KR101216966B1 - Supporting apparatus for working of film - Google Patents

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Abstract

레이저를 이용하여 필름에 홀 가공을 할 때 레이저가 하부에 있는 워크테이블에 직접 조사되는 것을 막아 워크테이블을 보호하면서 필름 하부면과의 접촉 면적을 최소화하여 필름 가공이 효과적으로 수행되도록 한 필름 가공용 받침장치가 소개된다.
상기의 장치는, 레이저 가공이 필요한 필름(F)과 워크테이블(5) 사이에 배치되어 가공시 레이저에 의해 상기 워크테이블(5)이 손상되는 것을 방지하면서 상기 필름(F)을 하부에서 받치는 베이스부(100);
상기 필름(F)을 지지하면서 레이저가 상기 워크테이블(5)에 닿는 것을 방지하고, 상기 필름(F) 하부면과의 접촉 면적을 최소화하여 상기 필름(F) 가공이 수행되도록, 하나의 체눈(210)을 형성하는 주변에 있는 체(220)의 단면이 상부로 갈수록 좁아지는 구조로 이루어진 그물 형태의 메쉬부(200); 를 포함하고,
레이저 가공시 상기 필름(F)이 상기 베이스부(100)의 상면에 밀착되어 정밀도를 높이도록, 상기 베이스부(100)의 가장자리 및 상기 메쉬부(200)에서 체(220)가 서로 교차하는 지점 각각에 진공장치(30)와 연통 되는 다수개의 진공홀(120)이 형성된 것을 특징으로 한다.
Supporting device for film processing to prevent film from being irradiated directly to the work table at the bottom when hole is made by using laser to minimize the contact area with the lower surface of the film while protecting the work table. Is introduced.
The above device is arranged between the film F and the work table 5, which requires laser processing, to support the film F from below while preventing the work table 5 from being damaged by the laser during processing. Part 100;
One body (B) is supported to prevent the laser from contacting the work table 5 while supporting the film F, and to minimize the contact area with the lower surface of the film F so that the film F processing is performed. A mesh-shaped mesh part 200 formed of a structure in which a cross section of the sieve 220 in the periphery forming the 210 becomes narrower toward the top; Including,
The point where the sieve 220 intersects at the edge of the base part 100 and the mesh part 200 so that the film F is in close contact with the upper surface of the base part 100 during laser processing to increase accuracy. Each of the plurality of vacuum holes 120 in communication with the vacuum device 30 is formed.

Description

필름 가공용 받침장치{SUPPORTING APPARATUS FOR WORKING OF FILM}Supporting device for film processing {SUPPORTING APPARATUS FOR WORKING OF FILM}

본 발명은 필름 가공용 받침장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 레이저를 이용하여 필름에 홀 가공을 할 때 레이저가 하부에 있는 워크테이블에 직접 조사되는 것을 막아 워크테이블을 보호하면서 필름 하부면과의 접촉 면적을 최소화하여 필름 가공이 효과적으로 수행되도록 한 필름 가공용 받침장치에 관한 것이다.The present invention relates to a film processing support device, and more particularly, when a hole is made into a film by using a laser, the film is contacted with the lower surface of the film while protecting the work table by preventing the laser from being directly irradiated to the work table below. It relates to a film processing support for minimizing the area so that film processing is performed effectively.

인쇄회로기판(PCB, Printed Circuit Board)이란, 여러 종류의 많은 부품을 페놀 수지 또는 에폭시수지로 된 평판 위에 밀집탑재하고 각 부품 간을 연결하는 회로를 수지평판의 표면에 밀집 단축하여 고정한 필름 형태의 회로기판이다.A printed circuit board (PCB) is a film type in which many parts of various types are packed on a flat plate made of phenol resin or epoxy resin and the circuits connecting the parts are compacted and fixed on the surface of the resin flat plate. It is a circuit board.

인쇄회로기판은 페놀수지 절연판 또는 에폭시수지 절연판 등의 한쪽 면에 구리 등의 박판을 부착시킨 다음 회로의 배선패턴에 따라 식각(선상의 회로만 남기고 부식시켜 제거함)하여 필요한 회로를 구성하고 부품들을 부착 탑재시키기 위한 구멍을 천공하여 제작되는데, 배선회로 면의 수에 따라 단면기판, 양면기판, 다층기판 등으로 분류되며 층수가 많을수록 고정밀 제품에 사용된다. Printed circuit board is made by attaching thin plate such as copper to one side of phenol resin insulation board or epoxy resin insulation board and then etching according to the wiring pattern of the circuit (corroding and removing only the circuit on the wire) to compose the necessary circuit and attach the parts. It is manufactured by drilling holes for mounting, and it is classified into single-sided board, double-sided board, and multi-layered board according to the number of wiring circuit surface, and the number of layers is used for high precision products.

단면 인쇄회로기판은 주로 페놀원판을 기판으로 사용하며 라디오, 전화기, 간단한 계측기 등 회로구성이 비교적 복잡하지 않은 제품에 사용되고 양면 인쇄회로기판은 주로 에폭시 수지로 만든 원판을 사용하며 TV, VTR, 팩시밀리 등 비교적 회로가 복잡한 제품에 사용된다. 이 밖에 다층 인쇄회로기판은 32비트 이상의 컴퓨터, 전자교환기, 고성능 통신기기 등 고정밀 기기에 사용된다. Single-sided printed circuit boards mainly use phenolic discs as substrates, and are used for products with relatively complicated circuits such as radios, telephones, and simple measuring instruments. Double-sided printed circuit boards mainly use epoxy resin discs. Used for products with relatively complex circuits. In addition, multilayer printed circuit boards are used in high-precision devices such as 32-bit or more computers, electronic switchboards, and high-performance communication devices.

한편, 자동화기기, 캠코더 등 회로기판이 움직여야 하는 경우와 부품의 삽입 및 내부 구성시 회로기판의 굴곡을 요하는 경우에는 설계의 변경 없이 기판 자체의 유연성으로 대응할 수 있도록 만든 연성기판(Flexible PCB)이 사용된다.On the other hand, in the case where circuit boards such as automation devices and camcorders need to be moved, and when the circuit boards are required to be inserted and internally configured, flexible boards made to respond to the flexibility of the boards themselves without changing the design may be used. Used.

최근에는 전자기기가 소형화, 복잡화됨에 따라 연성기판(FPCB)이 많이 사용되고 그 연성기판에 정밀한 홀의 가공이 필요하게 되는바, 일반적으로 연성기판은 동박적층판(CCL, Copper Clad Laminate)이 이용되며, 여기에는 상술한 바와 같이 단면을 동박으로 입힌 것과, 양면 모두 동박으로 입힌 것이 사용된다. Recently, as electronic devices become smaller and more complicated, FPCBs are used a lot and precise hole processing is required on the flexible substrates. In general, flexible substrates are made of copper clad laminate (CCL). As mentioned above, what coated the cross section with copper foil and what coated both surfaces with copper foil are used.

홀은 일반적으로 비아 홀(Micro Via Hole)이라고 하는데, 비아 홀은 기판을 관통하는 홀을 뜻하는 것으로서, 부품을 삽입하여 도체와 도체간의 연결접속을 위한 홀과 부품을 삽입하지 않고 다른 층간의 연결접속을 위한 홀이 있다.
A hole is generally called a micro via hole. A via hole is a hole that penetrates a substrate. The hole is connected to another layer without inserting a hole and a part for connecting the conductor and the conductor by inserting a part. There is a hole for connection.

종래에는 상기 인쇄회로기판(대표적으로 CCL)과 같은 박판의 필름에 홀을 가공하기 위한 장치로 도1에 도시된 바와 같은 필름 가공용 장치가 제시된다. Conventionally, an apparatus for processing a film as shown in FIG. 1 is proposed as an apparatus for processing holes in a thin film such as a printed circuit board (typically CCL).

도1을 참조하여 종래 필름 가공용 장치를 살펴보면, 필름에 홀을 가공하기 위한 레이저유닛(1)이 마련되고, 그 레이저유닛(1)의 일측에는 필름을 롤 형태로 감아두었다가 가공속도에 맞추어 감긴 필름을 일정속도로 풀어주는 권출롤(2)이 설치된다.Referring to FIG. 1, a conventional film processing apparatus is provided with a laser unit 1 for processing holes in a film, and on one side of the laser unit 1, a film is wound in a roll shape and then wound to a processing speed. Unwinding roll (2) for releasing the at a constant speed is installed.

또한, 상기 레이저유닛(1)의 타측에는 상기 권출롤(2)에서 풀린 필름을 다시 롤 형태로 되감기 위한 권취롤(3)이 설치되는데, 상기 권취롤(3)은 상기 권출롤(2)과 마주보는 위치에서 소정의 거리를 두고 설치된다.In addition, a winding roll 3 for rewinding the film unwound from the unwinding roll 2 into a roll form is installed on the other side of the laser unit 1, wherein the unwinding roll 3 is provided with the unwinding roll 2. It is installed at a predetermined distance from the opposite position.

상기 권출롤(2)로부터 제공된 필름은 복수개의 이송롤러(4)를 통과하여 상기 권취롤(3)에 되감기게 되는데, 상기 이송롤러(4) 사이에는 상기 레이저유닛(1)이 상기 필름(F) 위에 홀을 가공할 때 그 필름을 받칠 수 있도록 하기 위한 워크테이블(5)이 마련된다.The film provided from the unwinding roll 2 passes through a plurality of feed rollers 4 and rewinds to the take-up roll 3, wherein the laser unit 1 is interposed between the feed rollers 4. A work table 5 is provided to support the film when machining the hole on the back plate).

따라서, 상기 워크테이블(5) 위에 놓인 필름(F) 위에서 상기 레이저유닛(1)이 레이저를 조사하여 필요한 홀을 가공하게 되고, 가공이 종료되면 상기 이송롤러가 작동되어 홀이 가공된 필름이 상기 권취롤(3)에 감기게 된다.Therefore, the laser unit 1 irradiates a laser on the film F placed on the work table 5 to process the necessary holes, and when the processing is completed, the feed roller is operated so that the film is processed. It is wound on the take-up roll (3).

그런데, 상기 필름(F)에 홀을 가공하기 위해서는 불가피하게 레이저(1)가 필름을 관통할 수 밖에 없는데, 이때 워크테이블(5)이 손상되는 문제가 발생한다.By the way, in order to process the hole in the film (F) inevitably the laser 1 must pass through the film, a problem occurs that the work table (5) is damaged.

즉, 레이저의 높은 에너지 밀도가 워크테이블(5)에 가해지면 워크테이블(5) 표면에 버(Burr)가 발생하여 평탄도에 악영향을 미치게 되는바, 워크테이블의 평탄도가 불량해지면 필름을 안정적으로 밀착시켜 주지 못해 필름 가공이 불량해지는 문제를 초래한다.That is, when the high energy density of the laser is applied to the worktable 5, a burr is generated on the surface of the worktable 5, which adversely affects the flatness. When the flatness of the worktable becomes poor, the film is stable. As a result, the film processing becomes poor due to poor adhesion.

참고로, 레이저를 이용하여 가공을 할 때 가공 부분에는 높은 열과 압력이 수반되어 필름에 큰 충격이 가해지게 되므로 워크테이블에서 필름을 안정적으로 밀착시켜 주어야 한다. 특히 레이저를 이용한 미세 가공시에는 가공영역이 매우 작아지므로 워크테이블의 평탄도가 무엇보다 중요하다.For reference, when processing by using a laser, the processed part is accompanied by high heat and pressure, so that a large impact is applied to the film, so the film must be stably in close contact with the worktable. Especially in the case of micro machining using laser, the work area becomes very small, so the flatness of the worktable is most important.

따라서, 종래에는 도2에 도시된 바와 같이 필름(F)과 워크테이블(5) 사이에 부직포(10)를 삽입하여 필름에 홀을 가공할 때 레이저가 워크테이블에 직접 닿는 것을 방지한다.Therefore, conventionally, as shown in FIG. 2, the nonwoven fabric 10 is inserted between the film F and the work table 5 to prevent the laser from directly contacting the work table when a hole is formed in the film.

그러나, 도2에 도시된 바와 같은 종래 가공 방법은 부직포를 사용하기 때문에 자체 탄성력과 울퉁불퉁한 표면으로 인해 평탄도 유지에 어려움이 있을 뿐만 아니라 가공시 발생하는 레이저 압력에 의해 필름이 출렁이는 유동을 하게 되어 가공품질이 저하되며 가공위치의 정확도가 저하되어 특히 미세가공에 사용하기 어려운 문제점이 있다.However, the conventional processing method as shown in FIG. 2 uses a nonwoven fabric, which makes it difficult to maintain flatness due to its elasticity and uneven surface, and also prevents the film from flowing due to the laser pressure generated during processing. The processing quality is lowered and the accuracy of the processing position is lowered, and thus there is a problem that it is particularly difficult to use for fine processing.

또한, 가공 후 부직포 역시 손상되기 때문에 부직포의 교환을 자주해야 하는 불편함이 있다.
In addition, since the nonwoven fabric is also damaged after processing, there is an inconvenience that frequent replacement of the nonwoven fabric.

본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 레이저를 이용한 필름 가공시 레이저가 기본적으로 워크테이블에 닿는 것을 방지하면서 필름이 유동하는 것을 방지하여 가공품질 및 정밀도를 높여 미세가공이 가능토록 하는데 있다.The present invention is to solve the problems as described above, the object is to prevent the flow of the film while preventing the laser basically touches the worktable when processing the film using the laser to increase the processing quality and precision to fine processing To make it possible.

상술한 바와 같은 목적을 해결하기 위하여, In order to solve the above object,

본 발명의 제1실시예는, 레이저 가공이 필요한 필름과 워크테이블 사이에 배치되어 가공시 레이저에 의해 상기 워크테이블이 손상되는 것을 방지하면서 상기 필름을 하부에서 받치는 베이스부; 상기 베이스부의 가장자리를 제외한 영역에 형성되어 상기 필름 하부를 그물 형태로 균일하게 받치는 메쉬부;를 포함하여 구성된 필름 가공용 받침장치를 제공한다.
상기 필름을 지지하면서 레이저가 상기 워크테이블에 닿는 것을 방지하고, 상기 필름 하부면과의 접촉 면적을 최소화하여 상기 필름가공이 수행되도록, 하나의 체눈을 형성하는 주변에 있는 체의 단면이 상부로 갈수록 좁아지는 구조로 이루어진 그물 형태의 메쉬부; 를 포함하고,
A first embodiment of the present invention, the base portion disposed between the film and the work table that needs laser processing to support the film from the bottom while preventing the work table from being damaged by the laser during processing; It is formed in an area excluding the edge of the base portion to provide a film processing receiving apparatus comprising a; a mesh portion to uniformly support the lower portion of the film in the form of a net.
As the cross section of the sieve surrounding the periphery forming one body goes upward, the laser beam is prevented from touching the worktable while supporting the film, and the film processing is performed by minimizing the contact area with the film lower surface. Mesh-shaped mesh portion made of a narrowing structure; Including,

레이저 가공시 상기 필름이 상기 베이스부의 상면에 밀착되어 정밀도를 높이도록, 상기 베이스부의 가장자리 및 상기 메쉬부에서 체가 서로 교차하는 지점 각각에 진공장치와 연통 되는 다수개의 진공홀이 형성된 것을 특징으로 한다.In the laser processing, a plurality of vacuum holes are formed in communication with the vacuum device at each of the points where the sieves intersect at the edges of the base and the mesh part so that the film is in close contact with the upper surface of the base part to increase accuracy.

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한편, 본 발명의 제2실시예는 레이저 가공이 필요한 필름과 워크테이블 사이에 배치되어 가공시 레이저에 의해 상기 워크테이블이 손상되는 것을 방지하면서 상기 필름을 하부에서 받치는 베이스부; 상기 베이스부의 가장자리를 제외한 영역에 상호 일정간격 이격되면서 상방으로 돌출 형성되어 상기 필름 하부를 균일하게 받치는 돌기부;를 포함하여 구성된 필름 가공용 받침장치를 제공한다.
상기 베이스부의 가장자리를 제외한 영역에 상호 일정간격 이격되면서 상방으로 돌출 형성되어 상기 필름하부를 균일하게 받치는 사각뿔 형태로 이루어진 돌기부; 를 포함하고,
레이저 가공시 발생 되는 이물질을 제거하도록, 상기 베이스부에는 상기 돌기부의 하부에 집진공간부가 형성되고, 상기 집진공간부의 일측에는 집진기와 연결되기 위한 집진니플이 마련되며, 상기 돌기부 사이에는 상기 집진공간부와 연통되는 집진홀이 형성되고,
On the other hand, the second embodiment of the present invention is disposed between the film and the work table that requires laser processing base portion for supporting the film from the bottom while preventing the work table from being damaged by the laser during processing; It provides a film processing receiving apparatus comprising a; protrusions formed to protrude upwards while being spaced apart from each other by a predetermined interval apart from the edge of the base portion to uniformly support the lower portion of the film.
A protrusion formed in a shape of a square pyramid protruding upward while being spaced apart from each other by a predetermined interval in an area except the edge of the base part to uniformly support the lower part of the film; Including,
In order to remove foreign substances generated during laser processing, a dust collecting space is formed at the lower portion of the protrusion, and a dust collecting nipple for connecting to a dust collector is provided at one side of the dust collecting space, and the dust collecting space is disposed between the protrusions. A dust collecting hole communicating with the

레이저 가공시 상기 필름이 상기 베이스부의 상면에 밀착되어 정밀도를 높이도록, 상기 베이스부의 가장자리에 진공장치와 연통 되는 다수개의 진공홀이 형성되고, 상기 돌기부에도 적어도 하나 이상에 상기 진공홀이 형성된 것을 특징으로 한다.In the laser processing, a plurality of vacuum holes communicating with a vacuum device are formed at the edge of the base part so that the film is in close contact with the upper surface of the base part to increase accuracy, and the vacuum hole is formed in at least one of the protrusions. It is done.

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또한 상기 집진홀은 대각선 방향으로 배치되는 돌기부 사이에 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the dust collecting hole is characterized in that formed between the projections arranged in a diagonal direction.

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본 발명에 의하면, 레이저를 이용하여 필름에 홀을 가공할 때 레이저에 의해 워크테이블이 손상되는 것을 방지할 수 있고 특히 가공시 발생하는 이물질 등을 효과적으로 집진하여 필름 가공품질 및 정밀도가 우수해지는 장점이 있다.According to the present invention, it is possible to prevent the work table from being damaged by the laser when machining holes in the film by using a laser, and in particular, by effectively collecting dust and other matters generated during processing, the film processing quality and precision are excellent. have.

도1은 종래 필름 가공용 장치를 나타낸 구성도,
도2는 부직포를 사용하는 종래 필름 가공 방법을 나타낸 단면도,
도3은 본 발명의 제1실시예를 나타낸 평면도,
도4는 본 발명의 제1실시예에 대한 측단면도,
도5는 본 발명의 제2실시예를 나타낸 평면도,
도6은 본 발명의 제2실시예에 대한 측단면도.
1 is a block diagram showing a conventional film processing apparatus,
2 is a cross-sectional view showing a conventional film processing method using a nonwoven fabric;
3 is a plan view showing a first embodiment of the present invention;
4 is a side cross-sectional view of a first embodiment of the present invention;
5 is a plan view showing a second embodiment of the present invention;
Figure 6 is a side sectional view of a second embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의거하여 상세하게 설명한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도3 및 도4는 본 발명의 제1실시예를 나타낸 평면도 및 측단면도인데, 먼저 도3 및 도4를 참조하여 본 발명에 따른 제1실시예에 대하여 설명한다.3 and 4 are plan and side cross-sectional views showing a first embodiment of the present invention. First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 and 4.

참고로 본 발명에 따른 제1실시예 및 제2실시예는 레이저 가공이 필요한 필름(F)과 워크테이블(5) 사이에 배치되어 가공시 레이저 빔이 워크테이블(5)에 닿지 않도록 하여 레이저에 의해 워크테이블(5)이 손상되는 것을 방지하면서 상기 필름(F)을 하부에서 받쳐 가공이 정밀하고 용이하게 수행될 수 있도록 돕는 필름 가공용 받침장치에 관한 것으로, 여기에서의 레이저 가공이란 레이저빔을 이용하여 필름에 홀을 가공하거나 필름을 절단하는 등의 가공을 뜻한다.For reference, the first and second embodiments according to the present invention are disposed between the film F and the work table 5 that require laser processing so that the laser beam does not touch the work table 5 during processing. The present invention relates to a supporting apparatus for film processing that prevents damage to the work table 5 by supporting the film F at the bottom thereof so that processing can be performed precisely and easily. The laser processing herein uses a laser beam. To process the hole in the film or to cut the film.

이러한 필름 가공용 받침장치는 본 발명에 따르면 2개의 실시예로 제시되는데, 먼저 본 발명의 제1실시예에 대하여 설명한다.According to the present invention, the supporting apparatus for film processing is presented in two embodiments, which will first be described with reference to the first embodiment of the present invention.

본 발명의 제1실시예는 크게 베이스부(100)와, 메쉬부(200)를 포함하여 이루어진다.The first embodiment of the present invention largely comprises a base portion 100, and a mesh portion 200.

상기 베이스부(100)는 본 발명의 전체적인 외관을 이루는 부분으로서 워크테이블(5) 위에 설치되어 베이스부(100)의 상부면이 상기 필름(F)의 하부면에 접촉하게 된다.The base portion 100 is a part forming the overall appearance of the present invention is installed on the work table (5) so that the upper surface of the base portion 100 is in contact with the lower surface of the film (F).

즉, 상기 베이스부(100)는 필름(F)과 워크테이블(5) 사이에 배치되어 가공시 레이저에 의해 상기 워크테이블(5)이 손상되는 것을 방지하면서 상기 필름(F)을 하부에서 받치는 역할을 하게 된다.That is, the base part 100 is disposed between the film F and the work table 5 to support the film F from below while preventing the work table 5 from being damaged by a laser during processing. Will be

또한, 상기 메쉬부(200)는 상기 베이스부(100)의 가장자리를 제외한 나머지 영역에 형성되는 구성으로, 상기 필름(F) 하부를 그물 형태로 균일하게 받쳐서 지지해 주는 부분이다.In addition, the mesh part 200 is formed in the remaining area except for the edge of the base part 100, and is a part that uniformly supports and supports the lower portion of the film F in a net form.

상기 메쉬부(200)가 그물 형태로 형성되는 이유는 상기 필름(F) 위에 레이저를 조사하여 홀을 가공할 때 레이저가 필름(F)을 관통하여 그 하부까지 닿게 되는데, 이때 레이저가 잘 닿지 않도록 하기 위한 것인바 상기 필름(F)을 효과적으로 지지하면서 레이저가 잘 닿지 않도록 하기 위해서는 필름(F) 하부면과의 접촉 면적을 최소화하는 것이 가장 좋기 때문이다.The reason why the mesh portion 200 is formed in a net shape is that the laser penetrates through the film F and reaches the bottom thereof when the hole is processed by irradiating a laser on the film F. At this time, the laser does not touch well. This is because it is best to minimize the contact area with the lower surface of the film (F) in order to effectively support the film (F) while preventing the laser from touching well.

따라서, 상기 메쉬부(200)는 도4에 나타낸 바와 같이 하나의 체눈(210)을 형성하기 위해 주변에 있는 체(220)의 단면이 상부로 갈수록 좁아지는 구조로 이루어지는 것이 바람직하다.Thus, as shown in FIG. 4, the mesh unit 200 preferably has a structure in which a cross section of a sieve 220 around the periphery thereof becomes narrower toward the top to form one body 210.

즉, 상기 메쉬부(200)의 체(220)는 삼각형 또는 사다리꼴 형태의 단면을 갖도록 형성되는 것이 바람직한데, 이와 같은 구조로 이루어지면 필름(F)을 안정적으로 지지하면서 필름(F) 하부면과의 접촉면적이 최소화될 수 있기 때문에 레이저를 이용하여 필름(F)에 홀을 가공할 때 안정적이고 우수한 품질로 가공할 수 있다.That is, the sieve 220 of the mesh unit 200 is preferably formed to have a cross section of a triangular or trapezoidal shape. When the structure is formed as such, the lower surface of the film F and the film F are stably supported. Since the contact area of the film can be minimized, the laser can be processed to a stable and excellent quality when processing holes in the film (F).

한편, 상기 베이스부(100)에는 도4에 도시된 바와 같이 상기 메쉬부(200)의 하부에 집진공간부(110)가 형성되도록 하고, 상기 집진공간부(110)의 일측에는 본 발명의 장치와는 별도로 마련되는 집진기(20)와 연결되기 위한 집진니플(111)이 형성되는 것이 바람직하다.Meanwhile, as shown in FIG. 4, the base part 100 has a dust collecting space 110 formed below the mesh 200, and at one side of the dust collecting space 110, the apparatus of the present invention. It is preferable that a dust collecting nipple 111 to be connected to the dust collector 20 provided separately from is formed.

레이저를 이용하여 필름(F)을 가공하다 보면, 필름(F)에서 탈락되어 나온 이물질이나 먼지가 발생할 수 있는바, 이러한 이물질 등을 효과적으로 제거하여야 필름(F)이나 본 발명에 따른 장치에 달라붙지 않아 가공 품질이 우수해진다.When processing the film (F) by using a laser, foreign matter or dust that may be dropped out of the film (F) may occur, such foreign matter must be effectively removed to stick to the film (F) or the apparatus according to the present invention. The processing quality is excellent.

따라서, 상기 베이스부(100)의 내측 하부에는 집진공간부(110)가 형성되고, 그 집진공간부(110)가 집진기(20)와 연결되어 레이저 가공시 발생하는 이물질 등을 집진하게 된다. 가공시 발생한 이물질 등은 상기 메쉬부(200)의 체눈(210)을 통해 상기 집진공간부(110)로 유입된 후 상기 집진니플(111)을 통과하여 집진기(20)로 들어가게 된다.Accordingly, a dust collecting space 110 is formed at an inner lower portion of the base 100, and the dust collecting space 110 is connected to the dust collector 20 to collect foreign substances generated during laser processing. Foreign matters generated during processing are introduced into the dust collecting space 110 through the body 210 of the mesh unit 200 and then pass through the dust collecting nipple 111 to enter the dust collector 20.

또한, 도3 및 도4에 도시된 바와 같이 상기 베이스부(100)의 가장자리에는 본 발명의 장치와 별개로 마련되는 진공장치(30)와 연통되는 진공홀(120)이 다수개 형성되는 것이 바람직한데, 상기 진공홀(120)은 가공시 필름(F)이 상기 베이스부(100)의 상면에 밀착되도록 하여 정밀도를 높이기 위한 구성이다.3 and 4, it is preferable that a plurality of vacuum holes 120 are formed at the edge of the base part 100 in communication with the vacuum device 30 provided separately from the device of the present invention. However, the vacuum hole 120 is configured to increase the precision by making the film (F) in close contact with the upper surface of the base portion 100 during processing.

상기 진공홀(120)은 상기 베이스부(100)의 가장자리에만 형성되어도 무방하지만 보다 바람직하게 상기 필름(F)이 밀착되도록 하기 위해서는 상기 메쉬부(200)에서 체(220)가 서로 교차하는 지점에도 상기 진공홀(120)이 형성되도록 하는 것이 좋다.The vacuum hole 120 may be formed only at the edge of the base part 100, but more preferably, in order for the film F to be in close contact with the sieve 220 at the mesh part 200. The vacuum hole 120 may be formed.

따라서, 진공장치(30)에서 형성되는 부압은 상기 진공홀(120)들에 영향을 미쳐 상기 필름(F)의 하부면이 진공압에 의해 상기 베이스부(100) 상면 및 메쉬부(200) 상면에 흡착되도록 한다.Therefore, the negative pressure formed in the vacuum device 30 affects the vacuum holes 120 so that the lower surface of the film F is vacuum-pressured to the upper surface of the base portion 100 and the upper surface of the mesh portion 200. To be adsorbed.

또한 필름(F)의 가공이 종료되면 상기 필름(F)은 이송되어야 하므로 상기 진공장치(30)에 의해 가해지던 진공압은 해제되어야 한다. 물론, 진공압이 해제되기만 하면 필름(F)이 베이스부(100) 및 메쉬부(200)로부터 자유로워져 이송에 전혀 문제가 없게 되지만, 보다 바람직하게는 상기 진공홀(120)을 통해 소정의 압축공기가 공급되는 것이 좋다.In addition, when the processing of the film (F) is finished, the film (F) has to be transferred, so that the vacuum pressure applied by the vacuum device 30 should be released. Of course, as long as the vacuum pressure is released, the film F is freed from the base part 100 and the mesh part 200 so that there is no problem in conveying at all, but more preferably, a predetermined compression is performed through the vacuum hole 120. Air is good.

따라서, 상기 진공장치(30)는 진공압 뿐만 아니라 압축공기도 함께 제공되는 것을 사용하는 것이 좋고, 가공 종료 후 상기 진공장치(30)를 통해 압축공기가 공급되면 필름(F)이 본 발명에 따른 장치로부터 쉽게 분리되어 필름(F)의 이송이 더욱 용이해진다.
Therefore, it is preferable to use the vacuum device 30 that is provided with not only a vacuum pressure but also compressed air, and when the compressed air is supplied through the vacuum device 30 after the end of the processing, the film F according to the present invention. It is easily separated from the device, and the transfer of the film F becomes easier.

한편, 도5 및 도6을 참조하여 본 발명에 따른 제2실시예를 설명한다.On the other hand, with reference to Figures 5 and 6 will be described a second embodiment according to the present invention.

본 발명의 제2실시예는 베이스부(100)와, 돌기부(300)를 포함하여 이루어진다.The second embodiment of the present invention includes a base part 100 and a protrusion part 300.

상기 베이스부(100)는 본 발명의 제1실시예와 동일하므로 여기서 별도의 설명은 생략하고 돌기부(300)에 대해서만 설명한다.Since the base part 100 is the same as the first embodiment of the present invention, a separate description is omitted here and only the protrusion part 300 will be described.

상기 돌기부(300)는 상기 베이스부(100)의 가장자리를 제외한 나머지 영역에 상호 일정간격 이격되면서 상방으로 돌출 형성되어 상기 필름(F) 하부를 균일하게 받치는 역할을 한다.The protrusion part 300 is formed to protrude upward while being spaced apart from each other at predetermined intervals except for the edge of the base part 100 to uniformly support the lower portion of the film (F).

상기 돌기부(300)는 앞에서 설명한 메쉬부(200)와 달리 서로 연결되지 않고 단지 베이스부(100) 상에서 수평방향으로 일정간격을 유지하도록 형성되기 때문에 필름(F)과의 접촉면적이 더욱 작아져 레이저가 닿을 확률이 메쉬부(200)에 비해 현저히 낮아진다.Unlike the mesh part 200 described above, the protrusion part 300 is not connected to each other but is formed to maintain a constant distance in the horizontal direction on the base part 100, so that the contact area with the film F is further reduced. Is less likely to reach compared to the mesh portion 200.

여기서, 상기 돌기부(300)의 상단 높이는 상기 베이스부(100)의 가장자리와 동일하도록 설정되어 그 전체 상부면이 평평한 상태를 유지하도록 하는 것이 중요하다.Here, it is important that the top height of the protrusion part 300 is set to be the same as the edge of the base part 100 so that the entire upper surface thereof is kept flat.

상기 돌기부(300)는 그 형상에 크게 제한은 없으나 바람직하게는 도면에 도시된 바와 같이 상부면이 사각형으로 된 사각뿔 형태로 이루어지는 것이 필름(F)을 안정적으로 지지할 수 있어 좋으나 이에 국한되지 않고 상기 돌기부(300)의 상단이 꼭지점 형태로 끝나는 사각뿔 형태여도 무방하다.The protrusion part 300 is not particularly limited in shape, but preferably, as shown in the drawing, the upper part may be formed in a quadrangular pyramid shape having a quadrangular shape so as to stably support the film F, but is not limited thereto. The upper end of the protrusion 300 may be a square pyramid shape ending in the form of a vertex.

또한, 상기 돌기부(300)는 도면에 도시되지는 않았지만, 상단이 꼭지점 형태로 끝나는 원뿔 형태여도 무방하고, 상부면이 원형으로 된 원뿔 형태여도 무방하다.In addition, although not shown in the drawings, the protrusion part 300 may have a cone shape in which an upper end ends in a vertex shape, and may have a circular cone shape in which an upper surface thereof has a circular shape.

한편, 상기 베이스부(100)에는 상기 돌기부(300)의 하부에 집진공간부(110)가 형성되고, 상기 집진공간부(110)의 일측에는 집진기(20)와 연결되기 위한 집진니플(111)이 마련되며, 상기 돌기부(300) 사이에는 상기 집진공간부(110)와 연통되는 집진홀(400)이 형성되는 것이 바람직하다.Meanwhile, a dust collecting space 110 is formed at the bottom of the protrusion part 300 in the base part 100, and a dust collecting nipple 111 is connected to the dust collector 20 at one side of the dust collecting space 110. Is provided, it is preferable that the dust collecting hole 400 is in communication with the dust collecting space 110 between the protrusions 300 is formed.

상기 집진공간부(110)와 집진니플(111)이 필요한 이유에 대해서는 앞에서 설명하였으므로 생략한다. 다만, 본 발명의 제2실시예에서는 상기 집진홀(400)이 별도로 마련되어야 하는데, 상기 메쉬부(200)의 경우에는 체눈(210)이 자연스럽게 집진홀(400)의 기능을 대신하여 가공시 발생한 이물질 등이 체눈(210)을 통해 집진공간부(110)로 유입될 수 있었지만, 본 발명의 제2실시예에서는 상기 돌기부(300) 사이에 별도의 집진홀(400)을 마련하여야만 이물질 등이 상기 집진공간부(110)로 유입될 수 있다.The reason why the dust collecting space 110 and the dust collecting nipple 111 are described above is omitted. However, in the second embodiment of the present invention, the dust collecting hole 400 should be provided separately. In the case of the mesh unit 200, the body 210 naturally occurs during processing in place of the function of the dust collecting hole 400. Although foreign matters may be introduced into the dust collecting space 110 through the body 210, in the second embodiment of the present invention, foreign matters may be provided only when a separate dust collecting hole 400 is provided between the protrusions 300. It may flow into the dust collecting space 110.

여기서, 상기 집진홀(400)은 가로방향 또는 세로방향으로 배치되는 상기 돌기부(300) 사이에 형성되어도 무방하지만, 집진홀(400)과 돌기부(300) 사이의 간격이 좁은 문제가 발생할 수 있기 때문에 보다 바람직하게는 상기 집진홀(400)은 도5에 도시된 바와 같이 대각선 방향으로 배치되는 돌기부(300) 사이에 형성되도록 하는 것이 좋다.Here, although the dust collecting hole 400 may be formed between the protrusions 300 arranged in the horizontal or vertical direction, a problem may arise between the dust collecting holes 400 and the protrusions 300. More preferably, the dust collecting hole 400 may be formed between the protrusions 300 arranged in the diagonal direction as shown in FIG. 5.

또한, 상기 베이스부(100)의 가장자리에는 본 발명의 장치와는 별개로 마련되는 진공장치(30)와 연통되는 다수개의 진공홀(120)이 형성되는 것이 바람직하다. 상기 진공홀(120)은 상기 진공장치(30)에서 작용하는 진공압 뿐만 아니라 압축공기도 작용할 수 있기 때문에 필름(F)의 흡착 및 분리를 용이하게 할 수 있다. In addition, it is preferable that a plurality of vacuum holes 120 are formed at the edge of the base part 100 to communicate with the vacuum device 30 provided separately from the device of the present invention. The vacuum hole 120 may facilitate the adsorption and separation of the film F because not only the vacuum pressure acting on the vacuum device 30 but also the compressed air may also act.

한편, 본 발명의 제2실시예에서는 상기 진공홀(120)이 베이스부(100)의 가장자리에만 형성되기 때문에 필름(F)이 베이스부(100)의 가장자리를 제외한 나머지 영역, 즉 상기 돌기부(300)가 형성된 영역에서 밀착되지 못하고 뜰 수 있는 문제가 발생할 수 있다.On the other hand, in the second embodiment of the present invention, since the vacuum hole 120 is formed only at the edge of the base portion 100, the film F is the remaining area except the edge of the base portion 100, that is, the protrusion portion 300 ) May occur and may not be in close contact with the formed area.

따라서, 도5에 나타낸 바와 같이 상기 다수개의 돌기부(300) 중에서 적어도 하나 이상의 돌기부(300)에 상기 진공홀(120)이 추가적으로 형성되도록 하는 것이 바람직하다. Therefore, as shown in FIG. 5, it is preferable that the vacuum hole 120 is additionally formed in at least one of the plurality of protrusions 300.

필름(F)을 가장 안정적으로 흡착하는 것은 상기 진공홀(120)이 상기 돌기부(300) 모두에 형성되도록 하는 것이지만, 이렇게 하면 필름과의 접촉면적이 넓어지기 때문에 도5에 도시된 바와 같이 상기 진공홀(120)은 필름이 들뜨지 않는 범위안에서 최소한으로 형성되는 것이 바람직하다.The most stable adsorption of the film F is to allow the vacuum hole 120 to be formed in all of the protrusions 300, but since this increases the contact area with the film, the vacuum as shown in FIG. The hole 120 is preferably formed to the minimum in the range that the film is not lifted.

이상, 본 발명을 바람직한 실시예를 사용하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 범위는 설명된 특정 실시예에 한정되는 것은 아니며, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 범위 내에서 얼마든지 구성요소의 치환과 변형이 가능한바, 이 또한 본 발명의 권리에 속하게 된다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the scope of the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. It is to be understood that the invention is not limited thereto.

100 : 베이스부 110 : 집진공간부
111 : 집진니플 120 : 진공홀
200 : 메쉬부 210 : 체눈
220 : 체 300 : 돌기부
400 : 집진홀
100: base 110: dust collecting space
111: dust collecting nipple 120: vacuum hole
200: mesh portion 210: body
220: sieve 300: protrusion
400: dust collecting hole

Claims (10)

레이저 가공이 필요한 필름(F)과 워크테이블(5) 사이에 배치되어 가공시 레이저에 의해 상기 워크테이블(5)이 손상되는 것을 방지하면서 상기 필름(F)을 하부에서 받치는 베이스부(100);
상기 필름(F)을 지지하면서 레이저가 상기 워크테이블(5)에 닿는 것을 방지하고, 상기 필름(F) 하부면과의 접촉 면적을 최소화하여 상기 필름(F) 가공이 수행되도록, 하나의 체눈(210)을 형성하는 주변에 있는 체(220)의 단면이 상부로 갈수록 좁아지는 구조로 이루어진 그물 형태의 메쉬부(200); 를 포함하고,
레이저 가공시 상기 필름(F)이 상기 베이스부(100)의 상면에 밀착되어 정밀도를 높이도록, 상기 베이스부(100)의 가장자리 및 상기 메쉬부(200)에서 체(220)가 서로 교차하는 지점 각각에 진공장치(30)와 연통 되는 다수개의 진공홀(120)이 형성된 것을 특징으로 하는 필름 가공용 받침장치.
A base portion 100 disposed between the film F requiring the laser processing and the work table 5 to support the film F from below while preventing the work table 5 from being damaged by the laser during processing;
One body (B) is supported to prevent the laser from contacting the work table 5 while supporting the film F, and to minimize the contact area with the lower surface of the film F so that the film F processing is performed. A mesh-shaped mesh part 200 formed of a structure in which a cross section of the sieve 220 in the periphery forming the 210 becomes narrower toward the top; Including,
The point where the sieve 220 intersects at the edge of the base part 100 and the mesh part 200 so that the film F is in close contact with the upper surface of the base part 100 during laser processing to increase accuracy. Support device for film processing, characterized in that formed in each of a plurality of vacuum holes 120 in communication with the vacuum device (30).
삭제delete 청구항 1에 있어서, 상기 베이스부(100)에는 상기 메쉬부(200)의 하부에 집진공간부(110)가 형성되고, 상기 집진공간부(110)의 일측에는 집진기(20)와 연결되기 위한 집진니플(111)이 마련된 것을 특징으로 하는 필름 가공용 받침장치.The dust collecting space 110 is formed at the lower portion of the mesh unit 200 in the base unit 100, and the dust collecting unit is connected to the dust collector 20 at one side of the dust collecting space 110. Nipples (111) is provided support for film processing. 삭제delete 레이저 가공이 필요한 필름(F)과 워크테이블(5) 사이에 배치되어 가공시 레이저에 의해 상기 워크테이블(5)이 손상되는 것을 방지하면서 상기 필름(F)을 하부에서 받치는 베이스부(100);
상기 베이스부(100)의 가장자리를 제외한 영역에 상호 일정간격 이격되면서 상방으로 돌출 형성되어 상기 필름(F) 하부를 균일하게 받치는 사각뿔 형태로 이루어진 돌기부(300); 를 포함하고,
레이저 가공시 발생 되는 이물질을 제거하도록, 상기 베이스부(100)에는 상기 돌기부(300)의 하부에 집진공간부(110)가 형성되고, 상기 집진공간부(110)의 일측에는 집진기(20)와 연결되기 위한 집진니플(111)이 마련되며, 상기 돌기부(300) 사이에는 상기 집진공간부(110)와 연통되는 집진홀(400)이 형성되고,
레이저 가공시 상기 필름(F)이 상기 베이스부(100)의 상면에 밀착되어 정밀도를 높이도록, 상기 베이스부(100)의 가장자리에 진공장치(30)와 연통 되는 다수개의 진공홀(120)이 형성되고, 상기 돌기부(300)에도 적어도 하나 이상에 상기 진공홀(120)이 형성된 것을 특징으로 하는 필름 가공용 받침장치.
A base portion 100 disposed between the film F requiring the laser processing and the work table 5 to support the film F from below while preventing the work table 5 from being damaged by the laser during processing;
Protruding portion 300 is formed in the form of a square pyramid protruding upwards at regular intervals apart from the edge of the base portion 100 while being mutually spaced apart to uniformly support the lower portion of the film (F); Including,
In order to remove foreign substances generated during laser processing, a dust collecting space 110 is formed at the lower portion of the protrusion part 300 in the base part 100, and a dust collector 20 is disposed at one side of the dust collecting space 110. A dust collecting nipple 111 is provided to be connected, and a dust collecting hole 400 communicating with the dust collecting space 110 is formed between the protrusions 300.
A plurality of vacuum holes 120 are in communication with the vacuum device 30 at the edge of the base portion 100 so that the film (F) is in close contact with the upper surface of the base portion 100 to increase the precision during laser processing It is formed, the support for the film processing, characterized in that the vacuum hole 120 is formed in at least one of the protrusions (300).
삭제delete 삭제delete 청구항 5에 있어서, 상기 집진홀(400)은 대각선 방향으로 배치되는 돌기부(300) 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 필름 가공용 받침장치.
The method according to claim 5, wherein the dust collecting hole 400 is a film processing support device, characterized in that formed between the projections 300 disposed in a diagonal direction.
삭제delete 삭제delete
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6390386A (en) * 1986-10-02 1988-04-21 Mitsubishi Electric Corp Fixing device for body to be worked for laser beam machining
KR200164252Y1 (en) * 1995-12-22 2000-01-15 이구택 Jig fixing device for laser welding
JP2002263874A (en) * 2001-03-06 2002-09-17 Hitachi Via Mechanics Ltd Laser machine
JP2005297032A (en) * 2004-04-14 2005-10-27 Seiko Epson Corp Laser beam machining system, and work attraction table and its production method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6390386A (en) * 1986-10-02 1988-04-21 Mitsubishi Electric Corp Fixing device for body to be worked for laser beam machining
KR200164252Y1 (en) * 1995-12-22 2000-01-15 이구택 Jig fixing device for laser welding
JP2002263874A (en) * 2001-03-06 2002-09-17 Hitachi Via Mechanics Ltd Laser machine
JP2005297032A (en) * 2004-04-14 2005-10-27 Seiko Epson Corp Laser beam machining system, and work attraction table and its production method

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