KR101250982B1 - Method and device for manufacturing metal electrode pattern - Google Patents

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Abstract

본 발명의 금속전극패턴 제조방법은, 기판 상에 유기금속화합물 잉크를 슬롯 다이 코팅하는 코팅단계; 코팅된 기판을 가열하는 예비 가열단계; 가열된 상기 기판 상에 단일의 레이저 소스로부터의 레이저 빔을 레이저 스캐너를 통하여 조사하여 패턴을 형성하는 패턴형성단계; 패턴이 형성된 상기 기판을 세척하는 세척단계; 및 세척된 상기 기판을 가열하는 후 가열단계;를 포함한다.Metal electrode pattern manufacturing method of the present invention, the coating step of slot die coating the organometallic compound ink on the substrate; A preheating step of heating the coated substrate; A pattern forming step of irradiating a laser beam from a single laser source on the heated substrate through a laser scanner to form a pattern; A cleaning step of cleaning the substrate on which a pattern is formed; And a heating step after heating the washed substrate.

Description

금속전극패턴 제조방법 및 제조장치{METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING METAL ELECTRODE PATTERN}METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING METAL ELECTRODE PATTERN {METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING METAL ELECTRODE PATTERN}

본 발명은 금속전극패턴 제조방법 및 제조장치에 관한 것이다.The present invention relates to a method and apparatus for manufacturing a metal electrode pattern.

최근에 차세대 기술로 각광받는 분야가 유연 전자소자이다. 이러한 유연 전자소자의 적용이 가능한 분야는, 차세대 유연 디스플레이, 태양전지, 차세대 핸드폰 및 각종 전자제품 등에 다양하게 적용 가능하다. 또한, 광산업, 디스플레이 산업, 반도체 산업, 바이오 산업에서의 제품의 박막화 및 고성능화의 요구가 증가되고 있다. 그리고, 전자제품들이 소형화되고, 얇아지게 됨에 따라, 기존의 PCB에서 FPCB로 변화하는 추세에 가장 중요한 분야가 유연 전자소자이다.Recently, the field that is attracting attention as the next generation technology is a flexible electronic device. The field in which the flexible electronic device is applicable may be variously applied to the next generation flexible display, solar cell, next generation mobile phone, and various electronic products. In addition, there is an increasing demand for thinning and high performance of products in the mining, display, semiconductor and bio industries. In addition, as electronic products become smaller and thinner, the most important field for the trend of changing from a conventional PCB to an FPCB is a flexible electronic device.

유연 기판 상에 전자소자를 제작하는데 있어서 가장 중요한 분야가, 전극(패턴)을 형성하는 것이다. 또한, 산업에서 가장 중요한 기술이 생산기술이다. 이러한 유연 기판상에 전극을 형성하는 방법 및 방식에 대한 자료는 많이 존재한다. 그러나, 이러한 기술을 어떻게 생산기술에 접목시켜 단위 시간당 많은 전극 생산량을 늘려나갈지에 대하여 산업적인 측면에서의 기술이 주목받고 있다.The most important field in manufacturing an electronic device on a flexible substrate is to form an electrode (pattern). In addition, the most important technology in the industry is production technology. There is a lot of data on how and how to form electrodes on such flexible substrates. However, in the industrial aspect, attention has been paid to how to combine this technology with production technology to increase the amount of electrode production per unit time.

한편, 기판 상에 전극을 형성하는 방법으로는 기존의 반도체 공정이 존재한다. 기존의 반도체 공정은 포토리소그래피(photolithography)와 증착공정 등을 사용한다. 이러한 방식은 마스크 과정이 필요하고, 제조단가가 높고, 높은 온도에서의 공정이 필요하다. 높은 온도에서의 공정이 필요하기 때문에 열에 민감한 폴리머 계열의 기판에 제작하는 것이 불가능하다. 이러한 문제로 인하여, 기존의 반도체 공정은 유연 기판 상에 전극을 형성하는 과정에서 많은 문제가 발생한다.On the other hand, there is a conventional semiconductor process as a method of forming an electrode on a substrate. Conventional semiconductor processes use photolithography and deposition processes. This method requires a mask process, a high manufacturing cost, and a high temperature process. Because of the high temperature required, fabrication on heat-sensitive polymer substrates is not possible. Due to this problem, the conventional semiconductor process has a lot of problems in the process of forming the electrode on the flexible substrate.

이러한 문제를 해결하기 위해 개발된 공정이, 레이저를 이용하여 유기금속화합물 잉크로부터, 금속입자를 소결하는 방식에 대한 공정이 개발되고, 이러한 공정에 대한 특허와 논문이 존재한다.A process developed to solve this problem is developed a process for sintering metal particles from an organometallic compound ink using a laser, and there are patents and papers on such a process.

그러나, 레이저를 이용하여 유기금속화합물 잉크로부터 금속입자의 소결을 통해 전극을 형성하는 방식은, 연속공정이 아니기 때문에 공정과 공정 사이에 이물질의 이입으로 인하여 전극의 품질이 저하되며, 공정과 공정 사이의 시간이 길어지게 되면 여러 가지 조건에 의해 전극이 변화되기 쉬운 문제점이 있다. 또한, 패턴을 형성할 수 있는 기판 크기에 제한이 있고, 연속공정이 아니기 때문에 단위 시간당 전극 생산량이 적은 문제점이 있다. However, since the method of forming an electrode through sintering of metal particles from an organometallic compound ink using a laser is not a continuous process, the quality of the electrode is deteriorated due to the introduction of foreign matters between the processes and the processes. If the time becomes longer, there is a problem that the electrode is easily changed by various conditions. In addition, there is a limitation in the size of the substrate that can form a pattern, there is a problem that the electrode output per unit time is small because it is not a continuous process.

대한민국 등록특허공보 등록번호 제10-0293479호(등록일 : 2001년 4월 3일)Korean Registered Patent Publication No. 10-0293479 (Registration Date: April 3, 2001)

본 발명은 단위 시간당 패턴 생산량을 증가시킬 수 있는 금속전극패턴 제조방법 및 제조장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a method and apparatus for manufacturing a metal electrode pattern that can increase the pattern output per unit time.

청구항 1에 관한 발명인 금속전극패턴 제조방법은, 코팅부에 의하여, 기판 상에 유기금속화합물 잉크를 슬롯 다이 코팅하는 코팅단계; 예비 가열부에 의하여, 상기 코팅된 기판을 가열하는 예비 가열단계; 패턴 형성부에 의하여, 상기 가열된 기판 상에 단일의 레이저 소스로부터의 레이저 빔을 레이저 스캐너를 통하여 조사하여 패턴을 형성하는 패턴형성단계; 세척부에 의하여, 상기 패턴이 형성된 기판을 세척하는 세척단계; 및 후 가열부에 의하여, 상기 세척된 기판을 가열하는 후 가열단계;를 포함한다. 상기 코팅부, 상기 예비 가열부 및 상기 패턴 형성부의 하측에 배치되고, 상기 기판이 장착되는 제1 이송부에 의하여, 상기 장착된 기판을 상기 코팅부의 하측 및 상기 예비 가열부의 하측를 거쳐 상기 패턴 형성부의 하측까지 수평으로 이송하는 제1 이송 단계; 상기 제1 이송부의 상측이고 상기 패턴 형성부의 하측, 상기 세척부의 상측 및 상기 후 가열부의 상측에 배치되는 제2 이송부에 의하여, 상기 패턴 형성부의 하측에 위치한 기판을 들어올려 상기 세척부로 옮기고, 상기 세척부에 위치한 기판을 들어올려 상기 후 가열부로 옮기는 제2 이송단계;를 더 포함한다. 상기 제1 이송 단계에 의하여 상기 기판이 상기 코팅부의 하측에 위치할 때 상기 코팅단계가 행해지고, 상기 제1 이송 단계에 의하여 상기 기판이 상기 예비 가열부의 하측에 위치할 때 상기 예비 가열 단계가 행해지고, 상기 제1 이송 단계에 의하여 상기 기판이 상기 패턴 형성부의 하측에 위치할 때 상기 패턴 형성 단계가 행해지고, 상기 제2 이송 단계에 의하여 상기 기판이 상기 세척부에 위치할 때 상기 세척 단계가 행해지고, 상기 제2 이송 단계에 의하여 상기 기판이 상기 후 가열부에 위치할 때 상기 후 가열 단계가 행해진다.The method of manufacturing a metal electrode pattern of the present invention according to claim 1, The coating step, the coating step of slot die coating the organometallic compound ink on the substrate; A preheating step of heating the coated substrate by a preheater; A pattern forming step of forming a pattern by irradiating a laser beam from a single laser source on the heated substrate through a laser scanner by a pattern forming unit; A washing step of washing the substrate on which the pattern is formed by a washing part; And a post heating step of heating the washed substrate by a post heating unit. The first substrate is disposed below the coating part, the preheating part and the pattern forming part, and the mounted substrate is passed through the lower part of the coating part and the lower part of the preheating part by the first transfer part on which the substrate is mounted. A first conveyance step of conveying horizontally up to; The second transfer part which is above the first transfer part and disposed below the pattern forming part, above the washing part, and above the post heating part, lifts the substrate positioned below the pattern forming part, and transfers the substrate to the washing part, and the washing is performed. And a second transfer step of lifting the substrate positioned in the portion and transferring the substrate to the heating unit. The coating step is performed when the substrate is positioned below the coating part by the first transfer step, and the preheating step is performed when the substrate is located below the preheat part by the first transfer step, The pattern forming step is performed when the substrate is positioned below the pattern forming part by the first conveying step, and the cleaning step is performed when the substrate is located on the cleaning part by the second conveying step, The post heating step is performed when the substrate is located in the post heating section by a second transfer step.

따라서, 청구항 1에 관한 발명인 금속전극패턴 제조방법에 의하면, 연속공정의 수행에 의한 패턴형성으로 단위 시간당 패턴 생산량을 증가시킬 수 있기 때문에, 패턴 생산에 효율적이다. 또한, 연속공정은 수동이 아닌 자동화에 의해 이루어지기 때문에 패턴에 이물질이 이입되지 않고, 패턴이 외부환경에 의해 변질되지 않는다.Therefore, according to the metal electrode pattern manufacturing method of the invention according to claim 1, since the pattern production amount per unit time can be increased by pattern formation by performing a continuous process, it is efficient for pattern production. In addition, because the continuous process is made by automation rather than manual, no foreign matter is introduced into the pattern, and the pattern is not altered by the external environment.

청구항 2에 관한 발명인 금속전극패턴 제조방법은, 청구항 1에 관한 발명인 금속전극패턴 제조방법에 있어서, 상기 예비 가열 단계에서는, 적외선 노광 또는 핫 플레이트를 이용하여 가열한다.In the method for manufacturing a metal electrode pattern according to claim 2, in the method for manufacturing a metal electrode pattern according to claim 1, in the preliminary heating step, heating is performed using infrared exposure or a hot plate.

따라서, 청구항 2에 관한 발명인 금속전극패턴 제조방법에 의하면, 적외선 노광 또는 핫 플레이트를 이용하여 코팅된 기판을 가열하기 때문에, 열을 대면적으로 균일하게 전달할 수 있다.Therefore, according to the method for manufacturing a metal electrode pattern according to the second aspect of the present invention, since the substrate coated with infrared exposure or a hot plate is heated, heat can be uniformly transferred to a large area.

청구항 3에 관한 발명인 금속전극패턴 제조방법은, 청구항 1에 관한 발명인 금속전극패턴 제조방법에 있어서, 상기 패턴형성단계에서는, 상기 기판을 제1 축 방향, 상기 제1 축 방향과 직각인 제2 축 방향, 상기 제1 축 방향 및 상기 제2 축 방향과 직각인 제3 축 방향으로 이동시켜가며 레이저를 조사하여 패턴을 형성한다.In the method for manufacturing a metal electrode pattern according to claim 3, the method for manufacturing a metal electrode pattern according to the present invention according to claim 1, wherein in the pattern forming step, the substrate is arranged in a first axis direction and a second axis perpendicular to the first axis direction. Direction, the first axial direction and the third axial direction perpendicular to the second axial direction while moving the laser to form a pattern.

따라서, 청구항 3에 관한 발명인 금속전극패턴 제조방법에 의하면, 기판을 공간상에서 이동시켜 레이저 빔을 조사할 수 있기 때문에, 패턴의 대량생산, 대면적화 및 양산화에 적합하다.Therefore, according to the metal electrode pattern manufacturing method of the invention according to claim 3, since the substrate can be moved in space to irradiate a laser beam, it is suitable for mass production, large area, and mass production of patterns.

청구항 4에 관한 발명인 금속전극패턴 제조방법은, 청구항 1에 관한 발명인 금속전극패턴 제조방법에 있어서, 상기 세척 단계에서는, 상기 기판이 담겨진 세척액에 초음파를 조사하여 상기 기판을 세척하고, 상기 세척액에 발생된 이물질을 필터링하고, 질소 가스를 분사하는 것에 의하여 상기 기판 상에 잔류된 세척액을 제거한다.In the method of manufacturing a metal electrode pattern of the invention according to claim 4, in the method of manufacturing a metal electrode pattern of the invention according to claim 1, in the washing step, the cleaning solution containing the substrate is irradiated with ultrasonic waves to wash the substrate, and the cleaning solution is generated. The foreign matter is filtered and the cleaning liquid remaining on the substrate is removed by spraying nitrogen gas.

따라서, 청구항 4에 관한 발명인 금속전극패턴 제조방법에 의하면, 패턴의 대면적화, 양산화 및 자동화가 가능하고, 세척기 내에서 세척액의 상태를 최상으로 유지시킬 수 있다.Therefore, according to the metal electrode pattern manufacturing method of the invention according to claim 4, it is possible to large-scale the area, mass production and automation of the pattern, it is possible to maintain the state of the cleaning liquid in the washing machine at the best.

청구항 5에 관한 발명인 금속전극패턴 제조방법은, 청구항 1에 관한 발명인 금속전극패턴 제조방법에 있어서, 상기 후 가열 단계에서는, 금속전극의 비저항이 소정 감소율로 감소하는 온도보다 큰 온도로 상기 기판을 가열한다.In the method of manufacturing a metal electrode pattern of the invention according to claim 5, in the method of manufacturing a metal electrode pattern of the invention according to claim 1, in the post-heating step, the substrate is heated to a temperature greater than a temperature at which the specific resistance of the metal electrode decreases at a predetermined decrease rate. do.

따라서, 청구항 5에 관한 발명인 금속전극패턴 제조방법에 의하면, 패턴을 형성하는 금속전극의 비저항이 소정 감소율로 감소하는 온도보다 큰 온도로 기판을 가열하기 때문에, 기판에 충분히 열을 가할 수 있다.Therefore, according to the metal electrode pattern manufacturing method of the invention according to claim 5, since the substrate is heated to a temperature larger than the temperature at which the specific resistance of the metal electrode forming the pattern decreases at a predetermined reduction rate, heat can be sufficiently applied to the substrate.

청구항 6에 관한 발명인 금속전극패턴 제조방법은, 청구항 1에 관한 발명인 금속전극패턴 제조방법에 있어서, 상기 후 가열 단계에서는, 핫 척을 이용하여 가열한다.In the method for manufacturing a metal electrode pattern according to claim 6, in the method for manufacturing a metal electrode pattern according to claim 1, in the post-heating step, heating is performed using a hot chuck.

따라서, 청구항 6에 관한 발명인 금속전극패턴 제조방법에 의하면, 핫 척을 이용하여 기판을 가열하기 때문에, 기판에 열을 균일하게 가할 수 있다. Therefore, according to the metal electrode pattern manufacturing method of the invention according to claim 6, since the substrate is heated using a hot chuck, heat can be uniformly applied to the substrate.

청구항 7에 관한 발명인 금속전극패턴 제조장치는, 기판 상에 유기금속화합물 잉크를 슬롯 다이 코팅하는 코팅부; 상기 코팅부에서 코팅된 기판을 가열하는 예비 가열부; 단일의 레이저 소스로부터의 레이저 빔을, 상기 예비 가열부에서 가열된 상기 기판 상에, 레이저 스캐너를 통하여 조사하여 패턴을 형성하는 패턴 형성부; 상기 패턴 형성부에서 패턴이 형성된 기판을 세척하는 세척부; 및 상기 세척부에서 세척된 기판을 가열하는 후 가열부;를 포함한다. 또한, 상기 코팅부, 상기 예비 가열부 및 상기 패턴 형성부의 하측에 배치되고, 상기 기판이 장착되며, 상기 장착된 상기 기판을 상기 코팅부의 하측 및 상기 예비 가열부의 하측를 거쳐 상기 패턴 형성부의 하측까지 수평으로 이송하는 제1 이송부; 및 상기 제1 이송부의 상측이고 상기 패턴 형성부의 하측, 상기 세척부의 상측 및 상기 후 가열부의 상측에 배치되고, 상기 패턴 형성부의 하측에 위치한 상기 기판을 들어올려 상기 세척부로 옮기고, 상기 세척부에 위치한 상기 기판을 들어올려 상기 후 가열부로 옮기는 제2 이송부;를 더 포함한다. 또한, 상기 제1 이송부에 의하여 상기 기판이 상기 코팅부의 하측에 위치할 때, 상기 코팅부에 의한 슬롯 다이 코팅이 행해지고, 상기 제1 이송부에 의하여 상기 기판이 상기 예비 가열부의 하측에 위치할 때, 상기 예비 가열부에 의한 예비 가열이 행해지고, 상기 제1 이송부에 의하여 상기 기판이 상기 패턴 형성부의 하측에 위치할 때, 상시 패턴 형성부에 의한 패턴 형성이 행해진다. 또한, 상기 제2 이송부에 의하여 상기 기판이 상기 세척부에 위치할 때, 상기 세척부에 의한 세척이 행해지고, 상기 제2 이송부에 의하여 상기 기판이 상기 후 가열부에 위치할 때, 상기 후 가열부에 의한 후 가열이 행해진다.The invention is a metal electrode pattern manufacturing apparatus according to claim 7, the coating portion for slot-die coating the organometallic compound ink on the substrate; A preliminary heating unit which heats the substrate coated by the coating unit; A pattern forming unit for irradiating a laser beam from a single laser source onto the substrate heated by the preliminary heating unit through a laser scanner to form a pattern; A washing unit washing the substrate on which the pattern is formed in the pattern forming unit; And a heating unit after heating the substrate washed by the washing unit. The substrate may be disposed below the coating part, the preliminary heating part, and the pattern forming part, and the substrate may be mounted, and the mounted substrate may be horizontally lowered through the lower part of the coating part and the lower part of the pattern forming part through the lower part of the preliminary heating part. A first conveying part which is conveyed to the body; And a substrate disposed above the first transfer unit and disposed below the pattern forming unit, above the washing unit, and above the post heating unit, and lifting the substrate positioned below the pattern forming unit to the washing unit, and located in the washing unit. And a second transfer part for lifting the substrate and transferring the substrate to the post heating part. Further, when the substrate is positioned below the coating portion by the first transfer portion, slot die coating by the coating portion is performed, and when the substrate is positioned under the preheat portion by the first transfer portion, Preliminary heating by the preliminary heating unit is performed, and when the substrate is positioned below the pattern forming unit by the first transfer unit, pattern formation by the regular pattern forming unit is performed. In addition, when the substrate is located in the washing unit by the second transfer unit, washing by the washing unit is performed, and when the substrate is located in the post heating unit by the second transfer unit, the post heating unit After heating is performed.

따라서, 청구항 7에 관한 발명인 금속전극패턴 제조장치에 의하면, 연속공정의 수행 을 통하여 경한 기판에 패턴을 형성하는 경우 단위 시간당 패턴 생산량을 증가시킬 수 있기 때문에, 패턴 생산에 효율적이다. 또한, 연속공정은 수동이 아닌 자동화에 의해 이루어지기 때문에 패턴에 이물질이 이입되지 않고, 패턴이 외부환경에 의해 변질되지 않는다.Therefore, according to the metal electrode pattern manufacturing apparatus of the invention according to claim 7, when the pattern is formed on a light substrate through the continuous process can be increased in the pattern production per unit time, it is efficient for the pattern production. In addition, because the continuous process is made by automation rather than manual, no foreign matter is introduced into the pattern, and the pattern is not altered by the external environment.

청구항 8에 관한 발명인 금속전극패턴 제조장치는, 기판 상에 유기금속화합물 잉크를 슬롯 다이 코팅하는 코팅부; 상기 코팅부에서 코팅된 기판을 가열하는 예비 가열부; 단일의 레이저 소스로부터의 레이저 빔을, 상기 예비 가열부에서 가열된 상기 기판 상에, 레이저 스캐너를 통하여 조사하여 패턴을 형성하는 패턴 형성부; 상기 패턴 형성부에서 패턴이 형성된 기판을 세척하는 세척부; 및 상기 세척부에서 세척된 기판을 가열하는 후 가열부;를 포함한다. 또한, 상기 코팅부를 기준으로, 상기 예비 가열부가 배치된 측과 반대측에 배치되고, 상기 기판이 감겨 있는 제1 롤; 상기 후 가열부를 기준으로, 상기 세척부가 배치된 측과 반대측에 배치되고, 상기 기판이 상기 제1 롤에 감겨있는 방향과 반대방향으로 감기는 제2 롤;를 더 포함한다. 또한, 상기 제1 롤로부터 상기 기판이 풀러져, 상기 코팅부, 상기 예비 가열부, 상기 패턴 형성부, 상기 세척부, 상기 후 가열부를 거쳐 상기 제2 롤에 감겨지도록, 상기 제1 롤 및 상기 제2 롤이 회전한다. 또한, 상기 제1 롤 및 상기 제2 롤의 회전에 의하여, 상기 기판이, 상기 코팅부에 위치할 때 상기 코팅부에 의한 슬롯 다이 코팅이 행해지고, 상기 예비 가열부에 위치할 때 상기 예비 가열부에 의한 예비 가열이 행해지고, 상기 패턴 형성부에 위치할 때 상시 패턴 형성부에 의한 패턴 형성이 행해지고, 상기 세척부에 위치할 때 상기 세척부에 의한 세척이 행해지고, 상기 후 가열부에 위치할 때 상기 후 가열부에 의한 후 가열이 행해진다.The metal electrode pattern manufacturing apparatus of the present invention according to claim 8, the coating unit for slot-die coating the organometallic compound ink on the substrate; A preliminary heating unit which heats the substrate coated by the coating unit; A pattern forming unit for irradiating a laser beam from a single laser source onto the substrate heated by the preliminary heating unit through a laser scanner to form a pattern; A washing unit washing the substrate on which the pattern is formed in the pattern forming unit; And a heating unit after heating the substrate washed by the washing unit. In addition, the first roll is disposed on the side opposite to the side on which the preliminary heating portion is disposed, based on the coating portion, the substrate is wound; The second roll is disposed on the side opposite to the side on which the washing unit is disposed, based on the post heating unit, and the second roll is wound in a direction opposite to the direction in which the substrate is wound around the first roll. The first roll and the substrate may be unrolled from the first roll and wound around the second roll via the coating part, the preheating part, the pattern forming part, the washing part, and the post heating part. The second roll rotates. Further, by the rotation of the first roll and the second roll, slot die coating by the coating part is performed when the substrate is located in the coating part, and the preheating part when the substrate is located in the preheat part. Preliminary heating is performed, the pattern is formed by the pattern forming unit at all times when positioned in the pattern forming unit, the washing is performed by the washing unit when placed in the washing unit, and is located in the post heating unit. Post-heating by the post-heating unit is performed.

따라서, 청구항 8에 관한 발명인 금속전극패턴 제조장치에 의하면, 연속공정의 수행을 통하여 유연 기판에 패턴을 형성하는 경우 단위 시간당 패턴 생산량을 증가시킬 수 있기 때문에, 패턴 생산에 효율적이다. 또한, 연속공정은 수동이 아닌 자동화에 의해 이루어지기 때문에 패턴에 이물질이 이입되지 않고, 패턴이 외부환경에 의해 변질되지 않는다.Therefore, according to the metal electrode pattern manufacturing apparatus of the invention according to claim 8, when the pattern is formed on the flexible substrate by performing the continuous process, the amount of pattern production per unit time can be increased, which is efficient for pattern production. In addition, because the continuous process is made by automation rather than manual, no foreign matter is introduced into the pattern, and the pattern is not altered by the external environment.

청구항 9에 관한 발명인 금속전극패턴 제조장치는, 청구항 7에 관한 발명인 금속전극패턴 제조장치에 있어서, 상기 제1 이송부는, 벨트 컨베이어; 및 상기 벨트 컨베이어 상에 배치되고, 상기 기판이 장착되어 상기 벨트 컨베이어의 컨베이어 동작에 의해 상기 기판을 이송하는 기판 장착부;를 포함한다. 또한, 상기 벨트 컨베이어의 컨베이어 동작에 의하여 상기 기판 장착부가 이송되는 것에 의하여, 상기 기판이 상기 코팅부, 상기 예비 가열부 및 상기 패턴 형성부의 하측에 차례로 위치된다.A metal electrode pattern manufacturing apparatus of the invention according to claim 9, The metal electrode pattern manufacturing apparatus of the invention according to claim 7, wherein the first transfer unit, Belt conveyor; And a substrate mounting unit disposed on the belt conveyor, wherein the substrate is mounted to transfer the substrate by a conveyor operation of the belt conveyor. In addition, the substrate mounting portion is transferred by the conveyor operation of the belt conveyor, so that the substrate is sequentially positioned below the coating portion, the preliminary heating portion, and the pattern forming portion.

따라서, 청구항 9에 관한 발명인 금속전극패턴 제조장치에 의하면, 기판을 장착하여 이송할 수 있기 때문에, 코팅부, 예비 가열부, 패턴 형성부의 연속공정이 가능하여 신속한 제조가 가능하다.Therefore, according to the metal electrode pattern manufacturing apparatus of the invention according to claim 9, since the substrate can be mounted and transported, a continuous process of the coating portion, the preheating portion, and the pattern forming portion is possible, and thus the manufacturing can be performed quickly.

청구항 10에 관한 발명인 금속전극패턴 제조장치는, 청구항 7에 관한 발명인 금속전극패턴 제조장치에 있어서, 상기 제2 이송부는, 걸림턱이 형성된 직선레일; 및 상기 직선레일의 걸림턱에 걸리고, 상기 직선레일의 길이방향을 따라 이동하도록 배치되고, 상기 기판을 들어올려 상기 기판을 옮기는 로봇팔;을 포함한다. 또한, 상기 로봇팔이 상기 직선 레일을 따라 이동하여 상기 기판을 잡아 올리고, 다시 상기 직선 레일을 따라 이동하여 상기 기판을 내려 놓는 것에 의하여, 상기 기판이 상기 세척부 및 상기 후 가열부에 위치된다.The metal electrode pattern manufacturing apparatus of the invention according to claim 10, The metal electrode pattern manufacturing apparatus of the invention according to claim 7, wherein the second transfer unit, a straight rail having a locking step; And a robot arm that is caught by the latching jaw of the straight rail and is disposed to move along the longitudinal direction of the straight rail and lifts the substrate to move the substrate. In addition, the robot arm moves along the straight rail to lift the substrate, and then moves along the straight rail to lower the substrate so that the substrate is positioned in the washing section and the post heating section.

따라서, 청구항 10에 관한 발명인 금속전극패턴 제조장치에 의하면, 로봇팔이 직선레일을 따라 이동할 수 있기 때문에, 세척부, 후 가열부의 연속공정이 가능하여 신속한 제조가 가능하다.Therefore, according to the metal electrode pattern manufacturing apparatus of the invention according to claim 10, since the robot arm can move along the straight rail, the continuous process of the washing section and the post-heating section is possible, which enables rapid manufacturing.

본 발명에 따르면, 단위 시간당 패턴 생산량을 증가시킬 수 있기 때문에, 수동 공정에 의한 패턴형성에 비하여 패턴 생산에 효율적이다.According to the present invention, since the pattern yield per unit time can be increased, the pattern production is more efficient than the pattern formation by the manual process.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 금속전극패턴 제조방법의 흐름도이다.
도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 일 실시예에 따른 금속전극패턴 제조과정의 단면도이다.
도 3은 도 2c에서 기판을 이동시켜가며 패턴을 형성하는 과정을 나타낸 사시도이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 금속전극패턴 제조장치의 정면도이다.
도 5는 본 발명에 따른 패턴형성의 일 예를 나타낸 평면도이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 금속전극패턴 제조장치의 정면도이다.
1 is a flow chart of a metal electrode pattern manufacturing method according to an embodiment of the present invention.
2A to 2E are cross-sectional views of a metal electrode pattern manufacturing process according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view illustrating a process of forming a pattern by moving a substrate in FIG. 2C.
4 is a front view of the metal electrode pattern manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention.
5 is a plan view showing an example of pattern formation according to the present invention.
6 is a front view of a metal electrode pattern manufacturing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태를 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시형태는 여러 가지의 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시형태로만 한정되는 것은 아니다. 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있으며, 도면상의 동일한 부호로 표시되는 요소는 동일한 요소이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the embodiments of the present invention may be modified into various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. The shape and the size of the elements in the drawings may be exaggerated for clarity and the same elements are denoted by the same reference numerals in the drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 금속전극패턴 제조방법의 흐름도이고, 도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 일 실시예에 따른 금속전극패턴 제조과정의 단면도이다. 도 1 및 도 2a 내지 도 2e를 참조하여 금속전극패턴 제조방법을 살펴보기로 한다.1 is a flow chart of a metal electrode pattern manufacturing method according to an embodiment of the present invention, Figures 2a to 2e is a cross-sectional view of the metal electrode pattern manufacturing process according to an embodiment of the present invention. A method of manufacturing a metal electrode pattern will be described with reference to FIGS. 1 and 2A through 2E.

먼저, 기판(10) 상에 유기금속화합물 잉크(organometallic ink, 1)를 슬롯 다이 코팅(slot die coating)한다(코팅단계, S100). 기판(10)은 유리(glass)와 같은 경한 기판, 및 PI, PET, PEN 등의 유연 기판일 수 있다. 유기금속화합물 잉크는 은 유기금속화합물 잉크일 수 있으며, 유기금속화합물 잉크라면 은 유기금속하합물 잉크에 한정되지 않고 유기금속화합물 잉크라면 모두 가능하다. 종래의 단일 레이저 빔을 이용한 코팅방식인 스핀 코팅(spin coating)을 사용하면, 대면적화 및 양산화에는 적합하지 않다. 그 이유는, 잉크 코팅을 위해 회전시 중심축으로부터의 거리에 따라 잉크코팅의 두께가 달라지고, 기판에 대해 균일하게 코팅되지 않기 때문이다. 뿐만 아니라, 스핀 코팅시 주변으로 잉크가 분산되기 때문에 잉크 코팅시 기판이나 장비에 많은 악영향을 끼칠 수 있기 때문이다. 잉크 코팅의 균일도(uniformity)가 떨어지면 대면적으로 공정을 수행하기에는 적합하지 않다.First, an organometallic ink 1 is slot die coated on the substrate 10 (coating step S100). The substrate 10 may be a hard substrate such as glass and a flexible substrate such as PI, PET, and PEN. The organometallic compound ink may be a silver organometallic compound ink, and the organometallic compound ink is not limited to the silver organometallic compound ink but may be any organometallic compound ink. The use of spin coating, a coating method using a conventional single laser beam, is not suitable for large area and mass production. The reason is that the thickness of the ink coating varies depending on the distance from the central axis during rotation for ink coating, and is not uniformly coated on the substrate. In addition, since the ink is dispersed in the surroundings during spin coating, the ink coating may adversely affect the substrate or the equipment. Poor uniformity of the ink coating is not suitable for performing the process in large areas.

이러한 문제점을 해결하기 위해, 슬롯 다이 코팅을 이용한다. 슬롯 다이 코팅은 코팅 장비의 모든 부분이 밀폐되어 있기 때문에, 코팅액에 대한 시간에 따른 점도변화 및 이물질 이입이 존재하지 않고, 균일한 코팅이 가능하게 된다. 뿐만 아니라, 코팅의 재연성과 안정성이 뛰어나며, 코팅액의 상태를 최상의 상태로 보존할 수 있으므로, 잉크 코팅의 대면적화 및 양산화에 매우 적합한 코팅방식이다. To solve this problem, slot die coating is used. Since all parts of the coating equipment are sealed in the slot die coating, there is no change in viscosity and foreign matter introduction to the coating liquid over time, and uniform coating is possible. In addition, the reproducibility and stability of the coating is excellent, and the state of the coating liquid can be preserved in the best state, so it is a coating method that is very suitable for large area and mass production of ink coating.

S100 단계 이후, 코팅된 기판(10)을 가열한다(예비 가열단계, S200). 코팅된 기판(10)은 적외선 노광 또는 핫 플레이트(hot plate, 20)를 이용하여 가열할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서는 핫 플레이트(20)를 이용하여 기판(10)을 가열한다. 종래의 예비가열은 핫 플레이트를 이용한 접촉식(contact type) 열전달 방식을 사용하였다. 그러나, 이러한 방식은, 기판의 대면적화, 양산화 및 자동화 측면을 고려할 때, 열구배(temperature gradient)가 생기기 때문에, 기판에 열을 고르게 전달할 수 없다. 즉, 열전달의 균일도가 저하되기 때문에, 대면적화, 양산화, 자동화에는 적합하지 않다.After step S100, the coated substrate 10 is heated (preliminary heating step, S200). The coated substrate 10 may be heated using infrared exposure or a hot plate 20. In an embodiment of the present invention, the substrate 10 is heated by using the hot plate 20. Conventional preheating uses a contact type heat transfer method using a hot plate. However, this approach is unable to evenly transfer heat to the substrate because of the temperature gradients that take into account the large area, mass production and automation aspects of the substrate. That is, since uniformity of heat transfer falls, it is not suitable for large area, mass production, and automation.

이러한 문제점을 해결하기 위해, 비접촉식(non contact type) 적외선 램프(Infrared Ramp, IR)를 이용하여 열을 가한다. 적외선 램프뿐만 아니라, 핫 플레이트 위에 금속층을 설치하여, 열을 대면적으로 균일하게 전달할 수 있다. 열전달 장비와 관련해서는, 열을 대면적으로 균일하게 전달할 수 있는 장비라면 모두 가능하다.To solve this problem, heat is applied using a non-contact type infrared lamp (IR). In addition to the infrared lamp, a metal layer may be provided on the hot plate to uniformly transmit heat in a large area. With regard to heat transfer equipment, any equipment that can transfer heat evenly in a large area is possible.

S200 단계 이후, 가열된 기판(10) 상에 단일의 레이저 소스(laser source, 30)로부터의 레이저 빔을 레이저 스캐너(laser scanner, 35)를 통하여 조사하여 패턴을 형성한다(패턴형성단계, S300). 이때, 레이저 스캐너(35)를 기판 상에서 이동시켜 레이저 빔을 다방면으로 주사하여 다양한 패턴을 형성할 수 있고, 기판(10)을 이동시켜 원하는 형상의 패턴을 형성할 수 있다(도 3 참조). 즉, 기판(10)을 평면 상에서 움직이도록 하여 여러 개의 패턴을 만들 수 있다.After operation S200, a pattern is formed by irradiating a laser beam from a single laser source 30 on the heated substrate 10 through a laser scanner 35 (pattern forming step S300). . In this case, the laser scanner 35 may be moved on a substrate to scan a laser beam in various directions to form various patterns, and the substrate 10 may be moved to form a pattern having a desired shape (see FIG. 3). That is, a plurality of patterns can be made by moving the substrate 10 on a plane.

S300 단계 이후, 패턴이 형성된 기판(10)을 세척한다(세척단계, S400). 구체적으로는, 기판(10)이 담겨진 세척액에 초음파를 조사하여 기판(10)을 세척하고, 세척액에 발생된 이물질을 필터링하고, 질소 가스를 분사하는 것에 의하여 기판(10) 상에 잔류된 세척액을 제거한다. 종래에는 N-헥산(N-Hexane), 아세톤 등 다양한 세척액을 이용하여 세척하였다. 본 발명의 일 실시예에서는, 종래와 같이 세척통에 세척액을 담고 기판을 세척액에 담궈 기판에 잔류한 유기금속화합물 잉크를 제거한다. 그러나, 대면적화, 양산화 및 자동화를 위해, 세척액의 이물질을 필터링(filtering)하는 기능이 포함된 세척기를 사용하여 세척한다. 그 이유는, 세척된 부분이 세척액 내에 존재하다 다시 달라붙는 현상 때문에 세척하는 이점을 상실기 때문이다.After the step S300, the substrate 10 having the pattern is washed (washing step, S400). Specifically, the cleaning liquid remaining on the substrate 10 is cleaned by irradiating ultrasonic waves to the cleaning liquid containing the substrate 10, filtering the foreign substances generated in the cleaning liquid, and spraying nitrogen gas. Remove Conventionally, it was washed using various washing solutions such as N-hexane (N-Hexane), acetone. In one embodiment of the present invention, the cleaning liquid is contained in the cleaning container and the substrate is immersed in the cleaning liquid as in the prior art to remove the organometallic compound ink remaining on the substrate. However, for large area, mass production and automation, cleaning is performed using a washer that includes the function of filtering foreign substances in the cleaning liquid. The reason for this is that the washed part is present in the wash liquid and loses the benefit of washing due to sticking again.

S400 단계 이후, 세척된 기판(10)을 가열한다(후 가열단계, S500). 세척된 기판(100)은 핫 척(hot chuck, 40)을 이용하여 가열할 수 있다. 세척된 기판(10)의 가열온도와 관련해서는, 패턴을 형성하는 금속전극의 비저항이 소정 감소율로 감소하는 온도보다 큰 온도로 기판(10)을 가열한다. 이와 같이, S100~S500 단계에 의한 연속공정은 수동이 아닌 자동화에 의해 이루어지기 때문에 패턴에 이물질이 이입되지 않고, 패턴이 외부환경에 의해 변질되지 않는다.After step S400, the washed substrate 10 is heated (post heating step, S500). The cleaned substrate 100 may be heated using a hot chuck 40. Regarding the heating temperature of the cleaned substrate 10, the substrate 10 is heated to a temperature higher than the temperature at which the specific resistance of the metal electrode forming the pattern decreases at a predetermined decrease rate. As such, the continuous process by the step S100 ~ S500 is made by automation, not manual, foreign matter is not introduced into the pattern, the pattern is not altered by the external environment.

도 3은 도 2c에서 기판을 이동시켜가며 패턴을 형성하는 과정을 나타낸 사시도이다. 도 3을 참조하면, 기판(10) 상에 단일의 레이저 소스(30)로부터의 레이저 빔을 조사하여 패턴을 형성한다는 것을 알 수 있다. 이때, 기판(10)은 제1 축 방향, 제1 축 방향과 직각인 제2 축 방향, 제1 축 방향 및 제2 축 방향과 직각인 제3 축 방향으로 이동시켜가며 레이저 빔을 조사하여 패턴을 형성할 수 있다. 여기서, 제1 축 방향, 제2 축 방향, 제3 축 방향은 서로 직각이다. 예를 들면, 제1 축, 제2 축, 제3 축은 일반적으로 많이 사용되고 있는 공간좌표축인 X축, Y축, Z축일 수 있다.3 is a perspective view illustrating a process of forming a pattern by moving a substrate in FIG. 2C. Referring to FIG. 3, it can be seen that a pattern is formed by irradiating a laser beam from a single laser source 30 on the substrate 10. At this time, the substrate 10 is moved in the first axial direction, the second axial direction perpendicular to the first axial direction, the first axial direction and the third axial direction perpendicular to the second axial direction, and irradiates a laser beam with a pattern. Can be formed. Here, the first axial direction, the second axial direction, and the third axial direction are perpendicular to each other. For example, the first axis, the second axis, and the third axis may be the X axis, the Y axis, and the Z axis, which are commonly used spatial coordinate axes.

특히, 기판(10)을 위 또는 아래로(Z축으로) 이동시키기 위해서는, 기판(10)을 장착시켜 놓을 수 있는 장치(도 4의 기판 장착부)에 기판(10)을 올려놓고, 기판 장착대를 위 또는 아래로 이동시켜야 한다.In particular, in order to move the substrate 10 up or down (in the Z axis), the substrate 10 is placed on an apparatus (substrate mounting portion of FIG. 4) on which the substrate 10 can be mounted. Must be moved up or down.

이와는 달리, 기판(10)을 X축 및 Y축 상에서만 이동시킬 수 있게 하고 복수의 레이저 소스(30)를 위 또는 아래로 이동시킬 수도 있다. 기판(10) 이동과 레이저 소스(30)의 이동을 위해서는, 이들을 구동시킬 수 있는 제어장치가 별도로 구성되어야 한다.Alternatively, the substrate 10 may be moved only on the X and Y axes, and the plurality of laser sources 30 may be moved up or down. For the movement of the substrate 10 and the movement of the laser source 30, a control device capable of driving them must be separately configured.

도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 금속전극패턴 제조장치의 정면도이다. 도 4를 참조하면, 금속전극패턴 제조장치는 유리와 같은 경한 기판에 패턴을 형성하기 위해 사용되는데, 코팅부(100), 예비 가열부(200), 패턴 형성부(300), 세척부(400), 후 가열부(500), 제1 이송부(600) 및 제2 이송부(700)를 포함할 수 있다.4 is a front view of the metal electrode pattern manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 4, the metal electrode pattern manufacturing apparatus is used to form a pattern on a hard substrate such as glass. The coating part 100, the preliminary heating part 200, the pattern forming part 300, and the washing part 400 are formed. ), And may include a heating unit 500, a first transfer unit 600, and a second transfer unit 700.

코팅부(100)는 기판(10) 상에 유기금속화합물 잉크를 슬롯 다이 코팅한다. 기판(10)은 유리(glass)와 같은 경한 기판, 및 PI, PET, PEN 등의 유연 기판일 수 있다. 유기금속화합물 잉크는 은 유기금속화합물 잉크일 수 있으며, 유기금속화합물 잉크라면 은 유기금속하합물 잉크에 한정되지 않고 유기금속화합물 잉크라면 모두 가능하다. The coating unit 100 slot-die coats the organometallic compound ink on the substrate 10. The substrate 10 may be a hard substrate such as glass and a flexible substrate such as PI, PET, and PEN. The organometallic compound ink may be a silver organometallic compound ink, and the organometallic compound ink is not limited to the silver organometallic compound ink but may be any organometallic compound ink.

예비 가열부(200)는 코팅부(100)에서 코팅된 기판을 가열한다. 코팅된 기판(10)은 적외선 노광 또는 핫 플레이트(hot plate, 20)를 이용하여 가열할 수 있다. 본 발명의 제1 실시예에서는 핫 플레이트(20)를 이용하여 기판(10)을 가열한다. The preliminary heating unit 200 heats the substrate coated in the coating unit 100. The coated substrate 10 may be heated using infrared exposure or a hot plate 20. In the first embodiment of the present invention, the substrate 10 is heated by using the hot plate 20.

패턴 형성부(300)는 단일의 레이저 소스(30)로부터의 레이저 빔을, 예비 가열부(200)에서 가열된 기판(10) 상에, 레이저 스캐너(35)를 통하여 조사하여 패턴을 형성한다. 즉, 단일의 레이저 소스(30)는 레이저 스캐너(35)에 고정되어 있고, 레이저 스캐너(35)가 기판(10)의 일측에서 타측으로 이동함에 따라 기판(10) 상에 레이저 빔이 연속적으로 조사될 수 있다.The pattern forming unit 300 forms a pattern by irradiating a laser beam from a single laser source 30 on the substrate 10 heated by the preliminary heating unit 200 through the laser scanner 35. That is, the single laser source 30 is fixed to the laser scanner 35, and the laser beam is continuously irradiated onto the substrate 10 as the laser scanner 35 moves from one side of the substrate 10 to the other side. Can be.

패턴 형성부(300)의 패턴형성과 관련하여, 기판(10)은 X축 방향, Y축 방향, Z축 방향으로 이동시켜가며 레이저 빔을 조사하여 패턴을 형성할 수 있다. 이때, 패턴의 종류에 관계없이 패턴형성이 가능한데, 일 예로 도 5에 도시된 바와 같은 Bezel 패턴을 형성할 수 있다.In relation to the pattern formation of the pattern forming unit 300, the substrate 10 may move in the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction to form a pattern by irradiating a laser beam. At this time, the pattern may be formed regardless of the type of the pattern. For example, the Bezel pattern may be formed as illustrated in FIG. 5.

세척부(400)는 패턴 형성부(300)에서 패턴이 형성된 기판을 세척한다. 구체적으로는, 기판(10)이 담겨진 세척액에 초음파를 조사하여 기판(10)을 세척하고, 세척액에 발생된 이물질을 필터링하고, 질소 가스를 분사하는 것에 의하여 기판(10) 상에 잔류된 세척액을 제거한다. The cleaning unit 400 cleans the substrate on which the pattern is formed in the pattern forming unit 300. Specifically, the cleaning liquid remaining on the substrate 10 is cleaned by irradiating ultrasonic waves to the cleaning liquid containing the substrate 10, filtering the foreign substances generated in the cleaning liquid, and spraying nitrogen gas. Remove

후 가열부(500)는 세척부(400)에서 세척된 기판을 가열한다. 세척된 기판(10)의 가열온도와 관련해서는, 패턴을 형성하는 금속전극의 비저항이 소정 감소율로 감소하는 온도보다 큰 온도로 기판(10)을 가열한다.The heating unit 500 heats the substrate washed by the washing unit 400. Regarding the heating temperature of the cleaned substrate 10, the substrate 10 is heated to a temperature higher than the temperature at which the specific resistance of the metal electrode forming the pattern decreases at a predetermined decrease rate.

제1 이송부(600)는 코팅부(100), 예비 가열부(200) 및 패턴 형성부(300)의 하측에 배치되고, 기판이 장착되며, 장착된 기판을 코팅부(100)의 하측 및 예비 가열부(200)의 하측을 거쳐 패턴 형성부(300)의 하측까지 수평으로 이송한다. 제1 이송부(600)는, 벨트 컨베이어(belt conveyor, 600a), 및 벨트 컨베이어(600a) 상에 배치되고 기판이 장착되어 벨트 컨베이어(600a)의 컨베이어 동작에 의해 기판을 이송하는 기판 장착부(600b)를 포함한다. 벨트 컨베이어(600a)의 컨베이어 동작에 의하여 기판 장착부(600b)가 이송되는 것에 의하여, 기판이 코팅부(100), 예비 가열부(200) 및 패턴 형성부(300)의 하측에 차례로 위치된다. 제1 실시예에서는, 제1 이송부(600)가 벨트 컨베이어(600a)와 기판 장착부(600b)로 구현되었으나, 이에 한정되지 않고 기판(10)을 이송할 수 있는 수단이라면 모두 가능하다.The first transfer unit 600 is disposed below the coating unit 100, the preliminary heating unit 200, and the pattern forming unit 300, and the substrate is mounted on the lower side of the coating unit 100. The lower side of the heating unit 200 is horizontally transferred to the lower side of the pattern forming unit 300. The first conveying unit 600 is a belt conveyor 600a and a substrate mounting unit 600b disposed on the belt conveyor 600a and having a substrate mounted thereon to transfer the substrate by the conveyor operation of the belt conveyor 600a. It includes. By transferring the substrate mounting part 600b by the conveyor operation of the belt conveyor 600a, the substrate is sequentially positioned below the coating part 100, the preliminary heating part 200, and the pattern forming part 300. In the first embodiment, the first transfer unit 600 is implemented as a belt conveyor 600a and a substrate mounting unit 600b, but is not limited thereto, and any means capable of transferring the substrate 10 may be used.

제1 이송부(600)의 동작과 관련하여, 제1 이송부(600)에 의하여 기판이 코팅부(100)의 하측에 위치할 때, 코팅부(100)에 의한 슬롯 다이 코팅이 행해지고, 제1 이송부(600)에 의하여 기판이 예비 가열부(200)의 하측에 위치할 때, 예비 가열부(200)에 의한 예비 가열이 행해진다. 또한, 제1 이송부(600)에 의하여 기판이 패턴 형성부(300)의 하측에 위치할 때, 패턴 형성부(300)에 의한 패턴 형성이 행해진다.In relation to the operation of the first transfer unit 600, when the substrate is positioned below the coating unit 100 by the first transfer unit 600, slot die coating by the coating unit 100 is performed, and the first transfer unit 600 is performed. When the board | substrate is located under the preheating part 200 by 600, the preheating by the preheating part 200 is performed. In addition, when the board | substrate is located under the pattern formation part 300 by the 1st conveyance part 600, pattern formation by the pattern formation part 300 is performed.

제2 이송부(700)는 제1 이송부(600)의 상측이고 패턴 형성부(300)의 하측, 세척부(400)의 상측 및 후 가열부(500)의 상측에 배치되고, 패턴 형성부(300)의 하측에 위치한 기판을 들어올려 세척부(400)로 옮기고, 세척부(400)에 위치한 기판을 들어올려 후 가열부(500)로 옮긴다. 제2 이송부(700)는, 걸림턱이 형성된 직선레일(700a), 및 직선레일(700a)의 걸림턱에 걸리고 직선레일(700a)의 길이방향을 따라 이동하도록 배치되고 기판을 들어올려 기판을 옮기는 로봇팔(700b)을 포함한다. 로봇팔(700b)이 직선레일(700a)을 따라 이동하여 기판을 잡아 올리고, 다시 직선 레일(700a)을 따라 이동하여 기판을 내려놓는 것에 의하여, 기판이 세척부(400) 및 후 가열부(500)에 위치된다. 제1 실시예에서는, 제2 이송부(700)가 직선 레일(700a)과 로봇팔(700b)로 구현되었으나, 이에 한정되지 않고 기판(10)을 이송할 수 있는 수단이라면 모두 가능하다. The second transfer part 700 is disposed above the first transfer part 600, is disposed below the pattern forming part 300, above the washing part 400, and above the post heating part 500, and is provided with the pattern forming part 300. Lift the substrate located on the lower side of the transfer to the washing unit 400, and lifts the substrate located in the washing unit 400 and then transfer to the heating unit 500. The second transfer part 700 is disposed to be caught by the straight rail 700a having the locking step and the locking step of the straight rail 700a and move along the longitudinal direction of the straight rail 700a, and to lift the substrate to move the substrate. Robot arm 700b is included. The robot arm 700b moves along the straight rail 700a to lift up the substrate, and again moves along the straight rail 700a to lower the substrate, thereby cleaning the substrate 400 and the post heating part 500. ). In the first embodiment, although the second transfer part 700 is implemented with a straight rail 700a and a robot arm 700b, the second transfer part 700 is not limited thereto and may be any means capable of transferring the substrate 10.

제2 이송부(700)의 동작과 관련하여, 제2 이송부(700)에 의하여 기판이 세척부에 위치할 때, 세척부(400)에 의한 세척이 행해지고, 제2 이송부(700)에 의하여 기판이 후 가열부(500)에 위치할 때, 후 가열부(500)에 의한 후 가열이 행해진다.In relation to the operation of the second transfer unit 700, when the substrate is positioned in the washing unit by the second transfer unit 700, washing by the washing unit 400 is performed, and the substrate is transferred by the second transfer unit 700. When located in the post-heating part 500, post-heating by the post-heating part 500 is performed.

이와 같이, 제1 이송부(600) 및 제2 이송부(700)에 의한 연속공정은 수동이 아닌 자동화에 의해 이루어지기 때문에 패턴에 이물질이 이입되지 않고, 패턴이 외부환경에 의해 변질되지 않는다.As such, since the continuous process by the first transfer unit 600 and the second transfer unit 700 is performed by automation rather than manual operation, foreign matter is not introduced into the pattern, and the pattern is not deteriorated by the external environment.

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 금속전극패턴 제조장치의 정면도이다. 도 6을 참조하면, 금속전극패턴 제조장치는 PI, PET, PEN 등의 유연 기판에 패턴을 형성하기 위해 사용되는 롤 투 롤(roll to roll) 방식을 이용하는데, 코팅부(100'), 예비 가열부(200'), 패턴 형성부(300'), 세척부(400'), 후 가열부(500'), 제1 롤(600') 및 제2 롤 (700')을 포함할 수 있다.6 is a front view of a metal electrode pattern manufacturing apparatus according to a second embodiment of the present invention. Referring to FIG. 6, the metal electrode pattern manufacturing apparatus uses a roll to roll method used to form a pattern on a flexible substrate such as PI, PET, and PEN. The coating part 100 ′ is prepared. The heating unit 200 ′, the pattern forming unit 300 ′, the washing unit 400 ′, the post heating unit 500 ′, the first roll 600 ′ and the second roll 700 ′ may be included. .

여기서, 코팅부(100'), 예비 가열부(200'), 패턴 형성부(300'), 세척부(400'), 후 가열부(500')는, 상술한 제1 실시예에서의 코팅부(100), 예비 가열부(200), 패턴 형성부(300), 세척부(400), 후 가열부(500)와 동일하므로, 별도의 설명은 생략한다. Here, the coating part 100 ', the preheating part 200', the pattern forming part 300 ', the washing part 400', and the post heating part 500 'are coated in the first embodiment described above. The unit 100, the preheating unit 200, the pattern forming unit 300, the washing unit 400, and the same as the post-heating unit 500 are omitted.

제1 롤(600')은 코팅부(100')를 기준으로, 예비 가열부(200')가 배치된 측과 반대측에 배치되고, 기판이 감겨 있다.The first roll 600 'is disposed on the side opposite to the side on which the preliminary heating part 200' is disposed, based on the coating part 100 ', and the substrate is wound.

제2 롤(700')은 후 가열부(500')를 기준으로, 세척부(400')가 배치된 측과 반대측에 배치되고, 기판이 제1 롤(600')에 감겨있는 방향과 반대방향으로 감긴다.The second roll 700 ′ is disposed on the side opposite to the side on which the cleaning unit 400 ′ is disposed on the basis of the post heating unit 500 ′, and opposite to the direction in which the substrate is wound on the first roll 600 ′. Wind in the direction.

제1 롤(600') 및 제2 롤(700')의 동작과 관련하여, 제1 롤(600')로부터 기판이 풀러져, 코팅부(100'), 예비 가열부(200'), 패턴 형성부(300'), 세척부(400'), 후 가열부(500')를 거쳐 제2 롤(700')에 감겨지도록, 제1 롤(600') 및 제2 롤(700')이 회전한다. 또한, 제1 롤(600') 및 제2 롤(700')의 회전에 의하여, 기판이, 코팅부(100')에 위치할 때 코팅부(100')에 의한 슬롯 다이 코팅이 행해지고, 예비 가열부(200')에 위치할 때 예비 가열부(200')에 의한 예비 가열이 행해지고, 패턴 형성부(300')에 위치할 때 패턴 형성부(300')에 의한 패턴 형성이 행해지고, 세척부(400')에 위치할 때 세척부(400')에 의한 세척이 행해지고, 후 가열부(500')에 위치할 때 후 가열부(500')에 의한 후 가열이 행해진다.In connection with the operation of the first roll 600 'and the second roll 700', the substrate is unrolled from the first roll 600 ', thereby coating portion 100', preheating portion 200 ', pattern The first roll 600 'and the second roll 700' are wound on the second roll 700 'via the forming part 300', the washing part 400 'and the post heating part 500'. Rotate In addition, by the rotation of the first roll 600 'and the second roll 700', slot die coating by the coating part 100 'is performed when the substrate is located in the coating part 100', and is preliminary. The preliminary heating by the preheater 200 'is performed when the heating unit 200' is positioned, and the pattern forming by the pattern forming unit 300 'is performed when the pattern forming unit 300' is positioned and washed. The washing by the washing unit 400 'is performed when positioned at the portion 400', and the post-heating by the post heating portion 500 'is performed when the washing portion 400' is positioned.

이와 같이, 제1 롤(600') 및 제2 롤(700')에 의한 연속공정은 수동이 아닌 자동화에 의해 이루어지기 때문에 패턴에 이물질이 이입되지 않고, 패턴이 외부환경에 의해 변질되지 않는다.As described above, since the continuous process by the first roll 600 'and the second roll 700' is performed by automation rather than manual, foreign matter is not introduced into the pattern, and the pattern is not altered by the external environment.

본 발명은 상술한 실시형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되지 아니한다. 첨부된 청구범위에 의해 권리범위를 한정하고자 하며, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것은 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게 자명할 것이다.The present invention is not limited by the above-described embodiment and the accompanying drawings. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims, .

10 : 기판
20 : 핫 플레이트
30 : 단일의 레이저 소스
35 : 레이저 스캐너
40 : 핫 척
100, 100': 코팅부
200, 200': 예비 가열부
300, 300': 패턴 형성부
400, 400': 세척부
500, 500': 후 가열부
600 : 제1 이송부
600a : 벨트 컨베이어
600b : 기판 장착부
600' : 제1 롤
700 : 제2 이송부
700a : 직선레일
700b : 로봇팔
700': 제2 롤
10: substrate
20: hot plate
30: single laser source
35: laser scanner
40: hot chuck
100, 100 ': coating part
200, 200 ': preheater
300, 300 ': pattern forming section
400, 400 ': cleaning part
500, 500 ': post heating part
600: first transfer unit
600a: Belt Conveyor
600b: Board Mount
600 ': 1st roll
700: second transfer part
700a: straight rail
700b: robot arm
700 ': second roll

Claims (10)

코팅부에 의하여, 기판 상에 유기금속화합물 잉크를 슬롯 다이 코팅하는 코팅단계;
예비 가열부에 의하여, 상기 코팅된 기판을 가열하는 예비 가열단계;
패턴 형성부에 의하여, 상기 가열된 기판 상에 단일의 레이저 소스로부터의 레이저 빔을 레이저 스캐너를 통하여 조사하여 패턴을 형성하는 패턴형성단계;
세척부에 의하여, 상기 패턴이 형성된 기판을 세척하는 세척단계; 및
후 가열부에 의하여, 상기 세척된 기판을 가열하는 후 가열단계;
를 포함하고,
상기 코팅부, 상기 예비 가열부 및 상기 패턴 형성부의 하측에 배치되고, 상기 기판이 장착되는 제1 이송부에 의하여, 상기 장착된 기판을 상기 코팅부의 하측 및 상기 예비 가열부의 하측를 거쳐 상기 패턴 형성부의 하측까지 수평으로 이송하는 제1 이송 단계;
상기 제1 이송부의 상측이고 상기 패턴 형성부의 하측, 상기 세척부의 상측 및 상기 후 가열부의 상측에 배치되는 제2 이송부에 의하여, 상기 패턴 형성부의 하측에 위치한 기판을 들어올려 상기 세척부로 옮기고, 상기 세척부에 위치한 기판을 들어올려 상기 후 가열부로 옮기는 제2 이송단계;
를 더 포함하고,
상기 제1 이송 단계에 의하여 상기 기판이 상기 코팅부의 하측에 위치할 때 상기 코팅단계가 행해지고, 상기 제1 이송 단계에 의하여 상기 기판이 상기 예비 가열부의 하측에 위치할 때 상기 예비 가열 단계가 행해지고, 상기 제1 이송 단계에 의하여 상기 기판이 상기 패턴 형성부의 하측에 위치할 때 상기 패턴 형성 단계가 행해지고,
상기 제2 이송 단계에 의하여 상기 기판이 상기 세척부에 위치할 때 상기 세척 단계가 행해지고, 상기 제2 이송 단계에 의하여 상기 기판이 상기 후 가열부에 위치할 때 상기 후 가열 단계가 행해지는,
금속전극패턴 제조방법.
A coating step of slot die coating the organometallic compound ink on the substrate by the coating part;
A preheating step of heating the coated substrate by a preheater;
A pattern forming step of forming a pattern by irradiating a laser beam from a single laser source on the heated substrate through a laser scanner by a pattern forming unit;
A washing step of washing the substrate on which the pattern is formed by a washing part; And
A heating step after heating the washed substrate by a heating unit;
Including,
The first substrate is disposed below the coating part, the preheating part and the pattern forming part, and the mounted substrate is passed through the lower part of the coating part and the lower part of the preheating part by the first transfer part on which the substrate is mounted. A first conveyance step of conveying horizontally up to;
The second transfer part which is above the first transfer part and disposed below the pattern forming part, above the washing part, and above the post heating part, lifts the substrate positioned below the pattern forming part, and transfers the substrate to the washing part, and the washing is performed. A second transfer step of lifting the substrate positioned in the portion and transferring the substrate to the heating unit;
Further comprising:
The coating step is performed when the substrate is positioned below the coating part by the first transfer step, and the preheating step is performed when the substrate is located below the preheat part by the first transfer step, The pattern forming step is performed when the substrate is positioned below the pattern forming part by the first transfer step,
The cleaning step is performed when the substrate is located in the cleaning part by the second transfer step, and the post heating step is performed when the substrate is located in the post heating part by the second transfer step,
Metal electrode pattern manufacturing method.
제1항 에 있어서,
상기 예비 가열 단계에서는, 적외선 노광 또는 핫 플레이트를 이용하여 가열하는,
금속전극패턴 제조방법.
The method of claim 1,
In the preliminary heating step, heating using infrared exposure or hot plate,
Metal electrode pattern manufacturing method.
제1항 에 있어서,
상기 패턴형성단계에서는, 상기 기판을 제1 축 방향, 상기 제1 축 방향과 직각인 제2 축 방향, 상기 제1 축 방향 및 상기 제2 축 방향과 직각인 제3 축 방향으로 이동시켜가며 레이저를 조사하여 패턴을 형성하는,
금속전극패턴 제조방법.
The method of claim 1,
In the pattern forming step, the substrate is moved in a first axis direction, a second axis direction perpendicular to the first axis direction, the first axis direction, and a third axis direction perpendicular to the second axis direction. To irradiate to form a pattern,
Metal electrode pattern manufacturing method.
제1항에 있어서,
상기 세척 단계에서는,
상기 기판이 담겨진 세척액에 초음파를 조사하여 상기 기판을 세척하고,
상기 세척액에 발생된 이물질을 필터링하고,
질소 가스를 분사하는 것에 의하여 상기 기판 상에 잔류된 세척액을 제거하는,
금속전극패턴 제조방법.
The method of claim 1,
In the washing step,
Washing the substrate by irradiating ultrasonic waves to the cleaning liquid containing the substrate,
Filtering foreign substances generated in the washing liquid,
Removing the cleaning liquid remaining on the substrate by spraying nitrogen gas,
Metal electrode pattern manufacturing method.
제1항 에 있어서,
상기 후 가열 단계에서는, 금속전극의 비저항이 소정 감소율로 감소하는 온도보다 큰 온도로 상기 기판을 가열하는,
금속전극패턴 제조방법.
The method of claim 1,
In the post heating step, the substrate is heated to a temperature greater than a temperature at which the specific resistance of the metal electrode decreases at a predetermined decrease rate.
Metal electrode pattern manufacturing method.
제1항 에 있어서,
상기 후 가열 단계에서는, 핫 척을 이용하여 가열하는,
금속전극패턴 제조방법.
The method of claim 1,
In the post heating step, the heating using a hot chuck,
Metal electrode pattern manufacturing method.
기판 상에 유기금속화합물 잉크를 슬롯 다이 코팅하는 코팅부;
상기 코팅부에서 코팅된 기판을 가열하는 예비 가열부;
단일의 레이저 소스로부터의 레이저 빔을, 상기 예비 가열부에서 가열된 상기 기판 상에, 레이저 스캐너를 통하여 조사하여 패턴을 형성하는 패턴 형성부;
상기 패턴 형성부에서 패턴이 형성된 기판을 세척하는 세척부; 및
상기 세척부에서 세척된 기판을 가열하는 후 가열부;
를 포함하고,
상기 코팅부, 상기 예비 가열부 및 상기 패턴 형성부의 하측에 배치되고, 상기 기판이 장착되며, 상기 장착된 상기 기판을 상기 코팅부의 하측 및 상기 예비 가열부의 하측를 거쳐 상기 패턴 형성부의 하측까지 수평으로 이송하는 제1 이송부; 및
상기 제1 이송부의 상측이고 상기 패턴 형성부의 하측, 상기 세척부의 상측 및 상기 후 가열부의 상측에 배치되고, 상기 패턴 형성부의 하측에 위치한 상기 기판을 들어올려 상기 세척부로 옮기고, 상기 세척부에 위치한 상기 기판을 들어올려 상기 후 가열부로 옮기는 제2 이송부;
를 더 포함하고,
상기 제1 이송부에 의하여 상기 기판이 상기 코팅부의 하측에 위치할 때, 상기 코팅부에 의한 슬롯 다이 코팅이 행해지고, 상기 제1 이송부에 의하여 상기 기판이 상기 예비 가열부의 하측에 위치할 때, 상기 예비 가열부에 의한 예비 가열이 행해지고, 상기 제1 이송부에 의하여 상기 기판이 상기 패턴 형성부의 하측에 위치할 때, 상시 패턴 형성부에 의한 패턴 형성이 행해지고,
상기 제2 이송부에 의하여 상기 기판이 상기 세척부에 위치할 때, 상기 세척부에 의한 세척이 행해지고, 상기 제2 이송부에 의하여 상기 기판이 상기 후 가열부에 위치할 때, 상기 후 가열부에 의한 후 가열이 행해지는,
금속전극패턴 제조장치.
A coating unit for slot-die coating an organometallic compound ink on a substrate;
A preliminary heating unit which heats the substrate coated by the coating unit;
A pattern forming unit for irradiating a laser beam from a single laser source onto the substrate heated by the preliminary heating unit through a laser scanner to form a pattern;
A washing unit washing the substrate on which the pattern is formed in the pattern forming unit; And
A heating unit after heating the substrate washed by the washing unit;
Including,
The substrate is disposed below the coating part, the preliminary heating part and the pattern forming part, and the substrate is mounted, and the mounted substrate is horizontally transferred to the lower side of the pattern forming part via the lower part of the coating part and the lower side of the preliminary heating part. A first transfer unit; And
The substrate is located above the first transfer part and disposed below the pattern forming part, above the washing part, and above the post heating part, and lifts the substrate positioned below the pattern forming part to the washing part, and is located in the washing part. A second transfer part for lifting the substrate and transferring the substrate to the post heating part;
Further comprising:
When the substrate is positioned below the coating portion by the first transfer portion, slot die coating by the coating portion is performed, and when the substrate is positioned below the preliminary heating portion by the first transfer portion, the preliminary Preliminary heating by a heating part is performed, and when the said board | substrate is located under the said pattern formation part by the said 1st conveyance part, pattern formation by a constant pattern formation part is performed,
When the substrate is located in the washing section by the second transfer section, washing is performed by the washing section, and when the substrate is located in the post heating section by the second transfer section, After the heating is done,
Metal electrode pattern manufacturing apparatus.
기판 상에 유기금속화합물 잉크를 슬롯 다이 코팅하는 코팅부;
상기 코팅부에서 코팅된 기판을 가열하는 예비 가열부;
단일의 레이저 소스로부터의 레이저 빔을, 상기 예비 가열부에서 가열된 상기 기판 상에, 레이저 스캐너를 통하여 조사하여 패턴을 형성하는 패턴 형성부;
상기 패턴 형성부에서 패턴이 형성된 기판을 세척하는 세척부; 및
상기 세척부에서 세척된 기판을 가열하는 후 가열부;
를 포함하고,
상기 코팅부를 기준으로, 상기 예비 가열부가 배치된 측과 반대측에 배치되고, 상기 기판이 감겨 있는 제1 롤;
상기 후 가열부를 기준으로, 상기 세척부가 배치된 측과 반대측에 배치되고, 상기 기판이 상기 제1 롤에 감겨있는 방향과 반대방향으로 감기는 제2 롤;
를 더 포함하고,
상기 제1 롤로부터 상기 기판이 풀러져, 상기 코팅부, 상기 예비 가열부, 상기 패턴 형성부, 상기 세척부, 상기 후 가열부를 거쳐 상기 제2 롤에 감겨지도록, 상기 제1 롤 및 상기 제2 롤이 회전하고,
상기 제1 롤 및 상기 제2 롤의 회전에 의하여, 상기 기판이, 상기 코팅부에 위치할 때 상기 코팅부에 의한 슬롯 다이 코팅이 행해지고, 상기 예비 가열부에 위치할 때 상기 예비 가열부에 의한 예비 가열이 행해지고, 상기 패턴 형성부에 위치할 때 상시 패턴 형성부에 의한 패턴 형성이 행해지고, 상기 세척부에 위치할 때 상기 세척부에 의한 세척이 행해지고, 상기 후 가열부에 위치할 때 상기 후 가열부에 의한 후 가열이 행해지는,
금속전극패턴 제조장치.
A coating unit for slot-die coating an organometallic compound ink on a substrate;
A preliminary heating unit which heats the substrate coated by the coating unit;
A pattern forming unit for irradiating a laser beam from a single laser source onto the substrate heated by the preliminary heating unit through a laser scanner to form a pattern;
A washing unit washing the substrate on which the pattern is formed in the pattern forming unit; And
A heating unit after heating the substrate washed by the washing unit;
Including,
A first roll on the side opposite to the side on which the preheating unit is disposed, based on the coating unit, on which the substrate is wound;
A second roll disposed on a side opposite to a side on which the washing unit is disposed, based on the post heating unit, and wound in a direction opposite to a direction in which the substrate is wound around the first roll;
Further comprising:
The first roll and the second roll are unrolled from the first roll so that the substrate is wound around the second roll through the coating part, the preheating part, the pattern forming part, the washing part, and the post heating part. The roll rotates,
By the rotation of the first roll and the second roll, slot die coating by the coating part is performed when the substrate is located in the coating part, and by the preheating part when it is located in the preheat part. Pre-heating is performed, pattern formation by a constant pattern formation part is performed when it is located in the said pattern formation part, washing | cleaning by the said washing | cleaning part is performed when it is located in the said washing | cleaning part, and said after After the heating is performed by the heating unit,
Metal electrode pattern manufacturing apparatus.
제7항에 있어서,
상기 제1 이송부는,
벨트 컨베이어; 및
상기 벨트 컨베이어 상에 배치되고, 상기 기판이 장착되어 상기 벨트 컨베이어의 컨베이어 동작에 의해 상기 기판을 이송하는 기판 장착부;
를 포함하고,
상기 벨트 컨베이어의 컨베이어 동작에 의하여 상기 기판 장착부가 이송되는 것에 의하여, 상기 기판이 상기 코팅부, 상기 예비 가열부 및 상기 패턴 형성부의 하측에 차례로 위치되는,
금속전극패턴 제조장치.
The method of claim 7, wherein
The first transfer unit
Belt conveyer; And
A substrate mounting unit disposed on the belt conveyor and configured to transport the substrate by mounting the substrate on a conveyor of the belt conveyor;
Including,
By transferring the substrate mounting portion by the conveyor operation of the belt conveyor, the substrate is sequentially located below the coating portion, the preheating portion and the pattern forming portion,
Metal electrode pattern manufacturing apparatus.
제7항에 있어서,
상기 제2 이송부는,
걸림턱이 형성된 직선레일; 및
상기 직선레일의 걸림턱에 걸리고, 상기 직선레일의 길이방향을 따라 이동하도록 배치되고, 상기 기판을 들어올려 상기 기판을 옮기는 로봇팔;
을 포함하고,
상기 로봇팔이 상기 직선 레일을 따라 이동하여 상기 기판을 잡아 올리고, 다시 상기 직선 레일을 따라 이동하여 상기 기판을 내려 놓는 것에 의하여, 상기 기판이 상기 세척부 및 상기 후 가열부에 위치되는,
금속전극패턴 제조장치.
The method of claim 7, wherein
Wherein the second conveying portion comprises:
Straight rail formed with a locking jaw; And
A robot arm that is caught by the latching jaw of the straight rail and is disposed to move along the longitudinal direction of the straight rail and lifts the substrate to move the substrate;
/ RTI >
By moving the robot arm along the straight rail to lift the substrate, and again along the straight rail to lay down the substrate, the substrate is located in the washing section and the post-heating unit,
Metal electrode pattern manufacturing apparatus.
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