KR101296476B1 - Transfer mechanism and processing system for object to be processed - Google Patents
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Abstract
본 발명의 과제는, 적은 대수의 이온 발생 수단으로 예를 들어 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 광범위에 걸쳐서 대전 부위의 제전 및 부유하는 대전 먼지의 제전을 행하는 것이 가능한 피처리체의 이동 적재 기구를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a mobile loading mechanism of a workpiece that can be charged with a small number of ion generating means, for example, to charge the charged portion and to remove floating charged dust over a wide range in the workpiece movement loading area. .
복수의 피처리체(W)를 복수단에 걸쳐서 보유 지지하여 수용하는 것이 가능한 수용 박스(6)와, 복수의 피처리체를 복수단에 걸쳐서 보유 지지하고, 피처리체에 대해 소정의 처리를 실시하기 위한 처리 용기(64) 내로 로드 및 언로드되는 피처리체 보유 지지 수단(18) 사이에서, 피처리체의 이동 적재를 행하는 피처리체의 이동 적재 기구(52)에 있어서, 승강 수단(54)에 의해 상하 방향으로 승강 가능하게 이루어진 승강대(56)와, 승강대에 설치되어, 피처리체를 적재하여 전진, 후퇴 및 선회 가능하게 이루어진 포크 수단(58)과, 포크 수단에 설치되어 정전기를 제거하는 이온을 발생시키는 이온 발생 수단(60)을 구비한다.A housing box 6 capable of holding and receiving a plurality of objects W over a plurality of stages, and holding a plurality of objects over a plurality of stages, and for carrying out a predetermined treatment on the object. Between the workpiece holding means 18 that is loaded and unloaded into the processing container 64, in the movable loading mechanism 52 of the workpiece to carry out the moving stack of the workpiece, the lifting means 54 moves upwards and downwards. An elevator platform 56 configured to be able to move up and down, a fork means 58 installed on the platform, and capable of moving forward, retracting and turning to load an object to be processed, and generating ions generated in the fork means to generate ions to remove static electricity. Means 60 are provided.
수용 박스, 포크 수단, 이온 발생 수단, 보트 승강 기구, 보트 이동 적재 기구 Storage box, fork means, ion generating means, boat lifting mechanism, boat moving loading mechanism
Description
본 발명은, 반도체 웨이퍼 등의 피처리체를 수납하는 수용 박스로부터 피처리체를 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 피처리체 보트로 이동 적재하여 피처리체에 열처리를 실시하도록 한 처리 시스템 및 피처리체의 이동 적재 기구에 관한 것이다.The present invention is directed to a processing system and a mobile stacking mechanism of a workpiece to which a workpiece is transferred to a workpiece boat in a workpiece moving loading area from a receiving box for storing a workpiece such as a semiconductor wafer to heat-treat the workpiece. It is about.
일반적으로, IC나 LSI 등의 반도체 집적 회로를 제조하기 위해서는, 반도체 웨이퍼에 대해 각종 성막 처리, 산화 확산 처리, 에칭 처리 등을 반복하여 행하는데, 각 처리를 행하는 데 있어서, 반도체 웨이퍼를 대응하는 장치간에 반송할 필요가 있다. 이 경우, 반도체 웨이퍼는 복수매, 예를 들어 25매씩 수용 박스 내로 수용되어 반송된다. 이러한 종류의 수용 박스로서는, 카세트와 같이 대기에 대해 개방 상태에서 반송하는 것이나, FOUP(등록상표)와 같이 파티클이나 자연 산화막의 부착을 억제하기 위해, 개폐 덮개로 밀폐 상태가 된 상자 내를 N2 가스 등의 불활성 가스나 청정 공기의 분위기로 한 것이 알려져 있다(특허 문헌 1 내지 특허 문헌 3).In general, in order to manufacture a semiconductor integrated circuit such as an IC or an LSI, various film forming processes, oxidation diffusion processes, etching processes, and the like are repeatedly performed on a semiconductor wafer. In each process, an apparatus corresponding to a semiconductor wafer is used. It is necessary to carry back. In this case, a plurality of semiconductor wafers are accommodated in the storage box and conveyed, for example, 25 sheets. As a storage box of this kind, the inside of the box closed by an opening / closing cover N 2 is conveyed in an open state to the atmosphere like a cassette, or in order to suppress adhesion of particles and natural oxide films such as FOUP®. It is known to set it as atmosphere of inert gas, such as gas, or clean air (patent document 1-patent document 3).
그리고, 상기 수용 박스를 취급하는 예를 들어 뱃치(batch)식 처리 시스템에 있어서는, 상기 수용 박스를 반송 기구에 의해 반송하는 박스 반송 에어리어와, 이 수용 박스로부터 반도체 웨이퍼를 열처리를 위해 웨이퍼 보트 등으로 이동 적재하기 위한 피처리체 이동 적재 에어리어가 일반적으로는 있다(예를 들어 특허 문헌 4 내지 특허 문헌 6). 그리고, 양 에어리어는 웨이퍼의 전달을 행하기 위해 개폐 가능하게 이루어진 개구 게이트를 갖는 구획벽에 의해 구획되어 있고, 피처리체를 노출 상태에서 반송하는 상기 피처리체 이동 적재 에어리어 안은, 웨이퍼 표면에 자연 산화막 등이 부착하는 것을 방지하기 위해 불활성 가스, 예를 들어 질소 분위기로 이루어져 있는 경우도 있고, 청정 분위기로 이루어져 있는 경우도 있다.For example, in the batch processing system which handles the said accommodation box, the box conveyance area which conveys the said accommodation box with a conveyance mechanism, and from this accommodation box to a wafer boat etc. for heat processing are performed. There is generally a workpiece moving loading area for moving loading (for example, Patent Documents 4 to 6). And both areas are partitioned by the partition wall which has the opening gate which can be opened and closed so that a wafer may be transferred, The inside of the to-be-processed object moving area which conveys a to-be-processed object in an exposed state has a natural oxide film etc. on the wafer surface. In order to prevent this adhesion, it may consist of an inert gas, for example, nitrogen atmosphere, and may consist of a clean atmosphere.
그리고, 상기 피처리체 이동 적재 에어리어에서는, 상술한 바와 같은 예를 들어 25매의 웨이퍼를 수용하는 수용 박스 내의 웨이퍼를, 웨이퍼의 이동 적재 기구를 사용하여 석영 등으로 이루어지는 피처리체 보트로서의 웨이퍼 보트에 대해 이동 적재를 행한다. 이 웨이퍼 보트는 복수매, 예를 들어 50 내지 150매 정도의 웨이퍼를 등피치로 다단으로 보유 지지할 수 있도록 되어 있다. 또한 마찬가지로, 웨이퍼에 대한 열처리가 완료되면, 상기 이동 적재 기구를 사용하여 상기와는 반대로 웨이퍼 보트로부터 수용 박스에 대해 웨이퍼의 이동 적재를 행한다.In the above-described object moving loading area, for example, a wafer boat as an object boat made of quartz or the like using a wafer moving loading mechanism for a wafer in a housing box that holds 25 wafers as described above. Transfer stacking is performed. This wafer boat is capable of holding a plurality of wafers, for example, about 50 to 150 wafers in multiple stages at equal pitch. In the same manner, when the heat treatment for the wafer is completed, the mobile stacking mechanism is used to perform the mobile stacking of the wafer from the wafer boat to the housing box from the wafer boat as opposed to the above.
여기서, 일반적으로 종형의 열처리 유닛에 있어서는, 사용하는 석영제의 웨이퍼 보트로서는, 웨이퍼 보트를 구성하는 지지 기둥에 웨이퍼의 에지를 지지하는 웨이퍼 지지 홈부를 형성하여 이루어지는, 소위 래더형의 웨이퍼 보트나 지지 기둥 사이에 링 형상의 적재대를 다단으로 걸쳐서, 각 적재대에 웨이퍼의 에지를 지지하는 지지 갈고리부를 형성하여 이루어지는, 소위 링형의 웨이퍼 보트가 알려져 있다(특허 문헌 6 등).In general, in the vertical heat treatment unit, as a quartz wafer boat to be used, a so-called ladder wafer boat or support formed by forming a wafer support groove portion for supporting the edge of the wafer in a support column constituting the wafer boat is used. A so-called ring wafer boat is known which forms a support hook portion for supporting an edge of a wafer on each of the mounting boards by spreading a ring-shaped mounting table in multiple stages between the pillars (
그런데, 상술한 바와 같이 피처리체 이동 적재 에어리어 내에서 상기한 이동 적재 기구를 사용하여 수용 박스와 웨이퍼 보트 사이에서 반도체 웨이퍼의 이동 적재를 행하는 경우, 부재끼리간의 약간의 접촉, 혹은 미끄럼 접촉에 의해 상기 웨이퍼 자체, 수용 박스 자체, 또는 웨이퍼 보트 자체에 정전기가 발생하는 것은 피할 수 없다. 이 정전기가 발생하면, 분위기 중에 떠도는 약간의 파티클이라도 이를 흡착해 버려 제품의 수율 저하의 원인이 되어 버린다.By the way, when carrying out the transfer stack of a semiconductor wafer between a storage box and a wafer boat using the above-mentioned moving loading mechanism in the to-be-processed object moving loading area as mentioned above, by the slight contact or sliding contact between members, The generation of static electricity on the wafer itself, the receiving box itself, or the wafer boat itself is unavoidable. If this static electricity is generated, even a small amount of particles floating in the atmosphere will be adsorbed and cause a decrease in product yield.
그로 인해, 종래의 반송 기구에 있어서는, 상기 발생한 정전기를 제거할 목적으로 피처리체 이동 적재 에어리어 내에 이오나이저를 고정적으로 설치하거나, 혹은 카세트간의 웨이퍼 이동 적재시에 웨이퍼에 발생하는 정전기를 제거할 목적으로 이동 적재 기구의 이동 적재 아암의 밑동에 복수의 이오나이저를 설치하도록 하여, 상기 발생한 정전기를 제전하도록 하고 있었다(예를 들어 특허 문헌 7).Therefore, in the conventional conveyance mechanism, for the purpose of removing the generated static electricity, the ionizer is fixedly installed in the workpiece-moving loading area, or for removing the static electricity generated on the wafer during wafer transfer between cassettes. A plurality of ionizers were provided in the base of the movable loading arm of the movable loading mechanism to discharge the generated static electricity (for example, Patent Document 7).
[특허 문헌 1] 일본 특허 출원 공개 평8-279546호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 8-279546
[특허 문헌 2] 일본 특허 출원 공개 평9-306975호 공보[Patent Document 2] Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 9-306975
[특허 문헌 3] 일본 특허 출원 공개 평11-274267호 공보[Patent Document 3] Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 11-274267
[특허 문헌 4] 일본 특허 출원 공개 제2002-76089호 공보[Patent Document 4] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-76089
[특허 문헌 5] 일본 특허 출원 공개 제2003-37148호 공보[Patent Document 5] Japanese Patent Application Publication No. 2003-37148
[특허 문헌 6] 일본 특허 출원 공개 평9-213647호 공보[Patent Document 6] Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 9-213647
[특허 문헌 7] 일본 특허 출원 공개 평11-238778호 공보[Patent Document 7] Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 11-238778
그런데, 상술한 바와 같이 이오나이저를 피처리체 이동 적재 에어리어 내에 고정적으로 설치함으로써, 대전 부위나 부유하는 대전 먼지(파티클)의 어느 정도의 제전을 행할 수 있었다.By the way, as described above, the ionizer was fixedly installed in the object-moving loading area, whereby a certain amount of static charge of the charged portion and floating charged dust (particle) could be performed.
그러나, 실제 피처리체 이동 적재 에어리어 내에서는 이동 적재 기구가 이동하는 영역의 많은 부분에서 정전기의 대전이 발생하고 있고, 이들 대전 부위를 충분히 또한 효과적으로 제전하는 것은 상기한 종래 구성에서는 곤란하였다. 이 경우, 이동 적재 기구가 이동하는 모든 영역에 대해 이오나이저를 설치하는 것도 생각할 수 있지만, 이 경우에는 이오나이저의 설치 대수가 증가하여, 설비 비용이 대폭으로 증대해 버리므로, 현실적이지 않다.However, in the actual object to be processed moving area, charging of static electricity occurs in a large part of the area where the moving loading mechanism moves, and it is difficult in the above-described conventional configuration to sufficiently and effectively discharge these charged sites. In this case, it is also conceivable to install the ionizers in all the regions to which the mobile loading mechanism moves, but in this case, the number of ionizers installed increases and the installation cost greatly increases, which is not practical.
또한, 이동 적재 아암의 밑동에 이오나이저를 설치한 경우에는, 이것에 보유 지지한 예를 들어 웨이퍼 자체에 발생한 정전기의 제전은 유효하게 행할 수 있지만, 웨이퍼 보트 자체나 수용 박스 자체에 발생한 정전기의 제전은 유효하게 행할 수 없을 뿐만 아니라, 이 경우에도 설치하는 이오나이저의 수가 많아져 버리는 등의 문제가 있었다.In addition, when an ionizer is provided in the base of a movable loading arm, static electricity generated in the wafer itself, for example, held therein can be effectively discharged, but static electricity generated in the wafer boat itself or the receiving box itself can be effectively removed. Not only can not be effectively performed, but also in this case, there existed a problem that the number of ionizers installed increases.
본 발명은, 이상과 같은 문제점에 착안하여, 이를 유효하게 해결하기 위해 창안된 것이다. 본 발명의 목적은, 적은 대수의 이온 발생 수단으로 예를 들어 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 광범위에 걸쳐서 대전 부위의 제전 및 부유하는 대전 먼지의 제전을 행하는 것이 가능한 피처리체의 이동 적재 기구 및 피처리체의 처리 시스템을 제공하는 것에 있다.The present invention has been devised to solve the above problems and to effectively solve the above problems. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a mobile loading mechanism and an object to be processed that can be charged with a small number of ion generating means, for example, to charge the charged portion and to remove the charged charged dust over a wide range in the object moving load area. It is to provide a processing system.
청구항 1에 관한 발명은, 복수의 피처리체를 복수단에 걸쳐서 보유 지지하여 수용하는 것이 가능한 수용 박스와, 복수의 피처리체를 복수단에 걸쳐서 보유 지지하고, 상기 피처리체에 대해 소정의 처리를 실시하기 위한 처리 용기 내로 로드 및 언로드되는 피처리체 보유 지지 수단의 사이에서, 상기 피처리체의 이동 적재를 행하는 피처리체의 이동 적재 기구에 있어서, 승강 수단에 의해 상하 방향으로 승강 가능하게 이루어진 승강대와, 상기 승강대에 설치되어, 상기 피처리체를 적재하여 전진, 후퇴 및 선회 가능하게 이루어진 포크 수단과, 상기 포크 수단에 설치되어 정전기를 제거하는 이온을 발생시키는 이온 발생 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 피처리체의 이동 적재 기구이다.The invention according to claim 1 holds an accommodating box capable of holding and accommodating a plurality of workpieces over a plurality of stages, and holds a plurality of workpieces over a plurality of stages, and performs a predetermined process on the workpiece. In the movable loading mechanism of the workpiece to be loaded and unloaded into the processing container for carrying out the workpiece, the lifting table configured to be capable of lifting up and down by an elevating means; A fork means provided on a lift table, the fork means configured to load the object to be moved forwards, backwards, and pivotable; and an ion generating means installed on the fork means to generate ions to remove static electricity. It is a mobile loading mechanism.
이와 같이, 피처리체를 수용하는 수용 박스와 처리 용기 내로 로드 및 언로드되는 피처리체 보유 지지 수단 사이에서 피처리체의 이동 적재를 행하는 이동 적재 기구에 있어서, 피처리체를 적재하여 이동하는 포크 수단에 이온 발생 수단을 설치하여 정전기를 제거하도록 하였으므로, 적은 대수의 이온 발생 수단으로 예를 들어 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 광범위에 걸쳐서 대전 부위의 제전 및 부유하는 대전 먼지의 제전을 행할 수 있다.As described above, in the mobile stacking mechanism for moving the object to be processed between the receiving box containing the object and the object holding means loaded and unloaded into the processing container, ions are generated in the fork means that loads and moves the object. Since a means is provided to remove static electricity, a small number of ion generating means can perform, for example, the charging of the charged site and the charging of the floating charged dust over a wide range in the object-moving loading area.
청구항 2의 발명은, 청구항 1의 발명에 있어서, 상기 포크 수단은, 상기 승강대 상에 선회 가능하게 설치된 선회대와, 상기 선회대에 설치되어 상기 피처리체를 적재하여 전진 및 후퇴 가능하게 이루어진 복수의 포크 본체로 이루어지는 것을 특징으로 한다.In the invention according to claim 1, in the invention of claim 1, the fork means includes a plurality of pivots that are pivotably mounted on the platform and a plurality of pivots that are provided on the pivot to load the object to be processed and move forward and backward. It is characterized by consisting of the fork body.
청구항 3의 발명은, 청구항 2의 발명에 있어서, 상기 포크 수단은, 상기 선회대에 설치되어, 상기 피처리체의 유무를 검출하는 광 센서를 선단부에 갖고 전진 및 후퇴 가능하게 이루어진 센서가 부착된 포크 본체를 구비하고 있는 것을 특징으로 한다.In the invention of claim 3, in the invention of
청구항 4의 발명은, 청구항 2 또는 청구항 3의 발명에 있어서, 상기 이온 발생 수단은 상기 선회대에 설치되는 것을 특징으로 한다.The invention of claim 4 is the invention of
청구항 5의 발명은, 청구항 2 내지 청구항 4 중 어느 한 항의 발명에 있어서, 상기 이온 발생 수단은 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급 수단을 갖고 있고, 상기 이온 발생 수단의 이온 분출 노즐은 상기 선회대의 선단부에 설치되는 것을 특징으로 한다.The invention of claim 5 is the invention according to any one of
청구항 6의 발명은, 청구항 3의 발명에 있어서, 상기 이온 발생 수단은 상기 센서가 부착된 포크 본체에 설치되는 것을 특징으로 한다.According to a sixth aspect of the present invention, in the invention according to the third aspect, the ion generating means is provided in a fork body to which the sensor is attached.
청구항 7의 발명은, 청구항 3 또는 청구항 6의 발명에 있어서, 상기 이온 발생 수단은 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급 수단을 갖고 있고, 상기 이온 발생 수단의 이온 분출 노즐은 상기 센서가 부착된 포크 본체의 선단부에 설치되는 것을 특징으로 한다.The invention of claim 7 is the invention of
청구항 8의 발명은, 청구항 5 또는 청구항 7의 발명에 있어서, 상기 이온 분출 노즐에는 상기 이온의 분출 방향을 확산시키는 확산 헤드가 설치되는 것을 특징으로 한다.The invention of
청구항 9의 발명은, 청구항 5 또는 청구항 7의 발명에 있어서, 상기 이온 분출 노즐에는 상기 이온의 분출 방향을 변화시키기 위한 가변 루버가 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.In the invention of claim 9, in the invention of claim 5 or 7, the ion ejection nozzle is provided with a variable louver for changing the ejection direction of the ions.
청구항 10의 발명은, 청구항 1 내지 청구항 9의 어느 한 항의 발명에 있어서, 상기 이온이 분출되는 영역에 설치되는 대전량 검출 센서와, 상기 대전량 검출 센서의 검출값을 기초로 하여 상기 이온 발생 수단의 동작을 제어하는 이온용 제어부를 갖는 것을 특징으로 한다.In the invention according to any one of claims 1 to 9, the ion generating means is based on a charge amount detecting sensor provided in a region where the ions are ejected and the detected value of the charge amount detecting sensor. It characterized in that it has a control unit for the ion to control the operation of.
청구항 11의 발명은, 청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항의 발명에 있어서, 상기 이온 발생 수단은 이오나이저인 것을 특징으로 한다.The invention of claim 11 is the invention according to any one of claims 1 to 10, wherein the ion generating means is an ionizer.
청구항 12의 발명은, 청구항 1 내지 청구항 11 중 어느 한 항의 발명에 있어서, 상기 수용 박스는, 착탈 가능하게 이루어진 개폐 덮개를 갖고, 내부는 밀폐 가능하게 이루어져 있는 것을 특징으로 한다.The invention according to
청구항 13의 발명은, 청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 한 항의 발명에 있어서, 상기 처리 용기는, 저부에 개구를 갖는 동시에 천장이 있도록 이루어진 석영제의 원통체로 이루어지고, 상기 개구에는 기밀하게 착탈 가능하게 이루어진 캡이 장착되는 것을 특징으로 한다.In the invention according to any one of claims 1 to 12, the processing container is made of a cylindrical cylinder made of quartz having an opening at the bottom and having a ceiling, and the opening is hermetically detachable. Characterized in that the cap is mounted.
청구항 14의 발명은, 청구항 1 내지 청구항 13 중 어느 한 항의 발명에 있어서, 상기 피처리체의 이동 적재를 행하는 공간은, 상기 처리 용기의 하방의 피처리체 이동 적재 에어리어인 것을 특징으로 한다.In the invention according to
청구항 15의 발명은, 청구항 1 내지 청구항 14 중 어느 한 항의 발명에 있어 서, 상기 피처리체 이동 적재 에어리어에는 청정 기체의 사이드 플로우가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.In the invention according to claim 15, the side flow of the clean gas is formed in the object-moving loading area of the object.
청구항 16에 관한 발명은, 복수의 피처리체를 수용하는 수용 박스로부터 상기 피처리체를 취출하여 상기 피처리체에 대해 열처리를 실시하도록 한 피처리체의 처리 시스템에 있어서, 상기 피처리체에 대해 열처리를 실시하기 위한 처리 용기를 갖는 종형의 처리 유닛과, 상기 처리 유닛의 하방에 설치되어 주위가 구획벽에 의해 구획된 피처리체 이동 적재 에어리어와, 상기 피처리체를 복수단에 걸쳐서 보유 지지하는 피처리체 보유 지지 수단과, 상기 피처리체 보유 지지 수단을 승강시켜 상기 처리 용기 내로 로드 및 언로드하는 보유 지지 수단용 승강 수단과, 상기 구획벽에 설치된 이동 적재 스테이지에 설치한 상기 수용 박스와 상기 피처리체 보유 지지 수단 사이에서 상기 피처리체를 이동 적재하기 위한 청구항 1 내지 청구항 15 중 어느 한 항에 기재된 피처리체의 이동 적재 기구를 구비한 것을 특징으로 하는 피처리체의 처리 시스템이다.The invention according to
본 발명에 관한 피처리체의 이동 적재 기구 및 피처리체의 처리 시스템에 따르면, 다음과 같이 우수한 작용 효과를 발휘할 수 있다.According to the mobile loading mechanism of the object to be processed and the processing system of the object to be processed according to the present invention, excellent effects can be obtained as follows.
피처리체를 수용하는 수용 박스와 처리 용기 내로 로드 및 언로드되는 피처리체 보유 지지 수단 사이에서 피처리체의 이동 적재를 행하는 이동 적재 기구에 있어서, 피처리체를 적재하여 이동하는 포크 수단에 이온 발생 수단을 마련하여 정전기를 제거하도록 하였으므로, 적은 대수의 이온 발생 수단으로 예를 들어 피처리 체 이동 적재 에어리어 내의 광범위에 걸쳐서 대전 부위의 제전 및 부유하는 대전 먼지의 제전을 행할 수 있다.A mobile stacking mechanism for moving a workpiece between a receiving box for receiving a workpiece and a workpiece holding means loaded and unloaded into the processing vessel, the ion generating means being provided in a fork means for loading and moving the workpiece. Since the static electricity is removed, a small number of ion generating means can perform, for example, the charging of the charged portion and the charging of the floating charged dust over a wide range in the object-moving loading area.
이하에, 본 발명에 관한 피처리체의 이동 적재 기구 및 피처리체의 처리 시스템의 적합한 일 실시 형태를 첨부 도면을 기초로 하여 상세하게 서술한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, one suitable embodiment of the moving loading mechanism of the to-be-processed object which concerns on this invention, and the processing system of a to-be-processed object is described in detail based on an accompanying drawing.
도 1은 본 발명에 관한 피처리체의 처리 시스템의 일 실시 형태를 나타내는 개략 구성도, 도 2는 본 발명에 관한 피처리체의 이동 적재 기구를 설치한 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 각 구성 부재의 배열 위치의 일례를 나타내는 평면도, 도 3은 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 청정 기체의 흐름을 나타내는 사시도, 도 4는 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 각 구성 부재의 배열 위치와 이동 적재 기구의 동작 상황의 일례를 나타내는 사시도, 도 5는 이온 발생 수단을 갖는 이동 적재 기구를 나타내는 확대 사시도, 도 6은 이동 적재 기구의 포크 수단을 나타내는 측면도, 도 7은 이온 발생 수단의 각종 형태를 나타내는 블록 구성도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The schematic block diagram which shows one Embodiment of the processing system of the to-be-processed object which concerns on this invention, and FIG. 2 is the arrangement position of each structural member in the to-be-processed object loading area which provided the moving-loading mechanism of the to-be-processed object which concerns on this invention. Fig. 3 is a perspective view showing the flow of clean gas in the workpiece movement loading area, and Fig. 4 is a perspective view showing an example of the arrangement position of each component in the workpiece movement loading area and the operation situation of the movement loading mechanism. 5 is an enlarged perspective view showing a mobile loading mechanism having ion generating means, FIG. 6 is a side view showing a fork means of the mobile loading mechanism, and FIG. 7 is a block configuration diagram showing various forms of the ion generating means.
우선, 도 1 및 도 2에 도시하는 바와 같이, 이 피처리체의 처리 시스템(2)은, 전체가 구획벽으로서 기능하는 예를 들어 스테인레스 등으로 이루어지는 하우징(4)으로 둘러싸여 있고, 이 내부는 수용 박스(6)를 반송하기 위한 수용 박스 반송 에어리어(8)와 피처리체인 반도체 웨이퍼(W)를 이동 적재하는 피처리체 이동 적재 에어리어(10)로 구획벽(12)에 의해 2분되어 있다. 또한, 여기서는 웨이퍼(W)는 직경이 300㎜인 웨이퍼를 사용하지만, 이에 한정되지 않고, 직경이 450㎜, 8인치(203.2㎜), 6인치(152.4㎜)의 웨이퍼도 사용할 수 있다.First, as shown to FIG. 1 and FIG. 2, the
상기 수용 박스(6)에는 복수매, 예를 들어 25매의 웨이퍼가 단차부 형상으로 지지되어 개폐 덮개(6A)에 의해 밀폐 상태로 되어 있고, 내부는 N2 가스 등의 불활성 가스 분위기나 청정 공기의 분위기로 이루어져 있다. 그리고, 상기 수용 박스 반송 에어리어(8) 내에는 청정 공기의 다운 플로우가 흐르게 되고, 상기 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내에는 후술하는 바와 같이 N2 가스 등의 불활성 가스의 청정 기체의 사이드 플로우가 형성된 불활성 가스 분위기로 이루어져 있다. 또한, 이 에어리어(10) 내에 청정 공기를 흐르게 하는 경우도 있다.A plurality of wafers, for example, 25 wafers are supported in the
이 처리 시스템(2)은, 주로 수용 박스(6)를 처리 시스템(2) 내에 대해 반입 반출시키기 위한 반출입 포트(14)와, 상기 수용 박스(6)를 일시적으로 저장하기 위한 스토커부(16)와, 이 수용 박스(6)와 피처리체 보유 지지 수단으로서의 웨이퍼 보트(18) 사이에서 반도체 웨이퍼(W)를 이동 적재하는 이동 적재 스테이지(20)와, 웨이퍼 보트(18)로 이동 적재되어 유지되어 있는 반도체 웨이퍼(W)에 대해 소정의 열처리를 실시하는 처리 유닛(22)에 의해 주로 구성된다.This
상기 반출입 포트(14)에 있어서, 하우징(4)에는 항상 개방되어 있는 박스 반출입구(24)가 형성되어 있다. 또한, 이 박스 반출입구(24)가 개폐 도어에 의해 개폐 가능하게 되어 있는 경우도 있다. 이 박스 반출입구(24)에는, 외부로부터 반송되어 온 수용 박스(6)를 적재하기 위한 외측 적재대(26)가 설치되어 있다. 이 외측 적재대(26)는 상기 박스 반출입구(24)의 내측과 외측에 걸치도록 하여 설치되어 있다. 상기 외측 적재대(26)의 상부에는, 이 외측 적재대(26) 상을 슬라이드 이동 가능하게 이루어진 슬라이드판(28)이 설치되어 있고, 이 위에 수용 박스(6)를 적재한 상태에서 이동할 수 있도록 되어 있다.In the carrying-out
한편, 수용 박스 반송 에어리어(8) 내의 상방에는, 상기 스토커부(16)가 위치되어 있다. 이 스토커부(16)는, 도시예에 있어서는 예를 들어 2열 2단으로 상기 수용 박스(6)를 일시적으로 적재하여 보관하는 선반단(30)이 병설되어 있다. 또한, 이 선반단(30)의 수량은 특별히 한정되지 않고, 실제로는 더욱 많이 설치된다.On the other hand, the
상기 2개의 선반단(30) 사이에는, 승강 엘리베이터(32)가 기립하여 설치되어 있고, 이 승강 엘리베이터(32)에는, 수평 방향으로 전진 후퇴 및 선회 가능하게 이루어진 박스 반송 아암(34)이 설치되어 있다. 따라서, 이 박스 반송 아암(34)을 굴신 및 승강시킴으로써, 수용 박스(6)를 박스 반송 아암(34)으로 보유 지지하여, 반출입 포트(14)와 스토커부(16) 사이에서 반송할 수 있도록 되어 있다.An elevating
또한, 상기 이동 적재 스테이지(20)에 있어서, 양 에어리어(8, 10) 사이를 구획하는 구획벽(12)에는 수용 박스(6)의 개폐 덮개(6A)보다도 약간 크게 이루어진 개구(36)가 형성되는 동시에, 이 개구(36)의 수용 박스 반송 에어리어(8)측에는 받침대(38)가 수평하게 설치되어 있어, 이 위에 수용 박스(6)를 적재할 수 있도록 되어 있다. 또한, 이 받침대(38)의 일측에는, 이 위에 적재된 수용 박스(6)를 구획벽(12)측으로 압박하기 위한 액추에이터(40)가 설치되어 있고, 상기 수용 박스(6)의 개폐 덮개(6A)를, 상기 개구(36)에 면하게 한 상태에서 수용 박스(6)의 개구부의 개구 테두리가 구획벽(12)의 개구(36)의 개구 테두리에 대략 기밀하게 접촉되게 된다. 또한, 상기 액추에이터(40)로서 수용 박스(6)를, 그 상방으로부터 압박하여 고정하도록 한 것도 있다.In the
또한, 이 개구(36)의 피처리체 이동 적재 에어리어(10)측에는, 이를 개폐하는 개폐 도어(42)가 횡방향으로 슬라이드 가능하게 설치되어 있다. 또한, 이 개폐 도어(42)가 상하 방향으로 슬라이드 이동 가능하게 설치되는 경우도 있다. 또한, 이 개폐 도어(42)에는 상기 수용 박스(6)의 개폐 덮개(6A)를 개폐하기 위한 덮개 개폐 기구(44)가 설치되어 있다(도 2 참조).Moreover, the opening-closing
그리고, 수용 박스 반송 에어리어(8) 내에 있어서, 이 개구(36)의 근방에 수용 박스(6)를 대기시키기 위한 대기용 박스 반송 아암(46)이 설치되어 있어, 다음에 처리해야 할 웨이퍼를 수용하는 수용 박스(6)를 박스 반송 아암(34)으로부터 수취하여, 대기 후에 이것을 이동 적재 스테이지(20)에 놓도록 되어 있다. 또한, 상기 대기용 박스 반송 아암(46)을 설치하지 않는 경우도 있어, 이 경우에는 상기 박스 반송 아암(34)에 의해 수용 박스(6)를 이동 적재 스테이지(20) 상에 설치하게 된다.And in the storage
한편, 상기 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내에는, 웨이퍼 보트(18)를 적재하는 2개의 보트 적재대, 즉 이동용 보트 적재대(48)와 대기용 보트 적재대(50)가 설치되어 있다. 상기 2개의 보트 적재대(48, 50) 중, 이 이동용 보트 적재대(48)와 상기 이동 적재 스테이지(20) 사이에는, 본 발명의 특징으로 하는 피처리체의 이동 적재 기구(52)가 설치되어 있다. 이 이동 적재 기구(52)는 승강 수단(54)에 의해 상하 방향으로 승강 가능하게 이루어진 승강대(56)와, 수평 방향으로 전진, 후퇴 및 선회 가능하게 이루어진 포크 수단(58)과, 정전기를 제거하는 이 온을 발생하는 이온 발생 수단(60)을 주로 갖고 있다. 또한, 이 이동 적재 기구(52)의 구조는 이후에 상세하게 서술한다.On the other hand, two boat loading tables for loading the
따라서, 이 이동 적재 기구(52)의 포크 수단(58)을 전진, 후퇴 및 승강 구동함으로써, 받침대(38) 상의 수용 박스(6)와 이동용 보트 적재대(48) 상의 웨이퍼 보트(18) 사이에서 웨이퍼(W)의 이동 적재를 행할 수 있도록 되어 있다. 여기서는 웨이퍼 보트(18)에 관해서는, 복수대, 예를 들어 2대의 웨이퍼 보트(18A, 18B)가 설치되어 있고, 이 2대가 교대로 사용된다. 또한, 웨이퍼 보트(18)를 1대, 또는 3대 이상 설치해도 좋고, 웨이퍼 보트(18)가 1대인 경우에는, 보트 적재대(48, 50)는 설치되지 않고, 후술하는 캡 상의 웨이퍼 보트와의 사이에서 웨이퍼의 이동 적재가 행해진다.Therefore, the fork means 58 of the
이 웨이퍼 보트(18)는, 그 전체가 내열성 재료, 예를 들어 석영으로 구성되어 있고, 예를 들어 6개의 석영제의 지지 기둥을 갖고 있다. 이 지지 기둥에 등피치로 형성한 지지 홈 등에 웨이퍼(W)의 에지를 지지시킴으로써, 복수매의 웨이퍼(W)를 등피치로 지지하도록 되어 있다. 이 경우, 지지되는 웨이퍼(W)의 피치는, 예를 들어 4.0㎜ 정도로 설정되어 있다.The
상기 피처리체 이동 적재 에어리어(10)의 일측 상방에는, 종형 열처리로로 이루어지는 상기 처리 유닛(22)이 베이스판(62)에 의해 지지되어 배치되어 있다. 이 처리 유닛(22)은 저부에 개구를 갖는 동시에 천장이 있도록 된 석영제의 원통체로 이루어지는 처리 용기(64)를 갖고, 그 주위에는 원통 형상의 가열 히터(66)가 설치되어, 처리 용기(64) 내의 웨이퍼를 가열할 수 있도록 되어 있다. 여기서 처 리 용기(64) 내의 분위기는, 예를 들어 용기 하부의 측벽에 설치한 배기구나, 용기 천장부에 설치한 배기구 등으로부터 배기된다. 이에 의해, 한번에 다수매의 웨이퍼(W)에 대해 성막이나 산화 확산 등의 소정의 열처리를 실시하도록 되어 있다.Above one side of the object-moving
이 경우, 처리 내용에도 따르지만, 웨이퍼 온도는 예를 들어 최대 800 내지 900℃ 정도가 된다. 이 처리 용기(64)의 하방, 즉 베이스판(62)보다 하방이 실질적인 피처리체 이동 적재 에어리어(10)가 된다. 이 처리 용기(64)의 하방에는, 승강 엘리베이터와 같은 보트 승강 기구(68)에 의해 승강 가능하게 이루어진 캡(70)이 배치되어 있다. 이 보트 승강 기구(68)로서 예를 들어 볼 나사 등을 사용할 수 있다. 그리고, 이 캡(70) 상에 웨이퍼 보트(18)를 적재하여 이를 상승시킴으로써, 이 웨이퍼 보트(18)를 처리 용기(64)의 하단부 개구부로부터 이 처리 용기(64) 내로 로드할 수 있도록 되어 있다. 이때, 처리 용기(64)의 하단부 개구부는 상기 캡(70)에 의해 기밀하게 폐쇄되도록 되어 있다.In this case, depending on the processing contents, the wafer temperature is, for example, about 800 to 900 ° C. at maximum. Below this
또한 처리 용기(64)의 하단부 개구부의 측부에는, 상기 웨이퍼 보트(18)를 언로드하여 이를 하방향으로 강하시켰을 때에, 상기 하단부 개구부를 폐쇄하는 셔터(72)가 슬라이드 가능하게 설치되어 있다. 그리고, 강하된 캡(70)과 상기 양 보트 적재대(48, 50)의 근방에는, 굴신 및 선회 가능하게 이루어진 보트 이동 적재 기구(74)가 설치되어 있어, 상기 양 보트 적재대(48, 50)와 캡(70) 사이 및 양 보트 적재대(48, 50) 사이에서 웨이퍼 보트(18)의 이동 적재를 할 수 있도록 이루어져 있다.Moreover, the
그리고, 이 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내의 일측에는, 고성능의 한 쌍의 필터(76)(도 2 및 도 3 참조)가 설치되어 있고, 이 필터(76)로부터 청정 공기, 또는 N2 가스 등의 불활성 가스를 수평 방향으로 분출함으로써 청정 기체의 사이드 플로우(78)가 항상 형성되어 있다. 이에 의해, 이 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내를 청정하게 유지하는 동시에, 이 분위기 온도를 냉각하도록 되어 있다. 또한, 상기 필터(76)의 설치면에 대향하는 면에는, 기체 흡입구(80)가 설치되어 있고, 여기서 흡입된 상기 사이드 플로우(78)는 저부에 설치한 덕트(82)(도 4도 참조) 등을 통해 상기 필터(76)측으로 복귀되고, 일부는 순환 사용되게 된다.A pair of high-performance filters 76 (see FIGS. 2 and 3) are provided on one side in the object-moving
여기서 본 발명의 특징으로 하는 피처리체의 이동 적재 기구(52)에 대해 상세하게 설명하면, 전술한 바와 같이, 이 이동 적재 기구(52)는 승강 수단(54)에 의해 상하 방향으로 승강 가능하게 이루어진 승강대(56)과, 수평 방향으로 전진, 후퇴 및 선회 가능하게 이루어진 포크 수단(58)과, 정전기를 제거하는 이온을 발생하는 이온 발생 수단(60)을 주로 갖고 있다.Here, the moving stacking
구체적으로는, 도 1 및 도 5에도 도시한 바와 같이, 상기 승강 수단(54)은 예를 들어 수직 방향으로 기립된 볼 나사(86)로 이루어지고, 이 볼 나사(86)를 따라 안내 레일(88)이 설치되어 있다. 상기 승강대(56)는 상기 볼 나사(86)에 나사 결합되어 있고, 이 볼 나사(86)를 정역 회전함으로써 상기 안내 레일(88)을 따라 상하 이동하도록 되어 있다. 그리고, 이 승강대(56)는 수평 방향으로 연장되는 설치 아암부(90)(도 5 참조)를 갖고 있고, 이 아암부(90)에 포크 수단(58)이 설치된다.Specifically, as shown in Figs. 1 and 5, the lifting means 54 is made of, for example, a
상기 포크 수단(58)은 상기 설치 아암부(90) 상에 화살표(91)로 나타낸 바와 같이 선회 가능하게 설치된 직육면체 형상의 선회대(92)와, 이 선회대(92)에 설치되어 전진 및 후퇴 가능하게 이루어진 복수의 포크 본체(94)에 의해 주로 구성되어 있다. 도 6에도 도시한 바와 같이, 여기서는 5개의 포크 본체(94A, 94B, 94C, 94D, 94E)를 상하 방향으로 등피치로 나란히 배열되어 있는 동시에, 선단부측은 2갈래 형상으로 이루어져 있고, 각 포크 본체(94A 내지 94E) 상에 각각 웨이퍼(W)를 적재할 수 있도록 되어 있다.The fork means 58 is a rectangular parallelepiped revolving table 92 which is rotatably mounted on the
그리고, 상기 각 포크 본체(94A 내지 94E)의 기단부는 슬라이더(96)에 의해 지지되어 있고, 이 슬라이더(96)를 상기 선회대(92)의 길이 방향으로 화살표(97)(도 5 참조)에 나타낸 바와 같이 왕복 슬라이드 이동시킴으로써, 상술한 바와 같이 상기 포크 본체(94A 내지 94E)를 전진 및 후퇴시킬 수 있도록 되어 있다. 또한, 상기 포크 본체(94)의 개수는 5개에 한정되지 않고, 이것보다도 많아도 좋고 혹은 적어도 좋다.The proximal end of each of the fork
상기 이온 발생 수단(60)은 상기 포크 수단(58)의 상기 선회대(92)에 설치되게 된다. 구체적으로는, 이 이온 발생 수단(60)은 예를 들어 이오나이저로 이루어지고, 도 5에 도시한 바와 같이 상기 직육면체 형상의 선회대(92)의 양측에 각각 이온 발생 수단(60)이 설치되어 있다. 또한, 여기서는 2대의 이온 발생 수단(60)을 설치하고 있지만, 이것을 1대 설치하도록 해도 좋다. 이 이온 발생 수단(60)은, 도 7의 (A)에도 도시한 바와 같이, 각각 이온 발생기(98)와, 이것으로부터 연장되는 이온 유로(100)와, 이 이온 유로(100)의 선단부에 접속되는 이온 분출 노 즐(102)에 의해 주로 형성되어 있다. 그리고, 상기 이온 발생기(98)에는, 이것에 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급 수단(104)이 설치되어 있다.The ion generating means 60 is installed on the pivot table 92 of the fork means 58. Specifically, this ion generating means 60 consists of an ionizer, for example, and ion generating means 60 is provided in the both sides of the said
상기 캐리어 가스 공급 수단(104)은, 도중에 개폐 밸브(106)가 개재 설치된 캐리어 가스관(108)으로 이루어지고, 그 선단부측은 2개로 분기되어 상기 각 이온 발생기(98)에 접속되어, 캐리어 가스를 공급할 수 있도록 되어 있다. 이 캐리어 가스로서는, 여기서는 예를 들어 N2 가스를 사용하고 있지만, 이에 한정되지 않고, Ar, He 등의 희가스를 사용해도 좋다. 이 캐리어 가스관(108)의 재료로서는, 예를 들어 가요성이 있는 벨로우즈 형상으로 이루어진 스테인레스관, 테프론(상품명)제의 가스관, 세라믹제의 관 등을 사용할 수 있고, 상기 포크 수단(58)의 승강 이동에 추종할 수 있도록 충분히 길게 설정되어 있다.The carrier gas supply means 104 is composed of a
또한 상기 이온 발생기(98) 내에서는, 주지와 같이 복수의 플러스 방전침과 마이너스 방전침(도시하지 않음)이 내장되어 있고, 플러스 이온과 마이너스 이온을 발생시키도록 되어 있다. 여기서 이온 발생기(98)로서 사용하는 이오나이저로서는, 어떠한 종류의 것을 사용해도 좋고, 예를 들어 플러스 이온과 마이너스 이온을 동시에 발생시키는 더블 DC식 바아 타입의 이오나이저, 플러스 이온과 마이너스 이온을 일정한 간격으로 교대로 발생시키는 펄스 DC 타입 이오나이저, 플러스 이온과 마이너스 이온을 고속으로 교대로 발생시키는 AC식 바아 타입의 이오나이저, X선을 조사하여 플러스 이온과 마이너스 이온을 발생시키는 연X선 이오나이저 등을 사용할 수 있다.In addition, in the
여기서 발생된 플러스 이온과 마이너스 이온을 상기 캐리어 가스와 함께 상기 이온 유로(100) 내에 이송할 수 있도록 되어 있다. 이 이온 유로(100)는, 예를 들어 스테인레스제, 테프론(상품명)제, 세라믹제 등의 재질의 관으로 이루어지고, 바람직하게는 절연제 재질에 의해 구성하고, 발생한 상기 양 이온이 내부에서 가능한 한 소멸되지 않도록 한다. 또한, 상기 양 이온 분출 노즐(102)은, 상기 선회대(92)의 선단부에 각각 설치 고정되어 있고, 캐리어 가스와 함께 운반되고 또한 상기 이온을 필요에 따라서 화살표(110)(도 5 및 도 6 참조)로 나타낸 바와 같이, 전방으로 분출하도록 되어 있다.The positive and negative ions generated here can be transferred together with the carrier gas into the
또한, 도 2 및 도 7의 (A)에도 도시한 바와 같이, 상기 이온이 분출되는 영역, 즉 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내에는, 대전량 검출 센서(112)가 설치되어 있고, 이 대전량 검출 센서(112)의 검출값은, 예를 들어 컴퓨터 등으로 이루어지는 이온용 제어부(114)에 입력되어 있다. 그리고, 이 이온용 제어부(114)로부터의 제어 신호는, 상기 이온 발생 수단(60)측, 구체적으로는 이온 발생기(98)와 개폐 밸브(106)측에 입력되어 있고, 상기 대전량 검출 센서(112)의 검출값을 기초로 하여 이 이온 발생 수단(60)의 동작을 제어하도록 되어 있다. 또한, 상기 대전량 검출 센서(42)를 설치하지 않고, 처리 시스템의 동작 중에는 항상 상기 이온 발생 수단(60)을 동작시켜 이온을 분출하도록 해도 좋다.2 and 7 (A), the charge
그리고, 이 처리 시스템(2) 전체의 동작의 제어, 예를 들어 수용 박스 반송 에어리어(8) 내에 있어서의 수용 박스(6)의 반입 및 반출 조작, 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내에 있어서의 웨이퍼(W)의 이동 적재 조작, 웨이퍼 보트(18)의 이동 적재 조작, 웨이퍼 보트(18)의 승강 조작, 처리 유닛(22)에 있어서의 열처리 조작(성막 처리 등) 등은, 예를 들어 컴퓨터로 이루어지는 시스템 제어부(120)(도 1 참조)에 의해 제어된다. 이 경우, 상기 이온용 제어부(114)는 상기 시스템 제어부(120)의 지배 하로 되어 있다. 그리고, 상기 시스템 제어부(120)나 이온용 제어부(114)의 제어에 필요한 프로그램(컴퓨터에 의해 판독 가능)은 기억 매체(122)에 기억되어 있다. 이 기억 매체(122)로서는, 예를 들어 플렉시블 디스크나 CD(Compact Disc)나 하드 디스크나 플래시 메모리 등으로 이루어진다.And the control of the operation | movement of the whole this
다음에, 이상과 같이 구성된 처리 시스템(2)의 동작에 대해 설명한다. 우선, 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내는, 웨이퍼 표면에의 자연 산화막의 부착을 방지하기 위해 불활성 가스, 예를 들어 N2 가스의 사이드 플로우(78)(도 3 참조)가 형성되어 N2 분위기로 이루어져 있다. 또한, 수용 박스 반송 에어리어(8) 안은, 청정 공기의 다운 플로우가 형성되어 청정 공기의 분위기로 유지되어 있다.Next, operation | movement of the
최초로, 반도체 웨이퍼(W)의 전체적인 흐름에 대해 설명하면, 수용 박스 반송 에어리어(8)측에 있어서 외부로부터 반송되어 온 수용 박스(6)는, 그 개폐 덮개(6A)를 박스 반출입구(24)측을 향해 외측 적재대(26) 상에 적재된다. 그리고, 수용 박스(6)가 적재되어 있는 외측 적재대(26) 상의 슬라이드판(28)을 전진시킴으로써, 이를 상기 수용 박스 반송 에어리어(8) 내에 이송한다.First, the overall flow of the semiconductor wafer W will be described. The
다음에, 박스 반송 아암(34)을 구동함으로써, 상기 슬라이드판(28) 상에 설치되어 있는 수용 박스(6)를 취하러 가서 이를 보유 지지하고, 또한 승강 엘리베이 터(32)를 구동함으로써, 이 수용 박스(6)를 상방의 스토커부(16)의 선반단(30)의 소정 위치까지 반송하여 설치하고, 이를 일시적으로 보관한다. 이와 동시에, 이미 선반단(30)에 일시 저장되어 있고, 처리 대상이 된 웨이퍼를 수용하는 수용 박스(6)를 이 박스 반송 아암(34)에 의해 취하러 가서, 상술한 바와 같이 승강 엘리베이터(32)를 구동하여 이것을 강하시킨다.Next, by driving the
그리고, 이동 적재 스테이지(20)의 받침대(38)가 빈 경우에는, 이 수용 박스(6)를 이동 적재 스테이지(30)의 받침대(38) 상으로 이동 적재한다. 또한, 받침대(38) 상에 다른 수용 박스(6)가 이미 세트되어 있는 경우에는, 박스 반송 아암(34) 상의 수용 박스(6)를 대기용 박스 반송 아암(46)으로 파지하고, 이를 개구(36)의 근방까지 반송하여 대기시킨다. 그리고, 받침대(38) 상의 수용 박스(6)의 개폐 덮개(6A)는, 개폐 도어(42)측으로 향해져 있고, 게다가 받침대(38)의 일측에 설치한 수평 액추에이터(40)에 의해, 수용 박스(6)는 압박되어 받침대(38) 상에 고정되어 있다.And when the
이 상태에서, 덮개 개폐 기구(44)(도 2 참조)를 구동함으로써, 개구(36)의 개폐 도어(42)와 수용 박스(6)의 개폐 덮개(6A)를 제거하고, 이들을 예를 들어 수평 방향으로 슬라이드 이동시켜 퇴피시킨다. 그리고, 본 발명에 관한 피처리체의 이동 적재 기구(52)를 구동함으로써, 수용 박스(6) 내에 수용되어 있던 웨이퍼(W)를, 여기서는 5매씩 취출하고, 이를 이동용 보트 적재대(48) 상에 설치되어 있는 웨이퍼 보트(18)로 이동 적재한다.In this state, by opening and closing the cover opening / closing mechanism 44 (refer FIG. 2), the opening / closing
이 경우, 웨이퍼 보트(18)의 웨이퍼 수용 매수가 75매이고, 또한 수용 박 스(6) 내의 웨이퍼 수용 매수가 25매이면, 3개의 수용 박스(6) 내로부터 웨이퍼가 취출되어 이동 적재되어, 1뱃치의 처리가 행해지게 된다. 여기서 상기 피처리체의 이동 적재 기구(52)의 구동이 개시되면, 이에 설치된 이온 발생 수단(60)도 구동되어 이온의 방출이 개시된다.In this case, when the number of wafer storage sheets of the
상기 웨이퍼 보트(18)로의 웨이퍼(W)의 이동 적재가 완료되면, 다음에 보트 이동 적재 기구(74)를 구동하여, 이 이동용 보트 적재대(48) 상의 웨이퍼 보트(18)를 최하단부로 강하되어 있는 캡(70) 상에 적재한다. 여기서, 열처리가 완료되어 언로드된 웨이퍼를 수용하는 웨이퍼 보트(18)가 상기 캡(70) 상에 있는 경우에는, 보트 이동 적재 기구(74)를 사용하여 이 웨이퍼 보트(18)를 미리 대기용 보트 적재대(50) 상에 옮겨 놓는다.When the mobile stacking of the wafers W onto the
그리고, 이 미처리의 웨이퍼를 수용하는 웨이퍼 보트(18)의 캡(70) 상으로의 이동 적재가 완료되면, 보트 승강 기구(68)를 구동시켜, 웨이퍼 보트(18)와, 이를 적재한 캡(70)을 일체적으로 상승시켜, 이 웨이퍼 보트(18)를 처리 유닛(22)의 처리 용기(64) 내로, 이 하단부 개구부로부터 도입하여 로드한다. 그리고, 이 캡(70)에 의해 처리 용기(64)의 하단부 개구부를 밀폐하고, 이 상태에서 처리 유닛(22) 내에서 웨이퍼(W)에 대해 소정의 열처리, 예를 들어 성막 처리나 산화 확산 처리 등을 행한다. 이 경우, 열처리의 형태에도 따르지만, 웨이퍼(W)의 온도는 800 내지 1000℃의 고온에 도달한다.When the transfer stacking on the
이와 같이 하여, 소정 시간의 열처리가 종료되면, 전술한 것과 반대의 조작을 행하여, 처리가 끝난 웨이퍼(W)를 취출한다. 즉, 언로드를 개시함으로써 웨이 퍼 보트(18)를 처리 용기(64) 내로부터 강하시켜 언로드를 완료한다. 이때, 언로드를 개시하여 웨이퍼 보트(18)의 강하를 개시하면, 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내의 분위기는 고온 상태가 되지만 상술한 사이드 플로우(78)(도 3 참조)로 냉각된다. 그리고, 이 언로드된 웨이퍼 보트(18)는, 보트 이동 적재 기구(74)에 의해, 대기용 보트 적재대(50)를 경유하여, 혹은 이를 경유하지 않고 직접적으로 이동용 보트 적재대(48) 상에 이동 적재된다. 이 동안에 상기 처리가 끝난 웨이퍼(W)는 어느 정도 냉각되어 있다.In this manner, when the heat treatment for a predetermined time is completed, the operation opposite to that described above is performed, and the processed wafer W is taken out. That is, by starting the unloading, the
그리고, 피처리체의 이동 적재 기구(52)의 승강 수단(54) 및 포크 수단(58)을 사용하여 처리가 끝난 웨이퍼(W)를 웨이퍼 보트(18)로부터 이동 적재 스테이지(20)의 받침대(38) 상의 빈 수용 박스(6) 내로 이동 적재한다. 이 경우에도, 상기 피처리체의 이동 적재 기구(52)에 설치된 이온 발생 수단(60)을 구동하고 있어, 이온을 방출하고 있다. 이 수용 박스(6) 내로의 처리가 끝난 웨이퍼(W)의 이동 적재가 완료되면, 개폐 도어(42)를 개구(36)에 장착하고, 또한 덮개 개폐 기구(44)(도 2 참조)를 구동하여, 이에 보유 지지되어 있던 개폐 덮개(6A)를 수용 박스(6)측에 장착한다.The
다음에, 수용 박스 반송 에어리어(8) 내의 박스 반송 아암(34)을 구동하여 이 수용 박스(6)를 일시적으로 스토커부(16)에 저장하고, 혹은 저장하지 않고 박스 반출입구(24)를 통해 처리 시스템(2) 밖으로 반송하게 된다. 이 박스 반송 아암(34)이 처리가 끝난 웨이퍼를 수용한 수용 박스(6)를 반송하고 있는 동안, 이미 빈 수용 박스(6)를 파지하여 대기하고 있던 대기용 박스 반송 아암(46)은, 이 빈 수용 박스(6)를 받침대(38) 상에 세트하고, 처리가 끝난 웨이퍼의 수용 박스(6) 내로의 수용이 개시되게 된다.Next, the
이 경우, 예를 들어 3개의 빈 수용 박스(6)가 사용되게 된다. 그리고, 이에 의해, 1뱃치의 웨이퍼의 처리가 완료된다. 이하, 같은 조작이 반복된다. 또한, 상기한 수용 박스(26)의 흐름은 단순히 일례를 나타낸 것에 지나지 않고, 이에 한정되지 않는 것은 물론이다.In this case, for example, three
그런데, 이러한 일련의 동작이 행해지고 있는 가운데, 상기 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내에서의 반도체 웨이퍼(W)의 이동 적재에 대해 착안하면, 이 웨이퍼(W)는, 받침대(38) 상에 설치된 수용 박스(6)와 이동용 보트 적재대(48) 상에 설치된 웨이퍼 보트(18) 사이에서 피처리체의 이동 적재 기구(52)를 사용하여 이동 적재되게 된다. 즉, 도 5에 도시한 바와 같이, 피처리체의 이동 적재 기구(52)의 승강 수단(54)에 의해 승강대(56)는 승강 이동하고, 또한 포크 수단(58)의 선회대(92)는 승강대(56)로부터 연장되는 설치 아암(90) 상에서 필요에 따라서 선회 이동하고, 또한 선회대(92) 상의 슬라이더(96)가 전후로 슬라이드 이동함으로써 5개의 포크 본체(94A 내지 94E)는 전진 혹은 후퇴하고, 이에 의해 각 포크 본체(94A 내지 94E) 상에 웨이퍼(W)를 유지하여, 이를 이동 적재하게 된다.By the way, when such a series of operation | movement is performed and focuses on the moving stacking of the semiconductor wafer W in the said to-be-processed
이와 같이, 웨이퍼(W)를 이동 적재하는 결과, 웨이퍼(W) 자체 및 웨이퍼(W)를 유지하여 수용하게 되는 수용 박스(6)나 웨이퍼 보트(18)가 정전기에 의해 대전되는 경향이 된다. 또한, 다양한 원인에 의해, 이 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내에 존재하는 약간의 파티클(먼지)도 정전기에 의해 대전되는 경향이 있 다.As a result of the transfer of the wafer W as described above, the
그러나, 본 발명에 있어서는, 상기 포크 수단(58)에 이온 발생 수단(60)을 설치하여, 이 이온 발생 수단(60)으로부터 플러스 이온과 마이너스 이온을 방출하고 있으므로, 상기 대전 부위나 부유하고 있는 대전 파티클이 제전되게 되어, 웨이퍼(W)에 파티클이 부착하는 것을 방지할 수 있다.However, in the present invention, since the ion generating means 60 is provided in the fork means 58 and the positive and negative ions are discharged from the ion generating means 60, the charging portion and the floating charging The particles are static discharged, and the particles can be prevented from adhering to the wafer (W).
즉, 도 7의 (A)에 도시한 바와 같이, 이온 발생 수단(60)의 이온 발생기(98)에서 발생한 플러스 이온과 마이너스 이온은, 캐리어 가스에 의해 수반되어 이온 유로(100) 내에서 흘러, 이 선단부에 접속한 이온 분출 노즐(102)로부터 전방을 향해 항상 방출되게 된다. 이 이온 분출 노즐(102)은, 상술한 바와 같이 웨이퍼(W)의 이동 적재 조작에 의해, 승강 이동, 선회 이동 및 전진 후퇴 이동하므로, 이 포크 수단(58)이 이동하는 모든 영역에 대해 상기 이온을 방출하게 된다.That is, as shown in FIG. 7A, the positive and negative ions generated in the
예를 들어 도 4에서는, 포크 수단(58)이 좌우 반대측을 향한 상태를 나타내고 있고, 이와 같이 하여 포크 수단(58)이 이동하는 모든 경로에 있어서 이온을 방출시킬 수 있다. 따라서, 상술한 바와 같이 대전하는 경향이 있는 수용 박스(6) 및 웨이퍼 보트(18)를 효과적 및 효율적으로 제전할 수 있다.For example, in FIG. 4, the fork means 58 has shown the state which turned to the left and right opposite sides, and can discharge | release a ion in all the path | routes which the fork means 58 moves in this way. Therefore, the
또한, 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내의 넓은 영역에 대해 광범위하게 이온을 방출할 수 있으므로, 이 에어리어 내에서 대전하여 부유하고 있는 파티클에 대해서도, 이를 효과적 및 효율적으로 제전할 수 있다. 이 경우, 이온 발생기(60)는, 1대 혹은 2대 정도이므로, 설비 비용은 매우 적어지고, 적은 대수의 이온 발생 수단(60)으로 광범위에 걸쳐서 이온을 방출시킬 수 있다.In addition, since a wide range of ions can be emitted to a large area in the object-moving
또한, 이 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내의 대전 상황은, 도 7의 (A)에 도시한 바와 같이, 대전량 검출 센서(112)에 의해 항상 검출되고 있고, 이 검출값이 소정값보다도 낮은 경우에는, 상기 이온용 제어부(114)는 이온 발생기(98)의 동작을 정지할 수 있으므로, 캐리어 가스 등을 불필요하게 소비하는 것을 방지할 수 있다.In addition, the charging situation in the object-moving
이와 같이, 피처리체인 예를 들어 반도체 웨이퍼(W)를 수용하는 수용 박스(6)와 처리 용기(64) 내로 로드 및 언로드되는 피처리체 보유 지지 수단인 웨이퍼 보트(18) 사이에서 피처리체의 이동 적재를 행하는 이동 적재 기구에 있어서, 피처리체를 적재하여 이동하는 포크 수단(58)에 이온 발생 수단(60)을 설치하여 정전기를 제거하도록 하였으므로, 적은 대수의 이온 발생 수단(60)으로 예를 들어 피처리체 이동 적재 에어리어(10) 내의 광범위에 걸쳐서 대전 부위의 제전 및 부유하는 대전 먼지의 제전을 행할 수 있다.In this way, the movement of the object between the receiving
또한, 상기 실시 형태의 경우에는, 선회대(92)의 양측에 2대의 이온 발생 수단(60)을 설치한 경우를 예로 들어 설명하였지만, 이에 한정되지 않고, 도 7의 (B)에 도시한 바와 같이 1대의 이온 발생 수단(60)을 설치하고, 이 이온 발생기(98)로부터 연장하는 이온 유로(100)를 도중에 2개로 분기하여, 분기한 각각의 이온 유로(100)의 선단부에 이온 분출 노즐(102)을 설치하도록 좋다. 이에 따르면, 이온 발생기(98)를 1대 감소시킨 분만큼, 설비 비용을 저감시킬 수 있다. 또한, 도 7의 (B)에 있어서, 도 7의 (A)에 도시하는 부분과 동일 구성의 부분에 대해서는 동일 참조 부호를 부여하고 있다.In the above embodiment, the case where two ion generating means 60 are provided on both sides of the swing table 92 has been described as an example, but the present invention is not limited thereto, and it is shown in FIG. 7B. Similarly, one ion generating means 60 is provided, the
<변형 실시 형태><Modification Embodiment>
다음에, 본 발명의 피처리체의 반송 기구의 변형 실시 형태에 대해 설명한다. 앞의 실시 형태에 있어서는, 이온 발생 수단(60)의 전체를 선회대(92)에 설치한 경우를 예로 들어 설명하였지만, 이에 한정되지 않고, 이온 발생 수단(60)의 일부, 혹은 전부를 포크 본체(94)측에 설치하도록 해도 좋다. 도 8은 이와 같은 본 발명의 피처리체의 반송 기구의 변형 실시 형태의 일례를 나타내는 측면도, 도 9는 본 발명의 피처리체의 반송 기구의 변형 실시 형태의 일례를 나타내는 평면도이며, 도 8 중의 A-A선 화살표 개략 단면도를 나타내고 있다. 또한, 도 8 및 도 9에 있어서, 도 5 중의 구성 부품과 동일 구성 부품에 대해서는 동일 참조 부호를 부여하고 있다.Next, the modified embodiment of the conveyance mechanism of the to-be-processed object of this invention is described. In the above embodiment, the case where the entire ion generating means 60 is provided on the pivot table 92 has been described as an example. However, the present invention is not limited thereto, and a part or all of the ion generating means 60 may be used in the fork body. It may be provided on the side (94). FIG. 8 is a side view showing an example of a modified embodiment of the conveyance mechanism of the object to be processed of the present invention, FIG. 9 is a plan view showing an example of a modified embodiment of the conveyance mechanism of the object to be processed according to the present invention, and line AA in FIG. 8. The arrow outline sectional drawing is shown. 8 and 9, the same reference numerals are given to the same components as those in FIG. 5.
일반적으로, 도 8 및 도 9에 도시한 바와 같이, 포크 수단(58)에는, 웨이퍼(W)를 보유 지지하는 포크 본체(94A 내지 94E) 이외에, 웨이퍼 보트(18)나 수용 박스(6) 내에 있어서의 웨이퍼의 수용 위치를 검출하는 센서가 부착된 포크 본체(94X)를 갖고 있는 경우가 있다.Generally, as shown in FIG. 8 and FIG. 9, the fork means 58 is provided in the
이 센서가 부착된 포크 본체(94X)는, 다른 포크 본체(94A 내지 94E)와 마찬가지로, 전진 및 후퇴가 가능하게 이루어지고, 선단부측은 2갈래 형상으로 나누어져 있다. 그리고, 이 2갈래 형상의 선단부에 웨이퍼(W)의 유무를 검출하는 광 센서(130)가 설치된다. 이 광 센서(130)는 2갈래 형상의 선단부의 일단부에 설치한 발광 다이오드나 레이저 소자 등으로 이루어져 검사광(L)을 발하는 발광기(130A)와 다른 쪽 선단부에 설치한 수광기(130B)로 이루어지고, 이 센서가 부착된 포크 본 체(94X)를 전진시킨 상태에서, 웨이퍼(W)의 에지에 상당하는 부위를 상하 방향으로 주사 이동시킴으로써, 웨이퍼의 유무와, 그 위치를 검출하도록 되어 있다. 또한, 이 센서가 부착된 포크 본체(94X)를 사용하여 웨이퍼(W)의 반송을 할 수 있는 것은 물론이다.The fork
그리고, 이 변형 실시 형태에서는, 상기 센서가 부착된 포크 본체(94X)의 양측에, 각각 상기 이온 발생 수단(60)을 설치하고 있다. 구체적으로는, 상기 센서가 부착된 포크 본체(94X)의 2갈래 형상의 선단부에, 2대의 이온 발생 수단(60)의 각 이온 분출 노즐(102)을 각각 설치하고 있다. 또한, 여기서는 각 이온 발생기(98)를 슬라이더(96)의 양측에 설치하도록 하고 있다. 이 경우에는, 상기 센서가 부착된 포크 본체(94X)를 전진시켜, 상기 이온 분출 노즐(102)을 상기 웨이퍼(W)나 웨이퍼 보트(18)나 수용 박스(6)에 더욱 접근시킨 상태에서 이온을 분출할 수 있으므로, 대전 부위 등을 더욱 효과적으로 제전할 수 있다. 또한, 이 경우에도, 도 7의 (B)에 도시한 바와 같이 이온 발생기(98)를 1대로 해도 좋은 것은 물론이다.And in this modified embodiment, the said ion generating means 60 is provided in the both sides of the fork
또한, 상기 각 실시 형태에서는, 이온 분출 노즐(102)로부터의 이온의 분출 방향은, 전방으로 직선 형상이 되도록 설정하였지만, 이에 한정되지 않고, 도 10에 도시한 바와 같이, 이온 분출 노즐(102)의 선단부에 이온의 분출 방향을 확산시키는 확산 헤드(132)를 설치하도록 해도 좋다. 이 확산 헤드(132)에는, 분출 방향을 전방뿐만 아니라, 경사 전방을 향해 확산시키기 위한 복수의 분출 구멍(132A)이 형성되어 있어, 전방의 광범위한 영역에 이온을 분출할 수 있도록 되어 있다.In addition, in each said embodiment, although the ejection direction of the ion from the
또한, 도시되어 있지 않지만, 이 이온 분출 노즐(102)의 선단부에 이온의 분출 방향을 가변으로 하는 가변 루버를 설치하도록 해도 좋다. 또한 상기 각 실시 형태에서는, 이온 발생 수단(60)으로서 캐리어 가스를 사용한 것을 예로 들어 설명하였지만, 이에 한정되지 않고, 캐리어 가스를 사용하지 않도록 해도 좋다. 이 캐리어 가스를 사용하지 않는 경우에는, 발생한 이온을 사이드 플로우(78)(도 3 참조)에 수반시켜 이온을 확산시키도록 한다.Although not shown, a variable louver for varying the ion ejection direction may be provided at the tip of the
또한, 이상의 각 실시 형태에서는 이온 발생기(98)와 이온 분출 노즐(102)을 이격시켜 양자를 이온 유로(100)에 의해 연결한 경우(도 7 참조)를 주로 예로 들어 설명하였지만, 이에 한정되지 않고, 도 11에 나타내는 이온 발생 수단의 다른 변형 실시 형태와 같이, 이온 발생기(98)와 이온 분출 노즐(102)을 바로 접합한 이온 발생 수단도 사용할 수 있다. 이와 같은 이온 발생 수단으로서는, 예를 들어 가부시끼가이샤 기엔스제(KEYENCE)의 마이크로 제전기 ST-M020 시리즈(상품명) 등을 사용할 수 있다. 또한, 이 경우에도, 캐리어 가스를 사용하는 형식의 것과, 사용하지 않는 형식의 것이 있고, 도 11에서는, 캐리어 가스를 사용한 형식을 도시하고 있다.In each of the above embodiments, the case where the
또한, 여기서는 피처리체로서 반도체 웨이퍼를 예로 들어 설명하였지만, 이 반도체 웨이퍼에는 실리콘 기판이나 GaAs, SiC, GaN 등의 화합물 반도체 기판도 포함되고, 또한 이들 기판에 한정되지 않고, 액정 표시 장치에 사용하는 글래스 기판이나 세라믹 기판 등에도 본 발명을 적용할 수 있다.In addition, although the semiconductor wafer was demonstrated as an example to a to-be-processed object, this semiconductor wafer also contains a compound semiconductor substrate, such as a silicon substrate, GaAs, SiC, and GaN, and is not limited to these substrates, The glass used for a liquid crystal display device The present invention can also be applied to a substrate, a ceramic substrate and the like.
도 1은 본 발명에 관한 피처리체의 처리 시스템의 일 실시 형태를 나타내는 개략 구성도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The schematic block diagram which shows one Embodiment of the processing system of the to-be-processed object which concerns on this invention.
도 2는 본 발명에 관한 피처리체의 이동 적재 기구를 설치한 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 각 구성 부재의 배열 위치의 일례를 나타내는 평면도.2 is a plan view showing an example of an arrangement position of respective constituent members in a workpiece-moving loading area provided with a movable loading mechanism of a workpiece according to the present invention.
도 3은 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 청정 기체의 흐름을 나타내는 사시도.3 is a perspective view showing the flow of clean gas in the workpiece movement loading area;
도 4는 피처리체 이동 적재 에어리어 내의 각 구성 부재의 배열 위치와 이동 적재 기구의 동작 상황의 일례를 나타내는 사시도.4 is a perspective view showing an example of an arrangement position of each structural member in the object to be processed object moving area and an operation situation of the movable stacking mechanism;
도 5는 이온 발생 수단을 갖는 이동 적재 기구를 나타내는 확대 사시도.5 is an enlarged perspective view showing a mobile loading mechanism having ion generating means.
도 6은 이동 적재 기구의 포크 수단을 나타내는 측면도.6 is a side view showing a fork means of a mobile loading mechanism.
도 7은 이온 발생 수단의 각종 형태를 나타내는 블록 구성도.Fig. 7 is a block diagram showing various aspects of ion generating means.
도 8은 본 발명의 피처리체의 반송 기구의 변형 실시 형태의 일례를 나타내는 측면도.The side view which shows an example of the modified embodiment of the conveyance mechanism of the to-be-processed object of this invention.
도 9는 본 발명의 피처리체의 반송 기구의 변형 실시 형태의 일례를 나타내는 평면도.The top view which shows an example of the modified embodiment of the conveyance mechanism of the to-be-processed object of this invention.
도 10은 이온 분출 노즐의 선단부에 설치하는 확산 헤드를 나타내는 사시도.The perspective view which shows the diffusion head provided in the front-end | tip part of an ion ejection nozzle.
도 11은 이온 발생 수단의 다른 변형 실시 형태를 나타내는 도면.11 shows another modified embodiment of the ion generating means.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
2 : 피처리체의 처리 시스템 2: treatment system of the object
4 : 하우징4: housing
6 : 수용 박스6: receiving box
8 : 수용 박스 반송 에어리어8: storage box conveyance area
10 : 피처리체 이동 적재 에어리어10: object to be processed loading area
18 : 웨이퍼 보트(피처리체 보유 지지 수단)18: wafer boat (target object holding means)
22 : 처리 유닛22: processing unit
32 : 승강 엘리베이터32: lifting elevator
34 : 박스 반송 아암34: box return arm
48 : 이동용 보트 적재대48: mobile boat loading platform
50 : 대기용 보트 적재대50: Waiting Boat Loading Platform
52 : 피처리체의 이동 적재 기구52: moving loading mechanism of the workpiece
54 : 승강 수단54: lifting means
56 : 승강대56: platform
58 : 포크 수단58: fork means
60 : 이온 발생 수단60: ion generating means
64 : 처리 용기64: processing container
68 : 보트 승강 기구68: boat hoist
70 : 캡70: cap
74 : 보트 이동 적재 기구74: boat moving loading mechanism
76 : 필터76: filter
78 : 사이드 플로우78: side flow
92 : 선회대92: Swivel
94, 94A 내지 94E : 포크 본체94, 94A to 94E: fork body
96 : 슬라이더96: slider
98 : 이온 발생기98: ion generator
100 : 이온 유로100: ion flow path
102 : 이온 분출 노즐102: ion ejection nozzle
104 : 캐리어 가스 공급 수단104: carrier gas supply means
108 : 캐리어 가스관108: carrier gas pipe
112 : 대전량 검출 센서112: charge detection sensor
114 : 이온용 제어부114: control unit for ions
120 : 시스템 제어부120: system control unit
130 : 광 센서130: light sensor
132 : 확산 헤드132 diffusion head
W : 반도체 웨이퍼(피처리체)W: semiconductor wafer (object to be processed)
Claims (16)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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