KR101229029B1 - Anti-static Silicone Release Coating Films - Google Patents
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Abstract
본 발명은 대전방지 실리콘 이형필름에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 통상적인 이형필름이 점착제 및 접착제 층과 분리될 때 정전기 현상이 쉽게 발생되며, 이런 정전기 현상에 의한 오염이 치명적인 제품결함과 직결될 수 있는바, 이러한 문제점을 해결하면서 반도체, 전기 전자용 및 디스플레이 용도로 사용 가능한 대전방지 실리콘 이형필름에 관한 것으로, 우수한 대전 방지 기능으로 점착제, 접착제와의 박리시 정전기 현상에 의한 제품오염 현상을 줄일 수 있고, 이형층의 경화방해가 일어나지 않아 기재 및 코팅층의 밀착력이 우수하고, 이로 인해 안정된 이형특성을 가지는 대전방지 실리콘 이형필름에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명의 제1요지에 따른 대전방지 실리콘 이형필름은 폴리에스테르 기재필름과, 상기 폴리에스테르 기재필름의 적어도 일면에 카본나노튜브를 포함한 실리콘 이형 조성물로 적어도 1회 도포된 도포층을 포함하는 것을 특징으로 하고, 바람직하게는 상기 카본나노튜브를 포함한 실리콘 이형 조성물은 폴리실록산 100 중량부에 대하여 카본나노튜브 1 ~ 10 중량부를 포함하되, 고형분 함량이 1 ~ 5중량%인 것을 특징으로 한다.The present invention relates to an antistatic silicone release film, and more particularly, the electrostatic phenomenon is easily generated when the conventional release film is separated from the adhesive and the adhesive layer, and the contamination caused by the electrostatic phenomenon may be directly related to the fatal product defect. The present invention relates to an antistatic silicone release film that can be used for semiconductors, electric and electronics, and displays while solving these problems, and has an excellent antistatic function to reduce product contamination due to electrostatic phenomena when peeling off an adhesive or an adhesive. The present invention relates to an antistatic silicone release film having excellent release property due to hardening of the release layer and excellent adhesion between the substrate and the coating layer. To this end, the antistatic silicone release film according to the first aspect of the present invention includes a polyester base film and a coating layer applied at least once with a silicone release composition including carbon nanotubes on at least one surface of the polyester base film. Preferably, the silicone release composition including the carbon nanotubes include 1 to 10 parts by weight of carbon nanotubes based on 100 parts by weight of polysiloxane, and the solid content is 1 to 5% by weight.
Description
본 발명은 대전방지 실리콘 이형필름에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 통상적인 이형필름의 경우 점착제 및 접착제 층과 분리될 때 정전기 현상이 쉽게 발생되며, 이러한 정전기에 의한 오염이 치명적으로 제품결함과 직결될 수 있는 반도체, 전기 전자용 및 디스플레이 용도로 사용 가능한 대전방지 실리콘 이형필름에 관한 것이다.The present invention relates to an antistatic silicone release film, and more particularly, in the case of a conventional release film, an electrostatic phenomenon easily occurs when separated from an adhesive and an adhesive layer, and the contamination by the static electricity may be directly related to product defects. The present invention relates to an antistatic silicone release film that can be used for semiconductor, electric and electronic and display applications.
최근, 반도체, 전기 전자 및 디스플레이 분야의 산업화 발달이 급격하게 증가하고 있으며, 상기 분야에 합성수지 또는 합성섬유의 사용이 급증함에 따라서 정전기 문제가 크게 대두되고 있다. In recent years, the development of industrialization in the semiconductor, electrical and electronic fields is rapidly increasing, and as the use of synthetic resins or synthetic fibers in the field is rapidly increasing, the problem of static electricity is increasing.
일반적으로 점착제층을 보호하는 기능이 주목적인 이형필름 분야에서도 상기 분야에서의 사용량이 급증하고 있으며, 이러한 분야에서는 대전방지기능이 많이 요구되고 있다. 기존에는 이형필름을 점착제층으로부터 분리할 때 발생하는 정전기로 인해 발생되는 오염현상 등의 문제를 해결하기 위해 점착제 층에 대전방지 기능을 부여하였다. 그러나 점착제층에 대전방지 기능을 부여하는 경우 대전방지제와 점착제의 상용성이 좋지 못하여 대전방지 기능을 충분히 발현시키지 못하는 문제점이 있었다. 따라서 최근에는 점착제층 이외에 이형층에 대전방지 기능을 부여하는 경우가 많아졌다.Generally, in the field of release films, where the function of protecting the pressure-sensitive adhesive layer is the main purpose, the amount of use in the above-mentioned field is rapidly increasing. A pressure-sensitive adhesive layer is provided with an antistatic function in order to solve problems such as contamination caused by static electricity generated when the release film is separated from the pressure-sensitive adhesive layer. However, when the pressure-sensitive adhesive layer is provided with an antistatic function, compatibility between the antistatic agent and the pressure-sensitive adhesive is poor and the antistatic function can not be sufficiently exhibited. Therefore, in recent years, many cases have been provided with an antistatic function in addition to the pressure-sensitive adhesive layer.
상기 정밀소재분야 용도의 이형필름에 요구되는 이형물성으로는 점착제 또는 접착제 종류 및 용도에 따른 적절한 박리력과 이형층이 점착제층 또는 접착제층으로 전사되어 점·접착기능을 저하시키지 않는 높은 잔류접착률과 용제형 점착제 또는 접착제에 사용되는 유기용매에 의해 이형층이 벗겨지지 않는 내용제성 및 광학용도일 경우 높은 광 투과성 등이 요구되고 있다.The releasable properties required for the release film for the precise material field include an appropriate peeling force depending on the type of the adhesive or the adhesive and the purpose of use, and a high residual adhesion rate which does not deteriorate the point and adhesive function by transferring the release layer to the adhesive layer or the adhesive layer And a solvent resistance in which the release layer is not peeled off by an organic solvent used in a solvent-type pressure-sensitive adhesive or an adhesive, and a high light transmittance in the case of optical use.
종래의 대전방지 기술로는 유기 술포네이트 및 유기 포스페이트와 같은 음이온 화합물을 이용한 내부 첨가법, 금속화합물을 증착하는 방법, 도전성 무기 입자를 도포하는 방법, 저분자형 음이온성 또는 양이온성 화합물을 도포하는 방법 및 전도성 고분자를 도포하는 방법 등이 사용되고 있다.Conventional antistatic techniques include internal addition using anionic compounds such as organic sulfonates and organic phosphates, methods for depositing metal compounds, methods for applying conductive inorganic particles, methods for applying low molecular type anionic or cationic compounds. And a method of applying a conductive polymer.
이러한 대전방지 기술을 응용한 대전방지 이형필름의 제조를 위한 종래 방법으로는 실리콘 조성물 내에 리튬, 구리, 마그네슘, 칼슘, 철, 코발트, 니켈 등의 금속을 함유시키는 방법이 있다.Conventional methods for the production of an antistatic release film applying such an antistatic technology include a method of containing a metal such as lithium, copper, magnesium, calcium, iron, cobalt, nickel in the silicone composition.
그러나 이러한 방법은 경제적인 측면에서 불리할 뿐 아니라 충분한 대전방지 성능을 발휘하는데 한계가 있으며, 광학용도일 경우 균일한 코팅층이 형성되지 않는 문제점이 있다.However, such a method is disadvantageous in terms of economics, and there is a limit in exhibiting sufficient antistatic performance, and there is a problem in that a uniform coating layer is not formed in the case of optical use.
또한 대전방지 조성물이 전도성 폴리머, 이온 타입의 고분자 등일 경우 실리콘 이형 조성물의 경화 방해 역할을 하여 이형코팅 층을 형성하기 어려우며, 대전방지 층과 실리콘 층 사이의 밀착력이 떨어져 실리콘이 전사되어 점착제 또는 접착제의 기능을 저하시키는 등의 문제점이 있다.In addition, when the antistatic composition is a conductive polymer or an ion type polymer, it is difficult to form a release coating layer because it interferes with the curing of the silicone release composition, and the adhesion between the antistatic layer and the silicon layer is deteriorated, There is a problem that the function is deteriorated.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 인-라인 또는 오프라인 제조 공정을 거쳐 우수한 대전방지 특성에 의해 반도체, 전기 전자용 및 디스플레이 용도의 이형필름으로 사용할 경우에, 점착제, 접착제와의 박리시 정전기 현상에 의한 먼지 또는 이물 등에 의한 제품오염을 줄일 수 있는 대전방지 실리콘 이형필름을 제공하고자 하는 것이다The present invention has been made to solve the above problems, the object of the present invention is that when used as a release film for semiconductor, electrical and electronics and display by excellent antistatic properties through in-line or offline manufacturing process To provide an antistatic silicone release film that can reduce product contamination caused by dust or foreign substances due to electrostatic phenomena when peeling with adhesives and adhesives
본 발명의 또 다른 목적은 우수한 이형력과 충분한 대전방지 특성을 보이며 이형 조성물의 경화방해가 일어나지 않아 기재와 코팅층의 밀착력이 우수한 대전방지 실리콘 이형필름을 제공하고자 하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide an antistatic silicone release film having excellent adhesive force between the substrate and the coating layer because it shows excellent release force and sufficient antistatic properties and hardening of the release composition does not occur.
본 발명의 상기 및 다른 목적과 이점은 바람직한 실시예를 설명한 하기의 설명으로부터 보다 분명해 질 것이다.These and other objects and advantages of the present invention will become more apparent from the following description of a preferred embodiment thereof.
본 발명자들은 상기 문제점을 감안하여 검토한 결과, 특정 구성을 채용함으로써, 상기 과제를 용이하게 해결 할 수 있다는 것을 알아내어 본 발명을 완성하였다. 본 발명은 관련된 일군의 발명으로 이루어지고, 각 발명의 요지는 다음과 같다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of examining in view of the said problem, it discovered that the said subject can be easily solved by employ | adopting a specific structure, and completed this invention. The present invention consists of a group of related inventions, and the gist of each invention is as follows.
본 발명에 따른 제1요지는, 폴리에스테르 기재필름과, 상기 폴리에스테르 기재필름의 적어도 일면에 카본나노튜브를 포함한 실리콘 이형 조성물로 도포된 도포층을 포함하는 것을 특징으로 하는 대전방지 실리콘 이형필름에 의해 달성된다.A first aspect of the present invention provides an antistatic silicone release film comprising a polyester base film and a coating layer coated on at least one surface of the polyester base film with a silicone release composition including carbon nanotubes. Is achieved.
여기서, 상기 카본나노튜브를 포함한 실리콘 이형 조성물은 폴리실록산 100 중량부에 대하여 카본나노튜브 1 ~ 10 중량부를 포함하되, 고형분 함량이 1 ~ 5중량%인 것을 특징으로 한다.Here, the silicone release composition including the carbon nanotubes include 1 to 10 parts by weight of carbon nanotubes based on 100 parts by weight of polysiloxane, and the solid content is 1 to 5% by weight.
바람직하게는, 상기 도포층의 표면저항(Ω/sq)은 0 내지 1010이고 박리력은 0 내지 30gf/in이고 잔류접착률은 80% 내지 100%인 것을 특징으로 한다.Preferably, the coating layer has a surface resistance (Ω / sq) of 0 to 10 10 , a peel force of 0 to 30 gf / in, and a residual adhesion rate of 80% to 100%.
바람직하게는, 상기 대전방지 실리콘 이형필름의 광투과율은 80% 내지 100%인 것을 특징으로 한다.Preferably, the light transmittance of the antistatic silicon release film is characterized in that 80% to 100%.
본 발명에 따른 제2요지는, 폴리에스테르 기재필름과, 상기 폴리에스테르 기재필름의 적어도 일면에 카본나노튜브 조성물과 실리콘 이형 조성물이 순차적으로 도포된 도포층을 포함하는 것을 특징으로 하는, 대전방지 실리콘 이형필름에 의해 달성된다. According to a second aspect of the present invention, an antistatic silicone comprising a polyester base film and a coating layer sequentially coated with a carbon nanotube composition and a silicone release composition on at least one surface of the polyester base film Achieved by a release film.
여기서, 상기 카본나노튜브 조성물은 바인더수지 100 중량부에 대하여 카본나노튜브 2 ~ 10 중량부를 포함하고, 상기 실리콘 이형 조성물의 고형분 함량은 1 ~5중량%인 것을 특징으로 한다.The carbon nanotube composition may include 2 to 10 parts by weight of carbon nanotubes based on 100 parts by weight of the binder resin, and the solid content of the silicone release composition is 1 to 5% by weight.
바람직하게는, 상기 도포층의 표면저항(Ω/sq)은 0 내지 1010이고 박리력은 0 내지 30gf/in이고 잔류접착률은 80% 내지 100%인 것을 특징으로 한다.Preferably, the coating layer has a surface resistance (Ω / sq) of 0 to 10 10 , a peel force of 0 to 30 gf / in, and a residual adhesion rate of 80% to 100%.
바람직하게는, 상기 대전방지 실리콘 이형필름의 광투과율은 80% 내지 100%인 것을 특징으로 한다.Preferably, the light transmittance of the antistatic silicon release film is characterized in that 80% to 100%.
본 발명에 따른 제3요지는, 폴리에스테르 기재필름과, 상기 폴리에스테르 기재필름의 일면에 카본나노튜브 조성물이 도포된 도포층과 상기 폴리에스테르 기재필름의 타면에 실리콘 이형 조성물이 도포된 도포층을 포함하는 것을 특징으로 하는 대전방지 실리콘 이형필름에 의해 달성된다. According to a third aspect of the present invention, there is provided a polyester base film, an application layer coated with a carbon nanotube composition on one surface of the polyester base film, and an application layer coated with a silicone release composition on the other side of the polyester base film. It is achieved by an antistatic silicone release film, characterized in that it comprises.
여기서, 상기 카본나노튜브 조성물은 바인더수지 100 중량부에 대하여 카본나노튜브 1 ~ 10 중량부를 포함하고, 상기 실리콘 이형 조성물의 고형분 함량은 1 ~5중량%인 것을 특징으로 한다.Here, the carbon nanotube composition includes 1 to 10 parts by weight of carbon nanotubes based on 100 parts by weight of the binder resin, and the solid content of the silicone release composition is 1 to 5% by weight.
바람직하게는, 상기 카본나노튜브 조성물로 도포된 도포층의 표면저항(Ω/sq)은 0 내지 1010이고, 상기 실리콘 이형 조성물로 도포된 도포층의 박리력은 0 내지 30gf/in이고 잔류접착률은 80% 내지 100%인 것을 특징으로 한다.Preferably, the surface resistance (Ω / sq) of the coating layer coated with the carbon nanotube composition is 0 to 10 10 , the peel force of the coating layer coated with the silicone release composition is 0 to 30gf / in and the residual adhesive The rate is characterized in that 80% to 100%.
바람직하게는, 상기 대전방지 실리콘 이형필름의 광투과율은 80% 내지 100%인 것을 특징으로 한다.Preferably, the light transmittance of the antistatic silicon release film is characterized in that 80% to 100%.
본 발명에 따르면, 인-라인 또는 오프라인 제조 공정을 거쳐 우수한 대전방지 특성에 의해 반도체, 전기 전자용 및 디스플레이 용도의 이형필름으로 사용할 경우에, 점착제, 접착제와의 박리시 정전기 현상에 의한 먼지 또는 이물 등에 의한 제품오염을 차단할 수 있고, 우수한 이형력과 충분한 대전방지 특성을 보이며 이형 조성물의 경화방해가 일어나지 않아 기재, 코팅층의 밀착력이 우수한 등의 효과를 가진다.According to the present invention, when used as a release film for semiconductors, electrical and electronics, and displays by excellent antistatic properties through in-line or off-line manufacturing process, dust or foreign substances due to electrostatic phenomenon when peeling with the adhesive, adhesive It is possible to block the product contamination by, etc., exhibit excellent release force and sufficient antistatic properties, hardening of the release composition does not occur, and has an effect of excellent adhesion between the substrate and the coating layer.
이하, 본 발명의 실시예를 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples of the present invention. These examples are only presented by way of example only to more specifically describe the present invention, it will be apparent to those skilled in the art that the scope of the present invention is not limited by these examples. .
본 발명에 있어서, 사용되는 폴리에스테르 기재필름은 종류의 제한이 없으나, 종래에 실리콘 이형코팅의 기재필름으로 알려져 있는 공지의 것을 사용할 수 있다. 본 발명에서는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지를 중심으로 설명하나 본 발명의 실리콘 이형 조성물의 기재필름은 폴리에스테르 시트 또는 필름에 한정되지 않는다.In the present invention, there is no limitation on the type of polyester base film used, but conventionally known ones known as base films of silicone release coatings can be used. In the present invention, the description will focus on polyester-based resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate and the like, but the base film of the silicone release composition of the present invention is not limited to a polyester sheet or a film.
상기 기재필름을 구성하는 폴리에스테르는, 방향족 디카르복시산과 지방족 글리콜을 중축합시켜 얻은 폴리에스테르를 가리킨다. 상기 방향족 디카르복시산으로는, 테레프탈산, 2,6-나프탈렌 디카르복시산 등을 들 수 있고, 상기 지방족 글리콜로서는, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 1,4-시클로헥산디메탄올 등을 들 수 있다. 대표적인 폴리에스테르로서는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌-2,6-나트탈렌디카르복실레이트(PEN) 등이 있다. 상기 폴리에스테르는 제 3성분을 함유한 공중합체도 가능하다.The polyester which comprises the said base film points out the polyester obtained by polycondensing aromatic dicarboxylic acid and aliphatic glycol. Examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid. Examples of the aliphatic glycol include ethylene glycol, diethylene glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and the like. Typical polyesters include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate (PEN), and the like. The polyester may also be a copolymer containing a third component.
상기 공중합 폴리에스테르의 디카르복시산 성분으로서는, 이소프탈산, 프탈산, 테레프탈산, 2,6-나프탈렌디카르복시산, 아디프산, 세바스산, 옥시카르복시산(예컨대, P-옥시벤조산 등)을 들 수 있고, 글리콜 성분으로서 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 네오펜틸글리콜 등을 들 수 있다. 이들의 디카르복시산 성분 및 글리콜 성분은 2종 이상을 병용하여도 좋다.Examples of the dicarboxylic acid component of the copolyester include isophthalic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, and oxycarboxylic acid (for example, P-oxybenzoic acid). Examples thereof include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, neopentylglycol and the like. These dicarboxylic acid components and glycol components may use 2 or more types together.
또한 본 발명에 따른 폴리에스테르 기재필름은 높은 투명성을 갖는 동시에 생산성, 가공성이 우수한 일축 또는 이축 배향 필름을 사용하는 것이 바람직하다.The polyester base film according to the present invention preferably uses a uniaxial or biaxially oriented film having high transparency and excellent productivity and processability.
본 발명에 사용하는 실리콘 조성물은 특별히 한정되지는 않지만, 본 발명에 사용되는 실리콘 이형 조성물 중 주쇄로 사용되는 폴리실록산은 부가형, 축합형 또는 자외선 경화형 등 어느 타입이라도 사용 할 수 있으나, 본 발명의 대표적인 분자구조는 다음의 화학식 1과 같다.The silicone composition for use in the present invention is not particularly limited, but polysiloxane used as a main chain in the silicone mold release composition used in the present invention may be any type such as addition type, condensation type or ultraviolet ray curing type, The structure is shown in the following formula (1).
[화학식 1] [Formula 1]
여기서, m과 n은 0 이상의 자연수이다.Where m and n are zero or more natural numbers.
상기 폴리실록산의 분자구조는 직쇄상 또는 분지상이라도 좋으며, 직쇄와 분지가 함께 있는 구조라도 좋다.The molecular structure of the polysiloxane may be linear or branched, or may be a structure in which both linear and branched molecules are present.
또한 본 발명에 따른 실리콘 이형 조성물 중 경화제로는 부가형, 축합형 또는 자외선 경화형 등 어느 타입이라도 사용 할 수 있으며, 본 발명의 대표적인 경화제인 하이드로전폴리실록산(Hydrogen polysiloxane)의 대표적인 분자구조는 다음의 화학식 2와 같다.In addition, as a curing agent in the silicone release composition according to the present invention, any type such as addition type, condensation type, or ultraviolet curing type may be used, and the representative molecular structure of Hydrogen polysiloxane, which is a representative curing agent of the present invention, is represented by the following Chemical Formula 2 Same as
[화학식 2] [Formula 2]
여기서, p와 q는 0 이상인 자연수이다. Here, p and q are natural numbers of zero or more.
상기 하이드로전폴리실록산은 직쇄상, 분지상 또는 환상의 어느 쪽이라도 좋으며, 이들의 혼합물도 좋다.The hydropolypolysiloxane may be linear, branched or cyclic, or a mixture thereof.
또한 본 발명에 따른 실리콘 이형 조성물에는 경화 타입에 따라 개시제 또는 촉매가 첨가될 수 있으며, 본 발명에서 대표적으로 사용되는 물질은 백금계 촉매가 사용된다. 또한 본 발명에 따른 실리콘 이형 조성물에는 이형층의 특성을 조정하기 위해 본 발명의 요지를 훼손하지 않는 범위에서, 반응 조정제, 밀착강화제, 박리콘트롤제 등의 보조제를 병용해도 좋다.In addition, an initiator or a catalyst may be added to the silicone release composition according to the present invention, and a material based on the present invention may be a platinum-based catalyst. In order to adjust the properties of the release layer, auxiliary agents such as a reaction modifier, adhesion enhancer and peel control agent may be used in combination in the silicone release composition according to the present invention so long as the gist of the present invention is not impaired.
본 발명에 따른 상기 대전방지 실리콘 이형필름에는 대전방지 성능을 부여하기 위하여 탄소나노튜브가 사용되는 것을 특징으로 한다. 상기 탄소 나노튜브는 일반적으로 사용되는 단일벽(single wall), 이중벽(double wall), 다중(multi wall)의 구조, 탄소 구조 및 그 혼합물이 사용된다.The antistatic silicon release film according to the present invention is characterized in that carbon nanotubes are used to give antistatic performance. The carbon nanotubes are generally used single wall, double wall, multi-wall structure, carbon structure and mixtures thereof.
상기 탄소 나노튜브는 직경이 1 내지 100 나노미터, 길이가 1 내지 500 마이크로미터인 것을 사용하는 것이 바람직하다. 탄소나노튜브의 직경과 길이가 상기의 범위를 벗어나는 경우 분산성이나 투명성이 좋지 않다는 단점이 있다.The carbon nanotubes preferably have a diameter of 1 to 100 nanometers and a length of 1 to 500 microns. If the diameter and length of the carbon nanotubes are out of the above range, there is a disadvantage in that dispersibility or transparency is not good.
본 발명에 사용되는 상기 탄소나노튜브는 단독 혹은 바인더 수지에 혼합하여 사용할 수 있으며, 본 발명에 사용되는 바인더수지로는 에틸렌계 불포화 작용기를 가지는 화합물이면 특별한 제한은 없으나, 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 프로피온산 변성 디펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥시드 변성 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로피온산 변성 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등의 메타아크릴레이트계 수지 중에 1종 이상의 경화형 수지에서 선택된다.The carbon nanotubes used in the present invention may be used alone or mixed with a binder resin, and the binder resin used in the present invention is not particularly limited as long as the compound has an ethylenically unsaturated functional group, but is not limited to trimetholpropane tree (meth). ) Acrylic acid, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, propionic acid modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimetholpropane tree (meth) 1 type in methacrylate resins, such as an acrylate, a propionic acid modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and a caprolactone modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate It is selected from the above curable resins.
본 발명의 제1요지에 따른 대전방지 실리콘 이형필름에 대해 설명한다.An antistatic silicone release film according to the first aspect of the present invention will be described.
본 발명에 따른 상기 대전방지 실리콘 이형 필름은 상기 폴리에스테르 기재필름의 적어도 일면에 상기 카본나노튜브를 포함한 실리콘 이형 조성물로 도포된 도포층을 포함하는 것을 특징으로 한다.The antistatic silicone release film according to the present invention is characterized in that it comprises an application layer coated with a silicone release composition containing the carbon nanotubes on at least one surface of the polyester base film.
상기 카본나노튜브를 포함한 실리콘 이형 조성물에서의 카본나노튜브의 함량은 실리콘 이형 조성물 중 폴리실록산 100 중량부에 대하여 1 ~ 10 중량부 사용된다. 카본나노튜브 함량이 1중량부 미만일 경우는 충분한 대전방지특성이 나오지 않으며, 10중량부 이상일 경우는 이형특성이 나빠지며, 광투과율이 낮아지는 문제점이 발생한다.The content of the carbon nanotubes in the silicone release composition including the carbon nanotubes is 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polysiloxane in the silicone release composition. If the carbon nanotube content is less than 1 part by weight, sufficient antistatic properties do not come out, and if more than 10 parts by weight, the release property is worse, there is a problem that the light transmittance is lowered.
상기 카본나노튜브를 포함한 실리콘 이형 조성물 전체 코팅 조성물 중량에 대해 1 ~ 5 중량%의 고형분이 포함되도록 희석한 후 상기 폴리에스테르 기재필름에 코팅한다. 상기 코팅 조성물에 사용되는 용매는 본 발명의 고형분을 분산시켜 폴리에스테르 기재필름 상에 또는 대전방지 폴리에스테르 기재필름 상에 도포시킬 수 있는 것이면 종류의 제한은 없다. 상기 카본나노튜브를 포함한 실리콘 이형 조성물의 고형분 함량이 1중량% 미만일 경우 대전방지 특성이 발현되지 않거나, 이형필름 제작 후 박리시 뜯김 현상의 문제점이 발생될 수 있으며, 5 중량% 를 초과할 경우 필름간의 블로킹 현상이 발생되며, 코팅 조성물의 기재 밀착성이 나빠져 실리콘 전사 문제를 유발할 수 있기 때문이다.The silicone release composition including the carbon nanotubes is diluted to include 1 to 5% by weight of solids based on the total weight of the coating composition and then coated on the polyester base film. The solvent used in the coating composition is not limited as long as it is dispersible in the solid content of the present invention and can be applied on a polyester base film or on an antistatic polyester base film. If the solid content of the silicone release composition including the carbon nanotube is less than 1% by weight, the antistatic property may not be expressed or a problem may occur when peeling after peeling off the release film, and when the content exceeds 5% by weight This is because a blocking phenomenon of the liver occurs, and the substrate adhesion of the coating composition may be deteriorated, which may cause a silicon transfer problem.
다음으로 본 발명의 제2요지에 따른 대전방지 실리콘 이형필름에 대해 설명한다.Next, the antistatic silicone release film according to the second aspect of the present invention will be described.
본 발명에 따른 상기 대전방지 실리콘 이형 필름은 상기 폴리에스테르 기재필름의 적어도 일면에 카본나노튜브 조성물과 실리콘 이형 조성물이 순차적으로 도포된 도포층을 포함하는 것을 특징으로 한다.The antistatic silicone release film according to the invention is characterized in that it comprises a coating layer sequentially applied to the carbon nanotube composition and the silicone release composition on at least one surface of the polyester base film.
상기 카본나노튜브 조성물에서의 카본나노튜브 함량은 바인더수지 100 중량부에 대하여 2 ~ 10 중량부 사용하는 것이 바람직하다. 상기 카본나노튜브 함량이 2중량부 미만일 경우는 충분한 대전방지특성이 나오지 않으며, 10중량부를 초과할 경우에는 광투과율이 낮아지는 문제점이 발생한다. 또한 상기 실리콘 이형 조성물은 전체 실리콘 이형 코팅 조성물 중량에 대해 1 ~ 5 중량%의 고형분이 포함되도록 희석한 후 상기 폴리에스테르 기재필름에 코팅한다. 상기 코팅 조성물에 사용되는 용매는 본 발명의 고형분을 분산시켜 폴리에스테르 기재필름 상에 또는 대전방지 폴리에스테르 기재필름 상에 도포시킬 수 있는 것이면 종류의 제한은 없다. 상기 실리콘 이형 조성물의 고형분 함량이 1중량% 미만일 경우 이형필름 제작 후 박리시 뜯김 현상의 문제점이 발생될 수 있으며, 5 중량% 를 초과할 경우 필름간의 블로킹 현상이 발생되며, 코팅 조성물의 기재 밀착성이 나빠져 실리콘 전사 문제를 유발할 수 있기 때문이다.The carbon nanotube content in the carbon nanotube composition is preferably used 2 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder resin. If the carbon nanotube content is less than 2 parts by weight, the sufficient antistatic properties do not come out, if it exceeds 10 parts by weight there is a problem that the light transmittance is lowered. In addition, the silicone release composition is diluted to include 1 to 5% by weight of solids based on the total weight of the silicone release coating composition and then coated on the polyester base film. The solvent used in the coating composition is not limited as long as it is dispersible in the solid content of the present invention and can be applied on a polyester base film or on an antistatic polyester base film. When the solid content of the silicone release composition is less than 1% by weight, a problem of tearing may occur during peeling after release film production, and when the content exceeds 5% by weight, blocking phenomenon may occur between the films, and the adhesion of the substrate to the coating composition may occur. It can worsen and cause silicon transfer problems.
다음으로 본 발명의 제3요지에 따른 대전방지 실리콘 이형필름에 대해 설명한다.Next, the antistatic silicone release film according to the third aspect of the present invention will be described.
본 발명에 따른 상기 대전방지 실리콘 이형 필름은 상기 폴리에스테르 기재필름의 일면에 카본나노튜브 조성물이 도포된 도포층과 그 반대 면에 실리콘 이형 조성물이 도포된 도포층을 포함하는 것을 특징으로 한다.The antistatic silicone release film according to the present invention is characterized in that it comprises a coating layer coated with a carbon nanotube composition on one surface of the polyester base film and a silicone release composition on the opposite side.
상기 카본나노튜브 조성물에서의 카본나노튜브 함량은 바인더수지 100 중량부에 대하여 1 ~ 10 중량부 사용된다. 카본나노튜브 함량이 1중량부 미만일 경우는 충분한 대전방지특성이 나오지 않으며, 10중량부를 초과할 경우에는 광투과율이 낮아지는 문제점이 발생한다. 또한 상기 실리콘 이형 조성물은 전체 실리콘 이형 코팅 조성물 중량에 대해 1 ~ 5 중량%의 고형분이 포함되도록 희석한 후 상기 폴리에스테르 기재필름에 코팅한다. 상기 코팅 조성물에 사용되는 용매는 본 발명의 고형분을 분산시켜 폴리에스테르 기재필름상 또는 대전방지 폴리에스테르 기재필름 상에 도포시킬 수 있는 것이면 종류의 제한은 없다. 상기 실리콘 이형 조성물의 고형분 함량이 1중량% 미만일 경우 이형필름 제작 후 박리시 뜯김 현상의 문제점이 발생될 수 있으며, 5 중량%를 초과할 경우 필름간의 블로킹 현상이 발생되며, 코팅 조성물의 기재 밀착성이 나빠져 실리콘 전사 문제를 유발할 수 있기 때문이다.Carbon nanotube content in the carbon nanotube composition is used 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder resin. If the carbon nanotube content is less than 1 part by weight, sufficient antistatic properties do not come out, and if it exceeds 10 parts by weight, there is a problem that the light transmittance is lowered. In addition, the silicone release composition is diluted to include 1 to 5% by weight of solids based on the total weight of the silicone release coating composition and then coated on the polyester base film. The solvent used in the coating composition is not limited as long as it can be applied to a polyester base film or an antistatic polyester base film by dispersing the solid content of the present invention. If the solid content of the silicone release composition is less than 1% by weight, a problem of tearing may occur when peeling after the release film is produced, and when the content exceeds 5% by weight, a blocking phenomenon occurs between the films and the adhesion of the substrate to the coating composition. It can worsen and cause silicon transfer problems.
이하, 실시예와 비교예를 통하여 본 발명의 구성 및 그에 따른 효과를 보다 상세히 설명하고자 한다. 그러나, 본 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것이며, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the configuration and effects of the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. However, this embodiment is intended to illustrate the present invention in more detail, and the scope of the present invention is not limited to these examples.
[제1요지에 따른 발명의 실시예와 비교예][Examples of the Invention and Comparative Example According to the First Aspect]
[실시예 1-1]Example 1-1
폴리에스테르 기재필름의 코로나 방전 처리된 면에 다이메틸폴리실록산 100 중량부에 대하여 카본나노튜브(Nissan Chemical Industies, CT-001M) 1중량부, 하이드로전폴리실록산 1중량부, 백금촉매 1중량부를 toluene:mek = 1:1용매에 희석하여 전체 고형분 함량이 2 중량%인 카본나노튜브를 포함한 실리콘 이형 조성물을 제조하여 10 미크론 두께로 도포하였다. 도포 후 130℃ 열풍 건조기에서 10초간 열처리하여 대전방지 실리콘 이형필름을 제조하였다.1 part by weight of carbon nanotubes (Nissan Chemical Industies, CT-001M), 1 part by weight of hydropolysiloxane, and 1 part by weight of platinum catalyst, on 100 parts by weight of dimethylpolysiloxane on the corona discharge-treated surface of the polyester base film. = 1: diluted in a solvent to prepare a silicone release composition containing carbon nanotubes with a total solids content of 2% by weight and was applied to a thickness of 10 microns. After coating, the film was heat-treated for 10 seconds in a hot air drier at 130 占 폚 to prepare an antistatic silicone release film.
[실시예 1-2][Example 1-2]
카본나노튜브를 5 중량부 첨가하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1-1과 동일한 방법으로 수행하여 대전 방지 실리콘 이형필름을 제조하였다.Except for adding 5 parts by weight of carbon nanotubes, the antistatic silicon release film was prepared in the same manner as in Example 1-1.
[실시예 1-3][Example 1-3]
카본나노튜브를 10 중량부 첨가하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1-1과 동일한 방법으로 수행하여 대전방지 실리콘 이형필름을 제조하였다.Except for adding 10 parts by weight of carbon nanotubes, the antistatic silicon release film was prepared in the same manner as in Example 1-1.
[비교예 1-1][Comparative Example 1-1]
카본나노튜브를 0.5 중량부 첨가하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1-1과 동일한 방법으로 수행하여 대전방지 실리콘 이형필름을 제조하였다.Except for adding 0.5 parts by weight of carbon nanotubes, the antistatic silicon release film was prepared in the same manner as in Example 1-1.
[비교예 1-2]Comparative Example 1-2
카본나노튜브를 15 중량부 첨가하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1-1과 동일한 방법으로 수행하여 대전방지 실리콘 이형필름을 제조하였다.Except for adding 15 parts by weight of carbon nanotubes, the antistatic silicon release film was prepared in the same manner as in Example 1-1.
상기 실시예 1-1 내지 1-3 및 비교예 1-1 내지 1-2에 따라 얻어진 대전방지 실리콘 이형필름의 특성을 하기 실험예와 같이 측정하고 그 결과를 다음 표 1에 나타내었다.The properties of the antistatic silicone release films obtained according to Examples 1-1 to 1-3 and Comparative Examples 1-1 to 1-2 were measured as in the following Experimental Examples and the results are shown in Table 1 below.
(Ω/sq)Surface resistance
(Ω / sq)
(gf/in)Peel force
(gf / in)
(%)Residual adhesion rate
(%)
(%)Light transmittance
(%)
(◎: 우수, ○: 양호, △: 보통, X: 미달)(?: Excellent,?: Good,?: Normal, X:
[제2요지에 따른 발명의 실시예와 비교예][Examples of the Invention and Comparative Example According to the Second Aspect]
[실시예 2-1]Example 2-1
폴리에스테르 기재필름의 코로나 방전 처리된 면에 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트 수지 100중량부에 대하여 카본나노튜브(Nissan Chemical Industies, CT-001M) 2중량부를 Toluene용매에 희석하여 전체 고형분 함량이 2 중량%인 카본나노튜브 조성물을 제조하여 10 미크론 두께로 도포하였다. 도포 후 130 ℃ 열풍 건조기에서 10초간 열처리하여 대전방지 도포층을 제조하였다.Total solid content by diluting 2 parts by weight of carbon nanotubes (Nissan Chemical Industies, CT-001M) in a toluene solvent with respect to 100 parts by weight of trimetholpropane tri (meth) acrylate resin on the corona discharge-treated surface of the polyester base film. This 2% by weight carbon nanotube composition was prepared and applied to a thickness of 10 microns. After the application, the coating was heat-treated for 10 seconds in a hot air dryer at 130 占 폚 to prepare an antistatic coating layer.
상기 제조된 대전방지 도포층 위에 다이메틸폴리실록산 100 중량부에 대하여, 하이드로전폴리실록산 1중량부, 백금촉매 1중량부를 toluene:mek = 1:1용매에 희석하여 전체 고형분 함량이 2 중량%인 실리콘 이형 조성물을 제조하여 10 미크론 두께로 도포하였다. 도포 후 130 ℃ 열풍 건조기에서 10초간 열처리하여 대전방지 실리콘 이형필름을 제조하였다.Silicone release agent having a total solid content of 2% by weight by diluting 1 part by weight of hydropolypolysiloxane and 1 part by weight of a platinum catalyst in a toluene: mek = 1: 1 solvent based on 100 parts by weight of dimethylpolysiloxane on the prepared antistatic coating layer. The composition was prepared and applied to a thickness of 10 microns. After coating, the film was heat-treated for 10 seconds in a hot air drier at 130 占 폚 to prepare an antistatic silicone release film.
[실시예 2-2] Example 2-2
카본나노튜브를 5 중량부 첨가하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 2-1과 동일한 방법으로 수행하여 대전 방지 실리콘 이형필름을 제조하였다.Except for adding 5 parts by weight of carbon nanotubes, the antistatic silicon release film was prepared in the same manner as in Example 2-1.
[실시예 2-3]Example 2-3
카본나노튜브를 10 중량부 첨가하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 2-1과 동일한 방법으로 수행하여 대전방지 실리콘 이형필름을 제조하였다.Except for adding 10 parts by weight of carbon nanotubes, the antistatic silicon release film was prepared in the same manner as in Example 2-1.
[비교예 2-1] Comparative Example 2-1
카본나노튜브를 0.5 중량부 첨가하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 2-1과 동일한 방법으로 수행하여 대전방지 실리콘 이형필름을 제조하였다.Except for adding 0.5 parts by weight of carbon nanotubes, the antistatic silicon release film was prepared in the same manner as in Example 2-1.
[비교예 2-2]Comparative Example 2-2
카본나노튜브를 15 중량부 첨가하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 2-1과 동일한 방법으로 수행하여 대전방지 실리콘 이형필름을 제조하였다.Except for adding 15 parts by weight of carbon nanotubes, the antistatic silicon release film was prepared in the same manner as in Example 2-1.
상기 실시예 2-1 내지 2-3 및 비교예 2-1 내지 2-2에 따라 얻어진 대전방지 실리콘 이형필름의 특성을 하기 실험예와 같이 측정하고 그 결과를 다음 표 2에 나타내었다.The properties of the antistatic silicone release films obtained according to Examples 2-1 to 2-3 and Comparative Examples 2-1 to 2-2 were measured as shown in the following Experimental Examples, and the results are shown in Table 2 below.
(Ω/sq)Surface resistance
(Ω / sq)
(gf/in)Peel force
(gf / in)
(%)Residual adhesion rate
(%)
(%)Light transmittance
(%)
(◎: 우수, ○: 양호, △: 보통, X: 미달)(?: Excellent,?: Good,?: Normal, X:
[제3요지에 따른 발명의 실시예와 비교예][Examples and Comparative Examples of the Invention According to the Third Aspect]
[실시예 3-1][Example 3-1]
폴리에스테르 기재필름의 코로나 방전 처리된 면에 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트 수지 100중량부에 대하여 카본나노튜브(Nissan Chemical Industies, CT-001M) 1중량부를 Toluene용매에 희석하여 전체 고형분 함량이 2 중량%인 카본나노튜브 조성물을 제조하여 10 미크론 두께로 도포하였다. 도포 후 130 ℃ 열풍 건조기에서 10초간 열처리하여 대전방지 도포층을 제조하였다.Total solid content by diluting 1 part by weight of carbon nanotubes (Nissan Chemical Industies, CT-001M) in a toluene solvent with respect to 100 parts by weight of trimetholpropane tri (meth) acrylate resin on the corona discharge-treated surface of the polyester base film. This 2% by weight carbon nanotube composition was prepared and applied to a thickness of 10 microns. After the application, the coating was heat-treated for 10 seconds in a hot air dryer at 130 占 폚 to prepare an antistatic coating layer.
제조한 대전방지 도포층의 반대면에 다이메틸폴리실록산 100 중량부에 대하여, 하이드로전폴리실록산 1중량부, 백금촉매 1중량부를 toluene:mek = 1:1용매에 희석하여 전체 고형분 함량이 2 중량%인 실리콘 이형 조성물을 제조하여 10 미크론 두께로 도포하였다. 도포 후 130 ℃ 열풍 건조기에서 10초간 열처리하여 대전방지 실리콘 이형필름을 제조하였다.To 100 parts by weight of dimethylpolysiloxane on the opposite side of the prepared antistatic coating layer, 1 part by weight of hydropolysiloxane and 1 part by weight of platinum catalyst were diluted in toluene: mek = 1: 1 solvent to have a total solid content of 2% by weight. Silicone release compositions were prepared and applied to a thickness of 10 microns. After coating, the film was heat-treated for 10 seconds in a hot air drier at 130 占 폚 to prepare an antistatic silicone release film.
[실시예 3-2][Example 3-2]
카본나노튜브를 5 중량부 첨가하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 3-1과 동일한 방법으로 수행하여 대전 방지 실리콘 이형필름을 제조하였다.Except for adding 5 parts by weight of carbon nanotubes, the antistatic silicon release film was prepared in the same manner as in Example 3-1.
[실시예 3-3][Example 3-3]
카본나노튜브를 10 중량부 첨가하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 3-1과 동일한 방법으로 수행하여 대전방지 실리콘 이형필름을 제조하였다.Except for adding 10 parts by weight of carbon nanotubes, the antistatic silicon release film was prepared in the same manner as in Example 3-1.
[비교예 3-1] Comparative Example 3-1
카본나노튜브를 0.5 중량부 첨가하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 3-1과 동일한 방법으로 수행하여 대전방지 실리콘 이형필름을 제조하였다.Except for adding 0.5 parts by weight of carbon nanotubes, an antistatic silicone release film was prepared in the same manner as in Example 3-1.
[비교예 3-2]Comparative Example 3-2
카본나노튜브를 15 중량부 첨가하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 3-1과 동일한 방법으로 수행하여 대전방지 실리콘 이형필름을 제조하였다.Except for adding 15 parts by weight of carbon nanotubes, an antistatic silicone release film was prepared in the same manner as in Example 3-1.
상기 실시예 3-1 내지 3-3 및 비교예 3-1 내지 3-2에 따라 얻어진 대전방지 실리콘 이형필름의 특성을 하기 실험예와 같이 측정하고 그 결과를 다음 표 3에 나타내었다.The properties of the antistatic silicone release film obtained according to Examples 3-1 to 3-3 and Comparative Examples 3-1 to 3-2 were measured as in the following Experimental Examples, and the results are shown in Table 3 below.
(Ω/sq)Surface resistance
(Ω / sq)
(gf/in)Peel force
(gf / in)
(%)Residual adhesion rate
(%)
(%)Light transmittance
(%)
(◎: 우수, ○: 양호, △: 보통, X: 미달)(?: Excellent,?: Good,?: Normal, X:
상기 표 1 내지 표 3에서 확인할 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예 1-1 ~ 1-3, 2-1 ~ 2-3, 3-1 ~ 3-3은 우수한 대전방지 기능과 안정된 이형 특성을 함께 보유함을 확인할 수 있다. 그러나 비교예 1-1, 2-1, 3-1과 같이 카본나노튜브의 함량이 미달일 경우 대전방지 기능이 발현되지 않았으며, 비교예 1-2, 2-2, 3-2과 같이 카본나노튜브의 함량이 초과되었을 경우 광투과율이 낮아지고, 대전방지층과 기재와의 부착력이 낮아지는 현상을 확인할 수 있다. As can be seen in Table 1 to Table 3, Examples 1-1 to 1-3, 2-1 to 2-3, 3-1 to 3-3 according to the present invention has excellent antistatic function and stable release You can see that they have properties together. However, when the content of the carbon nanotubes were not as low as in Comparative Examples 1-1, 2-1, and 3-1, the antistatic function was not expressed. As in Comparative Examples 1-2, 2-2, 3-2, carbon When the content of the nanotubes is exceeded, the light transmittance is lowered, and the adhesion between the antistatic layer and the substrate can be confirmed.
상기 실시예들과 비교예들에 따른 대전방지 실리콘 이형필름을 사용하여 물리적 특성을 측정한 실험예는 다음과 같다.Experimental examples in which the physical properties were measured using the antistatic silicone release films according to the Examples and Comparative Examples are as follows.
[실험예][Experimental Example]
[실험예 1 : 표면저항 측정][Experimental Example 1: Measurement of surface resistance]
대전방지 측정기(미쯔비시(주): 모델명 MCP-T600)를 이용하여 온도 23 ℃, 습도 50 %RH의 환경 하에 시료를 설치한 후 JIS K7194에 의거하여 대전방지 도포면의 표면저항을 측정하였다.The surface resistance of the antistatic coated surface was measured in accordance with JIS K7194 after the sample was installed in an environment of temperature 23 ° C. and humidity 50% RH using an antistatic measuring instrument (Mitsubishi Co., Ltd .: Model name MCP-T600).
[실험예 2 : 박리력 측정][Experimental Example 2: Peeling force measurement]
- 시료 준비:Sample preparation:
① 실리콘 코팅된 측정용 샘플을 25℃, 65%RH 에서 24시간 보존① Preservation of silicon-coated measurement samples at 25 ° C and 65% RH for 24 hours
② 실리콘 코팅 면에 표준 점착테이프(TESA7475)를 붙인 후 이 샘플을 상온(25℃) 및 고온(50℃) 조건에서 20g/cm2의 하중으로 24시간 압착 후 물성 측정(2) After attaching a standard adhesive tape (TESA7475) to the silicon coated surface, the sample was pressed for 24 hours under a load of 20 g / cm 2 at room temperature (25 ° C.) and high temperature (50 ° C.)
- 측정 기기: chem-instrument AR-1000Measuring instrument: chem-instrument AR-1000
- 측정 방법:- How to measure:
① 180°박리각도, 박리속도 12 in/분① 180 ° peeling angle, peeling speed 12 in / min
② 샘플 크기 500mm x 1500mm, 박리력 측정크기 250㎜ x 1500mm ② Sample size 500mm x 1500mm, Peel force measuring size 250mm x 1500mm
- 측정 데이터: 박리력 단위는 gf/in이며 측정값은 5회 측정하여 평균값 산출-Measurement data: Peel force unit is gf / in and the average value is calculated by measuring 5 times
[실험예 3 : 잔류접착률 측정][Experimental Example 3: Measurement of residual adhesion rate]
- 시료 준비:Sample preparation:
① 실리콘 코팅된 측정용 샘플을 25℃, 65%RH 에서 24시간 보존① Preservation of silicon-coated measurement samples at 25 ° C and 65% RH for 24 hours
② 실리콘 코팅면에 표준 점착테이프(Nitto 31B)를 붙인 후 이 샘플을 상온에서 20g/cm2의 하중으로 24시간 압착② Attach standard adhesive tape (Nitto 31B) to the silicon coated surface and compress this sample for 24 hours at 20g / cm 2 at room temperature.
③ 상기 실리콘 면에 접착했던 점착 테이프를 오염 없이 수거 후 표면이 평탄하고 깨끗한PET FILM면에 접착한 후 2㎏의 테이프 롤러(ASTMD-1000-55T)로 1회 왕복압착 시킨다.③ After collecting the adhesive tape adhered to the silicon surface without contamination, the surface is adhered to the flat and clean PET FILM surface, and then reciprocally crimped once with a 2kg tape roller (ASTMD-1000-55T).
④ 박리력 측정④ Peel force measurement
- 측정 기기: cheminstrument AR-1000Measuring instrument: cheminstrument AR-1000
- 측정 방법:- How to measure:
① 180°박리각도, 박리속도 12 in/분① 180 ° peeling angle, peeling speed 12 in / min
② 샘플 크기 500mm x 1500mm, 박리력 측정크기 250㎜ x 1500mm② Sample size 500mm x 1500mm, Peel force measuring size 250mm x 1500mm
- 데이터- data
[실험예 4 : 광투과율 측정]Experimental Example 4: Measurement of Light Transmittance
광투과율 측정기(NIPPON DENSHOKU: 모델명 NDH 5000)를 이용하여 온도 23 ℃, 습도 50 %RH의 환경 하에 시료를 설치한 후 ASTM D 1003에 의거하여 광투과율을 측정하였다.Using a light transmittance meter (NIPPON DENSHOKU: model name NDH 5000), the sample was installed in an environment of temperature 23 ℃, humidity 50% RH and then measured light transmittance according to ASTM D 1003.
[실험예 5 : 대전방지층의 부착력 측정]Experimental Example 5 Measurement of Adhesion of Antistatic Layer
카본나노튜브 도막층과 기재필름의 도막 접착력을 측정하기 위하여, 카본나노튜브 도포면에 크로스 커터(cross cutter)를 사용하여 커팅을 하고 오피피(OPP: oriented polypropylene) 테이프를 붙인 후, 테이프를 박리하여 도포층이 박리되는지 여부를 관찰하고, 박리가 없으면 "우수"로 표기하였다.In order to measure the adhesion between the carbon nanotube coating layer and the base film, the carbon nanotube coating surface is cut using a cross cutter, affixed OPP (oriented polypropylene) tape, and then the tape is peeled off. It was observed whether or not the coating layer was peeled off, and if no peeling occurred, it was designated as "excellent".
본 명세서에서는 본 발명자들이 수행한 다양한 실시예 가운데 몇 개의 예만을 들어 설명하는 것이나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정하거나 제한되지 않고, 당업자에 의해 변형되어 다양하게 실시될 수 있음은 물론이다.
It is to be understood that the present invention is not limited to the above embodiments and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention.
Claims (12)
폴리에스테르 기재필름과,
상기 폴리에스테르 기재필름의 적어도 일면에 카본나노튜브를 포함한 실리콘 이형 조성물로서, 폴리실록산 100 중량부에 대하여 카본나노튜브 1 ~ 10 중량부를 포함하되, 고형분 함량이 1 ~ 5중량%인 실리콘 이형 조성물로 도포된 도포층을 포함하고 상기 도포층의 잔류접착률은 80% 내지 100%인 것을 특징으로 하는, 대전방지 실리콘 이형필름. In the antistatic silicone release film,
Polyester base film,
Silicone release composition containing carbon nanotubes on at least one surface of the polyester base film, including 1 to 10 parts by weight of carbon nanotubes with respect to 100 parts by weight of polysiloxane, the solid content of 1 to 5% by weight coated with a silicone release composition An antistatic silicone release film comprising a coated layer, characterized in that the residual adhesion of the coating layer is 80% to 100%.
상기 도포층의 표면저항(Ω/sq)은 0 내지 1010이고 박리력은 0 내지 30gf/in인 것을 특징으로 하는, 대전방지 실리콘 이형필름. The method of claim 1,
Surface resistance (Ω / sq) of the coating layer is 0 to 10 10 and the peel force is characterized in that 0 to 30 gf / in, antistatic silicone release film.
상기 대전방지 실리콘 이형필름의 광투과율은 80% 내지 100%인 것을 특징으로 하는, 대전방지 실리콘 이형필름.The method of claim 1,
Antistatic silicone release film, characterized in that the light transmittance of the antistatic silicone release film is 80% to 100%.
폴리에스테르 기재필름과,
상기 폴리에스테르 기재필름의 적어도 일면에 카본나노튜브 조성물로서, 바인더수지 100 중량부에 대하여 카본나노튜브 2 ~ 10 중량부를 포함하는 카본나노튜브 조성물과 실리콘 이형 조성물로서, 고형분 함량이 1 ~ 5중량%인 실리콘 이형 조성물이 순차적으로 도포된 도포층을 포함하고 상기 실리콘 이형 조성물로 도포된 도포층의 잔류접착률은 80% 내지 100%인 것을 특징으로 하는, 대전방지 실리콘 이형필름. In the antistatic silicone release film,
Polyester base film,
As a carbon nanotube composition on at least one surface of the polyester base film, a carbon nanotube composition and a silicone release composition comprising 2 to 10 parts by weight of carbon nanotubes with respect to 100 parts by weight of the binder resin, a solid content of 1 to 5% by weight An antistatic silicone release film, comprising a coating layer applied to the phosphorus silicone release composition sequentially and the residual adhesion rate of the coating layer applied with the silicone release composition is 80% to 100%.
상기 도포층의 표면저항(Ω/sq)은 0 내지 1010이고 박리력은 0 내지 30gf/in인 것을 특징으로 하는, 대전방지 실리콘 이형필름. The method of claim 5,
Surface resistance (Ω / sq) of the coating layer is 0 to 10 10 and the peel force is characterized in that 0 to 30 gf / in, antistatic silicone release film.
상기 대전방지 실리콘 이형필름의 광투과율은 80% 내지 100%인 것을 특징으로 하는, 대전방지 실리콘 이형필름.The method of claim 5,
Antistatic silicone release film, characterized in that the light transmittance of the antistatic silicone release film is 80% to 100%.
폴리에스테르 기재필름과,
상기 폴리에스테르 기재필름의 일면에 카본나노튜브 조성물로서, 바인더수지 100 중량부에 대하여 카본나노튜브 1 ~ 10 중량부를 포함하는 카본나노튜브 조성물로 도포된 도포층과 상기 폴리에스테르 기재필름의 타면에 실리콘 이형 조성물로서, 고형분 함량이 1 ~ 5중량%인 실리콘 이형 조성물로 도포된 도포층을 포함하고, 상기 실리콘 이형 조성물로 도포된 도포층의 잔류접착률은 80% 내지 100%인 것을 특징으로 하는, 대전방지 실리콘 이형필름. In the antistatic silicone release film,
Polyester base film,
The carbon nanotube composition on one surface of the polyester base film, the coating layer coated with a carbon nanotube composition comprising 1 to 10 parts by weight of carbon nanotubes with respect to 100 parts by weight of the binder resin and silicon on the other side of the polyester base film A release composition comprising a coating layer coated with a silicone release composition having a solid content of 1 to 5% by weight, wherein the residual adhesion rate of the coating layer applied with the silicone release composition is 80% to 100%, Antistatic Silicone Release Film.
상기 카본나노튜브 조성물로 도포된 도포층의 표면저항(Ω/sq)은 0 내지 1010이고,
상기 실리콘 이형 조성물로 도포된 도포층의 박리력은 0 내지 30gf/in인 것을 특징으로 하는, 대전방지 실리콘 이형필름. 10. The method of claim 9,
The surface resistance (Ω / sq) of the coating layer coated with the carbon nanotube composition is 0 to 10 10 ,
An antistatic silicone release film, characterized in that the peel force of the coating layer applied with the silicone release composition is 0 to 30gf / in.
상기 대전방지 실리콘 이형필름의 광투과율은 80% 내지 100%인 것을 특징으로 하는, 대전방지 실리콘 이형필름.
10. The method of claim 9,
Antistatic silicone release film, characterized in that the light transmittance of the antistatic silicone release film is 80% to 100%.
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