KR101270433B1 - 대면적 기판 처리 장치 - Google Patents

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KR101270433B1
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김성렬
조상우
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주식회사 테스
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Abstract

본 발명은 대면적 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 가스의 배기를 위한 펌핑 포트가 형성된 반응 챔버와, 상기 반응 챔버를 기판이 수용되는 반응 공간과 상기 펌핑 포트와 연통되는 펌핑 공간으로 구획하고, 상기 반응 공간과 상기 펌핑 공간을 연통시키는 복수의 펌핑 슬릿이 제1 방향을 따라 형성된 펌핑 플레이트와, 상기 반응 공간의 상기 펌핑 플레이트에 인접하게 배치되고, 상기 제1 방향으로 상호 이격되어 상기 반응 공간으로 공정 가스를 분사하는 복수의 인젝터 모듈을 갖는 인젝터 어셈블리와, 상기 인젝터 어셈블리를 상기 제1 방향으로 왕복 이동시키는 인젝터 이동 모듈을 포함하며; 상기 인젝터 어셈블리가 상기 제1 방향으로 왕복 이동함에 따라, 상기 복수의 인젝터 모듈 사이의 공간과 상기 복수의 펌핑 슬릿 중 적어도 하나가 연통되어 상기 반응 공간의 가스가 상기 펌핑 슬릿을 통해 상기 펌핑 공간으로 배기되는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 대면적의 기판에 박막을 형성하는 등의 공정을 진행함에 있어, 기판은 고정된 상태에서 인젝터 어셈블리가 수평 이동하여 기판 상에 박막을 형성하게 되어 기판의 대면적화에 따른 반응 챔버의 공간적 제약을 제거할 수 있게 된다.

Description

대면적 기판 처리 장치{LARGE AREA SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}
본 발명은 대면적 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 대면적 기판의 처리가 가능하도록 인젝터 어셈블리의 공정 가스의 분사 구조와, 공정 가스의 배기 구조가 개선된 대면적 기판 처리 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 집적회로장치, 액정표시장치, 태양전지 등과 같은 장치를 제고하기 위한 반도체 제조 공정 중에서, 피처리체인 기판 상에 박막을 형성하는 공정은 플라즈마 강화 화학 기상 증착(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition : PECVD) 장치와 같은 기판 처리 장치에 의해 진행된다. 근래에는 원자층 증착(Atomic Layer Deposition : ALD) 방식이 적용된 기판 처리 장치도 제안되고 있다.
도 1은 한국공개특허 제2011-0110755호에 개시된 종래의 기판 처리 장치(상기 한국공개특허의 '챔버')를 도시한 도면이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 기판 처리 장치는 챔버(10)와, 챔버 본체(10)의 상단을 밀폐시키는 챔버 리드(20)로 구성되며, 그 내부에 기판(P)을 지지하는 기판 지지부(12)가 설치된다.
그리고, 챔버 리드(20)에는 챔버 본체(10) 내부로 공정 가스를 공갑하는 가스 공급관(22)이 설치되고, 가스 공급관(22)의 일 단부에는 가스 공급관(22)을 통해 공급된 가스가 기판(P) 위로 균일하게 분사되도록 복수 개의 가스 분사구(32)가 형성된 샤워 헤드(30)가 설치되고, 챔버 본체(10)의 바닥부 일측에는 반응 후 잔류가스를 개비시키는 배기관(14)이 형성된다.
여기서, 공정 가스를 분사하는 분사 구조로서의 샤워헤드 또는 인젝터(이하, '인젝터'라 함) 구조는 기판 전면에 균일한 가스의 공급을 통한 균일한 박막 형성을 형성하기 위해 매우 중요한 구성으로 인식되고 있으며, 이에 따라 제어 가능하고 균일한 가스 공급을 위한 인젝터 구조에 대한 다양한 연구가 진행되고 있다.
일 예로, 한국공개특허 제2003-0007175호에 개시된 모듈형 인젝터 및 배기 어셈블리는 사이에 하나 또는 그 이상의 배기 채널을 형성하기 위하여 서로 인접하게 이격되어 배치되는 둘 또는 그 이상의 인젝터를 포함하여, 인젝터 어셈블리 측에서 공정 가스의 분사와 배기가 이루어지도록 하고 있다.
이와 관련하여, 기판 처리 장치에서 처리되는 기판이 점차 대형화됨에 따라 기판 처리 장치의 내부 구조 또한 변화되어 가고 있으며, 상기 한국공개특허 제2011-0110755호는, 도 2에 도시된 바와 같이, 복수개의 샤워 헤드(370)를 기판의 상부에 배치시키는 기술을 제안하고 있으나, 복수의 샤워 헤드(370)을 설치하기 위한 구조가 복잡하고, 각각의 샤워 헤드(370)로부터 분사되는 공정 가스를 균일하게 제어하기 어려워 자칫 박막의 균일성을 저해할 수 있다.
이와 같은 문제점을 해소하기 위해, 하나의 인젝터를 사용하고 그 하부에 위치하는 기판을 수평 방향으로 이동시켜 기판 전체에 박막을 형성하는 기술이 제안되고 있으나, 기판의 대형화가 지속됨에 따라 기판을 챔버 내부에서 수평 방향으로 이동시키는데 공간적인 한계에 이르고 있다.
이에, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로써, 기판의 수평 방향으로의 이동에 따른 챔버 내부의 공간적인 제약을 극복하고, 간단한 구조에 의해 인젝터 어셈블리 측에서 공정 가스의 분사와 배기가 함께 이루어질 수 있는 대면적 기판 처리 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적은 본 발명에 따라, 가스의 배기를 위한 펌핑 포트가 형성된 반응 챔버와, 상기 반응 챔버를 기판이 수용되는 반응 공간과 상기 펌핑 포트와 연통되는 펌핑 공간으로 구획하고, 상기 반응 공간과 상기 펌핑 공간을 연통시키는 복수의 펌핑 슬릿이 제1 방향을 따라 형성된 펌핑 플레이트와, 상기 반응 공간의 상기 펌핑 플레이트에 인접하게 배치되고, 상기 제1 방향으로 상호 이격되어 상기 반응 공간으로 공정 가스를 분사하는 복수의 인젝터 모듈을 갖는 인젝터 어셈블리와, 상기 인젝터 어셈블리를 상기 제1 방향으로 왕복 이동시키는 인젝터 이동 모듈을 포함하며; 상기 인젝터 어셈블리가 상기 제1 방향으로 왕복 이동함에 따라, 상기 복수의 인젝터 모듈 사이의 공간과 상기 복수의 펌핑 슬릿 중 적어도 하나가 연통되어 상기 반응 공간의 가스가 상기 펌핑 슬릿을 통해 상기 펌핑 공간으로 배기되는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 처리 장치에 의해서 달성된다.
여기서, 상기 반응 챔버는 상기 반응 공간이 형성된 프로세스 공간부와; 상기 인젝터 이동 모듈이 수용되는 모듈 수용 공간부와; 상기 프로세스 공간부와 상기 모듈 수용 공간부를 구획하고, 상기 인젝터 어셈블리와 상기 인젝터 이동 모듈이 연결된 상태로 상기 인젝터 이동 모듈이 상기 인젝터 어셈블리를 상기 제1 방향으로 왕복 이동시키도록 가이드 통과공이 형성된 구획 플레이트를 포함할 수 있다.
또한, 상기 인젝터 이동 모듈은 볼 스크루 구동 방식, 리니어 모터 구동 방식, 벨트 구동 방식, 와이어 구동 방식 및 랙/피니언 구동 방식 중 어느 하나가 적용되어 상기 인젝터 어셈블리를 상기 제1 방향으로 왕복 이동 시킬 수 있다.
그리고, 상기 각 인젝터 모듈에는 상기 공정 가스를 분사하는 적어도 하나의 분사 슬릿이 형성되며; 상기 인젝터 지지부는 상기 분사 슬릿을 통해 상기 공정 가스가 상기 반응 공간으로 분사되도록 외부로부터 상기 반응 가스를 공급받아 상기 각 인젝터 모듈로 공급할 수 있다.
그리고, 상기 복수의 펌핑 슬릿 중 상기 복수의 인젝터 모듈 사이의 공간과 연통되지 않는 나머지 펌핑 슬릿을 폐쇄하는 슬릿 개폐 모듈을 더 포함할 수 있다.
여기서, 상기 슬릿 개폐 모듈은 상기 인젝터 어셈블리의 상기 제1 방향 양측으로 상기 반응 챔버의 내측 벽 인근에 각각 설치되는 제1 개폐 롤러 및 제2 개폐 롤러와, 일측이 상기 제1 개폐 롤러에 귄취되고 타측이 상기 인젝터 어셈블리에 연결되어, 상기 제1 개폐 롤러와 상기 인젝터 어셈블리 사이에 위치하는 상기 펌핑 슬릿을 폐쇄하는 제1 개폐 부재와, 일측이 상기 제2 개폐 롤러에 권취되고 타측이 상기 인젝터 어셈블리에 연결되어, 상기 제2 개폐 롤러와 상기 인젝터 어셈블리 사이에 위치하는 상기 펌핑 슬릿을 폐쇄하는 제2 개폐 부재를 포함하며; 상기 제1 개폐 부재 및 상기 제2 개폐 부재가 상기 인젝터 어셈블리의 왕복 이동에 대응하여 상기 인젝터 어셈블리와의 사이에서 펴진 상태로 유지되도록 상기 제1 개폐 롤러 및 상기 제2 개폐 롤러가 상기 제1 개폐 부재 및 상기 제2 개폐 부재를 감거나 풀 수 있다.
그리고, 상기 슬릿 개폐 모듈은 상기 제1 개폐 롤러 및 상기 제2 개폐 롤러를 각각 상기 제1 개폐 부재 및 상기 제2 개폐 부재를 감는 방향으로 탄성적으로 회전력을 가하는 제1 탄성부재 및 제2 탄성부재를 더 포함할 수 있다.
상기 구성에 의해 본 발명에 따르면, 대면적의 기판에 박막을 형성하는 등의 공정을 진행함에 있어, 기판은 고정된 상태에서 인젝터 어셈블리가 수평 이동하여 기판 상에 박막을 형성하게 되어 기판의 대면적화에 따른 반응 챔버의 공간적 제약을 제거할 수 있게 된다.
또한, 수평 이동하는 인젝터 어셈블리를 공정 가스를 공급하고, 인젝터 어셈블리를 구성하는 복수의 인젝터 모듈 사이의 공간과 펌핑 플레이트의 펌핑 슬릿을 통해 배기를 위한 펌핑 채널을 형성함으로써, 배기 구조를 보다 간소화시킬 수 있게 된다.
도 1 및 도 2는 종래의 기판 처리 장치의 구성을 도시한 도면이고,
도 3은 본 발명에 따른 대면적 기판 처리 장치의 단면을 개략적으로 도시한 도면이고,
도 4는 본 발명에 따른 대면적 기판 처리 장치의 인젝터 어셈블리 및 인젝터 이동 모듈을 설명하기 위한 도면이고,
도 5는 본 발명에 따른 대면적 기판 처리 장치의 인젝터 어셈블리 및 펌핑 플레이트의 동작 상태를 설명하기 위한 도면이고,
도 6 및 도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 대면적 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면이다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 대해 상세히 설명한다.
본 발명에 따른 대면적 기판 처리 장치는, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 반응 챔버(100), 펌핑 플레이트(10), 인젝터 어셈블리(30) 및 인젝터 이동 모듈(70)을 포함한다.
반응 챔버(100)는 플라즈마 반응과 같이 공정을 수행하기 위한 진공된 밀폐 공간을 형성한다. 여기서, 반응 챔버(100)의 상부에는 반응 챔버(100) 내부의 가스를 배기 시키기 위한 펌핑 포트(140)가 형성된다.
펌핑 플레이트(10)는 반응 챔버(100)의 내부에 설치되어 반응 챔버(100)를 반응 공간(111)과 펌핑 공간(121)으로 구획하여 반응 챔버를 상하 방향으로 펌핑부(120)와 프로세스 공간부(110)로 분리한다. 여기서, 반응 공간(111)은 그 하부에 기판(W)이 안착되는 기판 지지부(50)가 설치되어 기판(W)을 수용하고, 펌핑 공간(121)은 펌핑 포트(140)와 연통된다.
그리고, 펌핑 플레이트(10)에는 반응 공간(111)과 펌핑 공간(121)을 연통시키는 복수의 펌핑 슬릿(11)이 제1 방향을 따라 형성되어 반응 공간(111) 상의 가스가 펌핑 슬릿(11)을 통해 펌핑 공간(121)으로 배기되는데, 이에 대한 상세한 설명은 후술한다.
인젝터 어셈블리(30)는 반응 공간(111)의 펌핑 플레이트(10)에 인접하게 배치되어, 도 3에 도시된 바와 같이, 기판(W)의 상부에 배치된다. 여기서, 본 발명에 따른 인젝터 어셈블리(30)는 펌핑 슬릿(11)이 배열된 방향인 제1 방향으로 상호 이격되어 배치되는 복수의 인젝터 모듈(31,32,33)을 포함한다. 그리고, 각각의 인젝터 모듈(31,32,33)은 반응 공간(111)으로 공정 가스를 분사한다. 여기서, 각각의 인젝터 모듈(31,32,33)에는 공정 가스의 분사를 위한 적어도 하나의 분사 슬릿(31a,32a,33a)이 형성될 수 있다.
여기서, 인젝터 모듈(31,32,33)은, 도 4에 도시된 바와 같이, 인젝터 어셈블리(30)와 연결되어 인젝터 어셈블리(30)를 제1 방향으로 왕복 이동시킨다. 이 때, 인젝터 어셈블리(30)가 제1 방향으로 왕복 이동하게 되면, 복수의 인젝터 모듈(31,32,33) 사이의 공간과, 복수의 펌핑 슬릿(11) 중 적어도 어느 하나가 연통된다.
도 5를 참조하여 보다 구체적으로 설명하면, 도 5의 (a)에 도시된 바와 같이, 인젝터 어셈블리(30)가 제1 방향의 일측에 위치한 상태에서 인젝터 모듈(31,32,33) 사이의 공간 중 적어도 일부가 펌핑 슬릿(11) 중 적어도 하나와 연통된 상태가 된다. 그리고, 인젝터 어셈블리(30)가 인젝터 이동 모듈(70)의 구동에 따라 제1 방향으로 이동하게 되면, 도 5의 (b)에 도시된 바와 같이, 인젝터 모듈(31,32,33) 사이의 공간이 제1 방향으로 순차적으로 배열된 펌핑 슬릿(11)과 순차적으로 연통되어 간다.
상기와 같은 구성에 따라, 반응 챔버(100)의 상부에 형성된 펌핑 포트(140)를 통해 외부의 펌핑 펌프(미도시)가 반응 챔버(100) 내부를 펌핑하게 되면, 반응 공간(111) 내의 가스가 인젝터 모듈(31,32,33) 사이의 공간, 펌핑 슬릿(11), 펌핑 공간(121) 및 펌핑 포트(140)를 거쳐 반응 챔버(100)의 외부로 배출될 수 있다.
이에 따라, 인젝터 어셈블리(30)가 제1 방향으로 이동하면서 인젝터 어셈블리(30)를 구성하는 복수의 인젝터 모듈(31,32,33)로부터 분사되는 공정 가스는 인젝터 모듈(31,32,33) 사이의 공간을 통해 배기되면서 기판(W)에 박막을 형성하게 된다.
다시, 도 4를 참조하여 설명하면, 본 발명에 따른 반응 챔버(100)는, 상술한 펌핑부(120) 및 프로세스 공간부(110), 그리고, 모듈 수용 공간부(130)와 구획 플레이트(150)를 포함할 수 있다.
프로세스 공간부(110)는 반응 공간(111)을 형성하며, 그 내부에 기판 지지부(50)가 설치되어 기판(W)이 수용된다. 그리고, 모듈 수용 공간부(130)는 프로세스 공간부(110)의 일 측방에 배치되어 인젝터 이동 모듈(70)을 수용하는 수용 공간(131)을 형성한다.
구획 플레이트(150)는 프로세스 공간부(110)와 모듈 수용 공간부(130)를 구획한다. 그리고, 구획 플레이트(150)에는, 도 4에 도시된 바와 같이, 인젝터 어셈블리(30)와 인젝터 이동 모듈(70)이 연결된 상태로 인젝터 이동 모듈(70)이 인젝터 어셈블리(30)를 제1 방향으로 왕복 이동시키도록 가이드 통과공(미도시)이 제1 방향을 따라 형성된다.
여기서, 본 발명에 따른 인젝터 이동 모듈(70)은 볼 스크루(71), 인젝터 지지부(73) 및 가이드 유닛(72)을 포함할 수 있다. 볼 스쿠루는, 도 4에 도시된 바와 같이, 모듈 수용 공간부(130) 내부에 제1 방향을 따라 설치되며, 모터(M)와 같은 구동 수단에 의해 회전 가능하게 설치된다.
인젝터 지지부(73)는 가이드 통과공을 통해 인젝터 어셈블리(30)와 연결되어 인젝터 어셈블리(30)를 지지한다. 여기서, 본 발명에 따른 인젝터 지지부(73)는 분사 슬릿을 통해 분사되는 공정 가스를 외부로부터 공급받아 각각의 인젝터 모듈(31,32,33)로 공급하는데, 인젝터 지지부(73)는 반응 챔버(100) 외부로부터 가스 파이프(73a)를 통해 공정 가스를 공급받게 된다. 여기서, 가스 파이프(73a)는 인젝터 지지부(73)의 왕복 이동에 대응할 수 있도록 플렉시블한 재질로 마련될 수 있다.
가이드 유닛(72)은 볼 스크루(71)의 회전에 따라 제1 방향으로 왕복 이동 가능하게 볼 스크루(71)에 체결된다. 그리고, 가이드 유닛(72)은 인젝터 지지부(73)와 연결되어 인젝터 어셈블리(30)가 제1 방향으로 왕복 이동하도록 인젝터 지지부(73)를 왕복 이동시킨다.
상기와 같은 구성을 통해, 볼 스크루(71)가 모터(M)에 의해 회전하게 되면, 가이드 유닛(72)이 볼 스크루(71)를 따라 수평 이동하게 되고, 가이드 유닛(72)에 연결된 인젝터 지지부(73)가 수평 이동하여 인젝터 어셈블리(30)를 수평 이동시키게 된다.
상기와 같은 구성에 따라, 대면적의 기판(W)에 박막을 형성하는 등의 공정을 진행함에 있어, 기판(W)은 고정된 상태에서 인젝터 어셈블리(30)가 수평 이동하여 기판(W) 상에 박막을 형성하게 되어 기판(W)의 대면적화에 따른 반응 챔버(100)의 공간적 제약을 제거할 수 있게 된다.
또한, 수평 이동하는 인젝터 어셈블리(30)를 공정 가스를 공급하고, 인젝터 어셈블리(30)를 구성하는 복수의 인젝터 모듈(31,32,33) 사이의 공간과 펌핑 플레이트(10)의 펌핑 슬릿(11)을 통해 배기를 위한 펌핑 채널을 형성함으로써, 배기 구조를 보다 간소화시킬 수 있게 된다.
한편, 본 발명에 따른 대면적 기판 처리 장치는, 도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 슬릿 개폐 모듈을 포함할 수 있다. 여기서, 슬릿 개폐 모듈은 펌핑 플레이트(10)에 형성된 복수의 펌핑 슬릿(11) 중, 복수의 인젝터 모듈(31,32,33) 사이의 공간과 연통되지 않는 나머지 펌핑 슬릿(11)을 폐쇄한다. 도 6 및 도 7을 참조하여 설명하면, 본 발명에 따른 슬릿 개폐 모듈은 제1 개폐 롤러(91), 제2 개폐 롤러(92), 제1 개폐 부재(93) 및 제2 개폐 부재(94)를 포함하는 것을 예로 한다.
제1 개폐 롤러(91) 및 제2 개폐 롤러(92)는 인젝터 모듈(31,32,33)을 사이에 두고, 인젝터 어셈블리(30)의 제1 방향으로의 양측에 각각 설치된다. 보다 구체적으로 설명하면, 제1 개폐 롤러(91)는 인젝터 어셈블리(30)의 제1 방향으로의 일측의 반응 챔버(100)의 내측벽 인근에 설치되고, 제2 개폐 롤러(92)는 인젝터 어셈블리(30)의 제1 방향으로의 타측의 반응 챔버(100)의 내측벽 인근에 설치된다.
제1 개폐 부재(93)는 제1 개폐 롤러(91)와 인젝터 어셈블리(30)와 각각 연결된다. 여기서, 제1 개폐 부재(93)의 일측은 제1 개폐 롤러(91)에 권취되고, 타측은 인젝터 어셈블리(30)에 연결된다. 본 발명에서는 제1 개폐 부재(93)의 타측이 복수의 인젝터 모듈(31,32,33) 중 제1 개폐 롤러(91) 측 가장자리에 배치된 인젝터 모듈(31)과 연결되는 것을 예로 한다.
마찬가지로, 제2 개폐 부재(94)는 제2 개폐 롤러(92)와 인젝터 어셈블리(30)와 각각 연결된다. 여기서, 제2 개폐 부재(94)의 일측은 제2 개폐 롤러(92)에 권취되고, 타측은 인젝터 어셈블리(30)에 연결된다. 본 발명에서는 제2 개폐 부재(94)의 타측이 복수의 인젝터 모듈(31,32,33) 중 제2 개폐 롤러(92) 측 가장자리에 배치된 인젝터 모듈(33)과 연결되는 것을 예로 한다.
상기 구성에 따라, 제1 개폐 부재(93)는, 도 6에 도시된 바와 같이, 제1 개폐 롤러(91)와 인젝터 어셈블리(30) 사이에 위치하는 펌핑 슬릿(11)을 폐쇄하게 되고, 제2 개폐 부재(94)는 제2 개폐 롤러(92)와 인젝터 어셈블리(30) 사이에 위치하는 펌핑 슬릿(11)을 폐쇄하게 된다.
여기서, 제1 개폐 롤러(91) 및 제2 개폐 롤러(92)는, 제1 개폐 부재(93) 및 제2 개폐 부재(94)가 인젝터 어셈블리(30)의 왕복 이동에 대응하여 인젝터 어셈블리(30)와의 사이에서 펴진 상태로 유지되도록 제1 개폐 부재(93) 및 제2 개폐 부재(94)를 감거나 풀도록 마련된다.
도 7을 참조하여 설명하면, 도 7의 (a)에 도시된 바와 같은 상태에서, 인젝터 어셈블리(30)가 제1 방향으로 이동하게 되면, 도 7의 (b)에 도시된 바와 같이, 제1 개폐 부재(93)는 제1 개폐 롤러(91)로부터 풀려 제1 개폐 롤러(91)와 인젝터 어셈블리(30) 사이의 증가된 영역을 차단하여 해당 영역에 위치하는 펌핑 슬릿(11)을 폐쇄하게 된다. 반면, 제2 개폐 부재(94)는 제2 개폐 롤러(92)에 감겨 제2 개폐 롤러(92)와 인젝터 어셈블리(30) 사이의 감소된 영역을 차단하여 해당 영역에 위치하는 펌핑 슬릿(11)을 폐쇄하게 된다.
여기서, 본 발명에 따른 제1 개폐 롤러(91) 및 제2 개폐 롤러(92)는 판 스프링과 같은 제1 탄성부재 및 제2 탄성부재에 의해 각각 제1 개폐 부재(93) 및 제2 개폐 부재(94)를 감는 방향으로 탄성적으로 회전력을 갖도록 마련되는 것을 예로 한다. 이에 따라, 제1 개폐 부재(93) 및 제2 개폐 부재(94)는 인젝터 어셈블리(30)와의 사이에서 팽팽하게 유지되면서도 인젝터 어셈블리(30)의 왕복 이동에 대응하여 제1 개폐 롤러(91) 및 제2 개폐 롤러(92)에 감기거나 풀릴 수 있게 된다.
상기와 같은 구성에 따라, 인젝터 모듈(31,32,33) 사이의 공간과 연통되는 펌핑 슬릿(11) 이외의 펌핑 슬릿(11)이 폐쇄됨으로써, 인젝터 모듈(31,32,33) 사이의 공간과 연통되는 펌핑 슬릿(11)을 통해서만 배기가 가능하게 됨으로써, 보다 안정적인 가스의 이동 경로가 형성될 수 있다.
전술한 실시예에서는 인젝터 이동 모듈(70)에, 도 4에 도시된 바와 같이, 볼 스크루 구동 방식이 적용되는 것을 예로 하였다. 이외에도, 본 발명에 따른 인젝터 이동 모듈(70)에는 인젝터 어셈블리(30)를 제1 방향으로 왕복 이동 시킬 수 있는 다른 리니어 모션 구동 방식이 적용 가능함은 물론이다.
예를 들어,인젝터 이동 모듈(70)에는 리니어 모터 구동 방식, 벨트 구동 방식, 와이어 구동 방식, 또는 랙/피니언 구동 방식이 적용될 수 있다. 여기서, 리니어 모터 구동 방식의 경우, 왕복 운동에 적합한 리니어 펄스 모터(LPM : Linear Pulse Motor), 리니어 직류 모터(LDM : Linear DC Motor) 등이 적용 가능하다.
비록 본 발명의 몇몇 실시예들이 도시되고 설명되었지만, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 당업자라면 본 발명의 원칙이나 정신에서 벗어나지 않으면서 본 실시예를 변형할 수 있음을 알 수 있을 것이다. 발명의 범위는 첨부된 청구항과 그 균등물에 의해 정해질 것이다.
10 : 펌핑 플레이트 11 : 펌핑 슬릿
30 : 인젝터 어셈블리 31,32,33 : 인젝터 모듈
50 : 기판 지지부 70 : 인젝터 이동 모듈
71 : 볼 스크루 72 : 가이드 유닛
73 : 인젝터 지지부 91 : 제1 개폐 롤러
92 : 제2 개폐 롤러 93 : 제1 개폐 부재
94 : 제2 개폐 부재 100 : 반응 챔버
110 : 프로세스 공간부 120 : 펌핑부
130 : 모듈 수용 공간부 140 : 펌핑 포트

Claims (7)

  1. 가스의 배기를 위한 펌핑 포트가 형성된 반응 챔버와,
    상기 반응 챔버를 기판이 수용되는 반응 공간과 상기 펌핑 포트와 연통되는 펌핑 공간으로 구획하고, 상기 반응 공간과 상기 펌핑 공간을 연통시키는 복수의 펌핑 슬릿이 제1 방향을 따라 형성된 펌핑 플레이트와,
    상기 반응 공간의 상기 펌핑 플레이트에 인접하게 배치되고, 상기 제1 방향으로 상호 이격되어 상기 반응 공간으로 공정 가스를 분사하는 복수의 인젝터 모듈을 갖는 인젝터 어셈블리와,
    상기 인젝터 어셈블리를 상기 제1 방향으로 왕복 이동시키는 인젝터 이동 모듈을 포함하며;
    상기 인젝터 어셈블리가 상기 제1 방향으로 왕복 이동함에 따라, 상기 복수의 인젝터 모듈 사이의 공간과 상기 복수의 펌핑 슬릿 중 적어도 하나가 연통되어 상기 반응 공간의 가스가 상기 펌핑 슬릿을 통해 상기 펌핑 공간으로 배기되는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 반응 챔버는
    상기 반응 공간이 형성된 프로세스 공간부와;
    상기 인젝터 이동 모듈이 수용되는 모듈 수용 공간부와;
    상기 프로세스 공간부와 상기 모듈 수용 공간부를 구획하고, 상기 인젝터 어셈블리와 상기 인젝터 이동 모듈이 연결된 상태로 상기 인젝터 이동 모듈이 상기 인젝터 어셈블리를 상기 제1 방향으로 왕복 이동시키도록 가이드 통과공이 형성된 구획 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 인젝터 이동 모듈은 볼 스크루 구동 방식, 리니어 모터 구동 방식, 벨트 구동 방식, 와이어 구동 방식 및 랙/피니언 구동 방식 중 어느 하나가 적용되어 상기 인젝터 어셈블리를 상기 제1 방향으로 왕복 이동 시키는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 처리 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 각 인젝터 모듈에는 상기 공정 가스를 분사하는 적어도 하나의 분사 슬릿이 형성되며;
    상기 인젝터 지지부는 상기 분사 슬릿을 통해 상기 공정 가스가 상기 반응 공간으로 분사되도록 외부로부터 상기 반응 가스를 공급받아 상기 각 인젝터 모듈로 공급하는 것을 특징으로 대면적 기판 처리 장치.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 복수의 펌핑 슬릿 중 상기 복수의 인젝터 모듈 사이의 공간과 연통되지 않는 나머지 펌핑 슬릿을 폐쇄하는 슬릿 개폐 모듈을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 처리 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 슬릿 개폐 모듈은
    상기 인젝터 어셈블리의 상기 제1 방향 양측으로 상기 반응 챔버의 내측 벽 인근에 각각 설치되는 제1 개폐 롤러 및 제2 개폐 롤러와,
    일측이 상기 제1 개폐 롤러에 귄취되고 타측이 상기 인젝터 어셈블리에 연결되어, 상기 제1 개폐 롤러와 상기 인젝터 어셈블리 사이에 위치하는 상기 펌핑 슬릿을 폐쇄하는 제1 개폐 부재와,
    일측이 상기 제2 개폐 롤러에 권취되고 타측이 상기 인젝터 어셈블리에 연결되어, 상기 제2 개폐 롤러와 상기 인젝터 어셈블리 사이에 위치하는 상기 펌핑 슬릿을 폐쇄하는 제2 개폐 부재를 포함하며;
    상기 제1 개폐 부재 및 상기 제2 개폐 부재가 상기 인젝터 어셈블리의 왕복 이동에 대응하여 상기 인젝터 어셈블리와의 사이에서 펴진 상태로 유지되도록 상기 제1 개폐 롤러 및 상기 제2 개폐 롤러가 상기 제1 개폐 부재 및 상기 제2 개폐 부재를 감거나 푸는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 처리 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 슬릿 개폐 모듈은 상기 제1 개폐 롤러 및 상기 제2 개폐 롤러를 각각 상기 제1 개폐 부재 및 상기 제2 개폐 부재를 감는 방향으로 탄성적으로 회전력을 가하는 제1 탄성부재 및 제2 탄성부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 처리 장치.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US20090017190A1 (en) 2007-07-10 2009-01-15 Veeco Instruments Inc. Movable injectors in rotating disc gas reactors
KR20100077695A (ko) * 2008-12-29 2010-07-08 주식회사 케이씨텍 원자층 증착장치
KR20110072351A (ko) * 2009-12-22 2011-06-29 주식회사 아토 기판처리장치

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