KR101288515B1 - Device for weighing solution in wet station - Google Patents

Device for weighing solution in wet station Download PDF

Info

Publication number
KR101288515B1
KR101288515B1 KR1020060129099A KR20060129099A KR101288515B1 KR 101288515 B1 KR101288515 B1 KR 101288515B1 KR 1020060129099 A KR1020060129099 A KR 1020060129099A KR 20060129099 A KR20060129099 A KR 20060129099A KR 101288515 B1 KR101288515 B1 KR 101288515B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
chemical liquid
line
weighing
substrate
bath
Prior art date
Application number
KR1020060129099A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20080056332A (en
Inventor
이태우
Original Assignee
주식회사 케이씨텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 케이씨텍 filed Critical 주식회사 케이씨텍
Priority to KR1020060129099A priority Critical patent/KR101288515B1/en
Publication of KR20080056332A publication Critical patent/KR20080056332A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101288515B1 publication Critical patent/KR101288515B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
    • H01L21/67075—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
    • H01L21/67086—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1002—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
    • B05C11/1026—Valves

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Weting (AREA)

Abstract

본 발명은 습식처리장비의 약액 칭량장치에 관한 것으로, 기판에 대하여 습식처리를 수행하는 베스에 습식처리용 약액을 공급하는 제1라인과, 상기 제1라인에서 분기되는 제2라인과, 상기 제2라인상에 설치되어 상기 제2라인을 따라 이송되는 약액을 유입받아 저장하는 칭량기재와, 상기 제1라인을 따라 이송되는 약액을 상기 베스 또는 상기 칭량기재로 전환 이송시키는 전환밸브부를 포함하는 습식처리장비의 약액 칭량장치를 제공한다. 본 발명에 의하면, 1인의 작업자가 밸브 조작만으로도 간편하고 신속하면서도 안전하게 약액 칭량작업을 수행할 수 있는 효과가 있다.The present invention relates to a chemical liquid weighing apparatus of a wet processing apparatus, comprising: a first line for supplying a wet liquid chemical solution to a bath for performing a wet process on a substrate, a second line branching from the first line, A wet type comprising a weighing substrate installed on two lines to receive and store the chemical liquid transported along the second line, and a switching valve unit for converting and transporting the chemical liquid transported along the first line to the bath or the weighing substrate. Provided is a chemical liquid weighing device for processing equipment. According to the present invention, there is an effect that one operator can perform the chemical liquid weighing operation simply, quickly and safely only by operating the valve.

습식처리, 약액, 칭량, 베스, 칭량기재 Wet treatment, chemical solution, weighing, bath, weighing base

Description

습식처리장비의 약액 칭량장치{Device for weighing solution in wet station}Device for weighing solution in wet station

도 1은 종래 습식처리장비의 개략적인 구성을 나타낸 도면이다.1 is a view showing a schematic configuration of a conventional wet processing equipment.

도 2는 본 발명에 따른 습식처리장비의 약액 칭량장치를 개략적으로 나타낸 일실시 구성도이다.Figure 2 is an embodiment configuration diagram schematically showing a chemical liquid weighing apparatus of the wet processing equipment according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 습식처리장비의 약액 칭량장치에서 칭량기재를 도시한 일실시 정면도이다.Figure 3 is an embodiment front view showing a weighing substrate in the chemical liquid weighing apparatus of the wet processing equipment according to the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*Description of the Related Art [0002]

100 : 처리존 110 : 베스100: treatment zone 110: bath

200 : 공급존 210 : 제1라인200: supply zone 210: first line

211 : 약액밸브 220 : 전환밸브부211: chemical liquid valve 220: switching valve portion

221 : 제1밸브 222 : 제2밸브221: first valve 222: second valve

230 : 제2라인 240 : 칭량기재230: second line 240: weighing substrate

241 : 투명창 242 : 눈금표시241: transparent window 242: scale display

243 : 경사면 250 : 제3라인243: slope 250: third line

251 : 제3밸브251: third valve

본 발명은 습식처리장비의 약액 칭량장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 베스로 공급되는 약액을 칭량(秤量)할 수 있는 습식처리장비의 약액 칭량장치에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical liquid weighing apparatus of a wet processing equipment, and more particularly, to a chemical liquid weighing apparatus of a wet processing equipment capable of weighing a chemical liquid supplied to a bath.

일반적으로 반도체 장치의 제조를 위해 사용되는 반도체 기판 예컨데 실리콘 웨이퍼는 각종 파티클, 금속 불순물, 유기물 등에 의해 오염되어 제품의 수율이나 신뢰성이 심각하게 저하될 수 있으므로, 반도체 장치의 제조공정에서는 반도체 기판에 부착된 상기한 오염물질을 제거해 내는 세정공정이 수행된다.In general, a semiconductor substrate used for manufacturing a semiconductor device, for example, a silicon wafer may be contaminated by various particles, metal impurities, organic matters, and so on, so that the yield and reliability of a product may be seriously degraded. A cleaning process is performed to remove the above contaminants.

특히 반도체 장치 회로 패턴의 디자인 룰이 미세화됨에 따라 이러한 오염물질을 제거해 내는 세정공정이 더욱 중요시 되고 있다. 이와 같이 반도체 기판을 세정하는 방법에는 플라즈마 처리나 자외선 조사 등에 의한 건식(Dry)세정방식과, 세정액을 사용하는 습식(Wet)세정방식이 제안된 바 있다. In particular, as the design rule of the semiconductor device circuit pattern is refined, the cleaning process for removing such contaminants becomes more important. As such a method of cleaning a semiconductor substrate, a dry cleaning method by plasma treatment or ultraviolet irradiation, and a wet cleaning method using a cleaning solution have been proposed.

상기 건식세정방식은 기판에 대한 세정균일성이 우수하고, 오염물질의 재부착 가능성이 적으며, 다른 건식 프로세스와의 연속화 가능하다는 등의 장점을 가지고 있다. The dry cleaning method has advantages such as excellent uniformity for cleaning the substrate, less potential for reattachment of contaminants, and continuity with other dry processes.

그러나 상기 건식세정방식은 다량의 오염물질 제거에 적합하지 않고, 파티클 제거에 유리하지 못하며, 2차 오염의 염려를 완전히 불식할 수 없는 등의 한계를 갖는다.However, the dry cleaning method is not suitable for removing a large amount of contaminants, is not advantageous for removing particles, and has limitations such as not being able to completely eliminate the fear of secondary pollution.

또한 상기 건식세정방식은 공정처리 후에도 습식세정공정이나 순수를 이용한 린스처리공정 등을 재차 수행하여야 하는 상황 등이 발생될 수 있다는 불편함이 있다.In addition, the dry cleaning method is inconvenient that a situation such as a wet cleaning process or a rinse treatment process using pure water may be performed again after the process treatment.

이에 반해, 습식세정방식은 장치비용이 저렴하면서도 처리량이 우수하며, 여러 종류의 오염을 동시에 제거 가능하고, 설치방식에 따라 배치 처리나 전후면 동시 세정도 가능하다는 등의 이점을 가지고 있으므로 현재 반도체 프로세스에서 주류를 이루고 있다. On the other hand, the wet cleaning method is a semiconductor process because it has the advantages of low equipment cost and excellent throughput, simultaneous removal of various kinds of contamination, and simultaneous batch and front and rear cleaning depending on the installation method. In the mainstream.

특히, 반도체 기판에 비해 통상 5배 이상 큰 디자인 룰이 적용되는 축소투영 노광용의 포토마스크 기판의 세정에 있어서는 상기의 습식세정방식이 주로 채택되고 있다.In particular, in the cleaning of the photomask substrate for reduction projection exposure to which the design rule is generally applied five times or more larger than that of the semiconductor substrate, the above-described wet cleaning method is mainly adopted.

도 1은 종래 습식처리장비의 개략적인 구성을 나타낸 도면이다.1 is a view showing a schematic configuration of a conventional wet processing equipment.

도 1을 참조하면, 종래 습식처리장비는 기판을 침지시켜 기판을 습식처리하는 베스(11)가 설치되는 처리존(10)과, 상기 처리존(10)의 후방에서 상기 베스(11) 측으로 기판의 습식처리를 위한 약액을 공급하는 공급존(20)을 포함한다.Referring to FIG. 1, a conventional wet processing apparatus includes a treatment zone 10 in which a bath 11 for wet treating a substrate by dipping a substrate is installed, and a substrate toward the bath 11 from the rear of the treatment zone 10. It includes a supply zone 20 for supplying a chemical liquid for the wet treatment of.

이러한 종래 습식처리장비는 베스(11) 내로 공급되는 약액의 량(量)이 설정값에 따라 허용오차범위 내에서 정상적으로 공급되는 지의 여부가 점검되어야 한다.This conventional wet processing equipment should be checked whether or not the amount of the chemical liquid supplied into the bath 11 is normally supplied within the tolerance range according to the set value.

즉 공급존(20)에서 처리존(10)의 베스(11)로 약액을 공급하는 제1라인(21)에서 최종 토출되는 약액의 량을 체크 하는 칭량작업이 수행되어야 한다.That is, a weighing operation must be performed to check the amount of the chemical liquid finally discharged from the first line 21 for supplying the chemical liquid from the supply zone 20 to the bath 11 of the treatment zone 10.

예컨데, 칭량작업은 자동밸브(22)의 개방시간을 조절하여 일정시간 동안 제1 라인(21)을 통하여 약액이 토출되도록 하고, 이와 같이 일정시간 동안 토출되는 약액을 비이커 등에 수집하여 최종 토출되는 약액의 량을 칭량하였다.For example, the weighing operation adjusts the opening time of the automatic valve 22 to discharge the chemical liquid through the first line 21 for a predetermined time, and collects the chemical liquid discharged for a predetermined time in a beaker or the like and finally discharges the chemical liquid. Weighed.

그러나 이러한 칭량작업은 2인 1조로 작업을 진행하여야되는 불편함과, 많은 작업시간이 소요되는 단점이 있었다.However, this weighing work has the disadvantage of having to work in a pair of two people, and takes a lot of work time.

더욱이 제1라인에서 토출되는 약액을 수집하고 칭량하는 일련의 작업 과정에서 약액이 독성물질인 경우에 인체에 매우 유해하므로 인전사고를 유발할 수 있는 문제점이 있었다.Furthermore, in the process of collecting and weighing the chemical liquid discharged from the first line, when the chemical liquid is a toxic substance, there is a problem that can cause human accident because it is very harmful to the human body.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은, 1인의 작업자만으로도 약액 칭량작업을 수행할 수 있는 약액 칭량장치를 제공함에 그 목적이 있다.In view of the above problems, the present invention has an object to provide a chemical liquid weighing apparatus capable of performing a chemical liquid weighing operation by only one worker.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 기판에 대하여 습식처리를 수행하는 베스에 습식처리용 약액을 공급하는 제1라인과, 상기 제1라인에서 분기되는 제2라인과, 상기 제2라인상에 설치되어 상기 제2라인을 따라 이송되는 약액을 유입받아 저장하는 칭량기재와, 상기 제1라인을 따라 이송되는 약액을 상기 베스 또는 상기 칭량기재로 전환 이송시키는 전환밸브부를 포함한다.The present invention for achieving the above object, the first line for supplying a wet treatment liquid to the bath for performing a wet treatment on the substrate, the second line branched from the first line, the second line It is installed on the weighing base material for receiving and storing the chemical liquid transported along the second line, and the switching valve unit for converting and transporting the chemical liquid transported along the first line to the bath or the weighing substrate.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. 그러나 이하의 실시 예는 이 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자에게 본 발명이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시 예에 한정되는 것은 아니다. 도면 상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the following embodiments are provided to those skilled in the art to fully understand the present invention, and may be modified in various forms, and the scope of the present invention is limited to the embodiments described below. It is not. Wherein like reference numerals refer to like elements throughout.

도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 습식처리장비의 약액 칭량장치를 개략적으로 나타낸 구성도이고, 도 3은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 습식처리장비의 약액 칭량장치에서 칭량기재를 도시한 정면도이다.Figure 2 is a schematic view showing a chemical liquid weighing apparatus of the wet processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention, Figure 3 is a weighing substrate in the chemical liquid weighing apparatus of the wet processing equipment according to a preferred embodiment of the present invention It is the front view shown.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 습식처리장비의 약액 칭량장치는 기판에 대하여 습식처리를 수행하는 베스(110)에 습식처리용 약액을 공급하는 제1라인(210)과, 상기 제1라인(210)에서 분기되는 제2라인(230)과, 상기 제2라인(230)상에 설치되어 상기 제2라인(230)을 따라 이송되는 약액을 유입받아 저장하는 칭량기재(240)와, 상기 제1라인(210)을 따라 이송되는 약액을 상기 베스(110) 또는 상기 칭량기재(240)로 전환 이송시키는 전환밸브부(220)를 포함한다.2 and 3, the chemical liquid weighing apparatus of the wet processing apparatus according to the preferred embodiment of the present invention is a first line for supplying the wet liquid chemical solution to the bath 110 to perform the wet treatment on the substrate ( 210, a second line 230 branching from the first line 210, and a chemical solution installed on the second line 230 to be transferred along the second line 230 to store and receive the same. Weighing base material 240 and a switching valve 220 for converting and transporting the chemical liquid transported along the first line 210 to the bath 110 or the weighing material 240.

상기 제1라인(210)은 공급존(200)에서 처리존(100)측으로 설치되는데, 일단은 약액공급부(미도시)와 연결되고 타단은 처리존(100)의 베스(110)에 진입하여 베스(110)에 습식처리용 약액을 공급하며, 라인상에 약액밸브(211)가 설치되어 베스(110)로의 약액이송이 단속된다.The first line 210 is installed in the supply zone 200 toward the processing zone 100, one end of which is connected to a chemical supply unit (not shown) and the other end enters the bath 110 of the processing zone 100. The chemical solution for wet treatment is supplied to the 110, and a chemical liquid valve 211 is installed on the line, whereby the chemical liquid transfer to the bath 110 is interrupted.

상기 제2라인(230)은 제1라인(210)에서 베스(110)로 공급되는 약액을 칭량하기 위해 제1라인(210)에서 분기형성되는 관로로서,상기 제1라인(210)과 동일한 종류의 관로가 채택되는 것이 정확한 칭량을 위하여 바람직하고, 공정이 진행되는 동안에는 폐쇄되고 칭량작업시에만 개방된다.The second line 230 is a conduit formed in the first line 210 in order to weigh the chemical liquid supplied from the first line 210 to the bath 110, and is of the same type as the first line 210. It is desirable for the correct weighing to be adopted, and closed during the process and only open during the weighing operation.

상기 칭량기재(240)는 제2라인(230)에서 이송되는 약액을 유입받아 저장함으로써 약액을 칭량하는 구성부품으로 칭량작업이 개시되어 제2라인(230)이 개방되면 제2라인(230)으로 부터 일정시간 동안 약액을 유입받아 저장한다.The weighing base 240 is a component that weighs the chemical liquid by receiving and storing the chemical liquid transferred from the second line 230, and the weighing operation is started to the second line 230 when the second line 230 is opened. From the chemicals for a certain period of time to receive and store.

이러한 칭량기재(240)는 도 3에 도시된 바와 같이 전면에 투명창(241)이 형성되어 약액의 유입여부를 육안으로 확인 가능한 것은 물론 투명창(241)의 측부에는 투명창(241)으로 투영되는 약액의 수위를 약액의 량으로 전환하여 측정할 수 있도록 하는 눈금표시(242)가 형성되어 있다.The weighing base 240 is a transparent window 241 is formed on the front surface as shown in Figure 3 can be visually confirmed whether the inflow of the chemical solution as well as the transparent window 241 projected on the side of the transparent window 241 A scale mark 242 is formed to convert the level of the chemical liquid into the amount of the chemical liquid to be measured.

이에 칭량기재(240)는 통상의 게이지장치와 유사한 방식으로 판독될 수 있는데, 예컨데 투명창(241)으로 투영되는 약액의 수위를 가상수평선으로 연결하여 눈금표시(242)와 일치하는 부위의 수치를 판독하여 약액의 량을 판단한다.The weighing substrate 240 can be read in a similar manner to a conventional gauge device, for example, by connecting the water level of the chemical liquid projected to the transparent window 241 with a virtual horizontal line, the numerical value of the portion coinciding with the scale mark 242. Read and determine the amount of chemical.

상기 전환밸브부(220)는 제1라인(210)을 따라 이송되는 약액을 공정이 진행되는 동안에는 베스(110)측으로 이송시키고, 칭량작업이 진행되는 동안에는 칭량기재(240)측으로 이송시키기 위한 구성부품이다.The switching valve 220 is a component for transferring the chemical liquid conveyed along the first line 210 to the bath 110 during the process, and to the weighing substrate 240 during the weighing operation. to be.

상기에서, 전환밸브부(220) 제1라인(210)의 분기지점 후단에 설치되는 제1밸브(221)와, 제2라인(230)의 칭량기재(240) 전단에 설치되는 제2밸브(222)를 포함하는 것이 바람직하고, 제1밸브(221)와 제2밸브(222)는 교대로 개폐작동되는 것이 더욱 바람직하다.In the above description, the first valve 221 installed at the rear end of the branch line of the first valve 210 of the switching valve unit 220 and the second valve installed at the front end of the weighing base 240 of the second line 230 ( It is preferable to include a 222, it is more preferred that the first valve 221 and the second valve 222 is opened and closed alternately.

일례로 베스(110)측으로 약액을 공급하여 공정을 진행하고자 할 경우, 약액밸브(211)와 제1밸브(221)를 개방하여 제1라인(210)을 개방시키고, 제2밸브(222)를 폐쇄하여 제2라인(230)을 폐쇄시킴으로써 약액이 베스(110)측으로만 공급되도록 한 다.For example, when the chemical liquid is supplied to the bath 110, the chemical liquid valve 211 and the first valve 221 are opened to open the first line 210, and the second valve 222 is opened. By closing the second line 230 is closed so that the chemical is supplied only to the bath (110).

다른 일례로 칭량기재(240)측으로 약액을 공급하여 칭량작업을 진행하고자 할 경우, 약액밸브(211)와 제2밸브(222)를 개방하여 제2라인(230)을 개방시키고, 제1밸브(221)를 폐쇄하여 제1라인(210)의 분기점 후단 이후를 폐쇄시킴으로써 약액이 칭량기재(240)측으로만 공급되도록 한다.As another example, when the chemical solution is supplied to the weighing substrate 240 to perform the weighing operation, the chemical liquid valve 211 and the second valve 222 are opened to open the second line 230, and the first valve ( By closing 221 and closing the rear end after the branch point of the first line 210 so that the chemical liquid is supplied only to the weighing substrate 240 side.

본 일실시예에 따른 습식처리장비의 약액 칭량장치는 칭량작업을 수행함에 있어서, 상술한 바와 같이 약액밸브(211)와 제2밸브(222)를 개방하여 제2라인(230)을 개방시키고, 제1밸브(221)를 폐쇄하여 제1라인(210)의 분기점 후단 이후를 폐쇄시킴으로써 약액이 칭량기재(240)측으로만 공급되도록 한다.In the chemical liquid weighing apparatus of the wet processing apparatus according to the present embodiment, in performing the weighing operation, the chemical liquid valve 211 and the second valve 222 are opened to open the second line 230 as described above. By closing the first valve 221 and closing the rear end after the branch point of the first line 210 so that the chemical liquid is supplied only to the weighing substrate 240 side.

따라서 약액밸브(211)를 일정시간 동안 개방조작하여 약액이 칭량기재(240)측으로만 유입 저장되도록 하고, 이렇케 칭량기재(240)에 저장된 약액의 량을 측정함으로써 단위 시간당 공급되는 약액의 량을 측정하는 1회의 칭량작업이 완료된다.Therefore, the chemical liquid valve 211 is opened for a predetermined time so that the chemical liquid flows into the weighing base 240 only and stored, and thus the amount of the chemical liquid supplied per unit time is measured by measuring the amount of the chemical stored in the weighing base 240. One weighing operation is completed.

이와 같이 본 일실시예에 따른 습식처리장비의 약액 칭량장치는 1인의 작업자가 밸브 조작만으로도 간편하고 신속하면서도 안전하게 약액 칭량작업을 수행할 수 있는 장점이 있다.Thus, the chemical liquid weighing apparatus of the wet processing apparatus according to the present embodiment has the advantage that one worker can perform the chemical liquid weighing operation simply, quickly and safely only by operating the valve.

상기에서, 칭량기재(240) 후단에 설치되어 칭량기재(240)에 저장된 약액을 배출하는 제3라인(250)과, 상기 제3라인(250)에 설치되어 상기 칭량기재(240)에서 배출되는 약액의 이송을 단속하는 제3밸브(251)를 더 포함하는 것이 바람직하다.In the above, the third line 250 is installed in the rear end of the weighing base 240 to discharge the chemical liquid stored in the weighing base 240, and is installed in the third line 250 is discharged from the weighing base 240 It is preferable to further include a third valve 251 for intermittent transfer of the chemical liquid.

이와 같이, 칭량기재(240)는 그 내부에 유입 저장된 약액을 제3밸브(251)에 의해 개폐 단속되는 제3라인(250)을 통하여 배출처리 할 수 있으므로, 1회의 칭량 작업 후에 그 내부의 약액을 즉시 배출해내고 다시 칭량작업을 수행가능하다.As described above, the weighing base 240 can discharge the chemical liquid inflowed and stored therein through the third line 250 that is opened and closed by the third valve 251, and thus, the chemical liquid therein after one weighing operation. Can be discharged immediately and weighed again.

따러서 본 일실시예에 따른 습식처리장비의 약액 칭량장치는 간편하게 복수회 칭량작업을 수행하는 것이 가능하여 칭량 정확도를 대폭 향상시킬 수 있는 장점이 있다.Therefore, the chemical liquid weighing apparatus of the wet processing apparatus according to the present embodiment has the advantage that it is possible to easily perform a plurality of weighing operations, thereby greatly improving the weighing accuracy.

상기에서, 칭량기재(240)는 저면이 하향 경사지게 형성되어 최하단부가 제3라인(250)과 소통결합되는 것이 바람직하다.In the above, the weighing base 240 is preferably formed such that the bottom is inclined downward so that the lower end is communicatively coupled with the third line 250.

따라서 칭량기재(240)는 그 내부에 유입 저장된 약액의 배출처리시에 평면의 경우보다 경사면(243)을 따라 신속하게 배기될 수 있으므로, 다수 회 칭량작업 수행시 작업시간을 더욱 단축시킬 수 있는 장점이 있다. Therefore, the weighing base 240 can be quickly exhausted along the inclined surface 243 than in the case of the discharge processing of the chemical liquid stored in the inside, it is possible to further shorten the working time when performing multiple weighing operations There is this.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예를 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.Although the present invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments and has ordinary skill in the art to which the present invention pertains without departing from the concept of the present invention. Various changes and modifications are possible by the user.

상기한 바와 같이 본 발명은, 1인의 작업자가 밸브 조작만으로도 간편하고 신속하면서도 안전하게 약액 칭량작업을 수행할 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention has the effect that one operator can perform the chemical liquid weighing operation simply, quickly and safely only by operating the valve.

또한 본 발명은, 간편하게 복수회 칭량작업을 수행하는 것이 가능하여 칭량 정확도를 대폭 향상시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention, it is possible to simply perform a plurality of weighing operations there is an effect that can significantly improve the weighing accuracy.

Claims (4)

기판에 대하여 습식처리를 수행하는 베스에 습식처리용 약액을 공급하는 제1라인;A first line for supplying a wet treatment chemical liquid to a bath for performing a wet treatment on the substrate; 상기 제1라인에서 분기되는 제2라인;A second line branching from the first line; 상기 제2라인상에 설치되어 상기 제2라인을 따라 이송되는 약액을 유입받아 저장하는 칭량기재; 및A weighing base installed on the second line to receive and store the chemical liquid transported along the second line; And 상기 제1라인을 따라 이송되는 약액을 상기 베스 또는 상기 칭량기재로 전환 이송시키는 전환밸브부를 포함하되,Includes a switching valve for converting and transferring the chemical liquid transported along the first line to the bath or the weighing substrate, 상기 전환밸브부는,The switching valve unit, 상기 제1라인의 분기지점 후단에 설치되어 상기 베스로 공급되는 약액의 이송을 단속하는 제1밸브; 및 A first valve installed at a rear end of the branch line to control the transfer of the chemical liquid supplied to the bath; And 상기 제2라인의 상기 칭량기재 전단에 설치되어 상기 칭량기재로 공급되는 약액의 이송을 단속하는 제2밸브를 포함하고,A second valve installed at the front end of the weighing substrate of the second line and intermittently transferring the chemical liquid supplied to the weighing substrate; 상기 칭량기재 후단에 설치되어 상기 칭량기재에 저장된 약액을 배출하는 제3라인; 및A third line installed at a rear end of the weighing base to discharge the chemical liquid stored in the weighing base; And 상기 제3라인에 설치되어 상기 칭량기재에서 배출되는 약액의 이송을 단속하는 제3밸브를 더 포함하며,And a third valve installed in the third line to control the transfer of the chemical liquid discharged from the weighing base material. 상기 칭량기재는,The weighing substrate is, 약액의 유입여부를 육안으로 확인 가능하도록 그 전면에 투명창이 형성되고, 상기 투명창의 측부에는 상기 투명창으로 투영되는 약액의 수위를 약액의 량으로 전환하여 측정할 수 있도록 하는 눈금표시가 형성되며, 그 저면이 하향 경사지게 형성되어 최하단부가 상기 제3라인과 소통결합되는 것을 특징으로 하는 습식처리장비의 약액 칭량장치.A transparent window is formed on the front side thereof to check whether the chemical liquid is inflow, and a scale mark is formed on the side of the transparent window so that the level of the chemical liquid projected by the transparent window can be converted into the amount of the chemical liquid and measured. The bottom surface is formed to be inclined downward so that the lowermost end is in communication with the third line chemical liquid weighing apparatus, characterized in that. 삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020060129099A 2006-12-18 2006-12-18 Device for weighing solution in wet station KR101288515B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060129099A KR101288515B1 (en) 2006-12-18 2006-12-18 Device for weighing solution in wet station

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060129099A KR101288515B1 (en) 2006-12-18 2006-12-18 Device for weighing solution in wet station

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080056332A KR20080056332A (en) 2008-06-23
KR101288515B1 true KR101288515B1 (en) 2013-07-26

Family

ID=39802533

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060129099A KR101288515B1 (en) 2006-12-18 2006-12-18 Device for weighing solution in wet station

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101288515B1 (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0661208A (en) * 1992-08-04 1994-03-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Automatic liquid medicine weighing device
JP2002205001A (en) * 2001-01-11 2002-07-23 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Apparatus for treating substrate

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0661208A (en) * 1992-08-04 1994-03-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Automatic liquid medicine weighing device
JP2002205001A (en) * 2001-01-11 2002-07-23 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Apparatus for treating substrate

Also Published As

Publication number Publication date
KR20080056332A (en) 2008-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100411366B1 (en) Cleaning Drying Treatment Method and Apparatus Thereof
JP3464843B2 (en) Substrate processing method and substrate processing apparatus in substrate processing apparatus
KR20010053300A (en) Method and apparatus for immersion treatment of semiconductor and other devices
KR101069455B1 (en) Protective film removal apparatus, recovery method for chemical liquid, and storage medium
TWI820065B (en) Liquid supply device and liquid supply method
KR20040071853A (en) Apparatus for sampling a chemical
KR100481176B1 (en) Wet cleaning equipment having bubble detect device
KR101288515B1 (en) Device for weighing solution in wet station
JP2012129266A (en) Etching apparatus and water washing method of semiconductor substrate
KR100441249B1 (en) Toc measure apparatus for a semiconductor device fabrication installation and toc measure method for using the apparatus
CN209785893U (en) wafer cleaning equipment
JP2015079072A (en) Exposure apparatus equipped with substrate crack treatment system
KR100367991B1 (en) Apparatus for treating surface of boards
JPH09219386A (en) Cleaning equipment
JP2000183024A (en) Substrate-processing apparatus
JP3158840B2 (en) Wet processing equipment
CN101408250B (en) Valve and apparatus and method for treating substrate using the same
KR100203398B1 (en) A cleaning apparatus of a semiconductor device
KR100687429B1 (en) Wet station
JPH0845888A (en) Pure water cleaning apparatus
JP5953715B2 (en) Method and system for monitoring surface ion concentration of exposure mask, exposure mask cleaning apparatus equipped with the monitor system, and method for manufacturing exposure mask
KR20090088833A (en) Method for cleaning substrate
KR102606574B1 (en) Ph measuring unit and apparatus including the same and method for treating a substrate using the same
KR19980015080A (en) Wafer cleaning apparatus and cleaning liquid supply method and wafer cleaning method using same
KR100483753B1 (en) Cleaning machine

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160727

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170717

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180716

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190701

Year of fee payment: 7