KR101244622B1 - Isolation device for flexible thin solar cell - Google Patents
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Abstract
본 발명은 태양전지 제조공정의 가스차단장치에 관한 것으로서, 태양전지 기판이 반입 및 반출되는 챔버와; 상기 챔버의 내측면에 상기 태양 전지 기판이 이송되는 방향에 역행하는 방향으로 경사지게 돌출되어 형성된 와류 블레이드를 포함하여 구성되고, 상기 태양전지 기판이 이송되는 진행 방향에 대하여 돌출되게 배치되는 복수의 위치 조절 롤러와, 상기 위치조절롤러에 의해 형성된 상기 태양전지 기판의 오목한 진행라인을 향하여 상기 챔버로부터 돌출된 차단 블레이드와, 상기 와류 블레이드로부터 돌출되어 형성되어 복수의 와류 블레이드 사이에 와류를 더욱 생성시키는 와류 생성판을 구비하여, 외부의 공기가 프로세스 챔버 내부로 유입되는 것을 방지함과 더불어 프로세스 챔버 내부의 공정 가스가 프로세스 챔버 외부로 유출되는 것을 안정적으로 방지할 수 있다. The present invention relates to a gas barrier device of a solar cell manufacturing process, comprising: a chamber into which a solar cell substrate is loaded and unloaded; A plurality of position adjustments including an vortex blade formed on an inner side surface of the chamber and protruding obliquely in a direction opposite to a direction in which the solar cell substrate is transferred, and protruding with respect to a traveling direction in which the solar cell substrate is transferred; Rollers, a blocking blade protruding from the chamber toward the concave traveling line of the solar cell substrate formed by the positioning roller, and a vortex generation protruding from the vortex blade to further create a vortex between the plurality of vortex blades The plate may be provided to prevent outside air from flowing into the process chamber and stably prevent the process gas inside the process chamber from flowing out of the process chamber.
Description
본 발명은 가스차단장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 플렉시블 실리콘 박막 태양전지의 제조공정중에 플렉시블 필름이 챔버간에 이송될 때 독극성 물질의 가스가 챔버간에 유입되는 것을 차단하기 위한 가스차단장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a gas shutoff device, and more particularly, to a gas shutoff device for preventing a gas of a toxic substance from flowing between chambers when a flexible film is transferred between chambers during a manufacturing process of a flexible silicon thin film solar cell. will be.
태양 전지는 반도체의 성질을 이용하여 빛 에너지를 전기 에너지로 변환시키는 장치로서, 태양 광에 포함되는 광자라는 에너지 입자가 i층에 닿으면, 광기전력 효과에 의해 전자와 정공(hole)이 발생하고, 전자는 N(negative)층으로 향하여 이동함과 동시에, 정공은 P(positive)층으로 향하여 이동한다. 따라서, 광기전력 효과에 의해 발생한 전자/정공을 태양 전지에 전기적으로 연결된 상부 전극과 이면 전극으로부터 취출함으로써, 광 에너지를 전기 에너지로 변환할 수 있다.A solar cell is a device that converts light energy into electrical energy using the properties of a semiconductor. When the energy particles called photons in the solar light hit the i-layer, electrons and holes are generated by the photovoltaic effect. The electrons move toward the N (negative) layer and the holes move toward the P (positive) layer. Therefore, light energy can be converted into electrical energy by taking out electrons / holes generated by the photovoltaic effect from the upper electrode and the back electrode electrically connected to the solar cell.
비정질의 박막형 태양전지는 통상 수소화된 비정질 실리콘(a-Si:H)박막을 사용한다. 또한, 수소화된 비정질 실리콘박막은 물질 자체의 특성으로 인해 캐리어의 확산거리가 결정계 실리콘 기판보다 매우 작기 때문에, p형 비정질 실리콘과 n형 비정질 실리콘 사이에 불순물이 첨가되지 않은 i형(intrinsic) 비정질 실리콘층을 삽입한 p-i-n 접합구조를 주로 사용한다.Amorphous thin film solar cells typically use a hydrogenated amorphous silicon (a-Si: H) thin film. In addition, since the diffusion distance of the carrier is much smaller than that of the crystalline silicon substrate due to the properties of the material itself, the hydrogenated amorphous silicon thin film is an intrinsic amorphous silicon in which impurities are not added between the p-type amorphous silicon and the n-type amorphous silicon. The pin junction structure with the layer inserted is mainly used.
수소화된 비정질 실리콘(a-Si:H)박막의 증착방법으로는 SiH4와 H2 가스를 이용한 PECVD법이 가장 많이 이용되고 있다. 이러한 PECVD방법을 이용하여 제조되는 태양전지 중에서 플렉시블 박막 실리콘 태양전지는 유리기판 대신에 저가이고 경량인 플렉시블 기판의 사용과 함께 롤투롤 공정과 같은 연속적 생산이 가능하고 대량생산이 가능한 방법을 이용하여 태양전지 제조의 저가화를 도모하고 있다.PECVD using SiH4 and H2 gas is most commonly used as a deposition method for hydrogenated amorphous silicon (a-Si: H) thin films. Among the solar cells manufactured by using the PECVD method, the flexible thin film silicon solar cell is a low-cost and light-weight flexible substrate instead of a glass substrate, and can be continuously produced using a roll-to-roll process and can be mass-produced. It is aiming at low cost of battery manufacturing.
이러한 태양 전지의 제조를 위해서는 기판을 반도체층 형성을 위한 증착장치, 전극형성을 위한 스퍼터링장치, 및 반사방지층 형성을 위한 증착장치 등에 로딩하는 공정과 각각의 장치로부터 기판을 언로딩하는 공정을 반복적으로 진행하게 된다. In order to manufacture such a solar cell, a process of loading a substrate into a deposition apparatus for forming a semiconductor layer, a sputtering apparatus for forming an electrode, and a deposition apparatus for forming an antireflection layer, and the process of unloading the substrate from each device are repeated. You will proceed.
그런데, 이와 같은 공정 장치(이하 '프로세스 챔버(Process Chamber)'라 한다.) 내에서의 공정 진행은 진공하에서 수행하기 때문에 각각의 프로세스 챔버 내부로 기판을 로딩하거나 프로세스 챔버의 외부로 기판을 언로딩하는 공정시, 외부의 공기가 프로세스 챔버 내부로 유입되는 것을 방지함과 더불어 프로세스 챔버 내부의 공정 가스가 프로세스 챔버 외부로 유출되는 것을 방지할 필요가 있다. 특히, 실리콘 박막 증착 시에 사용되는 SiH4, H2, 도핑가스(CH4, PH3, B2H6) 등이 사용되는 바, 이러한 가스는 독극성 물질로서 반드시 차단하여야 할 뿐만 아니라, 후속공정에의 혼입시에 공정수행에 불량이 발생할 염려가 있다.
However, since the process proceeds in such a process apparatus (hereinafter referred to as a 'process chamber'), the process is performed under vacuum, so that the substrate is loaded into each process chamber or the substrate is unloaded out of the process chamber. During the process, it is necessary to prevent the outside air from flowing into the process chamber and to prevent the process gas inside the process chamber from flowing out of the process chamber. In particular, SiH4, H2, doping gases (CH4, PH3, B2H6) and the like used in the deposition of a silicon thin film are used, and these gases must be blocked as a poisonous material, and the process at the time of incorporation into subsequent processes. There is a risk of poor performance.
이러한 독극성 도핑가스가 다른 챔버로 유입될 시에는 박막의 특성을 크게 저하시키게 된다고 하는 문제점이 있었다. When such a toxic doping gas flows into another chamber, there is a problem in that the characteristics of the thin film are greatly reduced.
특히 프로세스 챔버 중 중간 챔버(i-layer)는 도핑가스가 전혀 유입되지 않는 진성(Intrinsic)의 실리콘 박막을 증착하게 되는데, 이 층은 조사되는 태양광을 흡수하여 전자를 발생시키는 흡수층 역할을 함으로 가스의 혼입을 절대적으로 차단해야 하는데, 종래기술에서는 가스의 유입을 안정적으로 차단하지 못한다고 하는 문제점이 있었다.
In particular, the i-layer of the process chamber deposits an intrinsic silicon thin film in which doping gas is not introduced at all. This layer serves as an absorbing layer that absorbs the irradiated sunlight and generates electrons. Should absolutely block the mixing of, the prior art had a problem that it does not stably block the inflow of gas.
본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 로드 락 챔버(Load Lock chamber), 프로세스 챔버, 언로드 락 챔버(Unload Lock Chamber)의 사이에 가스차단장치를 배치하여 외부의 공기가 프로세스 챔버 내부로 유입되는 것을 방지함과 더불어 프로세스 챔버 내부의 공정 가스가 프로세스 챔버 외부로 유출되는 것을 방지하는 플렉시블 박막 태양전지의 가스차단장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, the gas blocking device is disposed between the load lock chamber (Load Lock chamber), the process chamber, the unload lock chamber (Unload Lock Chamber) so that the outside air is the process chamber It is an object of the present invention to provide a gas barrier device of a flexible thin film solar cell that prevents the process gas inside the process chamber from flowing out of the process chamber while preventing the gas from flowing into the process chamber.
본 발명의 다른 목적은 가스차단장치 내에 블레이드를 설치하여 외부로부터 유입되는 공정 가스 또는 외부 공기의 소통을 차단하는 가스차단장치를 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a gas blocking device for installing a blade in the gas blocking device to block the communication of the process gas or the outside air flowing from the outside.
본 발명의 또 다른 목적은 프로세스 챔버 내의 다소 유입되더라도 프로세스 공정에 영향을 미치지 않게 불활성 기체를 챔버 내부로 분사하는 가스차단장치를 제공하는 것이다.
It is still another object of the present invention to provide a gas shutoff apparatus for injecting inert gas into the chamber without affecting the process process even if it is somewhat introduced into the process chamber.
상술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 가스차단장치는 태양전지 기판이 반입 및 반출되는 챔버와; 상기 챔버의 내측면에 상기 태양 전지 기판이 이송되는 방향에 역행하는 방향으로 경사지게 돌출되어 형성된 와류 블레이드를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above object, the gas barrier device of the present invention comprises a chamber in which the solar cell substrate is carried in and out; The inner surface of the chamber is characterized in that it comprises a vortex blade formed to protrude obliquely in a direction opposite to the direction in which the solar cell substrate is transferred.
여기서, 상기 태양전지 기판이 이송되는 진행 방향에 대하여 돌출되게 배치되는 복수의 위치 조절 롤러를 구비하는 것을 특징으로 한다. Here, the solar cell substrate is characterized in that it comprises a plurality of position adjustment rollers are arranged to protrude with respect to the traveling direction in which the transfer.
또한, 상기 위치조절롤러에 의해 형성된 상기 태양전지 기판의 오목한 진행라인을 향하여 상기 챔버로부터 돌출된 차단 블레이드를 더욱 구비하는 것을 특징으로 한다. In addition, it characterized in that it further comprises a blocking blade protruding from the chamber toward the concave progress line of the solar cell substrate formed by the positioning roller.
또한, 상기 와류 블레이드로부터 돌출되어 형성되어 복수의 와류 블레이드 사이에 와류를 더욱 생성시키는 와류 생성판을 더 구비하는 것을 특징으로 한다. In addition, it is characterized in that it further comprises a vortex generating plate protruding from the vortex blade to further generate a vortex between a plurality of vortex blades.
또한, 상기 와류 블레이드에 형성되며, 상기 챔버 내로 유입된 가스를 배기하는 배기 홀을 더 구비하는 것을 특징으로 한다. In addition, the vortex blade is formed, characterized in that it further comprises an exhaust hole for exhausting the gas introduced into the chamber.
또한, 상기 와류 블레이드는 상기 챔버내로 불활성 기체를 분사하는 가스주입부를 더 구비하는 것을 특징으로 한다.
In addition, the swirl blade further comprises a gas injection unit for injecting an inert gas into the chamber.
상기와 같은 구성을 갖는 본 발명에 따른 가스차단장치는 로드 락 챔버(Load Lock chamber), 프로세스 챔버, 언로드 락 챔버(Unload Lock Chamber)의 사이에 가스차단장치를 배치하여 외부의 공기가 프로세스 챔버 내부로 유입되는 것을 방지함과 더불어 프로세스 챔버 내부의 공정 가스가 프로세스 챔버 외부로 유출되는 것을 안정적으로 방지할 수 있다. In the gas shutoff device according to the present invention having the configuration as described above, a gas shutoff device is disposed between a load lock chamber, a process chamber, and an unload lock chamber so that external air is introduced into the process chamber. It is possible to stably prevent the process gas inside the process chamber from flowing out of the process chamber as well as preventing the gas from flowing into the process chamber.
즉, 가스차단장치는 블레이드를 이용하여 챔버 내에 와류를 형성하거나, 챔버 내로 유입되는 공정 가스 또는 외부의 공기를 배기 홀로 유도하여 다음의 공정이 진행될 프로세스 챔버로 공정 가스 또는 외부의 공기가 유입되는 것을 안정적으로 방지할 수 있다. That is, the gas shutoff device forms a vortex in the chamber using a blade, or guides the process gas or the outside air into the process chamber where the next process is to proceed by introducing the process gas or the outside air introduced into the chamber into the exhaust hole. It can be reliably prevented.
그리고, 불활성 기체를 챔버 내부로 분사하여 후속 공정이 진행될 프로세스 챔버로 공정 가스 또는 외부의 공기가 유입되는 것을 방지하며, 또한 불활성 기체를 챔버 내부로 분사하기 때문에 비록 미량의 불활성 기체가 프로세스 챔버로 유입되더라도 프로세스 공정에 영향을 미치지 않도록 안정적으로 구성할 수 있다.
In addition, inert gas is injected into the chamber to prevent process gas or external air from flowing into the process chamber where subsequent processes are to be performed, and inert gas is injected into the chamber, even though a small amount of inert gas flows into the process chamber. Even if it is, it can be configured stably so as not to affect the process process.
도 1은 본 발명에 따른 가스차단장치의 배치를 나타낸 도면이고,
도 2는 본 발명에 따른 가스차단장치에 와류 블레이드가 설치된 실시예를 나타낸 도면이고,
도 3은 본 발명에 따른 가스차단장치 내에 이송 라인의 배치를 통하여 공정 가스를 차단하는 제2 실시예를 나타낸 도면이고,
도 4는 도 3에 차단 블레이드가 설치된 것을 나타낸 도면이고,
도 5는 도 4에 와류 블레이드가 더 설치된 것을 나타낸 도면이고,
도 6은 본 발명에 따른 가스차단장치의 블레이드에 포함된 배기 홀, 가스흡입펌프 및 가스주입부를 나타낸 도면이고,
도 7은 내지 도 8은 본 발명에 따른 가스차단장치의 블레이드에 와류 생성판이 더 설치된 것을 나타낸 도면이다.1 is a view showing the arrangement of the gas shutoff device according to the present invention,
2 is a view showing an embodiment in which the vortex blade is installed in the gas shutoff device according to the present invention,
3 is a view showing a second embodiment of blocking the process gas through the arrangement of the transfer line in the gas shutoff device according to the present invention,
4 is a view showing that the blocking blade is installed in FIG.
5 is a view showing that the vortex blade is further installed in FIG.
6 is a view illustrating an exhaust hole, a gas suction pump, and a gas injection unit included in a blade of the gas shutoff device according to the present invention;
7 to 8 is a view showing that the vortex generating plate is further installed on the blade of the gas shutoff device according to the present invention.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예들에 대해 상세히 설명한다. 여기서, 본 발명에 따른 실시예들을 설명하는데 있어서, 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 참조번호를 사용하며, 필요에 따라 그 설명은 생략할 수 있다.
Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail embodiments according to the present invention. Here, in describing the embodiments according to the present invention, the same reference numerals are used for the same components, and description thereof may be omitted as necessary.
도 1을 참조하여 살펴보면, 본 발명에 따른 가스차단장치(1)는 태양 전지 제조 공정 사이에 배치되는 가스차단장치에 관한 것으로서, 로드 락 챔버(L/L), 프로세스 챔버(2), 언로드 락 챔버(UL/L)의 사이에 배치되어 외부의 공기가 프로세스 챔버 내부로 유입되는 것을 방지함과 더불어 프로세스 챔버 내부의 공정 가스가 프로세스 챔버 외부로 유출되는 것을 방지한다.
Referring to Figure 1, the
제1 실시예
First embodiment
도 2를 참조하여 살펴보면, 본 발명에 따른 가스차단장치(1)는 챔버(10)와 와류 블레이드(20)를 포함한다. 본 실시예에 있어서, 상기 태양전지 기판은 플렉시블 박막 태양전지 기판인 것을 예로 한다.Referring to FIG. 2, the
상기 챔버(10)에는 태양 전지 기판(2)이 이송되는 이송라인(3)이 배치될 수 있도록 내부에 공간이 형성된다. 그리고 챔버(10)의 일측에는 이송라인(3)을 따라 태양 전지 기판(2)이 진입하는 진입구(40)와 타측에는 이송라인(3)을 따라 태양 전지 기판(2)이 진출되는 진출구(50)가 형성되어 있다. The
도 2에 도시된 바와 같이 와류 블레이드(20)는 챔버(10)의 내측면에 태양 전지 기판(2)이 이송되는 방향에 역행하는 방향으로 경사지게 돌출되어 형성된다. 상기 와류 블레이드(20)는 상기 챔버 내에서 일정간격 이격되어 복수 개 설치되어 있다. 따라서, 와류 블레이드(20)는 경사진 방향으로 챔버(10)의 외부로부터 유입되는 공정 가스 또는 외부의 공기의 흐름을 유도하여 외부로부터 유입되는 공정 가스 또는 외부의 공기가 챔버(10)의 외부로 유출되는 것을 방지한다. As shown in FIG. 2, the
또한, 와류 블레이드(20)는 이송라인(3)을 따라 챔버(10)의 외부로부터 유입되는 공정 가스 또는 외부의 공기가 상기 태양전지 기판(2)의 진행을 따라 함께 진행되는 공정가스 또는 외부의 공기가 경사지게 돌출된 상기 와류 블레이드(20)를 따라 타고 올라가 복수의 와류 블레이드(20) 사이에서 와류로 형성되어 상기 와류 블레이드 사이에서 체류하여 챔버의 외부로 유출되지 않도록 구성된다. In addition, the
또한, 상기 와류 블레이드(20)의 끝단은 상기 태양전지 기판의 상기 이송 라인(3)에 인접하게 배치됨으로써, 챔버(10)의 외부로부터 이송 라인(3)을 따라 유입되는 공정 가스 또는 외부의 공기가 상기 와류 블레이드를 타고 올라가 와류를 형성하기 용이하도록 구성된다. In addition, the end of the
여기서, 화살표는 이송 라인(3)을 따라 유입되는 공정 가스 또는 외부의 공기의 흐름을 나타낸 것이다.
Here, the arrow shows the flow of process gas or external air flowing along the
제2 실시예Second Embodiment
도 3은 본 발명의 다른 실시예를 나타내는 도면이다. 도 3을 참조하여 살펴보면, 본 발명에 따른 가스차단장치(1)는 챔버(10), 진입구(40) 및 진출구(50)를 포함한다. 또한, 여기서 이송 라인(3)은 챔버 내부에 이송롤러(60)를 배치하여 롤투롤(Roll to Roll) 방식으로 태양 전지 기판(2)을 이송한다. 3 is a view showing another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 3, the
그리고, 이송 라인(3)은 태양 전지 기판이 이송되는 진행 방향에 대응하여 돌출되게 이송라인(3)이 배치되도록 위치 조절 롤러(70)를 더 포함할 수 있다. In addition, the
도 3에 도시된 바와 같이, 이송 라인(3)은 복수의 위치 조절 롤러(70)를 챔버(10)의 내측면에 인접하게 구비한다. 상기 복수의 위치 조절롤러(70)의 일부는 상기 태양전지 기판의 진행방향에 대하여 일정각도를 가지도록 배치된다. 도 3에 나타낸 바와 같이, 상기 위치조절 롤러의 일부는 상기 챔버의 내측면에 인접하도록 지그재그 형태로 배치되어, 상기 태양전지 기판의 진행방향을 따라 함께 흐르는 공정가스의 흐름을 차단하도록 구성된다. As shown in FIG. 3, the
즉, 이송 라인(3)을 따라 유입되는 공정 가스 또는 외부의 공기의 흐름은 돌출된 이송 라인(3)에 부딪혀 차단될 뿐만 아니라, 상기 위치 조절롤러를 배치함으로써 프로세스 챔버 이외의 공간에서 기판의 처짐을 방지할 수 있다. That is, the flow of the process gas or the outside air introduced along the
여기서, 화살표는 이송 라인(3)을 따라 유입되는 공정 가스 또는 외부의 공기의 흐름을 나타낸 것이다.
Here, the arrow shows the flow of process gas or external air flowing along the
한편, 도 4를 참조하여 살펴보면, 본 발명에 따른 가스차단장치(1)는 차단 블레이드(30)를 더 포함할 수 있다. Meanwhile, referring to FIG. 4, the
여기서, 차단 블레이드(30)는 도 4에 도시된 바와 같이 상기 챔버(10)로부터 돌출된 이송 라인(3)의 오목하게 들어간 부분을 향하여 챔버(10)로부터 돌출되게 배치된다. 따라서, 이송 라인(3)을 따라 유입되는 공정 가스 또는 외부의 공기의 흐름은 차단 블레이드(30)에 부딪혀 차단되게 된다.
Here, the
또한, 도 5에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 가스차단장치는 와류블레이드와 차단 블레이드와 위치조절롤러를 모두 구비하도록 구성할 수 있다. In addition, as shown in Figure 5, the gas shutoff device of the present invention can be configured to include both the vortex blade and the blocking blade and the positioning roller.
여기서, 와류 블레이드(20)는 챔버(10)의 내측면에 태양 전지 기판(2)이 이송되는 방향에 역행하는 방향으로 경사지게 돌출되게 형성된다. 따라서, 와류 블레이드(20)는 경사진 방향으로 챔버(10)의 외부로부터 유입되는 공정 가스 또는 외부의 공기의 흐름을 유도하여 외부로부터 유입되는 공정 가스 또는 외부의 공기가 챔버(10)의 외부로 유출되는 것을 방지한다. 또한, 와류 블레이드(20)는 이송 라인(3)을 따라 챔버(10)의 외부로부터 유입되는 공정 가스 또는 외부의 공기가 와류를 형성하게 하여 와류 블레이드(20)의 경사진 방향으로 공정 가스 또는 외부의 공기의 흐름을 더욱 유도한다. Here, the
이로써, 상기 태양전지 기판을 따라 함께 진행되는 공정가스 또는 외부의 공기를 상기 이송 라인(3)을 진행방향에 대하여 돌출되게 배치함으로써 일차적으로 차단하고, 상기 돌출된 이송라인에 의해 차단된 공정가스를 경사지게 배치된 상기 와류 블레이드(20) 및 차단 블레이드(30)를 통해 더욱 안정적으로 차단할 수 있다.
Thus, the process gas or the outside air that proceeds together along the solar cell substrate is first blocked by arranging the
이하, 블레이드(20, 30)는 설명함에 있어서 와류 블레이드(20)와 차단 블레이드(30)를 지칭한다. Hereinafter, the
본 발명에 따른 가스차단장치(1)는 블레이드(20, 30)에 형성된 배기 홀(21)과 배기로(22)를 더 포함할 수 있다.The
도 6을 참조하여 살펴보면, 본 발명에 따른 가스차단장치(1)의 와류 블레이드(20)에는 외부로 연통되도록 배기로(22)가 형성되어 있으며, 또한 배기로(22)에는 배기 홀(21)이 연통되어 있다. 따라서, 와류 블레이드(20)의 경사진 방향으로 유도된 공정 가스 또는 외부의 공기의 흐름은 배기 홀(21)을 통하여 외부로 배기된다. 즉, 이송 라인(3)을 따라 유입되는 공정 가스 또는 외부의 공기는 배기 홀(21)을 통하여 외부로 배기됨으로써, 챔버(10)에 인접한 프로세스 챔버 내부로 유입되는 것이 방지된다. Referring to FIG. 6, an
여기서, 배기 홀(21)은 와류 블레이드(20)에 형성된 것을 그 예로 하고 있으나, 차단 블레이드(30) 또는 챔버(10)의 내측에 형성될 수도 있다.Here, the
또한, 블레이드(20, 30)는 배기 홀(21)에 연통되게 배치되는 가스흡입펌프(23)를 더 포함할 수 있다. 따라서, 배기 홀(21)을 통하여 배기되는 공정 가스 또는 외부의 공기는 가스흡입펌프(23)에 의하여 흡입량이 조절될 뿐만 아니라 가스흡입펌프(23)의 흡입력에 의하여 강제적으로 외부로 배기될 수 있다. In addition, the
즉, 가스흡입펌프(23)는 공정 가스 또는 외부의 공기의 흐름의 세기 즉, 흡입량을 조절할 수 있으며, 각 블레이드(20, 30)의 흡입량을 조절하여 챔버(10) 내의 공정 가스 또는 외부의 공기의 흐름의 방향을 조절할 수도 있다.
That is, the
한편, 와류 블레이드(20) 끝단에 이송 라인(3)을 향하여 불활성 기체를 분사하는 가스주입부(24)를 더 포함할 수 있다. 여기서, 가스주입부(24)는 효율적으로 이송 라인(3)을 따라 유입되는 공정 가스 또는 외부의 공기를 차단하기 위해 이송 라인(3)에 인접하게 배치되도록 와류 블레이드(20)의 끝단에 배치된 것을 그 예로 하고 있으나, 차단 블레이드(30) 끝단에도 배치될 수 있으며, 또한, 챔버(10)의 내측면에 배치되어 이송 라인(3)을 향하여 불활성 기체를 분사할 수 있음은 물론이다.On the other hand, the end of the
또한, 불활성 기체는 고압 또는 고밀도의 가스로 가스주입로(26)를 통하여 공급되며, 가스주입부(24)에서 이송라인(3)을 향하여 분사된다. 따라서, 챔버(10) 내에는 고압 또는 고밀도의 불활성 기체가 채워지기 때문에 공정 가스 또는 외부의 공기가 챔버(10) 내로 유입되는 것을 방지할 수 있다. In addition, the inert gas is supplied through the
여기서, 불활성 기체는 헬륨(He), 네온(Ne), 알곤(Ar), 크립톤(Kr), 제논(Xe), 라돈(Rn) 등일 수 있다. 따라서, 불활성 기체는 공정 가스에 영향을 미치지 않으며, 미량의 불활성 기체가 프로세스 챔버 내로 유입되더라도 불활성 기체는 태양 전지 기판(2)에 증착되는 프로세스 챔버 내의 성막 공정에서 반응하지 않는다.Here, the inert gas may be helium (He), neon (Ne), argon (Ar), krypton (Kr), xenon (Xe), radon (Rn) and the like. Therefore, the inert gas does not affect the process gas, and even if a trace amount of the inert gas enters the process chamber, the inert gas does not react in the deposition process in the process chamber deposited on the
도 7 내지 도 8을 참조하여 살펴보면, 와류 블레이드는 와류 블레이드(20)로부터 수직으로 돌출된 와류 생성판(25a)과 와류 블레이드(20)의 표면에 요철 모양으로 돌출된 와류 생성판(25b)을 더 포함할 수 있다. 이송 라인(3)을 따라 유입된 공정 가스 또는 외부의 공기는 와류 블레이드(20)의 와류 생성판(25a, 25b)에 부딪혀 챔버(10) 내에 형성된 와류를 더욱 활성화시킨다. Referring to FIGS. 7 to 8, the vortex blades include a
여기서, 와류 생성판(25a, 25b)은 와류 블레이드(20)로부터 수직 돌출 및 요철 모양으로 배치된 것을 그 예로 하고 있으나, 반드시 이에 한정되지 않고 챔버(10) 내에 와류를 더욱 활성화할 수 있는 다양한 형상으로 형성될 수 있으며, 또한, 와류 블레이드(20)가 배치된 경우 챔버(10)의 내측면에도 와류 생성판(미도시)이 형성될 수 있음은 물론이다. 여기서, 화살표는 이송 라인(3)을 따라 유입되는 공정 가스 또는 외부의 공기의 흐름을 나타낸 것이다.
Here, the vortex generating plate (25a, 25b) is an example that is disposed in the vertical protrusion and concave-convex shape from the
이상에서 설명한 본 발명은 바람직한 실시 예들을 통하여 상세하게 설명되었지만, 본 발명은 이러한 실시 예들의 내용에 한정되는 것이 아님을 밝혀둔다. 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 비록 실시 예에 제시되지 않았지만 첨부된 청구항의 기재 범위 내에서 다양한 본 발명에 대한 모조나 개량이 가능하며, 이들 모두 본 발명의 기술적 범위에 속함은 너무나 자명하다 할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
While the invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments. Those skilled in the art will appreciate that various modifications, additions and substitutions are possible, without departing from the scope of the appended claims, The genius will be so self-evident. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.
1 : 가스차단장치 2 : 태양 전지 기판
3 : 이송 라인 10 : 챔버
20 : 와류 블레이드 30 : 차단 블레이드
40 : 진입구 50 : 진출구
60 : 이송롤러 70 : 위치 조절 롤러1: gas barrier device 2: solar cell substrate
3: transfer line 10: chamber
20: vortex blade 30: blocking blade
40: entrance door 50: exit door
60: feed roller 70: positioning roller
Claims (6)
태양전지 기판이 반입 및 반출되는 챔버와;
상기 챔버의 내측면에 상기 태양 전지 기판이 이송되는 방향에 역행하는 방향으로 경사지게 돌출되어 형성된 와류 블레이드와,
상기 태양전지 기판이 이송되는 진행 방향에 대하여 돌출되게 배치되는 복수의 위치 조절 롤러를 구비하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 박막 태양전지의 가스차단장치.
In the gas shutoff device disposed between a plurality of chambers for manufacturing a solar cell,
A chamber into which the solar cell substrate is loaded and unloaded;
A vortex blade formed on the inner surface of the chamber to protrude obliquely in a direction opposite to the direction in which the solar cell substrate is transferred;
Gas blocking device of a flexible thin film solar cell, characterized in that it comprises a plurality of positioning rollers protruding with respect to the traveling direction in which the solar cell substrate is transferred.
상기 위치조절롤러에 의해 형성된 상기 태양전지 기판의 오목한 진행라인을 향하여 상기 챔버로부터 돌출된 차단 블레이드를 더욱 구비하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 박막 태양전지의 가스차단장치.
The method of claim 2,
And a blocking blade protruding from the chamber toward the concave traveling line of the solar cell substrate formed by the position adjusting roller.
상기 와류 블레이드로부터 돌출되어 형성되어 복수의 와류 블레이드 사이에 와류를 더욱 생성시키는 와류 생성판을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 박막 태양전지의 가스차단장치.
The method of claim 3,
And a vortex generating plate protruding from the vortex blade to further generate a vortex between a plurality of vortex blades.
태양전지 기판이 반입 및 반출되는 챔버와;
상기 챔버의 내측면에 상기 태양 전지 기판이 이송되는 방향에 역행하는 방향으로 경사지게 돌출되어 형성된 와류 블레이드와,
상기 와류 블레이드에 형성되며, 상기 챔버 내로 유입된 가스를 배기하는 배기 홀을 구비하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 박막 태양전지의 가스차단장치.
In the gas shutoff device disposed between a plurality of chambers for manufacturing a solar cell,
A chamber into which the solar cell substrate is loaded and unloaded;
A vortex blade formed on the inner surface of the chamber to protrude obliquely in a direction opposite to the direction in which the solar cell substrate is transferred;
The gas blocking device of the flexible thin film solar cell, which is formed in the vortex blade and has an exhaust hole for exhausting the gas introduced into the chamber.
상기 와류 블레이드는 상기 챔버내로 불활성 기체를 분사하는 가스주입부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 박막 태양전지의 가스차단장치.
The method of claim 5,
The vortex blade further comprises a gas injection unit for injecting an inert gas into the chamber gas blocking device of the flexible thin film solar cell.
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KR20110054618A (en) * | 2009-11-18 | 2011-05-25 | 주성엔지니어링(주) | Apparatus and method for manufacturing thin film type solar cell |
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