KR101269005B1 - Array substrate of Liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 데이터배선을 공유하는 화소들 사이에 발생하는 레벨 시프트 전압의 차이를 최소화시키는 액정표시장치에 관한 것으로, 기판 상의 데이터배선과; 상기 데이터배선을 중심으로 좌우로 배치되는 제 1 화소 및 제 2 화소와; 상기 제 1 화소 및 상기 제 2 화소의 상부 및 하부행에 각각 설치되는 제 1 게이트배선과 제 2 게이트배선과; 상기 제 1 화소와 상기 데이터배선의 사이에 상기 제 1 게이트배선과 연결되는 제 1 게이트전극을 포함하는 제 1 박막트랜지스터와, 상기 제 2 화소와 상기 데이터배선의 사이에 상기 제 2 게이트배선과 연결되는 제 2 게이트전극을 포함하는 제 2 박막트랜시터와; 상기 제 1 화소 및 상기 제 2 화소 상에 일측면이 상기 제 1 박막트랜지스터와 상기 제 2 박막트랜시터와 근접하게 설치되는 공통전극과; 상기 제 1 박막트랜지스터와 상기 제 2 박막트랜지스터로부터 각각 연장되어 상기 공통전극과 중첩되는 제 1 정전용량 보상부 및 제 2 정전용량 보상부와; 상기 제 1 화소와 상기 제 2 화소 상에 보호막을 개재하여 각각 설치되는 제 1 화소전극과 제 2 화소전극;을 포함한다. The present invention relates to a liquid crystal display device for minimizing a difference in level shift voltage generated between pixels sharing a data line, comprising: a data line on a substrate; First and second pixels disposed left and right about the data line; First and second gate wirings disposed in upper and lower rows of the first pixel and the second pixel, respectively; A first thin film transistor including a first gate electrode connected to the first gate line between the first pixel and the data line, and connected to the second gate line between the second pixel and the data line A second thin film transceiver comprising a second gate electrode; A common electrode having one side disposed on the first pixel and the second pixel in proximity to the first thin film transistor and the second thin film transistor; A first capacitance compensator and a second capacitance compensator extending from the first thin film transistor and the second thin film transistor, respectively, and overlapping the common electrode; And a first pixel electrode and a second pixel electrode respectively disposed on the first pixel and the second pixel via a protective film.

액정표시장치, 데이터배선, 레벨 시프트 전압, 기생용량 LCD, data wiring, level shift voltage, parasitic capacitance

Description

액정표시장치의 어레이 기판{Array substrate of Liquid crystal display device} Array substrate of liquid crystal display device

도 1은 종래기술의 데이터배선을 공유하는 액정표시장치의 회로도1 is a circuit diagram of a liquid crystal display device sharing the data wiring of the prior art.

도 2는 종래기술의 데이터배선을 공유하는 액정표시장치의 평면도2 is a plan view of a liquid crystal display device sharing data wiring of the related art.

도 3은 화소의 여러 신호파형과 레벨 시프트 전압에 의한 액정층의 전압의 변화도 3 is a diagram illustrating a change in voltage of a liquid crystal layer due to various signal waveforms and level shift voltages of a pixel;

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 데이터배선을 공유하는 액정표시장치의 평면도4 is a plan view of a liquid crystal display device sharing data lines according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 5는 도 4의 A - A' 단면도5 is a cross-sectional view taken along line AA 'of FIG.

도 6은 도 4의 B - B' 단면도6 is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG. 4.

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*Explanation of symbols for main parts of drawings *

110 : 기판 111 : 제 1 화소110 substrate 111 first pixel

112 : 제 2 화소 113 : 데이터배선112: second pixel 113: data wiring

114 : 제 1 게이트배선 115 : 제 2 게이트배선114: first gate wiring 115: second gate wiring

116 : 제 1 박막트랜지스터 117 : 제 2 박막트랜시터116: first thin film transistor 117: second thin film transistor

160 : 제 1 정전용량 보상부 161 : 제 2 정전용량 보상부160: first capacitance compensation unit 161: second capacitance compensation unit

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 데이터배선을 공유하는 인접한 화소들 사이에서 발생하는 레벨 시프트 전압의 차이를 최소화시키는 액정표시장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device which minimizes a difference in level shift voltages generated between adjacent pixels sharing data lines.

정보화 사회가 발전함에 따라 영상을 표시하기 위한 표시장치에 대한 요구가 다양한 형태로 증가하고 있으며, 근래에는 LCD(liquid crystal display), PDP(plasma display panel), ELD(electro luminescent display), VFD(vacuum fluorescent display)와 같은 여러가지 평판표시장치가 활용되고 있다. 평판표시장치 중 액정표시장치는 소형화, 경량화, 박형화, 저전력 구동의 장점을 가지고 있어 현재 널리 사용되고 있다.As the information society develops, the demand for display devices for displaying images is increasing in various forms. Recently, liquid crystal display (LCD), plasma display panel (PDP), electro luminescent display (ELD), and VFD (vacuum) Various flat panel displays such as fluorescent displays are used. Among flat panel displays, liquid crystal displays are widely used because they have advantages of miniaturization, light weight, thinness, and low power driving.

액정표시장치는 서로 마주보는 두 기판과 두 기판 사이에 개재된 액정을 포함하여 구성된다. 일반적으로, 액정표시장치는 두 기판에 형성된 화소전극과 공통전극 사이에 발생된 전계에 의해 액정 배열을 변화시켜 영상을 표시하는 방식으로 구동된다. The liquid crystal display device includes two substrates facing each other and a liquid crystal interposed between the two substrates. In general, a liquid crystal display device is driven by displaying an image by changing a liquid crystal array by an electric field generated between a pixel electrode and a common electrode formed on two substrates.

이러한 액정표시장치는 일반적으로 하나의 데이터배선에 대하여 동일열의 화소는 동일한 위치에 박막트랜지스터가 배열되지만, 소오스 구동회로의 수를 감소 시키기 위하여 데이터배선을 좌우로 인접하는 화소와 공유하는 액정표시장치을 상용할 수 있다. Such liquid crystal display devices generally have thin film transistors arranged at the same position in the same column for one data line, but in order to reduce the number of source driving circuits, a liquid crystal display device which shares data lines with adjacent pixels to the left and right is commonly used. can do.

데이터배선을 공유하는 액정표시장치에서는 소오스 구동회로의 수는 감소되지만 게이트 구동회로의 수가 증가되고, 액정표시장치의 좌우 화소에서, 화소와 연결되는 박막트랜지터는 데이터배선을 중심으로 상측 및 하측에 배치된다.In the liquid crystal display device sharing the data wiring, the number of source driving circuits is reduced, but the number of gate driving circuits is increased. In the left and right pixels of the liquid crystal display device, the thin film transistors connected to the pixels are located on the upper and lower sides of the data wiring. Is placed.

또한 박막트랜지스터의 제조공정 중에 박막트랜지스터를 구성하는 소오스 전극 및 드레인 전극의 오정렬에 의해 인접한 화소의 게이트전극 및 소오스전극 사이에서 기생용량의 차이로 인해 레벨 시프트 전압이 달라지고, 좌우로 인접한 화소 사이에서 휘도차이가 발생하게 된다. 이러한 레벨 시프트 전압의 차이는 세로방향으로 딤(dim)형태의 화질불량을 발생하게 된다. 이러한 인접한 좌우의 화소가 데이터배선을 공유하는 액정표시장치에 있어서, 소오스 전극 및 드레인 전극이 오정렬되었을 경우, 레벨 시프트 전압의 차이를 발생하는 종래기술을 하기와 같이 설명한다.In addition, during the manufacturing process of the thin film transistor, the level shift voltage is changed due to the parasitic capacitance difference between the gate electrode and the source electrode of the adjacent pixel due to misalignment of the source electrode and the drain electrode constituting the thin film transistor. The luminance difference occurs. Such a difference in the level shift voltage may cause a poor image quality in the form of a dim in the vertical direction. In a liquid crystal display device in which such adjacent left and right pixels share data wirings, a conventional technique of generating a difference in level shift voltage when a source electrode and a drain electrode are misaligned will be described as follows.

도 1은 종래기술의 데이터배선을 공유하는 액정표시장치의 회로도이고, 도 2는 종래기술의 데이터배선을 공유하는 액정표시장치의 평면도이다. 1 is a circuit diagram of a liquid crystal display device sharing the data wiring of the prior art, and FIG. 2 is a plan view of the liquid crystal display device sharing the data wiring of the prior art.

일반적으로 액정표시장치는 마주보는 두 개의 기판으로 구성되지만, 도 1 및 도 2에서는 액정표시장치의 주요 구성요소가 형성되는 하부기판의 어레이 구조만을 도시한다. Generally, a liquid crystal display device is composed of two opposing substrates, but FIGS. 1 and 2 only show an array structure of a lower substrate on which main components of the liquid crystal display device are formed.

도 1 및 도 2를 참조하면, 액정표시장치는 제 1 화소(11)와 제 2 화소(12) 가 데이터배선(13)을 공유하고 있으며, 제 1 화소(11) 및 제 2 화소(12)의 상부열 및 하부열에는 각각 제 1 게이트배선(14) 및 제 2 게이트배선(15)이 배치되어 있다. 또한 제 1 화소(11) 및 제 2 화소(12) 상에 공통배선(16)이 설치된다. 제 1 박막 트랜지스터(16)의 제 1 소오스 전극(18)은 제 1 화소(11)와 연결되고, 제 1 드레인 전극(19)은 데이터배선(13)과 연결되며, 제 1 게이트전극(20)은 제 1 화소(11)의 상부에 설치되는 제 1 게이트배선(14)과 연결된다. 그리고 제 2 박막트랜지스터(17)의 제 2 소오스 전극(21)은 제 2 화소(12)와 연결되고, 제 2 드레인 전극(22)은 데이터배선(13)과 연결되며, 제 2 게이트전극(23)은 제 2 화소(12)의 하부에 설치되는 제 2 게이트배선(15)과 연결된다.1 and 2, in the liquid crystal display device, the first pixel 11 and the second pixel 12 share the data line 13, and the first pixel 11 and the second pixel 12. The first gate wiring 14 and the second gate wiring 15 are disposed in the upper column and the lower column of the circuit. In addition, a common wiring 16 is provided on the first pixel 11 and the second pixel 12. The first source electrode 18 of the first thin film transistor 16 is connected to the first pixel 11, the first drain electrode 19 is connected to the data line 13, and the first gate electrode 20. Is connected to the first gate line 14 provided on the first pixel 11. The second source electrode 21 of the second thin film transistor 17 is connected to the second pixel 12, the second drain electrode 22 is connected to the data line 13, and the second gate electrode 23. ) Is connected to the second gate line 15 provided under the second pixel 12.

도 2와 같이, 제 1 박막트랜지스터(16)의 제 1 액티브(24) 상에는 제 1 게이트배선(14)과 연결되어 돌출되어 있는 제 1 게이트전극(20)이 위치하고, 제 1 게이트전극(20)의 양측에 제 1 드레인 전극(18)과 제 1 소오스 전극(19)이 형성되며, 제 1 소오스 전극(19)은 데이터배선(13)과 연결되고, 제 1 소오스 전극(18)은 제 1 화소(11)의 영역으로 확장되어 연결된다. 제 2 박막 트랜지스터(17)는 제 2 액티브(25) 상에는 제 2 게이트배선(15)과 연결되어 돌출되어 있는 제 2 게이트전극(23)이 위치하고, 제 2 게이트전극(23)의 양측에 제 2 드레인 전극(21)과 제 2 소오스 전극(22)이 형성되며, 제 2 소오스 전극(22)은 데이터배선(13)과 연결되고, 제 2 드레인 전극(21)은 제 2 화소(12)의 영역으로 확장되어 연결된다. As illustrated in FIG. 2, a first gate electrode 20 protruding from the first thin film transistor 16 connected to the first gate line 14 is positioned, and the first gate electrode 20 is positioned on the first active 24. The first drain electrode 18 and the first source electrode 19 are formed on both sides of the first source electrode 19, the first source electrode 19 is connected to the data line 13, and the first source electrode 18 is the first pixel. It extends to the area of 11 and is connected. In the second thin film transistor 17, a second gate electrode 23 protruding from the second active line 25 is connected to the second gate line 15, and the second thin film transistor 17 is disposed on both sides of the second gate electrode 23. A drain electrode 21 and a second source electrode 22 are formed, the second source electrode 22 is connected to the data line 13, and the second drain electrode 21 is an area of the second pixel 12. Extends to connect.

도 1 및 도 2와 같이 좌우로 인접한 화소들이 데이터배선을 공유하는 액정표시장치에서는 제조공정 중에서, 소오스 전극 및 드레인 전극을 형성할 때 상하 방향으로 오정렬이 발생할 수 있다. 1 and 2, in a liquid crystal display device in which left and right adjacent pixels share a data line, misalignment may occur in a vertical direction when forming a source electrode and a drain electrode during a manufacturing process.

그런데 데이터배선을 공유하는 화소의 박막 트랜지스터가 데이터배선을 중심으로 각각 좌측의 상부 및 우측의 하부에 배치된다. 따라서 게이트 전극을 기준으로 소오스 전극 및 드레인 전극이 아래 방향으로 이동하는 오정렬이 발생하는 경우를 살펴보면, 제 1 화소(11)에서는 제 1 게이트전극(20)과 제 1 소오스 전극(18)이 중첩되는 제 1 영역(26)은 감소하고, 제 2 화소(12)에서는 제 2 게이트전극(23)과 제 2 소오스 전극(21)이 중첩되는 제 2 영역(27)은 증가하게 된다. 제 1 게이트전극(20)과 제 1 소오스 전극(18)의 사이와 제 2 게이트전극(23)과 제 2 소오스 전극(21)의 사이는 게이트절연막(도시하지 않음)을 개재하여 형성되는 것으로 좌우로 인접한 각각의 화소는 게이트전극 및 소오스 전극 사이의 기생용량(Cgs)이 서로 다르게 된다. However, thin film transistors of pixels sharing the data wirings are disposed on the upper left side and the lower right side of the data wiring, respectively. Therefore, when a misalignment occurs in which the source electrode and the drain electrode move downward with respect to the gate electrode, the first gate electrode 20 and the first source electrode 18 overlap each other in the first pixel 11. The first region 26 decreases, and the second region 27 overlapping the second gate electrode 23 and the second source electrode 21 increases in the second pixel 12. Between the first gate electrode 20 and the first source electrode 18 and between the second gate electrode 23 and the second source electrode 21 are formed via a gate insulating film (not shown). The parasitic capacitances Cgs between the gate electrode and the source electrode are different from each other.

데이터배선을 좌우의 화소가 공유하지 않은 경우에는 박막트랜지스터의 배선방향이 동일하므로, 좌우의 화소에서는 게이트전극 및 소오스 전극 사이의 기생용량(Cgs)의 차이가 발생하지 않는다. 이러한 기생용량(Cgs)의 차이는 좌우로 인접한 두 화소의 레벨 시프트(level shift) 전압을 다르게 하여 휘도차를 발생시키고 액정표시장치의 화질을 저하시킨다. When the left and right pixels do not share data wiring, the thin film transistors have the same wiring direction, so that the parasitic capacitance Cgs between the gate electrode and the source electrode does not occur in the left and right pixels. Such a difference in parasitic capacitance Cgs causes a difference in luminance due to different level shift voltages of two adjacent pixels, and deteriorates the image quality of the liquid crystal display.

레벨 시프트 전압은 충전율이 100% 라면 박막트랜시터가 OFF 되기 직전에 액정층의 전압 VLC(t)는 데이터배선에 걸린 전압 VD 이다. 게이트 전압이 Vgh에서 Vgl로 변하면서 박막 트랜지스터는 Off상태로 변하고, 그 순간 기생용량(Cgs)로 인 해 액정층에 걸린 전압VLC(t)는 다음과 같이 변한다.If the level shift voltage is 100%, the voltage V LC (t) of the liquid crystal layer immediately before the thin film transceiver is turned off is the voltage V D applied to the data wiring. to be. As the gate voltage changes from Vgh to Vgl, the thin film transistor turns off, and at that moment, the parasitic capacitance Cgs causes the voltage V LC (t) applied to the liquid crystal layer to change as follows.

VLC(t) = VD - △VpV LC (t) = VD-ΔVp

△Vp = [ Cgs / (Cgs + Cst + Clc) ] (Vgh - Vgl)ΔVp = [Cgs / (Cgs + Cst + Clc)] (Vgh-Vgl)

여기서, Vgh는 게이트 전극의 하이(high)전압이고, Vgl은 게이트 전극의 로우(low)전압이다. 그리고 Cgs는 게이트 전극과 소오스 전극 사이의 기생용량이고, Cst는 공통전극과 소오스 전극 사이의 정전용량이고, Clc는 액정층의 정전용량이다. Here, Vgh is a high voltage of the gate electrode, and Vgl is a low voltage of the gate electrode. Cgs is the parasitic capacitance between the gate electrode and the source electrode, Cst is the capacitance between the common electrode and the source electrode, and Clc is the capacitance of the liquid crystal layer.

액정층에는 전압의 극성을 매 프레임마다 교대로 걸어 주는 데, 레벨 시프트 전압 △Vp는 (+)프레임에서는 액정층에 걸리는 전압을 낮추고, (-)프레임에서는 액정층에 걸리는 전압을 △Vp 만큼 높인다. The polarity of the voltage is applied to the liquid crystal layer alternately every frame. The level shift voltage ΔVp lowers the voltage applied to the liquid crystal layer in the (+) frame and increases the voltage applied to the liquid crystal layer in the (-) frame by ΔVp. .

도 3은 화소의 여러 신호파형과 레벨 시프트 전압에 의한 액정층의 전압의 변화도를 나타낸 것이다.3 is a diagram illustrating a change in voltage of a liquid crystal layer due to various signal waveforms and level shift voltages of a pixel.

데이터배선의 전압이 Vp = 5 V, 레벨 시프트 전압 △Vp = 1 V 라면, 레벨 시프트 전압 때문에 (+)프레임 동안에 액정층에 걸리는 전압은 Vp(+) = 4 V가 되고, (-)프레임 동안에 Vp(-) = 6 V가 된다. (+)와 (-) 프레임 동안에 액정층에 걸리는 절대 전압의 차이는 2.△Vp이다. 이 전압의 차이로 밝기의 차이가 생겨 화면 딤(Dim)현상이 나타난다. If the voltage of the data line is Vp = 5 V and the level shift voltage ΔVp = 1 V, the voltage applied to the liquid crystal layer during the (+) frame due to the level shift voltage becomes Vp (+) = 4 V and during the (-) frame. Vp (-) = 6 V. The difference between the absolute voltage across the liquid crystal layer during the positive and negative frames is 2.ΔVp. The difference in brightness results in a difference in brightness, resulting in screen dim.

게이트 전극을 기준으로 소오스 전극 및 드레인 전극이 아래 방향으로 이동하는 오정렬이 발생하는 경우를 살펴보면, 제 1 화소(11)에서 제 1 영역(26)은 감 소하고, 제 2 화소(12)에서 제 2 영역(27)은 증가하게 된다. 제 1 영역(26)의 감소 및 제 2 영역(27)의 증가로 인해 필연적으로 각각의 좌우로 인접한 화소의 기생용량(Cgs)을 변화시키고, 이로 인해 레벨 시프트 전압이 서로 다르게 되어, 휘도차로 인한 화질의 불량을 초래한다. Referring to a case in which misalignment occurs in which the source electrode and the drain electrode move downward with respect to the gate electrode, the first region 26 is reduced in the first pixel 11, and the second pixel 12 in the second pixel 12 is reduced. The two areas 27 will increase. The reduction of the first region 26 and the increase of the second region 27 inevitably change the parasitic capacitances Cgs of the adjacent pixels on each side, resulting in different level shift voltages, resulting in a luminance difference. This results in poor image quality.

본 발명은 데이터배선을 공유하는 화소들 사이에 발생하는 레벨 시프트 전압의 차이를 최소화시키는 액정표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device which minimizes the difference in level shift voltage generated between pixels sharing data wiring.

특히 소오스 전극으로부터 연장되는 정전용량 보상부를 공통전극과 중첩시키고, 오정렬에 의해 발생되는 각각의 화소의 게이트 전극과 소오스 전극사이의 기생용량의 차이를 보상하게 하여 레벨 시프트 전압의 차이를 최소화시켜 화질을 개선하는 액정표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.In particular, the capacitance compensation unit extending from the source electrode is overlapped with the common electrode, and the parasitic capacitance between the gate electrode and the source electrode of each pixel caused by misalignment is compensated for, thereby minimizing the difference in the level shift voltage, thereby improving image quality. An object of the present invention is to provide an improved liquid crystal display device.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 어레이기판은 기판 상의 데이터배선과; 상기 데이터배선을 중심으로 좌우로 배치되는 제 1 화소 및 제 2 화소와; 상기 제 1 화소 및 상기 제 2 화소의 상부 및 하부행에 각각 설치되는 제 1 게이트배선과 제 2 게이트배선과; 상기 제 1 화소와 상기 데이터배선의 사이에 상기 제 1 게이트배선과 연결되는 제 1 게이트전극을 포함하는 제 1 박막트랜지스터와, 상기 제 2 화소와 상기 데이터배선의 사이에 상기 제 2 게이트배선과 연결되는 제 2 게이트전극을 포함하는 제 2 박막트랜시터와; 상기 제 1 화소 및 상기 제 2 화소 상에 일측면이 상기 제 1 박막트랜지스터와 상기 제 2 박막트랜시터와 근접하게 설치되는 공통전극과; 상기 제 1 박막트랜지스터와 상기 제 2 박막트랜지스터로부터 각각 연장되어 상기 공통전극과 중첩되는 제 1 정전용량 보상부 및 제 2 정전용량 보상부와; 상기 제 1 화소와 상기 제 2 화소 상에 보호막을 개재하여 각각 설치되는 제 1 화소전극과 제 2 화소전극;을 포함한다.In order to achieve the above object, an array substrate of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention includes data wiring on a substrate; First and second pixels disposed left and right about the data line; First and second gate wirings disposed in upper and lower rows of the first pixel and the second pixel, respectively; A first thin film transistor including a first gate electrode connected to the first gate line between the first pixel and the data line, and connected to the second gate line between the second pixel and the data line A second thin film transceiver comprising a second gate electrode; A common electrode having one side disposed on the first pixel and the second pixel in proximity to the first thin film transistor and the second thin film transistor; A first capacitance compensator and a second capacitance compensator extending from the first thin film transistor and the second thin film transistor, respectively, and overlapping the common electrode; And a first pixel electrode and a second pixel electrode respectively disposed on the first pixel and the second pixel via a protective film.

상기 액정표시장치의 어레이기판에 있어서, 상기 제 1 정전용량 보상부는 상기 제 1 박막트랜지스터의 제 1 드레인전극으로부터 연장되어 상기 제 1 화소 상에 형성되어 상기 공통전극과 중첩되고, 상기 제 2 정전용량 보상부는 상기 제 2 박막트랜지스터의 제 2 드레인전극으로부터 연장되어 상기 제 2 화소 상에 형성되어 상기 공통전극과 중첩되 것을 특징으로 한다.In the array substrate of the liquid crystal display device, the first capacitance compensator extends from the first drain electrode of the first thin film transistor to be formed on the first pixel to overlap the common electrode, and the second capacitance The compensator extends from the second drain electrode of the second thin film transistor and is formed on the second pixel to overlap the common electrode.

상기 액정표시장치의 어레이기판에 있어서, 상기 공통전극은 상기 제 1 박막트랜지스터 및 상기 제 2 박막트랜지스터와 인접한 위치에서 제 1 측면을 가지고, 상기 제 1 측면과 인접하고, 상기 제 1 화소 및 상기 제 2 화소(112)의 양측면에 각각 제 2 측면 및 제 3 측면을 가지며, 상기 제 1 측면의 수평중심부에는 각각 상기 제 1 정전용량 보상부의 상기 제 1 드레인전극으로 향한 측면과 상기 제 2 정전용량 보상부의 상기 제 2 드레인전극으로 향한 측면이 위치하는 것을 특징으로 한다.In the array substrate of the liquid crystal display device, the common electrode has a first side at a position adjacent to the first thin film transistor and the second thin film transistor, and is adjacent to the first side, and the first pixel and the first Both sides of the second pixel 112 have second and third sides, respectively, and the horizontal center portion of the first side has a side toward the first drain electrode and the second capacitance compensation of the first capacitance compensation unit, respectively. A side surface of the negative portion facing the second drain electrode is positioned.

상기 액정표시장치의 어레이기판에 있어서, 상기 공통전극은 상기 제 1 박막트랜지스터와 상기 제 2 박막트랜지스터와 대향하는 측면에서 개구부를 가지는 것을 특징으로 한다.In the array substrate of the liquid crystal display device, the common electrode may have an opening at a side facing the first thin film transistor and the second thin film transistor.

상기 액정표시장치의 어레이기판에 있어서, 상기 제 1 화소전극과 상기 제 2 화소전극은 상기 보호막에 형성되는 제 1 소오스콘택홀과 제 2 소오스콘택홀을 통하여 각각 상기 제 1 정전용량 보상부와 상기 제 2 정전용량 보상부와 연결되는 것을 특징으로 한다.The array substrate of the liquid crystal display device, wherein the first pixel electrode and the second pixel electrode are formed through the first source contact hole and the second source contact hole formed in the passivation layer, respectively. And a second capacitance compensator.

상기 액정표시장치의 어레이기판에 있어서, 상기 제 1 박막트랜지스터는 상기 제 1 게이트배선과 연결되는 상기 제 1 게이트전극과 상기 제 1 게이트전극 상의 제 1 액티브와, 상기 제 1 게이트전극의 양측의 상기 제 1 액티브층 상에 형성되며, 상기 제 1 화소전극과 연결되는 제 1 소오스전극과 상기 데이터배선과 연결되는 제 1 드레인전극으로 구성되고, 상기 제 2 박마트랜지스터는 상기 제 2 게이트배선과 연결되는 상기 제 2 게이트전극과 상기 제 2 게이트전극 상의 제 2 액티브과, 상기 제 2 게이트전극의 양측의 상기 제 2 액티브층 상에 형성되며, 상기 제 2 화소전극과 연결되는 제 2 소오스전극과 상기 데이터배선과 연결되는 제 2 드레인전극으로 구성되는 것을 특징으로 한다.In the array substrate of the liquid crystal display device, the first thin film transistor includes: a first active on the first gate electrode and the first gate electrode connected to the first gate wiring; and the first and second gate electrodes on both sides of the first gate electrode. A first source electrode connected to the first pixel electrode and a first drain electrode connected to the data line, wherein the second thin film transistor is connected to the second gate line. A second active electrode on the second gate electrode and the second gate electrode, a second source electrode formed on the second active layer on both sides of the second gate electrode, and connected to the second pixel electrode; And a second drain electrode connected thereto.

상기 액정표시장치의 어레이기판에 있어서, 상기 제 1 게이트전극과 상기 제 1 액티브 사이와 상기 제 2 게이트전극과 상기 제 2 액티브 사이에는 게이트절연막이 설치되고, 상기 게이트절연막은 산화실리콘, 질화실리콘를 포함하는 무기절연물질이나, 벤조사이클로부텐(BCB), 아크릴(Acryl)계 수지(resin)를 포함하는 유기절연물질 중 하나를 선택하여 사용하는 것을 특징으로 한다.In the array substrate of the liquid crystal display device, a gate insulating film is provided between the first gate electrode and the first active, and between the second gate electrode and the second active, and the gate insulating film includes silicon oxide and silicon nitride. The inorganic insulating material, or an organic insulating material containing benzocyclobutene (BCB), acrylic resin (resin) is selected and used.

상기 액정표시장치의 어레이기판에 있어서, 상기 보호막은 포토아크릴을 사 용하는 것을 특징으로 한다.In the array substrate of the liquid crystal display device, the protective film is characterized in that using the photoacryl.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 데이터배선을 공유하는 액정표시장치의 평면도이다. 4 is a plan view of a liquid crystal display device sharing data lines according to an exemplary embodiment of the present invention.

일반적으로 액정표시장치는 마주보는 두 개의 기판으로 구성되지만, 본 발명의 실시예에서는 액정표시장치의 주요 구성요소가 형성되는 하부기판의 어레이 구조만을 설명한다. Generally, a liquid crystal display device is composed of two facing substrates, but in the exemplary embodiment of the present invention, only an array structure of a lower substrate on which main components of the liquid crystal display device are formed will be described.

도 4를 참조하면, 본 발명의 액정표시장치는 제 1 화소(111)와 제 2 화소(112)가 데이터배선(113)을 공유하고 있으며, 제 1 화소(111) 및 제 2 화소(112)의 상부열 및 하부열에는 각각 제 1 게이트배선(114) 및 제 2 게이트배선(115)이 배치되어 있다. Referring to FIG. 4, in the liquid crystal display device of the present invention, the first pixel 111 and the second pixel 112 share the data line 113, and the first pixel 111 and the second pixel 112. The first gate wiring 114 and the second gate wiring 115 are disposed in the upper column and the lower column, respectively.

제 1 박막 트랜지스터(116)의 제 1 액티브(124) 상에는 제 1 게이트배선(114)와 연결되어 돌출되어 있는 제 1 게이트전극(120)이 위치하고, 제 1 게이트전극(120)의 양측에 제 1 소오스 전극(118)과 제 1 드레인 전극(119)이 형성되며, 제 1 드레인 전극(119)은 데이터배선(113)과 연결되고, 제 1 소오스 전극(118)은 제 1 화소(111)의 영역으로 확장되어 연결된다. 제 2 박막트랜지스터(117)는 제 2 액티브(125) 상에는 제 2 게이트배선(115)와 연결되어 돌출되어 있는 제 2 게이트전극(123)이 위치하고, 제 2 게이트전극(123)의 양측에 제 2 소오스 전극(121)과 제 2 드레인 전극(122)이 형성되며, 제 2 드레인 전극(122)은 데이터배선(113)과 연결되고, 제 2 소오스 전극(121)은 제 2 화소(112)의 영역으로 확장되어 연결된다. On the first active 124 of the first thin film transistor 116, the first gate electrode 120 protruding from the first thin film transistor 116 is protruded, and the first gate electrode 120 is disposed on both sides of the first gate electrode 120. The source electrode 118 and the first drain electrode 119 are formed, the first drain electrode 119 is connected to the data line 113, and the first source electrode 118 is an area of the first pixel 111. Extends to connect. In the second thin film transistor 117, the second gate electrode 123 protruding from the second active line 125 is connected to the second gate line 115, and the second thin film transistor 117 is provided on both sides of the second gate electrode 123. The source electrode 121 and the second drain electrode 122 are formed, the second drain electrode 122 is connected to the data line 113, and the second source electrode 121 is an area of the second pixel 112. Extends to connect.

여기서 제 1 소오스 전극(118)은 제 1 화소(111) 상에서 공통전극(116)과 중첩되어 인접한 화소와 레벨 시프트 전압 차이를 보상할 수 있는 제 1 정전용량 보상부(160)를 가진다. 마찬가지로, 제 2 소오스 전극(122)는 제 2 화소(112) 상에서 공통전극(116)과 중첩되어 인접한 화소와 레벨 시프트 전압 차이를 보상할 수 있는 제 2 정전용량 보상부(161)가 설치된다. The first source electrode 118 has a first capacitance compensator 160 that overlaps the common electrode 116 on the first pixel 111 to compensate for a difference in level shift voltage with an adjacent pixel. Similarly, a second capacitance compensator 161 is disposed on the second pixel 112 to overlap the common electrode 116 to compensate for the difference between the adjacent pixel and the level shift voltage.

제 1 정전용량 보상부(160) 및 제 2 정전용량 보상부(161)가 레벨 시프트 전압 차이에 대한 보상 기능을 수행할 수 있도록 공통전극(116)의 일부는 제 1 박막트랜지스터(116)와 제 2 박막트랜지스터(117)의 제 1 소오스 전극(118) 및 제 2 소오스 전극(121)과 중첩될 수 있도록 설계한다. A portion of the common electrode 116 may be formed of the first thin film transistor 116 and the first thin film transistor 116 so that the first capacitance compensator 160 and the second capacitance compensator 161 may compensate for the level shift voltage difference. The second thin film transistor 117 is designed to overlap the first source electrode 118 and the second source electrode 121.

따라서 도 4에서는 공통전극(116)을 제 1 박막트랜지스터(116) 및 제 2 박막트랜지스터(117)의 인접한 위치에서 제 1 측면을 가지고, 제 1 측면과 인접하고, 제 1 화소(112) 및 제 2 화소(112)의 양측면에 각각 제 2 측면 및 제 3 측면을 가지도록 설계하여, 각각의 화소에서 공통전극(116)의 제 1 측면과 대향하는 위치에서 개구부를 가지는 형태가 된다. Therefore, in FIG. 4, the common electrode 116 has a first side at an adjacent position of the first thin film transistor 116 and the second thin film transistor 117, is adjacent to the first side, and the first pixel 112 and the first pixel. Designed to have second side surfaces and third side surfaces on both sides of the two pixels 112, respectively, so as to have openings at positions facing the first side of the common electrode 116 in each pixel.

정확한 정렬이 이루어진다면, 제 1 정전용량 보상부(160)의 제 1 드레인 전극(118)으로 향한 측면은 공통전극(116)의 제 1 측면의 수평중심부에 위치하도록 한다. 마찬가지로, 제 2 정전용량 보상부(161)의 제 2 드레인 전극(122)으로 향한 측면은 공통전극(116)의 제 1 측면의 수평중심부에 위치하도록 설계한다. If the correct alignment is made, the side toward the first drain electrode 118 of the first capacitance compensator 160 is positioned at the horizontal center of the first side of the common electrode 116. Similarly, the side facing the second drain electrode 122 of the second capacitance compensator 161 is designed to be positioned at the horizontal center of the first side of the common electrode 116.

도 5는 도 4의 A - A' 단면도이고, 도 6은 도 4의 B - B' 단면도이다. 도 5 및 도 6은 제 1 화소(111) 및 제 1 박막 트랜지스터(116)에 대한 단면도이지만 모든 화소는 제 1 화소(111)와 같은 단면을 가지며, 동일한 방법으로 동시에 제조된다. 5 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 4, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line B ′ B ′ of FIG. 4. 5 and 6 are cross-sectional views of the first pixel 111 and the first thin film transistor 116, but all pixels have the same cross section as the first pixel 111 and are simultaneously manufactured in the same manner.

도 5 및 도 6을 참조하면, 기판(110) 상에 제 1 금속막을 증착하고 패터닝하여 제 1 게이트배선(도시하지 않음), 공통배선(116), 제 1 게이트 전극(120)을 형성하고, 게이트배선, 공통배선, 및 게이트전극(120)을 포함한 기판(110) 상에 게이트 절연막(151)을 형성한다. 제 1 금속막으로는 구리(Cu), 구리 합금(Cu alloy), 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(Al alloy), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 탄탈륨(Ta) 중 하나 또는 그의 합금을 사용하고 게이트 절연막(151)은 산화실리콘, 질화실리콘를 포함하는 무기절연물질이나, 벤조사이클로부텐(BCB), 아크릴(Acryl)계 수지(resin)를 포함하는 유기절연물질을 선택하여 사용한다. 5 and 6, the first metal film is deposited and patterned on the substrate 110 to form a first gate wiring (not shown), a common wiring 116, and a first gate electrode 120. A gate insulating layer 151 is formed on the substrate 110 including the gate wiring, the common wiring, and the gate electrode 120. The first metal layer may include copper (Cu), copper alloy (Cu alloy), aluminum (Al), aluminum alloy (Al alloy), chromium (Cr), molybdenum (Mo), tungsten (W), and tantalum (Ta). By using one or an alloy thereof, the gate insulating film 151 is selected from an inorganic insulating material containing silicon oxide and silicon nitride, or an organic insulating material containing benzocyclobutene (BCB) and acrylic resin. use.

게이트절연막(151) 상에 반도체층으로 제 1 액티브(124)을 형성한다. 반도체층은 상부는 불순물을 함유하는 비정질실리콘층으로 하부는 불순물을 함유하지 않은 비정실리콘층으로 형성하고, 채널이 형성되는 제 1 액티브(124)의 불순물을 함유하는 비정질실리콘층은 제거된다.The first active 124 is formed as a semiconductor layer on the gate insulating layer 151. The semiconductor layer is formed of an amorphous silicon layer containing impurities at an upper portion thereof and an amorphous silicon layer containing impurities at a lower portion thereof, and an amorphous silicon layer containing impurities of the first active 124 in which the channel is formed is removed.

제 1 액티브(124)를 포함한 게이트 절연막(151) 상에 제 2 금속막을 증착하고 패터닝하여 데이터배선(116), 제 1 소오스 전극(118) 및 제 1 드레인 전극(119)을 형성한다. 제 2 금속막은 제 1 금속막과 동일한 물질로 형성한다.The second metal film is deposited and patterned on the gate insulating layer 151 including the first active 124 to form the data line 116, the first source electrode 118, and the first drain electrode 119. The second metal film is formed of the same material as the first metal film.

데이터배선(116), 제 1 소오스 전극(118) 및 제 1 드레인 전극(119)을 포함한 게이트 절연막(151) 상에 보호층(152)을 형성하고, 보호층(152)을 패터닝하여 제 1 소오스 전극(118)을 노출시키는 제 1 소오스 콘택홀(153)을 형성한다. 보호층(153)은 유전율이 낮은 유기절연물질, 예를 들면 포토아크릴 등을 사용한다. 그리고 보호층(152) 상에 투명한 도전성의 금속층을 증착하고 패터닝하여 소오스 콘택홀(153)을 통하여 제 1 소오스 전극(118)과 연결되는 제 1 화소전극(154)을 형성한다. 도면에서는 도시하지 않았지만 제 2 화소(112)의 단면도에서는 제 2 소오스 콘택홀과 제 2 화소전극이 형성된다. The protective layer 152 is formed on the gate insulating layer 151 including the data line 116, the first source electrode 118, and the first drain electrode 119, and the protective layer 152 is patterned to form a first source. A first source contact hole 153 exposing the electrode 118 is formed. The protective layer 153 uses an organic insulating material having a low dielectric constant, for example, photoacryl. In addition, a transparent conductive metal layer is deposited and patterned on the protective layer 152 to form a first pixel electrode 154 connected to the first source electrode 118 through the source contact hole 153. Although not shown in the drawing, the second source contact hole and the second pixel electrode are formed in the cross-sectional view of the second pixel 112.

도 4 내지 도 6에서, 데이터배선을 공유하는 화소의 박막트랜지스터가 데이터배선을 중심으로 각각 좌측의 상부 및 우측의 하부에 배치되어, 소오스 전극 및 드레인 전극을 형성할 때 상하 방향으로 오정렬이 발생할 수 있다. 게이트 전극을 기준으로 소오스 전극 및 드레인 전극이 위로 이동하는 오정렬이 발생하는 경우를 살펴보면, 제 1 화소(111)에서는 제 1 게이트전극(120)과 제 1 소오스 전극(118)의 제 1 정전용량 보상부(160)과 공통전극(116)이 중첩되는 제 1 영역(126)은 증가하고, 제 2 화소(112)에서는 제 2 게이트전극(123)과 제 2 소오스 전극(121)의 제 2 정전용량 보상부(161)와 공통전극(116)이 중첩되는 제 2 영역(127)은 감소하게 된다. 4 to 6, thin film transistors of pixels sharing the data wirings are disposed on the upper and lower left sides of the data wirings, respectively, so that misalignment may occur in the vertical direction when the source and drain electrodes are formed. have. Referring to a case in which misalignment occurs in which the source electrode and the drain electrode move upward with respect to the gate electrode, in the first pixel 111, the first capacitance compensation of the first gate electrode 120 and the first source electrode 118 is performed. The first region 126 in which the unit 160 and the common electrode 116 overlap with each other increases, and in the second pixel 112, the second capacitance of the second gate electrode 123 and the second source electrode 121 is increased. The second region 127 overlapping the compensator 161 and the common electrode 116 is reduced.

따라서, 제 1 화소(111)에서는 제 1 게이트전극(120)과 제 1 소오스 전극(118)이 중첩되는 Cgs1와 제 1 정전용량 보상부(160)과 공통전극(116)이 중첩되는 Cst1는 증가하고, 제 2 화소(112)에서는 제 2 게이트전극(123)과 제 2 소오스 전극(121)이 중첩되는 Cgs2와 제 2 정전용량 보상부(160)과 공통전극(116)이 중첩되는 Cst2는 감소하게 된다. Therefore, in the first pixel 111, Cgs1 overlapping the first gate electrode 120 and the first source electrode 118 and Cst1 overlapping the first capacitance compensator 160 and the common electrode 116 increase. In the second pixel 112, Cgs2 overlapping the second gate electrode 123 and the second source electrode 121 and Cst2 overlapping the second capacitance compensator 160 and the common electrode 116 are reduced. Done.

이를 레벨 시프트 전압을 결정하는 식, △Vp = [ Cgs / (Cgs + Cst + Clc) ] (Vgh - Vgl)에 상기와 같은 오정렬에 대한 결과를 적용하면, 분자인 Cgs가 변할 때 분모인 Cgs + Cst가 변하여 좌우로 인접한 화소의 △Vp의 차이를 줄일 수 있다.Applying the result of this misalignment to the formula for determining the level shift voltage, ΔVp = [Cgs / (Cgs + Cst + Clc)] (Vgh-Vgl), the denominator Cgs + when the molecule Cgs changes By changing Cst, it is possible to reduce the difference between ΔVp of adjacent pixels left and right.

본 발명의 실시예에 따르면, 데이터배선을 공유하는 좌우로 인접한 화소에서, 박막트랜지스터의 소오스 전극으로부터 연장되는 정전용량 보상부를 공통전극과 중첩시키고, 오정렬에 의해 발생되는 각각의 화소의 게이트 전극과 소오스 전극사이의 기생용량의 차이를 보상하게 하여 레벨 시프트 전압의 차이를 최소화시켜 화질을 개선하는 효과가 있다.According to an embodiment of the present invention, in the left and right adjacent pixels sharing the data wiring, the capacitance compensation unit extending from the source electrode of the thin film transistor overlaps with the common electrode, and the gate electrode and the source of each pixel generated by misalignment. Compensation for the difference in parasitic capacitance between the electrodes minimizes the difference in the level shift voltage, thereby improving image quality.

Claims (8)

기판 상의 데이터배선과;Data wiring on the substrate; 상기 데이터배선을 중심으로 좌우로 배치되는 제 1 화소 및 제 2 화소와;First and second pixels disposed left and right about the data line; 상기 제 1 화소 및 상기 제 2 화소의 상부 및 하부행에 각각 설치되는 제 1 게이트배선과 제 2 게이트배선과;First and second gate wirings disposed in upper and lower rows of the first pixel and the second pixel, respectively; 상기 제 1 화소와 상기 데이터배선의 사이에 상기 제 1 게이트배선과 연결되는 제 1 게이트전극과 제 1 소오스전극을 포함하는 제 1 박막트랜지스터와, 상기 제 2 화소와 상기 데이터배선의 사이에 상기 제 2 게이트배선과 연결되는 제 2 게이트전극과 제 2 소오스전극을 포함하는 제 2 박막트랜지스터와;A first thin film transistor including a first gate electrode and a first source electrode connected to the first gate line between the first pixel and the data line, and between the second pixel and the data line; A second thin film transistor including a second gate electrode and a second source electrode connected to the second gate line; 상기 제 1 화소 및 상기 제 2 화소 상에 일측면이 상기 제 1 박막트랜지스터와 상기 제 2 박막트랜지스터와 근접하게 설치되는 공통전극과;A common electrode on one side of the first pixel and the second pixel, the common electrode being adjacent to the first thin film transistor and the second thin film transistor; 상기 제 1 박막트랜지스터와 상기 제 2 박막트랜지스터로부터 각각 연장되어 상기 공통전극과 중첩되는 제 1 정전용량 보상부 및 제 2 정전용량 보상부와;A first capacitance compensator and a second capacitance compensator extending from the first thin film transistor and the second thin film transistor, respectively, and overlapping the common electrode; 상기 제 1 화소와 상기 제 2 화소 상에 보호막을 개재하여 각각 설치되는 제 1 화소전극과 제 2 화소전극;First and second pixel electrodes respectively disposed on the first pixel and the second pixel via a protective film; 을 포함하며, / RTI > 상기 제 1 소오스전극과 상기 제 1 게이트전극은 중첩하여 제 1 기생용량을 형성하고, 상기 제 2 소오스전극과 상기 제 2 게이트전극은 중첩하여 제 2 기생용량을 형성하며, 중첩되는 제 1 정전용량 보상부와 상기 공통전극은 제 1 정전용량을 형성하고, 중첩되는 제 2 정전용량 보상부와 상기 공통전극은 제 2 정전용량을 형성하며, 상기 제 1 기생용량과 상기 제 1 정전용량이 증가할 때, 상기 제 2 기생용량과 상기 제 2 기생용량은 감소하여 상기 제 1 화소와 상기 제 2 화소의 레벨 시프트 전압 차이를 줄이는 액정표시장치의 어레이기판.The first source electrode and the first gate electrode overlap to form a first parasitic capacitance, and the second source electrode and the second gate electrode overlap to form a second parasitic capacitance, and the overlapping first capacitance The compensator and the common electrode form a first capacitance, the overlapping second capacitance compensator and the common electrode form a second capacitance, and the first parasitic capacitance and the first capacitance may increase. And wherein the second parasitic capacitance and the second parasitic capacitance are reduced to reduce the level shift voltage difference between the first pixel and the second pixel. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 정전용량 보상부는 상기 제 1 박막트랜지스터의 제 1 소오스전극으로부터 연장되어 상기 제 1 화소 상에 형성되어 상기 공통전극과 중첩되고, 상기 제 2 정전용량 보상부는 상기 제 2 박막트랜지스터의 제 2 소오스전극으로부터 연장되어 상기 제 2 화소 상에 형성되어 상기 공통전극과 중첩되는 액정표시장치의 어레이기판.The first capacitance compensator extends from the first source electrode of the first thin film transistor, is formed on the first pixel to overlap the common electrode, and the second capacitance compensator is formed on the second of the second thin film transistor. An array substrate of a liquid crystal display device extending from a source electrode and formed on the second pixel to overlap the common electrode. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 공통전극은 상기 제 1 박막트랜지스터 및 상기 제 2 박막트랜지스터와 인접한 위치에서 제 1 측면을 가지고, 상기 제 1 측면과 인접하고, 상기 제 1 화소 및 상기 제 2 화소의 양측면에 각각 제 2 측면 및 제 3 측면을 가지며, 상기 제 1 측면의 수평중심부에는 각각 상기 제 1 정전용량 보상부의 상기 제 1 소오스전극으로 향한 측면과 상기 제 2 정전용량 보상부의 상기 제 2 소오스전극으로 향한 측면이 위치하는 액정표시장치의 어레이기판.The common electrode has a first side at a position adjacent to the first thin film transistor and the second thin film transistor, is adjacent to the first side surface, and has a second side surface at both sides of the first pixel and the second pixel, respectively. A liquid crystal having a third side surface and having a side toward the first source electrode of the first capacitance compensator and a side toward the second source electrode of the second capacitance compensator, respectively, in the horizontal center portion of the first side; Array board of display device. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 공통전극은 상기 제 1 박막트랜지스터와 상기 제 2 박막트랜지스터와 대향하는 측면에서 개구부를 가지는 액정표시장치의 어레이기판.And the common electrode has an opening at a side facing the first thin film transistor and the second thin film transistor. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 제 1 화소전극과 상기 제 2 화소전극은 상기 보호막에 형성되는 제 1 소오스 콘택홀과 제 2 소오스 콘택홀을 통하여 각각 상기 제 1 정전용량 보상부와 상기 제 2 정전용량 보상부와 연결되는 액정표시장치의 어레이기판.The first pixel electrode and the second pixel electrode are connected to the first capacitance compensator and the second capacitance compensator through a first source contact hole and a second source contact hole respectively formed in the passivation layer. Array board of display device. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 박막 트랜지스터는 상기 제 1 게이트배선과 연결되는 상기 제 1 게이트전극과 상기 제 1 게이트전극 상의 제 1 액티브층과, 상기 제 1 게이트전극의 양측의 상기 제 1 액티브층 상에 형성되며, 상기 제 1 화소전극과 연결되는 상기 제 1 소오스전극과 상기 데이터배선과 연결되는 제 1 드레인전극으로 구성되고, 상기 제 2 박막트랜지스터는 상기 제 2 게이트배선과 연결되는 상기 제 2 게이트전극과 상기 제 2 게이트전극 상의 제 2 액티브층과, 상기 제 2 게이트전극의 양측의 상기 제 2 액티브층 상에 형성되며, 상기 제 2 화소전극과 연결되는 상기 제 2 소오스전극과 상기 데이터배선과 연결되는 제 2 드레인전극으로 구성되는 액정표시장치의 어레이기판.The first thin film transistor is formed on the first active layer on the first gate electrode and the first gate electrode connected to the first gate wiring, on the first active layer on both sides of the first gate electrode, And a first drain electrode connected to the first pixel electrode and a first drain electrode connected to the data wiring, wherein the second thin film transistor is connected to the second gate wiring and the second gate electrode. A second active layer formed on a second gate electrode, and a second active layer formed on both sides of the second gate electrode, and connected to the second source electrode and the data wiring connected to the second pixel electrode; An array substrate of a liquid crystal display device comprising drain electrodes. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 제 1 게이트전극과 상기 제 1 액티브층 사이와 상기 제 2 게이트전극과 상기 제 2 액티브층 사이에는 게이트절연막이 설치되고, 상기 게이트절연막은 산화실리콘, 질화실리콘을 포함하는 무기절연물질이나, 벤조사이클로부텐(BCB), 아크릴(Acryl)계 수지(resin)를 포함하는 유기절연물질 중 하나를 선택하여 사용하는 액정표시장치의 어레이기판. A gate insulating film is formed between the first gate electrode and the first active layer and between the second gate electrode and the second active layer, and the gate insulating film is an inorganic insulating material including silicon oxide and silicon nitride, or benzo An array substrate of a liquid crystal display device using one of an organic insulating material including cyclobutene (BCB) and acrylic resin. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 보호막은 포토아크릴을 사용하는 액정표시장치의 어레이기판The protective layer is an array substrate of a liquid crystal display device using photoacryl.
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