KR101234739B1 - Amoled pad pattern repair device - Google Patents

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KR101234739B1
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Abstract

본 발명은 유기전계발광소자의 패드패턴 수리장치에 관한 것으로, 특히 유기발광소자를 기준면에 로딩하는 스테이지, 상기 유기발광소자의 패드패턴에 레이저를 조사하여 리페어 공정을 수행하는 레이저광학계를 포함하되, 상기 레이저광학계는, 레이저 빔을 발진하는 레이저 발진부; 상기 레이저 발진부로부터 조사된 레이저 빔의 방향을 전환하여 유기발광소자의 패드패턴에 전달하는 빔전달부; 상기 레이저 빔의 사이즈를 변환시켜주는 빔크기 조절부; 및 상기 유기발광층 이미지를 실시간으로 촬영하는 영상부를 포함하여 구성된다.The present invention relates to an apparatus for repairing a pad pattern of an organic light emitting diode, and in particular, a stage for loading an organic light emitting diode onto a reference plane, and a laser optical system for performing a repair process by irradiating a laser to the pad pattern of the organic light emitting diode, The laser optical system includes a laser oscillator for oscillating a laser beam; A beam transfer unit for changing the direction of the laser beam irradiated from the laser oscillation unit and transferring the laser beam to the pad pattern of the organic light emitting diode; A beam size adjusting unit for converting the size of the laser beam; And an image unit for capturing the organic light emitting layer image in real time.

Description

유기발광소자의 패드패턴 수리장치{AMOLED PAD PATTERN REPAIR DEVICE}Pad pattern repair device for organic light emitting device {AMOLED PAD PATTERN REPAIR DEVICE}

본 발명은 유기전계발광소자의 패드패턴의 불량을 레이저를 조사하여 리페어하는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a device for repairing a defect of a pad pattern of an organic light emitting device by irradiating a laser.

OLED는 형광 또는 인광 유기물 박막에 전류를 흘리면 전자와 정공이 유기물층에서 결합하면서 빛이 발생하는 원리를 이용한 자체 발광형 디스플레이를 말한다. 이때 발광층을 구성하는 유기물질에 따라 빛의 색깔이 달라진다. OLED는 다시 수동형인 PM(Passive Matrix) OLED와 능동형인 AM OLED(Active Matrix Organic Light Emitting Diodes)로 나뉜다. PM OLED는 하나의 라인 전체가 한꺼번에 발광하여 구동하는 라인 구동방식인 데 비하여, AM OLED는 발광소자가 각각 구동하는 개별 구동방식이다.OLED refers to a self-luminous display based on the principle that electrons and holes combine in an organic layer when a current is applied to a fluorescent or phosphorescent organic thin film. At this time, the color of light varies according to the organic material constituting the light emitting layer. OLEDs are again divided into passive matrix (PM) OLEDs and active AM OLEDs (Active Matrix Organic Light Emitting Diodes). The PM OLED is a line driving method in which one entire line is driven to emit light at a time, whereas the AM OLED is an individual driving method in which each of the light emitting elements is driven.

이러한 OLED의 발광원리를 도 1에 도시한 도면을 참조하여 설명하면, 애노드 전극(4)과 캐소드 전극(2) 사이에 전압이 인가되면, 캐소드전극(2)으로부터 발생한 전자는 전자 주입층(1a) 및 전자 수송층(1b)을 통해 발광층(1c) 쪽으로 이동된다. 또한, 애노드 전극(4)으로부터 발생된 정공은 정공 주입층(1e) 및 정공 수송층(1d)을 통해 발광층(1c) 쪽으로 이동한다. 이에 따라, 발광층(1c)에서는 전자수송층(1b)과 정공수송층(1b)으로부터 공급되어진 전자와 전공의 재결합으로 엑시톤(EXITON)이 형성되고, 이러한 엑시톤은 다시 기저상태로 여기되면서 일정한 에너지의 빛을 애노드 전극(4)을 통하여 외부로 방출됨으로써 화상이 표시되게 된다.1, when electrons are generated between the anode electrode 4 and the cathode electrode 2, electrons generated from the cathode electrode 2 pass through the electron injection layer 1a And the electron transporting layer 1b to the light emitting layer 1c. The holes generated from the anode electrode 4 move toward the light emitting layer 1c through the hole injecting layer 1e and the hole transporting layer 1d. Thus, in the light-emitting layer 1c, an exciton is formed by recombination of electrons and electrons supplied from the electron-transporting layer 1b and the hole-transporting layer 1b, and the exciton is again excited to the ground state, And is discharged to the outside through the anode electrode 4, whereby an image is displayed.

이러한 OLED의 제조공정의 완료는 OLED 기판과 구동 인쇄 회로 기판(PCB)을 연결하는 패드의 말단 부위인 패드패턴에 점등검사를 통해 완료되게 되는데, 이러한 점등검사를 수행하기 위해 상기 패드패턴에 프로브를 접촉, 즉 프로브 스테이션 테스트(Probe Station Test)를 하여 수행하는 것이 일반적이다.Completion of the OLED manufacturing process is completed by lighting test on the pad pattern, which is an end portion of the pad connecting the OLED substrate and the driving printed circuit board (PCB). In order to perform such lighting test, a probe is applied to the pad pattern. It is common to perform a contact, ie a probe station test.

그러나, 이러한 프로브 스테이션 테스트(Probe Station Test)를 수행하면서 프로브 팁(Probe Tip)이 접촉하는 부분에서 스크레치(Scratch)가 발생하여 생성되거나, 글라스 스크라이빙(Glass Scribing), 글라스 컷(Glass Cut) 단계에서 발생하는 파티클(Particle)에 의해 스크레치가 발생하여 생성되거나 기타 기판의 로딩/언로딩(Loading/Unloading) 중 발생하는 스크레치 및 파티클에 의해 발생하여 전기적 불량이 발생하게 되는 문제가 초래된다.However, during the Probe Station Test, a scratch is generated at the portion where the probe tip contacts, or glass scribing or glass cut is performed. The scratches are generated by particles generated in the step, or the scratches and particles generated during loading / unloading of other substrates may cause electrical defects.

본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 유기전계 발광소자의 제조공정에서 점등검사 단계에서 패드단에 발생한 스크래치로 발생한 쇼트불량을 레이저로 커팅(cutting)하여 리페어하거나, 결선(wiring), 단선부위를 대기압챔버를 이용하여 레이저 증착하여 수리할 수 있도록 하는 패드패턴 리페어 장치를 제공하는 데 있다.The present invention has been made to solve the above-described problems, an object of the present invention is to repair by repairing a laser short cut caused by a scratch generated in the pad end during the lighting test step in the manufacturing process of the organic light emitting device or The present invention provides a pad pattern repair apparatus for repairing a wiring, a disconnected part by laser deposition using an atmospheric pressure chamber.

상술한 과제를 해결하기 위하여 본 발명은, 유기발광소자를 기준면에 로딩하는 스테이지; 상기 유기발광소자의 패드패턴에 레이저를 조사하여 리페어 공정을 수행하는 레이저광학계;를 포함하되, 상기 레이저광학계는, 레이저 빔을 발진하는 레이저 발진부;상기 레이저 발진부로부터 조사된 레이저 빔의 방향을 전환하여 유기발광소자의 패드패턴에 전달하는 빔전달부; 상기 레이저 빔의 사이즈를 변환시켜주는 빔크기 조절부; 및 상기 유기발광층 이미지를 실시간으로 촬영하는 영상부;를 포함하여 구성되는 유기발광소자의 패드패턴 수리장치를 제공할 수 있도록 한다.In order to solve the above problems, the present invention, a stage for loading an organic light emitting device on a reference plane; A laser optical system for performing a repair process by irradiating a laser to the pad pattern of the organic light emitting device; including, The laser optical system, Laser oscillation unit for oscillating a laser beam; By switching the direction of the laser beam irradiated from the laser oscillation unit A beam transmitting unit transferring the pad pattern of the organic light emitting device; A beam size adjusting unit for converting the size of the laser beam; And an image unit for capturing the organic light emitting layer image in real time to provide a pad pattern repair apparatus for an organic light emitting device.

또한, 본 발명에 따른 수리장치에서 수행하는 상기 리페어공정은, 상기 패드패턴 부위에 발생한 합선(short) 또는 단선(open) 불량에 레이저를 조사하여 불량부위를 커팅(cutting)하는 공정이거나 상기 패드패턴 부위에 발생한 단선(open) 불량에 금속가스 분위기에서 레이저를 조사하여 증착리페어를 수행하는 공정일 수 있다.In addition, the repair process performed in the repair apparatus according to the present invention may be a process of cutting a defective part by irradiating a laser to a short or open defect occurring in the pad pattern part or the pad pattern. The deposition repair may be performed by irradiating a laser in a metal gas atmosphere to an open defect occurring in a site.

상기 패드패턴 수리장치는, 상기 스테이지상에 배치되어 대기압의 밀폐 분위기를 조성하는 대기압챔버를 더 포함할 수 있으며, 상기 대기압챔버는, 챔버본체; 상기 챔버본체의 중심부에 형성되는 레이저광이 조사되는 통로인 레이저광 조사홀; 상기 레이저광조사홀의 최하단에 금속 원료가스가 모이도록 원료가스를 공급하는 원료가스 배출구;를 포함하여 이루어질 수 있다.The pad pattern repair apparatus may further include an atmospheric pressure chamber disposed on the stage to create a sealed atmosphere of atmospheric pressure, wherein the atmospheric pressure chamber comprises: a chamber body; A laser light irradiation hole which is a passage through which laser light formed in the center of the chamber is irradiated; And a source gas outlet for supplying a source gas so that the metal source gas is collected at the lowermost end of the laser light irradiation hole.

또한, 상기 대기압챔버는, 상기 레이저 광 조사홀을 기점으로 저면에 제1 배기구와, 보호가스 배출구와, 제2 배기구가 순차로 형성될 수 있다.The atmospheric pressure chamber may have a first exhaust port, a protective gas discharge port, and a second exhaust port sequentially formed on a bottom surface of the atmospheric pressure chamber.

아울러, 상기 대기압챔버는, 상기 스테이지 상에 구비되어 상기 대기압챔버를 상기 패드패턴의 결함 위치로 이동시키는 구동수단을 더 포함하여 구성될 수 있다.In addition, the atmospheric pressure chamber may further include driving means provided on the stage to move the atmospheric pressure chamber to a defective position of the pad pattern.

또한, 상기 패드패턴 수리장치는, 상기 스테이지 상에 설치되어 기준면에 밀착된 상기 유기발광소자의 대향면을 지지하는 클램프;를 더 포함하여 구성될 수 있다.The pad pattern repair apparatus may further include a clamp installed on the stage to support the opposing surface of the organic light emitting device in close contact with the reference surface.

상기 레이저광학계를 구성하는 상기 빔크기 조절부는, 모터로 구동되는 슬릿; 슬릿의 크기 및 위치를 확인할 수 있는 슬릿조명광원; 및 상기 슬릿조명광원으로부터 입사되는 빛의 진로를 변경시키기 위한 슬릿조명용 미러;를 포함하여 구성될 수 있으며, 이 경우 상기 슬릿조명용 미러는, 하프미러 또는 인아웃(In Out) 구동이 가능한 전반사 미러일 수 있다.The beam size adjusting unit constituting the laser optical system, a slit driven by a motor; Slit lighting light source that can determine the size and location of the slit; And a slit illumination mirror for changing a path of light incident from the slit illumination light source. In this case, the slit illumination mirror may be a half mirror or a total reflection mirror capable of driving in and out. have.

또한, 상기 빔 전달부는, 상기 슬릿에 의해 변형된 레이저 빔의 형상을 만들어주는 레이저용 결상렌즈; 및 레이저 빔을 대물렌즈로 입사시켜주는 레이저용 하프미러를 포함하여 구성될 수 있다.In addition, the beam transfer unit, an imaging lens for the laser to form the shape of the laser beam deformed by the slit; And a half mirror for injecting a laser beam into the objective lens.

또한, 상기 영상부는, 가공시료를 비추기 위한 조명장치 및 이미지용 결상렌즈를 더 포함하며, 상기 이미지용 결상렌즈는, 상기 레이저용 결상렌즈와 배율과 코팅이 다른 결상렌즈일 수 있다.The imaging unit may further include an illumination device for illuminating a processed sample and an imaging lens for an image, wherein the imaging lens may be an imaging lens having a different magnification and coating than the laser imaging lens.

또한, 본 발명에서의 상기 조명장치는, 낙사조명장치 또는 투과조명장치일 수 있으며, 상기 낙사조명장치는, 낙사조명용 하프미러를 포함하여 구성될 수 있으며, 또한, 이 경우 상기 낙사조명용 하프미러는, 큐브타입 하프미러일 수 있다.In addition, the lighting device in the present invention, may be a fall lighting device or a transmissive lighting device, the fall lighting device may be configured to include a half mirror for the fall lighting, in this case, the half mirror for the fall lighting It may be a cube-type half mirror.

또한, 상기 오토포커스부는, 초점을 확인하기 위한 오토포커스용 카메라; 초점 이미지를 상기 오토포커스용 카메라로 입사시키기 위한 오토포커스 하프미러; 및The autofocus unit may include an autofocus camera for checking focus; An autofocus half mirror for entering a focus image into the autofocus camera; And

상기 대물렌즈를 Z축상에서 구동시키기 위한 Z축 모션;을 더 포함하여 구성될 수 있다.
And Z-axis motion for driving the objective lens on the Z-axis.

본 발명에 따르면, 유기전계 발광소자의 제조공정에서 점등검사 단계에서 패드단에 발생한 스크래치로 발생한 쇼트불량을 레이저로 커팅(cutting)하여 리페어하거나, 결선(wiring), 단선부위를 대기압챔버를 이용하여 레이저 증착하여 수리할 수 있도록 하는 효과가 있다.According to the present invention, in the manufacturing process of the organic light emitting device, in the lighting test step, the short defect caused by the scratch generated on the pad end is repaired by laser cutting, or the wiring or disconnection part is repaired by using an atmospheric pressure chamber. There is an effect that can be repaired by laser deposition.

도 1은 일반적인 OLED의 구조를 도식화한 것이다.
도 2는 본 발명에 따른 유기발광소자의 패드패턴 수리장치의 전체 구성을 도시한 블럭구성도이고, 도 3 및 도 4는 본 발명에 따른 레이저광학계의 구성을 도시한 것이다.
도 5 내지 도 8은 본 발명에 따른 레이저광학계에 더하여 부가되는 대기압챔버의 구성 및 작용을 도시한 도면이다.
도 9 내지 도 14는 본 발명에 따른 패드패턴 수리장치를 이용하여 리페어를 수행하기 전과 후를 비교한 이미지이다.
1 is a schematic diagram of a general OLED structure.
Figure 2 is a block diagram showing the overall configuration of the pad pattern repair apparatus of the organic light emitting device according to the present invention, Figure 3 and Figure 4 shows the configuration of the laser optical system according to the present invention.
5 to 8 are views showing the configuration and operation of the atmospheric pressure chamber added in addition to the laser optical system according to the present invention.
9 to 14 are images comparing before and after performing a repair using the pad pattern repair apparatus according to the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 구성 및 작용을 구체적으로 설명한다. 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성요소는 동일한 참조부여를 부여하고, 이에 대한 중복설명은 생략하기로 한다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the configuration and operation according to the present invention. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the following description with reference to the accompanying drawings, the same reference numerals denote the same elements regardless of the reference numerals, and redundant description thereof will be omitted. Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

도 2는 본 발명에 따른 유기발광소자의 패드패턴 수리장치(이하, '본 장치'라 한다.)의 전체 구성을 도시한 블럭구성도이고, 도 3 및 도 4는 본 발명에 따른 레이저광학계의 구성을 도시한 것이다.Figure 2 is a block diagram showing the overall configuration of the pad pattern repair apparatus (hereinafter referred to as "the device") of the organic light emitting device according to the present invention, Figures 3 and 4 of the laser optical system according to the present invention The configuration is shown.

이하에서, 본 장치를 적용하여 리페어를 수행하는 본 발명에서의 유기전계발광소자라 함은, 수동형인 PM(Passive Matrix) OLED와 능동형인 AM OLED(Active Matrix Organic Light Emitting Diodes) 모두를 포함한다.Hereinafter, the organic light emitting diode according to the present invention which performs the repair by applying the apparatus includes both a passive PM (Passive Matrix) OLED and an active AM OLED (Active Matrix Organic Light Emitting Diodes).

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 본 장치는 유기발광소자를 기준면에 로딩하는 스테이지(S)와 상기 유기발광소자의 패드패턴에 레이저를 조사하여 리페어 공정을 수행하는 레이저광학계(200)를 포함하여 구성되며, 특히 본 장치의 레이저광학계(200)는 레이저 빔을 발진하는 레이저 발진부(L)와 상기 레이저 발진부로부터 조사된 레이저 빔의 방향을 전환하여 유기발광소자의 패드패턴에 전달하는 빔전달부(210), 그리고 상기 레이저 빔의 사이즈를 변환시켜주는 빔크기 조절부(220) 및 상기 유기발광층 이미지를 실시간으로 촬영하는 영상부(230)를 포함하여 구성될 수 있다. 또한, 여기에 유기발광층의 상부의 대물렌즈 초점을 조정하기 위한 오토포커스부(240) 및 대물렌즈(250)를 더 포함하여 구성될 수 있다.2, the apparatus according to the present invention includes a stage (S) for loading an organic light emitting element on a reference plane and a laser optical system 200 for performing a repair process by irradiating a laser to a pad pattern of the organic light emitting element. In particular, the laser optical system 200 of the present apparatus is configured to switch the direction of the laser oscillation unit (L) and the laser beam irradiated from the laser oscillation unit for oscillating the laser beam transmitted to the pad pattern of the organic light emitting device 210, and a beam size adjusting unit 220 for converting the size of the laser beam, and an image unit 230 for capturing the organic light emitting layer image in real time. In addition, the lens may further include an autofocus unit 240 and an objective lens 250 for adjusting the objective lens focus of the upper portion of the organic light emitting layer.

도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 광학계의 상기 레이저 발진부(L)는 상부 광학계인 빔출력(세기) 조정수단, 빔프로파일을 변환하는 빔 형성제어수단을 더 포함할 수 있으며, 상기 빔 전달부(210)는 레이저 빔의 방향을 전환시키는 제1 방향전환미러(211)와 제2 방향전환미러(212), 레이저 빔의 형상을 만들어 주는 레이저용 결상렌즈(213) 및 레이저 빔을 대물렌즈(250)에 입사시켜 주는 레이저용 하프미러(214)로 구성될 수 있다.Referring to FIG. 3, the laser oscillator L of the optical system according to the present invention may further include beam output (intensity) adjusting means, which is an upper optical system, and beam forming control means for converting a beam profile. Reference numeral 210 denotes a first turning mirror 211 and a second turning mirror 212 for changing the direction of the laser beam, an imaging lens 213 for forming the shape of the laser beam, and an objective lens for the laser beam. It may be configured as a half mirror 214 for the laser to enter the (250).

상기의 레이저 발진기(L)로부터 출사된 레이저 빔은 빔의 경로를 조절하는 제1 방향전환미러(211)에 의해 하부 쪽으로 전환되어 후술되는 빔크기 조절부(220)의 슬릿(223)에 의해 가공에 적합한 크기로 변경된다. 슬릿(223)을 통과한 레이저 빔은 하부의 제2 방향전환미러(212)에 의해 반사되어 레이저용 결상렌즈(213)를 지나 레이저용 하프미러(214)에 반사되어 대물렌즈(250)에 입사하게 되며 상술한 유기전계발광소자의 패드패턴에 조사되며 불량영역에 대한 커팅(cutting), 결선(wiring), 증착 등의 레이저 가공이 진행될 수 있도록 한다.The laser beam emitted from the laser oscillator (L) is processed by the slit 223 of the beam size adjusting unit 220, which is converted to the lower side by the first turning mirror 211 to adjust the path of the beam to be described later. It is changed to a suitable size. The laser beam passing through the slit 223 is reflected by the lower second turning mirror 212 and passes through the laser imaging lens 213 and is reflected by the laser half mirror 214 to enter the objective lens 250. It is irradiated to the pad pattern of the organic light emitting device described above to allow the laser processing such as cutting, wiring, deposition, etc. for the defective area to proceed.

상기의 레이저용 하프미러(214)는 레이저 축과 이미지 축을 결합(combine)시키는 광학계로 가공에 사용되는 레이저 파장의 빔은 반사시키고 시료의 이미지는 투과시켜 메인 카메라(231)로 보내주는 역할을 한다. 가시광영역 파장의 레이저를 사용할 경우 이미지 축의 가시광 영역과 겹치게 되므로 가시광 영역에서 50:50의 투과 반사 코팅을 해주어야 한다. 상기와 같은 빔 전달부(210)의 구성에 의해 유도되는 레이저 빔의 경로는 레이저용 하프미러(214)에서 이미지 축과 만나기까지는 이미지 축의 광경로와 서로 다른 경로를 가지게 된다.The laser half mirror 214 is an optical system that combines a laser axis and an image axis to reflect a beam of a laser wavelength used for processing, and transmits an image of a sample to a main camera 231. . In the case of using a laser having a visible wavelength, it overlaps with the visible region of the image axis. Therefore, a 50:50 transparent reflective coating should be applied in the visible region. The path of the laser beam guided by the configuration of the beam delivery unit 210 as described above has a path different from the optical path of the image axis until the laser half mirror 214 meets the image axis.

상기 빔크기 조절부(220)는 모터로 구동되는 슬릿(223)과 슬릿의 크기 및 위치를 확인할 수 있는 슬릿조명광원(221) 및 슬릿조명용 하프미러(222)로 구성되어 있다. 슬릿조명광원(221)에 의해 나온 가시광의 조명은 슬릿조명용 하프미러(222)에 반사되어 레이저 빔의 경로와 동일하게 슬릿(223)을 통과한 뒤 제2 방향전환미러(212)에서 반사되어 레이저용 결상렌즈(213)를 통과하고 레이저용 하프미러(214) 의해 대물렌즈(250)에 입사하게 되며, 슬릿(223)의 영상이 유기발광소자의 발광층(S)에 맺히게 된다. 유기발광소자의 발광층(S)에 맺혀진 슬릿(223)의 이미지를 토대로 슬릿(223)의 크기 및 가공 위치를 확인하고 가공이 진행이 된다. 이때 슬릿조명용 하프미러(222)는 레이저의 출력 손실을 줄이기 위하여 레이저 조사시에는 실린더 구동에 의해 광경로에서 이탈되게 된다. 즉 가공영역 및 가공크기를 슬릿조명에 의해 확인한 뒤 레이저 발진시에는 경로에서 벗어나 슬릿조명용 하프미러(222)에 의한 레이저의 손실을 최소화한다. The beam size adjusting unit 220 includes a slit 223 driven by a motor, a slit illumination light source 221 capable of confirming the size and position of the slit, and a slit illumination half mirror 222. Illumination of visible light emitted by the slit illumination light source 221 is reflected by the half mirror 222 for slit illumination, passes through the slit 223 in the same way as the path of the laser beam, and then is reflected by the second turning mirror 212 to the laser. The light passes through the melting lens 213 and enters the objective lens 250 by the laser half mirror 214, and the image of the slit 223 is formed on the light emitting layer S of the organic light emitting diode. Based on the image of the slit 223 formed in the light emitting layer S of the organic light emitting device, the size and the processing position of the slit 223 are checked and processing is performed. At this time, the slit lighting half mirror 222 is separated from the optical path by the cylinder drive during laser irradiation to reduce the output loss of the laser. In other words, after confirming the processing area and the processing size by the slit illumination, when the laser oscillation, the loss of the laser by the slit lighting half mirror 222 is minimized when the laser oscillates.

위와 같이 인아웃(In Out) 구성 시는 하프미러 대신에 일반 반사미러를 사용하여도 된다. 인아웃(In Out) 기능을 사용하지 않고 가시광 영역의 레이저를 사용할 시에는 조명과 레이저의 파장이 동일 가시광이므로 가시광 영역에서 50:50의 투과 반사 코팅을 해주어야 한다. 따라서, 레이저와 슬릿조명 각각 50%의 손실을 가져온다. 영상부(230)는 메인 카메라(231)와 이미지용 결상렌즈(232), 낙사조명광원(233), 낙사조명용 하프미러(234) 및 투과조명광원(235)로 구성된다. 메인 카메라는 CCD(CMOS) 카메라가 사용된다. 낙사조명광원(233) 또는 투과조명광원(235)에 의해 유기발광소자에 빛이 조영되고 유기발광소자의 패드패턴의 이미지는 이미지용 결상렌즈(232)를 지나 메인 카메라(231)에 영상이 맺히게 된다. In the case of In Out configuration as described above, instead of the half mirror, a general reflection mirror may be used. When using a laser in the visible region without using the In Out function, 50:50 transmission reflection coating should be applied in the visible region because the wavelength of the illumination and the laser is the same visible light. This results in 50% loss of laser and slit illumination respectively. The imaging unit 230 includes a main camera 231, an imaging lens 232 for images, a fall light source 233, a fall mirror half mirror 234, and a through light source 235. The main camera is a CCD (CMOS) camera. Light is illuminated on the organic light emitting element by the fall light illumination source 233 or the transmission illumination light source 235, and the image of the pad pattern of the organic light emitting element passes through the image forming lens 232 and forms an image on the main camera 231. do.

상기 이미지용 결상렌즈(232)는 관찰영역(FOV: field of view)을 더 넓게 확인하기 위하여 0.5배의 배율로도 변경이 가능하다. 이때의 낙사조명용 하프미러(234)는 낙사조명광원(233)을 반사시키고 대물렌즈(250)에 의한 가공시료(S)의 영상이 메인 카메라(231)로 전달되게 하기 위해 가시광영역에서의 반사 및 투과율이 50:50이 되도록 설계된다. 만약 낙사조명광원(233)이 광량이 충분하고 투과조명광원(235)의 광량이 부족할 경우 낙사조명용 하프미러(234)의 반사 및 투과율은 30:70등의 비율로 설계될 수도 있다. The imaging lens 232 for the image may be changed at a magnification of 0.5 times to make the field of view (FOV) wider. At this time, the fall mirror half mirror 234 reflects the fall illumination light source 233 and the reflection in the visible light region so that the image of the processing sample S by the objective lens 250 is transferred to the main camera 231. The transmittance is designed to be 50:50. If the fall illumination light source 233 has a sufficient amount of light and the transmission illumination light source 235 lacks a light amount, the reflection and transmittance of the fall illumination half mirror 234 may be designed in a ratio of 30:70 or the like.

또한, 본 발명에 따른 본 광하계는 상기 유기발광소자의 다층박막(S)에 대물렌즈의 정확한 초점을 맞추기 위하여 상기 메인 카메라(231)와 대물렌즈(250) 사이에 위치하는 오토포커스부(240)가 구비된다. 오토포커스부(240)는 대물렌즈(250)의 초점을 확인하기 위한 오토포커스용 카메라(241), 초점 이미지를 상기 오토포커스용 카메라(241)로 입사시키기 위한 오토포커스용 큐브타입 하프미러(242) 및 대물렌즈(250)를 Z축 방향(기판 방향 또는 기판 반대방향)으로 상하조정이 가능하도록 구동시키는 Z축 구동부(243)으로 구성된다.In addition, according to an exemplary embodiment of the present invention, an autofocus unit 240 is disposed between the main camera 231 and the objective lens 250 in order to accurately focus the objective lens on the multilayer thin film S of the organic light emitting diode. ) Is provided. The autofocus unit 240 is an autofocus camera 241 for checking the focus of the objective lens 250, and an autofocus cube type half mirror 242 for injecting a focus image into the autofocus camera 241. ) And a Z-axis driving unit 243 for driving the objective lens 250 to adjust vertically in the Z-axis direction (substrate direction or substrate opposite direction).

상기 유기발광소자의 패드패턴의 불량영역이 존재하는 부위 영상이 오토퍼커스부(241)에 의해 초점이 맞춰져서 카메라(242)에 의해 출력되고, 제어부(미도시)가 상기 취득영상을 기초로 초점 조절신호를 상기 Z축 구동부(243)로 전달하여 대물렌즈(250)의 초점이 조정된다. 상기의 대물렌즈(250)는 배율이 다른 대물렌즈를 장착해 가공 및 확인을 할 수 있도록 대물렌즈의 변경이 가능한 리볼버(미도시)에 장착이 되어 있으며 리볼버는 직선운동의 리니어(Linear) 타입 또는 회전 운동의 로타리(Rotary) 타입으로 구성할 수 있다. The part image in which the defective area of the pad pattern of the organic light emitting element exists is focused by the auto focus unit 241 and output by the camera 242, and a controller (not shown) is based on the acquired image. The focus of the objective lens 250 is adjusted by transmitting a focus control signal to the Z-axis driver 243. The objective lens 250 is mounted on a revolver (not shown) that can change the objective lens so that the objective lens with different magnification can be processed and checked, and the revolver is a linear type of linear motion or It can be configured as a rotary type of rotary motion.

본 발명은 상술한 바와 같이 이미지 축과 레이저 축의 분리로 하프미러의 통과 횟수를 줄임으로써 기존 동축 구조에서 발생되었던 레이저의 출력손실을 줄이는 한편, 레이저용 하프미러(214)를 제외하곤 일반적인 큐브타입의 하프미러의 사용이 용이하여 더블이미지(Ghost Image)가 발생하지 않는다. 또한, 이미지 처리방식의 오토포커스용 큐브타입 하프미러(242)와 오토포커스용 카메라(241)를 추가로 장착이 용이할 뿐만 아니라 이로 인해 저하되는 광량 또한 큐브타입 하프미러(242)의 투과 반사율의 조정으로 극복이 가능하다.The present invention reduces the output loss of the laser generated in the existing coaxial structure by reducing the number of passes of the half mirror by separating the image axis and the laser axis as described above, while excluding the half mirror 214 for the laser, Half mirror is easy to use, so there is no double image. In addition, it is not only easy to mount the autofocus cube type half mirror 242 and the autofocus camera 241 of the image processing method, but also the amount of light deteriorated by the reflection reflectance of the cube type half mirror 242. Coordination can be overcome.

도 4는 본 발명에 따른 다른 실시예로서의 광학계를 구현한 것이다.4 is an embodiment of an optical system according to another embodiment of the present invention.

도시된 구성요소는 레이저발진부(L)와 방향전환미러(111)을 구비하는 구조이며, 빔크기 조절부에 해당하는 구성으로 조명광원(321)과 하프미러(322), 그리고 슬릿(323) 및 상기 슬릿 하부의 하프미러(337)가 배치되며, 이후 튜브렌즈(332) 및 튜브렌즈(332) 하부의 하프미러가 배치되는 광학계가 구비되며, 그 하부에 대물렌드(350)이 배치되며, 유기발광소자가 배치되는 스테이지(S) 및 투과조명광원(335)가 배치되는 구성을 구비할 수 있다.
The illustrated component is a structure having a laser oscillation unit (L) and the turning mirror 111, the illumination light source 321 and the half mirror 322, and the slit 323 and the configuration corresponding to the beam size control unit and The half mirror 337 under the slit is disposed, and then there is an optical system in which a tube mirror 332 and a half mirror under the tube lens 332 are disposed, and an object blend 350 is disposed below the organic lens. The light emitting device may include a stage S and a transmission illumination light source 335.

도 5는 본 발명에 따른 본 장치의 스테이지(S) 상에 대기압챔버(100)를 더 구비하는 구성을 도시한 것이며, 도 6은 본 장치에 배치되는 대기압챔버의 단면구성을 통해 도시한 개념도이다.Figure 5 shows a configuration further comprising an atmospheric pressure chamber 100 on the stage (S) of the apparatus according to the present invention, Figure 6 is a conceptual diagram showing through a cross-sectional configuration of the atmospheric pressure chamber disposed in the apparatus. .

도 5 및 도 6에 도시된 것과 같이, 본 장치는 도 3 및 도 4와 같은 레이저 광학계(200)와 결합하여 대기압분위기에서 금속 증착을 통해 단선의 불량을 리페어할 수 있도록 하는 대기압챔버(100)를 더 포함하여 구성될 수 있다.As shown in FIGS. 5 and 6, the apparatus is combined with a laser optical system 200 as shown in FIGS. 3 and 4 to allow the repair of disconnection defects through metal deposition in an atmospheric pressure atmosphere. It may be configured to include more.

즉, 본 장치는 상술한 유기전계발광소자(E)가 놓이게 되는 스테이지(S), 대기압 챔버(100), 구동수단 및 클램프(C)를 포함하며, 상기 유기전계발광소자(E)의 전극의 패드(P)의 전극 결함을 수리하는 기능을 한다.That is, the apparatus includes a stage (S), an atmospheric pressure chamber (100), a driving means, and a clamp (C) on which the above-described organic electroluminescent device (E) is placed, and the electrode of the organic electroluminescent device (E). It serves to repair an electrode defect of the pad P.

특히, 유기전계발광소자(OLED;E) 기판(이하 '기판' 이라 함)과 구동 인쇄 회로 기판(PCB)을 연결하는 패드(P)에 있어, 상기 패드(P)의 금속 전극에서 발생하는 오픈(Open) 또는 쇼트(Short) 결함을 수리하는 레이저 화학기상증착(Chemical Vapour Deposition, CVD) 수리장치에 대한 기술이다.In particular, in a pad P connecting an organic light emitting diode (E) substrate (hereinafter referred to as a 'substrate') and a driving printed circuit board (PCB), an open occurring at the metal electrode of the pad (P). A technique for laser chemical vapor deposition (CVD) repair equipment to repair (open) or short defects.

상기 스테이지(S)는 그 상부에 패드(P) 전극의 결함을 수리할 유기전계발광소자(E) 기판이 로딩되며, 로딩시 기준점을 부여하기 위해 상면 일단에 기준체(112)가 구비된다. 여기서, 상기 기준체(112)는 상기 기판(E)의 일측단이 접촉할 수 있도록 절곡 형상으로 형성되는 것이 바람직하다.The stage S is loaded with an organic light emitting device E substrate to repair defects of the pad P electrode on the upper surface thereof, and a reference body 112 is provided at one end of the upper surface to give a reference point during loading. Here, the reference body 112 is preferably formed in a bent shape so that one side end of the substrate (E) can contact.

상기 챔버(100)는 챔버본체(110)와 상기 챔버본체의 중심부에 형성되는 레이저광이 조사되는 통로인 레이저광 조사홀(121), 그리고 상기 레이저광조사홀의 최하단에 금속 원료가스가 모이도록 원료가스를 공급하는 원료가스 배출구(122)를 포함하여 구성된다.The chamber 100 has a laser beam irradiation hole 121 which is a passage through which the laser beam formed in the chamber body 110 and the chamber body is irradiated, and a raw material gas is collected at the lowermost end of the laser beam irradiation hole. It comprises a source gas outlet 122 for supplying gas.

상기 스테이지(S) 상에 구비되어 상기 구동수단(도면에 미도시)에 의해 상기 패드(P) 전극의 결함 위치로 X, Y, Z 축 방향을 향해 이동하여 포커싱한 후 레이저 광을 조사하며, 중심에 정화가스 배출구(123) 및 원료가스 배출구(122)가 형성된 레이저 광 조사홀(121)이 형성되고, 저면에 상기 레이저 광 조사홀(121)을 기점으로 제1 배기구(125a)와, 보호가스 배출구(126)와, 제2 배기구(125b)가 순차 형성된다.Is provided on the stage (S) is moved by the driving means (not shown in the figure) to the defect position of the pad (P) electrode toward the X, Y, Z axis direction and focused, and irradiates laser light, A laser light irradiation hole 121 having a purge gas outlet 123 and a source gas outlet 122 is formed at a center thereof, and a first exhaust port 125a is protected on the bottom surface of the laser light irradiation hole 121. The gas exhaust port 126 and the second exhaust port 125b are sequentially formed.

즉, 상기 챔버(100)는 기판(E)과 이격된 상측에 설치되되, 최상단에 가열부(도면에 미도시)가 구비되면서 일단 중심부에 레이저 광이 조사되는 통로인 레이저 광 조사홀(121)이 형성되고, 외부의 가스 공급부(도면에 미도시)에서 원료가스 공급라인을 통해 유입되고 상기 원료가스 공급부에서 상기 레이저 광 조사홀(121) 방향을 향해 경사지는 원료가스 배출구(122)가 형성되며 상기 원료가스 배출구(122)에서 배출되는 금속 원료가스가 레이저 광 조사홀(121)의 최하단에 모이도록 분사된다.That is, the chamber 100 is installed above the substrate E and spaced apart from each other, and is provided with a heating unit (not shown in the drawing) at the top thereof, and a laser light irradiation hole 121 which is a passage through which laser light is irradiated to a central portion thereof. Is formed, a source gas outlet 122 is introduced from the external gas supply unit (not shown in the figure) through the source gas supply line and inclined toward the laser light irradiation hole 121 in the source gas supply unit is formed The metal source gas discharged from the source gas outlet 122 is injected to collect at the lowermost end of the laser light irradiation hole 121.

그리고 상기 챔버(100) 내에서 상기 원료가스 공급부의 상단에 외부의 정화가스 공급부(도면에 미도시)와 연결된 정화가스 배출구(123)가 그 일단에서 정화가스 공급라인을 통해 정화가스가 유입되도록 연결된다.In addition, a purification gas outlet 123 connected to an external purification gas supply unit (not shown) is connected to an upper end of the source gas supply unit in the chamber 100 such that the purification gas is introduced through the purification gas supply line at one end thereof. do.

그리고 상기 챔버(100) 내에서 정화가스 배출구(123)의 상단에 레이저 광이 통과하도록 구비된 광학창(124)은 그 저면에 접하는 오링(O-ring)에 의해 기밀이 유지된 상태로 고정된다.In addition, the optical window 124 provided to the upper end of the purge gas discharge port 123 in the chamber 100 is fixed in an airtight state by an O-ring contacting the bottom surface thereof. .

그리고 상기 챔버(100)는 상기 레이저 광 조사홀(121)을 기점으로 저면에 배기수단과 연결되는 상기 제1, 2 배기구(125a, 125b)와, 보호가스(Shield gas) 공급부(도면에 미도시)와 연결되면서 유입 방향과 배출 방향이 상이하도록 보호가스 배출구(126)가 각각 형성된다. In addition, the chamber 100 includes the first and second exhaust ports 125a and 125b connected to the exhaust means at the bottom of the laser light irradiation hole 121 and a shield gas supply unit (not shown in the drawing). The protection gas outlets 126 are formed to be connected to each other so that the inflow direction and the discharge direction are different.

여기서, 상기 보호가스 배출구(126)는 패드(16)의 박막 증착시 기판 표면의 손상 방지를 위해 보호가스를 분사한다. 한편, 상기 보호가스 배출구(126)는 보호가스가 외측 방향을 향해 경사지게 배출되므로 에어 커튼(air curtain)이 형성되며, 이 에어 커튼으로 미반응 가스 및 반응 부가물의 누출이 발생되지 않게 한다.Here, the protective gas outlet 126 injects a protective gas to prevent damage to the surface of the substrate when the thin film of the pad 16 is deposited. On the other hand, the protective gas outlet 126 is an air curtain (air curtain) is formed because the protective gas is discharged inclined toward the outside direction, the air curtain to prevent the leakage of the unreacted gas and the reaction additives.

상기 구동수단은 도면에는 도시하지 않았지만 상기 스테이지(110)에 설치되어 상기 챔버(120)를 X, Y, Z 축 방향을 향해 이동시키는 구성요소로, 상기 레이저 광 조사홀(121)을 상기 패드(16) 전극의 결함 위치로 이동시킨다. 이때, 상기 이동수단은 X, Y 방향으로만 이동할 수 있다.Although not shown in the drawing, the driving means is a component installed in the stage 110 to move the chamber 120 in the X, Y, and Z directions, and the laser light irradiation hole 121 may be disposed on the pad ( 16) Move to the defective position of the electrode. At this time, the moving means can move only in the X, Y direction.

상기 클램프(C)는 상기 스테이지(S) 상에 설치되어 기준체(112)의 기준면에 밀착된 기판의 대향면을 지지한다.The clamp C is installed on the stage S to support the opposite surface of the substrate in close contact with the reference surface of the reference body 112.

한편, 상기 챔버본체(110)의 저면과 상기 기판(E)과의 간격이 상기 챔버본체(110)의 저면 내외측마다 상이하여 결함 수리가 실시되는 영역에서의 배출과 배기 압력이 일정하게 유지되며, 상기 챔버본체(110)와 상기 기판과(E)의 간격은, 상기 보호가스 배출구(126)를 기준으로 내측 영역(Area 2)과, 상기 보호가스 배출구(126)에서 상기 제2 배기구(125b)까지의 제1, 2 외측 영역(Area 1, Area 3)이 각각 상이하다. On the other hand, the interval between the bottom surface of the chamber body 110 and the substrate (E) is different for each inside and outside the bottom surface of the chamber body 110, so that the discharge and exhaust pressure in the region where the defect is repaired is kept constant The interval between the chamber body 110 and the substrate E may be based on an inner region Area 2 of the protective gas outlet 126 and the second exhaust port 125b at the protective gas outlet 126. The first and second outer areas (Area 1, Area 3) up to) are different.

이는 상기 패드(16) 전극의 결함을 수리하기 위해 상기 내측 영역(Area 2)과, 제1, 2 외측 영역(Area 1, Area 3)인 공정 영역 내의 공기가 상기 공정 영역 외부로 유출되면서 생기는 기압차를 방지하기 위해 간격을 단차지게 형성하는 것이다. This is because air pressure in the process area, which is the inner area (Area 2) and the first and second outer areas (Area 1, Area 3), flows out of the process area to repair the defect of the pad 16 electrode. To prevent the difference is to form a gap step.

더욱이, 상기 챔버본체(110)와 상기 기판(E)과의 간격은, 상기 패드(P)의 금속 전극의 결함 수리시 증착(Deposition)에 영향을 주는 요소이므로, 상기 내측 영역(Area 2)을 기준으로 상기 제1, 2 외측 영역(Area 1, Area 3)에서의 간격을 조절하는 것이 바람직하다.Furthermore, the gap between the chamber body 110 and the substrate E is an element that affects deposition during defect repair of the metal electrode of the pad P. It is preferable to adjust the spacing in the first and second outer areas (Area 1, Area 3) as a reference.

그리고 상기 제1 배기구(125a)는 대부분의 잔류한 보호가스 정화가스 및 원료가스 등이 이를 통해 배기된다. 그리고 상기 챔버본체(110)와 상기 기판(E)와의 간격은, 상기 기판(E)의 두께가 0.5t일 경우를 기준으로 할 때 상기 제1 외측 영역(Area 1)은 0.5mm이고, 내측 영역(Area 2)은 1mm이며, 제2 외측 영역(Area 3)은 1.5mm이다. 이때, 상기 챔버본체(110)와 상기 기판(E)과의 간격은, 기판(E)의 두께에 따라 상대적으로 증감된다.In addition, most of the remaining protective gas purification gas and the raw material gas are exhausted through the first exhaust port 125a. The interval between the chamber body 110 and the substrate E is based on the case where the thickness of the substrate E is 0.5t. The first outer area 1 is 0.5 mm, and the inner area is (Area 2) is 1 mm, and the second outer area (Area 3) is 1.5 mm. At this time, the interval between the chamber body 110 and the substrate E is relatively increased or decreased according to the thickness of the substrate E.

다르게는 상기 챔버본체(110)의 저면과 상기 기판(E)과의 간격 중 제2 외측 영역(Area 3)에 구비된 클램프(C)의 표면과 상기 챔버본체(110)의 저면과의 간격을 상기 내측 영역(Area 2)과 동일하게 하거나 거의 유사하게 한다. 이는 상기 내측 영역(Area 2)과 상기 제2 외측 영역(Area 3) 내에서 상기 챔버본체(110)의 저면과 상기 기판(E)과의 간격을 일정하게 유지하여 기류의 흐름과 압력을 고르게 제어하기 위함이다. ( 도 7 및 도 8 참조 )Alternatively, the distance between the bottom surface of the chamber body 110 and the bottom surface of the chamber body 110 of the clamp (C) provided in the second outer area (Area 3) of the space between the bottom surface of the chamber body 110 and the substrate (E). It is the same as or almost similar to the inner region Area 2. This maintains a constant distance between the bottom surface of the chamber body 110 and the substrate E in the inner region 2 and the second outer region 3 to evenly control the flow and pressure of the airflow. To do this. (See FIG. 7 and FIG. 8)

결국, 본 장치는 상기 기판(E) 상에 구비된 패턴(P)의 금속 전극이 오픈(Open)된 영역에 대해서는 증착 공정을 적용하여 오픈 된 영역의 전극을 이어주는 방법으로 수리한다. 그리고 증착은 접속 홀 형성(Zapping), 배선공 채움(Contact Hole Filling), 결선(Wiring)의 순서이다. 이때, 상기 패턴(P)의 금속 전극 상에 절연막이 있는 경우 접속 홀 형성, 배선공 채움 및 결선의 순서로 증착이 진행되고, 절연막이 없는 경우는 접속 홀 형성 및 배선공 채움 단계를 제외하고 결선 만으로도 결함수리를 할 수 있다. As a result, the apparatus repairs the method of connecting the electrodes of the open area by applying a deposition process to the area of the metal electrode of the pattern P provided on the substrate E. Deposition is the order of connection hole forming, contact hole filling, and wiring. At this time, if there is an insulating film on the metal electrode of the pattern (P), the deposition proceeds in the order of connection hole formation, wiring hole filling and wiring, if there is no insulating film, except for the connection hole forming and wiring hole filling step Defect repair can be done alone.

더욱이, 상기 패드패턴(P)의 금속 전극 상에 잔류하는 접착제 등과 같은 유기물이 있는 경우에는 자외선 레이저(UV Laser)를 사용하여 해당 영역의 유기물을 제거한다. 이때, 전극 형성을 위한 금속 소스는 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 구리(Cu), 은(Ag), 크롬(Cr) 등을 사용한다. Furthermore, when there is an organic material such as an adhesive or the like remaining on the metal electrode of the pad pattern P, the organic material of the corresponding area is removed by using an UV laser. At this time, the metal source for forming the electrode uses molybdenum (Mo), tungsten (W), copper (Cu), silver (Ag), chromium (Cr) and the like.

나아가서는 상기 기판(E) 상에 금속 전극이 쇼트(Short) 된 영역에 대해서는 컷팅(Cutting) 공정을 적용하여 쇼트 상태가 되어있는 영역을 전기적으로 오픈이 되도록 수리한다. 그리고 상기 패드패턴(P) 전극에 전기적으로 접속시켜 저항을 측정하는 프로브 팁(도면에 미도시)이 더 구비되어, 상기 금속 전극의 결함 수리 이후에 패드패턴(P)의 금속 전극 양단에 프로브 팁(Probe Tip)을 접촉하여 저항을 측정한 후 가공 성공 여부를 판단할 수 있다. 더욱이, 상기 패드패턴(P) 부위에 붙어있던 이방성전도필름(ACF), LDI, 필름 등을 떼어내거나 붙어있는 상태에서 결함 수리가 가능하다.Furthermore, a cutting process is applied to the region where the metal electrode is short on the substrate E to repair the region that is in the short state to be electrically opened. Further, a probe tip (not shown) is further provided to electrically connect the pad pattern P electrode to measure resistance, and the probe tip is disposed at both ends of the metal electrode of the pad pattern P after repair of the defect of the metal electrode. After measuring the resistance by touching (Probe Tip), it is possible to judge the success of processing. In addition, defect repair is possible in the state where the anisotropic conductive film (ACF), LDI, film, etc., which are attached to the pad pattern P, are removed or stuck.

도 9 내지 도 12는 본 발명에 따른 본 장치를 이용하여 유기발광소자의 패드패턴을 리페어하는 실제 결과이미지를 도시한 것이다.9 to 12 show actual result images of repairing pad patterns of organic light emitting diodes using the apparatus according to the present invention.

도 9 및 도 10은 AMOLED 점등검사 단계에서 패드 단에 발생한 스크래치로 생긴 쇼트(Short) 불량을 레이저로 조사하여 끊어주는 수리 공정결과를 도시한 것으로, 수리 전(before)과 수리 후(after)의 결과이미지를 비교하면, 투과조명에서 발견되는 점선 원 부분(X)의 쇼트 불량이 선명하게 해소하게 된다.9 and 10 illustrate the repair process results of irradiating and cutting off a short defect caused by scratches generated at the pad stage in the AMOLED lighting test step, before and after repair. Comparing the resultant image, the short defect of the dotted circle portion X found in the transmission light is clearly resolved.

또한, 본 발명에 따른 패드패턴 수리장치를 이용하여 도 11에 도시된 것과 같이, 쇼트 상태인 불량의 종류에 따라 스캔 커팅(scan cutting)하거나, 도 12에 도시된 것과 같이 블록쇼트 커팅(Block short cutting)을 통해 사선 구조의 불량을 커팅할 수 있다.In addition, using the pad pattern repair apparatus according to the present invention, as shown in FIG. 11, a scan cutting according to the type of the defect in the short state, or block short cutting as shown in FIG. cutting) can be used to cut the defect of the diagonal structure.

이러한 수리방식이외에도, AMOLED 점등검사 단계에서 패드 단에 발생한 스크래치로 생긴 불량을 결선(wiring)하는 방법으로 리페어하거나, 패드 패턴 사이에 제거된 부분을 메탈증착을 통해 리페어할 수도 있다.In addition to the repairing method, the AMOLED lighting inspection step may be repaired by wiring a defect caused by scratches generated on the pad end, or the portions removed between the pad patterns may be repaired through metal deposition.

전술한 바와 같은 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해 설명하였다. 그러나 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서는 여러 가지 변형이 가능하다. 본 발명의 기술적 사상은 본 발명의 전술한 실시예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
In the foregoing detailed description of the present invention, specific examples have been described. However, various modifications are possible within the scope of the present invention. The technical spirit of the present invention should not be limited to the above-described embodiments of the present invention, but should be determined by the claims and equivalents thereof.

100: 대기압챔버
110: 챔버본체 121: 레이저 광 조사홀
122: 원료가스 배출구 123: 정화가스 배출구
124: 광학창 125a, 125b: 제1, 2 배기구
126: 배출구 C: 클램프
Area 1: 제1 외측 영역 Area 2: 내측 영역
Area 3: 제2 외측 영역
E; 유기발광소자 P: 패드패턴
L: 레이저발진부 S: 스테이지
210: 빔전달부
220: 빔크기조절부
230: 영상부
240: 오토포커스부
250: 대물렌즈
100: atmospheric pressure chamber
110: chamber body 121: laser light irradiation hole
122: source gas outlet 123: purge gas outlet
124: optical window 125a, 125b: first, second exhaust port
126: outlet C: clamp
Area 1: first outer area Area 2: inner area
Area 3: second outer area
E; Organic light emitting device P: pad pattern
L: laser oscillation unit S: stage
210: beam delivery unit
220: beam size control unit
230: video unit
240: autofocus unit
250: objective lens

Claims (17)

유기발광소자를 기준면에 로딩하는 스테이지;
상기 스테이지 상에 배치되어 대기압의 밀폐 분위기를 조성하는 대기압챔버;
상기 스테이지 상에 설치되어 기준면에 밀착된 상기 유기발광소자의 대향면을 지지하는 클램프;
상기 유기발광소자의 패드패턴에 레이저를 조사하여 리페어 공정을 수행하는 레이저광학계;를 포함하되,
상기 레이저광학계는,
레이저 빔을 발진하는 레이저 발진부;
상기 레이저 발진부로부터 조사된 레이저 빔의 방향을 전환하여 유기발광소자의 패드패턴에 전달하는 빔전달부;
상기 레이저 빔의 사이즈를 변환시켜주는 빔크기 조절부; 및
상기 유기발광소자의 패드패턴 이미지를 실시간으로 촬영하는 영상부;
상기 유기발광소자의 패드패턴 상부에 배치된 대물렌즈의 초점을 조절하기 위한 오토포커스부;를 포함하며,
상기 대기압챔버는,
챔버본체;
상기 챔버본체의 중심부에 형성되는 레이저광이 조사되는 통로인 레이저광 조사홀;
상기 레이저광 조사홀의 최하단에 금속 원료가스가 모이도록 원료가스를 공급하는 원료가스 배출구;
상기 레이저광 조사홀을 기점으로 양측 저면에 순차 형성되는 제1 배기구, 보호가스 배출구 및 제2 배기구;를 포함하며,
상기 보호가스 배출구를 기준으로 내측영역(Area 2)에서의 상기 유기발광소자와 챔버와의 간격과, 상기 내측영역의 양측인 제1, 2 외측영역(Area 1, 3) 중 클램프가 구비된 제2 외측영역(Area 3)에서의 상기 챔버와 상기 클램프 표면과의 간격이 동일하도록 구성되는 유기발광소자의 패드패턴 수리장치.
A stage for loading the organic light emitting element on the reference plane;
An atmospheric pressure chamber disposed on the stage to create an atmospheric sealed atmosphere;
A clamp installed on the stage to support the opposing surface of the organic light emitting device in close contact with the reference surface;
It includes; Laser optical system for performing a repair process by irradiating a laser on the pad pattern of the organic light emitting device;
The laser optical system,
A laser oscillator for oscillating a laser beam;
A beam transfer unit for changing the direction of the laser beam irradiated from the laser oscillation unit and transferring the laser beam to the pad pattern of the organic light emitting diode;
A beam size adjusting unit for converting the size of the laser beam; And
An image unit which photographs a pad pattern image of the organic light emitting diode in real time;
And an autofocus unit for adjusting the focus of the objective lens disposed on the pad pattern of the organic light emitting diode.
The atmospheric pressure chamber,
Chamber body;
A laser light irradiation hole which is a passage through which laser light formed in the center of the chamber is irradiated;
A source gas outlet for supplying a source gas so that metal source gas is collected at a lowermost end of the laser beam irradiation hole;
And a first exhaust port, a protective gas discharge port, and a second exhaust port sequentially formed on both bottom surfaces of the laser light irradiation hole.
A clamp having a gap between the organic light emitting element and the chamber in an inner region (Area 2) and a clamp among the first and second outer regions (Area 1, 3) that are both sides of the inner region with respect to the protective gas outlet; 2. The pad pattern repair apparatus of an organic light emitting diode, wherein the distance between the chamber and the clamp surface in the outer area 3 is the same.
청구항 1에 있어서,
상기 리페어공정은,
상기 패드패턴 부위에 발생한 합선(short) 또는 단선(open) 불량에 레이저를 조사하여 불량부위를 커팅(cutting)하는 공정인 유기발광소자의 패드패턴 수리장치.
The method according to claim 1,
The repair process,
The pad pattern repair apparatus of an organic light emitting device, which is a step of cutting a defective part by irradiating a laser to a short or open defect occurring in the pad pattern part.
청구항 1에 있어서,
상기 리페어공정은,
상기 패드패턴 부위에 발생한 단선(open) 불량에 금속가스 분위기에서 레이저를 조사하여 증착리페어를 수행하는 공정인 유기발광소자의 패드패턴 수리장치.
The method according to claim 1,
The repair process,
An apparatus for repairing a pad pattern of an organic light emitting diode, the method comprising performing deposition repair by irradiating a laser in a metal gas atmosphere to an open defect occurring in the pad pattern portion.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 대기압챔버는,
상기 스테이지 상에 구비되어 상기 대기압챔버를 상기 패드패턴의 결함 위치로 이동시키는 구동수단을 더 포함하는 유기발광소자의 패드패턴 수리장치.
The method according to claim 1,
The atmospheric pressure chamber,
And a driving means provided on the stage to move the atmospheric chamber to a defective position of the pad pattern.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 빔크기 조절부는,
모터로 구동되는 슬릿;
슬릿의 크기 및 위치를 확인할 수 있는 슬릿조명광원; 및
상기 슬릿조명광원으로부터 입사되는 빛의 진로를 변경시키기 위한 슬릿조명용 미러;를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 패드패턴 수리장치.
The method according to claim 1,
The beam size adjusting unit,
A slit driven by a motor;
Slit lighting light source that can determine the size and location of the slit; And
And a slit illumination mirror for changing a course of light incident from the slit illumination light source.
청구항 9에 있어서,
상기 슬릿조명용 미러는,
하프미러 또는 인아웃(In Out) 구동이 가능한 전반사 미러인 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 패드패턴 수리장치.
The method according to claim 9,
The slit lighting mirror,
The pad pattern repair apparatus of an organic light emitting device, characterized in that the half-mirror or a total reflection mirror capable of driving in and out.
청구항 9에 있어서,
상기 빔 전달부는,
상기 레이저 발지부로부터 조사된 레이저 빔의 방향을 상기 슬릿으로 전환시키는 제1 방향전환미러;
상기 슬릿을 통과한 레이저 빔을 반사시키는 제2 방향전환미러;
상기 제2 방향전환미러에 의해 반사된 레이저 빔의 형상을 만들어주는 레이저용 결상렌즈; 및
상기 레이저용 결상렌즈를 투과한 레이저 빔을 대물렌즈로 반사시키고, 상기 유기발광소자의 패드패턴 이미지는 투과시켜 상기 영상부로 전달하는 레이저용 하프미러;를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 패드패턴 수리장치.
The method according to claim 9,
The beam transmission unit,
A first turning mirror configured to change the direction of the laser beam irradiated from the laser detector into the slit;
A second turning mirror reflecting the laser beam passing through the slit;
An imaging lens for the laser to form the shape of the laser beam reflected by the second turning mirror; And
A laser half mirror for reflecting the laser beam transmitted through the laser imaging lens to the objective lens and transmitting the pad pattern image of the organic light emitting element to the image unit; and a pad of the organic light emitting element Pattern repair device.
청구항 11에 있어서,
상기 영상부는,
가공시료를 비추기 위한 조명장치 및 이미지용 결상렌즈를 더 포함하는 유기발광소자의 패드패턴 수리장치.
The method of claim 11,
The video unit,
An apparatus for repairing a pad pattern of an organic light emitting device further comprising an illumination device for illuminating a processed sample and an imaging lens for an image.
청구항 12에 있어서,
상기 이미지용 결상렌즈는,
상기 레이저용 결상렌즈와 배율과 코팅이 다른 결상렌즈인 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 패드패턴 수리장치.
The method of claim 12,
The imaging lens for the image,
The pad pattern repair apparatus of an organic light emitting device, characterized in that the imaging lens and the imaging lens is different magnification and coating.
청구항 12에 있어서,
상기 조명장치는,
낙사조명장치 또는 투과조명장치인 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 패드패턴 수리장치.
The method of claim 12,
The illumination device includes:
A pad pattern repair apparatus for an organic light emitting device, characterized in that the fall lighting device or the transmission lighting device.
청구항 14에 있어서,
상기 낙사조명장치는,
낙사조명용 하프미러를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 패드패턴 수리장치.
The method according to claim 14,
The fall lighting device,
Pad pattern repair apparatus for an organic light emitting device comprising a half mirror for illumination.
청구항 15에 있어서,
상기 낙사조명용 하프미러는,
큐브타입 하프미러인 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 패드패턴 수리장치.
The method according to claim 15,
The half mirror for fall lighting,
Pad pattern repair apparatus for an organic light emitting device, characterized in that the cube-type half mirror.
청구항 9에 있어서,
상기 오토포커스부는,
초점을 확인하기 위한 오토포커스용 카메라;
초점 이미지를 상기 오토포커스용 카메라로 입사시키기 위한 오토포커스 하프미러; 및
상기 대물렌즈를 Z축상에서 구동시키기 위한 Z축 모션;을 더 포함하는 유기발광소자의 패드패턴 수리장치.
The method according to claim 9,
The autofocus unit,
An autofocus camera for checking focus;
An autofocus half mirror for entering a focus image into the autofocus camera; And
And a Z-axis motion for driving the objective lens on the Z-axis.
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