KR101283832B1 - Insert molding lamination film having anti reflection coating layer of high hardness and method for producing the same - Google Patents

Insert molding lamination film having anti reflection coating layer of high hardness and method for producing the same Download PDF

Info

Publication number
KR101283832B1
KR101283832B1 KR1020080016804A KR20080016804A KR101283832B1 KR 101283832 B1 KR101283832 B1 KR 101283832B1 KR 1020080016804 A KR1020080016804 A KR 1020080016804A KR 20080016804 A KR20080016804 A KR 20080016804A KR 101283832 B1 KR101283832 B1 KR 101283832B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
film
insert molding
coating layer
coating film
Prior art date
Application number
KR1020080016804A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20090091504A (en
Inventor
김철호
이강엽
진원섭
Original Assignee
(주)엘지하우시스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)엘지하우시스 filed Critical (주)엘지하우시스
Priority to KR1020080016804A priority Critical patent/KR101283832B1/en
Publication of KR20090091504A publication Critical patent/KR20090091504A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101283832B1 publication Critical patent/KR101283832B1/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B25/00—Layered products comprising a layer of natural or synthetic rubber
    • B32B25/04—Layered products comprising a layer of natural or synthetic rubber comprising rubber as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B25/08—Layered products comprising a layer of natural or synthetic rubber comprising rubber as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
    • B32B37/24—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with at least one layer not being coherent before laminating, e.g. made up from granular material sprinkled onto a substrate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/4505—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application
    • C04B41/4529—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application applied from the gas phase
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
    • B32B37/24—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with at least one layer not being coherent before laminating, e.g. made up from granular material sprinkled onto a substrate
    • B32B2037/246—Vapour deposition
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/20—Inorganic coating

Abstract

본 발명은 인서트 몰딩 라미네이션 필름에 관한 것으로, 증착 스퍼터링 방법으로 제 1 코팅막은 ITO, IZO, 및 ATO로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 성분으로 이루어지며 제 2 코팅막은 SiO2, SiAl-산화물, 및 SiO 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택된 하나 이상의 성분으로 이루어지는 다층 코팅막을 형성시켜 경도가 향상되고 반사방지 기능을 가지는 인서트 몰딩 필름을 제공한다.The present invention relates to an insert molding lamination film, wherein the first coating film is formed by at least one component selected from the group consisting of ITO, IZO, and ATO by a deposition sputtering method, and the second coating film is SiO 2 , SiAl-oxide, and SiO compound. Forming a multi-layer coating film consisting of one or more components selected from the group consisting of provides an insert molding film having improved hardness and antireflection function.

인서트 몰딩 필름, 스퍼터링, 다층 코팅막 Insert Molding Film, Sputtering, Multilayer Coating Film

Description

고경도 반사방지 코팅된 인서트 몰딩 필름 및 그 제조방법{Insert molding lamination film having anti reflection coating layer of high hardness and method for producing the same}Insert molding lamination film having anti reflection coating layer of high hardness and method for producing the same

본 발명은 인서트 몰드용 인쇄필름 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 이동용 휴대 전화나 세탁기 및 가전제품의 명판 등을 포함하여 각종 윈도우 및 데코레이션 판넬 등에 사용되는 인서트 몰딩용 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a printing film for an insert mold and a manufacturing method thereof, and more particularly, to an insert molding film for use in various windows, decoration panels, and the like, including a name plate of a mobile phone, a washing machine, and a home appliance.

일반적으로 인서트 몰드 기술은 베이스 필름의 배면에 형성된 프라이머층에 실크 스크린 인쇄를 통해 다양한 인쇄층을 형성시킨 후, 이를 각종 전자제품의 판넬과 함께 금형 내에 인서트하여 프레스 가열, 압출을 통해 판넬의 표면 상에 인서트 필름이 부착되도록 하는 기술을 말한다.In general, the insert mold technology forms various printing layers on the primer layer formed on the back of the base film through silk screen printing, and then inserts them into the mold together with panels of various electronic products, and press-heats and extrudes them on the surface of the panel. It refers to a technique that allows the insert film to be attached to.

도 1을 통하여 종래 인서트 몰드용 인쇄 필름의 제조방법을 간단히 설명한다. The manufacturing method of the conventional insert mold printing film is briefly demonstrated through FIG.

일반적인 인서트 몰드용 인쇄필름의 제조방법은 소정 면적 및 두께를 가지는 PET, PC, Aryl재의 투명 베이스 필름(3)의 상면에 스크래치형성을 방지하기 위한 UV 하드 코팅층(7)을 소정 두께로 형성하는 공정과; 상기 베이스 필름(3)의 저면에 이후 형성된 인쇄층과의 접착력을 증진을 위한 프라이머층을 형성시키는 공정과; 투명 실크 잉크와 미러실버 잉크의 비율을 1:5로 희석하여 실크 스크린을 이용해 미러실버 인쇄층을 상기 프라이머층의 저면에 소정두께 형성하는 공정과; 미러실버 인쇄층을 건조하는 공정과; 상기 미러실버 인쇄층의 저면에 대하여 다양한 칼라의 실크 인쇄층을 필요한 만큼 실시하는 공정으로 이루어졌다.In general, a method of manufacturing a print film for insert mold is a process of forming a UV hard coating layer 7 to a predetermined thickness to prevent scratch formation on the upper surface of the transparent base film 3 of PET, PC, and Aryl having a predetermined area and thickness. and; Forming a primer layer on the bottom surface of the base film (3) to enhance adhesion with the printing layer formed thereafter; Diluting the ratio of the transparent silk ink to the mirror silver ink by 1: 5 to form a predetermined thickness on the bottom surface of the primer layer by using a silk screen; Drying the mirror silver print layer; The process of performing the silk printing layer of various colors as needed with respect to the bottom surface of the said mirror silver printing layer.

상기와 같은 공정을 통해 제작되는 인서트 필름을 각종 가전 제품의 판넬 표면상에 열을 가하여 부착하면 제품의 표면이 필름 자체이므로 내구성이 전사방식에 비해 양호하고, 필름의 배면상에 실크 스크린 인쇄층을 형성시키므로 다양한 디자인과 칼라 구현이 가능하며, 같은 제품에서 여러 샘플을 동시에 진행 가능한 장점이 있다.When the insert film produced through the above process is applied by applying heat on the panel surface of various home appliances, the surface of the product is the film itself, which is more durable than the transfer method, and a silk screen printing layer is formed on the back of the film. By forming, various designs and colors can be realized, and there is an advantage that several samples can be processed simultaneously in the same product.

하지만, 기존의 인서트 필름의 경우에는 도 1에서 나타낸 것과 같이, 베이스 필름 상에 스크래치가 생기는 것을 방지하기 위하여 UV 하드 코팅층(7)을 형성하는 경우, 내 스크래치성 및 반사방지 기능이 취약하여 외장용 사출물에 적용시 시야확보가 미약하였고, 특히 제품이 요구하는 수준까지 경도 확보가 어려웠다.However, in the case of the conventional insert film, as shown in Figure 1, when forming the UV hard coating layer 7 to prevent the scratch on the base film, the scratch-resistant and anti-reflection function is weak, the exterior injection molding When applied to, the field of view was poorly secured, especially the hardness to the level required by the product was difficult to secure.

본 발명은 상기한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 증착 스퍼터링 방법으로 제 1 코팅막은 ITO, IZO, 및 ATO로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 성분으로 이루어지며 제 2 코팅막은 SiO2, SiAl-산화물, 및 SiO 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택된 하나 이상의 성분으로 이루어지는 다층 코팅막을 형성시켜 경도가 향상되고 반사방지 기능을 가지는 인서트 몰딩 필름을 제공하는데 그 목적이 있다. The present invention is to solve the problems of the prior art as described above, the first coating film is made of one or more components selected from the group consisting of ITO, IZO, and ATO by the deposition sputtering method and the second coating film is SiO 2 , SiAl It is an object of the present invention to provide an insert molding film having a hardness and an antireflection function by forming a multilayer coating film composed of at least one component selected from the group consisting of oxides and SiO compounds.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,The present invention to achieve the above object,

필름층; 상기 필름층상에 형성된 무늬인쇄층; 상기 무늬인쇄층상에 형성된 프라이머층; 상기 프라이머층상에 형성된 접착제층을 포함하며, 상기 필름층에 고굴절 코팅층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 인서트 몰딩 라미네이션 필름을 제공한다. 상기 고굴절 코팅층에는 추가로 저굴절 코팅층을 형성한다.Film layer; A pattern printing layer formed on the film layer; A primer layer formed on the pattern printing layer; It includes an adhesive layer formed on the primer layer, it provides an insert molding lamination film, characterized in that a high refractive coating layer is formed on the film layer. The high refractive index coating layer further forms a low refractive coating layer.

본 발명에 따른 인서트 몰딩 라미네이션 필름에 있어서, 상기 고굴절 코팅층인 제 1 코팅막은 ITO, IZO, ATO으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나이상의 성분을 포함하며, 상기 저굴절 코팅층인 제 2 코팅막은 SiO2, SiAl-산화물, SiO 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 성분을 포함한다.In the insert molding lamination film according to the present invention, the high refractive coating layer of the first coating layer comprises at least one component selected from the group consisting of ITO, IZO, ATO, the second coating layer of the low refractive coating layer is SiO 2 , SiAl- Oxides, at least one component selected from the group consisting of SiO compounds.

또한, 본 발명에 따른 인서트 몰딩 라미네이션 필름에 있어서, 코팅층은 스퍼터링 공법에 의해 형성되는 것이 바람직하다.In addition, in the insert molding lamination film according to the present invention, the coating layer is preferably formed by a sputtering method.

본 발명에 따르면, 제 1 코팅막은 ITO, IZO, 및 ATO로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 성분으로 이루어지며 제 2 코팅막은 SiO2, SiAl-산화물, 및 SiO 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택된 하나 이상의 성분으로 이루어지는 다층 코팅막을 증착 스퍼터링법에 의해 인서트 몰딩 필름에 형성시켜, 기존의 필름에 비해 표면의 경도가 높아지며 반사방지 성능이 우수한 효과가 있다.According to the present invention, the first coating film is composed of at least one component selected from the group consisting of ITO, IZO, and ATO and the second coating film is composed of at least one component selected from the group consisting of SiO 2 , SiAl-oxide, and SiO compound. The multilayer coating film is formed on the insert molding film by the deposition sputtering method, so that the surface hardness is higher and the antireflection performance is excellent compared to the existing film.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 첨부된 도면은 본 발명의 예시적인 형태를 도시한 것으로, 이는 본 발명을 보다 상세히 설명하기 위해 제공되는 것일 뿐, 이에 의해 본 발명의 기술적인 범위가 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are included to provide a further understanding of the invention and are incorporated in and constitute a part of this application, illustrate embodiments of the invention and, together with the description, serve to explain the principles of the invention.

도 2는 본 발명에 따른 인서트 몰딩 라미네이션 필름을 나타낸 것으로, 표면층이 제 2 코팅막(1)인 SiO 층과 제 1 코팅막(2)인 ITO 층으로 구성된 것을 보여주는 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating an insert molding lamination film according to the present invention, wherein the surface layer is composed of an SiO layer, which is the second coating film 1, and an ITO layer, which is the first coating film 2.

이에 따르면 본 발명인 인서트 몰딩 필름의 제조공정은 PET, PC, Aryl재의 투명 베이스 필름(3)의 상면에 다층 코팅막(1,2)을 형성하는 공정과; 상기 투명 베이스 필름(3)의 저면에 무늬인쇄층(4)을 형성시키는 공정과; 상기 무늬인쇄층(4)의 저면에 프라이머층(5)을 형성하는 공정과; 상기 프라이머층(5)의 저부로 접착제층(6)을 도포하는 공정으로 이루어진다.According to the present invention, the manufacturing process of the insert molding film of the present invention comprises the steps of forming the multilayer coating films (1, 2) on the upper surface of the transparent base film (3) of PET, PC, and Aryl material; Forming a pattern printing layer (4) on the bottom of the transparent base film (3); Forming a primer layer (5) on the bottom surface of the pattern printing layer (4); And a step of applying the adhesive layer 6 to the bottom of the primer layer 5.

상기 다층 코팅막은 2 개층(제 1층, 제 2층)으로 구성된다. 투명 베이스 필름(3)의 상면에서부터 층을 이루는데, 제 1코팅막(2)은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zink Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide)로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 재료로 이루어지며, 제 2코팅막(1)은 SiO2, SiAl-산화물, SiO 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 재료로 이루어진다. The multilayer coating film is composed of two layers (first layer and second layer). A layer is formed from an upper surface of the transparent base film 3, wherein the first coating layer 2 is at least one material selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), and antimony tin oxide (ATO). The second coating film 1 is made of at least one material selected from the group consisting of SiO 2 , SiAl-oxides, and SiO compounds.

상기 조성물 사용에 있어서 ITO 박막 코팅시 UV 흡수율이 높아지고 비저항 측정 시 자유전자의 농도가 약해짐으로 인해 서 적외선 반사율이 낮아진다. 따라서 이러한 원리로 인해 반사방지 기능이 강화되고 또한 규소계 화합물을 다층 코팅함으로 인해서 빛의 굴절율 조절을 통해서 반사방지 기능을 강화시킨다. 또한 규소계화합물을 사용함으로 인해 기존의 UV 코팅막에 비해서 표면경도를 강화시키는 역할을 하게 된다. In the use of the composition, the infrared reflectance is lowered due to a higher UV absorption rate when coating the ITO thin film and a weaker concentration of free electrons when measuring resistivity. Therefore, due to this principle, the antireflection function is enhanced, and the antireflection function is enhanced by controlling the refractive index of light due to the multilayer coating of the silicon-based compound. In addition, the use of silicon-based compounds to enhance the surface hardness compared to the existing UV coating film.

다층 코팅막(1,2)을 투명 베이스 필름(3)에 형성하기 위해 증착 또는 스퍼터링 공법을 사용한다. 증착은 진공 증착법을 이용하여 증착하는데, 10- 2내지 10- 6토르의 진공 및 300 내지 800℃의 온도에서 진공증착을 실시하여 50 내지 500Å 두께 의 증착막을 형성한다.The deposition or sputtering method is used to form the multilayer coating films 1 and 2 on the transparent base film 3. Deposition to deposit using a vacuum deposition method, 10 - 2 to 10 - by the vacuum and temperature of 300 to 800 ℃ of 6 Torr subjected to vacuum deposition to form a deposited film thickness of 50 to 500Å.

스퍼터링 공정은 진공 증착 공정과 비슷하지만 진공도가 10- 4내지 10-8 토르의 진공하에, 고온에 의한 열증착법이 아닌 금속물질을 이온화 시켜서 증착하고자 하는 면에 물리적 충격을 가함으로써 증착시킨다. 상기 공법 중 제 1코팅막(2)과 제 2코팅막(1)은 스퍼트링 공정을 통해서 이루어지는 것이 바람직하다. Is deposited by applying a physical impact to the surface to be deposited by under vacuum of from 4 to 10 -8 Torr, ionizing a metal material other than the heat deposition by hot-sputtering process is similar to the vacuum deposition process, but the degree of vacuum is 10. In the above method, the first coating film 2 and the second coating film 1 are preferably made through a sputtering process.

스퍼터링 공정에 대해 보다 자세히 설명하면, 금속판에 아르곤 등의 불활성 원소를 부딪쳐서 금속 분자를 쫓아낸 후 표면에 막을 부착하는 기술이라 할 수 있다. 즉, 진공이 유지된 챔버 내에서 스파터링 기체로 불활성 물질인 아르곤(Ar)가스를 흘려주면서 직류 전원을 인가하면(㎠당 1W정도), 증착하고자 하는 기판과 타겟 사이에 플라즈마가 발생한다. 이러한 플라즈마내에는 고출력 직류전류계에 의해 아르곤 가스 기체가 양이온으로 이온화 된다. 아르곤 양이온은 직류전류계에 의해서 음극으로 가속되어 타겟 표면에 충돌하게 된다. In more detail about the sputtering process, it can be referred to as a technique of applying a film to the surface after the metal molecules are driven out by hitting an inert element such as argon on the metal plate. That is, when DC power is applied (about 1 W per cm 2) while argon (Ar) gas, which is an inert material, is flowed into a spattering gas in a vacuum chamber, plasma is generated between a substrate to be deposited and a target. In such a plasma, argon gas gas is ionized into cations by a high output direct current ammeter. Argon cations are accelerated to the cathode by a DC ammeter and collide with the target surface.

이렇게 충돌시킨 타겟 물질은 원자가 완전 탄성 충돌에 의해 운동량을 교환하여 표면에서 밖으로 튀어나오게 된다. 이처럼 이온이 물질의 원자간 결합에너지 보다 큰 운동에너지로 충돌할 경우 이 이온충격에 의해 물질의 격자간 원자가 다른 위치로 밀리게 되는데 이때 원자의 표면 탈출이 발생하는 현상을 말한다.The collision of the target material causes the atoms to extrude out of the surface by exchanging momentum due to the full elastic impact. As such, when ions collide with kinetic energy larger than the binding energy between atoms of the material, the ions impact the atoms between the lattice of the material and push to other positions.

스퍼터링 장치는 현재 산업체에서 가장 보편적으로 이용되고 있는 박막제조 장치이며, 챔버 내에 Ar 혹은 기타 반응성 가스를 주입한 다음 플라즈마를 발생시켜 타켓에서 sputter-out된 원자 및 분자가 기판에 도달되어 박막이 형성되는 장치 로서 비교적 경제적이며, 양질의 박막을 제조할 수 있는 공정을 가능하게 해준 장치이다.The sputtering device is the most commonly used thin film manufacturing device in the industry, injecting Ar or other reactive gas into the chamber and generating a plasma to generate atoms and molecules sputtered out of the target to the substrate to form a thin film. As a device, it is relatively economical and allows the process to produce high quality thin film.

반사 방지 기능을 부여하는 것은 두 층간의 굴절율을 조절함으로써 이루어지는데, 제 1코팅막(2)을 통해서 고굴절율을 제공하고 제 2코팅막(1)을 통해 저굴절율을 제공함으로써 반사방지 기능을 부여하게 된다. The antireflection function is provided by adjusting the refractive index between the two layers. The antireflection function is provided by providing a high refractive index through the first coating film 2 and a low refractive index through the second coating film 1. .

기존 제품의 경우 H/Coating 층 형성 이후 표면경도를 측정하였을 때 H~2H의 경도를 제공하지만, 스퍼트링 공정 사용시 8H까지 표면 경도를 향상시킬 수 있다. 여기서 표면 경도 측정은 Mistubishi Uni Pencil을 사용하였다.Existing products provide hardness of H ~ 2H when surface hardness is measured after H / Coating layer formation, but surface hardness can be improved up to 8H when using sputtering process. Here, the surface hardness was measured using Mistubishi Uni Pencil.

상기 프라이머층(5)과 인쇄층(4)을 접착시키기에 앞서 물에 가성소다를 일정 비율 용융시킨 에칭액에 정해진 시간 동안 침전시켜 프라이머층(5)의 일부를 에칭하여 1차적으로 평탄화하는 공정과; 일부가 에칭되어 1차 평탄화된 프라이머층(5)에 대하여 2차 평탄화하는 공정을 더 실시한다.Prior to adhering the primer layer 5 and the print layer 4, a step of precipitating a portion of the primer layer 5 by etching a portion of the primer layer 5 by precipitating a predetermined amount of caustic soda in water for a predetermined time; ; Partial etching is further performed for the second planarization of the first planarized primer layer 5.

상기 에칭액은 상온에서 물 10리터에 가성소다 4리터를 용융시킴으로서 얻어지며, 침전시간은 3~10초 정도인 것을 특징으로 한다. 상기에 있어서 에칭액으로의 침전을 통해 프라이머층(5)의 일부를 에칭후 필름 자체를 물과 증류수에 순차적으로 투입시켜 세척한 후 건조기내에 투입시켜 정해진 온도인 55~65℃에서 15~25분 동안 건조시키는 공정을 더 실시하는 것을 부가적인 특징으로 한다. The etchant is obtained by melting 4 liters of caustic soda in 10 liters of water at room temperature, and the settling time is about 3 to 10 seconds. In the above, after the etching of a part of the primer layer 5 through the precipitation into the etching solution, the film itself is sequentially added to water and distilled water, washed, and then put into a dryer for 15 to 25 minutes at a predetermined temperature of 55 to 65 ° C. It is an additional feature to further carry out the drying process.

상기 공정은 에칭공정이고, 본 발명에 사용되는 공정은 그라비아 인쇄, 옵셋 인쇄, 실크 스크린 인쇄등의 인쇄방식을 통하여 프라이머 층을 도포시키는 방법으로서 프라이머의 조성물로는 일액형 혹은 이액형의 용액을 사용하는데 용액의 성분은 우레탄 아크릴레이트계 혹은 아크릴계의 수지를 사용하며 상기 조성물 이외에 MEK, 톨루엔, 에틸아세테이트 등의 용매를 첨가하여 제작한 프라이머를 사용한다. 이는 프라이머층(5)과 인쇄층(4) 간의 간극을 최소화할 수 있어 증착효율을 향상시킬 수 있고, 간극으로의 습기 침투를 방지할 수 있어 광택도 및 신뢰성을 대폭 향상시킬 수 있다.The process is an etching process, the process used in the present invention is a method of applying a primer layer through a printing method such as gravure printing, offset printing, silk screen printing, etc. As a composition of the primer, a one-component or two-component solution is used. The component of the solution is a urethane acrylate-based or acrylic resin, and a primer prepared by adding a solvent such as MEK, toluene, ethyl acetate in addition to the composition. This can minimize the gap between the primer layer 5 and the printed layer 4 can improve the deposition efficiency, can prevent moisture penetration into the gap can significantly improve the gloss and reliability.

본 발명에 따른 필름에서 무늬 인쇄층(4)은 아크릴레진과 염화비닐코폴리머를 배합하고 안정제, 브로킹방지제, 소광제를 무늬 인쇄 느낌에 맞춰 배합하고, 프라이머층(5)은 합성수지 MEK, Toluen으로 이루어진 수지로서 합성수지로는 폴리우레탄 계열을 사용하는 것이 바람직하다. 접착제층(6)은 폴리 염화비닐과 아크릴 레진을 혼합하여 유기용매를 희석하여 사용한다.In the film according to the present invention, the pattern printing layer 4 is blended with acrylic resin and vinyl chloride copolymer, and the stabilizer, anti-broking agent, and matting agent are blended according to the pattern printing feeling, and the primer layer 5 is made of synthetic resin MEK, Toluen. It is preferable to use a polyurethane-based resin as a synthetic resin consisting of. The adhesive layer 6 is used by diluting an organic solvent by mixing polyvinyl chloride and acrylic resin.

이와 같이 제작된 인서트 몰딩용 인쇄필름은 가열 압축된 프레스 금형에 각종 제품의 판넬 사출물과 함께 인서트되어 프레스 압축 및 150℃이상의 온도에 의해 판넬의 표면상에 접착 설치된다.The printing film for insert molding manufactured as described above is inserted together with panel injection products of various products in a heat press press mold and is adhesively installed on the surface of the panel by press compression and a temperature of 150 ° C. or more.

위에서 설명된 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대한 통상의 지식을 가지는 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.The foregoing description of the preferred embodiments of the present invention has been presented for purposes of illustration and various modifications, additions and substitutions are possible, without departing from the scope and spirit of the invention, And additions should be considered as falling within the scope of the following claims.

도 1은 기존의 인서트 몰딩 라미네이션 필름을 나타낸 것으로, 표면층에 UV 코팅층이 형성되어 있는 것을 보여주는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a conventional insert molding lamination film, the UV coating layer is formed on the surface layer.

도 2는 본 발명에 따른 인서트 몰딩 라미네이션 필름을 나타낸 것으로, 표면층이 제 2 코팅막인 SiO 층과 제 1 코팅막인 ITO 층으로 구성된 것을 보여주는 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing an insert molding lamination film according to the present invention, wherein the surface layer is composed of an SiO layer, which is a second coating film, and an ITO layer, which is a first coating film.

< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 >Description of the Related Art

1: 제 2 코팅막( SiO 층 ) 2: 제 1 코팅막(ITO 층)1: second coating film (SiO layer) 2: first coating film (ITO layer)

3: 필름층 4: 무늬인쇄층3: film layer 4: pattern printing layer

5: 프라이머층 6: 접착제층5: primer layer 6: adhesive layer

7: UV 코팅층7: UV coating layer

Claims (5)

필름층;Film layer; 상기 필름층의 저면에 형성된 무늬인쇄층;A pattern printing layer formed on the bottom of the film layer; 상기 무늬 인쇄층 저면에 형성된 프라이머층; 및A primer layer formed on the bottom surface of the printed pattern layer; And 상기 프라이머층 저면에 형성된 접착제층을 포함하고,An adhesive layer formed on the bottom of the primer layer, 상기 필름층의 상면에 고굴절 코팅층이 형성되어 있으며,The high refractive coating layer is formed on the upper surface of the film layer, 상기 고굴절 코팅층상에 저굴절 코팅층을 더 포함하고,Further comprising a low refractive coating layer on the high refractive coating layer, 상기 고굴절 코팅층은 ITO, IZO, 및ATO로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 성분을 포함하며,The high refractive coating layer comprises one or more components selected from the group consisting of ITO, IZO, and ATO, 상기 저굴절 코팅층은 SiO2, SiAl-산화물, 및 SiO 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 성분을 포함하는 것으로, The low refractive coating layer is to include one or more components selected from the group consisting of SiO 2 , SiAl-oxide, and SiO compound, 상기 코팅층은 스퍼터링 공법에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 인서트 몰딩 라미네이션 필름.Insert coating lamination film, characterized in that formed by the sputtering method. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020080016804A 2008-02-25 2008-02-25 Insert molding lamination film having anti reflection coating layer of high hardness and method for producing the same KR101283832B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080016804A KR101283832B1 (en) 2008-02-25 2008-02-25 Insert molding lamination film having anti reflection coating layer of high hardness and method for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080016804A KR101283832B1 (en) 2008-02-25 2008-02-25 Insert molding lamination film having anti reflection coating layer of high hardness and method for producing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090091504A KR20090091504A (en) 2009-08-28
KR101283832B1 true KR101283832B1 (en) 2013-07-08

Family

ID=41208893

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080016804A KR101283832B1 (en) 2008-02-25 2008-02-25 Insert molding lamination film having anti reflection coating layer of high hardness and method for producing the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101283832B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101470068B1 (en) * 2012-04-26 2014-12-10 한철대 Reflecting sheet printed using open type beads process and products comprising the same

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010083762A (en) * 2000-02-21 2001-09-01 한형수 Producing method of hybrid antireflection film

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010083762A (en) * 2000-02-21 2001-09-01 한형수 Producing method of hybrid antireflection film

Also Published As

Publication number Publication date
KR20090091504A (en) 2009-08-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1947551B1 (en) Transparent conductive film , method for production thereof and touch panel therewith
CN103154172B (en) Adhesive sheet and electronic device
US7534500B2 (en) Transparent electroconductive film, method for manufacture thereof, and touch panel
JP5251158B2 (en) Gas barrier sheet
EP2842737A1 (en) Gas barrier film, substrate for electronic device, and electronic device
CN104375701A (en) Transparent conductive film and touch panel
CN104205021A (en) Transparent body for use in a touch screen panel manufacturing method and system
US20100171406A1 (en) Electroconductive laminate
CN109076659A (en) Gas barrier film, organic electronic device, organic electroluminescence device substrate and Organnic electroluminescent device
TW201244947A (en) Transparent conductive film, transparent conductive laminated body, and touch panel
KR101283832B1 (en) Insert molding lamination film having anti reflection coating layer of high hardness and method for producing the same
WO2015012108A1 (en) Electronic device and method for manufacturing same
KR20160064051A (en) Process for manufacturing multi-layered thin film by dry vacuum vapor deposition
KR101662627B1 (en) Thin film type transparent glass having high hardness, method for manufacturing the same, thin film type transparent glass having high hardness and conductivity, and touch panel including the same
JP2004255706A (en) Transparent conductive laminated film
KR20060004440A (en) Printing film for insert inmold and it&#39;s manufacturing method therefore
KR20100102761A (en) Method for decorating a solid surface by evaporation
JP2005071901A (en) Transparent conductive laminated film
KR100868495B1 (en) Anti-electrostatic thin film for case of electronic product and method of manufacturing thereof
JP2020049770A (en) Decorative sheet, decorative resin molding and manufacturing method of these
JPH11167350A (en) Front surface filter for plasma display panel and its production
KR101347121B1 (en) Ornamental glass manuturing method using half mirror
CN210042485U (en) Anti-dazzle apron
KR101870871B1 (en) Color film and method for manufacturing the same
CN202310357U (en) Multifunctional painting panel of household appliance

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160630

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170623

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180528

Year of fee payment: 6