KR101176695B1 - Curve grinding method by using magnetorheological fluid - Google Patents
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Abstract
본 발명은 피가공물의 표면에 곡면을 연마하기 위한 연마방법에 관한 것으로, 자기장을 제어하여 유체의 동적인 항복응력을 조절하고, 연마공구의 외주연에 곡률반경을 형성함과 동시에 연마공구와 피가공물 표면 사이의 간극을 조절함으로써 피가공물의 표면에 미세 곡면연마가 가능한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마방법을 제공하기 위한 것이다.The present invention relates to a polishing method for polishing a curved surface on the surface of the workpiece, by controlling the magnetic field to adjust the dynamic yield stress of the fluid, and to form a radius of curvature on the outer periphery of the polishing tool and at the same time It is to provide a curved polishing method using a magnetorheological fluid capable of fine curved polishing on the surface of the workpiece by adjusting the gap between the workpiece surface.
곡면 연마공구, 미세 곡면연마, 자기유변유체, 피가공물, 곡률반경, 곡면, 간극 Surface polishing tools, fine surface polishing, magnetorheological fluids, workpieces, radius of curvature, surface, gap
Description
본 발명은 피가공물을 곡면연마하기 위한 연마방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 자기장을 제어하여 유체의 동적인 항복응력을 조절하고, 연마공구의 외주연에 곡률반경을 형성함과 동시에 연마공구와 피가공물 사이의 간극을 조절함으로써 피가공물에 미세 곡면연마가 가능한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마방법에 관한 것이다.The present invention relates to a polishing method for the surface polishing of the workpiece, and more particularly, to control the dynamic yield stress of the fluid by controlling the magnetic field, and to form a radius of curvature on the outer periphery of the polishing tool and at the same time The present invention relates to a curved polishing method using a magnetorheological fluid capable of fine curved polishing on a workpiece by adjusting a gap between the workpieces.
최근 들어, 광학, IT 등 산업 전반에 걸쳐 소자나 부품의 세밀화, 초정밀화 및 다기능화에 대한 요구가 높아지고 있으며, 산업 분야의 지속적인 발전으로 인해 초정밀부품의 요구 및 수요가 증대되고 있는 실정이다.Recently, the demand for refinement, ultra-precision and multi-functionality of devices and components is increasing throughout the industry, such as optics and IT, and the demand and demand for ultra-precision parts are increasing due to the continuous development of the industrial field.
한편, CDP, 복사기기, 프로젝션 TV, SLR 카메라, 비디오 캠코더 같은 영상제품의 경우, 구면 렌즈에 비하여 가볍고, 영상품질이 뛰어나다는 등의 장점으로 인해 비구면 렌즈가 적용되고 있다.On the other hand, video products such as CDP, photocopiers, projection TVs, SLR cameras, video camcorders, aspherical lenses are being applied due to the advantages of being lighter than spherical lenses and excellent image quality.
특히, 기존의 구면 렌즈에 비하여 훨씬 뛰어난 광학 성능은 물론 고화질의 영상품질을 제공한다는 점에서 비구면 렌즈가 적용되고 있는 실정이다.In particular, aspheric lenses are being applied in that they provide much higher optical performance as well as higher image quality than conventional spherical lenses.
그러나, 이러한 비구면 렌즈의 경우, 곡률반경을 연마 또는 가공하는 마무리 단계에서 고도의 정밀도를 요구하고, 이로 인해 비구면 렌즈의 최종 마무리에만 수 시간 또는 수 일이 소요되는 등 오랜 시간을 필요로 하고 있다.However, such an aspherical lens requires a high degree of precision in the finishing step of polishing or processing a radius of curvature, and thus requires a long time such as several hours or days only for the final finishing of the aspherical lens.
상술한 바와 같이 비구면 렌즈를 고정밀도 및 효과적으로 연마 및 가공하기 위하여 최근 들어 전기유변유체(Electrorheological Fluid :ERF) 또는 자기유변유체(Magnetorheological Fluid : MR)를 이용한 연마 및 가공이 시도되고 있다.As described above, in order to polish and process an aspherical lens with high precision and efficiency, recently, polishing and processing using an electrorheological fluid (ERF) or a magnetorheological fluid (MR) have been attempted.
한편, 하드디스크드라이버(HDD)와 같은 기록 매체 구동장치에 적용되는 헤드 슬라이더는 자기 디스크 상부에 위치하여 자기디스크로부터 정보를 기록하거나, 판독하는 역할을 수행한다.On the other hand, a head slider applied to a recording medium driving apparatus such as a hard disk driver (HDD) is located above the magnetic disk to record or read information from the magnetic disk.
이러한 헤드 슬라이더는 동작 시 자기 디스크로부터 계속적으로 부상되고, 이로 인해 헤드슬라이더의 부상 높이 또는 부상 자세의 안정화가 요구되고 있는 실정이다.These head sliders are continuously injured from the magnetic disk during operation, which is required to stabilize the height of the head slider or the height of the injured posture.
상술한 바와 같이, 헤드 슬라이더의 안정화가 실현되지 않을 경우, 헤드 슬라이더가 자기 디스크에 충돌하게 되고, 이로 인해 자기 디스케에 보존되는 데이터 등이 손상 및 파손된다.As described above, when the stabilization of the head slider is not realized, the head slider collides with the magnetic disk, thereby damaging and destroying data or the like stored in the magnetic deskew.
이렇게 하드 디스크 드라이버(HDD)에 적용되는 헤드 슬라이더의 경우, 자기 디스크 상에 부상되는 것이 중요하며, 이를 위하여 헤드 슬라이더의 부상면에 부상을 위한 곡률반경이 형성된다.In the case of the head slider applied to the hard disk driver HDD, it is important to float on the magnetic disk. For this purpose, a radius of curvature for injury is formed on the surface of the head slider.
이렇게 하드 디스크 드라이버에 적용되는 헤드 슬라이더는 그 크기가 매우 작기 때문에 미세하게 곡률반경을 형성하여야 하나, 그 크기가 매우 작기 때문에 미세한 곡률반경을 연마하기 위하여 작업자가 수작업을 통하여 연마가공을 수행하고 있으나, 가공에 상당한 어려움이 있는 실정이다.Although the head slider applied to the hard disk driver has a very small size, a fine radius of curvature must be formed. However, since the size of the head slider is very small, the operator performs grinding by hand to polish the fine radius of curvature. There is a significant difficulty in processing.
이러한 종래 기술은 작업자의 숙련도를 요구한다는 문제점 뿐만 아니라, 대량생산에 한계가 있다는 문제점이 있었다.Such a prior art has a problem in that there is a limitation in mass production, as well as a problem that requires the skill of the operator.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 자석으로 이루어지는 연마공구의 외주연에 곡면을 형성하고, 연마공구의 곡면과 곡면을 형성하기 위한 피가공물의 표면 사이의 간극을 조절한 후 연마공구의 곡면상에 자기유변유체를 공급하여 피가공물의 표면에 곡면을 형성할 수 있는 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the problems described above, and forms a curved surface on the outer periphery of a polishing tool made of a magnet, and adjusts the gap between the curved surface of the polishing tool and the surface of the workpiece to form the curved surface. It is an object of the present invention to provide a curved polishing method using a magnetorheological fluid capable of supplying a magnetorheological fluid on a curved surface of a polishing tool to form a curved surface on a surface of a workpiece.
또한, 본 발명은, 연마공구에 형성되는 곡면의 곡률반경 또는 연마공구의 곡면과 피가공물의 표면 사이의 간극을 조절하여 피가공물의 길이, 재질 등에 관계없이 피가공물의 표면에 곡면을 형성할 수 있는 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, the present invention, by adjusting the radius of curvature of the curved surface formed on the abrasive tool or the gap between the curved surface of the abrasive tool and the surface of the workpiece, it is possible to form a curved surface on the surface of the workpiece regardless of the length, material, etc. of the workpiece An object of the present invention is to provide a curved polishing method using a magnetorheological fluid.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 피가공물의 표면에 곡면을 연마하기 위한 연마공구에 있어서, 자석으로 이루어져 그 중심축을 기준으로 회전되는 실린더형상의 연마본체; 및 상기 연마본체를 내부에 수용하고, 그 외주연에 자기유변유체를 갖는 일정형상의 곡면이 형성되는 하우징; 를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention is a polishing tool for polishing a curved surface on the surface of the workpiece, the cylindrical body consisting of a magnet rotated about its central axis; And a housing accommodating the abrasive body therein and having a curved surface having a magnetorheological fluid at its outer circumference; And a control unit.
여기서, 상기 하우징에 형성되는 곡면의 곡률반경이 변경가능하게 이루어진다.Here, the radius of curvature of the curved surface formed in the housing is made changeable.
그리고, 상기 하우징에 형성되는 곡면과 피가공물 표면 사이의 간극이 조절가능하게 이루어진다.Then, the gap between the curved surface formed on the housing and the workpiece surface is adjustable.
또한, 상기 하우징에 형성되는 곡면의 곡률반경에 따라 하우징의 곡면과 피가공물 표면 사이의 간극이 조절가능하게 이루어진다.In addition, the gap between the curved surface of the housing and the workpiece surface is adjustable according to the radius of curvature of the curved surface formed in the housing.
더불어, 상기 하우징의 곡면과 피가공물 표면 사이의 간극에 따라 하우징의 곡면의 곡률반경이 변경가능하게 이루어진다.In addition, the radius of curvature of the curved surface of the housing is changeable according to the gap between the curved surface of the housing and the workpiece surface.
한편, 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구에 의한 곡면 연마방법에 있어서, 베이스상에 에칭가능한 물질을 증착하는 단계; 상기 에칭가능한 물질 상에 피가공물을 증착하는 단계; 상기 피가공물을 가공하는 단계; 상기 에칭된 피가공물의 상부에 곡면 연마공구를 위치시키는 단계; 상기 곡면 연마공구를 회전시킴과 동시에 자기유변유체에 자기장을 인가하는 단계; 상기 피가공물의 표면에 일정한 곡률반경의 곡면을 연마하는 단계; 및 상기 에칭가능한 물질을 에칭하여 베이스에서 피가공물을 분리하는 단계; 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.On the other hand, a curved polishing method by a curved polishing tool using a magnetorheological fluid, comprising: depositing an etchable material on the base; Depositing a workpiece on the etchable material; Processing the workpiece; Placing a curved abrasive tool on top of the etched workpiece; Rotating the curved abrasive tool and applying a magnetic field to the magnetorheological fluid; Polishing a curved surface having a constant radius of curvature on the surface of the workpiece; And etching the etchable material to separate the workpiece from the base; And a control unit.
여기서, 상기 피가공물을 밀링에 의해 가공하는 단계; 를 더 포함하여 이루어진다.Here, the step of processing the workpiece by milling; It further comprises.
그리고, 상기 피가공물을 연마하기 위한 곡률반경에 적합한 곡률반경의 곡면을 갖는 곡면 연마공구를 피가공물 상에 위치시키는 단계; 를 더 포함하여 이루어진다.And positioning a curved abrasive tool having a curved surface of a radius of curvature suitable for the radius of curvature for polishing the workpiece on the workpiece; It further comprises.
한편, 상기 피가공물의 표면에 큰 곡률반경의 곡면을 연마할 경우, 상기 피가공물 상에 큰 곡률반경의 곡면을 갖는 곡면 연마공구를 위치시키는 단계; 및 상 기 피가공물의 표면에 작은 곡률반경의 곡면을 연마할 경우, 상기 피가공물상에 작은 곡률반경의 곡면을 갖는 곡면 연마공구를 위치시키는 단계; 를 더 포함하여 이루어진다.On the other hand, when grinding the curved surface of a large radius of curvature on the surface of the workpiece, placing a curved polishing tool having a curved surface of a large radius of curvature on the workpiece; And positioning a curved polishing tool having a curved surface having a small radius of curvature on the workpiece when the curved surface having a small radius of curvature is polished on the workpiece. It further comprises.
또한, 상기 피가공물의 표면에 큰 곡률반경의 곡면을 연마할 경우, 상기 곡면 연마공구의 회전속도를 증가시키는 단계; 및 상기 피가공물의 표면에 작은 곡률반경의 곡면을 연마할 경우, 상기 곡면 연마공구의 회전속도를 감소시키는 단계; 를 더 포함하여 이루어진다.In addition, when the curved surface of a large radius of curvature on the surface of the workpiece, increasing the rotational speed of the curved grinding tool; And when the curved surface having a small radius of curvature is polished on the surface of the workpiece, reducing the rotational speed of the curved polishing tool; It further comprises.
더불어, 상기 피가공물의 표면에 큰 곡률반경의 곡면을 연마할 경우, 상기 자기유변유체에 큰 자기장을 인가하는 단계; 및 상기 피가공물의 표면에 작은 곡률반경의 곡면을 연마할 경우, 상기 자기유변유체에 작은 자기장을 인가하는 단계; 를 더 포함하여 이루어진다.In addition, applying a large magnetic field to the magnetorheological fluid when grinding a curved surface having a large radius of curvature on the surface of the workpiece; And applying a small magnetic field to the magnetorheological fluid when polishing a curved surface having a small radius of curvature on the surface of the workpiece. It further comprises.
한편, 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구에 의한 곡면 연마방법에 있어서, 베이스상에 에칭가능한 물질을 증착하는 단계; 상기 에칭가능한 물질 상에 피가공물을 증착하는 단계; 상기 피가공물을 가공하는 단계; 상기 에칭된 피가공물의 상부에 일정한 곡률반경의 곡면을 갖는 곡면 연마공구를 위치시키는 단계; 상기 피가공물과 곡면 연마공구의 곡면 사이의 간극을 조절하는 단계; 상기 곡면 연마공구를 회전시킴과 동시에 자기유변유체에 자기장을 인가하는 단계; 상기 피가공물의 표면에 일정한 곡률반경의 곡면을 연마하는 단계; 및 상기 에칭가능한 물질을 에칭하여 베이스에서 피가공물을 분리하는 단계; 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.On the other hand, a curved polishing method by a curved polishing tool using a magnetorheological fluid, comprising: depositing an etchable material on the base; Depositing a workpiece on the etchable material; Processing the workpiece; Positioning a curved abrasive tool having a curved surface with a constant radius of curvature on top of the etched workpiece; Adjusting a gap between the workpiece and a curved surface of the curved abrasive tool; Rotating the curved abrasive tool and applying a magnetic field to the magnetorheological fluid; Polishing a curved surface having a constant radius of curvature on the surface of the workpiece; And etching the etchable material to separate the workpiece from the base; And a control unit.
여기서, 상기 피가공물의 표면에 큰 곡률반경의 곡면을 연마할 경우, 상기 피가공물과 곡면 연마공구의 곡면 사이의 간극을 크게 하는 단계; 및 상기 피가공물의 표면에 작은 곡률반경의 곡면을 연마할 경우, 상기 피가공물과 곡면 연마공구의 곡면 사이의 간극을 작게 하는 단계; 를 더 포함하여 이루어진다.Here, when grinding a curved surface having a large radius of curvature on the surface of the workpiece, increasing the gap between the workpiece and the curved surface of the curved polishing tool; And when grinding a curved surface having a small radius of curvature on the surface of the workpiece, reducing the gap between the workpiece and the curved surface of the curved polishing tool; It further comprises.
이상에서 설명한 바와 같이 상기와 같은 구성을 갖는 본 발명은, 자석으로 이루어지는 연마공구의 외주연에 곡면을 형성하고, 연마공구의 곡면상에 자기유변유체를 공급하여 피가공물의 표면을 연마함으로써 피가공물에 일정한 곡률의 곡면을 연마할 수 있으며, 고정밀도로 곡면가공이 가능하여 높은 표면조도를 얻을 수 있는 등의 효과를 거둘 수 있다.As described above, the present invention having the configuration as described above forms a curved surface on the outer periphery of the polishing tool made of a magnet, and supplies a magnetorheological fluid on the curved surface of the polishing tool to polish the surface of the workpiece. The curved surface of a certain curvature can be polished, the surface can be processed with high precision, and the high surface roughness can be obtained.
또한, 피가공물의 표면에 연마하기 위한 곡면의 곡률반경에 따라 연마공구에 형성되는 곡면의 곡률반경 또는 연마공구와 피가공물 사이의 간극을 조절함으로써 피가공물의 길이, 재질 등에 관계없이 피가공물의 표면에 곡면을 형성하기 용이할 뿐만 아니라, 피가공물 표면의 표면조도를 조절할 수 있는 등의 효과를 거둘 수 있다.In addition, by adjusting the radius of curvature of the curved surface formed on the abrasive tool or the gap between the abrasive tool and the workpiece according to the radius of curvature of the surface to be polished on the surface of the workpiece, regardless of the length, material, etc. of the workpiece Not only is it easy to form a curved surface, it is possible to achieve the effect of adjusting the surface roughness of the workpiece surface.
더불어, 곡면 연마공구와 피가공물 표면의 직접적인 접촉 없이 연마를 수행할 수 있어 피가공물 표면의 품질을 향상시킬 수 있으며, 피가공물에 가해지는 손상 및 파손을 현저히 감소시킬 수 있어 미세한 곡면가공이 가능하다는 등의 효과를 거둘 수 있다.In addition, polishing can be performed without direct contact between the surface of the workpiece and the surface of the workpiece, thereby improving the quality of the surface of the workpiece and significantly reducing damage and damage to the workpiece. It can achieve such effects.
이하, 본 발명에 의한 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하면서 상세히 설명한다. 또한, 본 실시예는 본 발명의 권리범위를 한정하는 것은 아니고 단지 예시로 제시된 것이며, 그 기술적 요지를 이탈하지 않는 범위 내에서 다양한 변경이 가능하다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, the present embodiment is not intended to limit the scope of the present invention, but is presented by way of example only, and various modifications may be made without departing from the technical gist of the present invention.
도 1은 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구를 개략적으로 나타내는 사시도이고, 도 2는 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구에 연마가공을 위한 피가공물이 설치된 모습을 개략적으로 나타내는 사시도이며, 도 3은 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구에 연마가공을 위한 곡면이 피가공물이 설치된 모습을 개략적으로 나타내는 측면도이고, 도 4, 도 5, 도 6, 도 7, 도 8, 도 9는 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구에 의한 곡면 연마방법을 나타내는 단계도이다.1 is a perspective view schematically showing a curved polishing tool using a magnetorheological fluid according to the present invention, Figure 2 is a schematic view showing the workpiece to be polished on the curved polishing tool using a magnetorheological fluid according to the present invention. 3 is a side view schematically showing a state in which a curved surface for polishing processing is installed in a curved polishing tool using a magnetorheological fluid according to the present invention, and FIGS. 4, 5, 6, 7 8 and 9 are steps illustrating a curved surface polishing method using a curved polishing tool using a magnetorheological fluid according to the present invention.
그리고, 도 10은 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구에 의한 곡면 연마방법을 나타내는 흐름도이고, 도 11은 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구에 의한 곡면 연마방법의 다른 실시예를 나타내는 흐름도이며, 도 12는 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구에 의한 곡면 연마방법에 의해 연마된 피가공물의 곡률반경에 대한 반응표면모델을 나타내는 도면이고, 도 13은 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구에 의한 곡면 연마방법에 의해 연마된 피가공물의 표면조도에 대한 반응표현모델을 나 타내는 도면이다.10 is a flowchart showing a curved polishing method using a curved polishing tool using a magnetorheological fluid according to the present invention, and FIG. 11 is another embodiment of a curved polishing method using a curved polishing tool using a magnetorheological fluid according to the present invention. 12 is a flowchart showing an example of a reaction surface model for a radius of curvature of a workpiece polished by a curved polishing method using a curved polishing tool using a magnetorheological fluid according to the present invention, and FIG. This is a diagram showing a response expression model for the surface roughness of the workpiece polished by the curved polishing method using a curved polishing tool using a magnetorheological fluid.
도면에서 도시하고 있는 바와 같이, 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구(1)는 자석으로 형성되어 그 중심축을 기준으로 회전가능하게 이루어지는 실린더형상의 연마본체(10)와 상기 연마본체(10)의 외주연에 구비되는 원통형상의 하우징(30)을 포함하여 구성된다.As shown in the drawings, the
여기서, 상기 하우징(30)은 그 외주연에 그 내측을 향하여 일정한 곡률반경을 갖는 곡면(31)이 형성되고, 상기 곡면(31)에 자기유변유체(40)가 구비된다.Here, the
상기한 바와 같은 구조에 의하여 상기 곡면 연마공구(1)의 외주연에 형성되는 곡면(31)에 근접되게 연마를 위한 피가공물(3)을 위치시킨 다음, 곡면 연마공구(1)를 회전시켜 피가공물(3)을 연마하게 된다.The
이때, 상기 곡면 연마공구(1)의 곡면에 구비되는 자기유변유체(40)에 자기장이 인가되어 자기유변유체(40)의 점성이 증가되고, 상기 곡면 연마공구(1)의 회전 시 점성이 증가된 자기유변유체(40)에 의해 피가공물(3)이 연마된다.At this time, the magnetic field is applied to the
여기서, 상기 곡면 연마공구(1)의 하우징(30) 외주연에 형성되는 곡면(31)의 곡률반경은 다양하게 변경가능하게 이루어진다. Here, the radius of curvature of the
즉, 상기 피가공물(3)의 표면에 작업자가 요구하는 일정한 곡률반경의 곡면을 연마하거나, 피가공물(3)의 길이 및 재질에 따라 작업자가 요구하는 일정한 곡률반경의 곡면을 연마하기 위하여 상기 하우징(30)의 외주연에 형성되는 곡면(31)은 다양한 곡률반경으로 형성된다.That is, in order to polish the curved surface of a certain curvature radius required by the operator on the surface of the
이를 위하여 다양한 곡률반경의 곡면(31)이 형성되는 하우징(30)을 제작한 후 연마본체(10)에 교체설치하여 피가공물(3)에 작업자가 요구하는 일정한 곡률반경의 곡면을 연마하는 것이 바람직하다.To this end, it is preferable to fabricate the
이때, 상기 곡면 연마공구(1)에 형성되는 곡면(31)의 곡률반경이 작아질수록 피가공물(3)의 표면에 연마되는 곡면의 곡률반경이 커지고, 곡면 연마공구(1)에 형성되는 곡면(31)의 곡률반경이 커질수록 피가공물(3)의 표면에 연마되는 곡면의 곡률반경이 작아진다.At this time, as the radius of curvature of the
즉, 상기 곡면 연마공구(1)에 내측을 향하여 형성되는 곡면(31)의 곡률반경이 작아질수록 자기유변유체(40)가 유동하는 곡면(31)의 채널이 감소함으로써 피가공물(3)에 가해지는 압력이 증가하여 피가공물(3)의 표면에 외측을 향하여 연마되는 곡면의 곡률반경이 커지고, 곡면 연마공구(1)에 내측을 향하여 형성되는 곡면(31)의 곡률반경이 커질수록 자기유변유체(40)가 유동하는 곡면(31)의 채널이 증가함으로써 피가공물(3)에 가해지는 압력이 감소하여 피가공물(3) 표면에 외측을 향하여 연마되는 곡면의 곡률반경이 작아진다.That is, as the radius of curvature of the
본 발명의 일 실시예에서는 상기 곡면 연마공구(1)의 하우징(30) 외주연에 형성되는 곡면(31)의 곡률반경을 다양하게 변경하여 피가공물(3)의 표면에 다양한 곡률반경의 곡면을 연마하도록 이루어져 있으나, 상기 곡면 연마공구(1)의 곡면(31)과 피가공물(3) 사이의 간극을 조절함으로써 피가공물(3)의 표면에 작업자가 요구하는 곡률반경의 곡면을 연마하도록 이루어지는 것도 가능하다.In one embodiment of the present invention by varying the radius of curvature of the
즉, 상기 곡면 연마공구(1)의 곡면(31)과 피가공물(3) 표면 사이의 간극을 멀리하여 피가공물(3)의 표면에 연마되는 곡면의 곡률반경을 크게 하거나, 곡면 연 마공구(1)의 곡면(31)과 피가공물(3) 표면 사이의 간극을 가까이하여 피가공물(3)의 표면에 연마되는 곡면의 곡률반경을 작게 하는 것도 가능하다.That is, the radius of curvature of the surface to be polished on the surface of the
여기서, 상기 곡면 연마공구(1)의 곡면(31)과 피가공물(3) 사이의 간극을 조절한 후 곡면 연마공구(1)의 연마시간을 증가시켜 피가공물(3)의 표면에 최적화된 표면조도를 얻도록 이루어진다.Here, the surface optimized for the surface of the
이때에는, 상기 곡면 연마공구(1)의 곡면과 피가공물(3) 사이의 간극을 다양하게 조절한 후 연마시간을 다양하게 변경실시하여 피가공물(3)의 표면에 최적화된 표면조도를 얻는 것이 바람직하다.At this time, by adjusting the gap between the curved surface of the curved tool (1) and the workpiece (3) by varying the polishing time in various ways to obtain the optimum surface roughness on the surface of the workpiece (3) desirable.
한편, 상기 곡면 연마공구(1)에 형성되는 곡면(31)의 곡률반경에 따라 상기 곡면(31)과 피가공물(3) 사이의 간극을 가/감하여 피가공물(3)의 표면에 연마되는 곡면의 곡률반경을 조절하거나, 상기 곡면 연마공구(1)와 피가공물(3) 사이의 간극에 따라 곡면 연마공구(1)에 형성되는 곡면(31)의 곡률반경을 조절하여 피가공물(3)에 일정한 곡률반경의 곡면을 연마하는 것도 가능하다.On the other hand, according to the radius of curvature of the
상기한 바와 같이, 피가공물(3)의 모서리부에 자기유변유체의 유동에 의한 유체응력이 작용하여 피가공물(3)의 모서리가 연마되어 피가공물(3)에 일정한 곡률반경의 곡면이 연마된다.As described above, the fluid stress due to the flow of the magnetorheological fluid acts on the edge of the
이하, 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구(1)에 의한 곡면 연마방법을 도 4 내지 도 10을 참조하여 설명한다.Hereinafter, a curved polishing method by the
먼저, 판체형상의 베이스(51)상에 에칭가능한 물질(52)을 증착한다(S11).First, an
그 다음, 상기 에칭가능한 물질(52)의 상부면에 곡면(미도시)을 연마하기 위한 피가공물(53)을 증착한다(S12).Next, a
상기한 바와 같이, 상기 에칭가능한 물질(52)에 피가공물(53)을 증착시킨 후 상기 피가공물(53)을 가공한다(S13).As described above, the
이때, 상기 피가공물(53)은 밀링에 의해 상기 에칭가능한 물질(52) 상에서 가공한다(S13-1).At this time, the
본 발명의 일 실시예에서는 상기 피가공물(53)이 밀링에 의해 가공되도록 이루어져 있으나, 기계적인 절삭가공에 의해 가공이 가능하다면 기타 다양한 가공장치 및 가공법에 의해 가공되는 것도 가능하고, 화학적인 에칭에 의해 가공되는 것도 가능하다.In one embodiment of the present invention, the
이렇게 상기 피가공물(53)을 가공한 다음, 가공된 각 피가공물(53)의 상부에 일정한 곡률반경의 곡면을 연마하기 위한 곡면 연마공구(1)를 위치시킨다(S14).After processing the
이때, 상기 피가공물(53)에 연마하기 위한 곡률반경에 적합한 곡률반경의 곡면(31)을 갖는 곡면 연마공구(1)를 피가공물(53) 상에 위치시킨다(S14-1)At this time, the curved
즉, 상기 피가공물(53)의 상부에 작업자가 요구하는 곡률반경의 곡면을 연마하기 적합하도록 일정한 곡률반경의 곡면(31)을 갖는 곡면 연마공구(1)를 위치시킨다.That is, the
여기서, 상기 피가공물(53)의 표면에 일정한 곡률반경의 곡면을 연마할 경우, 상기 각 피가공물(53)의 상부에 이에 대응되는 갯수의 곡면 연마공구(1)를 위치시켜 각 피가공물(53)의 표면에 동시에 곡면을 연마하는 것도 가능하고, 하나의 곡면 연마공구(1)가 이동하면서 각 피가공물(53)의 표면에 일정한 곡률반경의 곡면을 연마하는 것도 가능하다.Here, when the curved surface of a certain radius of curvature is polished on the surface of the
여기서, 상기 피가공물(53)의 표면에 큰 곡률반경의 곡면을 연마할 경우, 상기 피가공물(53) 상에 큰 곡률반경의 곡면(31)을 갖는 곡면 연마공구(1)를 위치시키고(S14-3), 상기 피가공물(53)의 표면에 작은 곡률반경의 곡면을 연마할 경우, 상기 피가공물(53) 상에 작은 곡률반경의 곡면(31)을 갖는 곡면 연마공구(1)를 위치시킨다(S14-4).Here, when the curved surface of a large radius of curvature is polished on the surface of the
상기한 바와 같이, 상기 피가공물(53)에 연마할 곡면정도에 따라 곡률반경을 달리하는 곡면 연마공구(1)를 위치시킨 후 상기 곡면 연마공구(1)를 회전시킴과 동시에 곡면 연마공구(1)의 곡면(31)에 구비되는 자기유변유체(40)에 자기장을 인가하여 점성을 증가시킨다(S15).As described above, the
이때, 상기 피가공물(53)의 표면에 큰 곡률반경의 곡면을 연마할 경우, 상기 곡면 연마공구(1)의 회전속도를 증가시키고(S15-1), 상기 피가공물(53)의 표면에 작은 곡률반경의 곡면을 연마할 경우, 상기 곡면 연마공구(1)의 회전속도를 감소시킨다(S15-2).At this time, when the curved surface of a large curvature radius is polished on the surface of the
상기한 바와 같이, 상기 곡면 연마공구(1)의 회전속도를 가/감함으로써 피가공물(53)의 표면에 연마되는 곡면의 곡률반경을 조절할 수 있다.As described above, the radius of curvature of the curved surface polished to the surface of the
여기서, 상기 자기유변유체(40)에 인가되는 자기장의 세기에 의해 피가공물(53)의 표면에 요구하는 곡률반경의 곡면을 연마할 수 있다.Here, the curved surface of the radius of curvature required for the surface of the
즉, 상기 피가공물(53)의 표면에 큰 곡률반경의 곡면을 연마할 경우, 상기 자기유변유체(40)에 큰 자기장을 인가하고(S15-6), 상기 피가공물(53)의 표면에 작은 곡률반경의 곡면을 연마할 경우, 상기 자기유변유체(40)에 작은 자기장을 인가한다(S15-7).That is, when the curved surface of the large curvature radius is polished on the surface of the
이때, 상기 곡면(31)에 구비되는 자기유변유체(40)에 자기장을 인가할 경우, 상기 자기유변유체(40)의 입자들 사이에 자기력이 발생되어 입자들 사이에 체결력이 발생되므로 상기 곡면 연마공구(1)로 피가공물(53)에 곡면 연마 시 자기유변유체(40)에 인가되는 자기력을 조절하여 입자들 사이의 체결력을 제어하는 것이 바람직하다.In this case, when a magnetic field is applied to the
상기한 바와 같이, 상기 곡면 연마공구(1)를 회전시킴과 동시에 자기유변유체(40)에 자기장을 인가하여 피가공물(53)의 표면에 일정한 곡률반경을 갖는 곡면을 연마한다(S16).As described above, the
이때, 상기 곡면 연마공구(1)의 곡면(31)에 구비되는 자기유변유체(40)는 곡면 연마공구(1)에서 피가공물(53)의 표면으로 이송되며, 이로 인해 피가공물(53)의 표면에 일정한 곡률반경의 곡면이 연마된다. At this time, the
그 다음, 상기 피가공물(53)의 하부에 증착된 에칭가능한 물질(52)을 에칭하여 베이스(51)에서 피가공물(53)을 분리한다(S17).Next, the
이렇게 상기 피가공물(53)의 하부에 증착된 에칭가능한 물질(52)을 에칭함으로써 일정한 곡률반경의 곡면이 연마된 피가공물(53)을 베이스(51)에서 분리하여 곡면 연마공정을 완료한다.Thus, by etching the
상기한 바와 같이, 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구(1)에 의해 피가공물(53)에 곡면 연마공정 시 곡면 연마공구(1)의 외주연에 형성되는 곡면(31)의 곡률반경을 달리 형성하여 피가공물(53)에 일정한 곡률반경의 곡면을 연마하였으나, 상기 곡면 연마공구(1)의 곡면(31)과 피가공물(53) 사이의 간극을 조절하여 피가공물(3)의 표면에 일정한 곡률반경의 곡면을 연마하는 것도 가능하다.As described above, the curvature of the
이하, 본 발명에 의한 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구(1)에 의한 곡면 연마방법의 다른 실시예를 도 11을 참조하여 설명한다.Hereinafter, another embodiment of the curved polishing method by the
먼저, 판체형상의 베이스(51)상에 에칭가능한 물질(52)을 증착한다(S21).First, an
그 다음, 상기 에칭가능한 물질(52)의 상부면에 곡면(미도시)을 연마하기 위한 피가공물(53)을 증착한다(S22).Next, a
상기 에칭가능한 물질(52)에 피가공물(53)을 증착시킨 후 상기 피가공물(53)을 가공한다(S23). 이때, 상기 피가공물(53)은 밀링에 의해 가공한다.After the
이렇게 상기 피가공물(53)을 에칭한 다음, 에칭된 각 피가공물(53)의 상부에 일정한 곡률반경의 곡면을 연마하기 위한 곡면 연마공구(1)를 위치시킨다(S24).After etching the
상기한 바와 같이, 상기 피가공물(53)에 일정한 곡률반경의 곡면을 갖는 곡면 연마공구(1)를 위치시킨 후 상기 피가공물(53)의 표면과 곡면 연마공(1)의 곡면(31) 사이의 간극을 조절한다(S25).As described above, after placing the curved
이때, 상기 피가공물(53)의 표면에 큰 곡률반경의 곡면을 연마할 경우, 상기 피가공물(53)의 표면과 곡면 연마공구(1)의 곡면(31) 사이의 간극을 크게 하 고(S25-1), 상기 피가공물(53)의 표면에 작은 곡률반경의 곡면을 연마할 경우, 상기 피가공물(53)의 표면과 곡면 연마공구(1)의 곡면(31) 사이의 간극을 작게 한다(S25-2).At this time, when the curved surface of the large curvature radius is polished on the surface of the
상기한 바와 같이, 상기 피가공물(53)에 연마할 곡면정도에 따라 피가공물(53)과 곡면 연마공구(1)의 곡면(31) 사이의 간극을 조절하면서 곡면 연마공구(1)를 위치시킨 후 상기 곡면 연마공구(1)를 회전시킴과 동시에 곡면 연마공구(1)의 곡면(31)에 구비되는 자기유변유체(40)에 자기장을 인가하여 점성을 증가시킨다(S26).As described above, the curved
이때, 상기 곡면 연마공구(1)의 회전속도를 가감하여 피가공물(53)의 표면에 연마되는 곡면의 곡률반경을 조절하거나, 곡면 연마공구(1)의 곡면(31)에 구비되는 자기유변유체(40)의 자기장 세기를 제어하여 피가공물(53)의 표면에 연마되는 곡면의 곡률반경을 조절하는 것도 가능하다.At this time, the radius of curvature of the curved surface to be polished on the surface of the
상기한 바와 같이, 상기 곡면 연마공구(1)를 회전시킴과 동시에 자기유변유체(40)에 자기장을 인가하여 피가공물(53)의 표면에 일정한 곡률반경을 갖는 곡면을 연마한다(S27).As described above, the
그 다음, 상기 피가공물(53)의 하부에 증착된 에칭가능한 물질(52)을 에칭하여 일정한 곡률반경의 곡면이 연마된 피가공물(53)을 베이스(51)에서 분리하여(S28) 곡면 연마공정을 완료한다.Next, the
본 실시예에서는 상기 곡면 연마공구(1)의 곡면(31)과 피가공물(53) 표면 사 이의 간극을 조절하면서 곡면 연마공정을 수행하여 상기 피가공물(53)의 표면에 일정한 곡률반경을 갖는 곡면을 연마하였으나, 상기 곡면 연마공구(1)에 형성되는 곡면(31)의 곡률반경에 따라 곡면 연마공구(1)의 곡면(31)과 피가공물(53) 표면 사이의 간극을 조절하여 피가공물(53)의 표면에 일정한 곡률반경을 갖는 곡면을 연마하는 것도 가능하다.In the present exemplary embodiment, a curved polishing process is performed while adjusting a gap between the
또한, 상기 곡면 연마공구(1)의 곡면(31)과 피가공물(53) 표면 사이의 간극에 따라 곡면 연마공구(1)에 형성되는 곡면(31)의 곡률반경을 변경하여 피가공물(53)에 일정한 곡률반경을 갖는 곡면을 연마하는 것도 가능하다.Further, the
이때, 상기 곡면 연마공구(1)에 형성되는 곡면(31)의 곡률반경, 상기 곡면 연마공구(1)의 곡면(31)과 피가공물(53) 표면 사이의 간극, 상기 곡면 연마공구(1)에 형성되는 곡면(31)의 곡률반경에 따른 곡면 연마공구(1)의 곡면(31)과 피가공물(53) 표면 사이의 간극, 상기 곡면 연마공구(1)의 곡면(31)과 피가공물(53) 표면 사이의 간극에 따른 곡면 연마공구(1)에 형성되는 곡면(31)의 곡률반경 등의 조절은 피가공물(53)에 작업자가 요구하는 곡률반경을 갖는 곡면을 연마하기 위한 것으로서, 피가공물(53)의 표면에 연마하기 위한 곡면의 곡률반경에 따라 다양하게 조절 및 가변가능하다.At this time, the radius of curvature of the
상기한 바와 같은 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구에 의해 곡면 연마공정을 수행하였으며, 그 구체적인 실시예는 다음과 같다.A curved polishing process was performed by a curved polishing tool using a magnetorheological fluid as described above, and specific examples thereof are as follows.
곡면 연마공구에 형성되는 곡면의 곡률반경(RT)을 34mm, 24mm, 14mm로 하고, 곡면 연마공구의 곡면과 피가공물 표면 사이의 최소간극(dg)를 2mm, 3mm, 4mm로 하여 연마공정을 수행한 후 연마된 피가공물의 곡률반경을 측정하였다.Polishing process with the radius of curvature (R T ) of the curved surface formed on the curved grinding tool (34 mm, 24 mm, 14 mm) and the minimum gap (d g ) between the curved surface of the curved grinding tool and the workpiece surface of 2 mm, 3 mm, 4 mm After the measurement, the radius of curvature of the polished workpiece was measured.
여기서, 도 2를 참조하여 설명하면, x1은 피가공물의 곡률반경에 대한 공정변수이고, x2는 곡면 연마공구와 피가공물 사이의 간극에 대한 공정변수이다.Referring to FIG. 2, x 1 is a process variable for the radius of curvature of the workpiece, and x 2 is a process variable for the gap between the curved abrasive tool and the workpiece.
이때, 피가공물의 곡률반경을 일정한 값으로 수렴했을 경우에 대하여 피가공물의 곡률반경을 측정하였다.At this time, the radius of curvature of the workpiece was measured when the radius of curvature of the workpiece converged to a constant value.
[표 1][Table 1]
dg : 곡면 연마공구와 피가공물 사이의 최소간극, d g : minimum clearance between the curved abrasive tool and the workpiece,
RT : 곡면 연마공구의 외주연 곡률반경.R T : radius of curvature of the outer circumference of a curved abrasive tool.
측정한 결과, 피가공물의 표면에 형성되는 곡면의 곡률반경은 [표 1]에서 나타내고 있는 바와 같다.As a result of the measurement, the radius of curvature of the curved surface formed on the surface of the workpiece is as shown in [Table 1].
이렇게 실험한 결과값을 2차 회귀모델인 반응표면모델식으로 나타내었다.The experimental results are represented by the response surface model, which is a quadratic regression model.
여기서, βi,(i = 0 ~ 5)는 최소제곱법으로 구하고, 그 과정은 다음과 같다.Here, β i , (i = 0 ~ 5) is obtained by the least square method, and the process is as follows.
x1,x2,x1 2,x2 2,x1,x2 x 1 , x 2 , x 1 2 , x 2 2 , x 1 , x 2
그리고, And,
따라서, 구해진 계수들을 반응표면모델식에 넣어 정리하면,Therefore, putting the obtained coefficients into the response surface model equation,
yρω= 
와 같이 나타난다.Appears as
그리고, 곡면 연마공구에 형성되는 곡면의 곡률반경(RT)을 34mm, 24mm, 14mm로 하고, 곡면 연마공구의 곡면과 피가공물 사이의 최소간극(dg)를 2mm, 3mm, 4mm로 하여 연마공정을 수행한 후 연마된 피가공물의 곡률반경을 측정하였다.The radius of curvature R T of the curved surface formed on the curved polishing tool is 34 mm, 24 mm, and 14 mm, and the minimum gap d g between the curved surface and the workpiece of the curved polishing tool is 2 mm, 3 mm, and 4 mm. After performing the process, the radius of curvature of the polished workpiece was measured.
여기서, x1은 피가공물의 곡률반경에 대한 공정변수이고, x2는 곡면 연마공구와 피가공물 사이의 간극에 대한 공정변수이다.Where x 1 is the process variable for the radius of curvature of the workpiece and x 2 is the process variable for the gap between the curved abrasive tool and the workpiece.
이때, 피가공물의 표면조도를 일정한 값으로 수렴했을 경우에 대하여 연마된 피가공물의 표면조도를 측정하였다.At this time, the surface roughness of the polished workpiece was measured when the surface roughness of the workpiece converged to a constant value.
[표 2][Table 2]
dg : 곡면 연마공구와 피가공물 사이의 최소간극, d g : minimum clearance between the curved abrasive tool and the workpiece,
RT : 곡면 연마공구의 외주연 곡률반경.R T : radius of curvature of the outer circumference of a curved abrasive tool.
측정한 결과, 피가공물의 표면에 형성되는 표면조도는 [표 2]에서 나타내고 있는 바와 같다.As a result of the measurement, the surface roughness formed on the surface of the workpiece is as shown in [Table 2].
이렇게 실험한 결과값을 2차 회귀모델인 반응표면모델식으로 나타내었다.The experimental results are represented by the response surface model, which is a quadratic regression model.
여기서, βi,(i = 0 ~ 5)는 최소제곱법으로 구하고, 그 과정은 다음과 같다.Here, β i , (i = 0 ~ 5) is obtained by the least square method, and the process is as follows.
x1,x2,x1 2,x2 2,x1,x2 x 1 , x 2 , x 1 2 , x 2 2 , x 1 , x 2
그리고, And,
따라서, 구해진 계수들을 반응표면모델식에 넣어 정리하면,Therefore, putting the obtained coefficients into the response surface model equation,
yRa=
와 같이 나타난다.Appears as
상기한 바와 같은 실험 결과를 분석한 결과, 도 12에 도시하고 있는 바와 같이, 입력변수들에 대한 반응변수, 즉 연마된 피가공물의 곡률반경은 3차원 공간상에 단조로운 형태의 반응표면으로 나타난다.As a result of analyzing the experimental results as described above, as shown in FIG. 12, the response variable to the input variables, that is, the radius of curvature of the polished workpiece, appears as a monotonous response surface in three-dimensional space.
다시 말하면, 고정된 곡면 연마공구와 피가공물 사이의 최소간극(dg)에 대하여 표면조도(ρω)가 감소함에 따라 곡면 연마공구의 곡률반경(RT)이 감소하고, 고정된 곡면 연마공구의 곡률반경(RT)에 대하여 표면조도(ρω)가 증가함에 따라 곡면 연마공구와 피가공물 표면 사이의 최소간극(dg)이 증가함을 알 수 있다.In other words, as the surface roughness (ρ ω ) decreases with respect to the minimum gap d g between the fixed curved abrasive tool and the workpiece, the radius of curvature R T of the curved abrasive tool decreases, and the fixed curved abrasive tool It can be seen that as the surface roughness ρ ω increases with respect to the radius of curvature R T of, the minimum gap d g between the curved abrasive tool and the workpiece surface increases.
또한, 도 13에서 도시하고 있는 바와 같이, 연마된 피가공물의 표면조도의 경우, 곡면 연마공구의 곡률반경이 감소함에 따라 피가공물의 표면조도가 증가함을 알 수 있다.In addition, as shown in FIG. 13, in the case of the surface roughness of the polished workpiece, it can be seen that the surface roughness of the workpiece increases as the radius of curvature of the curved abrasive tool decreases.
이는 곡면 연마공구에 형성되는 곡면의 곡률반경이 감소할 경우, 자기유변유체가 지나갈 수 있는 채널의 크기가 줄어들기 때문에 피가공물에 강한 압력을 부가하기 때문임을 알 수 있다.This is because when the radius of curvature of the curved surface is reduced, the size of the channel through which the magnetorheological fluid passes can be reduced because it adds a strong pressure to the workpiece.
이로 인해, 곡면 연마공구의 곡률반경이 클수록 피가공물의 표면조도가 감소 하고, 곡면 연마공구의 곡률반경이 작을수록 피가공물의 표면조도가 증가함을 알 수 있다.Therefore, it can be seen that the surface roughness of the workpiece decreases as the radius of curvature of the curved abrasive tool increases, and the surface roughness of the workpiece increases as the radius of curvature of the curved abrasive tool decreases.
상기한 바와 같은 실험 결과로 인해 고정된 곡면 연마공구와 피가공물 표면 사이의 최소간극(dg)이 줄어들 경우, 피가공물에 연마되는 곡면의 곡률반경은 작아지지만, 피가공물의 표면조도(ρω)는 증가하고, 고정된 곡면 연마공구와 피가공물 표면 사이의 최소간극(dg)이 증가할 경우, 피가공물에 연마되는 곡면의 곡률반경은 커지지만, 피가공물의 표면조도(ρω)는 감소함을 알 수 있다.As a result of the experiment as described above, when the minimum gap d g between the fixed curved abrasive tool and the workpiece surface decreases, the radius of curvature of the surface polished to the workpiece decreases, but the surface roughness of the workpiece (ρ ω). ) Increases and the radius of curvature of the surface polished to the workpiece increases as the minimum gap (d g ) between the fixed surface grinding tool and the workpiece surface increases, but the surface roughness of the workpiece (ρ ω ) It can be seen that the decrease.
또한, 상기 피가공물의 표면에 연마되는 곡면의 곡률반경은 곡면 연마공구와 피가공물 사이의 최소간극(dg)과 곡면 연마공구의 곡률반경(RT)에 따라 변화함을 알 수 있다.In addition, it can be seen that the radius of curvature of the surface to be polished on the surface of the workpiece changes according to the minimum gap (d g ) between the curved abrasive tool and the workpiece and the radius of curvature (R T ) of the curved abrasive tool.
이로 인해, 반응표면모델로 실험의 입력변수인 곡면 연마공구의 곡률반경(RT)과 곡면 연마공구와 피가공물 사이의 최소간극(dg)이 주어질 경우, 피가공물 표면의 곡률반경과 그 때의 피가공물 표면의 표면조도(ρω)를 알 수 있으며, 요구하는 피가공물 표면의 곡률반경에 따라 곡면 연마공구의 곡률반경(RT)과 곡면 연마공구와 피가공물 사이의 최소간극(dg)을 설정할 수 있으며, 요구하는 피가공물 표면의 표면조도(ρω)에 따라 곡면 연마공구의 곡률반경(RT)과 곡면 연마공구와 피가공 물 사이의 최소간극(dg)을 설정할 수 있다.Therefore, if the response surface model gives the curvature radius R t of the curved grinding tool, which is the input variable of the experiment, and the minimum gap d g between the surface grinding tool and the workpiece, then the curvature radius of the workpiece surface and then The surface roughness (ρ ω ) of the surface of the workpiece can be obtained, and the radius of curvature of the curved abrasive tool (R T ) and the minimum gap between the curved abrasive tool and the workpiece (d g ), depending on the required radius of curvature of the workpiece surface. The radius of curvature (R T ) of the curved abrasive tool and the minimum gap (d g ) between the curved abrasive tool and the workpiece can be set according to the required surface roughness (ρ ω ) of the workpiece surface. .
본 발명은 특정의 실시예와 관련하여 도시 및 설명하였지만, 첨부 특허청구의 범위에 의해 나타난 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 한도 내에서 다양한 개조 및 변화가 가능하다는 것을 당업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 쉽게 알 수 있을 것이다.While the invention has been shown and described with respect to particular embodiments, it will be understood by those skilled in the art that various modifications and changes can be made without departing from the spirit and scope of the invention as indicated by the appended claims. Anyone can grow up easily.
도 1은 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구를 개략적으로 나타내는 사시도, 1 is a perspective view schematically showing a curved polishing tool using a magnetorheological fluid according to the present invention;
도 2는 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구에 연마가공을 위한 피가공물이 설치된 모습을 개략적으로 나타내는 사시도, Figure 2 is a perspective view schematically showing a state in which a workpiece for polishing processing is installed on a curved polishing tool using a magnetorheological fluid according to the present invention,
도 3은 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구에 연마가공을 위한 곡면이 피가공물이 설치된 모습을 개략적으로 나타내는 측면도,3 is a side view schematically showing a state in which a curved surface for polishing processing is installed in a curved polishing tool using a magnetorheological fluid according to the present invention;
도 4, 도 5, 도 6, 도 7, 도 8, 도 9는 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구에 의한 곡면 연마방법을 나타내는 단계도,4, 5, 6, 7, 8, and 9 are steps illustrating a curved surface polishing method using a curved polishing tool using a magnetorheological fluid according to the present invention;
도 10은 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구에 의한 곡면 연마방법을 나타내는 흐름도,10 is a flow chart showing a curved surface polishing method using a curved polishing tool using a magnetorheological fluid according to the present invention;
도 11은 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구에 의한 곡면 연마방법의 다른 실시예를 나타내는 흐름도,11 is a flow chart showing another embodiment of a curved surface polishing method using a curved polishing tool using a magnetorheological fluid according to the present invention;
도 12는 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구에 의한 곡면 연마방법에 의해 연마된 피가공물의 곡률반경에 대한 반응표면모델을 나타내는 도면,12 is a view showing a response surface model for a radius of curvature of a workpiece polished by a curved polishing method by a curved polishing tool using a magnetorheological fluid according to the present invention;
도 13은 본 발명에 의한 자기유변유체를 이용하는 곡면 연마공구에 의한 곡면 연마방법에 의해 연마된 피가공물의 표면조도에 대한 반응표현모델을 나타내는 도면.13 is a view showing a response expression model for the surface roughness of the workpiece polished by the curved polishing method by the curved polishing tool using the magnetorheological fluid according to the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
1 : 자기유변유체를 이용한 곡면 연마공구,1: curved polishing tool using magnetorheological fluid,
3 : 피가공물, 10 : 연마본체,3: workpiece, 10: abrasive body,
30 : 하우징, 31 : 곡면,30: housing, 31: curved surface,
40 : 자기유변유체, 51 : 베이스,40: magnetorheological fluid, 51: base,
52 : 에칭가능한 물질, 53 : 피가공물.52: etchable material, 53: workpiece.
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