect to the whole area | region to which it moves. 제1항에 있어서, 상기 포크 수단은,The method of claim 1, wherein the fork means, 상기 승강대 상에 선회 가능하게 설치된 선회대와,A swing table pivotally mounted on the platform; 상기 선회대에 설치되어 상기 피처리체를 적재하여 전진 및 후퇴 가능하게 이루어진 복수의 포크 본체로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 피처리체의 이동 적재 기구.And a plurality of fork bodies provided on the pivot table so as to load the object and move forwards and backwards. 제2항에 있어서, 상기 포크 수단은,The method of claim 2, wherein the fork means, 상기 선회대에 설치되어, 상기 피처리체의 유무를 검출하는 광 센서를 선단부에 갖고 전진 및 후퇴 가능하게 이루어진 센서가 부착된 포크 본체를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는, 피처리체의 이동 적재 기구.And a fork body provided on the pivot table, the fork main body having an optical sensor for detecting the presence or absence of the object, with a sensor configured to be capable of moving forward and backward. 제2항에 있어서, 상기 이온 발생 수단은 상기 선회대에 설치되는 것을 특징으로 하는, 피처리체의 이동 적재 기구.The moving stacking mechanism of the to-be-processed object of Claim 2 characterized by the said ion generating means being provided in the said turning table. 제2항에 있어서, 상기 이온 발생 수단은 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급 수단을 갖고 있고, 상기 이온 발생 수단의 이온 분출 노즐은 상기 선회대의 선단부에 설치되는 것을 특징으로 하는, 피처리체의 이동 적재 기구.The moving load of the object to be treated according to claim 2, wherein the ion generating means has a carrier gas supplying means for supplying a carrier gas, and an ion ejection nozzle of the ion generating means is provided at the tip of the pivot table. Instrument. 제3항에 있어서, 상기 이온 발생 수단은 상기 센서가 부착된 포크 본체에 설치되는 것을 특징으로 하는, 피처리체의 이동 적재 기구.The movable loading mechanism of the to-be-processed object of Claim 3 in which the said ion generating means is provided in the fork main body with the said sensor attached. 제3항에 있어서, 상기 이온 발생 수단은 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급 수단을 갖고 있고, 상기 이온 발생 수단의 이온 분출 노즐은 상기 센서가 부착된 포크 본체의 선단부에 설치되는 것을 특징으로 하는, 피처리체의 이동 적재 기구.The said ion generating means has the carrier gas supply means which supplies a carrier gas, The ion ejection nozzle of the said ion generating means is provided in the front-end | tip part of the fork main body with the said sensor, Mobile loading mechanism of the workpiece. 제5항에 있어서, 상기 이온 분출 노즐에는 상기 이온의 분출 방향을 확산시키는 확산 헤드가 설치되는 것을 특징으로 하는, 피처리체의 이동 적재 기구.The moving load mechanism of the to-be-processed object according to claim 5, wherein the ion ejection nozzle is provided with a diffusion head for diffusing the ion ejection direction. 제5항에 있어서, 상기 이온 분출 노즐에는 상기 이온의 분출 방향을 변화시키기 위한 가변 루버가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는, 피처리체의 이동 적재 기구.The movable loading mechanism of the to-be-processed object according to claim 5, wherein the ion ejection nozzle is provided with a variable louver for changing the ejection direction of the ions. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 이온 발생 수단은 이오나이저인 것을 특징으로 하는, 피처리체의 이동 적재 기구.The mobile loading mechanism of the target object according to claim 1, wherein the ion generating means is an ionizer. 제1항에 있어서, 상기 수용 박스는, 착탈 가능하게 이루어진 개폐 덮개를 갖고, 내부는 밀폐 가능하게 이루어져 있는 것을 특징으로 하는, 피처리체의 이동 적재 기구.The movable loading mechanism of the to-be-processed object of Claim 1 in which the said accommodation box has the opening-and-closing cover which was made detachable, and the inside is made sealable. 제1항에 있어서, 상기 처리 용기는, 저부에 개구를 갖는 동시에 천장이 있도록 이루어진 석영제의 원통체로 이루어지고, 상기 개구에는 기밀하게 착탈 가능하게 이루어진 캡이 장착되는 것을 특징으로 하는, 피처리체의 이동 적재 기구.The process container is made of a cylindrical cylinder made of quartz having an opening at the bottom and having a ceiling, and the opening is equipped with a cap configured to be detachably sealed. Mobile loading mechanism. 제1항에 있어서, 상기 피처리체의 이동 적재를 행하는 공간은, 상기 처리 용기의 하방의 피처리체 이동 적재 에어리어인 것을 특징으로 하는, 피처리체의 이동 적재 기구.The movable loading mechanism of the to-be-processed object of Claim 1 in which the space which carries out the movable loading of the to-be-processed object is a to-be-processed object loading area below the said processing container. 제14항에 있어서, 상기 피처리체 이동 적재 에어리어에는 청정 기체의 사이드 플로우가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는, 피처리체의 이동 적재 기구.The moving object loading mechanism of claim 14, wherein a side flow of a clean gas is formed in the object movement loading area. 복수의 피처리체를 수용하는 수용 박스로부터 상기 피처리체를 취출하여 상기 피처리체에 대해 열처리를 실시하도록 한 피처리체의 처리 시스템에 있어서,In the processing system of the to-be-processed object which took out the to-be-processed object from the accommodating box containing a some to-be-processed object, and heat-processes the said to-be-processed object, 상기 피처리체에 대해 열처리를 실시하기 위한 처리 용기를 갖는 종형의 처리 유닛과,A vertical processing unit having a processing container for performing heat treatment on the target object; 상기 처리 유닛의 하방에 설치되어 주위가 구획벽에 의해 구획된 피처리체 이동 적재 에어리어와,A to-be-processed object loading area provided below the processing unit and surrounded by partition walls; 상기 피처리체를 복수단에 걸쳐서 보유 지지하는 피처리체 보유 지지 수단과,To-be-processed object holding means for holding the object to be processed over a plurality of stages; 상기 피처리체 보유 지지 수단을 승강시켜 상기 처리 용기 내로 로드 및 언로드하는 보유 지지 수단용 승강 수단과,Lifting means for holding means for lifting and unloading the object holding means to be loaded and unloaded into the processing container; 상기 구획벽에 설치된 이동 적재 스테이지에 설치한 상기 수용 박스와 상기 피처리체 보유 지지 수단 사이에서 상기 피처리체를 이동 적재하기 위한 제1항에 기재된 피처리체의 이동 적재 기구를 구비한 것을 특징으로 하는, 피처리체의 처리 시스템.And a moving stacking mechanism of the target object according to claim 1 for moving and stacking the target object between the accommodation box provided on the movable stacking stage provided on the partition wall and the workpiece holding means. Treatment system of the workpiece.
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