KR101178766B1 - 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 연소실을 가지는 소각장, 산업시설 등에서 배출되는 배출가스 중에 포함되어 있는 미세입자(입자상 물질)를 제거하는 전기집진기에서 사용되는 집진판에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 세정액을 공급하여 집진면에 수막을 형성하여 하전되어 집진되는 미세입자를 흘러내리는 세정액으로 제거함으로써 재생되도록 이루어진 전기집진기용 친수성 집진판에 관한 것이다.
이러한 본 발명인 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판은, 하전된 미세입자를 집진하는 전기집진기용 집지판에 있어서, 알루미늄 재질로 이루어진 형틀 프레임과, 상기 형틀 프레임의 일측 또는 양측에 설치된 후 집진면인 전면이 쇼트 피니싱(Shot peening) 또는 샌드 브라스팅(Sand Blasting)의 표면 처리방법으로 친수화 처리되며, 상측에 수막용 세정액 공급구가 형성된 집진판과, 상기 집진판의 수막용 세정액 공급구에 세정액을 공급하는 세정액 챔버를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이러한 본 발명인 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판은, 하전된 미세입자를 집진하는 전기집진기용 집지판에 있어서, 알루미늄 재질로 이루어진 형틀 프레임과, 상기 형틀 프레임의 일측 또는 양측에 설치된 후 집진면인 전면이 쇼트 피니싱(Shot peening) 또는 샌드 브라스팅(Sand Blasting)의 표면 처리방법으로 친수화 처리되며, 상측에 수막용 세정액 공급구가 형성된 집진판과, 상기 집진판의 수막용 세정액 공급구에 세정액을 공급하는 세정액 챔버를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Description
본 발명은 연소실을 가지는 소각장, 산업시설 등에서 배출되는 배출가스 중에 포함되어 있는 미세입자(입자상 물질)를 제거하는 전기집진기에서 사용되는 집진판에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 세정액을 공급하여 집진면에 수막을 형성하여 하전되어 집진되는 미세입자를 흘러내리는 세정액으로 제거함으로써 재생되도록 이루어진 전기집진기용 친수성 집진판에 관한 것이다.
일반적으로 소각장, 산업시설 등의 산업현장에서는 다량의 배출가스를 배출시키고 있으며, 이러한 배출가스에는 인체에 유해한 다량의 입자상의 물질인 미세입자를 포함하고 있다.
이러한 배출가스 중에 포함되어 있는 미세입자를 집진하여 제거하기 위하여 집진기가 개발되어 있으며, 상기 집진기에는 방전을 이용하여 다량의 이온을 배출가스에 공급하여 배출가스 내에 포함되어 있는 미세입자를 하전시켜 집진하는 방식의 전기집진기와, 다양한 필터를 이용하여 배출가스 중에 포함되어 있는 미세입자를 포집하여 여과시키는 방식의 여과집진기가 있다.
본 발명은 전기집진기에 관한 것이며, 기능과 효율성을 높이기 위하여 특허문헌들과 같이 다양한 전기집진기에 관한 기술들이 개발되어 있으며, 최근에도 지속적으로 개발되고 있는 실정이다.
일반적인 전기집진기는 코로나 방전을 이용하여 배출가스 중의 미세입자에 전하를 부여(공급)하여 하전시키고, 상기 극성을 가진 하전된 미세입자를 정전기력으로 집진판으로 집진되도록 하여 집진력을 향상시킨 집진기로써, 전기집진기는 코로나 방전을 일으켜 미세입자를 하전시키는 방전극(2)과, 하전된 미세입자를 집진하는 집진판(3)과, 고전압을 인가하는 전압인가장치(4)와 집진판에 집진된 미세입자를 제거하여 집진판을 재생시키는 재생수단으로 크게 구성된다.
상기 집진판에 집진된 미세입자를 제거하는 재생수단에는 국내 등록특허공보 10-0711477호와 같이 집진판을 타격하여 집진판에 집진된 미세입자를 탈락시키는 방법(도 1참조)과, 국내 등록특허공보 10-0215285호와 국내 등록특허공보 10-0543537호와 같이 집진판에 물 또는 세정수인 액체의 세정액을 분사하여 집진판에 집진된 미세입자를 제거하도록 하는 방법(도 2 참조)이 있다.
도 1과 같이 집진판을 타격하는 타격장치(a)가 설치되어 집진판을 타격하여 집진판이 진동하도록 함으로써 집진판에 집진된 미세입자를 제거하는 방법은 타격시 집진판에 집진된 미세입자가 비산하고, 비산된 미세입자는 배출가스와 함께 배출되는 단점이 있으며, 이로 인하여 타격시 순간적으로 다량의 미세입자를 포함하는 배출가스를 배출함으로써 신뢰성이 떨어지는 문제점이 있다.
도 2와 같이 집진판에 세정액을 분사하는 세정액분사장치(b)가 설치되어 집진판에 세정액을 분사하여 미세입자를 제거하는 방법은 분사시 분사되는 세정액에 의하여 집진판에 집진된 미세입자가 비산하여 외부로 배출되고, 집진판이 대형일 경우에는 집진판의 높이가 높을 때에는 세정액분사장치(b)에서 분사되는 세정액이 균일하게 하부에 전달되지 못하는 단점이 있으며, 이러한 단점을 해결하기 위해서는 세정액분사장치를 다단으로 형성하여야 하나 집진판의 중간에 세정액분사장치가 설치될 경우 세정액분사장치가 집진판으로부터 돌출됨으로써 스파크의 발생으로 방전이 제대로 이루어지지 않아 이온발생을 어렵게 하는 문제점이 있다. 또한 분사를 함으로써 세정액이 과다로 사용되는 단점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 발명된 것으로,
본 발명은 집진되는 미세입자를 비산하지 않고 수막을 형성하도록 공급되는 세정액과 함께 흘러내리도록 하여 재생할 수 있도록 이루어진 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판을 제공하고자 한다.
또한, 수막의 형성시 세정액의 사용량을 줄이기 위하여 집진판에 쇼트 피니싱(Shot peening) 또는 샌드 브라스팅(Sand Blasting)의 방법으로 친수성처리함에 있어 집진판의 변형을 방지할 수 있도록 이루어진 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판을 제공하고자 한다.
또한, 쇼트 피니싱(Shot peening) 또는 샌드 브라스팅(Sand Blasting)의 방법과 같은 기계가공에 의한 친수성 처리함에 있어 변형을 방지하는 동시에 중량(무게)을 줄일 수 있는 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판을 제공하고자 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 발명된 본 발명인 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판은, 방전봉과 인가되는 고전압에 의하여 코로나 방전을 하고 하전된 미세입자를 집진하는 전기집진기용 집지판에 있어서, 알루미늄 재질로 이루어진 형틀 프레임과; 상기 형틀 프레임의 일측 또는 양측에 설치된 후 집진면인 전면이 쇼트 피니싱(Shot peening) 또는 샌드 브라스팅(Sand Blasting)의 표면 처리방법으로 친수화 처리되며, 상측에 세정액 공급구가 형성된 집진판과; 상기 집진판의 수막용 세정액 공급구에 세정액을 공급하는 세정액 챔버를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기와 같이 이루어진 본 발명인 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판은, 저비중의 재질로 이루어진 형틀 프레임에 집진판이 설치된 후 친수화 처리됨으로써 얇은 두께를 가지는 집진판의 경우에도 변형 없이 쇼트 피니싱(Shot peening) 또는 샌드 브라스팅(Sand Blasting)의 표면 처리방법과 같은 기계가공에 의한 친수화 처리가 가능함으로써 저중량으로 제작을 할 수 있는 장점이 있다.
또한, 친수화 처리된 표면에 수막을 형성함으로써 수막을 형성하는 세정액의 사용량을 약 1~1.5ℓ/mim/㎡으로 줄일 수 있는 장점이 있다. 즉, 종래의 분사노즐을 사용하여 세정액을 분사하는 경우 세정액의 사용은 단위면적당(㎡) 3~4ℓ/분(min)의 유량을 사용하는데 반하여, 본 발명의 경우에는 단위면적당(㎡) 1~1.5ℓ/분(min)의 유량만을 사용하도록 할 수 있다.
또한, 연속적으로 수막을 형성하여 집진되는 미세입자를 제거함으로써 종래에 집진판의 재생시 발생하는 순간적으로 비산되는 미세입자에 의하여 신뢰성이 상실되는 문제점을 해결할 수 있는 장점이 있다.
또한, 수막을 형성하기 위한 수막용 노즐이 비돌출 형태로 이루어짐으로써 집진판의 세로(수직방향)의 중간부분에 수막용 노즐을 형성할 수 있음으로써 세로(수직방향)로 긴 집진판에도 적용 가능한 장점이 있다. 즉, 집진판에 세로(수직방향)로 다단형태의 수막용 노즐을 설치할 수 있다.
이러한 수막을 형성하는 친수성 집진판은 수막을 형성하는 세정액에 의하여 냉각효과를 가짐으로써 고온에 의한 코로나 방전의 불균일성을 해소할 수 있다.
도 1은 종래에 집진판을 재생시키기 위하여 집진판을 타격하는 타격장치가 설치된 전기집진기의 개략도.
도 2는 종래에 집진판을 재생시키기 위하여 집진판에 세정액을 분사하는 세정액분사장치가 설치된 전기집진기의 개략도.
도 3은 본 발명의 전기집진기용 친수성 집진판이 설치되어 사용되는 일 실시 예를 나타낸 전기집진기의 개략도.
도 4는 본 발명의 일 실시 예를 나타낸 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판의 단면 개략도.
도 5는 본 발명의 일 실시 예를 나타낸 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판의 부분 분리 사시도.
도 6은 본 발명의 일 실시 예를 나타낸 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판의 정면 개략도.
도 7은 본 발명의 일 실시 예를 나타낸 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판의 정단면 개략도.
도 8은 일반적인 집진판에 친수성을 부여하기 위하여 쇼트 피니싱(Shot peening) 또는 샌드 브라스팅(Sand Blasting)으로 표면 처리시 발생하는 문제점을 설명하기 위한 개략도.
도 9는 본 발명의 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판에 친수성을 부여하기 위하여 쇼트 피니싱(Shot peening) 또는 샌드 브라스팅(Sand Blasting)으로 표면 처리시 종래의 문제점이 해결되는 것을 설명하기 위한 개략도.
도 10은 본 발명인 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판에서 세정액 챔버의 깊이로 인해 발생하는 작용효과를 설명하기 위한 단면 개략도.
도 11은 본 발명의 다른 실시 예를 나타낸 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판의 정면 개략도.
도 12는 본 발명의 다른 실시 예를 나타낸 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판의 부분 분리 사시도.
도 13은 도 12에 도시된 본 발명의 다른 실시 예를 나타낸 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판의 정면 개략도.
도 14는 본 발명인 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판이 다수개 설치된 경우 수막용 세정액의 공급상태를 설명하기 위한 개략도.
도 2는 종래에 집진판을 재생시키기 위하여 집진판에 세정액을 분사하는 세정액분사장치가 설치된 전기집진기의 개략도.
도 3은 본 발명의 전기집진기용 친수성 집진판이 설치되어 사용되는 일 실시 예를 나타낸 전기집진기의 개략도.
도 4는 본 발명의 일 실시 예를 나타낸 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판의 단면 개략도.
도 5는 본 발명의 일 실시 예를 나타낸 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판의 부분 분리 사시도.
도 6은 본 발명의 일 실시 예를 나타낸 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판의 정면 개략도.
도 7은 본 발명의 일 실시 예를 나타낸 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판의 정단면 개략도.
도 8은 일반적인 집진판에 친수성을 부여하기 위하여 쇼트 피니싱(Shot peening) 또는 샌드 브라스팅(Sand Blasting)으로 표면 처리시 발생하는 문제점을 설명하기 위한 개략도.
도 9는 본 발명의 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판에 친수성을 부여하기 위하여 쇼트 피니싱(Shot peening) 또는 샌드 브라스팅(Sand Blasting)으로 표면 처리시 종래의 문제점이 해결되는 것을 설명하기 위한 개략도.
도 10은 본 발명인 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판에서 세정액 챔버의 깊이로 인해 발생하는 작용효과를 설명하기 위한 단면 개략도.
도 11은 본 발명의 다른 실시 예를 나타낸 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판의 정면 개략도.
도 12는 본 발명의 다른 실시 예를 나타낸 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판의 부분 분리 사시도.
도 13은 도 12에 도시된 본 발명의 다른 실시 예를 나타낸 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판의 정면 개략도.
도 14는 본 발명인 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판이 다수개 설치된 경우 수막용 세정액의 공급상태를 설명하기 위한 개략도.
첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세히 설명하도록 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
따라서, 본 명세서에 기재된 실시 예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시 예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
본 발명은 배출가스 내에 포함되어 있는 입자상 물질과 같은 미세입자를 코로나 방전과 같은 방법으로 하전을 시켜 집진(제거)효율을 높이도록 이루어진 전기집진기에 사용되는 집진판이다.
첨부된 도 3을 참조하면, 전기집진기는 하측에 세정액 탱크(1a)가 형성된 몸체(1)와, 다수의 방전핀이 형성된 방전봉(2)과, 상기 방전봉(2)과 이격되게 설치된 본 발명인 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판(이하, '친수성 집진판'이라 칭함)(5)과, 상기 방전봉(2)과 친수성 집진판(5)과 전기적으로 연결되어 고전압을 인가하여 코로나 방전을 발생시키는 전압인가장치(4)로 구성된다.
이러한 전기집진기는, 전압인가장치(4)로부터 인가되는 고전압에 의하여 방전봉(2)과 친수성 집진판(5) 사이에 코로나 방전이 발생하고, 상기 코로나 방전에 의하여 방전봉(2)과 친수성 집진판(5) 사이에는 다량의 생성된 이온(전자)이 존재하며, 상기 다량의 이온(전자)은 유입되는 유해가스 내의 미세입자를 하전하게 되고, 하전된 미세입자는 정전기력에 의하여 친수성 집진판(5) 방향으로 이동하여 친수성 집진판(5)에 집진된다.
상기 친수성 집진판(5)에 집진되는 미세입자는 수막을 형성하는 세정액과 함께 하측으로 흘러내리게 되며, 이로 인하여 친수성 집진판(5)은 부착된 미세입자에 의한 문제점을 해결하는 동시에 수막을 형성하는 세정액에 의하여 집진판이 냉각됨으로써 가열로 인한 문제점이 발생하지 않게 된다.
이하, 본 발명인 상기 친수성 집진판(5)에 대한 구성에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하면,
도 4와 도 5를 참조하면, 본 발명인 상기 친수성 집진판(5)은 형틀 프레임(10)과, 상기 형틀 프레임(10)의 양측에 일체형태로 설치되고, 상측에 수막용 세정액 공급구(23)가 형성된 집진판(20, 20')과, 상기 집진판(20, 20')의 수막용 세정액 공급구(23)에 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급수단(30)을 포함하도록 구성되며, 이와 같이 구성되는 상기 친수성 집진판(5)의 두께(T)는 보통 30~60㎜가 되도록 제작되는 것이 바람직하다.
상기 형틀 프레임(10)은 용접 또는 볼트와 피스 등과 같은 체결부재로 집진판(20, 20')과 일체 형태로 이루어져, 상기 집진판(20, 20')에 친수화 처리층을 형성하기 위한 작업시 집진판(20, 20')이 변형되는 현상을 방지하도록 한다(도 8과 도 9 참조).
이러한 형틀 프레임(10)은 저비중인 비금속재질로 이루어져 친수성 집진판(5)의 중량(무게)이 상승되는 것을 방지한다. 상기 형틀 프레임(10)은 보통 저비중인 비금속재질이면서 가공성이 우수하고, 적정의 강도를 가지는 알루미늄을 사용하는 것이 적합하며, 상기 형틀 프레임(10)은 보통 4각 틀로 이루어지며, 도 7과 같이 집진판(20, 20')의 크기(넓이)에 따라 중간에 보강대가 더 설치될 수도 있다.
도 4와 같이 형틀 프레임의 두께(t')는 28~58㎜의 것이 적당하다. 이는 두께(t')가 28㎜ 미만인 경우에는 강도가 약하며, 세정액 챔버(31)의 설치가 어려운 단점이 있으며, 두께(t')가 58㎜ 초과인 경우에는 친수성 집진판(5)의 두께(T)가 너무 두꺼워 중량이 많이 나가고, 부피(체적)를 너무 차지하는 단점이 있다. 상기 형틀 프레임의 두께(t')는 34~50㎜의 가장 바람직하다.
상기 집진판(20, 20')은 종래에 일반적으로 사용되는 금속판으로 이루어지며, 도 5와 도 6과 같이 상측에 동일한 높이에 동일한 크기인 다수개의 구멍으로 이루어진 수막용 세정액 공급구(23)가 형성되고, 형틀 프레임(10)의 일측 또는 양측에 설치되며, 집진면인 전면(21)은 강구(쇠구슬)을 고압으로 분사하여 표면을 가공하는 쇼트 피니싱(Shot peening) 또는 모래를 공기와 함께 분사하여 가공하는 샌드 브라스팅(Sand Blasting)의 가공방법인 기계가공으로 표면 처리한 친수화 처리면(20a)을 가진다.
상기 집진판(20, 20')의 친수화 처리는 형틀 프레임(10)에 집진판(20, 20')을 일체 형태로 설치한 후에 쇼트 피니싱(Shot peening) 또는 샌드 브라스팅(Sand Blasting)의 가공방법으로 이루어진다. 이와 같이 형틀 프레임(10)에 집진판(20, 20')을 일체 형태로 설치한 후 처리함으로써 상기 집진판(20, 20')은 두께(t)가 0.8~1.2㎜에서도 친수화 처리시 변형을 방지할 수 있다.
즉, 도 8과 같이 집진판에 쇼트 피니싱(Shot peening) 또는 샌드 브라스팅(Sand Blasting)의 가공방법으로 친수화 작업을 하는 경우에는 집진판이 변형을 일으키는 문제점이 있어 집진판(20, 20')의 두께(t)가 0.8~1.2㎜에서는 쇼트 피니싱(Shot peening) 또는 샌드 브라스팅(Sand Blasting)의 가공방법을 사용할 수 없었으며, 이러한 가공방법으로 가공하기 위해서는 보다 두꺼운 두께(t)를 가지는 집진판을 사용하여야 하나, 이러한 경우 집진판의 중량이 상승하여 사용하지 못하지 못한다.
도 9와 같이 형틀 프레임(10)에 일체 형태로 고정한 후 쇼트 피니싱(Shot peening) 또는 샌드 브라스팅(Sand Blasting)의 가공방법으로 친수화 작업을 하는 경우에는 친수화 작업시 형틀 프레임(10)이 집진판(20, 20')의 변형을 방지하게 되어 집진판(20, 20')의 두께(t)가 0.8~1.2㎜에서도 친수화 작업시 변형을 일으키지 않게 된다.
상기 수막용 세정액 공급구(23)은 집진판(20, 20')의 전면(21)으로 돌출되지 않도록 형성되는 것으로, 보통 도 4 내지 도 6과 같이 동일한 높이에 다수개의 구멍을 형성함으로써 이루어진다. 따라서 집진판(20, 20')은 평활한 면을 갖게 되고, 이러한 평활한 면은 세정액 공급구(23)가 돌출된 형태로 형성된 것과 비교하면 코로나방전에 간섭을 일으키지 않기 때문에 균일한 코로나방전이 이루어질 수 있다.
상기 수막용 세정액 공급구(23)를 형성하는 구멍은 보통 0.5~2㎜ 지름(D)으로 형성되며, 그 간격(L)은 보통 2~5㎜가 적당하며, 경우에 따라 간격은 작거나 클 수도 있다.
또한, 도 11에서와 같이 집진판(20, 20')이 세로(수직방향)로 긴 경우에는 수막용 세정액 공급구(23)은 2단 또는 다단으로 형성될 수도 있다.
상기 세정액 공급수단(30)은 수막용 세정액 공급구(23)로 수막을 형성하기 위한 세정액을 공급하는 수단으로, 세정액을 임시저장한 후 수막용 세정액 공급구(23)에 공급하는 세정액 챔버(31)와, 상기 세정액 챔버(31)에 순환펌프 등과 같은 공급수단으로 공급되는 세정액을 공급하는 세정액 공급관(32)으로 구성된다.
상기 세정액 챔버(31)는 집진판(20, 20')의 사이에 설치되어 수막용 세정액 공급구(23)을 통해 전면(21)으로 배출되어 수막을 형성하도록 하는 것으로, 상기 세정액 챔버(31)는 세정액 공급관(32)으로 공급되는 세정액에 의하여 도 10과 같이 세정액의 수면이 흔들리는 너울현상이 발생하고 이로 인한 다수의 구멍으로 이루어진 수막용 세정액 공급구(23) 중 일측으로 편중되어 세정액이 공급될 수 있음으로써 이러한 현상을 방지하기 위하여 도 4와 도 7과 같이 세정액 챔버(31)의 바닥면과 수막용 세정액 공급구(23)와의 거리(H)는 약 40~100㎜가 되도록 한다. 상기 거리(H)는 세정액 공급관(32)으로 공급되는 세정액의 속도 및 유량 등에 따라 다소 달라질 수 있으며, 상기 거리(H)는 50~60㎜가 가장 바람직하다.
상기와 같이 구성되어 이루어진 본 발명인 친수성 집진판(5)은 세정액 공급관(32)으로 공급되는 세정액은 세정액 챔버(31)에 의하여 다수의 구멍으로 이루어진 수막용 세정액 공급구(23)에 균일하게 공급되고, 상기 수막용 세정액 공급구(23)에 공급되는 세정액은 쇼트 피니싱(Shot peening) 또는 샌드 브라스팅(Sand Blasting)으로 표면 처리되어 친수화 처리면(20a)이 형성된 집진면인 전면(21)에 수막을 형성하고, 수막을 형성하는 세정액은 코로나 방전으로 하전되어 집진되는 미세입자화 함께 흘러 내림으로써 집진면이 미세입자에 의하여 오염되는 것을 방지하고, 이로 인하여 집진되는 미세입자에 의한 코로나 방전을 불균일성 및 집진된 미세입자를 제거를 위한 타격 또는 세정액 분사에 의한 비산되는 미세입자에 의한 신뢰성 저하 등을 방지할 수 있다.
도 12와 도 13은 본 발명의 다른 실시 예를 도시한 것으로, 본 발명인 친수성 집진판(5)의 수막용 세정액 공급구(23')는 첨부된 도 12와 도 13과 같이 슬릿형태로 이루어질 수도 있다.
전술된 본 발명인 친수성 집진판(5)은 도 14와 같이 전기집진기에 보통 다수개가 설치되며, 그 사이에는 코로나 방전을 형성하기 위한 방전극이 설치된다. 이러한 다수개가 설치되는 친수성 집진판(5)에 각각 형성된 세정액 챔버(31)에는 수막을 형성하기 위하여 공급되는 세정액이 각각 제어되어 공급할 수 있도록 밸브(V)가 설치되며, 상기 각각의 밸브(V)에 의하여 조절된 세정액은 세정액 공급관(32)을 통하여 세정액 챔버(31)에 공급되고, 상기 세정액 챔버(31)에 공급된 세정액은 수막용 세정액 공급구(23, 23')로 배출됨으로써 각각의 친수성 집진판(5)에 따라 집진면(21)에 수막을 형성하는 유량을 달리할 수오 있다.
5 : 전기집진기용 친수성 집진판
10 : 형틀 프레임
20, 20' : 집진판 21 : 전면
22 : 후면 23, 23' : 수막용 세정액 공급구
20a : 친수화 처리면
30 : 세정액 공급수단 31 : 세정액 챔버
32 : 세정액 공급관
10 : 형틀 프레임
20, 20' : 집진판 21 : 전면
22 : 후면 23, 23' : 수막용 세정액 공급구
20a : 친수화 처리면
30 : 세정액 공급수단 31 : 세정액 챔버
32 : 세정액 공급관
Claims (7)
- 방전봉과 인가되는 고전압에 의하여 코로나 방전을 하고 하전된 미세입자를 집진하는 전기집진기용 집진판에 있어서,
형틀 프레임과;
상기 형틀 프레임의 양측에 설치되며, 설치 후 집진면인 전면에 쇼트 피니싱(Shot peening) 또는 샌드 브라스팅(Sand Blasting)으로 친수화 처리되며, 상측에 수막용 세정액 공급구가 집진면으로부터 돌출되지 않는 비돌출형으로 형성되고, 균일한 코로나방전을 형성하기 위해 집진면이 평탄하게 이루어진 집진판과;
상기 집진판의 수막용 세정액 공급구에 세정액을 공급하는 세정액 챔버를 포함하며,
상기 수막용 세정액 공급구는 상기 집진판의 가로방향으로 형성된 다수개의 구멍, 또는 슬릿으로 이루어지거나, 또는 상기 다수개의 구멍 또는 슬릿이 상기 집진판의 수직방향을 기준으로 다단으로 형성되고,
상기 세정액 챔버는 상부측 집진판 사이에 설치되며,
상기 세정액챔버로 공급되는 세정액은 제어되어 공급되는 것을 특징으로 하는 기계가공에 의한 친수성 처리를 향상시킨 전기집진기용 친수성 집진판. - 삭제
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