KR101242336B1 - Adhesive composition for optical member, adhesive layer for optical member, adhesive optical member, transparent conductive laminate, touch panel, and image display device - Google Patents

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Abstract

본 발명의 광학 부재용 점착제 조성물은, 모노머 단위로서 탄소수 4 ∼ 14 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트 100 중량부에 대하여, 카르복실기 함유 모노머 0.2 ∼ 20 중량부를 공중합 성분으로서 함유하여 이루어지는 (메트)아크릴계 폴리머, 그리고 상기 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여, 가교제로서 과산화물 0.02 ∼ 2 중량부, 및 에폭시계 가교제 0.005 ∼ 5 중량부를 함유하여 이루어진다. 이러한 본 발명의 광학 부재용 점착제 조성물은 고온 및 고온 다습 환경 하에서의 황변을 억제할 수 있고, 또한 고온 및 고온 고습 환경 하에서의 발포, 박리 등을 억제할 수 있는 점착제층을 형성할 수 있다. The adhesive composition for optical members of this invention contains 0.2-20 weight part of carboxyl group-containing monomer as a copolymerization component with respect to 100 weight part of alkyl (meth) acrylates which have a C4-C14 alkyl group as a monomer unit (meth). It contains 0.02-2 weight part of peroxides and 0.005-5 weight part of epoxy type crosslinking agents with respect to an acryl-type polymer and 100 weight part of said (meth) acrylic-type polymers as a crosslinking agent. Such an adhesive composition for optical members of the present invention can form a pressure-sensitive adhesive layer capable of suppressing yellowing under high temperature and high temperature and high humidity environment, and also suppressing foaming, peeling, and the like under high temperature and high temperature and high humidity environment.

Description

광학 부재용 점착제 조성물, 광학 부재용 점착제층, 점착형 광학 부재, 투명 도전성 적층체, 터치 패널 및 화상 표시 장치 {ADHESIVE COMPOSITION FOR OPTICAL MEMBER, ADHESIVE LAYER FOR OPTICAL MEMBER, ADHESIVE OPTICAL MEMBER, TRANSPARENT CONDUCTIVE LAMINATE, TOUCH PANEL, AND IMAGE DISPLAY DEVICE}Adhesive composition for optical members, adhesive layer for optical members, adhesive optical member, transparent conductive laminate, touch panel and image display device {ADHESIVE COMPOSITION FOR OPTICAL MEMBER, ADHESIVE LAYER FOR OPTICAL MEMBER, ADHESIVE OPTICAL MEMBER, TRANSPARENT CONDUCTIVE LAMINATE, TOUCH PANEL, AND IMAGE DISPLAY DEVICE}

본 발명은 광학 부재용 점착제 조성물 및 당해 점착제 조성물에 의해 형성된 광학 부재용 점착제층에 관한 것이다. 또 본 발명은 광학 부재의 적어도 편면에 상기 광학 부재용 점착제층이 형성되어 있는 점착형 광학 부재에 관한 것이다. 점착형 광학 부재로는 예를 들어, 점착제층 부착 투명 도전성 필름을 들 수 있고, 당해 점착제층 부착 투명 도전성 필름은, 적절히 가공 처리가 이루어진 후에, 액정 디스플레이, 일렉트로루미네선스 디스플레이 등의 새로운 디스플레이 방식이나 터치 패널 등에 있어서의 투명 전극에 사용된다. 그 밖에, 점착제층 부착 투명 도전성 필름은, 투명 물품의 대전 방지나 전자파 차단, 액정 조광 (照光) 유리, 투명 히터에 사용된다. 또, 점착형 광학 부재로는 예를 들어, 점착제층 부착 광학 필름을 들 수 있고, 당해 점착제층 부착 광학 필름은 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 사용된다. 상기 광학 필름으로는, 편광판, 위상차판, 광학 보상 필름, 휘도 향상 필름, 나아가서는 이들이 적층되어 있는 것을 사용할 수 있다. This invention relates to the adhesive composition for optical members, and the adhesive layer for optical members formed with the said adhesive composition. Moreover, this invention relates to the adhesive optical member in which the adhesive layer for optical members is formed in the at least single side | surface of an optical member. As an adhesive optical member, a transparent conductive film with an adhesive layer is mentioned, for example, After the processing process is given suitably, the said transparent conductive film with an adhesive layer is a new display system, such as a liquid crystal display and an electroluminescent display. Or a transparent electrode in a touch panel or the like. In addition, the transparent conductive film with an adhesive layer is used for antistatic and electromagnetic wave blocking of a transparent article, liquid crystal dimming glass, and a transparent heater. Moreover, as an adhesive optical member, the optical film with an adhesive layer is mentioned, for example, The said optical film with an adhesive layer is used for image display apparatuses, such as a liquid crystal display device and an organic electroluminescence display. As said optical film, a polarizing plate, a retardation plate, an optical compensation film, a brightness improving film, and also those in which these are laminated can be used.

종래, 투명 도전성 박막으로는, 유리 상에 산화인듐 박막을 형성한, 이른바 도전성 유리가 잘 알려져 있는데, 도전성 유리는 기재가 유리이기 때문에 가요성, 가공성이 떨어지며 용도에 따라서는 사용할 수 없는 경우가 있다. 그 때문에, 최근에는 가요성, 가공성에 추가하여, 내충격성이 우수하고, 경량인 점 등의 이점에서, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 비롯한 각종 플라스틱 필름을 기재로 한 투명 도전성 필름이 사용되고 있다. Conventionally, as a transparent conductive thin film, what is called a conductive glass which formed the indium oxide thin film on glass is well known, but since conductive substrate is glass, flexibility and workability are inferior, and it may not be usable depending on a use. . Therefore, in recent years, in addition to flexibility and workability, a transparent conductive film based on various plastic films including polyethylene terephthalate films has been used in terms of excellent impact resistance and light weight.

상기 투명 도전성 필름은, 투명 플라스틱 필름 기재의 일방의 면에 투명 도전성 박막을 형성하고, 또한 투명 플라스틱 필름 기재의 타방의 면에 점착제층을 갖는 점착제층 부착 투명 도전성 필름의 점착제층을 개재하여 투명 기체를 접착시킨 투명 전도성 적층체로서 사용되고 있다 (특허 문헌 1).The transparent conductive film forms a transparent conductive thin film on one surface of the transparent plastic film base material, and is a transparent substrate via the adhesive layer of the transparent conductive film with an adhesive layer having an adhesive layer on the other side of the transparent plastic film base material. It is used as a transparent conductive laminated body which adhered to (patent document 1).

또, 편광판 등의 광학 필름도 통상, 광학 필름의 편면에 미리 점착제층을 형성한 점착제층 부착 광학 필름으로서 일반적으로 사용된다 (특허 문헌 2). Moreover, optical films, such as a polarizing plate, are also generally used as an optical film with an adhesive layer which previously formed the adhesive layer in the single side | surface of an optical film (patent document 2).

특허 문헌 1 : 일본 공개특허공보 평6-309990호 Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 6-309990

특허 문헌 2 : 일본 공개특허공보 2000-316181호 Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-316181

발명의 개시DISCLOSURE OF INVENTION

발명이 해결하고자 하는 과제Problems to be solved by the invention

상기 투명 도전성 필름이나 편광판 등의 광학 부재에 적용되는 점착제층에는, 주로 아크릴계 점착제가 사용되고 있다. 아크릴계 점착제로는, 베이스 폴리머인 아크릴계 폴리머에, 이소시아네이트계 가교제 등의 가교제를 배합한 것이 통상적으로 사용되고 있다. 그러나, 이소시아네이트계 가교제를 사용하는 경우에는, 고온 및 고온 다습 환경 하에서, 황변이 발생하여 시인성이 저하되는 문제가 있다. 특히, 가교제로서 이소시아네이트계 가교제와 과산화물을 사용한 경우에는 황변이 현저하다. 또, 특허 문헌 2 에서는, 베이스 폴리머인 아크릴계 폴리머에, 가교제로서 에폭시계 가교제와 과산화물을 사용하는 것이 기재되어 있다. 그러나, 에폭시계 가교제와 과산화물을 사용한 경우에는, 황변의 문제는 없지만, 아크릴계 폴리머와의 관계에서 당해 가교제와의 가교 반응이 불충분해져, 점착제층은 고온 및 고온 고습 환경 하에서의 발포, 박리가 발생하는 등의 다른 문제가 있다. Acrylic adhesive is mainly used for the adhesive layer applied to optical members, such as the said transparent conductive film and a polarizing plate. As an acrylic adhesive, what mix | blended crosslinking agents, such as an isocyanate type crosslinking agent, with the acrylic polymer which is a base polymer is used normally. However, when using an isocyanate crosslinking agent, yellowing occurs in a high temperature and high temperature and high humidity environment, and there exists a problem that visibility falls. In particular, when an isocyanate crosslinking agent and a peroxide are used as the crosslinking agent, yellowing is remarkable. Moreover, in patent document 2, using an epoxy type crosslinking agent and a peroxide as a crosslinking agent is described in the acryl-type polymer which is a base polymer. However, when the epoxy crosslinking agent and the peroxide are used, there is no problem of yellowing, but the crosslinking reaction with the crosslinking agent is insufficient in relation to the acrylic polymer, and the pressure-sensitive adhesive layer causes foaming and peeling under high temperature and high temperature and high humidity environment. There is another problem.

또, 투명 도전성 적층체는 저항막 방식 등의 펜 입력용 터치 패널 기판에 사용되는 경우에는, 입력 펜에 대하여 흔적 등을 발생시키지 않는 내(耐)펜 흔적성을 만족시키는 것도 요구된다. Moreover, when a transparent conductive laminated body is used for pen input touch panel substrates, such as a resistive film system, it is also required to satisfy the pen trace resistance which does not generate | occur | produce a trace with respect to an input pen.

본 발명은 고온 및 고온 다습 환경 하에서의 황변을 억제할 수 있고, 또한 고온 및 고온 고습 환경 하에서의 발포, 박리 등을 억제할 수 있는 점착제층을 형성할 수 있는 광학 부재용 점착제 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또 본 발명은 당해 광학 부재용 점착제 조성물에 의해 형성된 광학 부재용 점착제층을 제공하는 것을 목적으로 한다. An object of the present invention is to provide a pressure-sensitive adhesive composition for an optical member capable of forming a pressure-sensitive adhesive layer capable of suppressing yellowing under a high temperature and high temperature and high humidity environment, and also suppressing foaming and peeling under a high temperature and high temperature and high humidity environment. do. Moreover, an object of this invention is to provide the adhesive layer for optical members formed with the said adhesive composition for optical members.

또 본 발명은 광학 부재의 적어도 편면에 상기 광학 부재용 점착제층이 형성되어 있는 점착형 광학 부재를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 점착형 광학 부재로서, 내펜 흔적성을 만족시킬 수 있는 점착제층 부착 투명 도전성 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또 본 발명은 상기 점착제층 부착 투명 도전성 필름을 사용한 투명 도전성 적층체를 제공하는 것, 또한 상기 점착제층 부착 투명 도전성 필름 또는 투명 도전성 적층체를 사용한, 터치 패널을 제공하는 것을 목적으로 한다. Moreover, an object of this invention is to provide the adhesive optical member in which the adhesive layer for optical members is formed in the at least single side | surface of an optical member. Moreover, it aims at providing the transparent conductive film with an adhesive layer which can satisfy | fill pen trace resistance as an adhesive optical member. Moreover, an object of this invention is to provide the transparent conductive laminated body using the said transparent conductive film with an adhesive layer, and to provide the touch panel using the said transparent conductive film with an adhesive layer or a transparent conductive laminated body.

또한, 점착형 광학 부재로서, 점착제층 부착 광학 필름을 제공하는 것, 당해 점착제층 부착 광학 필름을 사용한 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. Moreover, it aims at providing the optical film with an adhesive layer as an adhesive optical member, and providing the image display apparatus using the optical film with an adhesive layer.

과제를 해결하기 위한 수단Means for solving the problem

본원 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 하기 광학 부재용 점착제 조성물 등에 의해 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 알아내어 본 발명을 완성시키기에 이르렀다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining in order to solve the said subject, the present inventors discovered that the said objective can be achieved by the following adhesive composition for optical members, and came to complete this invention.

즉, 본 발명은 모노머 단위로서 탄소수 4 ∼ 14 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트 100 중량부에 대하여, 카르복실기 함유 모노머 0.2 ∼ 20 중량부를 공중합 성분으로서 함유하여 이루어지는 (메트)아크릴계 폴리머,That is, this invention is a (meth) acrylic-type polymer which contains 0.2-20 weight part of carboxyl group-containing monomer as a copolymerization component with respect to 100 weight part of alkyl (meth) acrylates which have a C4-C14 alkyl group as a monomer unit,

그리고, 상기 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여, 가교제로서 과산화물 0.02 ∼ 2 중량부, 및 에폭시계 가교제 0.005 ∼ 5 중량부를 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 부재용 점착제 조성물에 관한 것이다. And it is related with the adhesive composition for optical members which consists of 0.02-2 weight part of peroxides and 0.005-5 weight part of epoxy type crosslinking agents with respect to 100 weight part of said (meth) acrylic-type polymers.

상기 광학 부재용 점착제 조성물에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여, 추가로 가교제로서 이소시아네이트계 가교제 0.01 ∼ 0.5 중량부 함유할 수 있다. In the said adhesive composition for optical members, 0.01-0.5 weight part of isocyanate type crosslinking agents can be contained further as a crosslinking agent with respect to 100 weight part of said (meth) acrylic-type polymers.

상기 광학 부재용 점착제 조성물에 있어서 상기 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여, 추가로 실란 커플링제 0.01 ∼ 1 중량부 함유할 수 있다. In the said adhesive composition for optical members, 0.01-1 weight part of silane coupling agents can be contained further with respect to 100 weight part of said (meth) acrylic-type polymers.

상기 광학 부재용 점착제 조성물에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 폴리머로서, 모노머 단위로서 알킬(메트)아크릴레이트 100 중량부에 대하여, 추가로 히드록실기 함유 모노머 0.01 ∼ 5 중량부를 함유하는 것을 사용할 수 있다. In the said adhesive composition for optical members, what contains 0.01-5 weight part of hydroxyl-group containing monomers further with respect to 100 weight part of alkyl (meth) acrylates as a monomeric unit as said (meth) acrylic-type polymer can be used. .

또 본 발명은 상기 광학 부재용 점착제 조성물에 의해 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광학 부재용 점착제층에 관한 것이다. Moreover, this invention relates to the adhesive layer for optical members characterized by being formed by the said adhesive composition for optical members.

상기 광학 부재용 점착제층은 23 ℃ 에서의 저장 탄성률 (G') 이 20000 ∼ 500000 ㎩ 인 것이 바람직하다. It is preferable that the storage elastic modulus (G ') in 23 degreeC of the said adhesive layer for optical members is 20000-50000 Pa.

상기 광학 부재용 점착제층은 겔분율이 70 ∼ 98 중량% 인 것이 바람직하다. It is preferable that the gel fraction of the said adhesive layer for optical members is 70 to 98 weight%.

또 본 발명은 광학 부재의 적어도 일방의 면에, 상기 광학 부재용 점착제층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 점착형 광학 부재에 관한 것이다. Moreover, this invention relates to the adhesive optical member characterized by the above-mentioned adhesive layer for optical members being formed in at least one surface of an optical member.

상기 점착형 광학 부재에 있어서 점착제층과 광학 부재가, 앵커층을 개재하여 적층되어 있는 것이 바람직하다. 상기 앵커층은 폴리머를 함유하는 것이 바람직하다.In the said adhesive optical member, it is preferable that the adhesive layer and the optical member are laminated | stacked through the anchor layer. The anchor layer preferably contains a polymer.

상기 점착형 광학 부재로는, 예를 들어, 제 1 투명 플라스틱 필름 기재의 일방의 면에 점착제층을 갖고, 당해 제 1 투명 플라스틱 필름 기재의 타방의 면에는 투명 도전성 박막을 갖는 점착제층 부착 투명 도전성 필름을 들 수 있다. As said adhesive optical member, For example, the adhesive layer has an adhesive layer in one surface of a 1st transparent plastic film base material, and has a transparent conductive thin film in the other surface of the said 1st transparent plastic film base material A film is mentioned.

상기 점착제층 부착 투명 도전성 필름에 있어서, 투명 도전성 박막은 적어도 1 층의 언더 코트층을 개재하여, 제 1 투명 플라스틱 필름 기재의 일방의 면에 형성할 수 있다. In the said transparent conductive film with an adhesive layer, a transparent conductive thin film can be formed in one surface of a 1st transparent plastic film base material through at least one undercoat layer.

또, 본 발명은 상기 점착제층 부착 투명 도전성 필름에 있어서의 점착제층에, 추가로 제 2 투명 플라스틱 필름 기재가 접착되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 적층체에 관한 것이다. Moreover, this invention relates to the transparent conductive laminated body further characterized by the 2nd transparent plastic film base material adhere | attached on the adhesive layer in the said transparent conductive film with an adhesive layer.

상기 투명 도전성 적층체에 있어서, 제 2 투명 플라스틱 필름 기재는, 편면 또는 양면에 하드 코트층을 가질 수 있다. In the transparent conductive laminate, the second transparent plastic film base material may have a hard coat layer on one side or both sides.

또 본 발명은 상기 점착제층 부착 투명 도전성 필름 또는 투명 도전성 적층체가, 터치 패널용 투명 도전성 필름으로서 사용되고 있는 것을 특징으로 하는 터치 패널에 관한 것이다. Moreover, this invention relates to the touchscreen characterized by the said transparent conductive film with an adhesive layer or a transparent conductive laminated body being used as a transparent conductive film for touch panels.

또 상기 점착형 광학 부재로는 예를 들어, 점착형 광학 부재가, 화상 표시 장치용 광학 필름의 적어도 일방의 면에 점착제층을 갖는 점착제층 부착 광학 필름을 들 수 있다. 상기 광학 필름으로는, 편광판 또는 위상차판을 바람직하게 사용할 수 있다. Moreover, as said adhesive optical member, the optical film with an adhesive layer which an adhesive optical member has an adhesive layer in at least one surface of the optical film for image display apparatus is mentioned, for example. As said optical film, a polarizing plate or a retardation plate can be used preferably.

또 본 발명은 상기 점착제층 부착 광학 필름에 관련된 점착형 광학 부재가, 적어도 1 개 사용되고 있는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치에 관한 것이다. Moreover, this invention relates to the image display apparatus characterized by the at least 1 adhesive type optical member which concerns on the said optical film with an adhesive layer being used.

발명의 효과Effects of the Invention

본 발명의 광학 부재용 점착제 조성물은, 카르복실기 함유 모노머를 소정량함유하는 (메트)아크릴계 폴리머에 대하여, 가교제로서 소정량의 과산화물 및 에폭시계 가교제가 배합되어 있고, 이러한 점착제 조성물을 사용함으로써 고온 및 고온 다습 환경 하에서의 황변을 억제할 수 있고, 또한 고온 및 고온 고습 환경 하에서의 발포, 박리 등을 억제할 수 있는 점착제층을 형성할 수 있다. 또, 당해 점착제층은 각종 점착형 광학 부재에 있어서 사용되는데, 예를 들어, 점착제층 부착 투명 도전성 필름에 적용한 경우에는, 내펜 흔적성을 만족시킬 수 있다. In the pressure-sensitive adhesive composition for an optical member of the present invention, a predetermined amount of peroxide and an epoxy-based crosslinking agent are blended as a crosslinking agent with respect to the (meth) acrylic polymer containing a predetermined amount of a carboxyl group-containing monomer. Yellowing under a high humidity environment can be suppressed, and an adhesive layer capable of suppressing foaming, peeling, etc. under a high temperature and a high temperature and high humidity environment can be formed. Moreover, although the said adhesive layer is used in various adhesive optical members, when applied to the transparent conductive film with an adhesive layer, pen trace resistance can be satisfy | filled, for example.

종래의 이소시아네이트계 가교제는 고온 및 고온 다습 환경 하에서, 수소 인발 반응을 일으키기 쉽고, 특히 방향족계 이소시아네이트계 가교제에서는, 퀴논 이미드 구조 (황색을 띠는 구조) 를 취하기 쉽기 때문에, 이소시아네이트계 가교제를 사용한 점착제는 황변되기 쉽다. 특히, 과산화물의 존재 하에서, 이소시아네이트계 가교제를 사용한 경우에는, 점착제의 황변이 현저하다. 한편, 본 발명에서는 점착제의 가교제로서 에폭시계 가교제를 사용함으로써, 과산화물을 사용한 경우에서도 황변을 억제하고 있다. 또, 에폭시계 가교제를 사용한 경우에는, 이소시아네이트계 가교제를 소정량 병용한 경우라도 황변을 억제할 수 있다. Conventional isocyanate crosslinking agents tend to cause hydrogen drawing reactions under high temperature and high temperature and high humidity environments, and especially in aromatic isocyanate crosslinking agents, it is easy to take a quinone imide structure (yellowish structure), and thus an adhesive using an isocyanate crosslinking agent Is prone to yellowing. In particular, when an isocyanate crosslinking agent is used in the presence of a peroxide, yellowing of the pressure-sensitive adhesive is remarkable. On the other hand, in this invention, yellowing is suppressed also when a peroxide is used by using an epoxy type crosslinking agent as a crosslinking agent of an adhesive. Moreover, when an epoxy type crosslinking agent is used, yellowing can be suppressed even when a predetermined amount isocyanate type crosslinking agent is used together.

또, 과산화물은 가열에 의해 라디칼을 발생시켜 (메트)아크릴계 폴리머의 주사슬에 대하여 가교를 발생시키고, 한편 에폭시계 가교제는 (메트)아크릴계 폴리머 중에 공중합 성분으로서 도입한 카르복실기 함유 모노머에서 유래되는 카르복실기와의 반응에 의해 가교를 발생시킨다. 이와 같이, 가교제로서 과산화물과 에폭시계 가교제를 함유하는 점착제 조성물을 가교함으로써 얻어지는 점착제층은 겔분율, 저장 탄성률을 높게 설정하기 쉽고, 고온 및 고온 고습 환경 하에서의 발포, 박리의 발생을 억제할 수 있고, 또 점착제층 부착 투명 도전성 필름에 있어서는 내펜 흔적성을 향상시키는 데 바람직하다. 또, 본 발명과 같이 카르복실기 함유 (메트)아크릴계 폴리머에 대하여, 가교제로서 과산화물과 에폭시계 가교제를 사용한 점착제 조성물은, 가교제로서 과산화물과 이소시아네이트계 가교제를 사용한 점착제 조성물보다, 소량의 가교제의 배합에 의해 점착제층의 겔분율, 저장 탄성률을 높게 설정하기 쉽다. 따라서, 에폭시계 가교제와 함께, 이소시아네이트계 가교제를 병용하는 경우에도, 이소시아네이트계 가교제의 비율을 억제할 수 있고, 황변을 억제하면서 고온 및 고온 고습 환경 하에서의 발포, 박리의 발생을 억제할 수 있다. 또 점착제층 부착 투명 도전성 필름에 있어서는 내펜 흔적성을 향상시킬 수 있다. The peroxide generates radicals by heating to generate crosslinking with respect to the main chain of the (meth) acrylic polymer, while the epoxy crosslinking agent is a carboxyl group derived from a carboxyl group-containing monomer introduced into the (meth) acrylic polymer as a copolymerization component. The crosslinking is caused by the reaction. Thus, the pressure-sensitive adhesive layer obtained by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition containing a peroxide and an epoxy-based crosslinking agent as a crosslinking agent is easy to set the gel fraction and storage elastic modulus high, and can suppress the occurrence of foaming and peeling under a high temperature and high temperature and high humidity environment, Moreover, in the transparent conductive film with an adhesive layer, it is preferable in order to improve pen trace resistance. Moreover, about the carboxyl group-containing (meth) acrylic-type polymer like this invention, the adhesive composition which used a peroxide and an epoxy crosslinking agent as a crosslinking agent is an adhesive by mix | blending a small amount of crosslinking agent rather than the adhesive composition which used a peroxide and an isocyanate type crosslinking agent as a crosslinking agent. It is easy to set the gel fraction and storage elastic modulus of a layer high. Therefore, even when using an isocyanate type crosslinking agent together with an epoxy type crosslinking agent, the ratio of an isocyanate type crosslinking agent can be suppressed and foaming and peeling in high temperature, high temperature, high humidity environment can be suppressed, suppressing yellowing. Moreover, in the transparent conductive film with an adhesive layer, pen trace resistance can be improved.

도 1 은 본 발명의 점착형 광학 부재의 일례를 나타내는 단면도이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows an example of the adhesive optical member of this invention.

도 2 는 본 발명의 점착형 광학 부재의 일례를 나타내는 단면도이다. 2 is a cross-sectional view showing an example of the pressure-sensitive adhesive optical member of the present invention.

도 3 은 본 발명의 점착형 광학 부재의 일례를 나타내는 단면도이다. 3 is a cross-sectional view showing an example of the pressure-sensitive adhesive optical member of the present invention.

도 4 는 본 발명의 점착제층 부착 투명 도전성 필름의 일례를 나타내는 단면도이다. It is sectional drawing which shows an example of the transparent conductive film with an adhesive layer of this invention.

도 5 는 본 발명의 점착제층 부착 투명 도전성 필름의 일례를 나타내는 단면도이다. It is sectional drawing which shows an example of the transparent conductive film with an adhesive layer of this invention.

도 6 은 본 발명의 투명 도전성 적층체의 일례를 나타내는 단면도이다. It is sectional drawing which shows an example of the transparent conductive laminated body of this invention.

도 7 은 본 발명의 투명 도전성 적층체의 일례를 나타내는 단면도이다. It is sectional drawing which shows an example of the transparent conductive laminated body of this invention.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태Best Mode for Carrying Out the Invention

이하 본 발명의 광학 부재용 점착제 조성물에 대하여 설명한다. Hereinafter, the adhesive composition for optical members of this invention is demonstrated.

본 발명의 광학 부재용 점착제 조성물은, 모노머 단위로서 탄소수 4 ∼ 14의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트 100 중량부에 대하여, 카르복실기 함유 모노머 0.2 ∼ 20 중량부를 공중합 성분으로서 함유하여 이루어지는 (메트)아크릴계 폴리머를 베이스 폴리머로서 사용한다. The adhesive composition for optical members of this invention contains 0.2-20 weight part of carboxyl group-containing monomer as a copolymerization component with respect to 100 weight part of alkyl (meth) acrylates which have a C4-C14 alkyl group as a monomer unit (meth). An acrylic polymer is used as a base polymer.

알킬(메트)아크릴레이트로는, 알킬(메트)아크릴레이트의 알킬기는 직사슬, 분지사슬 중 어느 것이어도 된다. 상기 알킬기의 탄소수는 4 ∼ 12 가 바람직하고, 나아가서는 탄소수 4 ∼ 9 의 것이 바람직하다. 또한, (메트)아크릴레이트는 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 말하며, 본 발명의 (메트) 와는 동일한 의미이다. As alkyl (meth) acrylate, the alkyl group of an alkyl (meth) acrylate may be a linear or branched chain. 4-12 are preferable and, as for carbon number of the said alkyl group, a C4-9 thing is more preferable. In addition, (meth) acrylate refers to acrylate and / or methacrylate, and has the same meaning as (meth) of this invention.

알킬(메트)아크릴레이트의 구체예로는, n-부틸(메트)아크릴레이트, s-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, n-펜틸(메트)아크릴레이트, 이소펜틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 헵틸(메트)아크릴레이트, 이소아밀(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, n-옥틸(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, n-노닐(메트)아크릴레이트, 이소노닐(메트)아크릴레이트, n-데실(메트)아크릴레이트, 이소데실(메트)아크릴레이트, n-도데실(메트)아크릴레이트, 이소미리스틸(메트)아크릴레이트, n-트리데실(메트)아크릴레이트, n-테트라데실(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 이소스테아릴(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 중에서 도, n-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트 등을 예시할 수 있고, 이들은 단독 또는 조합하여 사용할 수 있다. As a specific example of alkyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, n-pentyl (Meth) acrylate, isopentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl ( Meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, n-nonyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, n-decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, n-dode Sil (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, n-tridecyl (meth) acrylate, n-tetradecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) Acrylates and the like. Especially, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, etc. can be illustrated, These can be used individually or in combination.

카르복실기 함유 모노머로는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성 관능기를 갖고, 또한 카르복실기를 갖는 것을 특별한 제한없이 사용할 수 있다. 카르복실기 함유 모노머로는 예를 들어, 아크릴산, 메타크릴산, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등을 들 수 있고, 이들은 단독 또는 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서, 아크릴산, 메타크릴산이 바람직하고, 특히 아크릴산이 바람직하다. As a carboxyl group-containing monomer, what has a polymerizable functional group which has unsaturated double bonds, such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group, and has a carboxyl group can be used without a restriction | limiting in particular. Examples of the carboxyl group-containing monomers include acrylic acid, methacrylic acid, carboxyethyl (meth) acrylate, carboxypentyl (meth) acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, and the like. It can be used in combination. Among these, acrylic acid and methacrylic acid are preferable, and acrylic acid is particularly preferable.

카르복실기 함유 모노머는, 알킬(메트)아크릴레이트 100 중량부에 대하여 0.2 ∼ 20 중량부의 비율로 사용된다. 카르복실기 함유 모노머의 상기 비율은, 바람직하게는 1 ∼ 15 중량부이며, 나아가서는 3 ∼ 10 중량부인 것이 보다 바람직하다. 카르복실기 함유 모노머의 비율이 지나치게 적으면 에폭시계 가교제와의 가교 반응이 불충분해져, 점착제 조성물로 형성되는 점착제층은 고온 및 고온 고습 환경 하에서의 발포, 박리가 발생하는 것 이외에, 점착제층 부착 투명 도전성 필름에 적용하는 경우에는 펜 흔적이 생기기 쉬워져 터치 패널용 점착제층으로서 바람직하지 않다. 한편, 카르복실기 함유 모노머의 비율이 지나치게 많아지면, 가교 과다가 되어 접착성이 떨어지기 때문에 바람직하지 않다. A carboxyl group-containing monomer is used in the ratio of 0.2-20 weight part with respect to 100 weight part of alkyl (meth) acrylates. The said ratio of a carboxyl group-containing monomer becomes like this. Preferably it is 1-15 weight part, Furthermore, it is more preferable that it is 3-10 weight part. When the ratio of the carboxyl group-containing monomer is too small, the crosslinking reaction with the epoxy-based crosslinking agent is insufficient, and the pressure-sensitive adhesive layer formed of the pressure-sensitive adhesive composition is formed on a transparent conductive film with a pressure-sensitive adhesive layer in addition to foaming and peeling under a high temperature and high temperature and high humidity environment. In the case of application, pen traces tend to occur, which is not preferable as an adhesive layer for touch panels. On the other hand, when the ratio of the carboxyl group-containing monomer is excessively large, crosslinking becomes excessive and adhesiveness is inferior, which is not preferable.

또, 상기 (메트)아크릴계 폴리머에는, 카르복실기 함유 모노머 이외에, 공중합 성분으로서 히드록실기 함유 모노머를 사용할 수 있다. 히드록실기 함유 모 노머로는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기를 갖고, 또한 히드록실기를 갖는 것을 특별한 제한없이 사용할 수 있다. 히드록실기 함유 모노머로는 예를 들어, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메트)아크릴레이트, 8-히드록시옥틸(메트)아크릴레이트, 10-히드록시데실(메트)아크릴레이트, 12-히드록시라우릴(메트)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메트)아크릴레이트 ; 히드록시에틸(메트)아크릴아미드, 그 밖에, (4-히드록시메틸시클로헥실)메틸아크릴레이트, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-히드록시(메트)아크릴아미드, 알릴알코올, 2-히드록시에틸비닐에테르, 4-히드록시부틸비닐에테르, 디에틸렌글리콜모노비닐에테르 등을 들 수 있고, 이들은 단독 또는 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도 히드록시알킬(메트)아크릴레이트가 바람직하다. In addition to the carboxyl group-containing monomer, a hydroxyl group-containing monomer can be used as the copolymerization component in the (meth) acrylic polymer. As a hydroxyl group containing monomer, what has a polymerizable functional group which has unsaturated double bonds, such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group, and has a hydroxyl group can be used without a restriction | limiting in particular. As a hydroxyl group containing monomer, it is 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl ( Meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 10-hydroxydecyl (meth) acrylate, 12-hydroxylauryl (meth) acrylate, etc. Hydroxyalkyl (meth) acrylates; Hydroxyethyl (meth) acrylamide, in addition, (4-hydroxymethylcyclohexyl) methyl acrylate, N-methylol (meth) acrylamide, N-hydroxy (meth) acrylamide, allyl alcohol, 2- Hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, etc. are mentioned, These can be used individually or in combination. Among these, hydroxyalkyl (meth) acrylate is preferable.

히드록실기 함유 모노머의 사용 비율은, 알킬(메트)아크릴레이트 100 중량부에 대하여 5 중량부 이하로 하는 것이 바람직하다. 히드록실기 함유 모노머의 상기 비율은, 0.01 ∼ 5 중량부인 것이 바람직하고, 나아가서는 0.01 ∼ 2 중량부인 것이 바람직하다. 히드록실기 함유 모노머를 상기 범위에서 사용함으로써, 내구성을 보다 향상시킬 수 있다. It is preferable to use the hydroxyl group containing monomer in 5 weight part or less with respect to 100 weight part of alkyl (meth) acrylates. It is preferable that the said ratio of a hydroxyl group containing monomer is 0.01-5 weight part, Furthermore, it is preferable that it is 0.01-2 weight part. By using a hydroxyl group containing monomer in the said range, durability can be improved more.

상기 (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 공중합 성분으로는 상기 모노머 이외에, 접착성 등의 개선을 목적으로 하여, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 상기 이외의 모노머를, 알킬(메트)아크릴레이트 100 중량부에 대하여 50 중량 부 이하의 범위에서 사용할 수 있다. 임의 모노머의 비율은 또한 20 중량부 이하인 것이 바람직하다.As a copolymerization component which forms the said (meth) acrylic-type polymer, in addition to the said monomer, alkyl (meth) acrylate is used for the monomer of that excepting the above in the range which does not impair the objective of this invention for the purpose of improvement of adhesiveness, etc. It can be used in the range of 50 parts by weight or less based on 100 parts by weight. It is preferable that the ratio of an arbitrary monomer is also 20 weight part or less.

상기 임의 모노머로는 예를 들어, 무수 말레산, 무수 이타콘산 등의 산무수물기 함유 모노머 ; 아크릴산의 카프로락톤 부가물 ; 스티렌술폰산이나 알릴술폰산, 2-(메트)아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, (메트)아크릴아미드프로판술폰산, 술포프로필(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴로일옥시나프탈렌술폰산 등의 술폰산기 함유 모노머 ; 2-히드록시에틸아크릴로일포스페이트 등의 인산기 함유 모노머 등을 들 수 있다. As said arbitrary monomer, For example, Acid anhydride group containing monomers, such as maleic anhydride and itaconic anhydride; Caprolactone adducts of acrylic acid; Containing sulfonic acid group such as styrene sulfonic acid or allyl sulfonic acid, 2- (meth) acrylamide-2-methylpropane sulfonic acid, (meth) acrylamide propane sulfonic acid, sulfopropyl (meth) acrylate, (meth) acryloyloxynaphthalene sulfonic acid Monomers; And a phosphoric acid group-containing monomer such as 2-hydroxyethyl acryloyl phosphate.

또, (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N-부틸(메트)아크릴아미드나 N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-메틸올프로판(메트)아크릴아미드 등의 (N-치환)아미드계 모노머 ; (메트)아크릴산아미노에틸, (메트)아크릴산N,N-디메틸아미노에틸, (메트)아크릴산t-부틸아미노에틸 등의 (메트)아크릴산알킬아미노알킬계 모노머; (메트)아크릴산메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시에틸 등의 (메트)아크릴산알콕시알킬계 모노머 ; N-(메트)아크릴로일옥시메틸렌숙신이미드나 N-(메트)아크릴로일-6-옥시헥사메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-8-옥시옥타메틸렌숙신이미드, N-아크릴로일모르폴린 등의 숙신이미드계 모노머 ; N-시클로헥실말레이미드나 N-이소프로필말레이미드, N-라우릴말레이미드나 N-페닐말레이미드 등의 말레이미드계 모노머 ; N-메틸이타콘이미드, N-에틸이타콘이미드, N-부틸이타콘이미드, N-옥틸이타콘이미드, N-2-에틸헥실이타콘이미드, N-시클로헥실이타콘이미드, N-라우릴이타콘이미드 등의 이타콘이미드계 모노머 등도 개질 목적의 모노머예로서 들 수 있다. Moreover, (meth) acrylamide, N, N- dimethyl (meth) acrylamide, N-butyl (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N-methylol propane (meth) acrylamide, etc. (N-substituted) amide monomers; Alkyl (meth) acrylate alkylaminoalkyl monomers such as aminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate and t-butylaminoethyl (meth) acrylate; (Meth) acrylic acid alkoxyalkyl monomers such as methoxyethyl (meth) acrylate and ethoxyethyl (meth) acrylate; N- (meth) acryloyloxymethylene succinimide, N- (meth) acryloyl-6-oxyhexamethylene succinimide, N- (meth) acryloyl-8-oxyoctamethylene succinimide, N Succinimide-based monomers such as acryloyl morpholine; Maleimide-based monomers such as N-cyclohexylmaleimide and N-isopropylmaleimide, N-laurylmaleimide and N-phenylmaleimide; N-methyl itaconimide, N-ethyl itaconimide, N-butyl itaconimide, N-octyl itaconimide, N-2-ethylhexyl itaconimide, N-cyclohexyl itacon Itaconic imide type monomers, such as mead and N-lauryl itaconimide, etc. are mentioned as a monomer example for a purpose of modification.

또한 개질 모노머로서, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, N-비닐피롤리돈, 메틸비닐피롤리돈, 비닐피리딘, 비닐피페리돈, 비닐피리미딘, 비닐피페라진, 비닐피라진, 비닐피롤, 비닐이미다졸, 비닐옥사졸, 비닐모르폴린, N-비닐카르복실산아미드류, 스티렌,

Figure 112009061682118-pct00001
-메틸스티렌, N-비닐카프로락탐 등의 비닐계 모노머 ; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시아노아크릴레이트계 모노머 ; (메트)아크릴산글리시딜 등의 에폭시기 함유 아크릴계 모노머 ; (메트)아크릴산폴리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산폴리프로필렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시에틸렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시폴리프로필렌글리콜 등의 글리콜계 아크릴에스테르 모노머 ; (메트)아크릴산테트라히드로푸르푸릴, 불소(메트)아크릴레이트, 실리콘(메트)아크릴레이트나 2-메톡시에틸아크릴레이트 등의 아크릴산에스테르계 모노머 등도 사용할 수 있다. As the modified monomer, vinyl acetate, vinyl propionate, N-vinylpyrrolidone, methylvinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylpiperidone, vinylpyrimidine, vinylpiperazine, vinylpyrazine, vinylpyrrole, vinylimidazole, Vinyl oxazole, vinyl morpholine, N-vinylcarboxylic acid amides, styrene,
Figure 112009061682118-pct00001
Vinyl monomers such as methyl styrene and N-vinyl caprolactam; Cyanoacrylate monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; Epoxy group-containing acrylic monomers such as glycidyl (meth) acrylate; Glycol-based acrylic ester monomers such as polyethylene glycol (meth) acrylate, polypropylene glycol (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, and methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate; Acrylic ester ester monomers, such as (meth) acrylic acid tetrahydrofurfuryl, fluorine (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate, and 2-methoxyethyl acrylate, can also be used.

본 발명의 (메트)아크릴계 폴리머는, 통상적으로 중량 평균 분자량이 100 만 ∼ 300 만의 범위인 것이 사용된다. 내구성, 특히 내열성을 고려하면, 중량 평균 분자량은 150 만 ∼ 250 만인 것을 사용하는 것이 바람직하다. 또한 170 만 ∼ 250 만인 것이 보다 바람직하고, 180 만 ∼ 250 만인 것이 더욱 바람직하다. 중량 평균 분자량이 150 만보다 작으면 내열성의 면에서 바람직하지 않다. 또, 중량 평균 분자량이 300 만보다 커지면 접착성, 점착력이 저하되는 점에서도 바람직하지 않다. 또한, 중량 평균 분자량은 GPC (겔·퍼미에이션·크로마토그래피) 에 의해 측정하여 폴리스티렌 환산에 의해 산출된 값을 말한다. As for the (meth) acrylic-type polymer of this invention, the thing of the range of 1 million-3 million in weight average molecular weight is used normally. In consideration of durability, especially heat resistance, it is preferable to use a weight average molecular weight of 1.5 million to 2.5 million. Moreover, it is more preferable that it is 1.7 million-2.5 million, and it is still more preferable that it is 1.8 million-2.5 million. If the weight average molecular weight is less than 1.5 million, it is not preferable in terms of heat resistance. Moreover, when a weight average molecular weight becomes larger than 3 million, it is also unpreferable also in the point which adhesiveness and adhesive force fall. In addition, a weight average molecular weight measures by GPC (gel permeation chromatography) and says the value computed by polystyrene conversion.

이와 같은 (메트)아크릴계 폴리머의 제조는, 용액 중합, 괴상 중합, 유화 중 합, 각종 라디칼 중합 등의 공지된 제조 방법을 적절히 선택할 수 있다. 또, 얻어지는 (메트)아크릴계 폴리머는, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체 등 어느 것이어도 된다. In the production of such a (meth) acrylic polymer, a known production method such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, and various radical polymerizations can be appropriately selected. Moreover, any of a random copolymer, a block copolymer, a graft copolymer, etc. may be sufficient as the obtained (meth) acrylic-type polymer.

또한, 용액 중합에 있어서는, 중합 용매로서 예를 들어, 아세트산에틸, 톨루엔 등이 사용된다. 구체적인 용액 중합예로는 반응은 질소 등의 불활성 가스 기류 하에서, 중합 개시제를 첨가하여 통상적으로 50 ∼ 70 ℃ 정도에서 5 ∼ 30 시간 정도의 반응 조건에서 행해진다. In solution polymerization, for example, ethyl acetate, toluene or the like is used as the polymerization solvent. In a specific solution polymerization example, the reaction is carried out under an inert gas stream such as nitrogen to add a polymerization initiator, and is usually performed at reaction conditions of about 5 to 30 hours at about 50 to 70 ° C.

라디칼 중합에 사용되는 중합 개시제, 연쇄 이동제, 유화제 등은 특별히 한정되지 않고 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또한, (메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 중합 개시제, 연쇄 이동제의 사용량, 반응 조건에 의해 제어할 수 있고, 이들 종류에 따라 적절히 그 사용량이 조정된다. The polymerization initiator, chain transfer agent and emulsifier used in the radical polymerization are not particularly limited and can be appropriately selected and used. In addition, the weight average molecular weight of a (meth) acrylic-type polymer can be controlled with the usage-amount and reaction conditions of a polymerization initiator, a chain transfer agent, and the usage-amount is adjusted suitably according to these types.

또 본 발명의 광학 부재용 점착제 조성물은 가교제로서 과산화물 및 에폭시계 가교제를 함유한다. Moreover, the adhesive composition for optical members of this invention contains a peroxide and an epoxy type crosslinking agent as a crosslinking agent.

본 발명의 과산화물로는, 가열에 의해 라디칼 활성종을 발생시켜 점착제 조성물 중의 (메트)아크릴계 폴리머의 가교를 진행시키는 것이면 적절히 사용할 수 있는데, 작업성이나 안정성을 감안하여, 1 분간 반감기 온도가 80 ℃ ∼ 160 ℃ 인 과산화물을 사용하는 것이 바람직하고, 90 ℃ ∼ 140 ℃ 인 과산화물을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 1 분간 반감기 온도가 지나치게 낮으면, 도포 건조시키기 전의 보존시에 반응이 진행되어, 점도가 높아져 도포 불가능이 되는 경우가 있고, 한편, 1 분간 반감기 온도가 지나치게 높으면, 가교 반응시의 온도가 높아지기 때문에 부반응이 일어나고, 또 미반응의 과산화물이 많이 잔존하여 시간 경과에 따른 가교가 진행되는 경우가 있어 바람직하지 않다. The peroxide of the present invention can be suitably used as long as it generates radically active species by heating to advance the crosslinking of the (meth) acrylic polymer in the pressure-sensitive adhesive composition. However, in consideration of workability and stability, the half-life temperature is 80 ° C for 1 minute. It is preferable to use the peroxide which is -160 degreeC, and it is more preferable to use the peroxide which is 90 degreeC-140 degreeC. If the half-life temperature is too low for 1 minute, the reaction may proceed at the time of storage before application drying, and the viscosity may become high and coating may be impossible. On the other hand, if the half-life temperature is too high for 1 minute, the temperature during the crosslinking reaction becomes high. It is not preferable because side reactions occur, and many unreacted peroxides remain and crosslinking progresses over time.

본 발명에 사용되는 과산화물로는 예를 들어, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카보네이트 (1 분간 반감기 온도 : 90.6 ℃), 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트 (1 분간 반감기 온도 : 92.1 ℃), 디-sec-부틸퍼옥시디카보네이트 (1 분간 반감기 온도 : 92.4 ℃), t-부틸퍼옥시네오데카노에이트 (1 분간 반감기 온도 : 103.5 ℃), t-헥실퍼옥시피발레이트 (1 분간 반감기 온도 : 109.1 ℃), t-부틸퍼옥시피발레이트 (1 분간 반감기 온도 : 110.3 ℃), 디라우로일퍼옥사이드 (1 분간 반감기 온도 : 116.4 ℃), 디-n-옥타노일퍼옥사이드 (1 분간 반감기 온도 : 117.4 ℃), 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 (1 분간 반감기 온도 : 124.3 ℃), 디(4-메틸벤조일)퍼옥사이드 (1 분간 반감기 온도 : 128.2 ℃), 디벤조일퍼옥사이드 (1 분간 반감기 온도 : 130.0 ℃), t-부틸퍼옥시이소부틸레이트 (1 분간 반감기 온도 : 136.1 ℃), 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산 (1 분간 반감기 온도 : 149.2 ℃) 등을 들 수 있다. 그 중에서도 특히 가교 반응 효율이 우수한 점에서, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트 (1 분간 반감기 온도 : 92.1 ℃), 디라우로일퍼옥사이드 (1 분간 반감기 온도 : 116.4 ℃), 디베조일퍼옥사이드 (1 분간 반감기 온도 : 130.0 ℃) 등이 바람직하게 사용된다. Peroxides used in the present invention include, for example, di (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate (1 minute half-life temperature: 90.6 ° C.), di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate (1 minute half-life temperature). : 92.1 ° C.), di-sec-butylperoxydicarbonate (1 minute half life temperature: 92.4 ° C.), t-butyl peroxy neodecanoate (1 minute half life temperature: 103.5 ° C.), t-hexyl peroxy pivalate ( 1 minute half-life temperature: 109.1 ° C), t-butylperoxypivalate (1 minute half-life temperature: 110.3 ° C), dilauroyl peroxide (1 minute half-life temperature: 116.4 ° C), di-n-octanoylperoxide ( 1 minute half life temperature: 117.4 ° C., 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate (1 minute half life temperature: 124.3 ° C.), di (4-methylbenzoyl) peroxide (1 Minute half-life temperature: 128.2 ° C), dibenzoylperoxide (1 minute half-life temperature: 130.0 ° C), t-butylperoxyisobutylate (1 minute half-life temperature: 136.1 degreeC), 1,1-di (t-hexyl peroxy) cyclohexane (1 minute half-life temperature: 149.2 degreeC), etc. are mentioned. Among them, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate (1 minute half-life temperature: 92.1 ° C), dilauroyl peroxide (1 minute half-life temperature: 116.4 ° C), dibe Crude peroxide (1 minute half life temperature: 130.0 ° C.) and the like are preferably used.

또한, 과산화물의 반감기란, 과산화물의 분해 속도를 나타내는 지표로서, 과산화물의 잔존량이 절반이 될 때까지의 시간을 말한다. 임의의 시간에 반감기를 얻기 위한 분해 온도나, 임의의 온도에서의 반감기 시간에 관해서는, 메이커 카 탈로그 등에 기재되어 있고, 예를 들어, 닛폰 유지 주식회사의 「유기 과산화물 카탈로그 제 9 판 (2003년 5월)」 등에 기재되어 있다. In addition, the half-life of a peroxide is an index which shows the decomposition rate of a peroxide, and means the time until the residual amount of a peroxide becomes half. The decomposition temperature for obtaining a half-life at any time and the half-life time at an arbitrary temperature are described in a manufacturer catalog or the like, and described in, for example, Nippon Oil Holding Co., Ltd. May) ”and the like.

상기 과산화물은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되는데, 과산화물의 전체적인 배합량은, 상기 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여 0.02 ∼ 2 중량부이며, 0.04 ∼ 1.5 중량부 함유하여 이루어지는 것이 바람직하고, 0.05 ∼ 1 중량부 함유하여 이루어지는 것이 더욱 바람직하다. 상기 배합량이 지나치게 적으면, 가교 형성이 불충분해져 내구성이 충분하지 않다. 한편, 상기 배합량이 지나치게 많아지면, 가교 과다가 되어 접착성이 떨어지기 때문에 바람직하지 않다. Although the said peroxide may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types, The total compounding quantity of a peroxide is 0.02-2 weight part with respect to 100 weight part of said (meth) acrylic-type polymers, and is 0.04-1.5 It is preferable to comprise by weight part, and it is more preferable to contain 0.05-1 weight part. When the said compounding quantity is too small, crosslinking formation will become inadequate and durability will not be enough. On the other hand, when the said compounding quantity is too large, since it becomes excess crosslinking and adhesiveness falls, it is unpreferable.

또, 중합 개시제로서 과산화물을 사용한 경우에는, 중합 반응에 사용되지 않고 잔존한 과산화물을 가교 반응에 사용할 수도 있는데, 그 경우에는 잔존량을 정량하고, 필요에 따라 재첨가하여 소정의 과산화물량으로 하여 사용할 수 있다. In the case where a peroxide is used as the polymerization initiator, the remaining peroxide can be used for the crosslinking reaction, which is not used for the polymerization reaction. Can be.

또한, 반응 처리 후의 잔존한 과산화물 분해량의 측정 방법으로는 예를 들어, HPLC (고속 액체 크로마토그래피) 에 의해 측정할 수 있다. In addition, as a measuring method of the residual amount of peroxide decomposition after reaction processing, it can measure by HPLC (high speed liquid chromatography), for example.

더욱 구체적으로는 예를 들어, 반응 처리 후의 점착제 조성물을 약 0.2 g 씩 꺼내어 아세트산에틸 10 ㎖ 에 침지시키고, 진탕기로 25 ℃ 하, 120 rpm 으로 3 시간 진탕 추출한 후, 실온에서 3 일간 정치 (靜置) 시킨다. 이어서, 아세토니트릴 10 ㎖ 첨가하고, 25 ℃ 하, 120 rpm 으로 30 분 진탕하여, 멤브레인 필터 (0.45 ㎛) 에 의해 여과하여 얻어진 추출액 약 10 ㎕ 를 HPLC 에 주입하고 분석하여, 반응 처리 후의 과산화물량으로 할 수 있다. More specifically, for example, about 0.2 g of the pressure-sensitive adhesive composition after the reaction treatment is taken out, immersed in 10 ml of ethyl acetate, shaken and extracted at 120 rpm at 25 ° C. for 3 hours, followed by standing at room temperature for 3 days. ) Subsequently, 10 ml of acetonitrile were added, shaken at 120 rpm for 30 minutes at 25 ° C, and about 10 µl of the extract obtained by filtration with a membrane filter (0.45 µm) was injected into HPLC, analyzed, and the amount of peroxide after the reaction treatment. can do.

또, 에폭시계 가교제로는, 2 개 이상의 에폭시기 (글리시딜기) 를 1 분자 중에 갖는 에폭시 화합물을 말한다. 에폭시계 가교제로는 예를 들어, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 테레프탈산디글리시딜에스테르, 스피로글리콜디글리시딜에테르, 디글리시딜아미노메틸시클로헥산, 테트라글리시딜자일렌디아민, 폴리글리시딜메타자일렌디아민 등을 들 수 있다. 이들 에폭시계 가교제는 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.Moreover, as an epoxy type crosslinking agent, the epoxy compound which has two or more epoxy groups (glycidyl group) in 1 molecule is mentioned. As an epoxy type crosslinking agent, for example, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, terephthalic acid diglycidyl ester, spiroglycol diglycidyl ether, diglycidylaminomethylcyclohexane, tetra Glycidyl xylenediamine, polyglycidyl metaxylenediamine, etc. are mentioned. These epoxy crosslinking agents may be used independently, and may mix and use 2 or more types.

상기 에폭시계 가교제의 배합량은, 상기 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여, 0.005 ∼ 0.5 중량부이며, 0.01 ∼ 0.2 중량부 함유하여 이루어지는 것이 바람직하고, 0.02 ∼ 0.1 중량부 함유하여 이루어지는 것이 더욱 바람직하다. 상기 배합량이 지나치게 적으면 점착제 조성물로 형성되는 점착제층은, 고온 및 고온 고습 환경 하에서 발포, 박리가 발생하는 것 이외에, 점착제층 부착 투명 도전성 필름에 적용하는 경우에는 펜 흔적이 생기기 쉬워져 터치 패널용 점착제층으로서 바람직하지 않다. 한편, 상기 배합량이 지나치게 많아지면, 가교 과다가 되어 접착성이 떨어지기 때문에 바람직하지 않다. The compounding quantity of the said epoxy type crosslinking agent is 0.005-0.5 weight part with respect to 100 weight part of said (meth) acrylic-type polymers, It is preferable to contain 0.01-0.2 weight part, It is more preferable to contain 0.02-0.1 weight part Do. When the compounding amount is too small, the pressure-sensitive adhesive layer formed of the pressure-sensitive adhesive composition is not only foamed and peeled off under high temperature and high temperature and high humidity environment, but also applied to the transparent conductive film with pressure-sensitive adhesive layer, and pen traces tend to occur. It is not preferable as an adhesive layer. On the other hand, when the said compounding quantity is too large, since it becomes excess crosslinking and adhesiveness falls, it is unpreferable.

또, 본 발명의 점착제 조성물에는, 가교제로서 과산화물 및 에폭시계 가교제 이외에, 다른 가교제를 병용하여 고온 및 고온 고습 환경 하에서 발포, 박리의 발생을 억제할 수 있다. 다른 가교제로는, 이소시아네이트계 가교제, 아민계 가교제, 알데히드계 가교제, 히드라진계 가교제, 아지리딘계 가교제, 이민계 가교제, 다가 금속염, 다가 금속 알콕사이드, 다가 암모늄염 등을 사용할 수 있다. 상 기 병용할 수 있는 가교제로는, 제 1 투명 플라스틱 필름 기재와의 밀착성을 향상시킬 수 있기 때문에, 이소시아네이트계 가교제가 바람직하다. 상기 임의의 가교제는 통상적으로 상기 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여 0.5 중량부 이하의 범위에서 사용된다. Moreover, in the adhesive composition of this invention, in addition to a peroxide and an epoxy type crosslinking agent as a crosslinking agent, another crosslinking agent can be used together and the generation | occurrence | production of foaming and peeling can be suppressed in high temperature, high temperature, high humidity environment. As another crosslinking agent, an isocyanate crosslinking agent, an amine crosslinking agent, an aldehyde crosslinking agent, a hydrazine crosslinking agent, an aziridine crosslinking agent, an imine crosslinking agent, a polyvalent metal salt, a polyvalent metal alkoxide, a polyvalent ammonium salt, or the like can be used. As a crosslinking agent which can be used together, since an adhesiveness with a 1st transparent plastic film base material can be improved, an isocyanate type crosslinking agent is preferable. The optional crosslinking agent is usually used in the range of 0.5 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer.

이소시아네이트계 가교제로는, 톨릴렌디이소시아네이트, 클로로페닐렌디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 폴리메틸렌폴리페닐이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트류 ; 테트라메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 저급 지방족 이소시아네이트류 ; 시클로펜틸렌디이소시아네이트, 시클로헥실렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 상기 방향족 디이소시아네이트류의 수소첨가물 등의 지환족 이소시아네이트류 ; 또, 상기 각종 이소시아네이트류와, 트리메틸올프로판 등의 다가 알코올을 부가한 어덕트계 이소시아네이트 화합물, 이소시아누레이트 화합물, 뷰렛형 화합물, 또한 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 아크릴폴리올, 폴리부타디엔폴리올, 폴리이소프렌폴리올 등을 부가 반응시킨 우레탄 프레폴리머형 폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다. 이소시아네이트계 가교제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 이들 이소시아네이트계 가교제 중에서도, 제 1 투명 플라스틱 필름 기재와의 밀착성 향상의 면에서, 상기 톨릴렌디이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트류와, 트리메틸올프로판 등의 다가 알코올을 부가한 어덕트계 이소시아네이트가 바람직하다. As an isocyanate type crosslinking agent, aromatic diisocyanate, such as tolylene diisocyanate, chlorophenylene diisocyanate, 2, 4-tolylene diisocyanate, 4,4'- diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, polymethylene polyphenyl isocyanate, etc. ; Lower aliphatic isocyanates such as tetramethylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate; Alicyclic isocyanates such as cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, isophorone diisocyanate and hydrogenated products of the aromatic diisocyanates; Moreover, the adduct type isocyanate compound, the isocyanurate compound, the biuret type compound which added the said various isocyanate and polyhydric alcohols, such as a trimethylol propane, a polyether polyol, polyester polyol, acryl polyol, polybutadiene polyol, The urethane prepolymer type polyisocyanate etc. which addition-reacted polyisoprene polyol etc. are mentioned. An isocyanate type crosslinking agent may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types. Among these isocyanate-based crosslinking agents, adduct-based isocyanates to which aromatic diisocyanates such as the tolylene diisocyanate and polyhydric alcohols such as trimethylolpropane are added from the viewpoint of adhesion improvement with the first transparent plastic film base material.

상기 임의의 가교제로서 이소시아네이트계 가교제를 사용하는 경우, 그 배합량은 상기 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여, 0.01 ∼ 0.5 중량부가 바람직하고, 0.05 ∼ 0.3 중량부 함유하여 이루어지는 것이 더욱 바람직하다. 상기 배합량이 0.5 중량부를 초과하면, 고온 및 고온 고습 환경 하에서 점착제층이 황변하여 시인성이 저하된다. When using an isocyanate type crosslinking agent as said arbitrary crosslinking agent, 0.01-0.5 weight part is preferable with respect to 100 weight part of said (meth) acrylic-type polymers, It is more preferable to contain 0.05-0.3 weight part. When the said compounding quantity exceeds 0.5 weight part, an adhesive layer yellows under high temperature and high temperature, high humidity environment, and visibility will fall.

또, 본 발명의 점착제 조성물에는 접착력, 내구력을 높인 목적에서 실란 커플링제를 사용할 수 있다. 실란 커플링제로는 공지된 것을 특별한 제한 없이 적절히 사용할 수 있다. Moreover, a silane coupling agent can be used for the adhesive composition of this invention in order to raise adhesive force and durability. As the silane coupling agent, known ones may be appropriately used without particular limitation.

구체적으로는 예를 들어, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시기 함유 실란 커플링제, 3-아미노프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸부틸리덴)프로필아민, N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란 등의 아미노기 함유 실란 커플링제, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란 등의 (메트)아크릴기 함유 실란 커플링제, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트기 함유 실란 커플링제 등을 들 수 있다. 이와 같은 실란 커플링제를 사용하는 것은 내구성의 향상에 바람직하다. Specifically, for example, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl Epoxy group-containing silane coupling agents such as ethyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, and 3-triethoxysilyl-N- Amino group-containing silane coupling agents such as (1,3-dimethylbutylidene) propylamine and N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltri Isocyanate group containing silane coupling agents, such as (meth) acryl group containing silane coupling agents, such as ethoxysilane, and 3-isocyanate propyl triethoxysilane, etc. are mentioned. Using such a silane coupling agent is preferable for improvement of durability.

상기 실란 커플링제는 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되는데, 전체적인 함유량은 상기 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여, 상기 실란 커플링제 1 중량부 이하인 것이 바람직하고, 0.01 ∼ 1 중량부 함유 하여 이루어지는 것이 바람직하며, 0.02 ∼ 0.6 중량부 함유하여 이루어지는 것이 보다 바람직하며, 0.05 ∼ 0.3 중량부 함유하여 이루어지는 것이 더욱 바람직하다. 실란 커플링제의 배합량이 1 중량부를 초과하면, 피착체가 유리인 경우에 접착력이 지나치게 증대되어 리워크 불량을 일으킬 우려가 있다. Although the said silane coupling agent may be used independently and may be used in mixture of 2 or more type, It is preferable that the total content is 1 weight part or less of the said silane coupling agent with respect to 100 weight part of said (meth) acrylic-type polymers, and it is 0.01 It is preferable to contain-1 weight part, It is more preferable to contain 0.02-0.6 weight part, It is still more preferable to contain 0.05-0.3 weight part. When the compounding quantity of a silane coupling agent exceeds 1 weight part, when an adherend is glass, there exists a possibility that adhesive force may increase too much and it may cause a rework defect.

또한 본 발명의 점착제 조성물에는 그 밖의 공지된 첨가제를 함유하고 있어도 되고, 예를 들어, 착색제, 안료 등의 분체, 염료, 계면 활성제, 가소제, 점착성 부여제, 표면 윤활제, 레벨링제, 연화제, 산화 방지제, 노화 방지제, 광 안정제, 자외선 흡수제, 중합 금지제, 무기 또는 유기의 충전제, 금속 분말, 입자 형상, 박 (箔) 형상물 등을 사용하는 용도에 따라 적절히 첨가할 수 있다. 또, 제어할 수 있는 범위 내에서 환원제를 첨가한 레독스계를 채용해도 된다. Moreover, the adhesive composition of this invention may contain other well-known additives, For example, powder, such as a coloring agent and a pigment, dye, surfactant, a plasticizer, a tackifier, surface lubricant, a leveling agent, a softener, and antioxidant , Anti-aging agents, light stabilizers, ultraviolet absorbers, polymerization inhibitors, inorganic or organic fillers, metal powders, particulates, foils and the like can be appropriately added. Moreover, you may employ | adopt the redox system which added the reducing agent within the range which can be controlled.

상기 본 발명의 점착제 조성물에 의해 점착제층이 형성된다. 예를 들어, 광학 부재의 적어도 일방의 면에 점착제층을 형성한 것은, 점착형 광학 부재로서 사용된다. 점착제층을 형성하는 방법으로는 예를 들어, 상기 점착제 조성물을 이형 필름 등에 도포하고, 중합 용제 등을 건조 제거하여 점착제층을 형성한 후에, 광학 부재 (예를 들어, 점착제층 부착 투명 도전성 필름에서는 제 1 투명 플라스틱 필름 기재, 점착제층 부착 광학 필름에서는 화상 표시 장치용 광학 필름) 에 전사하는 방법, 또는 광학 부재에 상기 점착제 조성물을 도포하고, 중합 용제 등을 건조 제거하여 점착제층을 광학 부재에 형성하는 방법 등에 의해 제조된다. 또한, 점착제의 도포에 있어서는, 적절히 중합 용제 이외의 1 종 이상의 용제를 새롭게 첨가해도 된다. The pressure-sensitive adhesive layer is formed by the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention. For example, what provided the adhesive layer in the at least one surface of the optical member is used as an adhesive optical member. As a method of forming an adhesive layer, for example, after apply | coating the said adhesive composition to a release film etc., drying-removing a polymerization solvent etc. and forming an adhesive layer, in an optical member (for example, a transparent conductive film with an adhesive layer), 1st transparent plastic film base material, the optical film for image display apparatuses in the optical film with an adhesive layer), or apply | coating the said adhesive composition to an optical member, drying a polymerization solvent, etc., and forming an adhesive layer in an optical member It is manufactured by the method. In addition, in application | coating of an adhesive, you may add a 1 or more types of solvent other than a polymerization solvent suitably.

점착제층의 형성 방법으로는 여러 가지 방법이 이용된다. 구체적으로는 예를 들어, 롤 코트, 키스 롤 코트, 그라비아 코트, 리버스 코트, 롤 브러시, 스프레이 코트, 딥 롤 코트, 바 코트, 나이프 코트, 에어 나이프 코트, 커튼 코트, 립 코트, 다이 코터 등에 의한 압출 코트법 등의 방법을 들 수 있다. Various methods are used as a formation method of an adhesive layer. Specifically, for example, roll coat, kiss roll coat, gravure coat, reverse coat, roll brush, spray coat, dip roll coat, bar coat, knife coat, air knife coat, curtain coat, lip coat, die coater, etc. Methods, such as an extrusion coat method, are mentioned.

점착제층의 두께는 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 1 ∼ 100 ㎛ 정도이다. 바람직하게는 5 ∼ 50 ㎛ 이며, 보다 바람직하게는 10 ∼ 30 ㎛ 이다. The thickness of an adhesive layer is not specifically limited, For example, it is about 1-100 micrometers. Preferably it is 5-50 micrometers, More preferably, it is 10-30 micrometers.

또, 점착제층의 두께가 지나치게 얇아지면, 점착제층 부착 투명 도전성 필름에 적용하는 경우에는 펜 흔적이 생기기 쉬워져 터치 패널용 점착제층으로서 바람직하지 않다. 한편, 지나치게 두꺼우면, 투명성을 저해하거나 점착제층의 형성이나 각종 피착체에 대한 접착 작업성, 또한 비용면에서도 좋은 결과를 얻기 어렵다. Moreover, when the thickness of an adhesive layer becomes too thin, when it applies to the transparent conductive film with an adhesive layer, a pen trace will generate easily and it is not preferable as an adhesive layer for touch panels. On the other hand, when it is too thick, it will be difficult to obtain a good result also in terms of transparency, the formation of an adhesive layer, the adhesive workability with respect to various to-be-adhered bodies, and cost.

상기 점착제층이 노출되는 경우에는, 실제 사용에 제공될 때까지 이형 필름 (세퍼레이터) 으로 점착제층을 보호해도 된다. When the said adhesive layer is exposed, you may protect an adhesive layer with a release film (separator) until it is provided for actual use.

이형 필름의 구성 재료로는 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에스테르 필름 등의 플라스틱 필름, 종이, 직물, 부직포 등의 다공질 재료, 네트, 발포 시트, 금속박, 및 이들의 라미네이트체 등의 적절한 박엽체 등을 들 수 있는데, 표면 평활성이 우수한 점에서 플라스틱 필름이 바람직하게 사용된다. As a constituent material of the release film, for example, plastic films such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyester film, porous materials such as paper, textiles, nonwoven fabrics, nets, foam sheets, metal foils, and laminates thereof Although an appropriate thin body etc. are mentioned, A plastic film is used preferably at the point which is excellent in surface smoothness.

그 플라스틱 필름으로는, 상기 점착제층을 보호할 수 있는 필름이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름 등을 들 수 있다. It will not specifically limit, if it is a film which can protect the said adhesive layer as this plastic film, For example, a polyethylene film, a polypropylene film, a polybutene film, a polybutadiene film, a polymethyl pentene film, a polyvinyl chloride film, A vinyl chloride copolymer film, a polyethylene terephthalate film, a polybutylene terephthalate film, a polyurethane film, an ethylene-vinyl acetate copolymer film, etc. are mentioned.

상기 이형 필름의 두께는, 통상적으로 5 ∼ 200 ㎛, 바람직하게는 5 ∼ 100 ㎛ 정도이다. 상기 이형 필름에는 필요에 따라, 실리콘계, 불소계, 장사슬 알킬계 또는 지방산 아미드계의 이형제, 실리카분말 등에 의한 이형 및 방오 처리나, 도포형, 혼련형, 증착형 등의 대전 방지 처리도 할 수도 있다. 특히, 상기 이형 필름의 표면에 실리콘 처리, 장사슬 알킬 처리, 불소 처리 등의 박리 처리를 적절히 실시함으로써 상기 점착제층으로부터의 박리성을 더욱 높일 수 있다. The thickness of the release film is usually 5 to 200 占 퐉, preferably 5 to 100 占 퐉. The release film may also be subjected to antistatic treatment such as silicone type, fluorine type, long chain alkyl type or fatty acid amide type release agent, silica powder or the like, and antistatic treatment such as coating type, kneading type and vapor deposition type. . In particular, the peelability from the pressure-sensitive adhesive layer can be further improved by appropriately performing a peeling treatment such as silicone treatment, long chain alkyl treatment, or fluorine treatment on the surface of the release film.

상기 점착제층의 제조에 있어서 사용한 이형 필름은, 그대로 점착제층의 이형 필름으로서 사용할 수 있어 공정면에서 간략화할 수 있다. The release film used in manufacture of the said adhesive layer can be used as a release film of an adhesive layer as it is, and can simplify it from a process surface.

또한, 상기 점착제층의 형성에 있어서는 가교제에 의해 점착제층을 가교시킨다. 본 발명에서는 가교제로서 과산화물 및 에폭시계 가교제를 사용하는데, 이들 첨가량을 조정함과 함께, 가교 처리 온도나 가교 처리 시간의 영향을 충분히 고려하는 것이 바람직하다. In addition, in formation of the said adhesive layer, an adhesive layer is bridge | crosslinked by a crosslinking agent. In this invention, although a peroxide and an epoxy type crosslinking agent are used as a crosslinking agent, it is preferable to fully consider the influence of crosslinking process temperature and crosslinking process time, adjusting these addition amounts.

가교 처리 온도나 가교 처리 시간의 조정은 예를 들어, 점착제 조성물에 함유되는 과산화물의 분해량은 50 중량% 이상이 되도록 설정하는 것이 바람직하고, 60 중량% 이상이 되도록 설정하는 것이 보다 바람직하며, 70 중량% 이상이 되도록 설정하는 것이 더욱 바람직하다. 과산화물의 분해량이 50 중량% 보다 적으면 점착제 조성물 중에 잔존하는 과산화물의 양이 많아져, 가교 처리 후에도 시간 경과에 따른 가교 반응이 일어나는 경우 등이 있어 바람직하지 않다. The adjustment of the crosslinking treatment temperature and the crosslinking treatment time is preferably set such that the decomposition amount of the peroxide contained in the pressure-sensitive adhesive composition is 50% by weight or more, more preferably 60% by weight or more. It is more preferable to set it so that it may become weight% or more. When the amount of decomposition of the peroxide is less than 50% by weight, the amount of the peroxide remaining in the pressure-sensitive adhesive composition increases, and there are cases where a crosslinking reaction occurs over time even after the crosslinking treatment.

더욱 구체적으로는 예를 들어, 가교 처리 온도가 1 분간 반감기 온도에서는, 1 분간 과산화물의 분해량은 50 중량% 이며, 2 분간 과산화물의 분해량은 75 중량% 로서, 1 분간 이상의 가교 처리 시간이 필요하다. 또, 예를 들어, 가교 처리 온도에서의 과산화물의 반감기 (반감 시간) 가 30 초이면, 30 초 이상의 가교 처리 시간이 필요하고, 또 예를 들어, 가교 처리 온도에서의 과산화물의 반감기 (반감 시간) 가 5 분이면, 5 분 이상의 가교 처리 시간이 필요하다. More specifically, for example, when the crosslinking treatment temperature is half-life temperature for 1 minute, the decomposition amount of the peroxide is 50% by weight for 1 minute, and the decomposition amount of the peroxide is 2% for 75 minutes, and the crosslinking treatment time of 1 minute or more is required. Do. For example, when the half-life (half-life time) of the peroxide at the crosslinking treatment temperature is 30 seconds, the crosslinking treatment time is 30 seconds or more, and for example, the half-life (half-life time) of the peroxide at the crosslinking treatment temperature is required. Is 5 minutes, the crosslinking treatment time of 5 minutes or more is required.

이와 같이, 사용하는 과산화물에 의해 가교 처리 온도나 가교 처리 시간은, 과산화물이 1 차 비례하는 것으로 가정하여 반감기 (반감 시간) 로부터 이론 계산에 의해 산출할 수 있어, 첨가량을 적절히 조절할 수 있다. 한편, 더욱 고온으로 할수록, 부반응이 발생할 가능성이 높아지기 때문에, 가교 처리 온도는 170 ℃ 이하인 것이 바람직하다. In this way, the crosslinking treatment temperature and the crosslinking treatment time can be calculated by the theoretical calculation from the half-life (half-life time) on the assumption that the peroxide is first proportional, and the amount of addition can be appropriately adjusted by the peroxide to be used. On the other hand, the higher the temperature, the higher the possibility that side reactions occur, so that the crosslinking treatment temperature is preferably 170 ° C or lower.

또, 이러한 가교 처리는 점착제층의 건조 공정시의 온도에서 실시해도 되고, 건조 공정 후에 별도로 가교 처리 공정을 마련하여 실시해도 된다. Moreover, such crosslinking process may be performed at the temperature at the time of the drying process of an adhesive layer, and you may provide and perform a crosslinking process process separately after a drying process.

또, 가교 처리 시간에 관해서는, 생산성이나 작업성을 고려하여 설정할 수 있는데, 통상적으로 0.2 ∼ 20 분 정도이며, 0.5 ∼ 10 분 정도인 것이 바람직하다. Moreover, about crosslinking treatment time, although it can set in consideration of productivity and workability, it is normally about 0.2 to 20 minutes, and it is preferable that it is about 0.5 to 10 minutes.

상기 점착제층은 23 ℃ 에서의 저장 탄성률 (G') 이 20000 ∼ 500000 ㎩ 인 것이 바람직하다. 당해 점착제층을, 점착제층 부착 투명 도전성 필름으로서 적용하는 경우에는, 당해 점착제층의 저장 탄성률 (G') 은 70000 ∼ 200000 ㎩ 인 것 이 보다 바람직하고, 나아가서는 80000 ∼ 180000 ㎩ 인 것이 바람직하다. 한편, 당해 점착제층을, 편광판 등의 광학 필름에 적용하는 경우에는, 당해 점착제층의 저장 탄성률 (G') 은, 불균일 등을 억제하는 관점에서 30000 ∼ 200000 ㎩ 인 것이 보다 바람직하고, 더 나아가서는 70000 ∼ 200000 ㎩ 인 것이 바람직하고, 나아가서는 75000 ∼ 150000 ㎩ 인 것이 바람직하다. 상기 저장 탄성률 (G') 이 20000 ㎩ 보다 지나치게 작으면, 외관 결점 및 가열시의 발포 등에 있어서 바람직하지 않고, 또 점착제층 부착 투명 도전성 필름으로서 적용하는 경우에는, 펜 흔적이 생기기 쉬워져 터치 패널용 점착제층으로서 바람직하지 않다. 한편, 상기 저장 탄성률 (G') 이 500000 ㎩ 보다 지나치게 커지면, 접착성이 떨어지기 때문에 바람직하지 않다. It is preferable that the storage elastic modulus (G ') in 23 degreeC of the said adhesive layer is 20000-50000 Pa. When applying the said adhesive layer as a transparent conductive film with an adhesive layer, it is more preferable that the storage elastic modulus (G ') of the said adhesive layer is 70000-200000 Pa, Furthermore, it is preferable that it is 80000-180000 Pa. On the other hand, when applying the said adhesive layer to optical films, such as a polarizing plate, it is more preferable that the storage elastic modulus (G ') of the said adhesive layer is 30000-200000 Pa from a viewpoint of suppressing a nonuniformity etc., Furthermore, It is preferable that it is 70000-200000 Pa, and also it is preferable that it is 75000-150000 Pa. When the said storage elastic modulus (G ') is too small than 20000 GPa, it is unpreferable in external defects, foaming at the time of heating, etc., and when applying it as a transparent conductive film with an adhesive layer, a pen trace tends to arise and it is for a touch panel. It is not preferable as an adhesive layer. On the other hand, when the said storage elastic modulus (G ') is too large than 500000 GPa, since adhesiveness will fall, it is unpreferable.

또, 본 발명에 있어서의 저장 탄성률 (G') 이란, 동적 기계 특성의 하나로서 JIS-K-7244-1 플라스틱-동적 기계 특성의 시험 방법-제 1 부 : 통칙에 기술되어 있고, 본 발명의 G' 는 이 JIS-K7244-1 표 4 의 파트 2 에서 비틀림 변형 모드에 의해 얻어지는 값을 말한다. 또한, 구체적으로는 실시예에 기재된 수법으로 실시하였다. In addition, storage elastic modulus (G ') in this invention is described in JIS-K-7244-1 testing method of plastics-dynamic mechanical characteristics-Part 1: General as one of dynamic mechanical characteristics, G 'means the value obtained by the torsional deformation mode in the part 2 of this JIS-K7244-1 Table 4. In addition, it implemented by the method as described in an Example specifically.

응력을 단위 용적당 에너지량으로 고려하면, 외부로부터 폴리머 시험편에 기계적 에너지를 부여하여 정현 (正弦) 운동을 시켰을 때, 부여된 에너지의 일부는 탄성에 의해 폴리머에 저장되고, 나머지는 내부 마찰에 의해 열로 바뀌어 손실된다. 이 때, 시험 중에 발열에 의한 온도 상승은 매우 작기 때문에 온도 일정으로서 근사한다. 여기에서, 저장 탄성률 G' 의 경우에는 저장된 부분에 상당하 고, 손실 탄성률 G" 는 내부 마찰에 의해 손실된 부분에 상당하며, 따라서 G' 는 경도의 정도를 나타내고, G" 는 점성의 정도를 나타내는 것으로 생각할 수 있다. Considering the stress as the amount of energy per unit volume, when mechanical energy is applied to the polymer test piece from the outside to perform sine motion, a part of the applied energy is stored in the polymer by elasticity, and the rest by internal friction. Converted to heat and lost. At this time, the temperature rise due to the heat generation during the test is very small and approximated as the temperature constant. Here, in the case of the storage modulus G ', it corresponds to the stored part, and the loss modulus G "corresponds to the part lost by the internal friction, so that G' represents the degree of hardness and G" represents the degree of viscosity. It can be thought of as showing.

점착제의 경우, G' 는 점착제층이 외부로부터 받는 힘에 대한 응력의 정도를 나타내는 것이 되어, G' 가 크면 발생하는 응력이 커져 유리의 휨도 커진다. 반대로 지나치게 작으면, 지나치게 부드러워 가공성, 작업성이 떨어진다. In the case of an adhesive, G 'represents the grade of the stress with respect to the force which an adhesive layer receives from the exterior, and when G' is large, the stress which generate | occur | produces becomes large and the curvature of glass also becomes large. On the contrary, when too small, it is too soft and will be inferior to workability and workability.

또 상기 점착제층은 겔분율이 70 ∼ 98 중량% 인 것이 바람직하다. 상기 점착제층의 겔분율은, 85 ∼ 98 중량% 인 것이 바람직하고, 나아가서는 88 ∼ 95 중량% 인 것이 바람직하다. 상기 겔분율이 지나치게 작으면, 점착제층 부착 투명 도전성 필름으로서 적용하는 경우에는, 펜 흔적이 생기기 쉬워져 터치 패널용 점착제층으로서 바람직하지 않다. 한편, 상기 겔분율이 지나치게 커지면, 접착성이 떨어지기 때문에 바람직하지 않다. 겔분율의 측정은 실시예의 기재에 따라 실시하였다. Moreover, it is preferable that the gel fraction of the said adhesive layer is 70 to 98 weight%. It is preferable that the gel fraction of the said adhesive layer is 85 to 98 weight%, Furthermore, it is preferable that it is 88 to 95 weight%. When the said gel fraction is too small, when applying as a transparent conductive film with an adhesive layer, a pen trace will generate easily and it is not preferable as an adhesive layer for touch panels. On the other hand, when the said gel fraction becomes large too much, since adhesiveness falls, it is unpreferable. The gel fraction was measured in accordance with the description of the examples.

또, 상기 점착형 광학 부재에 있어서, 점착제층의 형성에 있어서는 광학 부재의 표면에, 앵커층을 형성하거나 코로나 처리, 플라스마 처리 등의 각종 접착 용이 처리를 한 후에 점착제층을 형성할 수 있다. 또, 점착제층의 표면에는 접착 용이 처리를 해도 된다. In the pressure-sensitive adhesive optical member, in the formation of the pressure-sensitive adhesive layer, the pressure-sensitive adhesive layer can be formed after the anchor layer is formed on the surface of the optical member or various easy adhesion treatments such as corona treatment and plasma treatment are performed. Moreover, you may perform an easy adhesion | attachment process on the surface of an adhesive layer.

상기 접착 용이 처리로는, 앵커층이 바람직하고, 앵커층에 의해 점착제층과 광학 부재를 적층시키는 것이 바람직하다. 점착제층은 앵커층에 의해 투묘력을 향상시킬 수 있다. 앵커층은 통상, 광학 부재측에 형성된다. As said easily bonding process, an anchor layer is preferable and it is preferable to laminate | stack an adhesive layer and an optical member with an anchor layer. The adhesive layer can improve the anchoring force by the anchor layer. The anchor layer is usually formed on the optical member side.

상기 앵커층의 형성제로는 점착제의 투묘력을 향상시킬 수 있는 층이면 특별 히 제한되지는 않는다. 구체적으로는, 예를 들어, 동일 분자 내에 아미노기, 비닐기, 에폭시기, 메르캅토기, 클로르기 등의 반응성 관능기와 가수 분해성 알콕시실릴기를 갖는 실란계 커플링제, 동일 분자 내에 티탄을 함유하는 가수 분해성 친수성기와 유기 관능성기를 갖는 티타네이트계 커플링제, 및 동일 분자 내에 알루미늄을 함유하는 가수 분해성 친수성기와 유기 관능성기를 갖는 알루미네이트계 커플링제 등의 이른바 커플링제, 에폭시계 수지, 이소시아네이트계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 분자 중에 아미노기를 함유하는 폴리머류, 에스테르우레탄계 수지 등의 유기 반응성기를 갖는 수지 (폴리머) 를 사용할 수 있다. The forming agent of the anchor layer is not particularly limited as long as it is a layer capable of improving the anchoring force of the pressure-sensitive adhesive. Specifically, for example, a silane coupling agent having a reactive functional group such as an amino group, a vinyl group, an epoxy group, a mercapto group, and a chlor group in the same molecule and a hydrolyzable alkoxysilyl group, and a hydrolyzable hydrophilic group containing titanium in the same molecule And a so-called coupling agent such as a titanate coupling agent having an organic functional group and a hydrolyzable hydrophilic group containing aluminum in the same molecule and an aluminate coupling agent having an organic functional group, an epoxy resin, an isocyanate resin, and a polyurethane type Resin (polymer) which has organic reactive groups, such as resin, polyester resin, polymer containing an amino group in a molecule | numerator, and ester urethane type resin, can be used.

앵커층은, 점착형 광학 부재에 따라 적절히 선택하여 사용할 수 있고, 예를 들어, 점착형 광학 부재가 점착제층 부착 투명 도전성 필름인 경우에는, 공업적으로 취급하기 쉽다는 관점에서는, 실란계 커플링제를 함유하는 층이 특히 바람직하다. Anchor layer can be suitably selected and used according to the adhesive optical member, For example, when an adhesive optical member is a transparent conductive film with an adhesive layer, it is a silane coupling agent from a viewpoint of being industrially easy to handle. Particularly preferred is a layer containing.

한편, 점착형 광학 부재가 점착제층 부착 광학 필름인 경우에는, 상기 앵커층의 형성재로는, 폴리머가 바람직하고, 예를 들어, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 분자 중에 아미노기를 함유하는 폴리머류를 들 수 있다. 분자 중에 아미노기를 함유하는 폴리머류는, 분자 중의 아미노기가 점착제 중의 카르복실기 등과 반응 또는 이온성 상호 작용 등의 상호 작용을 나타내기 때문에 양호한 밀착성이 확보된다. On the other hand, when an adhesive optical member is an optical film with an adhesive layer, as a formation material of the said anchor layer, a polymer is preferable and it is a polymer containing an amino group in polyurethane resin, polyester resin, and a molecule | numerator, for example. And the like. Polymers containing an amino group in a molecule ensure good adhesion because the amino group in the molecule exhibits an interaction such as a carboxyl group or the like in the pressure-sensitive adhesive or an ionic interaction.

분자 중에 아미노기를 함유하는 폴리머류로는 예를 들어, 폴리에틸렌이민, 폴리알릴아민, 폴리비닐아민, 폴리비닐피리딘, 폴리비닐피롤리딘, 디메틸아미노에 틸아크릴레이트 등의 아미노기 함유 모노머의 중합체 등을 들 수 있다. Polymers containing amino groups in the molecule include, for example, polymers of amino group-containing monomers such as polyethyleneimine, polyallylamine, polyvinylamine, polyvinylpyridine, polyvinylpyrrolidine, dimethylamino ethylacrylate, and the like. Can be mentioned.

상기 앵커층에는 대전 방지성을 부여하기 위해서 대전 방지제를 첨가할 수도 있다. 대전 방지성 부여를 위한 대전 방지제로는, 이온성 계면 활성제계, 폴리아닐린, 폴리티오펜, 폴리피롤, 폴리퀴녹살린 등의 도전성 폴리머계, 산화주석, 산화안티몬, 산화인듐 등의 금속 산화물계 등을 들 수 있는데, 특히 광학 특성, 외관, 대전 방지 효과, 및 대전 방지 효과의 가열, 가습시에서의 안정성이라는 관점에서, 도전성 폴리머계가 바람직하게 사용된다. 그 중에서도, 폴리아닐린, 폴리티오펜 등의 수용성 도전성 폴리머, 또는 수분산성 도전성 폴리머가 특히 바람직하게 사용된다. 대전 방지층의 형성 재료로서 수용성 도전성 폴리머나 수분 산성 도전성 폴리머를 사용한 경우, 도공시에 유기 용제에 의한 광학 부재로의 변질을 억제할 수 있다. An antistatic agent can also be added to the said anchor layer in order to provide antistatic property. Examples of antistatic agents for imparting antistatic properties include conductive polymers such as ionic surfactants, polyaniline, polythiophene, polypyrrole, and polyquinoxaline, and metal oxides such as tin oxide, antimony oxide, and indium oxide. In particular, in view of optical properties, appearance, antistatic effect, and stability during heating and humidification of the antistatic effect, a conductive polymer type is preferably used. Among them, water-soluble conductive polymers such as polyaniline and polythiophene or water-dispersible conductive polymers are particularly preferably used. When water-soluble conductive polymers or water-dispersible conductive polymers are used as the material for forming the antistatic layer, deterioration to the optical member due to the organic solvent at the time of coating can be suppressed.

앵커층의 두께는 특별히 제한되지 않고, 예를 들어 2 ∼ 200 ㎚ 정도이다. 바람직하게는 5 ∼ 150 ㎚ 이며, 보다 바람직하게는 10 ∼ 100 ㎚ 이다. 또한, 앵커층의 형성은 예를 들어, 광학 부재에 앵커층의 형성재를 도포하고 건조시킴으로써 실시할 수 있다. The thickness of the anchor layer is not particularly limited and is, for example, about 2 to 200 nm. Preferably it is 5-150 nm, More preferably, it is 10-100 nm. In addition, formation of an anchor layer can be performed by apply | coating and drying the formation material of an anchor layer to an optical member, for example.

이하에, 도면을 참조하면서 본 발명의 점착형 광학 부재를 설명한다. 도 1 은 본 발명의 점착형 광학 부재의 일례를 나타내는 단면도이다. 도 1 의 점착형 광학 부재는, 광학 부재 (1) 의 편면에, 광학 부재용 점착제층 (3) 을 개재하여 이형 필름 (4) 이 형성되어 있다. 도 2 에 나타내는 바와 같이 광학 부재 (1) 의 다른 편면에는, 다른 층 (2) 을 형성할 수 있다. 다른 층 (2) 은 점착 제층 (3) 이어도 된다. 또, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 점착제층 (3) 과 광학 부재 (1) 는 앵커층 (a) 을 개재하여 적층되어 있어도 된다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, the adhesive optical member of this invention is demonstrated, referring drawings. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows an example of the adhesive optical member of this invention. As for the adhesive optical member of FIG. 1, the release film 4 is formed in the single side | surface of the optical member 1 through the adhesive layer 3 for optical members. As shown in FIG. 2, the other layer 2 can be formed on the other single side of the optical member 1. The other layer 2 may be the adhesive layer 3. Moreover, as shown in FIG. 3, the adhesive layer 3 and the optical member 1 may be laminated | stacked through the anchor layer (a).

이하에서는, 도 4, 5 를 참조하면서 본 발명의 점착제층 부착 투명 도전성 필름을 설명한다. 도 4 는 본 발명의 점착제층 부착 투명 도전성 필름의 일례를 나타내는 단면도이다. 도 4 의 점착제층 부착 투명 도전성 필름은, 광학 부재인 제 1 투명 플라스틱 필름 기재 (11) 의 일방의 면에 투명 도전성 박막 (12) 을 갖고, 제 1 투명 플라스틱 필름 기재 (11) 의 타방의 면에는 점착제층 (13) 을 개재하여 이형 필름 (14) 이 형성되어 있다. 도 5 는 도 4 의 점착제층 부착 투명 도전성 필름에 있어서, 제 1 투명 플라스틱 필름 기재 (11) 의 일방의 면에, 언더 코트층 (15) 을 개재하여 투명 도전성 박막 (12) 이 형성되어 있는 경우이다. 또한, 도 5 에서는 언더 코트층 (15) 이 1 층 기재되어 있는데, 언더 코트층 (15) 은 복수층 형성할 수 있다. 상기 투명 도전성 박막 (12) 이 형성된 필름 기재 (11) 의 타방의 면에는, 점착제층 (13) 을 개재하여 이형 필름 (14) 이 형성되어 있다. Hereinafter, the transparent conductive film with an adhesive layer of this invention is demonstrated, referring FIGS. 4 and 5. FIG. It is sectional drawing which shows an example of the transparent conductive film with an adhesive layer of this invention. The transparent conductive film with an adhesive layer of FIG. 4 has the transparent conductive thin film 12 in one surface of the 1st transparent plastic film base material 11 which is an optical member, and the other surface of the 1st transparent plastic film base material 11 The release film 14 is formed through the adhesive layer 13 in the inside. In the transparent conductive film with an adhesive layer of FIG. 4, when the transparent conductive thin film 12 is formed in one surface of the 1st transparent plastic film base material 11 via the undercoat layer 15. FIG. to be. In addition, although the undercoat layer 15 is described in one layer in FIG. 5, the undercoat layer 15 can be formed in multiple layers. The release film 14 is formed in the other surface of the film base material 11 in which the said transparent conductive thin film 12 was formed through the adhesive layer 13.

상기 제 1 투명 플라스틱 필름 기재 (11) 로는, 특별히 제한되지 않지만, 투명성을 갖는 각종 플라스틱 필름이 사용된다. 당해 플라스틱 필름은 1 층의 필름에 의해 형성되어 있다. 예를 들어, 그 재료로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐 리덴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리페닐렌설파이드계 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서 특히 바람직한 것은, 폴리에스테르계 수지, 폴리이미드계 수지 및 폴리에테르술폰계 수지이다. Although it does not restrict | limit especially as said 1st transparent plastic film base material 11, Various plastic films which have transparency are used. The said plastic film is formed of the film of one layer. For example, as the material, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, acetate resins, polyether sulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, and polyolefin resins , (Meth) acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyarylate resin, polyphenylene sulfide resin and the like. Particularly preferred among these are polyester resins, polyimide resins, and polyether sulfone resins.

또, 일본 공개특허공보 2001-343529호 (WO10/37007) 에 기재된 고분자 필름, 예를 들어, (A) 측사슬에 치환 및/또는 비치환 이미드기를 갖는 열가소성 수지와, (B) 측사슬에 치환 및/또는 비치환 페닐 그리고 니트릴기를 갖는 열가소성 수지를 함유하는 수지 조성물을 들 수 있다. 구체적으로는, 이소부틸렌 및 N-메틸말레이미드로 이루어지는 교호 공중합체와, 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체를 함유하는 수지 조성물의 고분자 필름을 사용할 수 있다. Moreover, in the polymer film of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-343529 (WO10 / 37007), for example, the thermoplastic resin which has a substituted and / or unsubstituted imide group in (A) side chain, and (B) side chain And resin compositions containing a substituted and / or unsubstituted phenyl and a thermoplastic resin having a nitrile group. Specifically, the polymer film of the resin composition containing the alternating copolymer which consists of isobutylene and N-methyl maleimide, and an acrylonitrile styrene copolymer can be used.

상기 필름 기재 (11) 의 두께는, 15 ∼ 200 ㎛ 인 것이 바람직하고, 25 ∼ 188 ㎛ 인 것이 보다 바람직하다. 필름 기재 (11) 의 두께가 15 ㎛ 미만이면, 필름 기재 (11) 의 기계적 강도가 부족하여, 이 필름 기재 (11) 를 롤 형상으로 하여 투명 도전성 박막 (12) 을 연속적으로 형성하는 조작이 곤란해지는 경우가 있다. 한편, 두께가 200 ㎛ 를 초과하면, 투명 도전성 박막 (12) 의 제막 가공에 있어서 투입량을 저감시키고, 또 가스나 수분의 제거 공정에 폐해를 일으켜 생산성을 저해할 우려가 있다.It is preferable that it is 15-200 micrometers, and, as for the thickness of the said film base material 11, it is more preferable that it is 25-188 micrometers. If the thickness of the film base material 11 is less than 15 micrometers, the mechanical strength of the film base material 11 will be insufficient, and operation which continuously forms the transparent conductive thin film 12 by making this film base material 11 into a roll shape is difficult. There may be a case. On the other hand, when thickness exceeds 200 micrometers, in the film forming process of the transparent conductive thin film 12, input amount may be reduced, it may cause a deterioration in a process of removing gas and water, and may inhibit productivity.

상기 필름 기재 (11) 에는, 표면에 미리 스퍼터링, 코로나 방전, 화염, 자외선 조사, 전자선 조사, 화성, 산화 등의 에칭 처리나 하도 (下塗) 처리를 하고, 이 위에 형성되는 투명 도전성 박막 (12) 또는 언더 코트층 (15) 의 상기 필름 기재 (11) 에 대한 밀착성을 향상시키도록 해도 된다. 또, 투명 도전성 박막 (12) 또는 언더 코트층 (15) 을 형성하기 전에, 필요에 따라 용제 세정이나 초음파 세정 등에 의해 제진 (除塵), 청정화해도 된다.The film substrate 11 is subjected to etching or undercoat treatment such as sputtering, corona discharge, flame, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion, oxidation, or the like on the surface of the transparent conductive thin film 12 formed thereon. Or you may make it improve the adhesiveness of the undercoat layer 15 with respect to the said film base material 11. Moreover, before forming the transparent conductive thin film 12 or the undercoat layer 15, you may damp and clean by solvent washing, ultrasonic cleaning, etc. as needed.

상기 투명 도전성 박막 (12) 의 구성 재료로는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 산화주석을 함유하는 산화인듐, 안티몬을 함유하는 산화주석 등의 금속 산화물이 바람직하게 사용된다. It does not specifically limit as a constituent material of the said transparent conductive thin film 12, For example, metal oxides, such as indium oxide containing tin oxide and tin oxide containing antimony, are used preferably.

상기 투명 도전성 박막 (12) 의 구성 재료로는, 산화주석을 함유하는 산화인듐이 바람직하다. 당해 금속 산화물은, 산화인듐 90 ∼ 99 중량% 및 산화주석 1 ∼ 10 중량% 를 함유하는 것이 바람직하다. As a constituent material of the transparent conductive thin film 12, indium oxide containing tin oxide is preferable. It is preferable that the said metal oxide contains 90-99 weight% of indium oxide and 1-10 weight% of tin oxide.

투명 도전성 박막 (12) 의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 그 표면 저항을 1 × 103 Ω/□ 이하의 양호한 도전성을 갖는 연속 피막으로 하기 위해서는, 두께 10 ㎚ 이상으로 하는 것이 바람직하다. 막 두께가, 지나치게 두꺼워지면 투명성의 저하 등을 초래하기 때문에 15 ∼ 35 ㎚ 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 20 ∼ 30 ㎚ 의 범위 내이다. 두께가 15 ㎚ 미만이면 표면 전기 저항이 높아지고, 또한 연속 피막이 되기 어려워진다. 또, 35 ㎚ 를 초과하면 투명성의 저하 등을 초래한다. Although the thickness of the transparent conductive thin film 12 is not specifically limited, In order to make the surface resistance into the continuous film which has the favorable electroconductivity of 1 * 10 <3> ohm / square or less, it is preferable to set it as thickness 10nm or more. It is preferable that it is 15-35 nm, More preferably, it exists in the range of 20-30 nm, since a film thickness becomes too thick and causes a fall of transparency. If the thickness is less than 15 nm, the surface electrical resistance is high, and it is difficult to form a continuous film. Moreover, when it exceeds 35 nm, transparency will fall.

투명 도전성 박막 (12) 의 형성 방법으로는 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 방법을 채용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법을 예시할 수 있다. 또, 필요로 하는 막 두께에 따라 적절한 방법을 채용할 수도 있다. It does not specifically limit as a formation method of the transparent conductive thin film 12, A conventionally well-known method is employable. Specifically, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method can be exemplified. Moreover, the appropriate method can also be employ | adopted according to the film thickness required.

언더 코트층 (15) 은 무기물, 유기물 또는 무기물과 유기물의 혼합물에 의해 형성할 수 있다. 예를 들어, 무기물로서, NaF (1.3), Na3AlF6 (1.35), LiF (1.36), MgF2 (1.38), CaF2 (1.4), BaF2 (1.3), SiO2 (1.46), LaF3 (1.55), CeF3 (1.63), Al2O3 (1.63) 등의 무기물〔상기 각 재료의 ( ) 안의 수치는 광의 굴절률이다〕을 들 수 있다. 이들 중에서도, SiO2, MgF2, Al2O3 등이 바람직하게 사용된다. 특히, SiO2 가 바람직하다. 상기의 것 이외에, 산화인듐에 대하여 산화세륨을 10 ∼ 40 중량부 정도, 산화주석을 0 ∼ 20 중량부 정도 함유하는 복합 산화물을 사용할 수 있다. The undercoat layer 15 can be formed of an inorganic substance, an organic substance, or a mixture of inorganic substances and organic substances. For example, as inorganic materials, NaF (1.3), Na 3 AlF 6 (1.35), LiF (1.36), MgF 2 (1.38), CaF 2 (1.4), BaF 2 (1.3), SiO 2 (1.46), LaF Inorganic substances, such as 3 (1.55), CeF 3 (1.63), and Al 2 O 3 (1.63), in which the numerical values in parentheses of the above materials are the refractive indices of light. Among these, SiO 2 , MgF 2 , Al 2 O 3 Etc. are used preferably. In particular, SiO 2 is preferable. In addition to the above, a complex oxide containing about 10 to 40 parts by weight of cerium oxide and about 0 to 20 parts by weight of tin oxide can be used relative to indium oxide.

무기물에 의해 형성된 언더 코트층은, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등의 드라이 프로세스로 하거나, 또는 웨트법 (도공법) 등에 의해 형성할 수 있다. 언더 코트층을 형성하는 무기물로는, 전술한 바와 같이 SiO2 가 바람직하다. 웨트법에서는, 실리카 졸 등을 도공함으로써 SiO2 막을 형성할 수 있다. The undercoat layer formed of an inorganic substance can be formed by dry processes, such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or a wet method (coating method). An inorganic material for forming the undercoat layer, the SiO 2 is preferable as described above. In the wet method, a SiO 2 film can be formed by coating a silica sol or the like.

또 유기물로는 아크릴 수지, 우레탄 수지, 멜라민 수지, 알키드 수지, 실록산계 폴리머, 유기 실란 축합물 등을 들 수 있다. 이들 유기물은, 적어도 1 종이 사용된다. 특히, 유기물로는, 멜라민 수지와 알키드 수지와 유기 실란 축합물의 혼합물로 이루어지는 열경화형 수지를 사용하는 것이 바람직하다. Examples of the organic substance include acrylic resins, urethane resins, melamine resins, alkyd resins, siloxane polymers, and organic silane condensates. At least one of these organic substances is used. As an organic substance, it is preferable to use thermosetting resin which consists of a mixture of a melamine resin, an alkyd resin, and an organosilane condensate.

언더 코트층 (15) 을 복수 층 형성하는 경우, 투명 플라스틱 필름 기재 (11) 로부터 첫번째 층의 언더 코트층은 유기물에 의해 형성되어 있고, 투명 플라스틱 필름 기재 (11) 로부터 가장 떨어진 언더 코트층은 무기물에 의해 형성되어 있는 것이, 얻어지는 점착제층 부착 투명 도전성 필름의 가공성의 면에서 바람직하다. 따라서, 언더 코트층 (15) 이 2 층인 경우에는, 투명 플라스틱 필름 기재 (11) 로부터 첫번째 층의 언더 코트층은 유기물, 두번째 층은 무기물에 의해 형성되어 있는 것이 바람직하다.When forming the multiple layers of the undercoat layer 15, the undercoat layer of the 1st layer from the transparent plastic film base material 11 is formed of organic substance, and the undercoat layer which is furthest from the transparent plastic film base material 11 is an inorganic substance. It is preferable that it is formed from the point of the workability of the transparent conductive film with an adhesive layer obtained. Therefore, when the undercoat layer 15 is two layers, it is preferable that the undercoat layer of the 1st layer from the transparent plastic film base material 11 is formed with the organic substance, and the 2nd layer is formed with the inorganic substance.

언더 코트층 (15) 의 두께는 특별히 제한되는 것은 아니지만, 광학 설계, 상기 필름 기재 (11) 로부터의 올리고머 발생 방지 효과의 면에서, 통상적으로 1 ∼ 300 ㎚ 정도이며, 바람직하게는 5 ∼ 300 ㎚ 이다. 또한, 언더 코트층 (15) 을 2 층 이상 형성하는 경우, 각 층의 두께는 5 ∼ 250 ㎚ 정도이며, 바람직하게는 10 ∼ 250 ㎚ 이다. Although the thickness of the undercoat layer 15 is not specifically limited, From an optical design and the viewpoint of the oligomer generation prevention effect from the said film base material 11, it is about 1-300 nm normally, Preferably it is 5-300 nm. to be. In addition, when forming two or more layers of the undercoat layer 15, the thickness of each layer is about 5-250 nm, Preferably it is 10-250 nm.

또한, 도 4, 5 에는 나타나 있지 않지만, 필름 기재 (11) 와 점착제층 (13) 사이에 올리고머 이행 방지층을 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 당해 이행 방지층의 형성 재료로는 투명한 막을 형성할 수 있는 적절한 것을 사용하여, 무기물, 유기물 또는 그들 복합 재료이어도 된다. 그 막 두께는 0.01 ∼ 20 ㎛ 인 것이 바람직하다. 또, 당해 이행 방지층의 형성에는 코터를 사용한 도포법이나 스프레이법, 스핀 코트법, 인라인 코트법 등이 이용되는 경우가 많은데 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법, 스프레이 열분해법, 화학 도금법, 전기 도금법과 같은 수법이 이용되고 있어도 된다. 코팅법에 있어서는, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 멜라민계 수지, UV 경화형 수지, 에폭시계 수지 등의 수지 성분이나 이들 알루미나, 실리카, 마이카 등의 무기 입자의 혼합물을 사용해도 된다. 또는, 고분자 기판을 2 층 이상의 공압출에 의해 기재 성분에 이행 방지층의 기능을 갖게 해도 된다. 또, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법, 스프레이 열분해법, 화학 도금법, 전기 도금법과 같은 수법에 있어서는, 금, 은, 백금, 팔라듐, 구리, 알루미늄, 니켈, 크롬, 티탄, 철, 코발트 또는 주석이나 이들의 합금 등으로 이루어지는 금속, 또는 산화인듐, 산화주석, 산화티탄, 산화카드뮴 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 금속 산화물, 요오드화강 등으로 이루어지는 다른 금속 화합물을 사용할 수 있다. In addition, although not shown in FIG. 4, 5, it is preferable to form an oligomer shift prevention layer between the film base material 11 and the adhesive layer 13. As shown in FIG. In addition, an inorganic substance, an organic substance, or those composite materials may be used as a formation material of the said migration prevention layer using the suitable thing which can form a transparent film. It is preferable that the film thickness is 0.01-20 micrometers. In addition, the coating method, the spray method, the spin coat method, the in-line coat method, etc. using a coater are often used for formation of the said transfer prevention layer, The vacuum vapor deposition method, sputtering method, ion plating method, spray pyrolysis method, chemical plating method, electroplating method The same method may be used. In the coating method, resin components such as acrylic resins, urethane resins, melamine resins, UV curable resins and epoxy resins, and mixtures of inorganic particles such as alumina, silica and mica may be used. Alternatively, the polymer substrate may have a function of a migration prevention layer on the substrate component by coextrusion of two or more layers. In addition, in methods such as vacuum deposition, sputtering, ion plating, spray pyrolysis, chemical plating and electroplating, gold, silver, platinum, palladium, copper, aluminum, nickel, chromium, titanium, iron, cobalt or tin Or other metal compounds made of metal oxides made of indium oxide, tin oxide, titanium oxide, cadmium oxide or a mixture thereof, steel iodide, or the like.

상기 점착제층 (13) 은 도 3 에 나타내는 바와 같이, 전술한 바와 같이 앵커층 (a) 에 의해 투묘력을 향상시킬 수 있다. 앵커층은 통상 필름 기재 (11) 측에 형성된다. As shown in FIG. 3, the said adhesive layer 13 can improve the anchoring force by the anchor layer (a) as mentioned above. The anchor layer is usually formed on the film substrate 11 side.

본 발명의 점착제층 부착 투명 도전성 필름의 제조 방법은, 상기 구성의 것이 얻어지는 방법이면 특별히 제한되지 않는다. 통상적으로는, 상기 점착제층 (13) 은 제 1 투명 플라스틱 필름 기재 (11) 의 일방의 면에 투명 도전성 박막 (12 ; 언더 코트층 (15) 을 포함하는 경우 있음) 을 형성하여 투명 도전성 필름을 제조한 후, 당해 투명 도전성 필름의 타방의 면에 형성된다. 점착제층 (13) 은 전술한 바와 같이 필름 기재 (11) 에 직접 형성해도 되고, 이형 필름 (14) 에 점착제층 (13) 을 형성해 두고, 이것을 상기 필름 기재 (11) 에 접착시켜도 된다. 후자의 방법에서는, 점착제층 (13) 의 형성을, 필름 기재 (11) 를 롤 형상으로 하여 연속적으로 실시할 수 있기 때문에 생산성의 면에서 한층 더 유리하다. The manufacturing method of the transparent conductive film with an adhesive layer of this invention will not be restrict | limited especially if the thing of the said structure is obtained. Usually, the said adhesive layer 13 forms a transparent conductive thin film 12 (when the undercoat layer 15 is included) in one surface of the 1st transparent plastic film base material 11, and forms a transparent conductive film. After manufacture, it is formed in the other surface of the said transparent conductive film. As described above, the pressure-sensitive adhesive layer 13 may be directly formed on the film base material 11, or the pressure-sensitive adhesive layer 13 may be formed on the release film 14, and the pressure-sensitive adhesive layer 13 may be adhered to the film base material 11. In the latter method, since the formation of the pressure-sensitive adhesive layer 13 can be carried out continuously by making the film base material 11 into a roll shape, it is further advantageous in terms of productivity.

상기 점착제층 부착 투명 도전성 필름은, 점착제층 (13) 에, 추가로 제 2 투명 플라스틱 필름 기재 (11') 를 접착시켜, 도 6 에 나타내는 바와 같이 투명 도전성 적층체로 할 수 있다. The transparent conductive film with a pressure-sensitive adhesive layer can further adhere the second transparent plastic film base material 11 'to the pressure-sensitive adhesive layer 13 to form a transparent conductive laminate as shown in FIG. 6.

또, 제 2 투명 플라스틱 필름 기재 (11') 의 접착은, 제 2 투명 플라스틱 필름 기재 (11') 쪽에 점착제층 (13) 을 형성해 두고, 이것에 필름 기재 (11) 를 접착되도록 해도 되고, 반대로 필름 기재 (11) 쪽에 상기 점착제층 (13) 을 형성해 두고, 이것에 제 2 투명 플라스틱 필름 기재 (11') 를 접착시켜도 된다. 후자의 방법에서는, 점착제층 (13) 의 형성을, 필름 기재 (11) 를 롤 형상으로 하여 연속적으로 실시할 수 있어 생산성의 면에서 더욱 유리하다. In addition, the adhesion of the 2nd transparent plastic film base material 11 'may form the adhesive layer 13 in the 2nd transparent plastic film base material 11' side, and may make it adhere | attach the film base material 11 to this, and conversely The adhesive layer 13 may be formed on the film substrate 11 side, and the second transparent plastic film substrate 11 'may be attached thereto. In the latter method, formation of the adhesive layer 13 can be performed continuously by making the film base material 11 into a roll shape, and is further advantageous in terms of productivity.

도 6 에 나타내는 바와 같이, 제 2 투명 플라스틱 필름 기재 (11') 는 단층 구조로 할 수 있는 것 이외에, 2 매 이상의 제 2 투명 플라스틱 필름 기재 (11') 를 투명한 점착제층에 의해 접착시킨 복합 구조로 하여, 적층체 전체의 기계적 강도 등을 더욱 향상시킬 수 있다. 또한, 도 6 에서는, 도 4 에 기재된 점착제층 부착 투명 도전성 필름에 제 2 투명 플라스틱 필름 기재 (11') 가 접착되어 있는데, 도 5 에 기재된 점착제층 부착 투명 도전성 필름에 대해서도 마찬가지로 제 2 투명 플라스틱 필름 기재 (11') 를 접착시킨 투명 도전성 적층체로 할 수 있다.As shown in FIG. 6, the 2nd transparent plastic film base material 11 'has a single layer structure, Comprising: The composite structure which adhere | attached 2 or more 2nd transparent plastic film base material 11' with the transparent adhesive layer. In this way, the mechanical strength and the like of the entire laminate can be further improved. In addition, although the 2nd transparent plastic film base material 11 'is adhere | attached on the transparent conductive film with an adhesive layer in FIG. 4 in FIG. 6, the 2nd transparent plastic film similarly also about the transparent conductive film with an adhesive layer in FIG. It can be set as the transparent conductive laminated body which adhere | attached the base material 11 '.

상기 제 2 투명 플라스틱 필름 기재 (11') 로서 단층 구조를 채용하는 경우에 대하여 설명한다. 단층 구조인 제 2 투명 플라스틱 필름 기재 (11') 를 접착시킨 후에도 투명 도전성 적층체가 가요성인 것이 요구되는 경우에는, 제 2 투명 플라스틱 필름 기재 (11) 의 두께는, 통상적으로 6 ∼ 300 ㎛ 정도의 플라스틱 필 름이 사용된다. 가요성이 특별히 요구되지 않는 경우에는, 투명 기체의 두께는, 통상적으로 0.05 ∼ 10 ㎜ 정도의 유리판이나 필름 형상 내지 판 형상의 플라스틱이 사용된다. 플라스틱의 재질로는 상기 필름 기재 (11) 와 동일한 것을 들 수 있다. 상기 제 2 투명 플라스틱 필름 기재 (11') 로서 복수 구조를 채용하는 경우에도, 상기 동일한 두께로 하는 것이 바람직하다. The case where a single layer structure is employ | adopted as said 2nd transparent plastic film base material 11 'is demonstrated. When the transparent conductive laminate is required to be flexible even after the second transparent plastic film base material 11 'having a single layer structure is bonded, the thickness of the second transparent plastic film base material 11 is usually about 6 to 300 µm. Plastic films are used. When flexibility is not specifically requested, the glass of about 0.05-10 mm, the film shape, or plate-shaped plastic is used for the thickness of a transparent base material normally. The material similar to the said film base material 11 is mentioned as a material of plastics. In the case where a plurality of structures are employed as the second transparent plastic film base 11 ', the thickness is preferably the same.

상기 투명 도전성 적층체에 있어서 제 2 투명 플라스틱 필름 기재의 편면 또는 양면에 하드 코트층을 형성할 수 있다. 도 7 에서는, 제 2 투명 플라스틱 필름 기재 (11') 의 편면 (점착제층 (13) 에 접착되지 않은 면) 에 하드 코트층 (16) 이 형성되어 있다. 상기 하드 코트층은, 제 2 투명 플라스틱 필름 기재에 하드 코트 처리를 함으로써 얻어진다. 하드 코트 처리는, 예를 들어 아크릴·우레탄계 수지나 실록산계 수지 등의 경질 수지를 도포하여 경화 처리하는 방법 등에 의해 실시할 수 있다. 하드 코트 처리시에는, 상기 아크릴·우레탄계 수지나 실록산계 수지 등의 경질 수지에 실리콘 수지 등을 배합하여 표면을 조면화하여, 터치 패널 등으로서 실제 사용했을 때에 거울 작용에 의한 반사를 방지할 수 있는 논글레어면을 동시에 형성할 수도 있다. In the said transparent conductive laminated body, a hard-coat layer can be formed in the single side | surface or both surfaces of a 2nd transparent plastic film base material. In FIG. 7, the hard-coat layer 16 is formed in the single side | surface (surface which is not adhere | attached to the adhesive layer 13) of the 2nd transparent plastic film base material 11 '. The said hard coat layer is obtained by giving a hard-coat process to a 2nd transparent plastic film base material. Hard coat processing can be performed by the method of apply | coating hardening processes, such as acrylic urethane resin and siloxane resin, and hardening process, etc., for example. At the time of hard coat processing, silicone resin etc. are mix | blended with hard resins, such as said acrylic urethane resin and siloxane resin, and the surface is roughened, and when it is actually used as a touch panel etc., reflection by mirror action can be prevented. Non-glare surfaces may be formed at the same time.

하드 코트층의 두께는, 이것이 얇으면 경도 부족이 되고, 한편 지나치게 두꺼우면 크랙이 발생하는 경우가 있다. 또, 컬의 방지 특성 등도 고려하면, 바람직한 하드 코트층의 두께는 0.1 ∼ 30 ㎛ 정도이다. If the thickness of the hard coat layer is thin, the hardness is insufficient, while if the thickness is too thick, cracks may occur. Moreover, in consideration of the prevention property of curl, etc., the thickness of a preferable hard-coat layer is about 0.1-30 micrometers.

또한, 필요에 따라 상기한 제 2 투명 플라스틱 필름 기재의 외표면 (점착제층 (13) 에 접착되지 않은 면) 에는, 상기 하드 코트층 이외에, 시인성의 향상을 목적으로 한 방현 처리층이나 반사 방지층을 형성하도록 해도 된다. In addition to the hard coat layer, an antiglare treatment layer and an antireflection layer for the purpose of improving visibility are provided on the outer surface (surface not adhered to the adhesive layer 13) of the second transparent plastic film base material as described above. It may be formed.

본 발명의 점착제층 부착 투명 도전성 필름 또는 투명 도전성 적층체는, 터치 패널이나 액정 디스플레이 등의 각종 장치의 형성 등에 있어서 사용된다. 특히, 터치 패널용 전극판으로서 바람직하게 사용할 수 있다. 터치 패널은 여러 검출 방식 (예를 들어, 저항막 방식, 정전 용량 방식 등) 에 의해 바람직하게 사용된다. The transparent conductive film or transparent conductive laminated body with an adhesive layer of this invention is used in formation of various apparatuses, such as a touchscreen and a liquid crystal display. In particular, it can use suitably as an electrode plate for touch panels. The touch panel is preferably used by various detection methods (for example, resistive film type, capacitive type, etc.).

저항막 방식의 터치 패널은, 투명 도전성 박막을 갖는 터치측의 터치 패널 용 전극판과 투명 도전성 박막을 갖는 디스플레이측의 터치 패널용 전극판을, 투명 도전성 박막끼리가 대향하도록 스페이서를 개재하여 대향 배치하여 이루어지고, 본 발명의 투명 도전성 필름으로 이루어지는 터치 패널용 전극판은, 터치측, 디스플레이측의 어느 터치 패널용 전극판에도 사용할 수 있다. 특히, 본 발명의 점착제층 부착 투명 도전성 필름 또는 투명 도전성 적층체를 사용한 터치 패널용 전극판은, 뉴턴 링의 발생을 억제시키는 점, 내구성, 표시 특성을 만족시키는 점, 터치 패널의 박형화의 면에서, 디스플레이측의 터치 패널용 전극판으로서 사용하는 것이 바람직하다.In the resistive touch panel, an electrode plate for a touch panel having a transparent conductive thin film and an electrode plate for a display panel having a transparent conductive thin film are disposed to face each other via spacers so that the transparent conductive thin films face each other. The electrode panel for touch panels which consists of a transparent conductive film of this invention can be used also for the electrode panels for touch panels on a touch side and a display side. In particular, the electrode panel for touch panels using the transparent conductive film with an adhesive layer or the transparent conductive laminated body of this invention is a point which suppresses generation | occurrence | production of a Newton ring, satisfy | fills durability, display characteristics, and the thickness of a touch panel. It is preferable to use it as an electrode plate for touch panels on the display side.

한편, 정전 용량 방식의 터치 패널은 통상 소정의 패턴 형상을 갖는 투명 도전성 박막을 구비한 투명 도전성 필름이 디스플레이 표시부의 전체면에 형성되어 있다. 도 4 내지 7 에서는, 투명 도전성 박막 (12) 은 패턴화되어 있지 않지만, 적절히 패턴화된 것이 사용되어, 당해 패턴화된 투명 도전성 필름은 적절히 적층시켜 사용된다. On the other hand, in the capacitive touch panel, the transparent conductive film provided with the transparent conductive thin film which has a predetermined pattern shape normally is formed in the whole surface of a display display part. In FIGS. 4-7, although the transparent conductive thin film 12 is not patterned, what was suitably patterned is used and the said patterned transparent conductive film is used by laminating suitably.

또, 본 발명의 점착형 광학 부재는, 도 1 에 있어서의, 광학 부재 (1) 로서 화상 표시 장치용 광학 필름을 사용한, 점착제층 부착 광학 필름으로서 사용할 수 있다. Moreover, the adhesive optical member of this invention can be used as an optical film with an adhesive layer using the optical film for image display apparatuses as the optical member 1 in FIG.

광학 필름으로는, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치의 형성에 이용되는 것이 사용되고, 그 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 광학 필름으로는 편광판을 들 수 있다. 편광판은 편광자의 편면 또는 양면에는 투명 보호 필름을 갖는 것이 일반적으로 사용된다. As an optical film, what is used for formation of image display apparatuses, such as a liquid crystal display device and an organic electroluminescence display, is used, The kind in particular is not restrict | limited. For example, a polarizing plate is mentioned as an optical film. As for the polarizing plate, one having a transparent protective film is generally used on one side or both sides of the polarizer.

편광자는 특별히 한정되지 않고, 각종의 것을 사용할 수 있다. 편광자로는 예를 들어, 폴리비닐알코올계 필름, 부분 포르말화폴리비닐알코올계 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 2 색성 염료의 2 색성 물질을 흡착시켜 1 축 연신한 것, 폴리비닐알코올의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 폴리비닐알코올계 필름과 요오드 등의 2 색성 물질로 이루어지는 편광자가 바람직하다. 이들 편광자의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 일반적으로 5 ∼ 80 ㎛ 정도이다. The polarizer is not particularly limited, and various kinds of polarizers can be used. As the polarizer, for example, a dichroic substance of iodine or a dichroic dye is adsorbed onto hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol films, partially formalized polyvinyl alcohol films, and ethylene / vinyl acetate copolymerized partial saponified films. And polyene oriented films such as monoaxially stretched, dehydrated polyvinyl alcohol and dehydrochloric acid treated polyvinyl chloride. Among these, the polarizer which consists of dichroic substances, such as a polyvinyl alcohol-type film and iodine, is preferable. The thickness of these polarizers is not particularly limited, but is generally about 5 to 80 占 퐉.

폴리비닐알코올계 필름을 요오드로 염색하여 1 축 연신한 편광자는, 예를 들어, 폴리비닐알코올을 요오드 수용액에 침지시킴으로써 염색하여, 원래 길이의 3 ∼ 7 배로 연신함으로써 제조할 수 있다. 필요에 따라 붕산이나 황산아연, 염화 아연 등을 함유하고 있어도 되는 요오드화칼륨 등의 수용액에 침지시킬 수도 있다. 또한 필요에 따라 염색 전에 폴리비닐알코올계 필름을 물에 침지시켜 수세 해도 된다. 폴리비닐알코올계 필름을 수세함으로써 폴리비닐알코올계 필름 표면의 오염이나 블록킹 방지제를 세정할 수 있는 것 이외에, 폴리비닐알코올계 필름을 팽윤시킴으로써 염색의 얼룩 등의 불균일을 방지하는 효과도 있다. 연신은 요오드로 염색한 후에 실시해도 되고, 염색하면서 연신해도 되며, 또 연신하고 나서 요오드로 염색해도 된다. 붕산이나 요오드화칼륨 등의 수용액이나 수욕 중에서도 연신할 수 있다. The polarizer which dyed a polyvinyl alcohol-type film with iodine and uniaxially stretched can be manufactured, for example, by dyeing polyvinyl alcohol by immersing it in the iodine aqueous solution, and extending | stretching 3 to 7 times the original length. It can also be immersed in aqueous solution, such as potassium iodide which may contain boric acid, zinc sulfate, zinc chloride, etc. as needed. If necessary, the polyvinyl alcohol-based film may be immersed in water and washed before dyeing. In addition to washing the polyvinyl alcohol-based film with water, the contamination of the polyvinyl alcohol-based film and the blocking agent can be washed. In addition, swelling of the polyvinyl alcohol-based film also prevents unevenness such as dyeing. The stretching may be carried out after dyeing with iodine, stretching while dyeing, and dyeing with iodine after stretching. It can be stretched in an aqueous solution such as boric acid or potassium iodide or in a water bath.

투명 보호 필름을 구성하는 재료로는, 예를 들어 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분 차단성, 등방성 등이 우수한 열가소성 수지가 사용된다. 이와 같은 열가소성 수지의 구체예로는, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리술폰 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리올레핀 수지, (메트)아크릴 수지, 고리형 폴리올레핀 수지 (노르보르넨계 수지), 폴리아릴레이트 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리비닐알코올 수지, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 편광자의 편측에는, 투명 보호 필름이 접착제층에 의해 접착되고, 다른 편측에는, 투명 보호 필름으로서, (메트)아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화성 수지 또는 자외선 경화형 수지를 사용할 수 있다. 투명 보호 필름 중에는 임의의 적절한 첨가제가 1 종류 이상 함유되어 있어도 된다. 첨가제로는 예를 들어, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 활제, 가소제, 이형제, 착색 방지제, 난연제, 핵제, 대전 방지제, 안료, 착색제 등을 들 수 있다. 투명 보호 필름 중의 상기 열가소성 수지의 함유량은, 바람직하게는 50 ∼ 100 중량%, 보다 바람직하게는 50 ∼ 99 중량%, 더욱 바람직하게는 60 ∼ 98 중량%, 특히 바람직하게는 70 ∼ 97 중량% 이다. 투명 보호 필름 중의 상기 열가소성 수지의 함유량이 50 중량% 이하인 경우, 열가소성 수지가 본래 갖는 고투명성 등이 충분히 발현될 수 없을 우려가 있다. As a material which comprises a transparent protective film, the thermoplastic resin excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier property, isotropy, etc. is used, for example. Specific examples of such thermoplastic resins include cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyester resins, polyether sulfone resins, polysulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, and (meth) acryl Resins, cyclic polyolefin resins (norbornene-based resins), polyarylate resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, and mixtures thereof. In addition, a transparent protective film is bonded to one side of the polarizer by an adhesive layer, and on the other side, a thermosetting resin such as (meth) acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy, silicone, or ultraviolet curable resin is used as the transparent protective film. Can be used. One or more types of arbitrary appropriate additives may be contained in the transparent protective film. As an additive, a ultraviolet absorber, antioxidant, a lubricating agent, a plasticizer, a mold release agent, a coloring inhibitor, a flame retardant, a nucleating agent, an antistatic agent, a pigment, a coloring agent, etc. are mentioned, for example. Content of the said thermoplastic resin in a transparent protective film becomes like this. Preferably it is 50-100 weight%, More preferably, it is 50-99 weight%, More preferably, it is 60-98 weight%, Especially preferably, it is 70-97 weight% . When content of the said thermoplastic resin in a transparent protective film is 50 weight% or less, there exists a possibility that the high transparency etc. which a thermoplastic resin originally has cannot fully be expressed.

또 광학 필름으로는, 예를 들어 반사판이나 반투과판, 위상차판 (1 / 2 이나 1 / 4 등의 파장판을 포함한다), 광학 보상 필름, 시각 보상 필름, 휘도 향상 필름 등의 액정 표시 장치 등의 형성에 사용되는 광학층이 되는 것을 들 수 있다. 이들은 단독으로 광학 필름으로서 사용할 수 있는 것 이외에, 상기 편광판에, 실제 사용시에 적층시켜 1 층 또는 2 층 이상 사용할 수 있다. Moreover, as an optical film, liquid crystal display devices, such as a reflecting plate, a semi-transmissive plate, a retardation plate (including wavelength plates, such as 1/2 or 1/4), an optical compensation film, a visual compensation film, and a brightness enhancement film, for example The thing used as the optical layer used for formation of these etc. is mentioned. In addition to being able to be used as an optical film independently, these can be laminated | stacked on the said polarizing plate at the time of actual use, and can use 1 layer or 2 or more layers.

편광판에 상기 광학층을 적층시킨 광학 필름은, 액정 표시 장치 등의 제조 과정에서 순차적으로 별개로 적층시키는 방식으로도 형성할 수 있지만, 미리 적층시켜 광학 필름으로 한 것은, 품질의 안정성이나 조립 작업 등이 우수하여 액정 표시 장치 등의 제조 공정을 향상시킬 수 있는 이점이 있다. 적층에는 점착층 등의 적절한 접착 수단을 이용할 수 있다. 상기 편광판과 다른 광학층의 접착시에, 그들 광학축은 목적으로 하는 위상차 특성 등에 따라 적절한 배치 각도로 할 수 있다. Although the optical film which laminated | stacked the said optical layer on the polarizing plate can also be formed also by the method of laminating | stacking separately, one by one in the manufacturing process of a liquid crystal display device, etc., what laminated | stacked previously was made into the optical film, such as stability of quality, assembly work, etc. It is excellent in this and there exists an advantage which can improve manufacturing processes, such as a liquid crystal display device. Appropriate adhesion means, such as an adhesion layer, can be used for lamination. At the time of adhering the polarizing plate to another optical layer, these optical axes can be set to an appropriate placement angle in accordance with a desired phase difference characteristic or the like.

본 발명의 점착제층 부착 광학 필름은 액정 표시 장치 등의 각종 화상 표시 장치의 형성 등에 바람직하게 사용할 수 있다. 액정 표시 장치의 형성은 종래에 준하여 실시할 수 있다. 즉 액정 표시 장치는 일반적으로, 액정 셀과 점착제층 부착 광학 필름, 및 필요에 따른 조명 시스템 등의 구성 부품을 적절히 조립 하여 구동 회로를 장착하거나 함으로써 형성되는데, 본 발명에 있어서는 본 발명에 의한 점착제층 부착 광학 필름을 사용하는 점을 제외하고 특별히 한정되지 않고 종래에 준할 수 있다. 액정 셀에 대해서도, 예를 들어 TN 형이나 STN 형, π 형, VA 형, IPS 형 등의 임의의 타입의 것을 사용할 수 있다. The optical film with an adhesive layer of this invention can be used suitably for formation of various image display apparatuses, such as a liquid crystal display device. Formation of a liquid crystal display device can be carried out in accordance with a conventional method. In other words, a liquid crystal display device is generally formed by assembling a component such as a liquid crystal cell, an optical film with a pressure-sensitive adhesive layer, and a lighting system, if necessary, and mounting a drive circuit, but in the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer according to the present invention It does not specifically limit except the point which uses an attached optical film, and can follow conventionally. As for the liquid crystal cell, any type of TN type, STN type, pi type, VA type, IPS type or the like can be used, for example.

액정 셀의 편측 또는 양측에 점착제층 부착 광학 필름을 배치시킨 액정 표시 장치나, 조명 시스템에 백라이트 또는 반사판을 사용한 것 등의 적절한 액정 표시 장치를 형성할 수 있다. 그 경우, 본 발명에 의한 광학 필름은 액정 셀의 편측 또는 양측에 설치할 수 있다. 양측에 광학 필름을 설치하는 경우, 그들은 동일한 것이어도 되고, 상이한 것이어도 된다. 또한 액정 표시 장치의 형성시에는, 예를 들어 확산판, 안티글레어층, 반사 방지막, 보호판, 프리즘 어레이, 렌즈 어레이 시트, 광확산판, 백라이트 등의 적절한 부품을 적절한 위치에 1 층 또는 2 층 이상 배치할 수 있다. Suitable liquid crystal display devices, such as the liquid crystal display device which arrange | positioned the optical film with an adhesive layer on the one side or both sides of a liquid crystal cell, and the thing which used the backlight or the reflecting plate for the illumination system, can be formed. In that case, the optical film by this invention can be provided in the one side or both sides of a liquid crystal cell. When providing an optical film in both sides, they may be the same and may differ. Further, at the time of forming the liquid crystal display device, appropriate parts such as a diffusion plate, an anti-glare layer, an antireflection film, a protective plate, a prism array, a lens array sheet, a light diffusion plate, a backlight, Can be deployed.

실시예Example

이하, 본 발명에 관하여 실시예를 이용하여 상세히 설명하는데, 본 발명은 그 요지를 초과하지 않는 한, 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또, 각 예 중, 부, % 는 모두 중량 기준이다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail using an Example, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded. In addition, in each case, all parts and% are basis of weights.

<분자량의 측정> &Lt; Measurement of molecular weight &

분자량은 GPC (겔·퍼미에이션·크로마토그래피) 에 의해 측정하였다. Molecular weight was measured by GPC (gel permeation chromatography).

분석 장치 : 토소사 제조, HLC-8120 GPC Analysis device: manufactured by Tosoh Corporation, HLC-8120 GPC

데이터 처리 장치 : 토소사 제조, GPC-8020 Data processing device: manufactured by Tosoh Corporation, GPC-8020

칼럼 : column :

샘플 칼럼 ; 토소사 제조, G7000HXL - H + GMHXL - H + GMHXL Sample column; Made by Tosoh Corporation, G7000H XL -H + GMH XL -H + GMH XL

칼럼 사이즈 ; 각 7.8 ㎜Φ × 30 ㎝ (합계 90 ㎝) Column size; Each 7.8 mmΦ × 30 cm (90 cm in total)

유량 : 0.8 ㎖/minFlow rate: 0.8 ml / min

주입 시료 농도 : 약 0.1 중량% Injection sample concentration: about 0.1% by weight

주입량 : 100 ㎕ Injection volume: 100 μl

칼럼 온도 : 40 ℃ Column temperature: 40 DEG C

용리액 : 테트라히드로푸란 Eluent: tetrahydrofuran

검출기 : 시차 굴절계 (RI) Detector: Differential Refractometer (RI)

또한, 분자량은 폴리스티렌 환산에 의해 산출하였다. In addition, molecular weight was computed by polystyrene conversion.

<겔분율의 측정><Measurement of gel fraction>

각 실시예·비교예에서 제조한 가교 처리 직후의 점착제층을 약 0.1 g 취하여, 이것을 칭량하여 중량 W1 (g) 을 측정하였다. 이어서, 상기 점착제층을 약 50 ㎖ 의 아세트산에틸에 23 ℃ 하에서 7 일간 침지시킨 후, 가용분을 추출하였다. 그 후, 상기 점착제층을 아세트산에틸 중에서 꺼내고, 이것을 120 ℃ 에서 2시간 건조시켜 전체의 중량 W2 (g) 를 측정하였다. 이들 측정값에서, About 0.1 g of the pressure-sensitive adhesive layer immediately after the crosslinking treatment prepared in each Example and Comparative Example was taken, and weighed thereto, and the weight W 1 (g) was measured. Subsequently, the pressure-sensitive adhesive layer was immersed in about 50 ml of ethyl acetate at 23 ° C. for 7 days, and then the soluble component was extracted. Thereafter, the pressure-sensitive adhesive layer taken out from ethyl acetate, it was dried for 2 hours at 120 ℃ was measured the total weight W 2 (g). In these measurements,

하기 식 : 겔분율 (중량%) =〔(W1 - W2) / W1〕× 100 Formula: Gel fraction (% by weight) = [(W 1 -W 2 ) / W 1 ] × 100

에 의해 산출되는 값을 점착제층의 겔분율 (중량%) 로 하였다. 또한, 도공 후, 실온 (약 23 ℃ 하) 에서 7 일간 보존한 후에, 겔분율을 측정하였다. The value computed by was made into the gel fraction (weight%) of an adhesive layer. After coating, the gel fraction was measured after storage at room temperature (under about 23 ° C.) for 7 days.

<저장 탄성률의 측정>&Lt; Measurement of storage elastic modulus &

저장 탄성률은, 각 실시예·비교예에서 제조한 점착제층을 사용하여 ARES (점탄성 스펙트로미터, 레오메탈릭·사이언티픽사 제조) 에 의해 측정하였다. The storage elastic modulus was measured by ARES (viscoelastic spectrometer, rheometallic scientific company) using the adhesive layer manufactured in each Example and the comparative example.

변형 모드 : 비틀림 Deformation mode: torsion

측정 주파수 : 일정 주파수 1 ㎐ Measuring frequency: constant frequency 1 ㎐

승온 속도 : 5 ℃/min Temperature rise rate: 5 ℃ / min

측정 온도 : 아크릴계 폴리머의 유리 전이 온도 (Tg) 부근에서 200 ℃ 까지 측정 Measurement temperature: measured up to 200 ° C near the glass transition temperature (Tg) of the acrylic polymer

형상 : 패럴렐 플레이트 7.9 ㎜Φ Shape: Parallel Plate 7.9 mmΦ

시료 두께 : 약 1.8 ㎜ (장착 초기) Sample thickness: about 1.8 mm (initial installation)

또한, 23 ℃ 에서의 저장 탄성률 (G') 을 판독하였다. In addition, the storage elastic modulus (G ') at 23 degreeC was read.

실시예 1 Example 1

(아크릴계 폴리머의 조제) (Preparation of acrylic polymer)

교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4 구 플라스크에, 부틸아크릴레이트 100 중량부, 아크릴산 5 중량부 및 2-히드록시에틸아크릴레이트0.075 중량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.2 중량부, 중합 용매로서 아세트산에틸 200 중량부를 주입하고, 충분히 질소 치환한 후, 질소 기류 하에서 교반하면서 플라스크 내의 액 온도를 55 ℃ 부근으로 유지시키고 10 시간 중합 반응을 실시하여, 아크릴계 폴리머 용액을 조제하였다. 상기 아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은 220 만이었다. In a four-necked flask equipped with a stirring vane, a thermometer, a nitrogen gas introduction tube, and a cooler, 100 parts by weight of butyl acrylate, 5 parts by weight of acrylic acid and 0.075 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, and 2,2'- as a polymerization initiator. 0.2 parts by weight of azobisisobutyronitrile and 200 parts by weight of ethyl acetate as a polymerization solvent were injected, and after nitrogen was sufficiently substituted, the liquid temperature in the flask was kept at about 55 ° C while stirring under a nitrogen stream, followed by a polymerization reaction for 10 hours. And acrylic polymer solution were prepared. The weight average molecular weight of the said acrylic polymer was 2.2 million.

(점착제 조성물의 조제) (Preparation of pressure-sensitive adhesive composition)

상기 아크릴계 폴리머 용액의 고형분 100 중량부에, 과산화물로서 디벤조일퍼옥사이드 (나이파 BMT, 닛폰 유지 (주) 제조) 0.2 중량부, 에폭시계 가교제로서 디글리시딜아미노메틸시클로헥산 (미츠비시 가스 화학 (주) 제조, 테트라드 C) 0.05 중량부, 이소시아네이트계 가교제로서 트리메틸올프로판/톨릴렌디이소시아네이트의 어덕트체 (닛폰 폴리우레탄 공업 (주) 제조, 콜로네이트 L) 0.1 중량부와, 실란 커플링제 (신에츠 화학 공업 (주) 제조, KBM403) 0.075 중량부를, 균일하게 혼합 교반하여 아크릴계 점착제 용액 (고형분 10.9 중량%) 을 조제하였다. 0.2 parts by weight of dibenzoyl peroxide (Nipa BMT, Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) as a peroxide, 100 parts by weight of the acrylic polymer solution, and diglycidylaminomethylcyclohexane (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) as an epoxy crosslinking agent. 0.1 part by weight of an adduct of trimethylolpropane / tolylene diisocyanate (Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., Colonate L) as a Manufacture, tetrad C) 0.05 part by weight and an isocyanate-based crosslinking agent, and a silane coupling agent ( Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product, KBM403) 0.075 weight part was mixed and stirred uniformly, and the acrylic adhesive solution (solid content 10.9 weight%) was prepared.

(점착제층의 형성) (Formation of pressure-sensitive adhesive layer)

상기 아크릴계 점착제 용액을, 이형 처리를 한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (두께 : 38 ㎛) 의 세퍼레이터 상에 도포하고, 155 ℃ 에서 1 분간 가열하여, 건조 후의 두께가 22 ㎛ 인 점착제층을 형성하였다. 당해 점착제층의 겔분율은 92 중량%, 23 ℃ 에서의 저장 탄성률 (G') 은 118000 ㎩ 이었다. The said acrylic adhesive solution was apply | coated on the separator of the polyethylene terephthalate film (thickness: 38 micrometers) which performed the mold release process, it heated at 155 degreeC for 1 minute, and formed the adhesive layer whose thickness after drying is 22 micrometers. The gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer was 92% by weight, and the storage elastic modulus (G ′) at 23 ° C. was 118000 GPa.

(언더 코트층의 형성) (Formation of Undercoat Layer)

필름 기재로서, 두께 25 ㎛ 의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (이하, PET 필름이라고 한다) 의 일방의 면에, 이행 방지층 (우레탄아크릴계 자외선 경화성 수지에 의해 형성, 두께 1 ㎛) 을 형성하여 이루어지는 것을 사용하였다. 당해 필름 기재의 타방의 면에, 멜라민 수지 : 알키드 수지 : 유기 실란 축합물의 중량 비 2 : 2 : 1 의 열경화형 수지에 의해, 두께가 180 ㎚ 인 첫번째 층의 언더 코트 층을 형성하였다. 이어서, 첫번째 층의 언더 코트층 상에 SiO2 를, 전자 빔 가열법에 의해 1.33 × 10-2 ∼ 2.67 × 10-2 ㎩ 의 진공도로 진공 증착시켜, 두께 40 ㎚ 의 두번째 층의 언더 코트층 (SiO2 막) 을 형성하였다. As a film base material, what formed by forming a transition prevention layer (formation with urethane acrylic type ultraviolet curable resin, thickness 1 micrometer) in one surface of the 25-micrometer-thick polyethylene terephthalate film (henceforth a PET film) was used. On the other side of the said film base material, the undercoat layer of the 1st layer whose thickness is 180 nm was formed with the thermosetting resin of weight ratio 2: 2: 1 of melamine resin: alkyd resin: organosilane condensate. Subsequently, SiO 2 was vacuum-deposited on the undercoat layer of the first layer with a vacuum of 1.33 × 10 −2 to 2.67 × 10 −2 Pa by an electron beam heating method, and the undercoat of the second layer having a thickness of 40 nm ( SiO 2 film).

(투명 도전성 박막의 형성) (Formation of Transparent Conductive Thin Film)

다음으로, 두번째 층의 언더 코트층 상에, 아르곤 가스 80 % 와 산소 가스 20 % 로 이루어지는 5.33 × 10-2 ㎩ 의 분위기 중에서, 산화인듐 95 중량%, 산화주석 5 중량% 를 사용한 반응성 스퍼터링법에 의해, 두께 20 ㎚ 의 ITO 막을 형성하여 투명 도전성 필름을 얻었다. 얻어진 ITO 막은 아모르퍼스였다. Next, on the undercoat layer of the second layer, in a reactive sputtering method using 95% by weight of indium oxide and 5% by weight of tin oxide in an atmosphere of 5.33 × 10 −2 Pa composed of 80% argon gas and 20% oxygen gas. Thus, an ITO film having a thickness of 20 nm was formed to obtain a transparent conductive film. The obtained ITO membrane was amorphous.

(점착제층 부착 투명 도전성 필름의 제조) (Manufacture of the transparent conductive film with an adhesive layer)

상기 이형 필름 상에 형성된 점착제층에, 상기 투명 도전성 필름 (ITO 막을 형성하지 않은 측의 면) 을 접착시켜, 점착제층 부착 투명 도전성 필름을 제조하였다. ITO 막의 표면 저항값은 300 Ω/□ 이었다. ITO 막의 표면 저항값 (Ω/□) 은, 미츠비시 화학 (주) 제조의 로레스타 저항 측정기를 사용하여 측정하였다. The said transparent conductive film (surface of the side which does not form an ITO film | membrane) was adhere | attached on the adhesive layer formed on the said release film, and the transparent conductive film with an adhesive layer was manufactured. The surface resistance of the ITO film was 300 Ω / square. The surface resistance value ((ohm / square)) of an ITO film | membrane was measured using the Mitsubishi Chemical Co., Ltd. product Lorestar resistance meter.

실시예 2Example 2

실시예 1 에 있어서, 점착제 조성물의 조제에 있어서 이소시아네이트계 가교제를 첨가하지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 점착제층 부착 투명 도전성 필름을 제조하였다. In Example 1, the transparent conductive film with an adhesive layer was produced like Example 1 except not having added the isocyanate type crosslinking agent in preparation of an adhesive composition.

비교예 1 Comparative Example 1

실시예 1 에 있어서, 점착제 조성물의 조제에 있어서 에폭시계 가교제를 첨가하지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 점착제층 부착 투명 도전성 필름을 제조하였다. In Example 1, the transparent conductive film with an adhesive layer was manufactured like Example 1 except not having added the epoxy type crosslinking agent in preparation of an adhesive composition.

비교예 2Comparative Example 2

실시예 1 에 있어서, 점착제 조성물의 조제에 있어서, 이소시아네이트계 가교제 및 에폭시계 가교제를 첨가하지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 점착제층 부착 투명 도전성 필름을 제조하였다. In Example 1, the transparent conductive film with an adhesive layer was manufactured like Example 1 except not having added the isocyanate type crosslinking agent and the epoxy type crosslinking agent in preparation of an adhesive composition.

비교예 3Comparative Example 3

실시예 1 에 있어서, 점착제 조성물의 조제에 있어서 에폭시계 가교제를 첨가하지 않은 것, 또 이소시아네이트계 가교제의 배합량을 0.6 중량부로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 점착제층 부착 투명 도전성 필름을 제조하였다. In Example 1, the transparent conductive film with an adhesive layer was manufactured like Example 1 except not having added the epoxy type crosslinking agent in preparation of an adhesive composition, and changing the compounding quantity of the isocyanate type crosslinking agent to 0.6 weight part. It was.

실시예 1, 2 및 비교예 1 ∼ 3 에서 얻어진 점착제층 부착 투명 도전성 필름에 대하여 하기 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다. 또한, 표 1 에는, 실시예 1, 2 및 비교예 1 ∼ 3 에서 사용한 아크릴계 폴리머에 있어서의 카르복실기 함유 모노머 (아크릴산) 의 함유량, 가교제의 종류, 배합량, 제조한 점착제층의 겔분율, 23 ℃ 에서의 저장 탄성률 (G') 을 나타낸다. The following evaluation was performed about the transparent conductive film with an adhesive layer obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1-3. The results are shown in Table 1. In addition, in Table 1, content of the carboxyl group-containing monomer (acrylic acid) in the acryl-type polymer used in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1-3, the kind of crosslinking agent, a compounding quantity, the gel fraction of the adhesive layer manufactured, at 23 degreeC The storage modulus (G ') of the following is shown.

<광학 특성><Optical characteristics>

점착제층 부착 투명 도전성 필름을, 140 ℃ 에서 90 분간 가열한 후, 점착제 층 부착 투명 도전성 필름의 점착제층측을 유리 기판 상에 접착시켜 샘플을 제조하였다. 이 샘플을, 85 ℃, 85 %RH 의 분위기 하에서와 100 ℃ 의 분위기 하에서, 각각 500 시간 방치시켰다. 방치 전 (초기) 과 방치 후의 색상 b* 를, 고속 분광 광도계 (DOT-3 형, (주) 무라카미 색채 기술 연구소 제조) 에 의해 측정하였다. 표 1 에는, 방치 전 (초기) 과 방치 후의 측정값과 함께, 측정된 색상 b* 의 차 (Δb*) 를 나타낸다. After heating the transparent conductive film with an adhesive layer for 90 minutes at 140 degreeC, the adhesive layer side of the transparent conductive film with an adhesive layer was stuck on the glass substrate, and the sample was manufactured. This sample was left to stand 500 hours in 85 degreeC, 85% RH atmosphere, and 100 degreeC atmosphere, respectively. The color b * before leaving (initial stage) and after standing was measured with the high speed spectrophotometer (DOT-3 type | mold, Murakami Color Research Institute). In Table 1, the difference (Δb * ) of the measured color b * is shown with the measured value before leaving (initial stage) and after leaving.

<외관><Appearance>

점착제층 부착 투명 도전성 필름을 3 매 준비하고, 140 ℃ 에서 90 분간 가열하였다. 1 매의 점착제층 부착 투명 도전성 필름을, 그 점착제층측을 유리 기판 상에 적층시키고, 이어서 다른 2 매의 점착제층 부착 투명 도전성 필름을, 그 점착제층측이, 적층되어 있는 점착제층 부착 투명 도전성 필름의 ITO 막 상에 순서대로 접착시켜 샘플을 제조하였다. 이 샘플을, 85 ℃, 85 %RH 의 분위기 하에서와 100 ℃ 의 분위기 하에, 각각 500 시간 방치시켰다. 상기 방치 후에, 샘플에 있어서의, 1 매째 (또는 2 매째) 의 점착제층 부착 투명 도전성 필름과 2 매째 (또는 3 매째) 의 점착제층 부착 투명 도전성 필름 사이, 유리와 점착제층 사이의 발포, 박리를 육안으로 하기 기준으로 평가하였다. Three transparent conductive films with an adhesive layer were prepared and heated at 140 degreeC for 90 minutes. The adhesive layer side is laminated | stacked on the glass substrate on the transparent conductive film with one adhesive layer, and then the other two transparent conductive films with an adhesive layer are laminated | stacked on the transparent conductive film with an adhesive layer on which the adhesive layer side is laminated | stacked. Samples were prepared by adhering on the ITO membrane in order. This sample was left to stand for 500 hours in the atmosphere of 85 degreeC, 85% RH, and 100 degreeC atmosphere, respectively. After the said standing, foaming and peeling between a glass and an adhesive layer between the transparent conductive film with a 1st (or 2nd) adhesive layer, and the transparent conductive film with a 2nd (or 3rd) adhesive layer in a sample are performed. Visual evaluation was made based on the following criteria.

○ : 발포, 박리 없음. ○: No foaming or peeling.

× : 발포, 박리를 확인할 수 있음. X: Foaming and peeling can be confirmed.

<밀착성>&Lt; Adhesion >

인듐주석 산화물을 증착 처리한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (125 테트라이트 OES, 두께 125 ㎛, 오이케 공업 (주) 제조) 의 처리면에, 폭 25 ㎜ 로 재단한 점착제층 부착 투명 도전성 필름의 점착제층측을 2 ㎏ 롤러로 1 왕복 압착하고, 23 ℃ 에서 20 분간 양생한 후, 당해 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 점착제층채 180˚ 방향으로 300 ㎜/분으로 박리시킬 때의 접착 강도 (N/25 ㎜) 를, 인장 시험기로 측정하였다. 평가는 하기 기준으로 실시하였다. The pressure-sensitive adhesive layer side of the transparent conductive film with a pressure-sensitive adhesive layer cut to a width of 25 mm on the treated surface of the polyethylene terephthalate film (125 tetrate OES, thickness 125 μm, manufactured by Oike Industry Co., Ltd.) on which the indium tin oxide was deposited. 1 reciprocating crimping | compression-bonding with a 2 kg roller, and after curing at 23 degreeC for 20 minutes, the adhesive strength (N / 25mm) at the time of peeling the said polyethylene terephthalate film at 300 mm / min in 180 degree direction of an adhesive layer is tensile Measured with a tester. Evaluation was performed based on the following criteria.

○ : 7.0 N/25 ㎜ 이상○: 7.0 N / 25 mm or more

△ : 3.0 ∼ 7.0 N/25 ㎜ 미만 △: less than 3.0 to 7.0 N / 25 mm

<내펜 흔적성><Npen traces>

점착제층 부착 투명 도전성 필름의 점착제층에, 하드 코트층을 갖는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (G1SPU, 키모토 (주) 제조) 을, 하드 코트층이 외측이 되도록 접착시켜, 투명 도전성 적층체 (도 7 과 동일한 구성. 단, 도 7 에는 언더 코트층은 도시되어 있지 않다) 를 제조하였다. 당해 투명 도전성 적층체를 하드 코트층측이 상측이 되도록, 유리판 상에, 스페이서 (180 ㎛) 를 개재하여 배치시켰다. 하드 코트층측에서 펜 (폴리아세탈제) 에 일정 하중 (250 g × 30 분간) 을 가하고, 하중 해방 후에 1 일 방치시킨 후, 펜 흔적을 ITO 막측에서 하기 기준으로 육안으로 평가하였다. A polyethylene terephthalate film (G1SPU, manufactured by Kimoto Co., Ltd.) having a hard coat layer is bonded to the pressure-sensitive adhesive layer of the transparent conductive film with a pressure-sensitive adhesive layer so that the hard coat layer becomes the outer side, and the transparent conductive laminate (FIG. 7 and The same configuration, except that the undercoat layer is not shown in Fig. 7). The transparent conductive laminate was placed on a glass plate via a spacer (180 μm) such that the hard coat layer side was upward. After a certain load (250 g x 30 minutes) was applied to the pen (polyacetal agent) on the hard coat layer side, and left for 1 day after the release of the load, pen traces were visually evaluated on the ITO membrane side based on the following criteria.

○ : 펜 흔적을 확인할 수 없음. (Circle): Pen trace cannot be confirmed.

× : 펜 흔적을 확인할 수 있음. X: Pen trace can be confirmed.

Figure 112009061682118-pct00002
Figure 112009061682118-pct00002

실시예 3 Example 3

(편광판의 제조) (Manufacture of Polarizing Plate)

두께 80 ㎛ 의 폴리비닐알코올 필름을 40 ℃ 의 요오드 수용액 중에서 5 배로 연신한 후, 50 ℃ 에서 4 분간 건조시켜 편광자를 얻었다. 이 편광자의 양측에 두께 80 ㎛ 의 트리아세틸셀룰로오스 필름을, 폴리비닐알코올계 수지 접착제를 사용하여 접착시켜 편광판을 얻었다. The 80-micrometer-thick polyvinyl alcohol film was extended | stretched 5 times in 40 degreeC iodine aqueous solution, and it dried at 50 degreeC for 4 minutes, and obtained the polarizer. The 80-micrometer-thick triacetyl cellulose film was adhere | attached on both sides of this polarizer using the polyvinyl alcohol-type resin adhesive, and the polarizing plate was obtained.

(앵커층의 제조) (Manufacture of Anchor Layer)

앵커층의 형성재 (바인더) 인, 폴리우레탄 수지와 수용성 폴리티오펜계 도전성 폴리머를 사용하여, 고형분 농도 0.8 % 의 수용액을 조제하였다. 폴리우레탄 수지와 수용성 폴리티오펜계 도전성 폴리머의 비율은, 전자 : 후자 = 10 : 1 로 하였다. 당해 수용액을, 상기 편광판의 편면에, 건조 후의 두께가 100 ㎚ 가 되도록 도포하고, 80 ℃ 에서 2 분간 건조시켜 앵커층을 형성하였다. The aqueous solution of 0.8% of solid content concentration was prepared using the polyurethane resin which is a formation material (binder) of an anchor layer, and water-soluble polythiophene type conductive polymer. The ratio of a polyurethane resin and a water-soluble polythiophene conductive polymer was made into the former: latter = 10: 1. The said aqueous solution was apply | coated to the single side | surface of the said polarizing plate so that thickness after drying might be set to 100 nm, and it dried at 80 degreeC for 2 minutes, and formed the anchor layer.

(점착제층 부착 편광판의 제조) (Manufacture of a polarizing plate with an adhesive layer)

상기에 있어서, 편광판 상에 형성된 앵커층에, 실시예 1 (점착제층의 형성) 에 있어서 이형 필름 상에 형성된 점착제층을 접착시켜 점착제층 부착 편광판을 제조하였다. In the above, the adhesive layer formed on the release film in Example 1 (formation of an adhesive layer) was adhere | attached to the anchor layer formed on the polarizing plate, and the polarizing plate with an adhesive layer was manufactured.

비교예 4Comparative Example 4

실시예 3 의 점착제층 부착 편광판의 제조에 있어서, 이형 필름 상에 형성된 점착제층으로서 비교예 3 에서 제조한 것을 사용한 것 이외에는, 실시예 3 과 동일하게 하여 점착제층 부착 편광판을 제조하였다. In the manufacture of the polarizing plate with an adhesive layer of Example 3, the polarizing plate with an adhesive layer was produced like Example 3 except having used the thing manufactured by the comparative example 3 as an adhesive layer formed on the release film.

비교예 5Comparative Example 5

실시예 3 의 점착제층 부착 편광판의 제조에 있어서, 이형 필름 상에 형성된 점착제층으로서 비교예 1 에서 제조한 것을 사용한 것 이외에는, 실시예 3 과 동일하게 하여 점착제층 부착 편광판을 제조하였다. In the manufacture of the polarizing plate with an adhesive layer of Example 3, the polarizing plate with an adhesive layer was produced like Example 3 except having used the thing manufactured by the comparative example 1 as an adhesive layer formed on the release film.

비교예 6 Comparative Example 6

(점착제층의 형성) (Formation of pressure-sensitive adhesive layer)

실시예 1 의 아크릴계 폴리머의 조제에 있어서, 아크릴산 5 부를 사용하지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 아크릴계 폴리머를 조제하였다. 또 당해 아크릴계 폴리머를 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 점착제 조성물을 조제하고, 당해 점착제 조성물을 사용하여 점착제층을 형성하였다. In the preparation of the acrylic polymer of Example 1, an acrylic polymer was prepared in the same manner as in Example 1 except that 5 parts of acrylic acid was not used. Moreover, except having used the said acryl-type polymer, the adhesive composition was prepared like Example 1, and the adhesive layer was formed using the said adhesive composition.

(점착제층 부착 편광판의 제조) (Manufacture of a polarizing plate with an adhesive layer)

실시예 3 의 점착제층 부착 편광판의 제조에 있어서, 이형 필름 상에 형성된 점착제층으로서 상기에서 제조한 것을 사용한 것 이외에는, 실시예 3 과 동일하게 하여 점착제층 부착 편광판을 제조하였다. In the manufacture of the polarizing plate with an adhesive layer of Example 3, the polarizing plate with an adhesive layer was produced like Example 3 except having used the thing manufactured above as the adhesive layer formed on the release film.

실시예 3 및 비교예 4 ∼ 6 에서 얻어진 점착제층 부착 편광판에 대하여 하기 평가를 실시하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다. 또한, 표 2 에는 표 1 과 마찬가지로, 실시예 3 및 비교예 4 ∼ 6 에서 사용한 아크릴계 폴리머에 있어서의 카르복실기 함유 모노머 (아크릴산) 의 함유량, 가교제의 종류, 배합량, 제조된 점착제층의 겔분율, 23 ℃ 에서의 저장 탄성률 (G') 을 나타낸다. The following evaluation was performed about the polarizing plate with an adhesive layer obtained in Example 3 and Comparative Examples 4-6. The results are shown in Table 2. In addition, in Table 2, similarly to Table 1, the content of the carboxyl group-containing monomer (acrylic acid) in the acrylic polymer used in Example 3 and Comparative Examples 4 to 6, the type of crosslinking agent, the compounding amount, the gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer produced, 23 The storage modulus (G ') at ° C is shown.

<광학 특성><Optical characteristics>

점착제층 부착 편광판의 점착제층측을, 유리 기판 상에 접착시켜 샘플을 제조하였다. 이 샘플을, 60 ℃, 95 %RH 의 분위기 하에서와 100 ℃ 의 분위기 하에서 각각 500 시간 방치시켰다. 방치 전 (초기) 과 방치 후의 색상 변화량으로 Δab 를, 고속 분광 광도계 (DOT-3 형, (주) 무라카미 색채 기술 연구소 제조) 에 의해 측정하였다. The adhesive layer side of the polarizing plate with an adhesive layer was stuck on the glass substrate, and the sample was produced. This sample was left to stand 500 hours in 60 degreeC, 95% RH atmosphere, and 100 degreeC atmosphere, respectively. (DELTA) ab was measured by the high speed spectrophotometer (DOT-3 type | mold, Murakami Color Research Institute) by the amount of color change before (initial) and after leaving.

<외관><Appearance>

점착제층 부착 편광판의 점착제층측을, 유리 기판 상에 접착시켜 샘플 (사이즈 32 ㎝ × 24 ㎝) 로 하였다. 이 샘플을, 60 ℃, 95 %RH 의 분위기 하에서와 100 ℃ 의 분위기 하에서 각각 500 시간 방치시켰다. 상기 방치 후에, 샘플에 있어서의, 점착제층 부착 편광판과 점착제층 사이, 유리와 점착제층 사이의 발포, 박리를 육안으로 하기 기준으로 평가하였다. The adhesive layer side of the polarizing plate with an adhesive layer was stuck on the glass substrate, and it was set as the sample (size 32 cm x 24 cm). This sample was left to stand 500 hours in 60 degreeC, 95% RH atmosphere, and 100 degreeC atmosphere, respectively. After the said standing, foaming and peeling between the polarizing plate with an adhesive layer and an adhesive layer, and a glass and an adhesive layer in a sample were evaluated visually on the following reference | standard.

○ : 발포, 박리 없음. ○: No foaming or peeling.

× : 발포, 박리를 확인할 수 있음. X: Foaming and peeling can be confirmed.

<밀착성>&Lt; Adhesion >

인듐주석 산화물을 증착 처리한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (125 테트라이트 OES, 두께 125 ㎛, 오이케 공업 (주) 제조) 의 처리면에, 폭 25 ㎜ 로 재단한 점착제층 부착 편광판의 점착제층측을 2 ㎏ 롤러로 1 왕복 압착하여, 23 ℃ 에서 20 분간 양생한 후, 당해 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 점착제층채 180˚방향으로 300 ㎜/분으로 박리시킬 때의 접착 강도 (N/25 ㎜) 를, 인장 시험기로 측정하였다. 평가는 하기 기준으로 실시하였다. 2 kg of the pressure-sensitive adhesive layer side of the polarizing plate with pressure-sensitive adhesive layer cut to a width of 25 mm on the treated surface of the polyethylene terephthalate film (125 tetrat OES, thickness 125 µm, manufactured by Oike Industry Co., Ltd.) on which the indium tin oxide was deposited. After reciprocating with a roller for 1 minute and curing at 23 ° C. for 20 minutes, the adhesive strength (N / 25 mm) at the time of peeling the polyethylene terephthalate film at 300 mm / min in the 180 ° direction of the pressure-sensitive adhesive layer was measured by a tensile tester. Measured. Evaluation was performed based on the following criteria.

○ : 7.0 N/25 ㎜ 이상○: 7.0 N / 25 mm or more

△ : 3.0 ∼ 7.0 N/25 ㎜ 미만△: less than 3.0 to 7.0 N / 25 mm

Figure 112009061682118-pct00003
Figure 112009061682118-pct00003

부호의 설명Explanation of symbols

1 광학 부재 (광학 필름) 1 optical member (optical film)

2 다른 층2 different layers

3 점착제층3 pressure sensitive adhesive layer

4 이형 필름4 release film

11 제 1 투명 플라스틱 필름 기재 11 first transparent plastic film base material

11' 제 2 투명 플라스틱 필름 기재11 'second transparent plastic film base

12 투명 도전성 박막층 12 transparent conductive thin film layer

13 점착제층 13 pressure-sensitive adhesive layer

14 이형 필름 14 release film

15 언더 코트층 15 undercoat layers

16 하드 코트층16 hard coat floors

Claims (19)

모노머 단위로서 탄소수 4 ∼ 14 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트 100 중량부에 대하여, 카르복실기 함유 모노머 0.2 ∼ 20 중량부를 공중합 성분으로서 함유하여 이루어지는 (메트)아크릴계 폴리머, (Meth) acrylic polymer which contains 0.2-20 weight part of carboxyl group-containing monomer as a copolymerization component with respect to 100 weight part of alkyl (meth) acrylates which have a C4-C14 alkyl group as a monomer unit, 그리고, 상기 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여, 가교제로서 과산화물 0.02 ∼ 2 중량부, 및 에폭시계 가교제 0.005 ∼ 5 중량부를 함유하여 이루어지는 광학 부재용 점착제 조성물에 의해 형성되어 있는 광학 부재용 점착제층으로서,And with respect to 100 weight part of said (meth) acrylic-type polymers, the adhesive layer for optical members formed with the adhesive composition for optical members containing 0.02-2 weight part of peroxides as a crosslinking agent, and 0.005-5 weight part of epoxy type crosslinking agents. As 상기 광학 부재용 점착제층은 23 ℃ 에서의 저장 탄성률 (G') 이 80000 ∼ 500000 ㎩ 인 것을 특징으로 하는 광학 부재용 점착제층. The adhesive layer for optical members is a storage elastic modulus (G ') in 23 degreeC of 80000-500000 Pa, The adhesive layer for optical members characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여, 추가로 가교제로서 이소시아네이트계 가교제 0.01 ∼ 0.5 중량부 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 부재용 점착제층. 0.01-0.5 weight part of isocyanate type crosslinking agents are further contained with respect to 100 weight part of said (meth) acrylic-type polymers, The adhesive layer for optical members characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 (메트)아크릴계 폴리머 100 중량부에 대하여, 추가로 실란 커플링제 0.01 ∼ 1 중량부 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 부재용 점착제층. 0.01-1 weight part of silane coupling agents are further contained with respect to 100 weight part of said (meth) acrylic-type polymers, The adhesive layer for optical members characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 (메트)아크릴계 폴리머가, 모노머 단위로서 알킬(메트)아크릴레이트 100 중량부에 대하여, 추가로 히드록실기 함유 모노머 0.01 ∼ 5 중량부를 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 부재용 점착제층. The said (meth) acrylic-type polymer contains 0.01-5 weight part of hydroxyl-group containing monomers further with respect to 100 weight part of alkyl (meth) acrylates as a monomer unit, The adhesive layer for optical members characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 제 1 투명 플라스틱 필름 기재의 일방의 면에 투명 도전성 박막을 갖는 투명 도전성 필름에 적용되는 것을 특징으로 하는 광학 부재용 점착제층.It is applied to the transparent conductive film which has a transparent conductive thin film in one surface of a 1st transparent plastic film base material, The adhesive layer for optical members characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 광학 부재용 점착제층은 겔분율이 70 ∼ 98 중량% 인 것을 특징으로 하는 광학 부재용 점착제층. The said adhesive layer for optical members is 70-98 weight% of gel fraction, The adhesive layer for optical members characterized by the above-mentioned. 광학 부재의 적어도 일방의 면에, 제 1 항에 기재된 광학 부재용 점착제층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 점착형 광학 부재. The adhesive layer for optical members of Claim 1 is formed in at least one surface of an optical member, The adhesive optical member characterized by the above-mentioned. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 점착제층과 광학 부재가 앵커층을 개재하여 적층되어 있는 것을 특징으로 하는 점착형 광학 부재. The said adhesive layer and an optical member are laminated | stacked through the anchor layer, The adhesive optical member characterized by the above-mentioned. 제 8 항에 있어서, 9. The method of claim 8, 상기 앵커층이 폴리머를 함유하는 것을 특징으로 하는 점착형 광학 부재. The adhesive optical member, wherein the anchor layer contains a polymer. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 점착형 광학 부재가, 제 1 투명 플라스틱 필름 기재의 일방의 면에 점착제층을 갖고, 당해 제 1 투명 플라스틱 필름 기재의 타방의 면에는 투명 도전성 박막을 갖는 점착제층 부착 투명 도전성 필름인 것을 특징으로 하는 점착형 광학 부재.An adhesive optical member is a transparent conductive film with an adhesive layer which has an adhesive layer in one surface of a 1st transparent plastic film base material, and has a transparent conductive thin film in the other surface of the said 1st transparent plastic film base material, It is characterized by the above-mentioned. Adhesive optical member. 제 10 항에 있어서, 11. The method of claim 10, 투명 도전성 박막은, 적어도 1 층의 언더 코트층을 개재하여, 제 1 투명 플라스틱 필름 기재의 일방의 면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 점착형 광학 부재. The transparent conductive thin film is formed in one surface of a 1st transparent plastic film base material through the at least 1 undercoat layer, The adhesive optical member characterized by the above-mentioned. 제 10 항에 기재된 점착제층 부착 투명 도전성 필름에 관련된 점착형 광학 부재에 있어서의 점착제층에, 추가로 제 2 투명 플라스틱 필름 기재가 접착되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 적층체. A 2nd transparent plastic film base material is further adhere | attached on the adhesive layer in the adhesive optical member which concerns on the transparent conductive film with an adhesive layer of Claim 10, The transparent conductive laminated body characterized by the above-mentioned. 제 12 항에 있어서, 13. The method of claim 12, 제 2 투명 플라스틱 필름 기재는 편면 또는 양면에 하드 코트층을 갖는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 적층체. The 2nd transparent plastic film base material has a hard-coat layer in the single side | surface or both surfaces, The transparent conductive laminated body characterized by the above-mentioned. 제 10 항에 기재된 점착제층 부착 투명 도전성 필름에 관련된 점착형 광학 부재 또는 제 12 항에 기재된 투명 도전성 적층체가, 터치 패널용 투명 도전성 필름으로서 사용되고 있는 것을 특징으로 하는 터치 패널.The adhesive optical member which concerns on the transparent conductive film with an adhesive layer of Claim 10, or the transparent conductive laminated body of Claim 12 is used as a transparent conductive film for touch panels, The touchscreen characterized by the above-mentioned. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 점착형 광학 부재가 화상 표시 장치용 광학 필름의 적어도 일방의 면에 점착제층을 갖는 점착제층 부착 광학 필름인 것을 특징으로 하는 점착형 광학 부재.The adhesive optical member is an optical film with an adhesive layer which has an adhesive layer on at least one surface of the optical film for image display apparatuses, The adhesive optical member characterized by the above-mentioned. 제 15 항에 있어서, 16. The method of claim 15, 상기 광학 필름이 편광판 또는 위상차판인 것을 특징으로 하는 점착형 광학 부재.The said optical film is a polarizing plate or retardation plate, The adhesive optical member characterized by the above-mentioned. 제 15 항에 기재된 점착제층 부착 광학 필름에 관련된 점착형 광학 부재가 적어도 1 개 사용되고 있는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치. At least one adhesive optical member which concerns on the optical film with an adhesive layer of Claim 15 is used, The image display apparatus characterized by the above-mentioned. 삭제delete 삭제delete
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