KR101271292B1 - Glass plate manufacturing method - Google Patents

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모또이찌 이가
유따까 구로이와
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아사히 가라스 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 레이저 광선 조사에 의한 유리판의 표면에 있어서의 국소적인 융기 형상의 발생, 유리판의 내부에서의 국소적인 잔류 응력이나 복굴절성의 발현 등을 발생시키지 않고, 디스플레이 기판용 유리판, 특히 플랫 패널 디스플레이 기판용 유리판, 혹은 포토마스크용 유리판으로서의 사용상 문제가 되는 거품이 존재하지 않는 유리판을 제조할 수 있는 유리판의 제조 방법을 제공하는 것이다. 본 발명은, 거품을 포함하는 유리판(또는 유리판 제조 공정에 있어서의 유리 리본)을 그 유리의 점도가 107 내지 1014.5dPaㆍs로 되는 온도 하에 있어서, 상기 유리판(또는 유리 리본)에 대한 흡수율이 30% 이상으로 되는 파장의 레이저 광선을 상기 유리판(또는 유리 리본) 중의 거품에 조사하여 상기 거품을 축소 또는 소실시키는 것을 특징으로 하는 유리판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention is a glass plate for a display substrate, in particular a flat panel display, without generating a local raised shape on the surface of the glass plate by laser beam irradiation, or developing a local residual stress or birefringence within the glass plate. It is providing the manufacturing method of the glass plate which can manufacture the glass plate which does not exist foam which becomes a problem in use as a glass plate for board | substrates or a photomask glass plate. Absorption rate of the present invention, in the glass (or glass ribbon in the glass manufacturing process) to include a foam at a temperature that the viscosity of the glass is of 10 7 to 10 14.5 dPa · s, and the glass sheet (or the glass ribbon) A laser beam having a wavelength of 30% or more is irradiated to bubbles in the glass plate (or glass ribbon) to reduce or eliminate the bubbles.

Description

유리판의 제조 방법{GLASS PLATE MANUFACTURING METHOD}Glass plate manufacturing method {GLASS PLATE MANUFACTURING METHOD}

본 발명은 유리판의 제조 방법에 관한 것이다. 구체적으로는, 디스플레이 기판용 유리판, 특히 플랫 패널 디스플레이 기판용 유리판이나, 포토마스크용 유리판으로서 사용한 경우에, 유리판의 표면 혹은 유리판의 내부, 바람직하게는 유리판의 표면 및 유리판의 내부에, 이들의 용도에 있어서 문제가 되는 크기의 거품이 존재하지 않는 유리판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a glass plate. Specifically, when used as a glass plate for a display substrate, especially a glass plate for a flat panel display substrate, or a glass plate for a photomask, the use of these on the surface of the glass plate or the inside of the glass plate, preferably the surface of the glass plate and the inside of the glass plate The present invention relates to a method for producing a glass plate in which bubbles of a size in question are not present.

현재, 디스플레이 기판용 유리판, 특히 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 필드 에미션 디스플레이와 같은 플랫 패널 디스플레이 기판용 유리판, 주택, 빌딩 등의 건조물의 창에 사용되는 유리판 또는 자동차, 철도, 항공기, 선박 등 수송 기관의 창에 사용되는 유리판 등, 실제로 많은 분야의 개구 부재로서 유리판이 사용되고 있다. 이러한 유리판은, 플로트법, 퓨전법 또는 다운드로우법을 이용하여 용융 유리로부터 제조된다.Currently, glass plates for display substrates, in particular, glass plates for flat panel display substrates such as liquid crystal displays, plasma displays, organic EL displays, field emission displays, glass plates used in windows of buildings such as houses, buildings, or automobiles, railways, aircrafts, In practice, glass plates are used as opening members in many fields, such as glass plates used in windows of transport engines such as ships. Such a glass plate is manufactured from molten glass using the float method, the fusion method, or the downdraw method.

이들 유리판의 내부에 존재하는 거품이 시인성을 방해하기 때문에 문제가 되고 있다. 예를 들어, 디스플레이 기판용 유리판에는 두께 3㎜ 이하의 유리판이 사용되고 있지만, 유리판 내에 일정 이상의 크기의 거품이 존재하고 있으면, 디스플레이의 화면 상에 핀홀이 발생하여 디스플레이의 시인성을 방해한다. 또한, 포토마스크로서 두께 7㎜ 이하의 유리판이 사용되고 있지만, 유리판 내에 일정 이상의 크기의 거품이 존재하고 있는 경우, 상기 포토마스크의 결함이 된다.Since the foam which exists in these glass plates interferes with visibility, it becomes a problem. For example, a glass plate having a thickness of 3 mm or less is used for a glass plate for a display substrate. However, if bubbles of a predetermined size or more exist in the glass plate, pinholes are generated on the screen of the display to hinder the visibility of the display. Moreover, although the glass plate of thickness 7mm or less is used as a photomask, when the bubble of a predetermined size or more exists in a glass plate, it becomes a defect of the said photomask.

원료 배치를 용융 과정에서 유리화 할 때에 CO2, H2O, O2, SO2 등의 가스가 방출되고, 이 가스의 일부는 용융 유리 내에 거품으로서 잔존한다. 용융 유리를 판 형상으로 성형할 때, 용융 유리 내에 존재하는 거품은 수평 방향으로 늘어나 대략 타원 형상으로 된다. 대략 타원 형상의 거품은 늘어나기 전의 구 형상의 거품과 비교하면 거품의 최대 직경이 커지므로, 유리판의 시인성에 특히 악영향을 미친다.When vitrifying the raw material batch in the melting process, gases such as CO 2 , H 2 O, O 2 , and SO 2 are released, and a part of the gas remains as bubbles in the molten glass. When the molten glass is shaped into a plate shape, bubbles present in the molten glass extend in the horizontal direction to become an approximately elliptic shape. The substantially elliptic bubble has a particularly large influence on the visibility of the glass plate since the maximum diameter of the bubble is larger than that of the spherical bubble before stretching.

종래, 유리판의 내부에 존재하는 거품의 양을 저감시키기 위해, 용해조의 구조나 그 내부의 교반 기구의 개량, 거품의 발생이나 성장을 억제하는 유리 조성의 선택, 또는 거품의 발생이나 성장을 억제하는 미량 첨가물의 첨가 등의 방법이 실시되고 있다. 그러나, 이들 방법에 의해, 유리판의 내부에 존재하는 거품의 양을 저감시킬 수는 있어도, 거품의 양을 완전히 0으로 하는 것은 곤란하였다. 또한, 장치의 개량이나 유리 조성 변경에는, 실제로 많은 검토 과제가 있고, 그만큼 유리판의 제조 비용에 반영된다.Conventionally, in order to reduce the amount of foam existing inside the glass plate, improvement of the structure of the dissolution tank and the stirring mechanism therein, selection of the glass composition which suppresses the generation and growth of bubbles, or suppressing the generation and growth of bubbles Methods such as addition of trace additives have been carried out. However, by these methods, even if the amount of foam existing in the inside of a glass plate can be reduced, it was difficult to make the amount of foam completely zero. Moreover, there are many examination subjects actually in improvement of an apparatus and a change of glass composition, and are reflected in the manufacturing cost of a glass plate by that much.

특허문헌 1에는, 포토마스크용 유리에 존재하는 미소 결함을 제거한 후에, 상기 결함이 존재한 위치에 유리 소편과 액상 경화성 수지를 충전하는 것을 특징으로 하는 포토마스크용 유리의 결함 수복 방법이 개시되어 있다. 그러나, 이 방법은, 미소 결함을 드릴 등으로 깎아낸 위치에 유리 소편과 액상 경화성 수지를 충전하므로 조작이 번거롭다. 예를 들어, 드릴로 깎아낸 위치를 충전하기 위해, 원하는 크기의 유리 소편을 준비할 필요가 있다. 또한, 유리 소편과 액상 경화성 수지를 충전한 후, 원하는 평탄도를 달성하기 위해, 포토마스크 표면의 연마 조작이 필요하게 된다. 이들 문제는, 유리 박판의 두께 방향의 중심 부근에 존재하는 결점을 수복하는 경우, 특히 어려워진다. 또한, 유리 소편 및 액상 경화성 수지를 충전한 부분과, 다른 부분의 광학 특성을 완전히 일치시키는 것은 곤란하고, 유리 소편 및 액상 경화성 수지를 충전한 부분이 새로운 결함으로 될 우려가 있다.Patent Literature 1 discloses a method for repairing defects in glass for photomasks, wherein after removing the micro defects present in the glass for photomasks, the glass fragments and the liquid curable resin are filled at positions where the defects exist. . However, this method is cumbersome because the glass fragments and the liquid curable resin are filled at positions where the microscopic defects are scraped off by a drill or the like. For example, in order to fill the position cut out by a drill, it is necessary to prepare glass fragments of a desired size. In addition, after the glass fragment and the liquid curable resin are filled, in order to achieve a desired flatness, polishing operation of the surface of the photomask is required. These problems become especially difficult when repairing the fault which exists in the vicinity of the center of the thickness direction of a thin glass plate. Moreover, it is difficult to make the part which filled glass small piece and liquid curable resin, and the optical characteristic of another part completely match, and the part which filled glass piece and liquid curable resin may become a new defect.

본 발명자들은, 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해, 유리판의 내부에 존재하는 거품의 직경을 축소시키는 방법이며, 유리판의 내부에 존재하는 거품을 향해 광원으로부터 광선을 조사하고, 상기 거품 근방의 유리의 온도를 상기 유리의 연화점 이상으로 함으로써, 상기 거품의 최대 직경을 축소시키는 것을 특징으로 하는 유리판의 내부에 존재하는 거품의 직경을 축소시키는 방법을 개시하였다(특허문헌 2 참조).MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This invention is a method of reducing the diameter of the bubble which exists in the inside of a glass plate, in order to solve the above-mentioned problem of the prior art, and irradiates a light beam from a light source toward the bubble which exists in the inside of a glass plate, By making the temperature of glass more than the softening point of the said glass, the method of reducing the diameter of the bubble which exists in the inside of a glass plate characterized by reducing the largest diameter of the said bubble was disclosed (refer patent document 2).

특허문헌 2에 기재된 방법에 따르면, 유리판, 특히 디스플레이용 유리 기판, 특히 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판이나 포토마스크로서 사용되는 유리판의 내부에 존재하는 거품의 직경을 상기 유리판의 시인성을 방해하지 않을 정도까지 축소시킬 수 있다. 이에 의해, 핀홀이 저감된, 시인성이 우수한 디스플레이용 유리 기판을 얻을 수 있고, 거품의 존재에 의한 결함이 해소된 포토마스크를 얻을 수 있다.According to the method of patent document 2, the diameter of the foam which exists in the inside of a glass plate, especially a glass substrate for a display, especially a glass substrate for flat panel displays, or a photomask, is to the extent that it does not interfere with the visibility of the said glass plate. Can be reduced. Thereby, the glass substrate for a display which is excellent in visibility which pinhole was reduced can be obtained, and the photomask in which the defect by the presence of a bubble was eliminated can be obtained.

특허문헌 2에 기재된 방법에 따르면, 거품 근방의 유리의 온도를 국소적으로 연화점 이상으로 상승시킴으로써 거품의 직경을 축소시키므로, 유리판 자체의 형상을 손상시키는 일이 없다. 이로 인해, 처리 후의 유리판에 새로운 결함이 발생할 우려가 저감된다.According to the method of patent document 2, since the diameter of a bubble is reduced by raising the temperature of the glass near a bubble locally more than a softening point, it does not damage the shape of the glass plate itself. For this reason, the possibility that a new defect arises in the glass plate after a process is reduced.

그러나, 특허문헌 2에 기재된 방법은, 고강도의 레이저 광선 등을 유리판에 조사하기 때문에 광선 조사에 의한 유리판에의 영향이 문제가 된다.However, since the method of patent document 2 irradiates a glass plate with a high intensity laser beam etc., the influence on the glass plate by light irradiation becomes a problem.

첫째로, CO2 레이저 광선과 같이, 유리에 대부분 흡수되는 파장 영역의 광선을 사용한 경우, 유리판의 표면 부근에서 CO2 레이저 광선의 대부분이 흡수된다. 이 결과, 레이저 광선이 조사된 유리판의 표면 부근의 온도가 상승한다. 이 온도 상승에 의해 표면 부근의 유리가 팽창하고, 유리판의 표면에 국소적인 융기 형상이 발생하는 경우가 있다. 유리판의 표면에 융기 형상이 발생한 경우, 유리판의 외관이나 광학 특성에 악영향을 미칠 우려가 있다.First, as shown in the CO 2 laser beam, in the case of using a light beam of a wavelength region that is mostly absorbed in the glass, most of the CO 2 laser light is absorbed near the surface of the glass plate. As a result, the temperature near the surface of the glass plate to which the laser beam was irradiated rises. The glass in the vicinity of the surface expands due to this temperature rise, and a locally raised shape may occur on the surface of the glass plate. When raised form arises on the surface of a glass plate, there exists a possibility that it may adversely affect the external appearance and optical characteristic of a glass plate.

둘째로, 유리판의 레이저 광선을 집광시킨 부위에서는, 유리의 밀도 변화나 그물코 구조의 변화가 유발된다. 이 변화에 의해 유리판의 내부에 국소적으로 잔류 응력이나 복굴절성이 발현할 우려가 있다. 유리판의 내부에 국소적인 잔류 응력이나 복굴절성이 발현하면, 유리판의 광학 특성에 악영향을 미치는 경우도 있다.Second, in the site | part which collected the laser beam of the glass plate, the density change of a glass and the change of a mesh structure are caused. By this change, there exists a possibility that residual stress and birefringence may express locally in a glass plate. If local residual stress or birefringence develops inside the glass plate, the optical properties of the glass plate may be adversely affected.

따라서, 특허문헌 2에 기재된 방법을 실시할 때는, 상기한 유리판의 표면의 융기 형상, 또는 유리판의 내부에 있어서의 국소적인 잔류 응력 혹은 복굴절성과 같은 문제가 발생하지 않도록, 또는 가능한 한 경미해지도록, 광선의 조사 조건(광원의 강도, 파장, 조사 시간, 조사 부위 등)을 선택할 필요가 있다.Therefore, when implementing the method of patent document 2, so that problems, such as a raised shape of the surface of the said glass plate, or local residual stress or birefringence in the inside of a glass plate, may not arise or become as light as possible, It is necessary to select the irradiation conditions (light intensity, wavelength, irradiation time, irradiation site, etc.) of the light beam.

또한, 유리판의 표면의 융기 형상에 대해서도, 융기 형상이 발생하는 위치를 유리판의 사용상 문제없는 위치가 되도록 광선을 조사하는 위치를 선택할 필요가 있다.Moreover, also about the raised shape of the surface of a glass plate, it is necessary to select the position which irradiates a light beam so that the position which a raised shape generate | occur | produces may become a position which does not have a problem in use of a glass plate.

또한, 유리판의 표면에 발생한 융기 형상은, 유리판의 표면을 연마함으로써 제거할 필요가 있다. 한편, 광선을 집광시킨 부위에 있어서의 유리의 밀도 변화나 그물코 구조의 변화는 광선 조사 후의 유리판을 전기로 등에서 서서히 가열하고, 그 후 서냉함으로써 해소할 필요가 있다.In addition, it is necessary to remove the ridge shape which generate | occur | produced on the surface of a glass plate by grinding the surface of a glass plate. On the other hand, the density change of the glass in the site | part which light-condensed light, and the change of a mesh structure need to be eliminated by heating a glass plate after light irradiation gradually in an electric furnace etc., and slow cooling after that.

일본 특허 공개 평10-239828호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 10-239828 국제 공개 제2006-112415호 팜플렛International Publication No. 2006-112415 Brochure

본 발명은, 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해, 레이저 광선 조사에 의한 문제, 구체적으로는 유리판의 표면에 있어서의 국소적인 융기 형상의 발생, 유리판의 내부에서의 국소적인 잔류 응력이나 복굴절성의 발현 등을 발생시키지 않고, 디스플레이 기판용 유리판, 특히 플랫 패널 디스플레이 기판용 유리판, 또는 포토마스크용 유리판으로서의 사용상 문제가 되는 거품이 존재하지 않는 유리판을 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the problems of the prior art described above, the present invention relates to a problem caused by laser beam irradiation, specifically, the occurrence of local ridge shapes on the surface of the glass plate, local residual stress and birefringence in the interior of the glass plate. It is an object of the present invention to provide a method for producing a glass plate free of foam, which is a problem in use as a glass plate for a display substrate, in particular, a glass plate for a flat panel display substrate, or a glass plate for a photomask, without generating expression.

본 발명은, 거품을 포함하는 유리판을 특정 온도로 가열하고, 유리판 내의 상기 거품에 레이저 광선을 조사하여 상기 거품을 축소 또는 소실시키는 것을 특징으로 하는 유리판의 제조 방법에 관한 것이다.This invention relates to the manufacturing method of the glass plate characterized by heating the glass plate containing foam to specific temperature, and irradiating a laser beam to the said bubble in a glass plate, and shrink | condensing or disappearing the said foam.

즉, 본 발명은, 거품을 포함하는 유리판을 그 유리의 점도가 107 내지 1014.5dPaㆍs로 되는 온도로 가열하고, 상기 가열 온도 하에 있어서, 상기 유리판에 대한 흡수율이 30% 이상으로 되는 파장의 레이저 광선을 상기 유리판 내의 거품에 조사하여 상기 거품을 축소 또는 소실시키는 것을 특징으로 하는 유리판의 제조 방법을 제공한다.That is, the wavelength of the present invention, in a glass sheet comprising a foam under the viscosity of the glass is heated to a temperature that is 10 7 to 10 14.5 dPa · s, and the heating temperature, which is the absorption rate for the glass sheet to at least 30% The laser beam is irradiated to the bubbles in the glass plate to provide a method for producing a glass plate, characterized in that the bubble is reduced or lost.

상기 발명에 있어서, 상기 유리의 점도가 107 내지 1014.5dPaㆍs로 되는 온도는 유리의 왜곡점 이상이면서 연화점 이하의 온도인 것이 바람직하다. 또한, 상기 유리판의 표면에 있어서의 상기 레이저 광선의 최대 직경 D는 하기 수학식을 만족하는 것이 바람직하다.In the above invention, the temperature, the viscosity of the glass is 10 7 to 10 14.5 dPa · s is preferably at least while the distortion point of the glass at a temperature below the softening point. Moreover, it is preferable that the largest diameter D of the said laser beam in the surface of the said glass plate satisfy | fills following formula.

Figure 112010029372468-pct00001
Figure 112010029372468-pct00001

식 중, d1 및 d2는 각각 상기 거품을 상기 유리판 표면의 법선 방향으로 투영한 형상에 있어서의 최대 직경 및 최소 직경을 나타낸다. Wherein, d 1 and d 2 represents the maximum diameter and the minimum diameter in the shape respectively projected onto the foam in the normal direction of the glass plate surface.

또한, 상기 발명에 있어서, 상기 레이저 광선의 조사 후에 있어서, 상기 유리판에 존재하는 거품의 최대 직경은 350㎛ 미만인 것이 바람직하다.Moreover, in the said invention, after irradiation of the said laser beam, it is preferable that the largest diameter of the bubble which exists in the said glass plate is less than 350 micrometers.

본 발명은, 또한, 유리판 제조 공정에 있어서의 유리 리본이 특정 온도 영역에 있는 상태에서, 그 유리 리본 내의 거품에 레이저 광선을 조사하여 상기 거품을 축소 또는 소실시키는 것을 특징으로 하는 유리판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention further provides a method for producing a glass plate, characterized in that the bubble in the glass ribbon is irradiated with a laser beam in a state where the glass ribbon in the glass plate manufacturing process is in a specific temperature region to reduce or eliminate the bubble. It is about.

즉, 본 발명은, 용융 유리를 유리 리본으로 성형하는 성형 공정과 유리 리본을 냉각하는 냉각 공정과 냉각된 유리 리본을 절단하여 유리판으로 하는 절단 공정을 포함하는 유리판의 제조 방법이며, 유리 리본의 유리의 점도가 107 내지 1014.5dPaㆍs인 온도 영역에 있어서, 유리 리본에 대한 흡수율이 30% 이상으로 되는 파장 영역의 레이저 광선을 유리 리본 내의 거품에 조사하여 상기 거품을 축소 또는 소실시키는 공정을 구비한 유리판의 제조 방법도 제공한다.That is, this invention is a manufacturing method of the glass plate containing the shaping | molding process which shape | molds a molten glass with a glass ribbon, the cooling process which cools a glass ribbon, and the cutting process which cuts the cooled glass ribbon and makes it into a glass plate, and glass of a glass ribbon In a temperature range of 10 7 to 10 14.5 dPa · s, a step of irradiating a bubble in the glass ribbon with a laser beam in a wavelength range where the absorption rate with respect to the glass ribbon becomes 30% or more is reduced or eliminated. It also provides a manufacturing method of the provided glass plate.

또한 유리 리본에 레이저 광선을 조사하는 상기 발명에 있어서는, 하기 형태의 채용이 바람직하다.Moreover, in the said invention which irradiates a laser beam to a glass ribbon, employment of the following forms is preferable.

상기 유리의 점도가 107 내지 1014.5dPaㆍs인 온도 영역은 유리 리본의 유리의 왜곡점 이상이면서 연화점 이하의 온도 영역인 것이 바람직하다. 또한, 상기 유리 리본의 표면에 있어서의 상기 레이저 광선의 최대 직경 D는 하기 수학식을 만족하는 것이 바람직하다.It is the viscosity of the glass 10 7 to 10 14.5 dPa · s or higher temperature region, yet the distortion of the glass of the glass ribbon preferably has a temperature range of less than the softening point. Moreover, it is preferable that the largest diameter D of the said laser beam in the surface of the said glass ribbon satisfy | fills following formula.

Figure 112010029372468-pct00002
Figure 112010029372468-pct00002

식 중, d1 및 d2는 각각 상기 거품을 상기 유리 리본 표면의 법선 방향으로 투영한 형상에 있어서의 최대 직경 및 최소 직경을 나타낸다.Wherein, d 1 and d 2 represents the maximum diameter and the minimum diameter in the respective shape of the foam projected in the normal direction of the glass ribbon surface.

또한 상기 D는 하기 수학식을 만족하는 것이 보다 바람직하다.More preferably, D satisfies the following equation.

Figure 112010029372468-pct00003
Figure 112010029372468-pct00003

식 중, d1은 상기 거품을 상기 유리 리본 표면의 법선 방향으로 투영한 형상에 있어서의 최대 직경을 나타낸다.Wherein, d 1 is the maximum diameter in a projection shape the bubble in the normal direction of the glass ribbon surface.

또한, 상기 유리 리본 표면에 있어서의 상기 레이저 광선의 중심축과, 상기 거품을 상기 유리 리본 표면의 법선 방향으로 투영한 형상의 중심축과의 거리 E는 하기 수학식을 만족하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the distance E between the central axis of the said laser beam in the said glass ribbon surface, and the central axis of the shape which projected the said bubble in the normal direction of the glass ribbon surface satisfy | fills the following formula.

Figure 112010029372468-pct00004
Figure 112010029372468-pct00004

식 중, d2는 상기 거품을 상기 유리 리본 표면의 법선 방향으로 투영한 형상에 있어서의 최소 직경을 나타낸다. 또한, 상기 형상의 중심축이라 함은 상기 형상 내의 어느 점을 통하는 임의의 직교축에 대해, 단면 2차 모멘트가 함께 0이 되는 축을 나타낸다.In the formula, d 2 represents the smallest diameter of the projection in the shape of the bubble in the normal direction of the glass ribbon surface. Further, the central axis of the shape refers to the axis where the cross-sectional secondary moments become zero with respect to any orthogonal axis through any point in the shape.

상기 레이저 광선의 파장은 10 내지 360㎚ 혹은 2700 내지 10600㎚인 것이 바람직하고, 또한 상기 레이저 광선 조사 위치의 유리 리본의 두께는 0.05 내지 25㎜인 것이 바람직하다.It is preferable that the wavelength of the said laser beam is 10-360 nm or 2700-10600 nm, and it is preferable that the thickness of the glass ribbon of the said laser beam irradiation position is 0.05-25 mm.

또한, 상기 제조 방법에 있어서는, 유리 리본 내의 거품을 검출하는 순서를 갖고, 상기 순서로 검출된 거품에 레이저 광선을 조사하는 것이 바람직하다.Moreover, in the said manufacturing method, it is preferable to have a procedure which detects the bubble in a glass ribbon, and to irradiate a laser beam to the bubble detected by the said order.

또한, 상기 레이저 광선의 조사 후에 있어서, 상기 유리 리본 내의 거품의 최대 직경이 350㎛ 미만인 것이 바람직하고, 또한 유리 리본의 표면으로부터 깊이 10㎛의 범위 내에 최대 직경 80㎛ 이상의 거품이 실질적으로 존재하지 않는 것이 바람직하다.Moreover, after irradiation of the said laser beam, it is preferable that the largest diameter of the bubble in the said glass ribbon is less than 350 micrometers, and the bubble which has a maximum diameter of 80 micrometers or more substantially in the range of 10 micrometers depth from the surface of a glass ribbon does not exist substantially. It is preferable.

또한, 상기 레이저 광선의 광원은 CO2 레이저, YAG 레이저, 엑시머 레이저, 및 YVO4 레이저로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나인 것이 바람직하다.The light source of the laser beam is preferably at least one selected from the group consisting of a CO 2 laser, a YAG laser, an excimer laser, and a YVO 4 laser.

본 발명의 유리판의 제조 방법에 따르면, 디스플레이 기판용 유리판, 특히 플랫 패널 디스플레이 기판용 유리판, 혹은 포토마스크용 유리판으로서의 사용상 문제가 되는 거품이 존재하지 않는 유리판을 제조할 수 있다.According to the manufacturing method of the glass plate of this invention, the glass plate which does not exist the bubble which becomes a problem in use as a glass plate for display substrates, especially the glass plate for flat panel display substrates, or the glass plate for photomasks can be manufactured.

또한, 본 발명의 방법에 따르면, 핀홀이 저감된, 시인성이 우수한 디스플레이 기판용 유리판을 얻을 수 있다.Moreover, according to the method of this invention, the glass plate for display substrates excellent in visibility which pinhole was reduced can be obtained.

또한, 본 발명의 방법에 따르면, 거품의 존재에 의한 결함이 해소된 포토마스크를 얻을 수 있다.Further, according to the method of the present invention, it is possible to obtain a photomask in which defects due to the presence of bubbles are eliminated.

본 발명의 방법에서는, 유리판 또는 유리 리본에 대해, 그 유리의 점도가 107 내지 1014.5dPaㆍs인 온도 하에서 레이저 광선을 조사하므로, 레이저 광선의 조사에 의해 유리판이나 유리 리본의 표면에 국소적인 융기 형상이 발생하거나, 유리 내부에 국소적인 잔류 응력이나 복굴절성이 발현할 우려가 없다.In the method of the present invention, for a glass sheet or the glass ribbon, and therefore the viscosity of the glass irradiated with the laser beam under the 10 7 to 10 14.5 dPa · s temperature, localized on the surface of the glass sheet or glass ribbon by the irradiation of the laser beam There is no fear that raised shapes or local residual stress or birefringence are expressed in the glass.

유동성이 있는 용융 유리에 레이저 광선을 조사한 경우, 용융 유리 내에서의 거품의 위치가 변화될 가능성이 있다. 이로 인해, 용융 유리 내에서의 거품의 위치의 변화를 고려하여 레이저 광선을 조사할 필요가 있고, 거품을 향해 레이저 광선을 조사하는 조작이 복잡해진다. 그러나, 본 발명의 방법에서는, 실질적으로 유동성을 갖지 않는 상태의 유리 내에 존재하는 거품에 레이저 광선을 조사하므로, 유리판이나 유리 리본 내의 거품의 위치의 변화를 고려할 필요가 없어, 거품을 향해 레이저 광선을 조사하는 조작이 비교적 용이하다.When the laser beam is irradiated to the molten glass with flowability, the position of the bubble in the molten glass may change. For this reason, it is necessary to irradiate a laser beam in consideration of the change of the position of the bubble in a molten glass, and the operation which irradiates a laser beam toward a bubble becomes complicated. However, in the method of the present invention, since the laser beam is irradiated to the bubbles present in the glass in a substantially non-flowable state, it is not necessary to consider the change in the position of the bubbles in the glass plate or the glass ribbon, and the laser beam is directed toward the bubbles. The operation to irradiate is relatively easy.

또한, 본 발명의 유리판의 제조 방법에서는, 용융 유리에 대해 레이저 광선을 조사하는 경우에 비교하여, 두께 방향에 있어서의 거품의 위치를 고려하여 레이저 광선을 거품에 집광시키는 조작이 용이하다.Moreover, in the manufacturing method of the glass plate of this invention, compared with the case of irradiating a laser beam with respect to a molten glass, the operation which condenses a laser beam into a bubble in consideration of the position of a bubble in the thickness direction is easy.

또한, 본 발명의 유리 리본에 대해 레이저 광선을 조사하여 유리판을 제조하는 방법에서는, 유리 리본에 대한 흡수율이 30% 이상인 레이저 광선을 거품을 향해 조사하는 것만으로, 레이저 광선 조사에 의한 거품 축소 작용, 혹은 레이저 광선 조사에 의한 거품 부상 작용에 의해 디스플레이 기판용 유리판, 특히 플랫 패널 디스플레이 기판용 유리판, 혹은 포토마스크용 유리판으로서의 사용상 문제가 되는 거품이 존재하지 않는 상태로 할 수 있다. 이로 인해, 배경 기술로서 전술한 종래의 방법에 비해 공정수가 적어지고, 또한 조작이 용이하다.Moreover, in the method of manufacturing a glass plate by irradiating a laser beam with respect to the glass ribbon of this invention, the bubble reduction effect | action by laser beam irradiation only by irradiating a laser beam of 30% or more of absorption rate with respect to a glass ribbon toward a bubble, Or the bubble which becomes a problem in use as a glass plate for display substrates, especially a glass plate for flat panel display substrates, or a glass plate for photomasks by a bubble floating action by laser beam irradiation can be made into the state which does not exist. For this reason, compared with the conventional method mentioned above as a background art, process number becomes small and operation is easy.

또한, 본 발명의 유리판의 제조 방법에서는, 유리판이나 유리 리본에 존재하는 거품을 품질상 문제없는 크기로 축소시킬 뿐만 아니라, 실질적으로 소실시킬 수도 있다.Moreover, in the manufacturing method of the glass plate of this invention, not only the bubble which exists in a glass plate or a glass ribbon is reduced to the magnitude | size which does not have a problem in quality, but can also be substantially eliminated.

도 1은 유리판(유리 리본)의 내부에 존재하는 거품을 모식적으로 도시한 평면도이다.1: is a top view which shows typically the foam which exists in the inside of a glass plate (glass ribbon).

본 발명에 있어서「거품을 축소시킨다」라 함은 거품의 최대 직경을 작게 하는 것을 말한다. 상기와 같이 유리판이나 유리 리본 내의 거품의 대부분은 수평 방향으로 늘어난 대략 타원 형상을 갖는다. 대략 타원 형상의 거품은, 동일한 체적의 구 형상의 거품과 비교하면 최대 직경이 커지므로, 유리판의 시인성에 특히 악영향을 미친다. 따라서, 거품의 최대 직경을 축소시킴으로써, 이 악영향을 저감시킬 수 있다. 따라서, 본 발명에 있어서는, 가령 거품의 체적이 변화하지 않아도, 거품의 최대 직경이 축소되는 경우에는「거품을 축소시킨다」는 것에 해당하는 것으로 한다. 물론, 거품의 체적이 감소하여 최대 직경이 작아진 경우도「거품을 축소시킨다」에 해당한다.In the present invention, the term "reducing foam" means reducing the maximum diameter of the foam. As described above, most of the bubbles in the glass plate or the glass ribbon have a substantially elliptical shape extending in the horizontal direction. Since the substantially elliptic bubble has a larger maximum diameter compared to the spherical bubble having the same volume, the bubbles have a particularly bad effect on the visibility of the glass plate. Therefore, this adverse effect can be reduced by reducing the maximum diameter of foam. Therefore, in this invention, even if the volume of a bubble does not change, it shall correspond to "reducing a bubble" when the maximum diameter of a bubble is reduced. Of course, the case where the volume of the foam is reduced and the maximum diameter is smaller also corresponds to "reducing the foam".

또한 본 발명에 있어서는, 거품을 축소시킴과 함께, 거품을 유리 내부에서 이동시킬 수도 있다. 거품 주위의 유리를 용해시켜 유동성을 갖게 함으로써, 거품의 부력에 의해 거품을 유리 내에서 상방(연직 방향의 상방)으로 이동시킬 수 있다. 유리판이나 유리 리본의 상부 표면 근방에 거품이 존재하는 경우에는, 이 부력에 의해 거품을 상부 표면까지 이동시키고, 상부 표면에서 거품을 파괴시켜 거품을 소실시킬 수 있다. 유리판이나 유리 리본의 하부 표면 근방에 거품이 존재하는 경우에는, 부력에 의해 거품을 하부 표면으로부터 멀어지게 할 수 있다. 유리 리본의 경우에는 곤란하지만, 유리판의 경우에는, 다른 쪽 표면 근방에 거품이 존재하는 경우에도 유리판을 반전시켜 레이저 광선을 조사함으로써, 당해 거품을 소실시킬 수 있거나, 또는 표면으로부터 멀어지게 할 수 있다.In the present invention, the bubbles can be reduced and the bubbles can be moved inside the glass. By dissolving the glass around the bubble to make it flowable, the bubble can be moved upwards (upward in the vertical direction) in the glass by buoyancy of the bubble. When bubbles exist near the upper surface of the glass plate or the glass ribbon, the buoyancy forces the bubbles to move to the upper surface, and the bubbles can be destroyed at the upper surface to dissipate the bubbles. When foam exists in the vicinity of the lower surface of a glass plate or a glass ribbon, a bubble can be made to move away from a lower surface by buoyancy. In the case of a glass ribbon, it is difficult, but in the case of a glass plate, even if a bubble exists in the vicinity of the other surface, by inverting a glass plate and irradiating a laser beam, the said bubble may be lost or it may be far from the surface. .

도 1은 유리판이나 유리 리본의 내부에 존재하는 거품을 모식적으로 도시한 평면도이며, 거품은 유리판 표면이나 유리 리본 표면의 법선 방향으로 투영한 형상으로 도시되어 있다. 유리판(유리 리본)(10)의 내부에 존재하는 거품(1)은 유리 성형시에 수평 방향으로 늘어나 대략 타원 형상을 이루고 있다. 이하의 설명에서는, 도면에 도시한 바와 같이, 거품을 유리판 표면의 법선 방향으로 투영한 형상에 있어서, 거품의 최대 직경을 d1, 거품의 최소 직경을 d2로 나타낸다. 대략 타원 형상의 거품은 구 형상의 거품이 일방향으로 늘어나 형성된다고 생각되므로, 도면에 도시한 거품의 두께[도 1의 지면(紙面)에 수직 방향인 크기]는 거품의 최소 직경 d2와 대략 동일하다고 생각된다. 즉, 거품(1)은 회전 타원형으로 대략 동일한 형상을 갖는다고 생각된다.FIG. 1 is a plan view schematically showing bubbles existing inside a glass plate or a glass ribbon, and the bubbles are shown in a shape projected in the normal direction of the glass plate surface or the glass ribbon surface. The foam 1 existing inside the glass plate (glass ribbon) 10 extends in the horizontal direction at the time of glass shaping, and forms an substantially elliptical shape. In the following description, as shown in the figure, in a shape in which the foam is projected in the normal direction of the glass plate surface, the maximum diameter of the foam is denoted by d 1 , and the minimum diameter of the foam is denoted by d 2 . Since the substantially elliptic bubble is thought to be formed by extending the spherical bubble in one direction, the thickness of the bubble (size perpendicular to the surface of Fig. 1) shown in the drawing is approximately equal to the minimum diameter d 2 of the bubble. I think. That is, the bubble 1 is considered to have a substantially identical shape with a rotating ellipse.

본 발명의 유리판의 제조 방법에서는, 유리의 점도가 107 내지 1014.5dPaㆍs인 온도 하에 있어서 레이저 광선을 거품에 조사한다. 유리의 점도가 1014.5dPaㆍs인 온도는 그 유리의 왜곡점에 상당한다. 따라서, 본 발명의 유리판의 제조 방법에서는, 유리판이나 유리 리본이 그 유리의 왜곡점 이상의 온도에 있는 조건 하에서 레이저 광선을 유리판이나 유리 리본에 조사하므로, 특허문헌 1에 기재된 방법과 같은 고강도의 광원으로부터 유리판에 광선을 조사함으로써 발생하는 문제, 즉, 유리판의 표면에서의 융기 형상의 발생, 유리판의 내부에 있어서의 국소적인 잔류 응력 혹은 복굴절성의 발생과 같은 문제가 경감된다.In the production method of the glass plate of the present invention, in the viscosity of the glass under the 10 7 to 10 14.5 dPa · s at a temperature and applying a laser beam to the foam. The temperature at which the glass has a viscosity of 10 14.5 dPa · s corresponds to the strain point of the glass. Therefore, in the manufacturing method of the glass plate of this invention, since a laser beam is irradiated to a glass plate or a glass ribbon on the conditions that a glass plate and a glass ribbon are at the temperature more than the distortion point of the glass, it is from the high intensity light source like the method of patent document 1 The problem which arises by irradiating a glass plate with a light ray, ie, generation | occurrence | production of the raised shape in the surface of a glass plate, a problem, such as local residual stress or birefringence generation in the inside of a glass plate, is alleviated.

또한, 유리의 점도가 107dPaㆍs인 온도는 그 유리가 실질적으로 유동하지 않는 온도에 상당한다. 따라서, 이 온도 이하에서는 유리판이나 유리 리본 내의 거품의 위치가 실질적으로 변화하지 않아, 레이저 광선을 거품에 조사하는 것이 용이해진다. 보다 바람직한 온도의 상한은, 유리의 점도가 107.6dPaㆍs인 온도이며, 이 온도는 그 유리의 연화점에 상당한다.The temperature at which the glass has a viscosity of 10 7 dPa · s corresponds to the temperature at which the glass does not substantially flow. Therefore, below this temperature, the position of the bubble in a glass plate or a glass ribbon does not change substantially, and it becomes easy to irradiate a bubble with a laser beam. The upper limit of more preferable temperature is temperature whose viscosity of glass is 10 7.6 dPa * s, and this temperature is corresponded to the softening point of the glass.

또한, 상기 점도에 대응하는 유리의 온도는, 점도의 하한값 부근에서는 JIS R3103-1:2001의 방법으로, 점도의 상한값 부근에서는 JIS R3103-2:2001의 방법에 기초하여 측정한 것을 말한다.In addition, the temperature of the glass corresponding to the said viscosity is what was measured based on the method of JIS R3103-1: 2001 by the method of JIS R3103-1: 2001 near the lower limit of a viscosity, and the vicinity of the upper limit of viscosity.

유리판이나 유리 리본에 대한 흡수율이 30% 이상으로 되는 파장의 레이저 광선은 거품 주위 근방의 유리를 효율적으로 가열하여 용융시키기 위해 사용된다. 흡수율이 지나치게 낮으면 유리를 투과하는 광선의 비율이 높아져 거품 주위의 유리를 효율적으로 가열할 수 없다. 또한, 레이저 광선은 거품 주위 근방의 유리를 가열하여 용융시키기 위해 충분한 강도를 가질 필요가 있다. 거품 주위 근방의 유리를 용융시키기 위해 필요한 레이저 광선의 강도는, 흡수율 이외에, 거품의 위치(조사된 표면으로부터의 거리)나 거품의 크기, 레이저 광선의 단면적의 크기, 조사 시간 등에 의해서도 좌우된다고 생각되고, 그것들을 고려하여 광원의 레이저 광선 강도가 결정된다. 본 발명에 있어서는, 레이저 광선의 조사시에 유리판이나 유리 리본의 온도가 왜곡점 이상에 있으므로, 상기 특허문헌 2에 기재된 발명에 비교하여, 레이저 광선에 의해 부여하는 에너지량이 적어져, 보다 작은 강도로 단시간에 거품 주위 근방의 유리를 용융시킬 수 있다.A laser beam having a wavelength of 30% or more with respect to the glass plate or the glass ribbon is used for efficiently heating and melting the glass near the bubble. When the absorptivity is too low, the ratio of light rays passing through the glass becomes high and the glass around the bubble cannot be efficiently heated. In addition, the laser beam needs to have sufficient intensity to heat and melt the glass near the bubbles. It is thought that the intensity of the laser beam required to melt the glass near the bubble depends not only on the absorption rate but also on the position of the bubble (distance from the irradiated surface), the size of the bubble, the size of the cross-sectional area of the laser beam, the irradiation time, and the like. In consideration of these, the laser beam intensity of the light source is determined. In this invention, since the temperature of a glass plate or a glass ribbon is more than a distortion point at the time of irradiation of a laser beam, compared with the invention of the said patent document 2, the amount of energy given by a laser beam becomes small, and it is small in intensity It is possible to melt the glass near the bubbles in a short time.

레이저 광선은 유리판이나 유리 리본의 상방으로부터 조사하는 것이 바람직하다. 레이저 광선을 거품에 조사한 경우, 레이저 광선이 조사된 부분의 유리가 가열되기 때문에, 거품에 의해 레이저 광선의 진입이 방해되는 부분(거품의 그림자가 되는 부분)의 유리는 충분히 가열되기 어렵다. 거품을 용융 유리 내에서 부력에 의해 이동시키기 위해서는 거품의 상방의 유리가 충분히 저점도의 용융 유리로 되어 있을 필요가 있다. 레이저 광선을 유리판이나 유리 리본의 하방으로부터 조사하면, 거품의 상방은 레이저 광선의 그림자가 되기 쉽다. 거품의 이동을 주된 목적으로 하지 않는 경우나 고강도의 레이저 광선으로 거품 주위의 유리를 충분히 가열할 수 있는 경우에는, 유리판이나 유리 리본의 하방으로부터 레이저 광선을 조사해도 된다.It is preferable to irradiate a laser beam from the upper side of a glass plate or a glass ribbon. When the laser beam is irradiated to the bubble, the glass of the portion to which the laser beam is irradiated is heated, so that the glass of the portion where the entry of the laser beam is prevented by the bubble (part of the shadow of the bubble) is difficult to be sufficiently heated. In order to move a bubble by buoyancy in the molten glass, the glass above the bubble needs to be a sufficiently low viscosity molten glass. When a laser beam is irradiated from below a glass plate or a glass ribbon, the upper direction of a bubble will become the shadow of a laser beam easily. In the case where the movement of the bubbles is not the main purpose or when the glass around the bubbles can be sufficiently heated by a high-intensity laser beam, the laser beam may be irradiated from below the glass plate or the glass ribbon.

거품을 레이저 광선으로 조사할 때, 거품의 크기나 형상에 따라 조사면의 크기나 형상을 조정하는 것이 바람직하다. 거품은 유리판이나 유리 리본 내부에 있기 때문에, 레이저 광선의 조사면의 크기나 형상은 거품을 유리판이나 유리 리본의 표면(레이저 광선 진입측 표면)에 투영한 것의 크기나 형상에 따라 조정하는 것이 바람직하다. 유리판 표면이나 유리 리본 표면에 있어서의 레이저 광선의 최대 직경 D는 하기 수학식을 만족하는 것이 바람직하다.When irradiating a bubble with a laser beam, it is preferable to adjust the size or shape of an irradiation surface according to the size and shape of a bubble. Since the bubbles are inside the glass plate or the glass ribbon, it is preferable to adjust the size and shape of the irradiation surface of the laser beam according to the size or shape of the projection of the bubble onto the surface of the glass plate or the glass ribbon (surface of the laser beam entry side). . It is preferable that the largest diameter D of the laser beam in a glass plate surface or a glass ribbon surface satisfy | fills following formula.

Figure 112010029372468-pct00005
Figure 112010029372468-pct00005

보다 바람직하게는, d2≤D≤2d1 More preferably, d 2 ≤ D ≤ 2d 1

본 발명의 제조 방법에 따르면, 본 발명에 의해 얻어지는 유리판(레이저 광선의 조사 후의 유리 리본으로부터 잘라내어진 유리판도 의미함) 내에 존재하는 거품의 최대 직경을 원하는 크기 이하로 축소시킬 수 있다. 디스플레이 기판으로서 사용되는 유리판의 경우, 레이저 광선 조사 후의 거품의 최대 직경은 350㎛ 미만으로 축소되는 것이 바람직하고, 200㎛ 미만으로 축소되는 것이 보다 바람직하고, 100㎛ 미만으로 축소되는 것이 더욱 바람직하다. 보다 고정세한 표시 장치 및 퍼스널 컴퓨터용 모니터용 유리판의 경우에는, 허용할 수 있는 거품이 상기의 더욱 바람직한 범위로 되는 것이 바람직하다. 포토마스크로서 사용되는 유리판의 경우, 내부에 존재하는 거품의 최대 직경은 50㎛ 이하로 축소되는 것이 바람직하고, 20㎛ 이하로 축소되는 것이 보다 바람직하다.According to the manufacturing method of this invention, the largest diameter of the bubble which exists in the glass plate obtained by this invention (it also means the glass plate cut out from the glass ribbon after irradiation of the laser beam) can be reduced to below a desired size. In the case of a glass plate used as a display substrate, the maximum diameter of the bubbles after laser beam irradiation is preferably reduced to less than 350 µm, more preferably less than 200 µm, and even more preferably less than 100 µm. In the case of a more precise display apparatus and the glass plate for monitors for personal computers, it is preferable that an allowable foam becomes the said more preferable range. In the case of the glass plate used as a photomask, it is preferable that the largest diameter of the bubble existing inside is reduced to 50 micrometers or less, and more preferably to 20 micrometers or less.

레이저 광선의 조사 전의 유리 내의 거품의 최대 직경은, 제조 방법 및 제조 조건에 따라 상이하지만 액정 디스플레이용 유리 기판의 경우에 150 내지 1000㎛ 정도, 플라즈마 디스플레이용 유리 기판의 경우에 200 내지 1000㎛ 정도이다. 따라서, 디스플레이용 기판에 있어서, 레이저 광선의 조사 전의 거품의 최대 직경에 대한 레이저 광선의 조사 후의 당해 거품의 최대 직경은 60% 이하인 것이 바람직하고, 30% 이하인 것이 보다 바람직하다. 특히, 10% 이하인 것이 바람직하다. 상기와 같이 유리판의 용도에 따라서 요구되는 품질(거품의 크기나 수)이 다른 경우가 있다. 본 발명에서는, 거품의 최대 직경은 이와 같은 요구 품질에 따라서, 레이저 광선의 조사 전의 품질 요구를 만족시키지 않는 거품의 최대 직경으로부터, 품질 요구를 만족시키는 최대 직경으로 축소시킬 수 있고, 또한 거품을 소실시킬 수 있다. 따라서, 또한 거품의 최대값의 축소 비율은, 축소 후의 최대 직경이 품질 요구를 만족시키는 최대 직경으로 되는 한, 상기 축소 비율에 한정되는 것은 아니다.Although the maximum diameter of the bubble in glass before irradiation of a laser beam differs according to a manufacturing method and manufacturing conditions, it is about 150-1000 micrometers in the case of the glass substrate for liquid crystal displays, and about 200-1000 micrometers in the case of the glass substrate for plasma displays. . Therefore, in the display substrate, it is preferable that the maximum diameter of the said bubble after irradiation of the laser beam with respect to the maximum diameter of the bubble before irradiation of a laser beam is 60% or less, and it is more preferable that it is 30% or less. In particular, it is preferable that it is 10% or less. As mentioned above, the quality (size and number of bubbles) required may differ according to the use of a glass plate. In the present invention, the maximum diameter of the foam can be reduced from the maximum diameter of the foam which does not satisfy the quality requirement before the irradiation of the laser beam to the maximum diameter that satisfies the quality requirement, and also the foam disappears according to the required quality. You can. Therefore, the reduction ratio of the maximum value of the foam is not limited to the reduction ratio as long as the maximum diameter after the reduction is such that the maximum diameter satisfies the quality requirements.

또한, 이상의 설명은 1개의 거품에 초점을 맞추어 본 발명을 설명한 것이지만, 본 발명은 유리판(레이저 광선의 조사 후의 유리 리본으로부터 잘라내어진 유리판도 의미함) 내의 거품 모두가 상기 설명의 대상의 거품인 것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 유리판 내의 거품에 따라서는 레이저 광선 조사의 대상으로 되지 않는 것이 있어도 된다. 유리판에 있어서, 어떤 기준(상기 요구 품질 등)을 만족시키는 크기의 거품이 존재하는 경우, 그 거품은 본 발명에 있어서의 레이저 광선 조사의 대상으로 할 필요는 없다. 본 발명에 있어서, 거품을 축소 또는 소실시킨다라 함은, 유리판 전체적으로는, 어떤 기준(상기 요구 품질 등)을 만족시키지 않는 크기의 거품의 수를 감소 또는 소멸시키는 것을 의미한다.In addition, although the above description demonstrated this invention focusing on one bubble, this invention is that all the bubbles in a glass plate (it also means the glass plate cut out from the glass ribbon after irradiation of the laser beam) are the foam of the said description. It is not limited. For example, depending on the bubble in the glass plate, there may be a thing which is not the object of laser beam irradiation. In a glass plate, when there exists a bubble of the magnitude | size which satisfy | fills a certain criterion (the said quality requirements etc.), it is not necessary to make it the object of laser beam irradiation in this invention. In the present invention, reducing or eliminating bubbles means reducing or eliminating the number of bubbles having a size that does not satisfy a certain criterion (such as the required quality or the like) as a whole of the glass plate.

본 발명은, 유리판 제조 공정에 있어서의 유리 리본에 레이저 광선을 조사하여 유리 리본 내의 거품을 축소 또는 소실시키는 판유리의 제조 방법인 것이 바람직하다. 상기 온도에 있는 유리 리본에 레이저 광선을 조사하는 제조 방법은, 유리 리본을 냉각하여 절단하여 얻어진 유리판을 그 후 상기 온도로 가열하여 레이저 광선을 조사하는 제조 방법에 비교하여, 열에너지의 이용 효율의 면에서 유리하다. 또한, 일정 속도로 흐르는 유리 리본 내의 거품을 검출하여 레이저 광선을 조사하는 것은, 각각의 판유리 내의 거품을 검출하여 레이저 광선을 조사하는 경우에 비교하여, 유리판의 세팅 등의 조작이 필요없어, 조작적으로 용이하고 또한 효율적이다. 한편, 다품종 소량 제조의 경우에는 각각의 유리판을 가열하여 레이저 광선 조사를 행하는 쪽이 바람직한 경우가 적지 않다.It is preferable that this invention is a manufacturing method of the plate glass which irradiates a laser beam to the glass ribbon in a glass plate manufacturing process, and shrinks or loses the bubble in a glass ribbon. The manufacturing method of irradiating a laser beam to the glass ribbon at the said temperature is compared with the manufacturing method of irradiating a laser beam by heating to the said temperature the glass plate obtained by cooling and cutting a glass ribbon after that, and the aspect of utilization efficiency of thermal energy. Is advantageous in In addition, detecting the bubbles in the glass ribbon flowing at a constant speed and irradiating the laser beam does not require an operation such as setting the glass plate as compared to the case of detecting bubbles in each plate glass and irradiating the laser beam. As easy and efficient as possible. On the other hand, in the case of manufacture of small quantity of many kinds, it is not preferable that heating each glass plate and irradiating a laser beam is few.

이하, 유리 리본에 레이저 광선을 조사하여 유리 리본 내의 거품을 축소 또는 소실시키는 본 발명의 제조 방법(이하, 유리 리본 조사법이라고도 함)에 대해 더욱 상세하게 설명한다. 하기 설명은, 유리 리본 조사법 특유의 것이 아닌 한, 각각의 유리판을 가열하여 레이저 광선 조사를 행하는 본 발명의 제조 방법의 설명에도 적용할 수 있다.Hereinafter, the manufacturing method (henceforth a glass ribbon irradiation method) of this invention which irradiates a glass ribbon with a laser beam and shrinks or loses the bubble in a glass ribbon is demonstrated in more detail. The following description is applicable also to description of the manufacturing method of this invention which heats each glass plate and irradiates a laser beam, unless it is peculiar to a glass ribbon irradiation method.

유리 리본 조사법에 있어서의 본 발명의 유리판의 제조 방법은, 용융 유리를 유리 리본으로 성형하는 성형 공정과 유리 리본을 냉각하는 냉각 공정과 냉각된 유리 리본을 절단하여 유리판으로 하는 절단 공정을 포함하는 유리판의 제조 방법에 있어서, 유리 리본의 유리의 점도가 107 내지 1014.5dPaㆍs인 온도 영역에 있는 유리 리본 내의 거품에 상기 레이저 광선을 조사하여, 상기 거품을 축소 또는 소실시키는 유리판의 제조 방법이다. 이 방법은, 상기 온도 영역에 있는 유리 리본 내의 거품에 상기 레이저 광선을 조사하는 점을 제외하고, 통상의 유리판의 제조 방법과 특별히 다른 것은 아니다. 통상의 유리판의 제조 방법과 마찬가지로, 상기 성형 공정 전에는, 일반적인 순서로서, 유리 원료를 가열 용해시켜 용융 유리로 하는 용해 공정, 및 용융 유리 내의 거품을 휘발 등에 의해 제거하는 청징 공정을 통상 갖는다.The manufacturing method of the glass plate of this invention in a glass ribbon irradiation method includes the shaping | molding process which shape | molds a molten glass into a glass ribbon, the cooling process which cools a glass ribbon, and the glass plate which cuts the cooled glass ribbon and makes it into a glass plate. in the production method of, and the bubbles in the glass ribbon in a temperature range that the viscosity of the glass of the glass ribbon 10 7 to 10 14.5 dPa · s irradiating the laser beam, a method for manufacturing a glass plate to collapse or disappearance of the bubble . This method is not particularly different from the manufacturing method of a normal glass plate except for irradiating the said laser beam to the bubble in the glass ribbon in the said temperature range. Like the manufacturing method of a normal glass plate, before the said shaping | molding process, as a general procedure, it has a dissolution process which heat-dissolves a glass raw material to make molten glass, and a clarification process which removes the bubble in a molten glass by volatilization etc. normally.

상기 성형 공정에서는, 연화점 이상의 온도에 있는 유동성의 용융 유리를 일정한 두께의 연속된 판 형상(리본 형상)으로 성형하고, 냉각 공정에서는 성형 공정에서 형성된 유리 리본을 일정 속도로 이동시키면서 서냉하여 용융 유리를 유동성이 적은 온도 내지는 연화점 이하의 온도로 하고, 또한 유리 리본의 온도를 그 유리의 왜곡점 이하로 하고, 또한 실온에 가까운 온도까지 서냉하여, 절단 공정에서 각각의 유리판으로 절단한다. 본 발명에서는 이 성형 공정으로부터 냉각 공정에 있어서의 유리 리본의 유리의 점도가 107 내지 1014.5dPaㆍs인 온도 영역에 있어서 레이저 광선을 조사한다. 성형 공정에 있어서의 용융 유리의 성형법은 플로트법, 다운드로우법, 퓨전법 등의 각종 성형 방법을 이용할 수 있다. 이들 성형 방법은, 성형되는 유리 리본에 그의 길이 방향의 인장 응력이 가해짐으로써, 유리 리본 내의 거품은 상기한 대략 타원 형상으로 된다.In the said molding process, the molten glass of fluid which exists at the temperature more than a softening point is shape | molded to continuous plate shape (ribbon shape) of constant thickness, and in a cooling process, the molten glass is cooled slowly by moving the glass ribbon formed in the molding process at a constant speed. The fluidity is set to a temperature lower than the softening point or lower, and the temperature of the glass ribbon is lower than or equal to the strain point of the glass, and further cooled to a temperature close to room temperature, and cut into respective glass plates in the cutting step. In the present invention, a laser beam in a temperature range of 7 to 10, a viscosity of 10 14.5 dPa · s of the glass of the glass ribbon in the cooling process from the molding process. The shaping | molding method of the molten glass in a shaping | molding process can use various shaping | molding methods, such as the float method, the downdraw method, and the fusion method. In these shaping | molding methods, the tensile stress of the longitudinal direction is added to the glass ribbon shape | molded, and the bubble in a glass ribbon becomes said substantially oval shape.

상세하게는 후술하지만, 전술한 바와 같이 소정의 온도 영역에 있는 유리 리본 내의 거품에 레이저 광선을 조사하면, 거품 및 그 근방의 유리가 레이저 광선을 흡수하여 가열된다. 그 결과, 유리 리본 내에 존재하는 거품의 직경이 축소 또는 소실된다. 또한 거품을 유리 리본 내부에서 부상시켜 이동시킬 수도 있다. 이들의 작용에 의해, 디스플레이 기판용 유리판, 특히 플랫 패널 디스플레이 기판용 유리판, 혹은 포토마스크용 유리판으로서의 사용상 문제가 되는 거품이 존재하지 않는 상태로 할 수 있다. 이하, 본 명세서에 있어서, 레이저 광선을 조사함으로써, 유리 리본에 존재하는 거품의 직경이 축소되는 작용을「레이저 광선 조사에 의한 거품 축소 작용」이라 하고, 레이저 광선을 조사함으로써, 유리 리본의 특히 하부 표면 근방에 존재하는 거품을 부상시켜 유리 리본의 내부로 이동시키는 작용을「레이저 광선 조사에 의한 거품 부상 작용」이라 한다.Although mentioned later in detail, as above-mentioned, when a laser beam is irradiated to the bubble in the glass ribbon in a predetermined | prescribed temperature range, the bubble and the glass of its vicinity will absorb and heat a laser beam. As a result, the diameter of the bubbles present in the glass ribbon is reduced or lost. Bubbles can also be floated and moved inside the glass ribbon. By these actions, it can be set as the state in which the foam which becomes a problem in use as a glass plate for display substrates, especially the glass plate for flat panel display substrates, or the glass plate for photomasks does not exist. Hereinafter, in this specification, the effect | action which reduces the diameter of the bubble which exists in a glass ribbon by irradiating a laser beam is called the "foam reduction effect by laser beam irradiation", and especially the lower part of a glass ribbon by irradiating a laser beam The action of floating the bubbles existing near the surface and moving them inside the glass ribbon is referred to as "bubble floating action by laser light irradiation".

도 1에 도시한 거품이 이루는 대략 타원 형상은 성형 방법에 따라서도 상이하지만, 플로트법으로 성형된 유리 리본(10)을 예로 들면, 거품(1)의 최대 직경(긴 직경) d1 및 최소 직경(짧은 직경) d2의 관계는 일반적으로 이하와 같이 된다.Although the substantially elliptic shape formed by the foam shown in FIG. 1 differs depending on the molding method, for example, the glass ribbon 10 molded by the float method may be used, for example, the maximum diameter (long diameter) d 1 and the minimum diameter of the foam 1. relationship (short diameter) d 2 are as follows in general.

d1/d2=1.5 내지 10d 1 / d 2 = 1.5 to 10

이 관계로부터 명백해진 바와 같이, 유리 리본(10)의 내부에 존재하는 거품(1)의 직경에서 문제가 되는 것은, 거품(1)의 최대 직경, 즉 대략 타원 형상을 한 거품(1)의 긴 직경 d1이다. 또한, 퓨전법 혹은 다운드로우법과 같은 다른 성형 방법으로 성형된 유리 리본에 있어서도, 유리 리본의 내부에 존재하는 거품은 성형시에 유리 리본의 길이 방향으로 늘어나 대략 타원 형상으로 되는 경우가 많다.As evident from this relationship, a problem in the diameter of the foam 1 present inside the glass ribbon 10 is that the maximum diameter of the foam 1, that is, the length of the foam 1 having an approximately elliptic shape. Diameter d 1 . Moreover, also in the glass ribbon shape | molded by another shaping | molding method, such as a fusion method or the downdraw method, the foam which exists in the inside of a glass ribbon often extends in the longitudinal direction of a glass ribbon at the time of shaping | molding, and it becomes an almost elliptical shape in many cases.

또한, 퓨전법이나 다운드로우법 등의 성형 방법에 있어서는, 유리 리본은 수평 방향 이외의 방향(통상은 연직 방향)으로 이동시키므로, 상기한 거품의 부상에 의한 거품 파괴나 거품을 표면으로부터 멀어지게 하는 작용은 유효하다고는 할 수 없다. 그러나, 이들 성형 방법에 의해 형성되는 유리 리본 내의 대략 타원 형상의 거품의 긴 직경은 대략 연직 방향에 존재하고 있으므로, 거품의 부력에 더 효과적으로 그 거품의 최대 직경을 축소시킬 수 있다고 생각된다. 이하의 설명에서는, 플로트법 등의, 유리 리본을 수평 방향으로 이동시켜 냉각하는 유리판의 제조 방법에 대해 설명한다.In addition, in a molding method such as a fusion method or a downdraw method, the glass ribbon is moved in a direction other than the horizontal direction (usually a vertical direction), so that the bubble breakage caused by the above-mentioned bubbles rises or the bubble is separated from the surface. Action is not valid. However, since the long diameter of the substantially elliptic bubble in the glass ribbon formed by these molding methods exists in the substantially vertical direction, it is thought that the maximum diameter of the bubble can be reduced more effectively to the buoyancy of the bubble. In the following description, the manufacturing method of the glass plate which cools by moving a glass ribbon in a horizontal direction, such as a float method, is demonstrated.

본 발명의 방법에 있어서, 레이저 광선 조사에 의한 거품 축소 작용의 원리로서 이하의 3가지의 원리를 생각할 수 있다.In the method of this invention, the following three principles can be considered as a principle of the bubble shrinkage | action action by laser beam irradiation.

제1 원리로서, 유리 리본(10)에 존재하는 거품(1)을 향해 레이저 광선을 조사하면, 거품(1) 근방의 유리, 보다 구체적으로는, 거품(1)과의 경계면 부근의 유리가 가열됨으로써, 거품(1)과의 경계면 부근의 유리가 유동성을 갖게 된다. 이때, 거품(1)의 계면에 있어서의 압력이 균일해지도록, 거품(1)의 형상이 대략 타원 형상으로부터 구 형상으로 변화한다. 이 결과, 거품(1)의 형상이 구 형상으로 변화함으로써, 거품(1)의 최대 직경이 대략 타원 형상시에 비해 축소된다.As a first principle, when the laser beam is irradiated toward the bubble 1 present in the glass ribbon 10, the glass near the bubble 1, more specifically, the glass near the interface with the bubble 1 is heated. As a result, the glass near the interface with the foam 1 has fluidity. At this time, the shape of the bubble 1 changes from an approximately elliptical shape to a spherical shape so that the pressure in the interface of the bubble 1 becomes uniform. As a result, since the shape of the bubble 1 changes to spherical shape, the largest diameter of the bubble 1 is reduced compared with the time of substantially ellipse shape.

제2 원리로서, 거품(1)이 유리 리본(10)의 상부 표면(이 경우, 도면 상방으로부터 레이저 광선으로 조사되는 것으로 함) 부근에 존재하는 경우, 거품(1) 근방으로부터 유리 리본(10)의 표면에 걸치는 영역의 유리가 가열되고, 이 영역의 유리가 유동성을 갖게 된다. 이에 의해, 거품(1)이 유리 리본(10)의 표면으로 부상한다. 유리 리본(10)의 표면에 도달한 거품(1)은 거품 파괴되어 소실된다. 즉, 이 원리에서는 유리 리본(10) 내부의 거품(1)은 실질적으로 소실되므로, 유리 리본(10) 내부의 거품(1)의 최대 직경은 0이 된다.As a second principle, when the bubble 1 is present near the upper surface of the glass ribbon 10 (in this case, to be irradiated with a laser beam from above the drawing), the glass ribbon 10 from the vicinity of the bubble 1 The glass of the area | region across the surface of is heated, and the glass of this area will have fluidity. As a result, the bubble 1 floats to the surface of the glass ribbon 10. The foam 1 that has reached the surface of the glass ribbon 10 is broken and lost. That is, in this principle, since the bubble 1 inside the glass ribbon 10 is substantially lost, the maximum diameter of the bubble 1 inside the glass ribbon 10 becomes zero.

제3 원리로서, 거품(1) 근방, 보다 구체적으로는, 거품(1)과의 경계면 부근의 유리가 가열됨으로써, 거품(1)과의 경계면 부근의 유리가 팽창된다. 거품(1)과의 경계면 부근의 유리의 팽창에 의해 거품(1)이 압궤되어 거품(1)의 체적이 감소한다. 이에 의해 거품(1)의 최대 직경이 축소된다. 거품(1) 근방의 유리의 온도가 상승하였을 때, 거품(1)도 팽창하려고 하지만, 기체인 거품(1)의 팽창력은 유리의 팽창력에 비해 훨씬 약하다. 결과적으로 근방의 유리의 팽창에 의해 거품(1)의 체적이 감소되므로, 거품(1)의 최대 직경이 축소된다.As a third principle, the glass in the vicinity of the interface with the foam 1 is expanded by heating the glass near the foam 1, more specifically, in the vicinity of the interface with the foam 1. The expansion of the glass near the interface with the foam 1 causes the foam 1 to crush, resulting in a decrease in the volume of the foam 1. This reduces the maximum diameter of the foam 1. When the temperature of the glass near the bubble 1 rises, the bubble 1 also tries to expand, but the expansion force of the gas bubble 1 is much weaker than that of the glass. As a result, the volume of the foam 1 is reduced by the expansion of the nearby glass, so that the maximum diameter of the foam 1 is reduced.

본 발명의 방법에서는, 상기한 3가지의 원리 중 어느 하나, 또는 이들의 조합에 의해 유리 리본(10)에 존재하는 거품(1)의 최대 직경을 원하는 크기 이하로 축소시킬 수 있다. 전술한 바와 같이, 디스플레이 기판으로서 사용되는 유리 리본(10)의 경우, 레이저 광선 조사 후의 거품(1)의 최대 직경은 350㎛ 미만으로 축소되는 것이 바람직하고, 200㎛ 미만으로 축소되는 것이 보다 바람직하고, 100㎛ 미만으로 축소되는 것이 더욱 바람직하다.In the method of the present invention, by any of the above three principles, or a combination thereof, the maximum diameter of the foam 1 present in the glass ribbon 10 can be reduced to the desired size or less. As described above, in the case of the glass ribbon 10 used as the display substrate, the maximum diameter of the bubble 1 after the laser beam irradiation is preferably reduced to less than 350 µm, more preferably less than 200 µm, More preferably, the shrinkage is less than 100 µm.

보다 고정세한 표시 장치 및 퍼스널 컴퓨터용 모니터용 유리 리본(10)의 경우에는, 허용할 수 있는 거품이 상기한 더욱 바람직한 범위로 되는 것이 바람직하다. 포토마스크로서 사용되는 유리 리본(10)의 경우, 내부에 존재하는 거품(1)의 최대 직경은 50㎛ 이하로 축소되는 것이 바람직하고, 20㎛ 이하로 축소되는 것이 보다 바람직하다.In the case of the higher-definition display device and the glass ribbon 10 for monitors for personal computers, it is preferable that an allowable foam becomes the said more preferable range. In the case of the glass ribbon 10 used as a photomask, it is preferable that the largest diameter of the bubble 1 existing inside is reduced to 50 micrometers or less, and it is more preferable to shrink to 20 micrometers or less.

한편, 레이저 광선 조사에 의한 거품 부상 작용에 대해서는 이하의 원리를 생각할 수 있다.On the other hand, the following principle can be considered about the bubble floating action by laser beam irradiation.

거품(1)이 유리 리본(10)의 하부 표면 부근에 존재하는 경우, 레이저 광선을 유리 리본(10)의 상부 표면측으로부터 조사함으로써, 거품(1) 근방, 특히 거품(1)에 대해 상방의 유리가 가열되어 유동성을 갖게 된다. 이에 의해, 거품(1)이 상방으로 부상하고, 유리 리본(10)의 내부로 이동한다.When the bubble 1 is present near the lower surface of the glass ribbon 10, by irradiating a laser beam from the upper surface side of the glass ribbon 10, it is near the bubble 1, in particular above the bubble 1. The glass is heated to make it fluid. As a result, the bubble 1 floats upward and moves to the inside of the glass ribbon 10.

액정 디스플레이 기판의 경우, 최대 직경이 100㎛ 미만인 거품이어도, 기판 표면에 최대 직경이 80㎛ 이상인 개방 거품이 존재하면, 액정 디스플레이의 기판 표면에 형성되는 배선을 단선해 버린다.In the case of a liquid crystal display board | substrate, even if it is a bubble whose maximum diameter is less than 100 micrometers, if the open bubble which has a maximum diameter of 80 micrometers or more exists in a board | substrate surface, the wiring formed in the board | substrate surface of a liquid crystal display will be disconnected.

따라서, 액정 디스플레이 기판용 유리판은 표면에 최대 직경이 80㎛ 이상인 개구 거품이 존재해서는 안 된다. 게다가, 액정 디스플레이 기판용 유리판은 표면에 존재하는 결점을 제거하기 위해, 표면이 에칭 처리되는 경우가 있고, 제조 단계에는 표면에 개구 거품이 존재하지 않는 경우라도, 표면 부근에 최대 직경이 80㎛ 이상인 거품이 존재하면, 에칭 처리에 의해 유리판의 표면에 최대 직경이 80㎛ 이상인 개구 거품이 발생하는 경우가 있다. 이로 인해, 액정 디스플레이 기판용 유리판은 표면으로부터 깊이 10㎛의 범위에는, 최대 직경이 80㎛ 이상인 거품이 존재해서는 안 된다.Therefore, in the glass plate for liquid crystal display substrates, the opening bubble whose maximum diameter is 80 micrometers or more should not exist. In addition, in order to remove the defect which exists in the surface, the glass plate for liquid crystal display substrates may be etched, and even if an opening bubble does not exist in a surface at the manufacturing stage, the maximum diameter is 80 micrometers or more in the vicinity of a surface. When foam exists, opening bubble of 80 micrometers or more of maximum diameters may generate | occur | produce on the surface of a glass plate by an etching process. For this reason, in the glass plate for liquid crystal display substrates, the bubble whose maximum diameter is 80 micrometers or more should not exist in the range of 10 micrometers from the surface.

본 발명의 방법에서는, 유리 리본의 이면으로부터 깊이 10㎛의 범위에 최대 직경이 80㎛ 이상인 거품이 존재하는 경우라도, 레이저 광선 조사에 의한 거품 부상 작용에 의해 유리 리본의 내부로 거품을 이동시킴으로써, 유리 리본의 이면으로부터 깊이 10㎛의 범위에 최대 직경이 80㎛ 이상인 거품이 존재하지 않는 상태로 할 수 있다. 한편, 유리 리본의 표면으로부터 깊이 10㎛의 범위에 최대 직경이 80㎛ 이상인 거품이 존재하는 경우에 대해서는, 레이저 광선 조사에 의한 거품 축소 작용의 제2 원리에 의해, 거품을 거품 파괴, 소멸시킴으로써, 유리 리본의 표면으로부터 깊이 10㎛의 범위에 최대 직경이 80㎛ 이상인 거품이 존재하지 않는 상태로 할 수 있다.In the method of the present invention, even when a bubble having a maximum diameter of 80 µm or more exists in a range of 10 µm in depth from the rear surface of the glass ribbon, by moving the foam into the glass ribbon by a bubble floating action by laser beam irradiation, The maximum diameter of 80 micrometers or more can be made into the state which does not exist in the range of 10 micrometers in depth from the back surface of a glass ribbon. On the other hand, when a bubble having a maximum diameter of 80 μm or more exists in a range of 10 μm in depth from the surface of the glass ribbon, by bubble breaking and extinguishing the bubble by the second principle of bubble shrinkage by laser beam irradiation, It can be set as the state in which the bubble whose maximum diameter is 80 micrometers or more does not exist in the range of 10 micrometers in depth from the surface of a glass ribbon.

본 발명의 방법에 있어서, 유리 리본에 대한 흡수율이 30% 이상으로 되는 파장 영역의 레이저 광선을 사용하는 이유는, 거품 및 그 근방의 유리가 레이저 광선을 흡수하여, 단시간에 온도 상승시킬 필요가 있기 때문이다. 유리 리본에 대한 레이저 광선의 흡수율은 유리의 조성, 두께, 및 레이저 광선의 파장 영역에 따라 다르기 때문에, 유리 리본의 유리 조성 및 두께에 따라서 사용하는 레이저 광선의 파장 영역을 적절하게 선택할 필요가 있다. 예를 들어, 소다라임계 유리이며 두께가 2㎜인 경우, 파장 360㎚ 이하, 바람직하게는 330㎚ 이하와, 파장 2500㎚ 이상의 2개의 영역에 있어서 레이저 광선에 대한 흡수율은 30% 이상이 된다. 예를 들어, 무알칼리 유리이며 두께가 0.7㎜인 경우, 파장 360㎚ 이하, 바람직하게는 330㎚ 이하와, 파장 2700㎚ 이상의 2개의 영역에 있어서 레이저 광선에 대한 흡수율은 30% 이상이 된다. 또한, 유리 리본의 두께가 증가하면, 동일한 파장에 대한 흡수율은 증가하므로, 상기의 흡수율이 30% 이상으로 되는 파장의 범위는 확대된다. 2700㎚ 이상이면, 소다라임계 유리와 무알칼리 유리를 공용할 수 있으므로 바람직하다.In the method of the present invention, the reason for using the laser beam in the wavelength region in which the absorptivity of the glass ribbon is 30% or more is that the bubble and the glass in the vicinity thereof need to absorb the laser beam and increase the temperature in a short time. Because. Since the absorption rate of a laser beam with respect to a glass ribbon changes with glass composition, thickness, and the wavelength region of a laser beam, it is necessary to suitably select the wavelength region of the laser beam to be used according to the glass composition and thickness of a glass ribbon. For example, when the soda-lime-based glass is 2 mm in thickness, the absorption of the laser beam is 30% or more in two regions having a wavelength of 360 nm or less, preferably 330 nm or less and a wavelength of 2500 nm or more. For example, when alkali-free glass and thickness are 0.7 mm, the absorption rate with respect to a laser beam will be 30% or more in two areas of wavelength 360 nm or less, Preferably it is 330 nm or less and wavelength 2700 nm or more. Moreover, when the thickness of a glass ribbon increases, the absorption rate with respect to the same wavelength increases, and the range of the wavelength by which the said absorption rate becomes 30% or more is expanded. If it is 2700 nm or more, since a soda-lime type glass and an alkali free glass can be shared, it is preferable.

본 발명의 방법에 있어서는, 레이저 광선의 파장의 상기 2개의 영역 중 낮은 쪽의 영역에서의 하한값은, 레이저의 취급을 고려하면, X선의 범위가 아니며 10㎚ 이상이 바람직하고, 100㎚ 이상이 보다 바람직하고, 150㎚ 이상이 더욱 바람직하다.In the method of the present invention, the lower limit in the lower region of the above two regions of the wavelength of the laser beam is not in the range of X-rays, preferably 10 nm or more, more preferably 100 nm or more, in consideration of handling of the laser. Preferably, 150 nm or more is more preferable.

또한, 본 발명의 방법에 있어서는, 레이저 광선의 파장의 상기 2개의 영역 중 높은 쪽의 영역에서의 상한값은, CO2 레이저의 파장인 10600㎚가 바람직하다.In the method of the present invention, the upper limit in the higher region of the two regions of the wavelength of the laser beam is preferably 10600 nm, which is the wavelength of the CO 2 laser.

본 발명의 방법에서는, 이동하는 유리 리본에 레이저 광선을 조사하는 것을 고려하면 단시간에 온도를 높이기 위해, 유리 리본에 대한 흡수율이 50% 이상으로 되는 파장 영역의 레이저 광선을 사용하는 것이 바람직하다.In the method of this invention, in consideration of irradiating a laser beam to a moving glass ribbon, in order to raise temperature in a short time, it is preferable to use the laser beam of the wavelength range whose absorption rate with respect to a glass ribbon becomes 50% or more.

레이저 광선이 조사되는 유리의 왜곡점 및 연화점은 유리의 조성에 따라 다르기 때문에, 유리 조성에 따라서 레이저 광선을 조사하는 온도 영역을 적절하게 선택할 필요가 있다. 구체적으로는, 예를 들어 어떤 소다라임 유리에서는 왜곡점 및 연화점이 각각 510℃ 및 729℃이다. 어떤 플라즈마 디스플레이 기판용 유리에서는 왜곡점 및 연화점이 각각 570℃ 및 830℃이다. 어떤 무알칼리 유리에서는 왜곡점 및 연화점이 각각 670℃ 및 950℃이다. 이들 온도는 각 대상 유리의 유리 조성의 차이에 의해 당연히 변동한다. 본 발명에 있어서의 유리로서는, 왜곡점이 450 내지 750℃, 연화점이 650 내지 1100℃로, 양자의 차가 150℃ 이상인 유리가 바람직하다. 특히, 왜곡점이 500 내지 700℃, 연화점이 700 내지 1000℃로, 양자의 차가 200 내지 350℃인 유리가 바람직하다.Since the strain point and the softening point of the glass to which the laser beam is irradiated vary depending on the composition of the glass, it is necessary to appropriately select a temperature region for irradiating the laser beam according to the glass composition. Specifically, in some soda-lime glass, a strain point and a softening point are 510 degreeC and 729 degreeC, respectively. In some glass for plasma display substrates, the strain point and the softening point are 570 ° C and 830 ° C, respectively. In some alkali free glass, the strain point and softening point are 670 ° C and 950 ° C, respectively. These temperatures fluctuate naturally by the difference in the glass composition of each object glass. As glass in this invention, glass with a strain point of 450-750 degreeC and a softening point of 650-1100 degreeC, and the difference of both is 150 degreeC or more is preferable. In particular, glass with a strain point of 500 to 700 ° C and a softening point of 700 to 1000 ° C and a difference between them is 200 to 350 ° C.

본 발명의 방법에서는, 유리의 점도가 107dPaㆍs로 되는 온도 이하의 온도 영역에서 유리 리본에 레이저 광선을 조사하므로, 실질적으로 유동성을 갖지 않는 상태의 유리 내에 존재하는 거품을 향해 레이저 광선을 조사하게 된다. 이는, 유리 리본 내에 존재하는 거품을 향해 레이저 광선을 조사하는 조작을 행하는 데 있어서 중요하다.In the method of the present invention, since the laser beam is irradiated to the glass ribbon in a temperature range below the temperature at which the viscosity of the glass becomes 10 7 dPa · s, the laser beam is directed toward the bubbles present in the glass in a substantially non-flowable state. I will investigate. This is important in performing the operation of irradiating a laser beam toward the bubbles present in the glass ribbon.

냉각 공정에서는, 유리 리본으로 성형된 유리는 서냉 가마로 반송되고, 상기 서냉 가마 내에서 이동하면서 서냉된다. 따라서, 본 발명의 방법에서는, 유리 리본 내에 존재하는 거품에 레이저 광선을 조사하는 경우, 서냉 가마로 이동하는 도중의 유리 리본 내의 거품을 향해, 또는 서냉 가마 내에서 이동하는 유리 리본 내의 거품을 향해 레이저 광선을 조사하게 된다. 즉, 유리 리본 내의 거품을 향해 레이저 광선을 조사하기 위해서는, 유리 리본의 이동 방향을 따라 레이저 광선을 주사할 필요가 있다. 따라서, 정지한 유리판 내의 거품에 레이저 광선을 조사하는 경우에 비하면, 거품을 향해 레이저 광선을 조사하는 조작이 복잡해진다. 그러나, 가령 유동하고 있는 용융 유리 내의 거품에 레이저 광선을 조사하는 경우와 비교하면, 레이저 광선을 조사하는 조작은 용이하다. 상류로부터 하류로 일정 방향으로 유동하고 있는 용융 유리의 경우에는, 그 용융 유리의 유동에 부가하여, 용융 유리 내부에서 거품의 위치가 변화함으로써, 거품을 향해 레이저 광선을 조사하는 조작이 더욱 복잡해진다.In a cooling process, the glass shape | molded by the glass ribbon is conveyed to a slow cooling kiln, and is cooled slowly, moving in the said slow cooling kiln. Therefore, in the method of this invention, when irradiating a laser beam to the bubble which exists in a glass ribbon, it lasers toward the bubble in the glass ribbon on the way to the slow cooling kiln, or toward the bubble in the glass ribbon moving in the slow cooling kiln. The beam is irradiated. That is, in order to irradiate a laser beam toward the bubble in a glass ribbon, it is necessary to scan a laser beam along the moving direction of a glass ribbon. Therefore, compared with the case where a laser beam is irradiated to the bubble in the stopped glass plate, the operation which irradiates a laser beam toward a bubble becomes complicated. However, compared with the case where the bubble in the molten glass which flows is irradiated with a laser beam, operation to irradiate a laser beam is easy. In the case of the molten glass which flows in a fixed direction from the upstream to the downstream, in addition to the flow of the molten glass, the operation of irradiating a laser beam toward the bubble becomes more complicated because the position of the bubble changes inside the molten glass.

한편, 본 발명의 방법에서는, 유리의 점도가 107dPaㆍs로 되는 온도 이하의 온도 영역에서 레이저 광선을 조사하므로, 실질적으로 유동성을 갖지 않는 상태의 유리 리본 내의 거품을 향해 레이저 광선을 조사하게 되고, 유리 리본의 이동 방향을 따라 레이저 광선을 주사할 필요는 있지만, 유리 리본 내부에 있어서의 거품의 위치의 변화를 고려할 필요가 없어, 거품을 향해 레이저 광선을 조사하는 조작이 비교적 용이하다.On the other hand, in the method of the present invention, since the laser beam is irradiated in a temperature range below the temperature at which the viscosity of the glass becomes 10 7 dPa · s, the laser beam is irradiated toward the bubbles in the glass ribbon in a substantially non-flowable state. In addition, although it is necessary to scan a laser beam along the moving direction of a glass ribbon, it is not necessary to consider the change of the position of the bubble in the inside of a glass ribbon, and the operation which irradiates a laser beam toward a bubble is comparatively easy.

또한, 용융 유리 내의 거품에 레이저 광선을 조사한 경우에는, 레이저 광선 조사에 의한 거품 축소 작용이 발휘되었다고 해도, 그 용융 유리를 유리 리본으로 성형할 때에 거품이 유리 리본의 길이 방향으로 늘어나 대략 타원 형상으로 될 우려가 크다. 이로 인해, 일단 축소된 거품의 최대 직경이 성형에 의해 확대되어, 요구 품질을 만족시키지 않게 될 우려가 있다.In addition, when irradiating a laser beam to the bubble in a molten glass, even if the bubble reduction effect | action by a laser beam irradiation is exhibited, when shape | molding the molten glass with a glass ribbon, a bubble will expand in the longitudinal direction of a glass ribbon, and will be in substantially ellipse shape. There is a big concern. For this reason, there exists a possibility that the largest diameter of the bubble once contracted may expand by shaping | molding, and it may not satisfy a required quality.

본 발명의 방법에서는 용융 유리를 성형한 후의 실질적으로 유동성이 없는 상태의 유리 리본에 레이저 광선을 조사하기 때문에, 그와 같은 우려는 발생하지 않는다.In the method of this invention, since a laser beam is irradiated to the glass ribbon of the substantially non-flowable state after shape | molding a molten glass, such a concern does not arise.

거품은 유리 리본 내부에 존재한다는 점에서, 본 발명의 방법에 있어서는, 유리 리본의 두께 방향에 있어서의 거품의 위치를 고려하여, 레이저 광선을 거품에 집광시킬 필요가 있다. 그러나, 유리 리본의 두께는 제품의 유리판의 두께와 대략 동일한 두께를 갖고, 비교적 얇으므로, 두께 방향에 있어서의 거품의 위치를 고려하여 레이저 광선을 거품에 집광시키는 조작이 용이하다. 제품의 유리판의 두께는 그 용도에 따라 다양하지만, 통상은 0.05 내지 25㎜, 바람직하게는 0.1 내지 25㎜이다. 따라서, 본 발명의 방법에 있어서의 레이저 광선 조사 위치에 있어서의 유리 리본의 두께는 그 위치의 온도에 의해 제품 유리판의 두께와 다소 다르지만, 0.05 내지 25㎜인 것, 또한 0.1 내지 25㎜인 것이 바람직하다. 대부분의 제품 유리판의 두께는 0.1 내지 10㎜이므로, 레이저 광선 조사 위치에 있어서의 유리 리본의 두께는 0.1 내지 10㎜인 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 디스플레이 기판용 유리판의 두께는 통상 0.1 내지 6㎜이므로, 그것을 제조하는 경우의, 레이저 광선 조사 위치에 있어서의 유리 리본의 두께는 0.1 내지 6㎜인 것이 바람직하다.Since the bubble exists inside the glass ribbon, in the method of the present invention, it is necessary to focus the laser beam on the bubble in consideration of the position of the bubble in the thickness direction of the glass ribbon. However, since the thickness of a glass ribbon has the thickness substantially the same as the thickness of the glass plate of a product, and it is comparatively thin, the operation which condenses a laser beam into a bubble in consideration of the position of a bubble in the thickness direction is easy. Although the thickness of the glass plate of an article varies with the use, it is usually 0.05-25 mm, Preferably it is 0.1-25 mm. Therefore, although the thickness of the glass ribbon in the laser beam irradiation position in the method of this invention is a little different from the thickness of the product glass plate by the temperature of the position, it is preferable that it is 0.05-25 mm, and also it is 0.1-25 mm. Do. Since the thickness of most product glass plates is 0.1-10 mm, it is more preferable that the thickness of the glass ribbon in a laser beam irradiation position is 0.1-10 mm. For example, since the thickness of the glass plate for display substrates is 0.1-6 mm normally, it is preferable that the thickness of the glass ribbon in the laser beam irradiation position at the time of manufacturing it is 0.1-6 mm.

본 발명의 방법에서는, 유리 리본(10)의 내부에 존재하는 거품(1)을 향해 조사하는 레이저 광선의 직경, 구체적으로는 유리 리본(10)의 표면(조사면)에 있어서의 레이저 광선의 최대 직경 D가 하기 수학식 1을 만족하는 것이 바람직하다.In the method of this invention, the diameter of the laser beam irradiated toward the bubble 1 which exists in the inside of the glass ribbon 10, specifically, the maximum of the laser beam in the surface (irradiation surface) of the glass ribbon 10. It is preferable that diameter D satisfies following formula (1).

Figure 112010029372468-pct00006
Figure 112010029372468-pct00006

보다 바람직하게는, d2≤D≤2d1 More preferably, d 2 ≤ D ≤ 2d 1

유리 리본(10)의 표면에 있어서의 레이저 광선의 최대 직경 D가 상기 수학식을 만족하는 레이저 광선을 조사함으로써, 거품(1) 및 그 근방의 유리가 레이저 광선을 흡수하고, 레이저 광선 조사에 의한 거품 축소 작용, 또는 레이저 광선 조사에 의한 거품 부상 작용이 바람직하게 발휘된다.When the maximum diameter D of the laser beam in the surface of the glass ribbon 10 irradiates the laser beam which satisfy | fills the said Formula, the bubble 1 and the glass of its vicinity absorb a laser beam, and are irradiated by laser beam irradiation The bubble shrinking action or the bubble floating action by laser beam irradiation is preferably exhibited.

유리 리본(10)의 표면에 있어서의 레이저 광선의 최대 직경 D는 하기 수학식 2를 만족하는 것이 보다 바람직하다.As for the largest diameter D of the laser beam in the surface of the glass ribbon 10, it is more preferable to satisfy following formula (2).

Figure 112010029372468-pct00007
Figure 112010029372468-pct00007

본 발명의 방법에서는, 유리 리본(10)의 표면(조사면)에 있어서의 레이저 광선의 중심축과, 거품을 유리 리본(10)의 표면(조사면)의 법선 방향으로 투영한 형상의 중심축과의 거리 E가 하기 수학식 3을 만족하는 것이 바람직하다.In the method of this invention, the central axis of the laser beam in the surface (irradiation surface) of the glass ribbon 10, and the central axis of the shape which projected the bubble in the normal direction of the surface (irradiation surface) of the glass ribbon 10 It is preferable that the distance E to satisfy the following expression (3).

Figure 112010029372468-pct00008
Figure 112010029372468-pct00008

레이저 광선과, 유리 리본에 존재하는 거품이 상기 수학식으로 나타내어지는 관계를 만족하고 있으면, 거품(1) 및 그 근방의 유리가 레이저 광선을 흡수하고, 레이저 광선 조사에 의한 거품 축소 작용, 또는 레이저 광선 조사에 의한 거품 부상 작용이 바람직하게 발휘된다.If the laser beam and the bubble present in the glass ribbon satisfy the relationship represented by the above equation, the bubble 1 and the glass in the vicinity thereof absorb the laser beam, and the bubble shrinkage action by the laser beam irradiation or the laser The bubble floating action by light irradiation is preferably exhibited.

본 발명의 방법에서 사용하는 레이저 광선은, 유리 리본에 대한 흡수율이 30% 이상으로 되는 파장 영역의 레이저 광선인 한 특별히 한정되지 않는다. 레이저 광원으로서는, CO2 레이저, YAG 레이저, 엑시머 레이저, 및 YVO4 레이저와 같은 공지의 레이저 광원을 사용할 수 있다. 이들의 레이저 광원은 단독으로 사용해도 되고, 복수의 레이저 광원을 조합하여 사용해도 된다. 단, 일반적으로 널리 사용되고 있고, 또한 고강도의 광원을 얻을 수 있으므로, CO2 레이저, YAG 레이저, 또는 엑시머 레이저가 바람직하다.The laser beam used by the method of this invention is not specifically limited as long as it is a laser beam of the wavelength range in which the absorption rate with respect to a glass ribbon becomes 30% or more. As the laser light source, a known laser light source such as a CO 2 laser, a YAG laser, an excimer laser, and a YVO 4 laser can be used. These laser light sources may be used alone or in combination of a plurality of laser light sources. However, since it is generally used widely and a high intensity light source can be obtained, a CO 2 laser, a YAG laser, or an excimer laser is preferable.

CO2 레이저에서는, 발진 파장 10600㎚의 광선이 가장 일반적이다. 이 파장 영역의 광선은, 유리 리본의 두께에 의하지 않고, 거의 모든 유리 조성의 유리 리본에 대해 흡수율이 90% 이상이 된다.In CO 2 lasers, light rays with an oscillation wavelength of 10600 nm are most common. The light ray of this wavelength range becomes 90% or more with respect to the glass ribbon of almost all glass compositions, regardless of the thickness of a glass ribbon.

엑시머 레이저에서는, 발진 파장 157, 193, 248, 308, 351㎚의 광선이 일반적이다. 이 파장 영역이면, 유리 리본의 두께에 따라서 흡수율이 변화하지만, 거의 모든 유리 조성의 상기한 두께의 유리 리본에 대해 흡수율이 30% 이상이 된다.In the excimer laser, light rays having oscillation wavelengths of 157, 193, 248, 308, and 351 nm are common. If it is this wavelength range, although water absorption will change according to the thickness of a glass ribbon, water absorption will be 30% or more with respect to the glass ribbon of the said thickness of almost all glass compositions.

한편, YAG 레이저에서는, 기본 파장인 1064㎚의 광선을 제외한, 그의 고조파인 355㎚ 및 266㎚의 광선을 사용할 수 있다. YVO4 레이저에 대해서도, 마찬가지로 고조파의 광선을 사용함으로써, 흡수율이 30% 이상이 된다.On the other hand, in the YAG laser, 355 nm and 266 nm light which are its harmonics can be used except the 1064 nm light which is a fundamental wavelength. Similarly with respect to the YVO 4 laser, the absorbance becomes 30% or more by using harmonic light rays.

단, 발진 파장과 유리 리본의 조성과의 관계에 따라서는, 유리 리본에 대한 흡수율이 낮고, 30% 미만이 되는 경우도 있다. 따라서, 유리 리본에 대한 흡수율이 30% 이상으로 되도록, 유리 리본의 조성에 따라서 레이저광의 발진 파장을 적절하게 선택할 필요가 있다.However, depending on the relationship between the oscillation wavelength and the composition of the glass ribbon, the absorptance with respect to the glass ribbon is low and may be less than 30%. Therefore, it is necessary to select the oscillation wavelength of a laser beam suitably according to the composition of a glass ribbon so that the absorption rate with respect to a glass ribbon may be 30% or more.

본 발명의 방법에서 사용하는 레이저 광원의 강도는 유리 리본에 존재하는 거품의 크기, 유리 리본의 두께, 유리 리본의 조성, 사용하는 레이저 광원의 종류(발진 파장, 발진 형태 등) 등에 따라서 적절하게 선택할 수 있지만, 레이저 광선의 조사에 의해 의도한 효과를 발휘하기 위해서는, 광원의 강도는 높은 쪽이 바람직하다.The intensity of the laser light source used in the method of the present invention may be appropriately selected depending on the size of bubbles present in the glass ribbon, the thickness of the glass ribbon, the composition of the glass ribbon, the type of laser light source used (oscillation wavelength, oscillation form, etc.), and the like. However, in order to exert the intended effect by irradiation of a laser beam, it is preferable that the intensity of a light source is higher.

단, 극단적으로 고강도의 광원을 사용한 경우, 유리의 변질이나 증발이 발생할 우려나, 유리 리본 표면에 융기 형상이 발생할 우려나, 유리 리본 내부에 국소적인 잔류 응력 혹은 복굴절성이 발생할 우려가 있다.However, when an extremely high intensity light source is used, there is a fear that deterioration or evaporation of the glass may occur, a raised shape may occur on the surface of the glass ribbon, or local residual stress or birefringence may occur within the glass ribbon.

이로 인해, 레이저 광원은 평균 출력이 0.1 내지 100W인 레이저 광원을 사용하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5 내지 50W이며, 1 내지 30W인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 광원의 강도의 적합한 범위는 사용하는 레이저 광원의 종류에 따라서도 상이하다. 예를 들어, CO2 레이저의 경우, 거의 모든 유리 조성의 유리 리본에 대해 흡수율이 높기 때문에, 평균 출력이 0.1 내지 50W인 레이저 광원을 사용하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5 내지 30W이며, 1 내지 20W인 것이 더욱 바람직하다. 한편, YAG 레이저 또는 YVO4 레이저의 경우, 발진 파장과 유리 리본의 조성과의 관계에 따라서는, 유리 리본에 대한 흡수율이 낮아지므로, 평균 출력이 1 내지 100W인 레이저 광원을 사용하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2 내지 50W이며, 5 내지 30W인 것이 더욱 바람직하다.For this reason, it is preferable to use the laser light source whose average power is 0.1-100W, More preferably, it is 0.5-50W, It is further more preferable that it is 1-30W. In addition, the suitable range of the intensity | strength of a light source changes also with kinds of the laser light source to be used. For example, in the case of a CO 2 laser, since the absorption is high for almost all glass ribbons of glass composition, it is preferable to use a laser light source having an average power of 0.1 to 50 W, more preferably 0.5 to 30 W, 1 More preferably, it is 20W. On the other hand, in the case of a YAG laser or a YVO 4 laser, depending on the relationship between the oscillation wavelength and the composition of the glass ribbon, the absorptivity to the glass ribbon is lowered. Therefore, it is preferable to use a laser light source having an average output of 1 to 100 W, More preferably, it is 2-50W, It is still more preferable that it is 5-30W.

레이저 광원의 발진 형태도 특별히 한정되지 않고, 연속 발진광(CW광) 또는 펄스 발진광 중 어느 것이어도 된다. 또한, 연속광의 레이저 광원을 사용하는 경우, 유리 리본의 레이저 광선을 조사한 부위의 온도가 과도하게 상승하는 것을 방지하기 위해, 예를 들어 0.1초 조사한 후, 0.05초 조사를 정지하는 등의 조사 사이클로 레이저 광선을 단속적으로 조사해도 된다.The oscillation form of the laser light source is not particularly limited, either, continuous oscillation light (CW light) or pulse oscillation light may be used. In addition, when using the laser light source of continuous light, in order to prevent the temperature of the site | part which irradiated the laser beam of the glass ribbon to raise excessively, for example, after irradiating for 0.1 second, for example, laser is irradiated by stopping irradiation of 0.05 second etc. You may irradiate light rays intermittently.

레이저 광선의 조사 시간도 거품이 있는 위치나, 크기, 유리 리본의 유리 조성 등에 따라서 적절히 선택할 수 있다.Irradiation time of a laser beam can also be suitably selected according to a position with a bubble, a magnitude | size, the glass composition of a glass ribbon, etc.

일반적으로, 조사 부위, 예를 들어 유리 리본 표면(조사면)에 있어서의 레이저 광선의 형상은 원형이지만, 대략 타원 형상을 한 거품에 맞춘 단면 형상의 레이저 광선을 조사해도 된다. 예를 들어, 조사 부위에 있어서의 레이저 광선의 형상이 타원 형상이 되도록, 타원 형상의 렌즈를 사용하여 레이저 광선을 조사해도 된다. 또한, 다이클로익 미러 등의 광학계를 이용하여, 조사 부위에 있어서의 레이저 광선의 형상이 타원 형상을 이루도록 레이저 광선을 주사해도 된다. 또한, 조사 부위에 있어서의 전체 형상이 타원 형상을 이루도록, 복수의 레이저 광선을 조사해도 된다.Generally, although the shape of the laser beam in an irradiation site | part, for example, a glass ribbon surface (irradiation surface), is circular, you may irradiate the laser beam of the cross-sectional shape which fitted the bubble which made the substantially oval shape. For example, you may irradiate a laser beam using an elliptical lens so that the shape of the laser beam in an irradiation site | part may become an ellipse shape. In addition, you may scan a laser beam using optical systems, such as a dichroic mirror, so that the shape of the laser beam in an irradiation site may form an ellipse shape. In addition, you may irradiate a some laser beam so that the whole shape in an irradiation site may form an ellipse shape.

이들 경우에 있어서도, 유리 리본(10)의 표면에 있어서의 레이저 광선의 최대 직경 D, 및 유리 리본 표면에 있어서의 레이저 광선의 중심축과 거품을 유리 리본 표면의 법선 방향으로 투영한 형상의 중심축과의 거리 E가, 상기 수학식 1 내지 수학식 3을 만족시키도록 레이저 광선을 조사하는 것이 바람직하다. 여기서, 레이저 광선의 최대 직경 D 및 거리 E는 타원 형상을 이루는 레이저 광선의 최대 직경, 및 타원 형상을 이루는 레이저 광선의 중심축과 거품을 유리 리본 표면의 법선 방향으로 투영한 형상의 중심축과의 거리로 해석한다.Also in these cases, the largest axis | shaft D of the laser beam in the surface of the glass ribbon 10, and the center axis of the shape which projected the central axis and the bubble of the laser beam in the glass ribbon surface in the normal direction of a glass ribbon surface It is preferable to irradiate a laser beam so that the distance E may satisfy the above formulas (1) to (3). Here, the maximum diameter D and the distance E of the laser beam correspond to the maximum diameter of the laser beam forming the ellipse shape, and the central axis of the laser beam forming the ellipse shape and the central axis of the shape in which the bubbles are projected in the normal direction of the glass ribbon surface. Interpret as distance

본 발명의 방법에서는, 유리 리본 내의 거품을 검출하는 순서를 정하고, 상기 순서로 검출된 거품에 레이저 광선을 조사하는 것이 바람직하다. 거품을 검출하는 순서로 유리 리본에 존재하는 거품을 검출하고, 검출한 거품의 크기나 위치 등으로부터 레이저 광선 조사의 필요 여부를 판단하여, 필요하다고 판단된 거품을 향해 레이저 광선을 조사하는 것이 바람직하다. 유리 리본에 존재하는 거품의 크기나 위치를 검출하는 방법으로서는, 예를 들어 카메라로 직접 관찰하는 방법이나, 검사용 레이저 광선을 유리 리본에 조사하여, 유리 리본에 존재하는 거품으로부터의 산란광을 카메라로 검출하는 방법을 들 수 있다. 또한, PIV법이라 불리는 입자의 장소와 속도를 동시에 측정하는 방법도 있어, 유리 리본에 존재하는 거품의 검출에 바람직하게 사용할 수 있다.In the method of this invention, it is preferable to determine the order which detects the bubble in a glass ribbon, and to irradiate a laser beam to the bubble detected in the said order. It is preferable to detect the bubbles present in the glass ribbon in the order of detecting the bubbles, determine whether the laser beam irradiation is necessary from the size or position of the detected bubbles, and irradiate the laser beam toward the bubbles determined to be necessary. . As a method of detecting the size and position of the bubbles present in the glass ribbon, for example, a method of directly observing with a camera or a laser beam for inspection is irradiated to the glass ribbon, and scattered light from the bubbles present in the glass ribbon is transferred to the camera. The method of detection is mentioned. In addition, there is also a method of simultaneously measuring the location and velocity of the particles called the PIV method, which can be suitably used for the detection of bubbles present in the glass ribbon.

<실시예><Examples>

이하, 실시예에 의해 본 발명에 대해 더 설명한다.Hereinafter, the present invention will be further described with reference to Examples.

내부에 거품이 존재하는 유리판을 준비하였다. 유리판은 3㎝×3㎝의 액정 디스플레이용 유리 기판(상품명 AN100, 아사히 글래스 가부시끼가이샤제, 왜곡점 670℃, 연화점 950℃)이며, 두께는 0.7㎜였다. 이 유리판 내에 있는 거품은 대략 타원형을 하고 있고, 최대 직경이 400㎛였다. 이 유리판을 가열로에 넣고, 유리판의 온도를 800℃로 한 후, 이 유리판 내의 거품을 향해 CO2 레이저 광원으로부터 이하의 조건으로 조사하였다.A glass plate having bubbles present therein was prepared. The glass plate was a glass substrate for liquid crystal displays of 3 cm x 3 cm (brand name AN100, the product made by Asahi Glass Co., Ltd., strain point 670 degreeC, softening point 950 degreeC), and thickness was 0.7 mm. The foam in this glass plate was substantially elliptical and the maximum diameter was 400 micrometers. Put a glass plate in a heating furnace, and then the temperature of the glass sheet by 800 ℃, were investigated under the following conditions from the CO 2 laser light source toward the bubble in the glass plate.

광선 형태: 연속 발진광(CW광)Beam form: Continuous oscillation light (CW light)

유리판 표면에 있어서의 광선의 최대 직경: 1.4㎜Maximum diameter of the light beam on the glass plate surface: 1.4 mm

평균 출력: 5WAverage power: 5 W

조사 시간: 10초Survey time: 10 seconds

조사 후의 거품의 최대 직경은 당초의 400㎛로부터 200㎛ 정도로 축소한다. 또한, 유리판 상의 조사 영역의 근방 및 그 주변을 눈으로 확인하면, 유리판 표면의 형상의 변화, 굴절률의 변화 등은 확인할 수 없다.The maximum diameter of the bubble after irradiation is reduced to about 200 µm from the original 400 µm. In addition, when visually confirming the vicinity and the periphery of the irradiation area on a glass plate, the change of the shape of a glass plate surface, the change of a refractive index, etc. cannot be confirmed.

마찬가지로, 최대 직경 300㎛의 거품의 유리를 준비하여(거품의 최대 직경 이외는 상기와 동일한 유리), 광선의 최대 직경 0.5㎜의 레이저를 조사한다(광선의 최대 직경 이외는 상기와 동일한 레이저 조사 조건). 거품의 최대 직경은 당초의 300㎛ 내지 150㎛ 정도로 축소된다. 또한, 유리판 상의 조사 영역의 근방 및 그 주변을 눈으로 확인해도, 유리판 표면의 형상의 변화, 굴절률의 변화 등은 확인되지 않는다.Similarly, a glass of foam having a maximum diameter of 300 µm is prepared (glass same as above except for the maximum diameter of the foam), and a laser having a maximum diameter of 0.5 mm of light is irradiated (a laser irradiation condition similar to the above except for the maximum diameter of the light beam). ). The maximum diameter of the foam is reduced to about 300 to 150 µm originally. In addition, even if the vicinity and the periphery of the irradiation area on a glass plate are visually confirmed, the shape change, the refractive index change, etc. of the glass plate surface are not confirmed.

본 발명을 상세하게 또한 특정의 실시 형태를 참조하여 설명하였지만, 본 발명의 사상과 범위를 일탈하지 않고 다양한 변경이나 수정을 가할 수 있는 것은 당업자에 있어서 명백하다.Although this invention was detailed also demonstrated with reference to the specific embodiment, it is clear for those skilled in the art that various changes and correction can be added without deviating from the mind and range of this invention.

본 출원은, 2007년 11월 8일 출원된 일본 특허 출원 제2007-290652에 기초하는 것이며, 그 내용은 여기에 참조로서 받아들여진다.This application is based on the JP Patent application 2007-290652 of an application on November 8, 2007, The content is taken in here as a reference.

이상, 본 발명의 방법에 대해, 디스플레이 기판용 유리판, 특히 플랫 패널 디스플레이 기판용 유리판이나, 포토마스크용 유리판을 제조한 경우의 이점에 대해 설명하였지만, 이들 이외의 용도의 유리판, 예를 들어 주택, 빌딩 등의 건조물의 창에 사용되는 유리판 또는 자동차, 철도, 항공기, 선박 등 수송 기관의 창에 사용되는 유리판 등을 제조한 경우라도, 유리판 내에 존재하는 거품이 축소되는 것은 시인성이나 외관을 향상시키므로 바람직하다.As mentioned above, although the advantage of the case of manufacturing the glass plate for display substrates, especially the glass plate for flat panel display substrates, and the glass plate for photomasks about the method of this invention was demonstrated, the glass plate of uses other than these, for example, a house, Even when a glass plate used for a window of a building such as a building or a glass plate used for a window of a transport institution such as an automobile, a railroad, an aircraft, a ship, or the like is reduced, it is preferable to reduce the bubbles present in the glass plate because it improves visibility and appearance. Do.

1: 거품
10: 유리판(유리 리본)
1: Foam
10: glass plate (glass ribbon)

Claims (15)

거품을 포함하는 유리판을 그 유리의 점도가 107 내지 1014.5dPaㆍs로 되는 온도로 가열하고, 상기 가열 온도 하에 있어서, 상기 유리판에 대한 흡수율이 30% 이상으로 되는 파장의 레이저 광선을 상기 유리판 내의 거품에 조사하여 상기 거품을 축소 또는 소실시키는 것을 특징으로 하는 유리판의 제조 방법. The glass plate containing foam is heated to a temperature at which the glass has a viscosity of 10 7 to 10 14.5 dPa · s, and under the heating temperature, a laser beam having a wavelength at which an absorption rate to the glass plate is 30% or more is obtained from the glass plate. A method for producing a glass plate, characterized in that the foam is reduced or disappeared by irradiation with the foam inside. 제1항에 있어서, 상기 유리의 점도가 107 내지 1014.5dPaㆍs로 되는 온도가 유리의 왜곡점 이상이면서 연화점 이하의 온도인 유리판의 제조 방법. The method for producing a glass plate according to claim 1, wherein the temperature at which the glass has a viscosity of 10 7 to 10 14.5 dPa · s is higher than or equal to the strain point of the glass and lower than or equal to the softening point. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 유리판의 표면에 있어서의 상기 레이저 광선의 최대 직경 D가 하기 식을 만족하는 유리판의 제조 방법.
d2≤D≤4d1
(식 중, d1 및 d2는 각각 상기 거품을 상기 유리판 표면의 법선 방향으로 투영한 형상에 있어서의 최대 직경 및 최소 직경을 나타냄.)
The manufacturing method of the glass plate of Claim 1 or 2 in which the largest diameter D of the said laser beam in the surface of the said glass plate satisfy | fills a following formula.
d 2 ≤D≤4d 1
(Wherein, d 1 and d 2 represents a maximum diameter and a minimum diameter in the shape respectively projected onto the foam in the direction of the normal of the surface of the glass plate.)
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 레이저 광선의 조사 후에 있어서, 상기 유리판에 존재하는 거품의 최대 직경이 350㎛ 미만인 유리판의 제조 방법. The manufacturing method of the glass plate of Claim 1 or 2 whose maximum diameter of the bubble which exists in the said glass plate after irradiation of the said laser beam is less than 350 micrometers. 용융 유리를 유리 리본으로 성형하는 성형 공정과, 유리 리본을 냉각하는 냉각 공정과, 냉각된 유리 리본을 절단하여 유리판으로 하는 절단 공정을 포함하는 유리판의 제조 방법이며,
유리 리본의 유리의 점도가 107 내지 1014.5dPaㆍs인 온도 영역에 있어서, 유리 리본에 대한 흡수율이 30% 이상으로 되는 파장 영역의 레이저 광선을 유리 리본 내의 거품에 조사하여 상기 거품을 축소 또는 소실시키는 공정을 구비하는 유리판의 제조 방법.
It is a manufacturing method of the glass plate including the shaping | molding process which shape | molds a molten glass with a glass ribbon, the cooling process which cools a glass ribbon, and the cutting process which cuts the cooled glass ribbon and makes it into a glass plate,
In a temperature range in which the glass has a viscosity of 10 7 to 10 14.5 dPa · s, the bubbles in the glass ribbon are irradiated with a laser beam in a wavelength range where the absorption rate to the glass ribbon is 30% or more to reduce or reduce the bubbles. The manufacturing method of the glass plate provided with the process of disappearing.
제5항에 있어서, 상기 유리의 점도가 107 내지 1014.5dPaㆍs인 온도 영역이 유리 리본의 유리의 왜곡점 이상이면서 연화점 이하의 온도 영역인 유리판의 제조 방법. 6. The method of claim 5, wherein the production of the viscosity of the glass 10 7 to 10 14.5 dPa · s in the temperature region of the glass plate while at least the distortion point of the glass of the glass ribbon, the temperature range of the softening point or less. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 유리 리본의 표면에 있어서의 상기 레이저 광선의 최대 직경 D가 하기 식을 만족하는 유리판의 제조 방법.
d2≤D≤4d1
(식 중, d1 및 d2는 각각 상기 거품을 상기 유리 리본 표면의 법선 방향으로 투영한 형상에 있어서의 최대 직경 및 최소 직경을 나타냄.)
The manufacturing method of the glass plate of Claim 5 or 6 in which the largest diameter D of the said laser beam in the surface of the said glass ribbon satisfy | fills the following formula.
d 2 ≤D≤4d 1
(Wherein d 1 and d 2 respectively represent the maximum and minimum diameters in the shape in which the bubbles are projected in the normal direction of the glass ribbon surface.)
제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 유리 리본의 표면에 있어서의 상기 레이저 광선의 최대 직경 D가 하기 식을 만족하는 유리판의 제조 방법.
d1≤D≤2d1
(식 중, d1은 상기 거품을 상기 유리 리본 표면의 법선 방향으로 투영한 형상에 있어서의 최대 직경을 나타냄.)
The manufacturing method of the glass plate of Claim 5 or 6 in which the largest diameter D of the said laser beam in the surface of the said glass ribbon satisfy | fills the following formula.
d 1 ≤D≤2d 1
(Wherein, d 1 represents the maximum diameter of the shape by projecting the bubbles in the normal direction of the glass ribbon surface.)
제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 유리 리본 표면에 있어서의 상기 레이저 광선의 중심축과, 상기 거품을 상기 유리 리본 표면의 법선 방향으로 투영한 형상의 중심축의 거리 E가 하기 식을 만족하는 유리판의 제조 방법.
0≤E≤d2/2
(식 중, d2는 상기 거품을 상기 유리 리본 표면의 법선 방향으로 투영한 형상에 있어서의 최소 직경을 나타냄. 또한, 상기 형상의 중심축과는 상기 형상 내의 어느 점을 지나는 임의의 직교축에 대해, 단면 2차 모멘트가 모두 영(0)으로 되는 축을 나타냄.)
The distance E between the central axis of the laser beam on the glass ribbon surface and the central axis of the shape in which the bubble is projected in the normal direction of the glass ribbon surface satisfies the following equation. Method for producing a glass plate.
0≤E≤d 2/2
(Wherein, d 2 denotes the minimum diameter of the shape by projecting the bubbles in the normal direction of the glass ribbon surface. Further, the central axis of the shape in any of the orthogonal axis through any point in the shape , The axis where the cross-sectional secondary moments are all zero.)
제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 레이저 광선의 파장이 10 내지 360㎚ 혹은 2700 내지 10600㎚인 유리판의 제조 방법. The manufacturing method of the glass plate of Claim 5 or 6 whose wavelength of the said laser beam is 10-360 nm or 2700-10600 nm. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 레이저 광선 조사 위치의 유리 리본의 두께가 0.05 내지 25㎜인 유리판의 제조 방법. The manufacturing method of the glass plate of Claim 5 or 6 whose thickness of the glass ribbon of the said laser beam irradiation position is 0.05-25 mm. 제5항 또는 제6항에 있어서, 유리 리본 내의 거품을 검출하는 순서를 갖고, 상기 순서로 검출된 거품에 레이저 광선을 조사하는 유리판의 제조 방법. The manufacturing method of the glass plate of Claim 5 or 6 which has a procedure which detects the bubble in a glass ribbon, and irradiates a laser beam to the bubble detected by the said order. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 레이저 광선의 조사 후에 있어서, 상기 유리 리본 내의 거품의 최대 직경이 350㎛ 미만인 유리판의 제조 방법. The manufacturing method of the glass plate of Claim 5 or 6 whose maximum diameter of the bubble in the said glass ribbon is less than 350 micrometers after irradiation of the said laser beam. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 레이저 광선의 조사 후에 있어서, 유리 리본의 표면으로부터 깊이 10㎛의 범위 내에 최대 직경 80㎛ 이상의 거품이 실질적으로 존재하지 않는 유리판의 제조 방법. The method for producing a glass plate according to claim 5 or 6, wherein after irradiation of the laser beam, there is substantially no foam having a maximum diameter of 80 µm or more within a range of 10 µm in depth from the surface of the glass ribbon. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 레이저 광선의 광원이 CO2 레이저, YAG 레이저, 엑시머 레이저, 및 YVO4 레이저로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나인 유리판의 제조 방법.The method for producing a glass plate according to claim 5 or 6, wherein the light source of the laser beam is at least one selected from the group consisting of a CO 2 laser, a YAG laser, an excimer laser, and a YVO 4 laser.
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