KR101271123B1 - Gas supply device - Google Patents
Gas supply device Download PDFInfo
- Publication number
- KR101271123B1 KR101271123B1 KR1020110133544A KR20110133544A KR101271123B1 KR 101271123 B1 KR101271123 B1 KR 101271123B1 KR 1020110133544 A KR1020110133544 A KR 1020110133544A KR 20110133544 A KR20110133544 A KR 20110133544A KR 101271123 B1 KR101271123 B1 KR 101271123B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- gas
- supply
- check
- valve
- purge
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
Abstract
Description
본 발명은 가스 공급장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 고압의 리크 체크 가스의 누설여부를 정확하게 감지할 수 있는 가스 공급장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a gas supply device, and more particularly, to a gas supply device capable of accurately detecting whether a leak of high pressure leak check gas is present.
일반적으로 반도체 장치 또는 평판 디스플레이를 제조하는 장치에는 공정에 요구되는 가스를 공급하는 가스 공급장치가 마련되어 있다.In general, a device for manufacturing a semiconductor device or a flat panel display is provided with a gas supply device for supplying a gas required for the process.
통상의 가스 공급장치는 가스의 지속적인 공급을 위하여 복수의 가스용기가 마련되어 있으며, 그 복수의 가스용기 중 하나의 용기에서 인출되는 가스를 공정장치로 공급하다가, 그 사용 중인 가스용기의 가스가 거의 소모된 상태에서 다른 가스용기의 가스가 공급되도록 전환시키고, 가스가 거의 소모된 가스용기를 교체하는 방식을 사용하고 있다.A typical gas supply device is provided with a plurality of gas containers for continuous supply of gas, and supplies gas withdrawn from one of the plurality of gas containers to a processing device, and consumes almost no gas in the gas container being used. In such a state, the gas is switched to supply gas from another gas container, and a gas container that almost consumes gas is replaced.
이때 각 가스용기의 가스를 공정장치로 공급하는 가스배관은 각 가스용기마다 분할되도록 마련되어 있으며, 가스용기의 교체시 그 교체되는 가스용기의 가스배관을 퍼지(purge)하고 배관에 누설이 있는지 검사하는 리크체크를 하게 된다.
At this time, the gas piping for supplying the gas of each gas container to the process equipment is provided to be divided into each gas container. The leak check is performed.
상기 리크체크를 위해 사용하는 리크체크 가스는 통상 헬륨을 사용하며, 가스배관의 누설을 확인할 수 있도록 100bar 정도의 고압으로 공급된다.
The leak check gas used for the leak check typically uses helium, and is supplied at a high pressure of about 100 bar to check leakage of the gas pipe.
선행기술로서 리크 체크가스의 공급을 제어하는 밸브의 이상을 직접 검출하고, 그 밸브의 이상에 따른 문제점과 그 문제점을 해결하기 위한 구성 또는 방법이 기재된 공개특허는 찾을 수 없었으나, 관련된 기술로서 본 발명의 출원인의 등록특허 10-0805249호에는 복수의 가스용기를 사용하며, 퍼지가스의 압력을 검출하는 센서가 부가된 구성이 도시되어 있으며, 이러한 구성에서 발생할 수 있는 문제점에 대하여 설명하면 다음과 같다.
As a prior art, there is no disclosed patent which directly detects an abnormality of a valve for controlling the supply of the leak check gas, and describes a problem caused by the abnormality of the valve and a solution or a method for solving the problem. In Patent No. 10-0805249 of the applicant of the present invention, a configuration using a plurality of gas containers and a sensor for detecting the pressure of the purge gas is illustrated, and the problems that may occur in such a configuration will be described below. .
도 1은 종래 가스 공급장치의 배관 구성도이다.1 is a piping configuration diagram of a conventional gas supply device.
도 1을 참조하면 종래 가스 공급장치의 배관 구성도는, 제1가스용기(11)의 가스를 선택적으로 밸브(V21)를 통해 공정장치(30)로 공급하는 제1가스공급부(21)와, 제2가스용기(12)의 가스를 선택적으로 밸브(V22)를 통해 상기 공정장치(30)로 공급하는 제2가스공급부(22)와, 리크체크가스(L/CHECK)가스를 공급하는 밸브(LV1)와, 퍼지가스(PURGE)를 공급하는 밸브(PV1,PV2) 및 체크밸브(CV1)와, 상기 리크체크가스(L/CHECK) 또는 퍼지가스(PURGE)를 상기 제1가스공급부(21)로 공급하는 체크밸브(CV11) 및 밸브(V11)와, 상기 상기 리크체크가스(L/CHECK) 또는 퍼지가스(PURGE)를 상기 제2가스공급부(22)로 공급하는 체크밸브(CV12) 및 밸브(V12)와, 상기 체크밸브(CV11)의 전단측 압력을 검출하는 압력센서(PS1)와, 상기 체크밸브(CV12)의 전단측 압력을 검출하는 압력센서(PS2)를 포함하여 구성된다.
Referring to FIG. 1, a pipe configuration diagram of a conventional gas supply device includes a first
이하, 상기와 같이 구성되는 종래 가스 공급장치의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.
Hereinafter, the configuration and operation of the conventional gas supply device configured as described above in more detail.
먼저, 제1가스용기(11)가 사용되는 상태에서는 상기 제1가스공급부(21)에 마련된 밸브들이 열린 상태로, 밸브(V21)를 통해 공정장치(30)로 제1가스용기(11)에서 인출된 가스를 공급한다.First, in a state in which the first gas container 11 is used, the valves provided in the first
이때 제2가스공급부(22)에 마련된 밸브들은 닫힌 상태이며, 특히 밸브(V22)가 닫힌 상태로 상기 제1가스공급부(21)를 통해 공급되는 가스가 제2가스공급부(22)측으로 유입되지 않게 한다.
At this time, the valves provided in the second
이와 같은 상태에서 리크체크가스(L/CHECK)를 공급하는 밸브(LV1)는 닫힌 상태이며, 퍼지가스(PURGE)를 공급하는 밸브(PV1,PV2) 또한 닫힌 상태가 된다. 이때 상기 두 압력센서(PS1,PS2)는 지속적으로 압력을 검출하고 있으며, 그 검출된 압력이 기준압력을 초과하는 경우 리크체크가스(L/CHECK) 또는 퍼지가스(PURGE)가 유입되는 것으로 판단한다. 이와 같은 판단은 도면에 도시하지 않았지만 별도의 제어기를 두어 판단하며, 이상의 발생시 알람을 발생시키게 된다.
In this state, the valve LV1 for supplying the leak check gas L / CHECK is in a closed state, and the valves PV1 and PV2 for supplying the purge gas PURGE are also in a closed state. At this time, the two pressure sensors PS1 and PS2 continuously detect the pressure, and when the detected pressure exceeds the reference pressure, it is determined that the leak check gas L / CHECK or the purge gas is introduced. . Although not shown in the figure, such a determination is made by a separate controller, and an alarm is generated when an abnormality occurs.
상기와 같이 제1가스용기(11)의 가스를 사용하여 그 제1가스용기(11)에 충진된 가스가 거의 다 소모된 경우 안정적인 가스의 공급을 위하여 제1가스용기(11)의 가스 공급을 중단하고, 제2가스용기(12)의 가스를 공정장치(30)로 공급하게 된다.
As described above, when the gas filled in the first gas container 11 is almost exhausted by using the gas of the first gas container 11, the gas supply of the first gas container 11 is supplied to supply a stable gas. Then, the gas of the
상기 제2가스용기(12)의 가스가 공정장치(30)로 공급되는 동안 상기 제1가스공급부(21)는 퍼지가스(PURGE)에 의해 퍼지된 후, 밸브(LV1)을 통해 리크체크가스(L/CHECK)가스가 체크밸브(CV11)와 밸브(V11)를 통해 제1가스공급부(21)로 공급되어 제1가스공급부(21) 내의 퍼지가스를 배기하고, 가스배관에 누설되는 부분이 있는지 확인하게 된다.
While the gas of the
이때, 리크체크가스(L/CHECK)는 앞서 설명한 바와 같이 100bar의 고압으로 공급되며, 상기 압력센서(PS1,PS2)의 검출 압력이 1bar를 넘는 경우 제어부측에서 알람을 발생하게 되나, 리크체크 중에는 상기 압력센서(PS1,PS2)의 검출압력을 무시하고 계속 리크체크를 수행하게 된다.
At this time, the leak check gas (L / CHECK) is supplied at a high pressure of 100 bar as described above, if the detected pressure of the pressure sensors (PS1, PS2) exceeds 1 bar will generate an alarm in the controller side, during the leak check It ignores the detection pressure of the pressure sensors PS1 and PS2 and continues leak checking.
이때 상기 제2가스공급부(22)측에 리크체크가스(L/CHECK)를 선택적으로 공급하는 밸브(V12)가 손상된 경우 상기 제1가스공급부(21)로 공급되는 리크체크가스(L/CHECK)가 제2가스공급부(22)측으로 유입될 수 있으며, 이때 리크체크가스(L/CHECK)가 제2가스공급부(22)로 공급됨을 감지할 수 있는 유일한 수단인 압력센서(PS2)의 검출압력은 앞서 설명한 바와 같이 제어부에서 무시되어 알람이 발생되지 않게 된다.
At this time, when the valve V12 for selectively supplying the leak check gas L / CHECK to the second
따라서 하나의 밸브(V12)의 손상에 따라 제1가스공급부(21)의 리크를 체크하기 위한 리크체크가스(L/CHECK)가 제2가스공급부(22)를 통해 공정장치(30)로 공급되거나, 제2가스용기(12)의 가스 사용량이 많아 내부 압력이 낮아진 상태에서, 고압의 리크체크가스(L/CHECK)가 제2가스용기(12)의 내로 유입되어 가스를 사용할 수 없게 되는 상태가 되는 문제점이 있었다.
Therefore, the leak check gas L / CHECK for checking the leak of the first
상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는, 일측 가스공급부의 리크 체크를 위해 공급되는 고압의 리크체크가스가 타측의 가스공급부로 유입되는 것을 감지할 수 있는 가스 공급장치를 제공함에 있다.
The technical problem to be solved by the present invention in consideration of the above problems, to provide a gas supply device that can detect the high-pressure leak check gas supplied for the leak check of one side gas supply unit flows into the other side gas supply unit. have.
상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 발명 가스 공급장치는, 다수의 가스용기를 구비하고, 상기 가스용기의 수와 동수의 가스공급부를 통하여 각 가스용기의 가스를 선택적으로 공정장치에 공급하는 가스 공급장치에 있어서, 상기 다수의 가스공급부 각각에 퍼지가스 또는 리크체크가스를 선택적으로 공급하며, 각각에 압력센서가 마련된 다수의 공급관로를 포함하며, 퍼지 또는 리크 체크가 이루어지는 하나의 가스공급부에 상기 퍼지가스 또는 리크체크가스를 공급하는 공급관로를 제외한 다른 공급관로에 마련된 상기 압력센서를 통해 퍼지가스 또는 리크체크가스가 유입됨을 검출하도록 구성된다.
Gas supply apparatus of the present invention for solving the above problems is provided with a plurality of gas containers, the gas supply for selectively supplying the gas of each gas container to the processing apparatus through the number of gas containers and the same number of gas supply unit An apparatus, comprising: a plurality of supply pipes selectively supplying purge gas or leak check gas to each of the plurality of gas supply parts, each of which includes a plurality of supply pipes provided with a pressure sensor, and wherein the purge or leak check is performed on one gas supply part. It is configured to detect the inflow of purge gas or leak check gas through the pressure sensor provided in the other supply line except the supply line for supplying gas or leak check gas.
본 발명은 일측 가스공급부의 리크 체크가 이루어지는 동안, 리크체크가스가 타측의 가스공급부로 유입되는 경우 압력의 변화를 용이하게 감지하여, 추가적인 문제가 발생하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.The present invention has an effect of easily detecting a change in pressure when the leak check gas flows into the gas supply part of the other side while the leak check of the gas supply part of the one side is performed, thereby preventing an additional problem from occurring.
또한 본 발명은 리크체크가스의 공급로 상에 다수의 밸브를 두어 밸브 손상에 의해 리크체크가스가 공정가스를 공급하는 가스공급부로 유입되는 확률을 줄일 수 있는 효과가 있다.
In addition, the present invention has the effect of reducing the probability that the leak check gas flows into the gas supply unit supplying the process gas by the valve damage by placing a plurality of valves on the supply path of the leak check gas.
도 1은 종래 가스 공급장치의 배관 구성도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 가스 공급장치의 배관 구성도이다.1 is a piping configuration diagram of a conventional gas supply device.
2 is a piping configuration diagram of a gas supply apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 가스 공급장치의 구성과 작용을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
Hereinafter, with reference to the accompanying drawings the configuration and operation of the gas supply apparatus according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 가스 공급장치의 배관 구성도이다.2 is a piping configuration diagram of a gas supply apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 가스 공급장치는, 제1가스용기(11)의 가스를 선택적으로 밸브(V21)를 통해 공정장치(30)로 공급하는 제1가스공급부(21)와, 제2가스용기(12)의 가스를 선택적으로 밸브(V22)를 통해 상기 공정장치(30)로 공급하는 제2가스공급부(22)와, 리크체크가스(L/CHECK)가스를 공급하는 밸브(LV1)와, 퍼지가스(PURGE)를 공급하는 밸브(PV1,PV2) 및 체크밸브(CV1)와, 상기 리크체크가스(L/CHECK) 또는 퍼지가스(PURGE)를 상기 제1가스공급부(21)로 공급하는 제1공급관로(40)와, 상기 리크체크가스(L/CHECK) 또는 퍼지가스(PURGE)를 상기 제2가스공급부(22)로 공급하는 제1공급관로(50)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 2, the gas supply device according to the preferred embodiment of the present invention may include a first
상기 제1공급관로(40)는 상기 리크체크가스(L/CHECK) 또는 퍼지가스(PURGE)를 공급제어하는 제1공급밸브(V41)와, 상기 제1공급밸브(V41)를 통해 공급된 리크체크가스(L/CHECK) 또는 퍼지가스(PURGE)를 제1가스공급부(21)로 공급하는 체크밸브(CV11) 및 밸브(V11)와, 상기 제1공급밸브(V41)와 상기 체크밸브(CV11)의 사이의 압력을 검출하는 압력센서(PS1)를 포함한다.The
상기 제2공급관로(50)는 상기 리크체크가스(L/CHECK) 또는 퍼지가스(PURGE)를 공급제어하는 제2공급밸브(V51)와, 상기 제2공급밸브(V51)를 통해 공급된 리크체크가스(L/CHECK) 또는 퍼지가스(PURGE)를 제2가스공급부(22)로 공급하는 체크밸브(CV12) 및 밸브(V12)와, 상기 제2공급밸브(V51)와 상기 체크밸브(CV12)의 사이의 압력을 검출하는 압력센서(PS2)를 포함한다.
The
이하, 상기와 같이 구성되는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 가스 공급장치의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.
Hereinafter, the configuration and operation of the gas supply device according to a preferred embodiment of the present invention configured as described above in more detail.
이하, 상기와 같이 구성되는 종래 가스 공급장치의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.
Hereinafter, the configuration and operation of the conventional gas supply device configured as described above in more detail.
먼저, 제1가스용기(11)가 사용되는 상태에서는 상기 제1가스공급부(21)에 마련된 밸브들이 열린 상태로, 밸브(V21)를 통해 공정장치(30)로 제1가스용기(11)에서 인출된 가스를 공급한다.First, in a state in which the first gas container 11 is used, the valves provided in the first
이때 제2가스공급부(22)에 마련된 밸브들은 닫힌 상태이며, 특히 밸브(V22)가 닫힌 상태로 상기 제1가스공급부(21)를 통해 공급되는 가스가 제2가스공급부(22)측으로 유입되지 않게 한다.
At this time, the valves provided in the second
이와 같은 상태에서 리크체크가스(L/CHECK)를 공급하는 밸브(LV1)는 닫힌 상태이며, 퍼지가스(PURGE)를 공급하는 밸브(PV1,PV2) 또한 닫힌 상태가 된다. 또한 제1공급관로(40)와 제2공급관로(50)에 각각 마련된 제1공급밸브(V41)와 제2공급밸브(V51)는 모두 닫힌 상태가 되며, 그 제1공급관로(40)와 제2공급관로(50) 각각에서 제1가스공급부(21)와 제2가스공급부(22)와 인접한 밸브(V11,V12)도 닫힌 상태가 된다.In this state, the valve LV1 for supplying the leak check gas L / CHECK is in a closed state, and the valves PV1 and PV2 for supplying the purge gas PURGE are also in a closed state. In addition, the first supply valve (V41) and the second supply valve (V51) respectively provided in the
이때 제1공급관로(40)와 제2공급관로(50)에 각각 마련된 두 압력센서(PS1,PS2)는 지속적으로 압력을 검출하고 있으며, 그 검출된 압력이 1bar 정도의 기준압력을 초과하는 경우 상기 제1공급밸브(V41) 또는 제2공급밸브(V51)가 손상되어 리크체크가스(L/CHECK) 또는 퍼지가스(PURGE)가 유입되는 것으로 판단한다. 이와 같은 판단은 도면에 도시하지 않았지만 별도의 제어기를 두어 판단하며, 이상의 발생시 알람을 발생시키게 된다.
At this time, the two pressure sensors PS1 and PS2 provided in the
상기와 같이 제1가스용기(11)의 가스를 사용하여 그 제1가스용기(11)에 충진된 가스가 거의 다 소모된 경우 안정적인 가스의 공급을 위하여 제1가스용기(11)의 가스 공급을 중단하고, 제2가스용기(12)의 가스를 공정장치(30)로 공급하게 된다.
As described above, when the gas filled in the first gas container 11 is almost exhausted by using the gas of the first gas container 11, the gas supply of the first gas container 11 is supplied to supply a stable gas. Then, the gas of the
상기 제2가스용기(12)의 가스가 공정장치(30)로 공급되는 동안 상기 제1가스공급부(21)는 퍼지가스(PURGE)에 의해 퍼지된 후, 밸브(LV1)을 통해 리크체크가스(L/CHECK)가스가 체크밸브(CV11)와 밸브(V11)를 통해 제1가스공급부(21)로 공급되어 제1가스공급부(21) 내의 퍼지가스를 배기하고, 가스배관에 누설되는 부분이 있는지 확인하게 된다.While the gas of the
이때, 상기 제1가스공급부(21)의 리크 체크를 수행하기 위하여 제1공급관로(40)의 제1공급밸브(V41)는 열린 상태가 되며, 제2공급관로(50)의 제2공급밸브(V51)는 닫힌 상태가 된다. 또한 밸브(V11)는 열린상태이고, 밸브(V12)는 닫힌 상태가 되어 상기 제2공급관로(50)는 리크체크가스(L/CHECK)가 제2가스공급부(22)로 공급되는 것을 이중의 밸브를 사용하여 차단하게 된다.At this time, the first supply valve V41 of the
이와 같은 구성에서 제2공급관로(50)의 압력센서(PS2)에서 검출되는 압력은 기준압력 이하로 유지될 수 있으며, 그 제2공급관로(50)의 제2공급밸브(V51)에 이상이 발생하지 않는 한 그 검출압력이 유지된다.
In such a configuration, the pressure detected by the pressure sensor PS2 of the
만약 상기 제2공급밸브(V51)이 손상된 경우에는 상기 압력센서(PS2)에서 검출되는 압력이 상승하게 되며, 따라서 제2공급밸브(V51)의 손상과 리크체크가스(L/CHECK)가 제2가스공급부(22)측으로 누설될 수 있음을 제어부(도면 미도시)에서 알리게 된다.
If the second supply valve V51 is damaged, the pressure detected by the pressure sensor PS2 is increased, so that the damage of the second supply valve V51 and the leak check gas L / CHECK are second. The controller (not shown) notifies that the
즉, 상기 제1공급관로(40)를 통해 리크체크가스(L/CHECK)가 제1가스공급부(21)측으로 공급될 때, 상기 제2공급밸브(V51)가 닫힌 상태의 제2공급관로(50)로는 리크체크가스(L/CHECK)가 유입되지 않으며 따라서 압력센서(PS2)에서 검출되는 압력은 1bar 이하의 압력이 된다. That is, when the leak check gas L / CHECK is supplied to the first
상기 제1공급관로(40)의 압력센서(PS1)는 리크체크가스(L/CHECK)가 공급됨에 따라 높은 검출압력이 검출되나, 이때 제어부는 리크 체크가 이루어지고 있는 것을 고려하여 알람을 발생하지 않게 된다.
The pressure sensor PS1 of the
따라서 본 발명은 일측 가스공급부에 리크 체크가 이루어지는 동안 타측 가스공급부에 리크체크가스(L/CHECK)가 비정상적으로 유입도는 것을 검출할 수 있게 되어, 가스 공급장치의 신뢰성을 향상시킬 수 있게 되며, 공정불량이 발생하거나, 공정장치(30)에 가스를 공급하고 있는 가스용기 내로 리크체크가스(L/CHECK)가 유입되는 것을 방지할 수 있게 된다.
Therefore, the present invention can detect that the leak check gas (L / CHECK) is abnormally introduced into the other gas supply portion while the leak check is made on one side gas supply, it is possible to improve the reliability of the gas supply device, It is possible to prevent the process defect or the inflow of the leak check gas (L / CHECK) into the gas container that supplies the gas to the process device (30).
본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고 본 발명의 기술적 요지를 벗어나지 아니하는 범위 내에서 다양하게 수정, 변형되어 실시될 수 있음은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어서 자명한 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention will be.
11:제1가스용기 12:제2가스용기
21:제1가스공급부 22:제2가스공급부
30:공정장치 40:제1공급관로
50:제2공급관로11: first gas container 12: second gas container
21: first gas supply unit 22: second gas supply unit
30: process equipment 40: first supply line
50: second supply line
Claims (3)
상기 다수의 가스공급부 각각에 퍼지가스와 리크체크가스를 순차적으로 공급하는 다수의 공급관로를 포함하되, 상기 공급관로 각각은 퍼지 또는 리크 체크를 수행할 때에만 열리는 공급밸브와, 상기 공급밸브를 통해 공급된 상기 퍼지가스 또는 리크체크가스를 상기 가스공급부로 공급하는 체크밸브 및 밸브와, 상기 체크밸브와 공급밸브의 사이 압력을 검출하는 압력센서로 구성되어,
퍼지 또는 리크 체크가 이루어지는 하나의 가스공급부에 상기 퍼지가스 또는 리크체크가스를 공급하는 공급관로를 제외한 다른 공급관로에 마련된 상기 압력센서를 통해 퍼지가스 또는 리크체크가스가 유입됨을 검출하도록 구성하여 된 것을 특징으로 하는 가스 공급장치.
In the gas supply device comprising a plurality of gas containers, and selectively supplies the gas of each gas container to the processing apparatus through the number of gas containers and the same number of gas supply unit,
A plurality of supply pipes sequentially supplying purge gas and leak check gas to each of the plurality of gas supply parts, each of the supply pipes being opened only when a purge or leak check is performed, and through the supply valve. A check valve and a valve for supplying the supplied purge gas or the leak check gas to the gas supply unit, and a pressure sensor for detecting a pressure between the check valve and the supply valve,
It is configured to detect the inflow of purge gas or leak check gas through the pressure sensor provided in the other supply line except the supply line for supplying the purge gas or the leak check gas to one gas supply to the purge or leak check Gas supply characterized in that.
퍼지 또는 리크 체크가 수행되는 하나의 가스공급부에 퍼지가스 또는 리크체크가스를 공급하는 공급관로를 제외한 다른 공급관로에 마련된 상기 압력센서에서 검출된 검출압력이 기준압력을 초과하는 경우 퍼지가스 또는 리크체크가스가 유입되는 것으로 판단하여 알람을 발생시키는 제어부를 더 포함하는 가스 공급장치.
The method of claim 1,
Purge gas or leak check when the detected pressure detected by the pressure sensor provided in the other supply line other than the supply line for supplying the purge gas or the leak check gas to one gas supply unit where the purge or leak check is performed exceeds the reference pressure. The gas supply device further comprises a control unit for generating an alarm by determining that the gas is introduced.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110133544A KR101271123B1 (en) | 2011-12-13 | 2011-12-13 | Gas supply device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110133544A KR101271123B1 (en) | 2011-12-13 | 2011-12-13 | Gas supply device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR101271123B1 true KR101271123B1 (en) | 2013-06-04 |
Family
ID=48866189
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020110133544A KR101271123B1 (en) | 2011-12-13 | 2011-12-13 | Gas supply device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101271123B1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150071123A (en) * | 2013-12-18 | 2015-06-26 | 주식회사 케이씨텍 | Gas supply device |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010055278A (en) * | 1999-12-10 | 2001-07-04 | 박종섭 | Gas supply apparatus for fabricating semiconductor |
KR20020087615A (en) * | 2001-05-15 | 2002-11-23 | 삼성전자 주식회사 | Method and apparatus for gas leak of gas bombe cabinet system |
KR20090011847A (en) * | 2007-07-27 | 2009-02-02 | 주식회사 케이씨텍 | Supplier that change gas automatically and method thereof |
-
2011
- 2011-12-13 KR KR1020110133544A patent/KR101271123B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010055278A (en) * | 1999-12-10 | 2001-07-04 | 박종섭 | Gas supply apparatus for fabricating semiconductor |
KR20020087615A (en) * | 2001-05-15 | 2002-11-23 | 삼성전자 주식회사 | Method and apparatus for gas leak of gas bombe cabinet system |
KR20090011847A (en) * | 2007-07-27 | 2009-02-02 | 주식회사 케이씨텍 | Supplier that change gas automatically and method thereof |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150071123A (en) * | 2013-12-18 | 2015-06-26 | 주식회사 케이씨텍 | Gas supply device |
KR102088782B1 (en) | 2013-12-18 | 2020-03-13 | 주식회사 케이씨 | Gas supply device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI500876B (en) | Gas supplying apparatus, cylinder cabinet provided with the same, valve box, and substrate process apparatus | |
US20130000739A1 (en) | Method for precisely and reliably controlling liquid level of pressure tank with multiple sensors | |
KR101963217B1 (en) | A method for checking the leakproofness of safety valves | |
US20070181192A1 (en) | Method and apparatus for monitoring gas flow amount in semiconductor manufacturing equipment | |
KR102108219B1 (en) | Air pressure distributor for fluid supply | |
JP5049199B2 (en) | External pressure detection type leak inspection device and leak inspection method using the same | |
KR101271123B1 (en) | Gas supply device | |
JPWO2010001849A1 (en) | Vacuum processing apparatus and gas supply method | |
KR101552679B1 (en) | Pipe cleaning devices that provides the ability to detect leaks | |
JP2010271094A (en) | Gas leakage inspection device | |
KR101275890B1 (en) | Apparatus for providing a divided gas | |
KR100941424B1 (en) | Gas supplier and method for thereof | |
KR20240005706A (en) | semiconductor processing system | |
KR102088782B1 (en) | Gas supply device | |
JP6658463B2 (en) | Gas tank inspection equipment | |
KR100440750B1 (en) | Valve opening and shutting monitering system | |
KR20070120807A (en) | System and method for controlling gas supplying apparatus | |
KR101145852B1 (en) | Gas supplying device for manufacturing electronic material and method thereof | |
JP2002025918A (en) | Semiconductor manufacturing device | |
KR101497922B1 (en) | Gas Leak Detector | |
CN104913200A (en) | Deionized water leakage detection control device | |
JP7081535B2 (en) | Failure diagnosis method for air clamp device | |
KR100813202B1 (en) | Apparatus for manufacturing flat panel display device and controlling method thereof | |
JP2009130308A (en) | Surface processing apparatus | |
CN104088675A (en) | Monitoring method for vacuum leakage points of steam turbine |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160525 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170419 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190328 Year of fee payment: 7 |