KR101267531B1 - Method of rubbing base substrate for liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
본 발명에서는, 배향막을 포함하는 액정표시장치용 베이스 기판의 러빙 방법에 있어서, 상기 베이스 기판 상에, 네 모서리부에 각각 프로세스 키가 형성된 셀을 형성하는 단계와; 상기 프로세스 키를 이용한 좌표 측정을 통해, 상기 베이스 기판에 대한 상기 셀의 틀어짐 정도를 측정하는 단계와; 상기 셀의 틀어짐 정도를 따라 조정되어 축방향이 셀 가장자리와 평행한 러빙장치를 이용하여 상기 셀을 러빙하는 단계를 포함하는 액정표시장치용 베이스 기판의 러빙 방법을 제공한다. A rubbing method for a base substrate for a liquid crystal display device comprising an alignment layer, the method comprising: forming a cell on which a process key is formed at each of four corners thereof; Measuring a degree of twist of the cell with respect to the base substrate through coordinate measurement using the process key; A rubbing method of a base substrate for a liquid crystal display device, the method comprising: rubbing the cell using a rubbing device whose axial direction is parallel to the edge of the cell, adjusted according to the degree of distortion of the cell.
Description
도 1은 종래에 따른 횡전계 모드 액정표시장치용 기판의 러빙공정에 대한 개략적인 평면도.1 is a schematic plan view of a rubbing process of a substrate for a transverse electric field mode liquid crystal display according to the related art.
도 2a, 2b 그리고 2c는 본 발명의 일실시예에 따른 횡전계 모드 액정표시장치용 기판의 러빙방법을 공정순서에 따라 도시한 평면도.2A, 2B and 2C are plan views illustrating a rubbing method of a substrate for a transverse electric field mode liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention in a process sequence.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시장치용 기판의 러빙공정에 대한 평면도. 3 is a plan view illustrating a rubbing process of a substrate for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 횡전계형 액정표시장치의 한 화소부에 대한 단면도. 4 is a cross-sectional view of one pixel portion of a transverse electric field type liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 간단한 설명>BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG.
210: 베이스 기판 230: 셀210: base substrate 230: cell
240: 프로세스 키 280: 러빙장치240: process key 280: rubbing device
RA: 러빙축 θ1, θ2: 제 1, 2 각도 RA: rubbing axis θ1, θ2: first, second angle
본 발명은 기판의 러빙방법에 관한 것이며, 특히 액정표시장치용 기판의 러빙방법에 관한 것이다. The present invention relates to a rubbing method of a substrate, and more particularly to a rubbing method of a substrate for a liquid crystal display device.
일반적으로, 액정표시장치의 구동원리는 액정의 광학적 이방성과 분극성질을 이용한다. 상기 액정은 구조가 가늘고 길기 때문에 분자의 배열에 방향성을 가지고 있으며, 인위적으로 액정에 전기장을 인가하여 분자배열의 방향을 제어할 수 있다.Generally, the driving principle of a liquid crystal display device utilizes the optical anisotropy and polarization properties of a liquid crystal. Since the liquid crystal has a long structure, it has a directionality in the arrangement of molecules, and the direction of the molecular arrangement can be controlled by artificially applying an electric field to the liquid crystal.
따라서, 상기 액정의 분자배열 방향을 임의로 조절하면, 액정의 분자배열이 변하게 되고, 광학적 이방성에 의해 상기 액정의 분자배열 방향으로 빛이 굴절하여 화상을 표현하게 된다.Accordingly, if the molecular arrangement direction of the liquid crystal is arbitrarily adjusted, the molecular arrangement of the liquid crystal is changed, and light is refracted in the molecular arrangement direction of the liquid crystal by optical anisotropy to express an image.
일반적으로 액정표시장치는 서로 대향되게 배치된 두 기판과, 두 기판 사이에 개재된 액정층으로 이루어지며, 두 기판의 서로 마주보는 내부면에 전극을 각각 형성하여 두 전극 간의 형성되는 수직 전계에 의해 액정층을 구동하는 방식은 트위스트 네마틱 모드(twist nematic mode) 액정표시장치이고, 어느 한 전극에 두 개의 전극을 서로 엇갈리게 배치하여 두 전극 간의 횡전계에 의해 액정층을 구동하는 방식은 횡전계 모드(in-plane switching mode) 액정표시장치로 정의할 수 있다. 이중에서, 횡전계 모드 액정표시장치는 수평 전계에 의해 구동하기 때문에 시야각 특성 개선 모드로 이용되고 있다. In general, a liquid crystal display device includes two substrates disposed to face each other, and a liquid crystal layer interposed between the two substrates, and a vertical electric field formed between two electrodes by forming electrodes on inner surfaces of the two substrates facing each other. The method of driving the liquid crystal layer is a twist nematic mode liquid crystal display device, and the method of driving the liquid crystal layer by a transverse electric field between two electrodes by arranging two electrodes alternately on one electrode is a transverse electric field mode. (in-plane switching mode) Can be defined as a liquid crystal display device. Among them, the transverse electric field mode liquid crystal display device is used in the viewing angle characteristic improvement mode because it is driven by the horizontal electric field.
일반적인 액정표시장치의 제조공정을 간략히 살펴보면, 제 1 기판 상에 박막 트랜지스터를 포함한 어레이 소자를 형성하고, 제 2 기판 상에 블랙매트릭스 및 컬러필터를 포함한 컬러필터 소자를 형성한 다음, 상기 두 기판의 액정층과 접하게 되는 내부면에 배향막을 도포하고 러빙(rubbing)하는 공정을 포함하여 두 기판 사이에 액정층을 게재하게 된다. Referring to the manufacturing process of a general liquid crystal display device, an array element including a thin film transistor is formed on a first substrate, and a color filter element including a black matrix and a color filter is formed on a second substrate. The liquid crystal layer is interposed between the two substrates, including a process of coating and rubbing an alignment layer on an inner surface which is in contact with the liquid crystal layer.
상기 러빙은 액정의 초기 배열방향을 결정하는 주요한 공정으로, 상기 배향막의 러빙에 의해 정상적인 액정의 구동이 가능하고, 균일한 디스플레이(Display)특성을 갖게 한다. 일반적으로 배향막은 유기질의 유기 배향막인 폴리이미드(polyimide) 계열이 주로 쓰이고 있고, 러빙공정은 천을 이용하여 배향막을 일정한 방향으로 문질러주는 것을 말하며, 러빙 방향에 따라 액정 분자들이 정렬하게 된다.The rubbing is a main process of determining the initial alignment direction of the liquid crystal. The rubbing of the alignment layer enables the normal liquid crystal to be driven and has a uniform display characteristic. In general, the alignment layer is mainly a polyimide series, which is an organic alignment layer, and the rubbing process refers to rubbing the alignment layer in a predetermined direction using a cloth, and the liquid crystal molecules are aligned according to the rubbing direction.
한 예로, 상기 트위스트 네마틱 모드 액정표시장치의 경우에는 기판에 대해서 45도 기울어진 각도로 러빙을 진행하지만, 횡전계 모드 액정표시장치의 경우에는 기판 평행한 0도 기울기를 가지고 러빙을 진행하게 된다. For example, in the case of the twisted nematic mode liquid crystal display, rubbing is performed at an angle of 45 degrees with respect to the substrate, whereas in the case of the transverse electric field mode liquid crystal display, rubbing is performed with a 0 degree inclination parallel to the substrate. .
도 1은 종래에 따른 횡전계 모드 액정표시장치용 기판의 러빙공정에 대한 개략적인 평면도이다. 1 is a schematic plan view of a rubbing process of a substrate for a transverse electric field mode liquid crystal display according to the related art.
도시한 바와 같이, 베이스 기판(10) 내에는 액정표시장치용 셀(12)이 형성되어 있다. 도면으로 제시하지 않았지만, 상기 셀(12)은 박막트랜지스터를 포함하는 어레이 셀일 수도 있고 또는 컬러필터를 포함하는 컬러필터 셀일 수도 있다. 횡전계 모드 액정표시장치의 경우 한 기판에 화소 전극 및 공통 전극이 모두 형성되므로, 상기 셀(12)이 어레이 셀이라면 상기 박막트랜지스터와 연결되는 화소 전극 및 상기 화소 전극과 횡전계를 형성하는 공통 전극을 더 포함하게 된다. As shown in the drawing, a
종래에는, 러빙 공정을 진행하기 전 러빙장치(14)의 러빙축(RA) 방향은 기판의 단축과 평행하게 하였으나, 실제 셀 내에 형성되는 박막트랜지스터나 컬러필터 같은 패턴들은 좌, 우 또는 회전하여 패턴이 형성됨에 따라 기판에 대해서 미세하게라도 특정 각도(θ)를 가지며 틀어질 수 있다. 만약 베이스 기판(10)에 대해서 셀(12) 패턴이 틀어지게 되면, 횡전계 모드 액정표시장치의 경우 콘트라스트 특성이 현저히 저하되는 문제점이 있다. Conventionally, before the rubbing process, the rubbing axis RA direction of the
좀더 구체적으로 설명하면, 전술한 콘트라스트(contrast)는 화이트 휘도를 블랙 휘도로 나눈 값으로 계산되는데, 횡전계 모드의 경우 러빙방향이 최초 설정한 0도에서 0.1도만 틀어지더라도 블랙 휘도값이 커지게 되므로 콘트라스트 특성은 그만큼 떨어지게 되는 문제점이 있다. More specifically, the above-described contrast is calculated by dividing the white luminance by the black luminance. In the transverse electric field mode, even if the rubbing direction changes only 0.1 degrees from the initially set 0 degree, the black luminance is increased. Therefore, there is a problem that the contrast characteristic is reduced that much.
특히, 점차 갈수록 고화질 특성이 제품 경쟁력과 직결되고 이에 대한 사용자 요구가 높아짐을 고려했을 때, 트위스트 네마틱 액정표시장치 같은 경우에도 종래의 러빙 방법에 의하면 원하는 화질 특성을 가지기 어려운 것이 문제가 되고 있다. Particularly, when the high definition characteristics are gradually connected to the product competitiveness and the user demand thereof is gradually increased, even in the case of twisted nematic liquid crystal display devices, it is difficult to have desired image quality characteristics according to the conventional rubbing method.
상기 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명에서는 최초 설계한 러빙축 방향대로 러빙공정을 진행하여 콘트라스트 특성을 포함한 화질 특성을 개선할 수 있는 액정표시장치용 기판의 러빙 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. In order to solve the above problems, it is an object of the present invention to provide a rubbing method of a substrate for a liquid crystal display device that can improve the image quality characteristics including contrast characteristics by performing a rubbing process in the direction of the first designed rubbing axis.
즉, 러빙공정시 러빙축의 방향설정을 베이스 기판을 기준으로 하는 것이 아 니라, 베이스 기판 내 셀 패턴 내에 형성된 프로세스 키(process key)를 이용하여 셀 패턴의 틀어짐을 측정하여 이를 기준으로 러빙축 방향을 설정하고자 한다. In other words, the direction of rubbing axis is not set based on the base substrate during the rubbing process, and the rubbing axis direction is measured based on the distortion of the cell pattern by using a process key formed in the cell pattern in the base substrate. We want to set
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 제 1 특징에서는 배향막을 포함하는 액정표시장치용 베이스 기판의 러빙 방법에 있어서, 상기 베이스 기판 상에, 네 모서리부에 각각 프로세스 키가 형성된 셀을 형성하는 단계와; 상기 프로세스 키를 이용한 좌표 측정을 통해, 상기 베이스 기판에 대한 상기 셀의 틀어짐 정도를 측정하는 단계와; 상기 셀의 틀어짐 정도를 따라 조정되어 축방향이 셀 가장자리와 평행한 러빙장치를 이용하여 상기 셀을 러빙하는 단계를 포함하는 액정표시장치용 베이스 기판의 러빙 방법을 제공한다. In order to achieve the above object, according to a first aspect of the present invention, in a rubbing method of a base substrate for a liquid crystal display device including an alignment layer, forming a cell on which the process keys are formed at four corners, respectively, on the base substrate. Wow; Measuring a degree of twist of the cell with respect to the base substrate through coordinate measurement using the process key; A rubbing method of a base substrate for a liquid crystal display device, the method comprising: rubbing the cell using a rubbing device whose axial direction is parallel to the edge of the cell, adjusted according to the degree of distortion of the cell.
상기 러빙장치는 회전롤러에 감긴 러빙포로 이루어진 것을 특징으로 하고, 상기 셀은, 다수 개의 게이트 배선 및 데이터 배선과, 박막트랜지스터 그리고 화소 전극을 포함하는 어레이 셀인 것을 특징으로 하며, 상기 프로세스 키는 상기 게이트 배선과 동일 공정에서 형성되는 것을 특징으로 하고, 상기 셀은, 상기 화소 전극과 횡전계를 형성하는 공통 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 한다. The rubbing device is characterized by consisting of a rubbing cloth wound around a rotating roller, the cell is characterized in that the array cell including a plurality of gate wiring and data wiring, a thin film transistor and a pixel electrode, the process key is the gate It is formed in the same process as the wiring, and the cell further comprises a common electrode for forming a transverse electric field with the pixel electrode.
상기 액정셀은, 블랙매트릭스 및 컬러필터를 포함하는 컬러필터 셀인 것을 특징으로 하고, 상기 프로세스 키는 상기 블랙매트릭스와 동일 공정에서 형성되는 것을 특징으로 한다. The liquid crystal cell may be a color filter cell including a black matrix and a color filter, and the process key may be formed in the same process as the black matrix.
본 발명의 제 2 특징에서는, 제 1, 2 베이스 기판 상에, 네 모서리부에 각각 프로세스 키가 형성된 제 1, 2 셀을 각각 형성하는 단계와; 상기 프로세스 키를 이용한 좌표 측정을 통해, 상기 제 1, 2 베이스 기판에 대한 상기 제 1, 2 액정셀의 틀어짐 정도를 각각 측정하는 단계와; 상기 제 1, 2 액정셀의 틀어짐 정도를 따라 조정되어 축방향이 셀 가장자리와 평행한 러빙장치를 이용하여 상기 제 1, 2 셀을 각각 러빙하는 단계와; 상기 제 1, 2 베이스 기판을, 상기 제 1, 2 액정셀이 서로 마주보도록 합착하는 단계와; 상기 합착된 제 1, 2 액정셀을 상기 제 1, 2 베이스 기판으로부터 각각 절단하는 단계와; 상기 제 1, 2 액정셀 사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하는 액정셀의 제조방법을 제공한다. According to a second aspect of the present invention, there is provided a method comprising: forming first and second cells each having four process keys formed at four corners thereof on a first base and a second base substrate; Measuring a degree of distortion of the first and second liquid crystal cells with respect to the first and second base substrates through coordinate measurement using the process key; Rubbing the first and second cells, respectively, using a rubbing device adjusted in accordance with the degree of distortion of the first and second liquid crystal cells and having an axial direction parallel to a cell edge; Bonding the first and second base substrates so that the first and second liquid crystal cells face each other; Cutting the bonded first and second liquid crystal cells from the first and second base substrates, respectively; It provides a method for producing a liquid crystal cell comprising the step of forming a liquid crystal layer between the first and second liquid crystal cells.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 2a, 2b 그리고 2c는 본 발명의 일실시예에 따른 횡전계 모드 액정표시장치용 기판의 러빙방법을 공정순서에 따라 도시한 평면도이다. 일예로, 하나의 베이스 기판에 두 개의 셀을 제작하는 경우를 예로 들었다. 2A, 2B and 2C are plan views illustrating a rubbing method of a substrate for a transverse electric field mode liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention, according to a process sequence. For example, the case of manufacturing two cells on one base substrate is taken as an example.
도 2a에서는, 제 1, 2 베이스 기판(100, 130)이 구비되어 있고, 제 1, 2 베이스 기판(100, 130) 각각에는 제 1 셀(150) 및 제 2 셀(160)이 각각 형성되어 있다. 도면으로 상세히 제시하지 않았지만, 각각의 제 1 셀(150)에는 서로 교차되게 배치되는 다수 개의 게이트 배선 및 데이터 배선과, 상기 게이트 배선 및 데이터 배선이 교차되는 지점에는 박막트랜지스터가 형성되어 있고, 박막트랜지스터와 연결되어 화소 전극이 형성되어 있고, 상기 화소 전극과 일정간격 이격되게 공통 전극이 형성된다. 그리고, 각각의 제 2 셀(160)에는 비화소 영역에 블랙매트릭스가 형성되어 있고, 블랙매트릭스를 컬러별 경계부로 하여 컬러필터가 형성된다. 그리고, 상기 제 1, 2 셀(150, 160) 각각의 상부표면은 배향막이 도포된 상태이다. In FIG. 2A, first and
도 2b에서는, 상기 제 1, 2 셀(150, 160)을 각각 포함하는 제 1, 2 베이스 기판(110, 130)을 스테이지(미도시) 상부에 안착한 다음, 상기 제 1, 2 베이스 기판(110, 130) 각각의 상부 표면을 러빙장치(180)를 이용해서 러빙처리하는 단계이다. In FIG. 2B, first and
일예로, 상기 러빙장치(180)는 회전롤러에 감긴 러빙포로 이루어진 것을 특징으로 한다. For example, the
본 발명의 특징과 관련되어 보다 상세히 본 단계를 도 3을 통해 설명하자면, 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 베이스 기판(210)의 셀(230)은 프로세스 키(240)를 포함한다. Referring to FIG. 3 in more detail in connection with features of the present invention, as shown, the
상기 프로세스 키(240)는 셀(230)의 가장 하부층 패턴을 형성할 때 동시에 셀(230) 영역의 최외곽부 네 모서리부에 십자형상으로 형성할 수 있으며, 한 예로, 어레이 셀인 경우에는 게이트 배선을 형성하는 단계에서, 컬러필터 셀인 경우에는 블랙매트릭스를 형성하는 단계에서 형성할 수 있다. 상기 프로세스 키(240)는 스크라이빙(scribing) 공정이나 AP(auto probe)검사 시에 사용된다. When forming the bottom layer pattern of the
즉, 본 발명에서는 러빙장치(280)의 러빙축(RA)을 설정할 때, 기판의 단축을 기준으로 하는 것이 아니라, 상기 프로세스 키(240)를 이용해서 좌표 확인을 통해 제 1 각도(θ1)로 패턴이 틀어진 정도를 확인 후 패턴의 틀어짐에 따라 대응되는 제 2 각도(θ2)만큼 러빙축을 회전시켜 패턴과 같은 방향으로 러빙을 실시하는 것 을 특징으로 한다. 다시 말해서, 상기 러빙축(RA) 방향은 셀 가장자리와 평행하게 조정되는 것이다. That is, in the present invention, when setting the rubbing axis RA of the
상기 러빙축(RA)을 설정한 다음에는 스테이지(미도시)를 이동으로 러빙을 진행할 수도 있고 또는 고정된 기판 상에 러빙장치(280)를 이동시켜 러빙을 진행할 수도 있다. After setting the rubbing axis RA, rubbing may be performed by moving a stage (not shown), or rubbing may be performed by moving the
도면으로 제시하지 않았지만, 상기 프로세스 키(240)보다 안쪽으로 셀(230)의 네 모서리부에는 얼라인 키(align key)를 포함할 수 있는데, 일예로 상기 프로세스 키(240)를 이용해서 대략적인 위치를 확인하고, 그 다음에 보다 정밀도를 높이기 위해서 상기 얼라인 키를 이용할 수도 있다. 여기서, 중요한 것은 본 발명에 따른 러빙공정에서는, 상기 러빙장치(280)의 축 방향을 설정함에 있어서, 상기 셀(230) 내에 형성된 프로세스 키(240)가 기준이 된다는 것이다. Although not shown in the drawings, the four corners of the
또한, 도면에서는 십자형 형상을 가지는 프로세스 키(240)가 제시되었는데, 발명의 취지에 부합된다면 다른 형상의 프로세스 키(240)도 적용될 수 있다. In addition, although the
전술한 도 2b에 이어 도 2c에서는, 이러한 러빙 공정에 의하면 두 기판을 합착하고 스크라이빙 하는 단계를 거쳐 셀 단위로 분리된 다음 하나의 액정패널(LP)을 이루게 되었을 때, 두 기판 간의 러빙방향이 원하는 각도로 보다 정확한 값을 가질 수 있게 된다. 따라서, 실제 액정구동시에 원하는 프리틸트각(pretilt angle)을 가질 수 있으므로 원하는 화질 특성을 가지는 것이 가능하다. In FIG. 2C, the rubbing direction between the two substrates is obtained by combining the two substrates and then scribing and scribing the cells to form one liquid crystal panel LP. This allows for a more accurate value at the desired angle. Therefore, since it can have a desired pretilt angle in actual liquid crystal driving, it is possible to have a desired image quality characteristics.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 횡전계형 액정표시장치의 한 화소부에 대한 단면도이다. 4 is a cross-sectional view of one pixel part of a transverse electric field type liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
도시한 바와 같이, 서로 대향되게 제 1, 2 기판(310, 330)이 배치되어 있고, 제 1 기판(310) 내부면에는 게이트 전극(312), 반도체층(314), 소스 전극(316) 그리고 드레인 전극(318)으로 이루어진 박막트랜지스터(T)가 형성되어 있고, 박막트랜지스터(T)를 덮는 영역에는 상기 드레인 전극(318)을 일부 노출시키는 드레인 콘택홀(320)을 가지는 보호층(322)이 형성되어 있고, 상기 보호층(322) 상부에는 상기 드레인 콘택홀(320)을 통해 드레인 전극(318)과 연결되어 화소 전극(324)이 형성되어 있다. 그리고 상기 화소 전극(324)과 일정간격 이격되어 공통 전극(326)이 형성되어 있고, 화소 전극(324)과 공통 전극(326)은 서로 엇갈리게 다수 개 배치되어 있다. As illustrated, the first and
상기 화소 전극(324)과 공통 전극(326)을 덮는 영역에는 제 1 배향막(328)이 형성되어 있다. A
상기 제 2 기판(330) 내부면의 상기 박막트랜지스터(T) 및 미도시한 게이트 배선 및 데이터 배선과 대응된 영역에 블랙매트릭스(332)가 형성되어 있고, 블랙매트릭스(332) 상에는 화소 영역별로 컬러필터층(334)이 형성되어 있고, 상기 컬러필터층(334)을 덮는 영역에는 제 2 배향막(336)이 형성되어 있다. 그리고, 상기 제 1, 2 배향막(328, 336) 사이에는 액정층(350)이 개재되어 있다. The
상기 도면은 전압인가시, 상기 화소 전극(324)과 공통 전극(326) 사이에 형성되는 수평 전계에 의해서 상기 액정층(350)의 액정 분자들이 수평 배열된 상태를 게시한 것으로, 이때 제 1, 2 배향막(328, 336)은 러빙 공정을 거쳐 배향처리된 것을 특징으로 한다. In the drawing, when the voltage is applied, the liquid crystal molecules of the
도면으로 제시하지 않았지만, 본 발명에 따른 러빙 방법은 일반적인 트위스트 네마틱 모드 액정표시장치의 제조방법에 적용할 수도 있다. Although not shown in the drawings, the rubbing method according to the present invention may be applied to a manufacturing method of a general twist nematic mode liquid crystal display device.
그러나, 본 발명은 상기 실시예들로 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한도 내에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다. However, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
이와 같이, 본 발명에 따른 액정표시장치용 기판의 러빙 방법에 따르면, 베이스 기판 내 셀에 형성된 패턴 들의 틀어짐 정도를 얼라인 키를 이용하여 측정함으로써 그 틀어짐에 따라 러빙공정시 러빙 방향을 결정하게 되므로, 최초 설계한 러빙각도를 정확하게 구현할 수 있으므로, 특히 횡전계 모드 액정표시장치와 같이 미세한 틀어짐에도 콘트라스트 특성이 떨어지는 제품에 적용시 화질 특성을 효과적으로 개선할 수 있는 장점이 있다. As described above, according to the rubbing method of the substrate for a liquid crystal display according to the present invention, the rubbing direction is determined during the rubbing process by measuring the degree of distortion of the patterns formed in the cells in the base substrate using an alignment key. In addition, since the rubbing angle designed for the first time can be accurately realized, the image quality can be effectively improved when applied to a product having low contrast characteristics even in the case of minute distortion, such as a transverse electric field mode liquid crystal display.
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