KR101174981B1 - Curable resin composition, and dry film and printed wiring board using the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 할로겐 프리의 난연제를 함유하는 경화성 수지 조성물이며, 저변형성을 갖고, 난연성과 절곡성이 우수한 솔더 레지스트층을 형성 가능한 경화성 수지 조성물, 그의 드라이 필름, 및 이들에 의해 솔더 레지스트 등의 난연성의 경화 피막이 형성되어 이루어지는 인쇄 배선판을 제공한다.
본 발명의 경화성 수지 조성물은, (A) 카르복실기 함유 수지, (B) 수산화알루미늄 및 (C) 진구상 실리카를 함유한다. 상기 각 성분 이외에 추가로 (D) 분자 중에 2개 이상의 환상 에테르기 및/또는 환상 티오에테르기를 갖는 열경화성 성분을 함유함으로써, 열경화성 수지 조성물로 할 수 있으며, 추가로 (F) 광중합 개시제 및 (G) 광중합성 단량체를 함유함으로써, 광경화성 열경화성 수지 조성물로 할 수 있다. 바람직하게는, 추가로 (E) 인 함유 화합물을 함유한다.The present invention is a curable resin composition containing a halogen-free flame retardant, a curable resin composition capable of forming a solder resist layer having low deformation resistance and excellent in flame retardancy and bendability, a dry film thereof, and flame retardancy such as a solder resist by these. Provided is a printed wiring board on which a cured coating of is formed.
Curable resin composition of this invention contains (A) carboxyl group-containing resin, (B) aluminum hydroxide, and (C) spherical silica. In addition to each of the above components, by containing a thermosetting component having two or more cyclic ether groups and / or cyclic thioether groups in the molecule (D), a thermosetting resin composition can be obtained, and further (F) photopolymerization initiator and (G) By containing a photopolymerizable monomer, it can be set as the photocurable thermosetting resin composition. Preferably, it further contains (E) phosphorus containing compound.
Description
본 발명은, 경화성 수지 조성물, 특히 저변형성을 갖고, 난연성과 절곡성이 우수한 솔더 레지스트를 형성할 수 있는 경화성 수지 조성물에 관한 것이다. 또한 본 발명은, 이러한 경화성 수지 조성물을 사용한 드라이 필름 및 난연성의 인쇄 배선판에 관한 것이다.This invention relates to curable resin composition, especially curable resin composition which has low deformation | transformation and can form the soldering resist excellent in flame retardancy and bendability. Moreover, this invention relates to the dry film which used such curable resin composition, and a flame-retardant printed wiring board.
종래, 인쇄 배선판 및 연성 배선판(이하, FPC로 약칭함)은, 전자 기기에 탑재되기 위해 난연성이 요망되었으며, 이들의 일부인 솔더 레지스트에도 난연성이 요구되고 있다. 이 중에서도 FPC는 통상적으로 폴리이미드 기판을 포함하기 때문에, 유리 에폭시 기판의 인쇄 배선판과는 달리 박막이다. 그러나, 도포되어야 하는 솔더 레지스트는, 인쇄 배선판도 FPC도 동일한 막 두께이기 때문에, 박막의 FPC의 경우, 상대적으로 솔더 레지스트로의 난연화의 부담이 커진다.Background Art Conventionally, printed wiring boards and flexible wiring boards (hereinafter, abbreviated as FPCs) have been required for flame retardancy in order to be mounted on electronic devices, and flame retardancy is also required for solder resists which are a part of them. Among these, since FPC usually contains a polyimide substrate, it is a thin film unlike the printed wiring board of a glass epoxy substrate. However, since the solder resist to be applied has the same film thickness of both the printed wiring board and the FPC, in the case of the FPC of the thin film, the burden of flame retardation to the solder resist becomes relatively large.
그 때문에, 종래부터 솔더 레지스트의 난연화에 대하여 다양한 제안이 이루어지고 있다. 예를 들면, 일본 특허 공개 제2007-10794호 공보(특허 문헌 1)에는, (a) 결합제 중합체, (b) 브로모페닐기 등의 할로겐화 방향환과, (메트)아크릴로일기 등의 중합 가능한 에틸렌성 불포화 결합을 분자 중에 갖는 광중합성 화합물, (c) 광중합 개시제, (d) 블록 이소시아네이트 화합물, 및 (e) 분자 중에 인 원자를 갖는 인 함유 화합물을 함유하는 FPC용의 난연성 감광성 수지 조성물이 제안되어 있다. 그러나, 할로겐화 방향환과 중합 가능한 불포화 이중 결합을 갖는 화합물과 같은 할로겐 화합물의 사용은 환경 부하의 관점에서 바람직하지 않다.Therefore, various proposals have been made regarding flame retardation of a soldering resist conventionally. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 2007-10794 (Patent Document 1) discloses polymerizable ethylenic compounds such as halogenated aromatic rings such as (a) binder polymers, (b) bromophenyl groups, and (meth) acryloyl groups. A flame-retardant photosensitive resin composition for FPC containing a photopolymerizable compound having an unsaturated bond in a molecule, (c) a photopolymerization initiator, (d) a block isocyanate compound, and (e) a phosphorus-containing compound having a phosphorus atom in a molecule has been proposed. . However, the use of halogen compounds such as compounds having unsaturated double bonds polymerizable with halogenated aromatic rings is undesirable from the viewpoint of environmental load.
따라서, 최근의 솔더 레지스트는, 환경 부하 감소의 관점에서 종래의 녹색 착색제인 염소화 프탈로시아닌 그린 대신에, 할로겐 원자를 갖지 않는 프탈로시아닌 블루와 황색 착색제를 사용한 솔더 레지스트가 보급되고 있다(예를 들면, 특허 문헌 2를 참조). 또한, 외관상 명확하게 할로겐 프리라는 것을 주장하기 위해 프탈로시아닌 블루를 사용하고 있으며, 청색 그대로의 솔더 레지스트로서도 사용되고 있다. 그러나, 솔더 레지스트는 구리 회로의 보호를 위해 형성되지만, 그 역할 중 하나로서는, 구리 회로의 열이나 습기, 전기적인 변색이나 구리 회로 위의 손상, 오염 등도 관찰되지 않게 한다는 측면(은폐성)도 있다. 이 점에 대하여, 솔더 레지스트에 대해서는 착색제의 첨가가 통상적으로 행해지고 있으며, 그 농도를 짙게 함으로써 외관적인 불량이 관찰되기 어렵게 하고 있다. 그러나, 프탈로시아닌 그린에 의한 녹색에 비해, 청색의 솔더 레지스트 잉크나 청색 착색제와 황색 착색제에 의한 녹색 솔더 레지스트 잉크에서는 은폐성이 약하고, 외관적인 불량이 관찰되기 어렵게 하는 착색제로서의 기능을 충분히 행할 수 없는 경우가 있다.Therefore, in recent years, in view of reducing environmental load, instead of the conventional green colorant chlorinated phthalocyanine green, a solder resist using phthalocyanine blue and a yellow colorant having no halogen atom has been widely used (for example, in the patent literature). 2). In addition, phthalocyanine blue is used to clearly claim that it is halogen-free in appearance, and is also used as a blue solder resist. However, the solder resist is formed to protect the copper circuit, but one of the roles is that the heat and moisture of the copper circuit, electrical discoloration, damage on the copper circuit, contamination, etc. are also not observed. . On the other hand, addition of a coloring agent is normally performed about a soldering resist, and it makes it hard to observe an external defect by increasing the density | concentration. However, when the blue solder resist ink or the green solder resist ink using the blue colorant and the yellow colorant is weaker than the green color due to the phthalocyanine green, the concealability is weak and the function as a colorant that makes it difficult to observe appearance defects cannot be sufficiently performed. There is.
또한, FPC로 대표되는 박막의 인쇄 기판은, 솔더 레지스트의 광경화 또는 열경화시에 경화 수축에 의한 변형의 발생이 문제가 되고 있다.Moreover, in the printed circuit board of the thin film represented by FPC, generation | occurrence | production of the deformation | transformation by hardening shrinkage at the time of photocuring or thermosetting of a soldering resist becomes a problem.
한편, 수산화알루미늄은 난연성 충전재이며, 수지 조성물 중에 첨가하면 첨가할수록 그 조성물은 난연성이 된다고 알려져 있다. 그러나, 수산화알루미늄의 형상은 부정형이고, 지나친 첨가는 수산화알루미늄과 수지의 계면을 기점으로 균열이 발생하며, 경화 피막의 절곡 내성을 저하시킨다는 문제점이 있다. 그 때문에, 절곡성이 요구되는 인쇄 배선판, 특히 FPC 기판용의 솔더 레지스트에는 그 첨가량이 제한되었다.On the other hand, aluminum hydroxide is a flame retardant filler, and it is known that the composition becomes flame retardant as it adds in a resin composition. However, there is a problem that the shape of aluminum hydroxide is indefinite, and excessive addition causes cracking at the interface between aluminum hydroxide and the resin and lowers the bending resistance of the cured film. Therefore, the addition amount was restrict | limited to the printed wiring board which especially bendability is required, especially the soldering resist for FPC board | substrates.
또한, 유기물과 무기물의 계면 균열 방지의 방법으로서, 유기물에 대한 충전재와 같은 무기 입자의 친화성을 향상시키는 방법이 알려져 있으며, 종래부터 실란 커플링제 처리, 티타네이트 및 알루미늄킬레이트 처리 등이 행해졌다. 그러나, 이들 친화성 향상의 방법은 수산화알루미늄에는 거의 효과가 없고, 경화 피막의 절곡에 대한 개선 효과가 거의 얻어지지 않는 것이 현실이다.As a method for preventing interfacial cracking of organic and inorganic materials, a method of improving the affinity of inorganic particles such as fillers for organic materials is known, and silane coupling agent treatment, titanate and aluminum chelate treatment have been conventionally performed. However, these affinity improvement methods have little effect on aluminum hydroxide, and the reality is that almost no improvement effect on bending of the cured film is obtained.
본 발명은, 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 이루어진 것이며, 그 주된 목적은 할로겐 프리의 난연제를 함유하는 경화성 수지 조성물이며, 저변형성을 갖고, 절곡에 내성이 있는 솔더 레지스트층을 형성 가능한 경화성 수지 조성물을 제공하는 것에 있다.The present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, and its main object is a curable resin composition containing a halogen-free flame retardant, and has a low deformation and forms a solder resist layer resistant to bending. It is to provide possible curable resin composition.
또한, 본 발명의 목적은, 이러한 경화성 수지 조성물을 사용함으로써, 저변형성을 갖고, 난연성과 절곡성이 우수한 드라이 필름 및 이러한 우수한 특성의 난연성 피막을 갖는 인쇄 배선판을 제공하는 것에 있다.Moreover, the objective of this invention is providing the printed wiring board which has a low deformation | transformation, is excellent in flame retardancy and bendability, and has a flame-retardant film of such excellent characteristics by using such a curable resin composition.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따르면, (A) 카르복실기 함유 수지, (B) 수산화알루미늄 및 (C) 진구상 실리카를 함유하는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물이 제공된다.In order to achieve the above object, according to the present invention, there is provided a curable resin composition comprising (A) carboxyl group-containing resin, (B) aluminum hydroxide and (C) spherical silica.
하나의 양태에서는, 상기 각 성분 이외에 추가로 (D) 분자 중에 2개 이상의 환상 에테르기 및/또는 환상 티오에테르기를 갖는 열경화성 성분을 함유함으로써, 열경화성 수지 조성물로 할 수 있다. 별도의 바람직한 양태에서는, 추가로 (E) 인 함유 화합물을 함유한다. 별도의 양태에서는, 추가로 (F) 광중합 개시제 및 (G) 광중합성 단량체를 함유함으로써, 광경화성 열경화성 수지 조성물로 할 수 있다. 별도의 바람직한 양태에서는, 추가로 착색제 (H)를 함유한다. 보다 바람직한 양태에서는, 상기 카르복실기 함유 수지 (A)는 우레탄 구조를 갖는 카르복실기 함유 수지이고, 또는 비페닐 노볼락 구조와 에틸렌성 불포화기를 갖는 카르복실기 함유 수지이고, 상기 분자 중에 2개 이상의 환상 에테르기 및/또는 환상 티오에테르기를 갖는 열경화성 성분 (D)는 비페닐 노볼락 골격을 갖는 에폭시 수지이다. 이러한 경화성 수지 조성물은, 인쇄 배선판의 솔더 레지스트 형성에 바람직하게 사용할 수 있다.In one aspect, it can be set as a thermosetting resin composition by containing the thermosetting component which has 2 or more cyclic ether group and / or cyclic thioether group in (D) molecule further in addition to each said component. In another preferable aspect, (E) phosphorus containing compound is further contained. In another aspect, it can be set as photocurable thermosetting resin composition by containing (F) photoinitiator and (G) photopolymerizable monomer further. In another preferable aspect, it further contains a coloring agent (H). In a more preferred embodiment, the carboxyl group-containing resin (A) is a carboxyl group-containing resin having a urethane structure, or a carboxyl group-containing resin having a biphenyl novolak structure and an ethylenically unsaturated group, and at least two cyclic ether groups in the molecule and / or Or the thermosetting component (D) having a cyclic thioether group is an epoxy resin having a biphenyl novolak skeleton. Such curable resin composition can be used suitably for soldering resist formation of a printed wiring board.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 경화성 수지 조성물을 필름에 도포 건조하여 이루어지는 드라이 필름, 또는 상기 경화성 수지 조성물 또는 이 경화성 수지 조성물을 캐리어 필름에 도포ㆍ건조시켜 얻어지는 드라이 필름을 열경화 및/또는 광경화하여 얻어지는 경화물이 제공된다. 또한, 본 발명에 따르면, 상기 경화물을 갖는 인쇄 배선판도 제공된다.Moreover, according to this invention, the thermosetting and / or photocuring of the dry film obtained by apply | coating and drying the said curable resin composition to a film, or the dry film obtained by apply | coating and drying the said curable resin composition or this curable resin composition to a carrier film is carried out. The hardened | cured material obtained by providing is provided. Moreover, according to this invention, the printed wiring board which has the said hardened | cured material is also provided.
본 발명의 경화성 수지 조성물은, (A) 카르복실기 함유 수지와 함께 (B) 수산화알루미늄 및 (C) 진구상 실리카를 함유하고, 바람직하게는 추가로 (E) 인 함유 화합물을 함유함으로써, 비할로겐 조성이며 환경 부하가 적고 난연성일 뿐만 아니라 저변형성, 절곡성이 우수한 피막을 형성할 수 있다. 따라서, 본 발명의 경화성 수지 조성물을 사용함으로써, 저변형성을 갖고, 난연성과 절곡성이 우수한 드라이 필름 및 이러한 우수한 특성의 난연성의 솔더 레지스트 피막을 갖는 인쇄 배선판을 제공할 수 있다.Curable resin composition of this invention contains (A) aluminum hydroxide and (C) spherical silica together with (A) carboxyl group-containing resin, Preferably it contains (E) phosphorus containing compound, and is a non-halogen composition It has a low environmental load and is flame retardant, and can form a film having excellent low deformation and bendability. Therefore, by using the curable resin composition of this invention, the printed wiring board which has a low deformation | transformation, is excellent in flame retardancy and bendability, and has a flame-retardant soldering resist film of such an outstanding characteristic can be provided.
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 연구한 결과, 카르복실기 함유 수지 (A)와 함께 진구상의 실리카 (C)를 난연성 충전재로서 수산화알루미늄 (B)와 함께 배합함으로써, 경화성 수지 조성물의 난연성을 유지하면서, 절곡 내성을 향상시킬 수 있다는 것을 발견하였다. 특히 진구상의 실리카는 경화 피막의 균열의 기점이 되는 면을 갖지 않기 때문에, 그 자체로도 절곡 내성을 향상시키는 효과가 있었다. 또한, 실란 커플링제 등에 의한 표면 처리가 실리카에 대하여 매우 유효하게 작용하여, 절곡 내성을 비약적으로 향상시킬 수 있었다. 이러한 효과는, 종래에는 전혀 생각할 수 없었던 놀라운 효과였다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly researching in order to solve the said subject, as a result of mix | blending a spherical silica (C) with a carboxyl group-containing resin (A) with aluminum hydroxide (B) as a flame-retardant filler, while maintaining the flame retardance of curable resin composition, It has been found that the bending resistance can be improved. Particularly, since the spherical silica did not have a surface which is a starting point of cracking of the cured film, it had an effect of improving bending resistance by itself. Moreover, the surface treatment by a silane coupling agent etc. acted very effectively with respect to silica, and was able to drastically improve bending resistance. This effect was a surprising effect that was never conceived before.
이하, 본 발명의 경화성 수지 조성물의 각 구성 성분에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, each structural component of curable resin composition of this invention is demonstrated in detail.
본 발명의 경화성 수지 조성물에 포함되는 카르복실기 함유 수지 (A)로서는, 분자 중에 카르복실기를 함유하고 있는 공지 관용의 수지 화합물을 사용할 수 있다. 또한, 알칼리 현상성의 수지 조성물로 하는 경우에는, 분자 중에 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 카르복실기 함유 감광성 수지 (A')가 광경화성이나 내현상성의 면에서 보다 바람직하다. 또한, 그 불포화기는 아크릴산 또는 메타크릴산 유도체에서 유래하는 것이 바람직하다. 또한, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖지 않는 카르복실기 함유 수지만을 사용하는 경우, 조성물을 광경화성으로 하기 위해서는, 후술하는 분자 중에 2개 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 단량체 (G)를 병용할 필요가 있다.As carboxyl group-containing resin (A) contained in curable resin composition of this invention, the well-known conventional resin compound which contains a carboxyl group in a molecule | numerator can be used. Moreover, when it is set as alkali developable resin composition, carboxyl group-containing photosensitive resin (A ') which has an ethylenically unsaturated double bond in a molecule | numerator is more preferable at the point of photocurability and developability. In addition, the unsaturated group is preferably derived from an acrylic acid or methacrylic acid derivative. In addition, when using only the carboxyl group-containing resin which does not have an ethylenically unsaturated double bond, in order to make a composition photocurable, it is necessary to use together the photopolymerizable monomer (G) which has two or more ethylenically unsaturated groups in the molecule mentioned later. have.
카르복실기 함유 수지 (A)의 구체예로서는, 이하에 열거하는 바와 같은 화합물(올리고머 및 중합체 중 어떠한 것이어도 상관없음)을 바람직하게 사용할 수 있다.As a specific example of carboxyl group-containing resin (A), the compound (it may be any of an oligomer and a polymer) listed below can be used preferably.
(1) (메트)아크릴산 등의 불포화 카르복실산과, 스티렌, α-메틸스티렌, 저급 알킬(메트)아크릴레이트, 이소부틸렌 등의 불포화기 함유 화합물의 공중합에 의해 얻어지는 카르복실기 함유 수지.(1) Carboxyl group-containing resin obtained by copolymerization of unsaturated carboxylic acids, such as (meth) acrylic acid, and unsaturated group containing compounds, such as styrene, (alpha) -methylstyrene, lower alkyl (meth) acrylate, and isobutylene.
(2) 지방족 디이소시아네이트, 분지 지방족 디이소시아네이트, 지환식 디이소시아네이트, 방향족 디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트와, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산 등의 카르복실기 함유 디알코올 화합물 및 폴리카르보네이트계 폴리올, 폴리에테르계 폴리올, 폴리에스테르계 폴리올, 폴리올레핀계 폴리올, 아크릴계 폴리올, 비스페놀 A계 알킬렌옥사이드 부가체 디올, 페놀성 히드록실기 및 알코올성 히드록실기를 갖는 화합물 등의 디올 화합물의 중부가 반응에 의한 카르복실기 함유 우레탄 수지.(2) diisocyanates such as aliphatic diisocyanates, branched aliphatic diisocyanates, alicyclic diisocyanates and aromatic diisocyanates; carboxyl group-containing dialcohol compounds such as dimethylolpropionic acid and dimethylolbutanoic acid; and polycarbonate polyols and polyethers. Carboxyl group containing by polyaddition reaction of diol compounds, such as a compound polyol, a polyester type polyol, a polyolefin type polyol, an acryl type polyol, a bisphenol A alkylene oxide adduct diol, a compound which has a phenolic hydroxyl group and an alcoholic hydroxyl group, etc. Urethane resin.
(3) 지방족 디이소시아네이트, 분지 지방족 디이소시아네이트, 지환식 디이소시아네이트, 방향족 디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트 화합물과, 폴리카르보네이트계 폴리올, 폴리에테르계 폴리올, 폴리에스테르계 폴리올, 폴리올레핀계 폴리올, 아크릴계 폴리올, 비스페놀 A계 알킬렌옥사이드 부가체 디올, 페놀성 히드록실기 및 알코올성 히드록실기를 갖는 화합물 등의 디올 화합물의 중부가 반응에 의한 우레탄 수지의 말단에 산 무수물을 반응시켜 이루어지는 말단 카르복실기 함유 우레탄 수지.(3) diisocyanate compounds such as aliphatic diisocyanate, branched aliphatic diisocyanate, alicyclic diisocyanate, aromatic diisocyanate, polycarbonate polyol, polyether polyol, polyester polyol, polyolefin polyol, acrylic polyol Terminal carboxyl group-containing urethane resin which makes acid anhydride react with the terminal of the urethane resin by the polyaddition reaction of diol compounds, such as a compound which has a bisphenol-A alkylene oxide adduct diol, a phenolic hydroxyl group, and an alcoholic hydroxyl group. .
(4) 디이소시아네이트와, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 수소 첨가 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 비크실레놀형 에폭시 수지, 비페놀형 에폭시 수지 등의 2관능 에폭시 수지의 (메트)아크릴레이트 또는 그의 부분 산 무수물 변성물, 카르복실기 함유 디알코올 화합물 및 디올 화합물의 중부가 반응에 의한 감광성 카르복실기 함유 우레탄 수지.(4) bifunctional epoxy resins such as diisocyanate, bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bixylenol type epoxy resin, and biphenol type epoxy resin The photosensitive carboxyl group-containing urethane resin by the polyaddition reaction of the (meth) acrylate or its partial acid anhydride modified substance, carboxyl group-containing dialcohol compound, and diol compound.
(5) 상기 (2) 또는 (4)의 수지의 합성 중에, 히드록시알킬(메트)아크릴레이트 등의 분자 중에 1개의 수산기와 1개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물을 첨가하고, 말단 (메트)아크릴화한 카르복실기 함유 우레탄 수지.(5) In the synthesis | combination of resin of said (2) or (4), the compound which has one hydroxyl group and 1 or more (meth) acryloyl group in the molecule | numerators, such as hydroxyalkyl (meth) acrylate, is added, and the terminal (Meth) acrylated carboxyl group-containing urethane resin.
(6) 상기 (2) 또는 (4)의 수지의 합성 중에, 이소포론디이소시아네이트와 펜타에리트리톨트리아크릴레이트의 등몰 반응물 등, 분자 중에 1개의 이소시아네이트기와 1개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물을 첨가하고, 말단 (메트)아크릴화한 카르복실기 함유 우레탄 수지.(6) Having one isocyanate group and one or more (meth) acryloyl groups in the molecule, such as equimolar reactants of isophorone diisocyanate and pentaerythritol triacrylate during synthesis of the resin of the above (2) or (4) The carboxyl group-containing urethane resin which added the compound and was terminal (meth) acrylated.
(7) 후술하는 바와 같은 다관능 (고형) 에폭시 수지에 (메트)아크릴산을 반응시키고, 측쇄에 존재하는 수산기에 프탈산 무수물, 테트라히드로프탈산 무수물, 헥사히드로프탈산 무수물 등의 2염기산 무수물을 부가시킨 감광성 카르복실기 함유 수지.(7) (meth) acrylic acid is made to react with the polyfunctional (solid) epoxy resin as mentioned later, and dibasic acid anhydrides, such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and hexahydrophthalic anhydride, were added to the hydroxyl group which exists in a side chain. Photosensitive carboxyl group-containing resin.
(8) 2관능 (고형) 에폭시 수지의 수산기를 추가로 에피클로로히드린으로 에폭시화한 다관능 에폭시 수지에 (메트)아크릴산을 반응시키고, 생성된 수산기에 2염기산 무수물을 부가시킨 감광성 카르복실기 함유 수지.(8) Contains photosensitive carboxyl group in which (meth) acrylic acid is reacted with a polyfunctional epoxy resin further epoxidized with epichlorohydrin and a hydroxyl group of a bifunctional (solid) epoxy resin is added to the resulting hydroxyl group. Suzy.
(9) 후술하는 바와 같은 2관능 옥세탄 수지에 디카르복실산을 반응시키고, 생성된 1급의 수산기에 2염기산 무수물을 부가시킨 카르복실기 함유 폴리에스테르 수지.(9) The carboxyl group-containing polyester resin which made dicarboxylic acid react with the bifunctional oxetane resin as mentioned later, and added the dibasic acid anhydride to the produced | generated primary hydroxyl group.
(10) 상기 (1) 내지 (9)의 수지에 추가로 글리시딜(메트)아크릴레이트, α-메틸글리시딜(메트)아크릴레이트 등의 분자 중에 1개의 에폭시기와 1개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물을 부가하여 이루어지는 감광성 카르복실기 함유 수지.(10) In addition to the resins of the above (1) to (9), one epoxy group and one or more (meth) in a molecule such as glycidyl (meth) acrylate, α-methylglycidyl (meth) acrylate, etc. Photosensitive carboxyl group-containing resin formed by adding the compound which has acryloyl group.
이들 카르복실기 함유 수지 중에서도 바람직한 것은, (X) 카르복실기 함유 폴리우레탄 수지, 특히 그 우레탄 수지의 이소시아네이트기를 갖는 성분(디이소시아네이트도 포함함)의 이소시아네이트기가 직접 벤젠환에 결합하지 않은 것, 및 (Y) 상기 수지의 합성에 사용되는 다관능 에폭시 수지가 비스페놀 A 구조, 비스페놀 F 구조, 비페놀 구조, 비페닐 노볼락 구조, 비스크실레놀 구조, 특히 비페닐 노볼락 구조를 갖는 화합물 및 그의 수소 첨가 화합물인 경우, 저변형성, 절곡 내성의 면에서 바람직하다. 또한, 별도의 측면에서는, 상기 (2), (3), (4), (5), (6) 및 (10)과 같은 변성물은, 주쇄에 우레탄 결합을 갖고 있기 때문에 변형에 대하여 바람직하다. 또한, (1), (2), (9) 이외의 수지는, 분자 중에 감광성기를 갖고 있기 때문에 광반응성이 높다는 점에서 바람직하다.Among these carboxyl group-containing resins, preferred are (X) carboxyl group-containing polyurethane resins, in particular those in which isocyanate groups of components (including diisocyanates) having an isocyanate group of the urethane resin are not directly bonded to the benzene ring, and (Y) the above. When the polyfunctional epoxy resin used for the synthesis of the resin is a bisphenol A structure, a bisphenol F structure, a biphenol structure, a biphenyl novolak structure, a bissilenol structure, especially a compound having a biphenyl novolak structure and a hydrogenated compound thereof It is preferable at the point of low deformation, bending resistance. In addition, in another aspect, the modified substances such as (2), (3), (4), (5), (6) and (10) are preferable against deformation since they have a urethane bond in the main chain. . Moreover, since resins other than (1), (2), and (9) have a photosensitive group in a molecule | numerator, it is preferable at the point that photoreactivity is high.
또한, 본 명세서에서 (메트)아크릴레이트란, 아크릴레이트, 메타크릴레이트 및 이들의 혼합물을 총칭하는 용어이며, 다른 유사한 표현에 대해서도 동일하다.Further, in the present specification, the term (meth) acrylate is generically referred to as acrylate, methacrylate and a mixture thereof, and the same applies to other similar expressions.
상기한 바와 같은 카르복실기 함유 수지 (A)는 골격ㆍ중합체의 측쇄에 다수의 유리된 카르복실기를 갖기 때문에, 열경화시의 가교점이 된다. 또한, 광경화성 수지 조성물로 한 경우에는 희알칼리 수용액에 의한 현상이 가능해진다.Since carboxyl group-containing resin (A) mentioned above has many free carboxyl groups in the side chain of a frame | skeleton and a polymer, it becomes a crosslinking point at the time of thermosetting. In addition, when it is set as the photocurable resin composition, image development by a rare alkali aqueous solution is attained.
또한, 상기 카르복실기 함유 수지 (A)의 산가는 바람직하게는 30 내지 200 mgKOH/g의 범위, 보다 바람직하게는 40 내지 200 mgKOH/g, 특히 바람직하게는 45 내지 120 mgKOH/g의 범위에 있는 것이 바람직하다. 알칼리 현상성의 관점에서는 카르복실기 함유 수지의 산가가 30 mgKOH/g 미만이면 알칼리 현상이 곤란해지고, 한편, 200 mgKOH/g을 초과하면 현상액에 의한 노광부의 용해가 진행되기 때문에, 필요 이상으로 라인이 가늘어지거나, 경우에 따라서는 노광부와 미노광부의 구별없이 현상액으로 용해 박리되어, 정상적인 레지스트 패턴의 묘화가 곤란해지기 때문에 바람직하지 않다.The acid value of the carboxyl group-containing resin (A) is preferably in the range of 30 to 200 mgKOH / g, more preferably in the range of 40 to 200 mgKOH / g, particularly preferably in the range of 45 to 120 mgKOH / g. desirable. From the viewpoint of alkali developability, alkali development becomes difficult when the acid value of the carboxyl group-containing resin is less than 30 mgKOH / g. On the other hand, when it exceeds 200 mgKOH / g, dissolution of the exposed portion by the developer proceeds, so that the line becomes thinner than necessary. In some cases, it is not preferable because it is dissolved and peeled off with a developer without distinguishing between the exposed portion and the unexposed portion, and it is difficult to draw a normal resist pattern.
또한, 상기 카르복실기 함유 수지 (A)의 중량 평균 분자량은 수지 골격에 따라 상이하지만, 일반적으로 2,000 내지 150,000, 나아가서는 5,000 내지 100,000의 범위에 있는 것이 바람직하다. 중량 평균 분자량이 2,000 미만인 경우, 태크 프리 성능이 저하되는 경우가 있고, 노광 후의 도막의 내습성이 악화되어 현상시에 막 감소가 발생하며, 해상도가 크게 저하되는 경우가 있다. 한편, 중량 평균 분자량이 150,000을 초과하면, 현상성이 현저히 악화되는 경우가 있으며, 저장 안정성이 저하되는 경우가 있다.Moreover, although the weight average molecular weight of the said carboxyl group-containing resin (A) changes with resin frame | skeleton, it is preferable to exist in the range of 2,000-150,000 normally, and also 5,000-100,000. When the weight average molecular weight is less than 2,000, the tack-free performance may decrease, the moisture resistance of the coating film after exposure deteriorates, the film decreases at the time of image development, and the resolution may fall large. On the other hand, when a weight average molecular weight exceeds 150,000, developability may deteriorate remarkably and storage stability may fall.
상기한 바와 같은 카르복실기 함유 수지 (A)의 배합량은, 전체 조성물 중에 5 내지 60 질량%, 바람직하게는 10 내지 60 질량%, 보다 바람직하게는 20 내지 60 질량%, 특히 바람직하게는 30 내지 50 질량%이다. 상기 범위보다 적은 경우, 도막 강도가 저하되기 때문에 바람직하지 않다. 한편, 상기 범위보다 많은 경우, 조성물의 점성이 높아지거나, 도포성 등이 저하되기 때문에 바람직하지 않다.The compounding quantity of carboxyl group-containing resin (A) as mentioned above is 5-60 mass% in the whole composition, Preferably it is 10-60 mass%, More preferably, it is 20-60 mass%, Especially preferably, it is 30-50 mass %to be. When less than the said range, since coating film strength falls, it is unpreferable. On the other hand, when more than the said range, since the viscosity of a composition becomes high, applicability | paintability, etc. fall, it is not preferable.
수산화알루미늄 (B)로서는 시판된 것을 그대로 사용할 수 있다. 시판품으로서는, 예를 들면 쇼와 덴꼬사 제조 하이디라이트 시리즈, HW, H21, H31, H32, H42M, H43M 등이 있다. 또한, 수산화알루미늄의 입경이 미세한 것이 내절곡성에 효과적이기 때문에, 미리 용제나 수지와 함께 비드밀 등으로 일차 입경까지 분산 가공하고, 필터링 등으로 3 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 1 ㎛ 이상인 것을 여과 선별하여 사용하는 것이 얻어지는 경화 피막의 난연성, 절곡성의 관점에서 바람직하다.As aluminum hydroxide (B), a commercially available thing can be used as it is. As a commercial item, the Showa Denko company Heidilite series, HW, H21, H31, H32, H42M, H43M, etc. are mentioned, for example. In addition, since the fine particle diameter of aluminum hydroxide is effective for bending resistance, the particle size of aluminum hydroxide is dispersed and processed beforehand to the primary particle size with a bead mill or the like together with a solvent or a resin. It is preferable from the viewpoint of the flame retardancy and the bendability of the cured film obtained by using.
이들 수산화알루미늄 (B)의 배합량은, 상기 카르복실기 함유 수지 (A) 100 질량부에 대하여 1 내지 200 질량부의 범위가 바람직하고, 바람직하게는 1 내지 150 질량부, 보다 바람직하게는 10 내지 100 질량부이다.As for the compounding quantity of these aluminum hydroxide (B), the range of 1-200 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of said carboxyl group-containing resin (A), Preferably it is 1-150 mass parts, More preferably, it is 10-100 mass parts to be.
진구상 실리카 (C)는, 평균 입경이 0.25 ㎛, 0.5 ㎛, 1 ㎛, 1.5 ㎛, 2 ㎛, 3 ㎛, 5 ㎛ 등인 시판된 진구상 실리카를 그대로 사용할 수 있다. 시판품으로서는, (주)애드마 테크 제조 SO 시리즈가 있다. 또한, 이 진구상 실리카를 배합한 조성물에 대하여 직접 실란 커플링제 등을 배합할 수도 있지만, 미리 용제, 실란 커플링제와 진구상 실리카를 비드밀 등으로 표면 처리하여, 실란 커플링제가 실리카 표면에 균일하게 처리되도록 분산시키고, 추가로 5 ㎛ 이상의 입자를 필터링 등으로 여과 선별한 것을 사용하는 것이 절곡성의 관점에서 바람직하다.As the spherical silica (C), commercially available spherical silica having an average particle diameter of 0.25 µm, 0.5 µm, 1 µm, 1.5 µm, 2 µm, 3 µm, 5 µm or the like can be used as it is. Commercially available products include ADMA TECHNOLOGY SO series. Moreover, although a silane coupling agent etc. can also be mix | blended directly with the composition which mix | blended this spherical silica, A solvent, a silane coupling agent, and a spherical silica are surface-treated previously with a bead mill, and a silane coupling agent is uniform to a silica surface. It is preferable from the viewpoint of bendability that it disperse | distributes so that it may be processed, and the thing which filtered and filtered the particle | grains of 5 micrometers or more by filtration etc. may be used.
이들 진구상 실리카 (C)의 배합량은, 상기 카르복실기 함유 수지 (A) 100 질량부에 대하여 1 내지 200 질량부의 범위가 바람직하고, 바람직하게는 1 내지 150 질량부, 보다 바람직하게는 5 내지 100 질량부이다.As for the compounding quantity of these spherical silica (C), the range of 1-200 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of said carboxyl group-containing resin (A), Preferably it is 1-150 mass parts, More preferably, it is 5-100 mass parts It is wealth.
본 발명의 조성물을 열경화성 수지 조성물로 조성하여 내열성, 절연 신뢰성 등의 특성을 향상시키는 목적으로 사용되는 열경화성 성분 (D)로서는, 카르복실기 함유 수지의 카르복실기와 반응할 수 있는 분자 중에 2개 이상의 환상 에테르기 및/또는 환상 티오에테르기(이하, 환상 (티오)에테르기로 약칭함)를 갖는 종래 공지된 화합물을 모두 사용할 수 있지만, 그 중에서도 2관능성 이상의 에폭시 수지가 내열성, 금 도금 내성의 면에서 바람직하고, 특히 비페닐 노볼락 골격을 갖는 에폭시 수지가 내열성, 금 도금 내성, 난연성이 향상되기 때문에 바람직하다. 비페닐 노볼락 골격을 갖는 에폭시 수지로서는, 예를 들면 니혼 가야꾸(주) 제조의 NC-3000L, NC-3000, NC-3000H, NC-3100 등을 들 수 있다.As the thermosetting component (D) used for the purpose of forming the composition of the present invention into a thermosetting resin composition to improve properties such as heat resistance and insulation reliability, two or more cyclic ether groups in a molecule capable of reacting with a carboxyl group of a carboxyl group-containing resin. And / or any conventionally known compound having a cyclic thioether group (hereinafter, abbreviated as cyclic (thio) ether group) can be used. Among them, a bifunctional or higher epoxy resin is preferable in terms of heat resistance and gold plating resistance. In particular, epoxy resins having a biphenyl novolak skeleton are preferred because of their improved heat resistance, gold plating resistance and flame retardancy. As an epoxy resin which has a biphenyl novolak skeleton, Nihon Kayaku Co., Ltd. product NC-3000L, NC-3000, NC-3000H, NC-3100, etc. are mentioned, for example.
그 이외에, 본 발명의 열경화성 수지 조성물에 열경화성 성분으로서 사용할 수 있는 분자 중에 2개 이상의 환상 (티오)에테르기를 갖는 열경화성 성분은, 분자 중에 3, 4 또는 5원환의 환상 에테르기 또는 환상 티오에테르기 중 어느 하나 또는 2종의 기를 2개 이상 갖는 화합물이고, 예를 들면 분자 중에 2개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물, 즉 다관능 에폭시 화합물 (D-1), 분자 중에 2개 이상의 옥세타닐기를 갖는 화합물, 즉 다관능 옥세탄 화합물 (D-2), 분자 중에 2개 이상의 티오에테르기를 갖는 화합물, 즉 에피술피드 수지 (D-3) 등을 들 수 있다.In addition, the thermosetting component which has a 2 or more cyclic (thio) ether group in the molecule | numerator which can be used as a thermosetting component in the thermosetting resin composition of this invention is in a 3, 4 or 5-membered ring cyclic ether group or cyclic thioether group in a molecule | numerator. A compound having two or more of any one or two kinds of groups, for example, a compound having two or more epoxy groups in a molecule, that is, a polyfunctional epoxy compound (D-1), a compound having two or more oxetanyl groups in a molecule, That is, a polyfunctional oxetane compound (D-2), the compound which has 2 or more thioether group in a molecule | numerator, ie, episulfide resin (D-3), etc. are mentioned.
상기 다관능 에폭시 화합물 (D-1)로서는, 예를 들면 재팬 에폭시 레진사 제조의 jER828, jER834, jER1001, jER1004, DIC사 제조의 에피크론 840, 에피크론 850, 에피크론 1050, 에피크론 2055, 도토 가세이사 제조의 에포토트 YD-011, YD-013, YD-127, YD-128, 다우 케미칼사 제조의 D.E.R.317, D.E.R.331, D.E.R.661, D.E.R.664, 시바 스페셜티 케미칼즈사 제조의 아랄다이드 6071, 아랄다이드 6084, 아랄다이드 GY250, 아랄다이드 GY260, 스미또모 가가꾸 고교사 제조의 스미-에폭시 ESA-011, ESA-014, ELA-115, ELA-128, 아사히 가세이 고교사 제조의 A.E.R.330, A.E.R.331, A.E.R.661, A.E.R.664 등(모두 상품명)의 비스페놀 A형 에폭시 수지; 재팬 에폭시 레진사 제조의 jERYL903, DIC사 제조의 에피크론 152, 에피크론 165, 도토 가세이사 제조의 에포토트 YDB-400, YDB-500, 다우 케미칼사 제조의 D.E.R.542, 시바 스페셜티 케미칼즈사 제조의 아랄다이드 8011, 스미또모 가가꾸 고교사 제조의 스미-에폭시 ESB-400, ESB-700, 아사히 가세이 고교사 제조의 A.E.R.711, A.E.R.714 등(모두 상품명)의 브롬화 에폭시 수지; 재팬 에폭시 레진사 제조의 jER152, jER154, 다우 케미칼사 제조의 D.E.N.431, D.E.N.438, DIC사 제조의 에피크론 N-730, 에피크론 N-770, 에피크론 N-865, 도토 가세이사 제조의 에포토트 YDCN-701, YDCN-704, 시바 스페셜티 케미칼즈사 제조의 아랄다이드 ECN1235, 아랄다이드 ECN1273, 아랄다이드 ECN1299, 아랄다이드 XPY307, 니혼 가야꾸사 제조의 EPPN-201, EOCN-1025, EOCN-1020, EOCN-104S, RE-306, 스미또모 가가꾸 고교사 제조의 스미-에폭시 ESCN-195X, ESCN-220, 아사히 가세이 고교사 제조의 A.E.R.ECN-235, ECN-299 등(모두 상품명)의 노볼락형 에폭시 수지; DIC사 제조의 에피크론 830, 재팬 에폭시 레진사 제조 jER807, 도토 가세이사 제조의 에포토트 YDF-170, YDF-175, YDF-2004, 시바 스페셜티 케미칼즈사 제조의 아랄다이드 XPY306 등(모두 상품명)의 비스페놀 F형 에폭시 수지; 도토 가세이사 제조의 에포토트 ST-2004, ST-2007, ST-3000(상품명) 등의 수소 첨가 비스페놀 A형 에폭시 수지; 재팬 에폭시 레진사 제조의 jER604, 도토 가세이사 제조의 에포토트 YH-434, 시바 스페셜티 케미칼즈사 제조의 아랄다이드 MY720, 스미또모 가가꾸 고교사 제조의 스미-에폭시 ELM-120 등(모두 상품명)의 글리시딜아민형 에폭시 수지; 시바 스페셜티 케미칼즈사 제조의 아랄다이드 CY-350(상품명) 등의 히단토인형 에폭시 수지; 다이셀 가가꾸 고교사 제조의 셀록사이드 2021, 시바 스페셜티 케미칼즈사 제조의 아랄다이드 CY175, CY179 등(모두 상품명)의 지환식 에폭시 수지; 재팬 에폭시 레진사 제조의 YL-933, 다우 케미칼사 제조의 T.E.N., EPPN-501, EPPN-502 등(모두 상품명)의 트리히드록시페닐메탄형 에폭시 수지; 재팬 에폭시 레진사 제조의 YL-6056, YX-4000, YL-6121(모두 상품명) 등의 비크실레놀형 또는 비페놀형 에폭시 수지 또는 이들의 혼합물; 니혼 가야꾸사 제조 EBPS-200, 아사히 덴까 고교사 제조 EPX-30, 다이닛본 잉크 가가꾸 고교사 제조의 EXA-1514(상품명) 등의 비스페놀 S형 에폭시 수지; 재팬 에폭시 레진사 제조의 jER157S(상품명) 등의 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지; 재팬 에폭시 레진사 제조의 jERYL-931, 시바 스페셜티 케미칼즈사 제조의 아랄다이드 163 등(모두 상품명)의 테트라페닐올에탄형 에폭시 수지; 시바 스페셜티 케미칼즈사 제조의 아랄다이드 PT810, 닛산 가가꾸 고교사 제조의 TEPIC 등(모두 상품명)의 복소환식 에폭시 수지; 닛본 유시사 제조 브렘머 DGT 등의 디글리시딜프탈레이트 수지; 도토 가세이사 제조 ZX-1063 등의 테트라글리시딜크실레노일에탄 수지; 신닛데쯔 가가꾸사 제조 ESN-190, ESN-360, DIC사 제조 HP-4032, EXA-4750, EXA-4700 등의 나프탈렌기 함유 에폭시 수지; DIC사 제조 HP-7200, HP-7200H 등의 디시클로펜타디엔 골격을 갖는 에폭시 수지; 닛본 유시사 제조 CP-50S, CP-50M 등의 글리시딜메타크릴레이트 공중합계 에폭시 수지; 시클로헥실말레이미드와 글리시딜메타크릴레이트의 공중합 에폭시 수지; 에폭시 변성의 폴리부타디엔 고무 유도체(예를 들면 다이셀 가가꾸 고교 제조 PB-3600 등), CTBN 변성 에폭시 수지(예를 들면 도토 가세이사 제조의 YR-102, YR-450 등) 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되지 않는다. 이들 에폭시 수지는, 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the polyfunctional epoxy compound (D-1) include jER828, jER834, jER1001, jER1004 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., Epikron 840, Epikron 850, Epikron 1050, Epikron 2055, Doto Esotto YD-011, YD-013, YD-127, YD-128 by Kasei Co., Ltd., DER317, DER331, DER661, DER664 by Dow Chemical Co., Ltd., Araldide 6071 by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. , Araldide 6084, Araldide GY250, Araldide GY260, Sumitomo Kagaku Kogyo Co., Ltd. Sumi-Epoxy ESA-011, ESA-014, ELA-115, ELA-128, AER of Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. Bisphenol A type epoxy resins such as 330, AER331, AER661, and AER664 (both trade names); JERYL903 made in Japan epoxy resin company, epicron 152 made in DIC company, epicron 165, dopot Kasei Co., Ltd. YPOTT YDB-400, YDB-500, Dow Chemical company's DER542, Ciba specialty chemicals company Brominated epoxy resins such as Araldide 8011, Sumitomo Kagaku Kogyo Co., Ltd. Sumi-Epoxy ESB-400, ESB-700, Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. AER711, AER714 and the like (both trade names); JER152, jER154 manufactured by Japan epoxy resin company, DEN431, DEN438 manufactured by Dow Chemical Company, epicron N-730, epicron N-770, manufactured by DIC Corporation, epicron N-865, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. YDCN-701, YDCN-704, Araldide ECN1235, Araldide ECN1273, Araldide ECN1299, Araldide XPY307 manufactured by Ciba Specialty Chemicals, EPPN-201, EOCN-1025 manufactured by Nihon Kayaku Co., EOCN- Furnace of 1020, EOCN-104S, RE-306, Sumitomo Kagaku Kogyo Co., Ltd. Sumi-epoxy ESCN-195X, ESCN-220, Asahi Kasei Kogyo AERECN-235, ECN-299 (all brand names) Ballac type epoxy resins; Epiclon 830 manufactured by DIC Corporation, jER807 manufactured by Japan Epoxy Resin Corporation, Efotot YDF-170, YDF-175, YDF-2004, Araldide XPY306 manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc. (all brand names) Bisphenol F type epoxy resin; Hydrogenated bisphenol A epoxy resins, such as Efotot ST-2004, ST-2007, and ST-3000 (brand name) by a Toto Kasei company; JER604 made in Japan epoxy resin company, Etoport YH-434 made by Toto Kasei Co., Ltd. Araldide MY720 made by Ciba specialty chemicals company, Sumitomo Kagaku Kogyo Co., Ltd. sumi-epoxy ELM-120 (all brand names) Glycidyl amine epoxy resins; Hydantoin type epoxy resins, such as Araldide CY-350 (brand name) by the Ciba Specialty Chemicals company; Alicyclic epoxy resins such as Celoxide 2021 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., Araldide CY175 manufactured by Ciba Specialty Chemicals, and CY179 (both trade names); Trihydroxyphenylmethane type epoxy resins such as YL-933 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., T.E.N., EPPN-501, EPPN-502, etc. manufactured by Dow Chemical Company; Bixylenol type or biphenol type epoxy resins, such as YL-6056, YX-4000, and YL-6121 (all are brand names) by the Japan epoxy resin company, or mixtures thereof; Bisphenol S type epoxy resins, such as EBPS-200 by Nihon Kayaku Co., Ltd. EPX-30 by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., and EXA-1514 (brand name) by Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd .; Bisphenol A novolak-type epoxy resins, such as jER157S (brand name) by the Japan epoxy resin company; Tetraphenylolethane type epoxy resins, such as jERYL-931 by the Japan epoxy resin company, Araldide 163 by Ciba Specialty Chemicals, Inc. (all are brand names); Heterocyclic epoxy resins, such as Araldide PT810 by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. and TEPIC by Nissan Chemical Industries, Ltd. (all are brand names); Diglycidyl phthalate resins such as Bremmer DGT manufactured by Nippon Yushi Corporation; Tetraglycidyl xylenoylethane resins such as ZX-1063 manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd .; Naphthalene group-containing epoxy resins such as Shin-Netsu Chemical Co., Ltd. ESN-190, ESN-360, DIC Corporation HP-4032, EXA-4750, EXA-4700; Epoxy resins having a dicyclopentadiene skeleton, such as HP-7200 and HP-7200H manufactured by DIC Corporation; Glycidyl methacrylate copolymer epoxy resins such as CP-50S and CP-50M manufactured by Nippon Yushi Corporation; Copolymerized epoxy resins of cyclohexyl maleimide and glycidyl methacrylate; Epoxy-modified polybutadiene rubber derivatives (e.g., PB-3600 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), CTBN-modified epoxy resins (e.g., YR-102, YR-450, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), etc. It is not limited to these. These epoxy resins can be used individually or in combination of 2 or more types.
상기 다관능 옥세탄 화합물 (D-2)로서는, 비스[(3-메틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에테르, 비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에테르, 1,4-비스[(3-메틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, (3-메틸-3-옥세타닐)메틸아크릴레이트, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸아크릴레이트, (3-메틸-3-옥세타닐)메틸메타크릴레이트, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸메타크릴레이트나 이들의 올리고머 또는 공중합체 등의 다관능 옥세탄류 이외에, 옥세탄 알코올과 노볼락 수지, 폴리(p-히드록시스티렌), 카르도형 비스페놀류, 칼릭스아렌류, 칼릭스레조르신아렌류, 또는 실세스퀴옥산 등의 수산기를 갖는 수지의 에테르화물 등을 들 수 있다. 그 이외에, 옥세탄환을 갖는 불포화 단량체와 알킬(메트)아크릴레이트의 공중합체 등도 들 수 있다.Examples of the polyfunctional oxetane compound (D-2) include bis [(3-methyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] ether, bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] ether, 1 , 4-bis [(3-methyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, (3-methyl-3- Oxetanyl) methylacrylate, (3-ethyl-3-oxetanyl) methylacrylate, (3-methyl-3-oxetanyl) methylmethacrylate, (3-ethyl-3-oxetanyl) In addition to polyfunctional oxetanes such as methyl methacrylate and oligomers or copolymers thereof, oxetane alcohols and novolac resins, poly (p-hydroxystyrene), cardo-type bisphenols, calix arenes and calyx rezos And etherates of resins having hydroxyl groups such as lecinarene or silsesquioxane. In addition, the copolymer etc. of the unsaturated monomer which has an oxetane ring, and an alkyl (meth) acrylate are mentioned.
상기 분자 중에 2개 이상의 환상 티오에테르기를 갖는 에피술피드 수지 (D-3)으로서는, 예를 들면 재팬 에폭시 레진사 제조의 비스페놀 A형 에피술피드 수지 YL7000 등을 들 수 있다. 또한, 동일한 합성 방법을 이용하여, 노볼락형 에폭시 수지의 에폭시기의 산소 원자를 황 원자로 치환한 에피술피드 수지 등도 사용할 수 있다.As episulfide resin (D-3) which has two or more cyclic thioether group in the said molecule | numerator, bisphenol-A episulfide resin YL7000 by the Japan epoxy resin company, etc. are mentioned, for example. Moreover, the episulfide resin etc. which substituted the oxygen atom of the epoxy group of the novolak-type epoxy resin with the sulfur atom can also be used using the same synthesis method.
상기 분자 중에 2개 이상의 환상 (티오)에테르기를 갖는 열경화성 성분 (D)의 배합량은, 상기 카르복실기 함유 수지의 카르복실기 1 당량에 대하여 환상 (티오)에테르기가 바람직하게는 0.6 내지 2.5 당량, 보다 바람직하게는 0.8 내지 2.0 당량이 되는 범위에 있다. 분자 중에 2개 이상의 환상 (티오)에테르기를 갖는 열경화성 성분 (D)의 배합량이 0.6 미만인 경우, 솔더 레지스트막에 카르복실기가 잔존하고, 내열성, 내알칼리성, 전기 절연성 등이 저하되기 때문에 바람직하지 않다. 한편, 2.5 당량을 초과하는 경우, 저분자량의 환상 (티오)에테르기가 건조 도막에 잔존함으로써, 도막의 강도 등이 저하되기 때문에 바람직하지 않다.The amount of the thermosetting component (D) having two or more cyclic (thio) ether groups in the molecule is preferably 0.6 to 2.5 equivalents, more preferably 0.6 to 2.5 equivalents, with respect to 1 equivalent of the carboxyl group of the carboxyl group-containing resin. It is in the range which becomes 0.8-2.0 equivalent. When the compounding quantity of the thermosetting component (D) which has two or more cyclic (thio) ether group in a molecule | numerator is less than 0.6, since a carboxyl group remains in a soldering resist film and heat resistance, alkali resistance, electrical insulation, etc. fall, it is unpreferable. On the other hand, when it exceeds 2.5 equivalent, since low-molecular-weight cyclic (thio) ether group remains in a dry coating film, since the intensity | strength of a coating film, etc. fall, it is unpreferable.
본 발명의 경화성 수지 조성물은 경화 도막의 내열성, 절연 신뢰성을 더욱 향상시키는 것을 목적으로서, 상기 분자 중에 2개 이상의 환상 (티오)에테르기를 갖는 열경화성 성분 (D) 이외에 1 분자 중에 2개 이상의 이소시아네이트기 또는 블록화 이소시아네이트기를 갖는 화합물, 멜라민 수지, 멜라민 유도체, 벤조구아나민 수지 등의 아민 수지, 시클로카르보네이트 화합물, 비스말레이미드, 옥사진 화합물, 옥사졸린 화합물, 카르보디이미드 수지 등의 공지 관용의 열경화성 수지를 배합할 수 있다.Curable resin composition of this invention is an object for further improving the heat resistance and insulation reliability of a cured coating film, In addition to the thermosetting component (D) which has 2 or more cyclic (thio) ether group in the said molecule, 2 or more isocyanate groups in 1 molecule or Known and commonly used thermosetting resins such as amine resins, cyclocarbonate compounds, bismaleimides, oxazine compounds, oxazoline compounds, carbodiimide resins such as compounds having a blocked isocyanate group, melamine resins, melamine derivatives and benzoguanamine resins Can be blended.
상기 1 분자 중에 2개 이상의 이소시아네이트기 또는 블록화 이소시아네이트기를 갖는 화합물로서는, 1 분자 중에 2개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 화합물, 즉 폴리이소시아네이트 화합물, 또는 1 분자 중에 2개 이상의 블록화 이소시아네이트기를 갖는 화합물, 즉 블록 이소시아네이트 화합물 등을 들 수 있다.As the compound having two or more isocyanate groups or blocked isocyanate groups in the above one molecule, a compound having two or more isocyanate groups in one molecule, that is, a polyisocyanate compound, or a compound having two or more blocked isocyanate groups in one molecule, that is, a block isocyanate compound Etc. can be mentioned.
상기 폴리이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들면 방향족 폴리이소시아네이트, 지방족 폴리이소시아네이트 또는 지환식 폴리이소시아네이트가 사용된다. 방향족 폴리이소시아네이트의 구체예로서는, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 나프탈렌-1,5-디이소시아네이트, o-크실릴렌디이소시아네이트, m-크실릴렌디이소시아네이트 및 2,4-톨릴렌 이량체를 들 수 있다. 지방족 폴리이소시아네이트의 구체예로서는, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸 헥사메틸렌디이소시아네이트, 4,4-메틸렌비스(시클로헥실이소시아네이트) 및 이소포론디이소시아네이트를 들 수 있다. 지환식 폴리이소시아네이트의 구체예로서는 비시클로헵탄트리이소시아네이트를 들 수 있다. 또한, 상기 이소시아네이트 화합물의 아닥트체, 뷰렛체 및 이소시아누레이트체를 들 수 있다.As said polyisocyanate compound, aromatic polyisocyanate, aliphatic polyisocyanate, or alicyclic polyisocyanate is used, for example. Specific examples of the aromatic polyisocyanate include 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, o-xylylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate and 2,4-tolylene dimer are mentioned. Specific examples of the aliphatic polyisocyanate include tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, methylene diisocyanate, trimethyl hexamethylene diisocyanate, 4,4-methylenebis (cyclohexyl isocyanate) and isophorone diisocyanate. Specific examples of the alicyclic polyisocyanate include bicycloheptane triisocyanate. Moreover, the adduct body, biuret body, and isocyanurate body of the said isocyanate compound are mentioned.
상기 블록 이소시아네이트 화합물에 포함되는 블록화 이소시아네이트기는, 이소시아네이트기가 블록제와의 반응에 의해 보호되어 일시적으로 불활성화된 기이다. 소정 온도로 가열되었을 때 그 블록제가 해리되어 이소시아네이트기가 생성된다.The blocked isocyanate group contained in the blocked isocyanate compound is a group in which an isocyanate group is protected by a reaction with a blocking agent and is temporarily inactivated. When heated to a predetermined temperature, the blocking agent dissociates to form an isocyanate group.
블록 이소시아네이트 화합물로서는, 이소시아네이트 화합물과 이소시아네이트 블록제의 부가 반응 생성물이 사용된다. 블록제와 반응할 수 있는 이소시아네이트 화합물로서는, 이소시아누레이트형, 뷰렛형, 아닥트형 등을 들 수 있다. 이 이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들면 방향족 폴리이소시아네이트, 지방족 폴리이소시아네이트 또는 지환식 폴리이소시아네이트가 사용된다. 방향족 폴리이소시아네이트, 지방족 폴리이소시아네이트 및 지환식 폴리이소시아네이트의 구체예로서는, 상기한 바와 같은 화합물을 들 수 있다.As a block isocyanate compound, the addition reaction product of an isocyanate compound and an isocyanate blocking agent is used. As an isocyanate compound which can react with a blocking agent, an isocyanurate type, a biuret type, an adduct type, etc. are mentioned. As this isocyanate compound, aromatic polyisocyanate, aliphatic polyisocyanate, or alicyclic polyisocyanate is used, for example. Specific examples of the aromatic polyisocyanate, aliphatic polyisocyanate and alicyclic polyisocyanate include the above compounds.
이소시아네이트 블록제로서는, 예를 들면 페놀, 크레졸, 크실레놀, 클로로페놀 및 에틸페놀 등의 페놀계 블록제; ε-카프로락탐, δ-발레로락탐, γ-부티로락탐 및 β-프로피오락탐 등의 락탐계 블록제; 아세토아세트산에틸 및 아세틸아세톤등의 활성 메틸렌계 블록제; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 아밀 알코올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 벤질에테르, 글리콜산메틸, 글리콜산부틸, 디아세톤 알코올, 락트산메틸 및 락트산에틸 등의 알코올계 블록제; 포름알데히독심, 아세토알독심, 아세톡심, 메틸에틸케톡심, 디아세틸모노옥심, 시클로헥산옥심 등의 옥심계 블록제; 부틸머캅탄, 헥실머캅탄, t-부틸머캅탄, 티오페놀, 메틸티오페놀, 에틸티오페놀 등의 머캅탄계 블록제; 아세트산아미드, 벤즈아미드 등의 산 아미드계 블록제; 숙신산이미드 및 말레산이미드 등의 이미드계 블록제; 크실리딘, 아닐린, 부틸아민, 디부틸아민 등의 아민계 블록제; 이미다졸, 2-에틸이미다졸 등의 이미다졸계 블록제; 메틸렌이민 및 프로필렌이민 등의 이민계 블록제 등을 들 수 있다.As an isocyanate blocking agent, For example, phenol type blocking agents, such as phenol, cresol, xylenol, chlorophenol, and ethyl phenol; lactam block agents such as ε-caprolactam, δ-valerolactam, γ-butyrolactam, and β-propiolactam; Active methylene blocking agents such as ethyl acetoacetate and acetylacetone; Methanol, ethanol, propanol, butanol, amyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, benzyl ether, methyl glycolate, glycol Alcohol blocking agents such as butyl acid, diacetone alcohol, methyl lactate, and ethyl lactate; Oxime blocking agents such as formaldehyde doxime, aceto aldoxime, acetoxime, methyl ethyl ketoxime, diacetyl monooxime, and cyclohexane oxime; Mercaptan-based blocking agents such as butyl mercaptan, hexyl mercaptan, t-butyl mercaptan, thiophenol, methylthiophenol, and ethylthiophenol; Acid amide-based blocking agents such as amide acetate and benzamide; Imide block agents such as succinic acid imide and maleic acid imide; Amine blocking agents such as xyldine, aniline, butylamine and dibutylamine; Imidazole blockers such as imidazole and 2-ethylimidazole; And imine-based blocking agents such as methyleneimine and propyleneimine.
블록 이소시아네이트 화합물은 시판된 것일 수도 있으며, 예를 들면 스미듈 BL-3175, BL-4165, BL-1100, BL-1265, 데스모듈 TPLS-2957, TPLS-2062, TPLS-2078, TPLS-2117, 데스모삼 2170, 데스모삼 2265(이상, 스미또모 바이엘 우레탄사 제조, 상품명), 콜로네이트 2512, 콜로네이트 2513, 콜로네이트 2520(이상, 닛본 폴리우레탄 고교사 제조, 상품명), B-830, B-815, B-846, B-870, B-874, B-882(미쯔이 다께다 케미칼사 제조, 상품명), TPA-B80E, 17B-60PX, E402-B80T(아사히 가세이 케미칼즈사 제조, 상품명) 등을 들 수 있다. 또한, 스미듈 BL-3175, BL-4265는 블록제로서 메틸에틸옥심을 사용하여 얻어지는 것이다.Block isocyanate compounds may be commercially available, for example, smidule BL-3175, BL-4165, BL-1100, BL-1265, DeathModule TPLS-2957, TPLS-2062, TPLS-2078, TPLS-2117, Death Moss 2170, Des Moss 2265 (above, Sumitomo Bayer urethane company make, brand name), colonate 2512, colonate 2513, colonate 2520 (more, Nippon Polyurethane high school company make, brand name), B-830, B-815 , B-846, B-870, B-874, B-882 (made by Mitsui Tadada Chemical Co., Ltd.), TPA-B80E, 17B-60PX, E402-B80T (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd., trade names) Can be. In addition, the smead BL-3175 and BL-4265 are obtained using methyl ethyl oxime as a blocking agent.
상기한 1 분자 중에 2개 이상의 이소시아네이트기 또는 블록화 이소시아네이트기를 갖는 화합물은 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The compound which has two or more isocyanate groups or blocked isocyanate groups in said 1 molecule can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
이러한 1 분자 중에 2개 이상의 이소시아네이트기 또는 블록화 이소시아네이트기를 갖는 화합물의 배합량은, 상기 카르복실기 함유 수지 (A) 100 질량부에 대하여 1 내지 100 질량부, 보다 바람직하게는 2 내지 70 질량부의 비율이 적당하다. 상기 배합량이 1 질량부 미만인 경우, 충분한 도막의 강인성이 얻어지지 않기 때문에 바람직하지 않다. 한편, 100 질량부를 초과한 경우, 조성물의 보존 안정성이 저하되기 때문에 바람직하지 않다.As for the compounding quantity of the compound which has two or more isocyanate groups or blocked isocyanate groups in such 1 molecule, the ratio of 1-100 mass parts, More preferably, 2-70 mass parts is suitable with respect to 100 mass parts of said carboxyl group-containing resin (A). . When the said compounding quantity is less than 1 mass part, since the toughness of sufficient coating film is not obtained, it is not preferable. On the other hand, when it exceeds 100 mass parts, since the storage stability of a composition falls, it is unpreferable.
또한, 다른 열경화성 성분으로서는, 멜라민 유도체, 벤조구아나민 유도체 등을 들 수 있다. 예를 들면 메틸올멜라민 화합물, 메틸올벤조구아나민 화합물, 메틸올글리콜우릴 화합물 및 메틸올요소 화합물 등이 있다. 또한, 알콕시메틸화 멜라민 화합물, 알콕시메틸화 벤조구아나민 화합물, 알콕시메틸화 글리콜우릴 화합물 및 알콕시메틸화 요소 화합물은, 각각의 메틸올멜라민 화합물, 메틸올벤조구아나민 화합물, 메틸올글리콜우릴 화합물 및 메틸올요소 화합물의 메틸올기를 알콕시메틸기로 변환함으로써 얻어진다. 이 알콕시메틸기의 종류에 대해서는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 메톡시메틸기, 에톡시메틸기, 프로폭시메틸기, 부톡시메틸기 등으로 할 수 있다. 특히 인체나 환경에 친화적인 포르말린 농도가 0.2 % 이하인 멜라민 유도체가 바람직하다.Moreover, as another thermosetting component, a melamine derivative, a benzoguanamine derivative, etc. are mentioned. For example, a methylol melamine compound, a methylol benzoguanamine compound, a methylol glycoluril compound, a methylol urea compound, etc. are mentioned. The alkoxymethylated melamine compound, the alkoxymethylated benzoguanamine compound, the alkoxymethylated glycoluril compound and the alkoxymethylated urea compound are each methylolmelamine compound, methylolbenzoguanamine compound, methylolglycoluril compound and methylolurea compound It is obtained by converting the methylol group of to an alkoxy methyl group. It does not specifically limit about the kind of this alkoxy methyl group, For example, it can be set as a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a propoxymethyl group, butoxymethyl group. Particularly preferred are melamine derivatives having a formalin concentration of 0.2% or less that is friendly to humans and the environment.
이들의 시판품으로서는, 예를 들면 사이멜 300, 동 301, 동 303, 동 370, 동 325, 동 327, 동 701, 동 266, 동 267, 동 238, 동 1141, 동 272, 동 202, 동 1156, 동 1158, 동 1123, 동 1170, 동 1174, 동 UFR65, 동 300(이상, 미쯔이 사이아나미드(주) 제조), 니칼락 Mx-750, 동 Mx-032, 동 Mx-270, 동 Mx-280, 동 Mx-290, 동 Mx-706, 동 Mx-708, 동 Mx-40, 동 Mx-31, 동 Ms-11, 동 Mw-30, 동 Mw-30HM, 동 Mw-390, 동 Mw-100LM, 동 Mw-750LM(이상, 산와 케미칼(주) 제조) 등을 들 수 있다. 상기 열경화성 성분은 단독으로 또는 2종 이상을 병용할 수 있다.As these commercial items, for example, Cymel 300, East 301, East 303, East 370, East 325, East 327, East 701, East 266, East 267, East 238, East 1141, East 272, East 202, East 1156 , Copper 1158, copper 1123, copper 1170, copper 1174, copper UFR65, copper 300 (above, Mitsui Cyanamid Co., Ltd.), Nikalac Mx-750, copper Mx-032, copper Mx-270, copper Mx- 280, Mx-290, Mx-706, Mx-708, Mx-40, Mx-31, Ms-11, Mw-30, Mw-30HM, Mw-390, Mw- 100 LM, Mw-750 LM (above, Sanwa Chemical Co., Ltd.), etc. are mentioned. The said thermosetting component can be used individually or in combination of 2 or more types.
상기 분자 중에 2개 이상의 환상 (티오)에테르기를 갖는 열경화성 성분 (D)를 사용하는 경우, 열경화 촉매를 함유하는 것이 바람직하다. 이러한 열경화 촉매로서는, 예를 들면 이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 4-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸 유도체; 디시안디아미드, 벤질디메틸아민, 4-(디메틸아미노)-N,N-디메틸벤질아민, 4-메톡시-N,N-디메틸벤질아민, 4-메틸-N,N-디메틸벤질아민 등의 아민 화합물, 아디프산디히드라지드, 세박산디히드라지드 등의 히드라진 화합물; 트리페닐포스핀 등의 인 화합물 등, 시판되어 있는 것으로서는, 예를 들면 시코쿠 가세이 고교사 제조의 2MZ-A, 2MZ-OK, 2PHZ, 2P4BHZ, 2P4MHZ(모두 이미다졸계 화합물의 상품명), 산 아프로사 제조의 U-CAT(등록 상표) 3503N, U-CAT3502T(모두 디메틸아민의 블록 이소시아네이트 화합물의 상품명), DBU, DBN, U-CATSA102, U-CAT5002(모두 이환식 아미딘 화합물 및 그의 염) 등을 들 수 있다. 특별히 이들로 한정되지 않으며, 에폭시 수지나 옥세탄 화합물의 열경화 촉매, 또는 에폭시기 및/또는 옥세타닐기와 카르복실기의 반응을 촉진시키는 것일 수 있고, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다. 또한, 구아나민, 아세토구아나민, 벤조구아나민, 멜라민, 2,4-디아미노-6-메타크릴로일옥시에틸-S-트리아진, 2-비닐-2,4-디아미노-S-트리아진, 2-비닐-4,6-디아미노-S-트리아진ㆍ이소시아누르산 부가물, 2,4-디아미노-6-메타크릴로일옥시에틸-S-트리아진ㆍ이소시아누르산 부가물 등의 S-트리아진 유도체를 사용할 수도 있으며, 바람직하게는 이들의 밀착성 부여제로서도 기능하는 화합물을 상기 열경화 촉매와 병용한다.When using the thermosetting component (D) which has a 2 or more cyclic (thio) ether group in the said molecule, it is preferable to contain a thermosetting catalyst. As such a thermosetting catalyst, for example, imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 4-phenylimidazole Imidazole derivatives such as 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole and 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole; Amines such as dicyandiamide, benzyldimethylamine, 4- (dimethylamino) -N, N-dimethylbenzylamine, 4-methoxy-N, N-dimethylbenzylamine, 4-methyl-N, N-dimethylbenzylamine Hydrazine compounds, such as a compound, adipic dihydrazide, and sebacic acid dihydrazide; As what is marketed, such as phosphorus compounds, such as a triphenyl phosphine, 2MZ-A, 2MZ-OK, 2PHZ, 2P4BHZ, 2P4MHZ (all are brand names of an imidazole type compound) by the Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., and an acid apro U-CAT (registered trademark) 3503N, U-CAT3502T (both trade names of block isocyanate compounds of dimethylamine), DBU, DBN, U-CATSA102, U-CAT5002 (both bicyclic amidine compounds and salts thereof) Can be mentioned. It does not specifically limit to these, It may be what accelerates reaction of the thermosetting catalyst of an epoxy resin or an oxetane compound, or an epoxy group and / or an oxetanyl group, and a carboxyl group, and can also be used individually or in mixture of 2 or more types. Also, guanamine, acetoguanamine, benzoguanamine, melamine, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine, 2-vinyl-2,4-diamino-S-tri Azine, 2-vinyl-4,6-diamino-S-triazine isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine-isocyanuric acid S-triazine derivatives, such as an adduct, can also be used, Preferably, the compound which functions also as these adhesive imparting agents is used together with the said thermosetting catalyst.
이들 열경화 촉매의 배합량은 통상적인 양적 비율로 충분하며, 예를 들면 상기 카르복실기 함유 수지 (A) 100 질량부에 대하여 바람직하게는 0.1 내지 20 질량부, 보다 바람직하게는 0.5 내지 15.0 질량부이다.The compounding quantity of these thermosetting catalysts is sufficient in a normal quantity ratio, For example, Preferably it is 0.1-20 mass parts, More preferably, it is 0.5-15.0 mass parts with respect to 100 mass parts of said carboxyl group-containing resin (A).
본 발명의 경화성 수지 조성물은, 인 함유 화합물 (E)를 포함하는 것이 바람직하다. 인 함유 화합물로서는 유기 인계 난연제로서 관용 공지의 것이 바람직하고, 인산에스테르 및 축합 인산에스테르, 환상 포스파젠 화합물, 포스파젠 올리고머, 포스핀산염 또는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물이 있다.It is preferable that curable resin composition of this invention contains a phosphorus containing compound (E). As a phosphorus containing compound, a conventionally well-known thing is preferable as an organic phosphorus flame retardant, A phosphate ester, a condensed phosphate ester, a cyclic phosphazene compound, a phosphazene oligomer, a phosphinate, or the compound represented by following formula (1) is mentioned.
(식 중, R1, R2 및 R3은 각각 독립적으로 할로겐 원자 이외의 치환기를 나타냄)(Wherein R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a substituent other than a halogen atom)
상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 시판품으로서는, HCA, SANKO-220, M-ESTER, HCA-HQ(모두 산꼬(주)의 상품명) 등이 있다.As a commercial item of the compound represented by the said Formula (1), HCA, SANKO-220, M-ESTER, HCA-HQ (all are brand names of Sanko Corp.), etc. are mentioned.
본 발명에서 사용되는 특히 바람직한 인 함유 화합물 (E)로서는, 반응성기로서 (1) 아크릴레이트기를 갖는 것이나, (2) 페놀성 수산기를 갖는 것, (3) 올리고머 또는 중합체, (4) 포스파젠 올리고머 및 (5) 포스핀산염을 들 수 있다.Particularly preferred phosphorus-containing compounds (E) used in the present invention include those having (1) an acrylate group as the reactive group, (2) those having a phenolic hydroxyl group, (3) oligomers or polymers, and (4) phosphazene oligomers. And (5) phosphinates.
(1) 아크릴레이트기를 갖는 인 함유 화합물(1) Phosphorus-containing compound having an acrylate group
인 원소 함유 아크릴레이트는 인 원소를 갖고 있고, 분자 중에 2개 이상의 (메트)아크릴레이트를 포함하는 화합물이 바람직하고, 구체적으로는 상기 화학식 1에서의 R1과 R2가 수소 원자이고, R3이 아크릴레이트 유도체인 화합물을 들 수 있고, 일반적으로 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드와 공지 관용의 다관능 아크릴레이트 단량체의 마이클 부가 반응에 의해 합성할 수 있다.The phosphorus element-containing acrylate has a phosphorus element, preferably a compound containing two or more (meth) acrylates in the molecule, specifically, R 1 and R 2 in the formula (1) are hydrogen atoms, R 3 The compound which is this acrylate derivative can be mentioned, Generally, it synthesize | combines by the Michael addition reaction of 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphafaphenanthrene-10-oxide and a well-known conventional polyfunctional acrylate monomer. can do.
상기 공지 관용의 아크릴레이트 단량체로서는, 에틸렌글리콜, 메톡시테트라에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 글리콜의 디아크릴레이트류; 헥산디올, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 트리스-히드록시에틸이소시아누레이트 등의 다가 알코올 또는 이들의 에틸렌옥사이드 부가물, 프로필렌옥사이드 부가물 또는 카프로락톤 부가물 등의 다가 아크릴레이트류; 페녹시아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 및 이들 페놀류의 에틸렌옥사이드 부가물 또는 프로필렌옥사이드 부가물 등의 다가 아크릴레이트류; 및 상기 폴리 알코올류의 우레탄아크릴레이트류, 글리세린디글리시딜에테르, 글리세린트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 트리글리시딜이소시아누레이트 등의 글리시딜에테르의 다가 아크릴레이트류; 및 멜라민아크릴레이트 및/또는 상기 아크릴레이트에 대응하는 각 메타크릴레이트류 등을 들 수 있다.As said commonly used acrylate monomer, Diacrylates of glycol, such as ethylene glycol, methoxy tetraethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol; Polyhydric alcohols such as hexanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, tris-hydroxyethyl isocyanurate, or polyhydric alcohols such as ethylene oxide adducts, propylene oxide adducts or caprolactone adducts Rates; Polyhydric acrylates, such as phenoxy acrylate, bisphenol A diacrylate, and ethylene oxide adduct or propylene oxide adduct of these phenols; And polyhydric acrylates of glycidyl ethers such as urethane acrylates, glycerin diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, and triglycidyl isocyanurate of the above polyalcohols. ; And melamine acrylate and / or each methacrylate corresponding to the said acrylate etc. are mentioned.
(2) 페놀성 수산기를 갖는 인 함유 화합물(2) Phosphorus-containing compound having phenolic hydroxyl group
이 페놀성 수산기를 갖는 인 함유 화합물은 소수성, 내열성이 높고, 가수분해에 의한 전기 특성의 저하가 없고, 땜납 내열성이 높다. 또한, 바람직한 조합으로서는, (D) 성분으로서 비페닐 골격을 갖는 에폭시 수지나 기타 에폭시 수지를 사용함으로써 에폭시 수지와 반응하고, 네트워크에 수용되기 때문에, 경화 후에 블리딩 아웃되지 않는다는 이점이 얻어진다. 시판품으로서는, 산꼬(주) 제조 HCA-HQ 등이 있다.The phosphorus containing compound which has this phenolic hydroxyl group has high hydrophobicity and heat resistance, there is no fall of the electrical property by hydrolysis, and high solder heat resistance. Moreover, as a preferable combination, since it reacts with an epoxy resin and is accommodated in a network by using the epoxy resin or other epoxy resin which has a biphenyl skeleton as (D) component, the advantage that it does not bleed out after hardening is acquired. Commercially available products include HCA-HQ manufactured by Sanko Co., Ltd.
(3) 올리고머 또는 중합체(3) oligomers or polymers
올리고머 또는 중합체인 인 함유 화합물은 알킬쇄의 영향에 의해 절곡성의 저하가 적고, 분자량이 크기 때문에 경화 후의 블리딩 아웃이 없다는 이점이 얻어진다. 시판품으로서는, 산꼬(주) 제조 M-Ester-HP, 도요보(주) 제조 인 함유 바이론 337 등이 있다.The phosphorus containing compound which is an oligomer or a polymer has the advantage that there is little fall of bendability under the influence of an alkyl chain, and there is no bleeding-out after hardening because a molecular weight is large. Commercially available products include Sanko Co., Ltd. M-Ester-HP, Toyobo Co., Ltd. phosphorus containing Viron 337, and the like.
(4) 포스파젠 올리고머(4) phosphazene oligomers
포스파젠 올리고머로서는 페녹시 포스파젠 화합물이 유효하고, 치환 또는 비치환 페녹시 포스파젠 올리고머 또는 3량체, 4량체, 5량체의 환상물이 있으며, 액상이나 고체 분말인 것이 있지만 모두 바람직하게 사용할 수 있다. 시판품으로서는, (주)후시미 세이야꾸쇼 제조 FP-100, FP-300, FP-390 등이 있다. 이 중에서도, 알킬기 또는 수산기나 시아노기 등의 극성기로 치환된 페녹시 포스파젠 올리고머가 카르복실기 함유 수지로의 용해성이 높고, 다량으로 첨가하여도 재결정 등의 문제점이 없기 때문에 바람직하다.As the phosphazene oligomer, a phenoxy phosphazene compound is effective, and there are substituted or unsubstituted phenoxy phosphazene oligomers or terpolymers, tetramers, and pentamers, and although they are liquid or solid powders, all can be preferably used. . Commercially available products include FP-100, FP-300, and FP-390 manufactured by Fushimi Seiyakusho Co., Ltd. Among these, phenoxy phosphazene oligomers substituted with an alkyl group or a polar group such as a hydroxyl group or a cyano group are preferable because they have high solubility in a carboxyl group-containing resin and do not have problems such as recrystallization even when added in large amounts.
(5) 포스핀산염(5) phosphinates
포스핀산염을 사용함으로써, 경화 도막 유연성을 손상시키지 않고 난연성을 더욱 향상시킬 수 있다. 또한, 내열성이 우수한 포스핀산염을 사용함으로써 실장시의 열 프레스에 있어서 난연제의 블리딩 아웃을 억제할 수 있다. 시판품으로서는, 클라리언트사 제조의 EXOLIT OP930, EXOLIT OP935 등을 들 수 있다.By using phosphinate, flame retardance can be improved further, without impairing the cured coating film flexibility. In addition, by using phosphinate excellent in heat resistance, the bleeding out of the flame retardant can be suppressed in the heat press during mounting. Examples of commercially available products include EXOLIT OP930, EXOLIT OP935 manufactured by Clariant.
이들 난연제로서의 인 함유 화합물 (E)의 배합량은, 상기 카르복실기 함유 수지 (A) 100 질량부에 대하여 0 내지 200 질량부의 범위가 바람직하고, 특히 바람직하게는 0 내지 100 질량부이다. 이 이상 다량으로 배합하면, 얻어지는 경화 피막의 절곡 특성 등이 악화되기 때문에 바람직하지 않다.As for the compounding quantity of the phosphorus containing compound (E) as these flame retardants, the range of 0-200 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of said carboxyl group-containing resin (A), Especially preferably, it is 0-100 mass parts. If it mix | blends in a large amount more than this, since the bending characteristic etc. of the obtained cured film deteriorate, it is unpreferable.
본 발명의 광경화성 수지 조성물을 구성하는 광중합 개시제 (F)로서는, 옥심에스테르기를 갖는 옥심에스테르계 광중합 개시제, α-아미노아세토페논계 광중합 개시제, 아실포스핀옥사이드계 광중합 개시제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 광중합 개시제를 사용할 수 있다.As a photoinitiator (F) which comprises the photocurable resin composition of this invention, 1 selected from the group which consists of an oxime ester system photoinitiator which has an oxime ester group, the (alpha)-amino acetophenone system photoinitiator, and the acylphosphine oxide type photoinitiator It is possible to use more than one kind of photopolymerization initiator.
옥심에스테르계 광중합 개시제로서는, 시판품으로서 시바 스페셜티 케미칼즈사 제조의 CGI-325, 이르가큐어-OXE01, 이르가큐어-OXE02, 아데카사 제조 N-1919, 아데카아크루즈 NCI-831 등을 들 수 있다.Examples of commercially available oxime ester photopolymerization initiators include CGI-325, Irgacure-OXE01, Irgacure-OXE02, Adeka N-1919, and Adeka Acruise NCI-831 manufactured by Ciba Specialty Chemicals.
또한, 분자 내에 2개의 옥심에스테르기를 갖는 광중합 개시제도 바람직하게 사용할 수 있으며, 구체적으로는 하기 화학식 2로 표시되는 카르바졸 구조를 갖는 옥심에스테르 화합물을 들 수 있다.Moreover, the photoinitiator which has two oxime ester groups in a molecule | numerator can also be used preferably, Specifically, the oxime ester compound which has the carbazole structure represented by following General formula (2) is mentioned.
(식 중, X는 수소 원자, 탄소수 1 내지 17의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기, 페닐기(탄소수 1 내지 17의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기, 아미노기, 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 갖는 알킬아미노기 또는 디알킬아미노기에 의해 치환되어 있음), 나프틸기(탄소수 1 내지 17의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기, 아미노기, 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 갖는 알킬아미노기 또는 디알킬아미노기에 의해 치환되어 있음)를 나타내고, Y, Z는 각각 수소 원자, 탄소수 1 내지 17의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기, 할로겐기, 페닐기(탄소수 1 내지 17의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기, 아미노기, 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 갖는 알킬아미노기 또는 디알킬아미노기에 의해 치환되어 있음), 나프틸기(탄소수 1 내지 17의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기, 아미노기, 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 갖는 알킬아미노기 또는 디알킬아미노기에 의해 치환되어 있음), 안트릴기, 피리딜기, 벤조푸릴기, 벤조티에닐기를 나타내고, Ar은 탄소수 1 내지 10의 알킬렌, 비닐렌, 페닐렌, 비페닐렌, 피리딜렌, 나프틸렌, 티오펜, 안트릴렌, 티에닐렌, 푸릴렌, 2,5-피롤-디일, 4,4'-스틸벤-디일, 4,2'-스티렌-디일을 나타내고, n은 0 또는 1의 정수임)(Wherein X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 17 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a phenyl group (an alkyl group having 1 to 17 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an amino group, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms) Substituted by an alkylamino group or a dialkylamino group), a naphthyl group (an alkyl group having 1 to 17 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an amino group, or an alkylamino group having 1 to 8 carbon atoms or a dialkylamino group) And Y and Z each represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 17 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen group, a phenyl group (an alkyl group having 1 to 17 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, Substituted by an amino group, an alkylamino group having 1 to 8 carbon atoms or a dialkylamino group), a naphthyl group (an alkyl group having 1 to 17 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an amino group) Substituted with an alkyl group or a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms), an anthryl group, a pyridyl group, a benzofuryl group and a benzothienyl group, Ar is an alkylene having 1 to 10 carbon atoms, Vinylene, phenylene, biphenylene, pyridylene, naphthylene, thiophene, anthylene, thienylene, furylene, 2,5-pyrrole-diyl, 4,4'-stilbene-diyl, 4,2 '-Styrene-diyl, n is an integer of 0 or 1)
특히 상기 화학식 2 중, X, Y가 각각 메틸기 또는 에틸기이고, Z는 메틸 또는 페닐이고, n은 0이고, Ar은 페닐렌, 나프틸렌, 티오펜 또는 티에닐렌인 것이 바람직하다.In particular, in Formula 2, X and Y are each methyl or ethyl, Z is methyl or phenyl, n is 0, and Ar is phenylene, naphthylene, thiophene or thienylene.
α-아미노아세토페논계 광중합 개시제로서는, 구체적으로 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로파논-1, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논, N,N-디메틸아미노아세토페논 등을 들 수 있다. 시판품으로서는, 시바 스페셜티 케미칼즈사 제조의 이르가큐어-907, 이르가큐어-369, 이르가큐어-379 등을 들 수 있다.Specific examples of the α-aminoacetophenone-based photopolymerization initiator include 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1 and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- ( 4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-buta Non, N, N-dimethylamino acetophenone etc. are mentioned. Examples of commercially available products include Irgacure-907, Irgacure-369 and Irgacure-379 manufactured by Ciba Specialty Chemicals.
아실포스핀옥사이드계 광중합 개시제로서는, 구체적으로 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸-펜틸포스핀옥사이드 등을 들 수 있다. 시판품으로서는, 바스프(BASF)사 제조의 루시린 TPO, 시바 스페셜티 케미칼즈사 제조의 이르가큐어-819 등을 들 수 있다.As an acyl phosphine oxide type photoinitiator, 2,4,6- trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide, bis (2,4,6- trimethyl benzoyl)-phenyl phosphine oxide, bis (2, 6- dimethoxy specifically, Benzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, and the like. As a commercial item, Lucirin TPO by BASF Corporation, Irgacure-819 by Ciba Specialty Chemicals Corporation, etc. are mentioned.
상기한 광중합 개시제 중에서도 특히 바람직한 것은 아실포스핀옥사이드계 개시제이며, 포토 브릿지 성능으로부터 빛의 투과성이 가장 우수하고, 난연성에 효과가 있다. 또한, 옥심에스테르계 개시제는 개시제 효율이 우수하고, 소량으로도 감도 향상에 효과적이기 때문에, 레지스트 피막 형성 후의 열 처리시의 아웃 가스가 적고, 피막의 변형 감소에 효과적이기 때문에 바람직하다. 특히 바람직한 것은 양자의 병용이다.Particularly preferred among the above-described photopolymerization initiators are acylphosphine oxide-based initiators, which have the best light transmittance from the photo bridge performance and are effective in flame retardancy. In addition, since the oxime ester initiator is excellent in initiator efficiency and effective in improving the sensitivity even in a small amount, it is preferable because there is little outgas during heat treatment after forming the resist film, and it is effective for reducing the deformation of the film. Particularly preferred is a combination of both.
상기한 바와 같은 광중합 개시제 (F)의 배합량은, 상기 카르복실기 함유 수지 (A) 100 질량부에 대하여 0.01 내지 30 질량부, 바람직하게는 0.5 내지 15 질량부의 범위가 적당하다. 광중합 개시제 (F)의 배합량이 0.01 질량부 미만이면, 구리 상에서의 광경화성이 부족하고, 도막이 박리되거나, 내약품성 등의 도막 특성이 저하되기 때문에 바람직하지 않다. 한편, 30 질량부를 초과하면, 광중합 개시제 (F)의 솔더 레지스트 도막 표면에서의 광흡수가 격해지고, 심부 경화성이 저하되는 경향이 있기 때문에 바람직하지 않다.As for the compounding quantity of photoinitiator (F) mentioned above, 0.01-30 mass parts with respect to 100 mass parts of said carboxyl group-containing resin (A), Preferably the range of 0.5-15 mass parts is suitable. If the compounding quantity of a photoinitiator (F) is less than 0.01 mass part, since photocurability on copper is inadequate, a coating film peels off or coating film properties, such as chemical resistance, fall, it is unpreferable. On the other hand, when it exceeds 30 mass parts, since the light absorption on the surface of the soldering resist coating film of a photoinitiator (F) increases, deep-curing property tends to fall, it is unpreferable.
또한, 상기 화학식 2로 표시되는 기를 갖는 옥심에스테르계 광중합 개시제의 경우, 그 배합량은 상기 카르복실기 함유 수지 (A) 100 질량부에 대하여 바람직하게는 0.01 내지 20 질량부, 보다 바람직하게는 0.01 내지 5 질량부의 범위가 바람직하다.In addition, in the case of the oxime ester type photoinitiator which has group represented by the said Formula (2), the compounding quantity becomes like this. Preferably it is 0.01-20 mass parts with respect to 100 mass parts of said carboxyl group-containing resin (A), More preferably, it is 0.01-5 mass Negative ranges are preferred.
그 이외에 본 발명의 광경화성 수지 조성물에 바람직하게 사용할 수 있는 광중합 개시제, 광개시 보조제 및 증감제로서는, 벤조인 화합물, 아세토페논 화합물, 안트라퀴논 화합물, 티오크산톤 화합물, 케탈 화합물, 벤조페논 화합물, 크산톤 화합물 및 3급 아민 화합물 등을 들 수 있다.In addition, as a photoinitiator, a photoinitiator, and a sensitizer which can be used suitably for the photocurable resin composition of this invention, a benzoin compound, an acetophenone compound, an anthraquinone compound, a thioxanthone compound, a ketal compound, a benzophenone compound, A xanthone compound, a tertiary amine compound, etc. are mentioned.
벤조인 화합물의 구체예로서는, 예를 들면 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르이다.As a specific example of a benzoin compound, it is benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, for example.
아세토페논 화합물의 구체예로서는, 예를 들면 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논이다.Specific examples of the acetophenone compound include acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, and 1,1-dichloroacetophenone.
안트라퀴논 화합물의 구체예로서는, 예를 들면 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논이다.As an example of an anthraquinone compound, 2-methyl anthraquinone, 2-ethyl anthraquinone, 2-t- butyl anthraquinone, and 1-chloro anthraquinone are mentioned, for example.
티오크산톤 화합물의 구체예로서는, 예를 들면 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤이다.As a specific example of a thioxanthone compound, it is 2, 4- dimethyl thioxanthone, 2, 4- diethyl thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, 2, 4- diisopropyl thioxanthone, for example.
케탈 화합물의 구체예로서는, 예를 들면 아세토페논디메틸케탈, 벤질디메틸케탈이다.Specific examples of the ketal compound include acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal.
벤조페논 화합물의 구체예로서는, 예를 들면 벤조페논, 4-벤조일디페닐술피드, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 4-벤조일-4'-에틸디페닐술피드, 4-벤조일-4'-프로필디페닐술피드이다.As a specific example of a benzophenone compound, for example, benzophenone, 4-benzoyl diphenyl sulfide, 4-benzoyl-4'-methyl diphenyl sulfide, 4-benzoyl-4'-ethyldiphenyl sulfide, 4-benzoyl -4'-propyldiphenylsulfide.
3급 아민 화합물의 구체예로서는, 예를 들면 에탄올아민 화합물, 디알킬아미노벤젠 구조를 갖는 화합물, 예를 들면 4,4'-디메틸아미노벤조페논(니혼 소다사 제조 닛소큐어 MABP), 4,4'-디에틸아미노벤조페논(호도가야 가가꾸사 제조 EAB) 등의 디알킬아미노벤조페논, 7-(디에틸아미노)-4-메틸-2H-1-벤조피란-2-온(7-(디에틸아미노)-4-메틸쿠마린) 등의 디알킬아미노기 함유 쿠마린 화합물, 4-디메틸아미노벤조산에틸(니혼 가야꾸사 제조 카야큐어 EPA), 2-디메틸아미노벤조산에틸(인터내셔날 바이오-신세틱스사 제조 퀀타큐어(Quantacure) DMB), 4-디메틸아미노벤조산(n-부톡시)에틸(인터내셔날 바이오-신세틱스사 제조 퀀타큐어 BEA), p-디메틸아미노벤조산이소아밀에틸에스테르(니혼 가야꾸사 제조 카야큐어 DMBI), 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실(반 다이크(Van Dyk)사 제조 에솔롤(Esolol) 507), 4,4'-디에틸아미노벤조페논(호도가야 가가꾸사 제조 EAB)이다.As a specific example of a tertiary amine compound, For example, an ethanolamine compound, the compound which has a dialkylaminobenzene structure, for example, 4,4'- dimethylamino benzophenone (Nisso Cure MABP by Nippon Soda Co., Ltd.), 4,4 ' -Dialkylaminobenzophenones such as diethylaminobenzophenone (EAB manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), 7- (diethylamino) -4-methyl-2H-1-benzopyran-2-one (7- (di Dialkylamino group-containing coumarin compounds such as ethylamino) -4-methylcoumarin), ethyl 4-dimethylaminobenzoate (Kayacure EPA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), ethyl 2-dimethylaminobenzoate (Quantacure manufactured by International Bio-Synthetics Co., Ltd.) (Quantacure) DMB), 4-dimethylaminobenzoic acid (n-butoxy) ethyl (Quantacure BEA manufactured by International Bio-Synthetics Co., Ltd.), isoamylethyl ester of p-dimethylaminobenzoic acid (Kayakyuer DMBI manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) , 4-dimethylaminobenzoic acid 2-ethylhexyl (manufactured by Van Dyk) Esolol 507) and 4,4'-diethylaminobenzophenone (EAB by Hodogaya Chemical Co., Ltd.).
상기한 화합물 중에서도, 티오크산톤 화합물 및 3급 아민 화합물이 바람직하다. 본 발명의 조성물에는, 티오크산톤 화합물이 포함되는 것이 심부 경화성의 면에서 바람직하고, 그 중에서도 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤 등의 티오크산톤 화합물이 바람직하다.Among the above compounds, thioxanthone compounds and tertiary amine compounds are preferable. It is preferable that the thioxanthone compound is contained in the composition of the present invention from the viewpoint of deep hardening, and in particular, 2,4-dimethyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, Thioxanthone compounds, such as 2, 4- diisopropyl thioxanthone, are preferable.
이러한 티오크산톤 화합물의 배합량으로서는, 상기 카르복실기 함유 수지 (A) 100 질량부에 대하여 바람직하게는 20 질량부 이하, 보다 바람직하게는 10 질량부 이하의 비율이 적당하다. 티오크산톤 화합물의 배합량이 지나치게 많으면 후막 경화성이 저하되고, 제품의 비용 상승으로 이어지기 때문에 바람직하지 않다.As a compounding quantity of such a thioxanthone compound, Preferably it is 20 mass parts or less with respect to 100 mass parts of said carboxyl group-containing resin (A), More preferably, the ratio of 10 mass parts or less is suitable. When the compounding quantity of a thioxanthone compound is too large, since thick film sclerosis | hardenability will fall and it will lead to the cost increase of a product, it is unpreferable.
3급 아민 화합물로서는 디알킬아미노벤젠 구조를 갖는 화합물이 바람직하고, 그 중에서도, 디알킬아미노벤조페논 화합물, 최대 흡수 파장이 350 내지 410 ㎚에 있는 디알킬아미노기 함유 쿠마린 화합물이 특히 바람직하다. 디알킬아미노벤조페논 화합물로서는, 4,4'-디에틸아미노벤조페논이 독성도 낮다는 점에서 바람직하다. 최대 흡수 파장이 350 내지 410 ㎚에 있는 디알킬아미노기 함유 쿠마린 화합물은, 최대 흡수 파장이 자외선 영역에 있기 때문에 착색이 적고, 무색 투명한 감광성 조성물은 물론, 착색 안료를 사용하여 착색 안료 자체의 색을 반영한 착색 솔더 레지스트막을 제공하는 것이 가능해진다. 특히, 7-(디에틸아미노)-4-메틸-2H-1-벤조피란-2-온이 파장 400 내지 410 ㎚의 레이저광에 대하여 우수한 증감 효과를 나타내기 때문에 바람직하다.As the tertiary amine compound, a compound having a dialkylaminobenzene structure is preferable, and a dialkylaminobenzophenone compound and a dialkylamino group-containing coumarin compound having a maximum absorption wavelength of 350 to 410 nm are particularly preferable. As a dialkylamino benzophenone compound, 4,4'- diethylamino benzophenone is preferable at the point of low toxicity. The dialkylamino group-containing coumarin compound having a maximum absorption wavelength of 350 to 410 nm has little coloration because the maximum absorption wavelength is in the ultraviolet region, and reflects the color of the colored pigment itself using a color pigment as well as a colorless transparent photosensitive composition. It is possible to provide a colored solder resist film. In particular, 7- (diethylamino) -4-methyl-2H-1-benzopyran-2-one is preferable because it exhibits an excellent sensitizing effect on laser light having a wavelength of 400 to 410 nm.
이러한 3급 아민 화합물의 배합량으로서는, 상기 카르복실기 함유 수지 (A) 100 질량부에 대하여 바람직하게는 0.1 내지 20 질량부, 보다 바람직하게는 0.1 내지 10 질량부의 비율이다. 3급 아민 화합물의 배합량이 0.1 질량부 미만이면, 충분한 증감 효과를 얻을 수 없는 경향이 있다. 한편, 20 질량부를 초과하면, 3급 아민 화합물에 의한 건조 솔더 레지스트 도막의 표면에서의 광흡수가 격해지고, 심부 경화성이 저하되는 경향이 있다.As a compounding quantity of such a tertiary amine compound, Preferably it is 0.1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of said carboxyl group-containing resin (A), More preferably, it is the ratio of 0.1-10 mass parts. When the compounding quantity of a tertiary amine compound is less than 0.1 mass part, there exists a tendency for sufficient sensitization effect to not be acquired. On the other hand, when it exceeds 20 mass parts, there exists a tendency for the light absorption on the surface of the dry solder resist coating film by a tertiary amine compound to worsen, and deep-curing property falls.
본 발명의 광경화성 수지 조성물에는, 감도를 향상시키기 위해 연쇄 이동제로서 공지 관용의 N-페닐글리신류, 페녹시아세트산류, 티오페녹시아세트산류, 머캅토티아졸 등을 사용할 수 있다. 연쇄 이동제의 구체예로서는, 예를 들면 머캅토숙신산, 머캅토아세트산, 머캅토프로피온산, 메티오닌, 시스테인, 티오살리실산 및 그의 유도체 등의 카르복실기를 갖는 연쇄 이동제; 머캅토에탄올, 머캅토프로판올, 머캅토부탄올, 머캅토프로판디올, 머캅토부탄디올, 히드록시벤젠티올 및 그의 유도체 등의 수산기를 갖는 연쇄 이동제; 1-부탄티올, 부틸-3-머캅토프로피오네이트, 메틸-3-머캅토프로피오네이트, 2,2-(에틸렌디옥시)디에탄티올, 에탄티올, 4-메틸벤젠티올, 도데실머캅탄, 프로판티올, 부탄티올, 펜탄티올, 1-옥탄티올, 시클로펜탄티올, 시클로헥산티올, 티오글리세롤, 4,4-티오비스벤젠티올 등이다.In the photocurable resin composition of the present invention, known conventional N-phenylglycines, phenoxyacetic acids, thiophenoxyacetic acids, mercaptothiazole and the like can be used as the chain transfer agent in order to improve the sensitivity. As a specific example of a chain transfer agent, For example, Chain transfer agent which has carboxyl groups, such as mercaptosuccinic acid, mercaptoacetic acid, mercaptopropionic acid, methionine, cysteine, thiosalicylic acid, and derivatives thereof; Chain transfer agents having hydroxyl groups such as mercaptoethanol, mercaptopropanol, mercaptobutanol, mercaptopropanediol, mercaptobutanediol, hydroxybenzenethiol and derivatives thereof; 1-butanethiol, butyl-3-mercaptopropionate, methyl-3-mercaptopropionate, 2,2- (ethylenedioxy) diethanethiol, ethanethiol, 4-methylbenzenethiol, dodecylmercaptan , Propanethiol, butanethiol, pentanethiol, 1-octanethiol, cyclopentanethiol, cyclohexanethiol, thioglycerol, 4,4-thiobisbenzenethiol and the like.
또한, 연쇄 이동제로서 기능하는 머캅토기를 갖는 복소환 화합물로서, 예를 들면 머캅토-4-부티로락톤(별칭: 2-머캅토-4-부타놀리드), 2-머캅토-4-메틸-4-부티로락톤, 2-머캅토-4-에틸-4-부티로락톤, 2-머캅토-4-부티로티오락톤, 2-머캅토-4-부티로락탐, N-메톡시-2-머캅토-4-부티로락탐, N-에톡시-2-머캅토-4-부티로락탐, N-메틸-2-머캅토-4-부티로락탐, N-에틸-2-머캅토-4-부티로락탐, N-(2-메톡시)에틸-2-머캅토-4-부티로락탐, N-(2-에톡시)에틸-2-머캅토-4-부티로락탐, 2-머캅토-5-발레로락톤, 2-머캅토-5-발레로락탐, N-메틸-2-머캅토-5-발레로락탐, N-에틸-2-머캅토-5-발레로락탐, N-(2-메톡시)에틸-2-머캅토-5-발레로락탐, N-(2-에톡시)에틸-2-머캅토-5-발레로락탐 및 2-머캅토-6-헥사노락탐 등을 들 수 있다.Furthermore, as a heterocyclic compound having a mercapto group functioning as a chain transfer agent, for example, mercapto-4-butyrolactone (alias 2-mercapto-4-butanolide) and 2-mercapto-4-methyl 4-butyrolactone, 2-mercapto-4-ethyl-4-butyrolactone, 2-mercapto-4-butyrothiolactone, 2-mercapto-4-butyrolactam, N-methoxy- 2-mercapto-4-butyrolactam, N-ethoxy-2-mercapto-4-butyrolactam, N-methyl-2-mercapto-4-butyrolactam, N-ethyl-2-mercapto 4-butyrolactam, N- (2-methoxy) ethyl-2-mercapto-4-butyrolactam, N- (2-ethoxy) ethyl-2-mercapto-4-butyrolactam, 2 Mercapto-5-valerolactone, 2-mercapto-5-valerolactam, N-methyl-2-mercapto-5-valerolactam, N-ethyl-2-mercapto-5-valerolactam , N- (2-methoxy) ethyl-2-mercapto-5-valerolactam, N- (2-ethoxy) ethyl-2-mercapto-5-valerolactam and 2-mercapto-6- Hexanolactam etc. are mentioned.
특히, 광경화성 수지 조성물의 현상성을 손상시키지 않는 연쇄 이동제인 머캅토기를 갖는 복소환 화합물로서, 머캅토벤조티아졸, 3-머캅토-4-메틸-4H-1,2,4-트리아졸, 5-메틸-1,3,4-티아디아졸-2-티올, 1-페닐-5-머캅토-1H-테트라졸이 바람직하다. 이들 연쇄 이동제는, 단독으로 또는 2종 이상을 병용할 수 있다.In particular, as a heterocyclic compound having a mercapto group which is a chain transfer agent which does not impair the developability of the photocurable resin composition, mercaptobenzothiazole, 3-mercapto-4-methyl-4H-1,2,4-triazole , 5-methyl-1,3,4-thiadiazole-2-thiol and 1-phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole are preferred. These chain transfer agents can be used individually or in combination of 2 or more types.
이들 광중합 개시제, 광개시 보조제 및 증감제는, 단독으로 또는 2종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있다.These photoinitiators, photoinitiator, and sensitizer can be used individually or as a mixture of 2 or more types.
이러한 광중합 개시제, 광개시 보조제 및 증감제의 총량은, 상기 카르복실기 함유 수지 (A) 100 질량부에 대하여 35 질량부 이하가 되는 범위인 것이 바람직하다. 35 질량부를 초과하면, 이들의 광흡수에 의해 심부 경화성이 저하되는 경향이 있다.It is preferable that the total amount of such a photoinitiator, a photoinitiation adjuvant, and a sensitizer is 35 mass parts or less with respect to 100 mass parts of said carboxyl group-containing resin (A). When it exceeds 35 mass parts, there exists a tendency for deep-part sclerosis | hardenability to fall by these light absorption.
본 발명의 조성물을 광경화성 수지 조성물로 조성하기 위해 사용되는 광중합성 단량체 (G)는, 활성 에너지선 조사에 의해 광경화되어 본 발명의 광경화성 수지 조성물을 알칼리 수용액에 불용화시키거나, 또는 불용화를 돕는 것이다. 이러한 화합물로서는, 에틸렌글리콜, 메톡시테트라에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 글리콜의 디아크릴레이트류; 헥산디올, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 트리스-히드록시에틸이소시아누레이트 등의 다가 알코올 또는 이들의 에틸렌옥사이드 부가물 또는 프로필렌옥사이드 부가물 등의 다가 아크릴레이트류; 페녹시아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 및 이들 페놀류의 에틸렌옥사이드 부가물 또는 프로필렌옥사이드 부가물 등의 다가 아크릴레이트류; 글리세린디글리시딜에테르, 글리세린트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 트리글리시딜이소시아누레이트 등의 글리시딜에테르의 다가 아크릴레이트류; 및 멜라민아크릴레이트, 및/또는 상기 아크릴레이트에 대응하는 각 메타크릴레이트류 등을 들 수 있다.The photopolymerizable monomer (G) used in order to make the composition of this invention into a photocurable resin composition is photocured by active energy ray irradiation, and insolubilizes the photocurable resin composition of this invention in aqueous alkali solution, or is insoluble. It helps to get angry. As such a compound, Diacrylates of glycol, such as ethylene glycol, methoxy tetraethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol; Polyhydric acrylates such as polyhydric alcohols such as hexanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, tris-hydroxyethyl isocyanurate or ethylene oxide adducts or propylene oxide adducts thereof; Polyhydric acrylates, such as phenoxy acrylate, bisphenol A diacrylate, and ethylene oxide adduct or propylene oxide adduct of these phenols; Polyhydric acrylates of glycidyl ethers such as glycerin diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether and triglycidyl isocyanurate; And melamine acrylate, and / or each methacrylate corresponding to the acrylate.
또한, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 등의 다관능 에폭시 수지에 아크릴산을 반응시킨 에폭시아크릴레이트 수지나, 그 에폭시아크릴레이트 수지의 수산기에 펜타에리트리톨트리아크릴레이트 등의 히드록시아크릴레이트와 이소포론디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트의 하프 우레탄 화합물을 반응시킨 에폭시우레탄아크릴레이트 화합물 등을 들 수 있다. 이러한 에폭시아크릴레이트계 수지는 지촉 건조성을 저하시키지 않고, 광경화성을 향상시킬 수 있다.Moreover, hydroxyacrylates, such as pentaerythritol triacrylate, and isophorone diisocyanate to the epoxy acrylate resin which made acrylic acid react with polyfunctional epoxy resins, such as a cresol novolak-type epoxy resin, and the hydroxyl group of this epoxy acrylate resin. Epoxy urethane acrylate compounds, etc. which reacted the half urethane compounds of diisocyanate, such as these, are mentioned. Such epoxy acrylate-based resin can improve photocurability without deteriorating the touch dryness.
이러한 분자 중에 2개 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 단량체 (G)의 배합량은, 상기 카르복실기 함유 수지 (A) 100 질량부에 대하여 100 질량부 이하, 보다 바람직하게는 5 내지 70 질량부의 비율이다. 상기 배합량이 5 질량부 미만인 경우, 광경화성이 저하되고 활성 에너지선 조사 후의 알칼리 현상에 의해 패턴 형성이 곤란해지기 때문에 바람직하지 않다. 한편, 100 질량부를 초과한 경우, 알칼리 수용액에 대한 용해성이 저하되고 도막이 취약해지기 때문에 바람직하지 않다.The compounding quantity of the photopolymerizable monomer (G) which has two or more ethylenically unsaturated groups in such a molecule | numerator is 100 mass parts or less with respect to 100 mass parts of said carboxyl group-containing resin (A), More preferably, it is the ratio of 5-70 mass parts. When the said compounding quantity is less than 5 mass parts, since photocurability falls and pattern formation becomes difficult by alkali development after active energy ray irradiation, it is unpreferable. On the other hand, when it exceeds 100 mass parts, since solubility to aqueous alkali solution falls and a coating film becomes weak, it is unpreferable.
본 발명의 경화성 수지 조성물은, 착색제 (H)를 배합할 수 있다. 착색제 (H)로서는, 적색, 청색, 녹색, 황색 등의 관용 공지의 착색제를 사용할 수 있으며, 안료, 염료, 색소 중 어느 하나일 수도 있다. 구체적으로는, 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.; The Society of Dyers and Colourists 발행) 번호가 부여되어 있는 것을 들 수 있다. 단, 환경 부하 감소 및 인체로의 영향의 관점에서 할로겐을 함유하지 않는 것이 바람직하다.Curable resin composition of this invention can mix | blend a coloring agent (H). As a coloring agent (H), conventionally well-known coloring agents, such as red, blue, green, and yellow, can be used, and any of pigments, dyes, and dyes may be used. Specifically, the following color index (C.I .; issued by The Society of Dyers and Colorists) numbers is given. However, it is preferable not to contain a halogen from a viewpoint of reducing environmental load and an influence on a human body.
적색 착색제: Red colorant:
적색 착색제로서는 모노아조계, 디스아조계, 모노아조레이크계, 벤즈이미다졸론계, 페릴렌계, 디케토피롤로피롤계, 축합 아조계, 안트라퀴논계, 퀴나크리돈계 등이 있고, 구체적으로는 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the red colorant include monoazo, disazo, monoazolake, benzimidazolone, perylene, diketopyrrolopyrrole, condensed azo, anthraquinone and quinacridone. It can be mentioned.
모노아조계: 피그먼트 레드 1, 2, 3, 4, 5, 6, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 112, 114, 146, 147, 151, 170, 184, 187, 188, 193, 210, 245, 253, 258, 266, 267, 268, 269.Monoazo series: Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 112, 114, 146, 147 , 151, 170, 184, 187, 188, 193, 210, 245, 253, 258, 266, 267, 268, 269.
디스아조계: 피그먼트 레드 37, 38, 41.Disazo meter: Pigment Red 37, 38, 41.
모노아조레이크계: 피그먼트 레드 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 52:2, 53:1, 53:2, 57:1, 58:4, 63:1, 63:2, 64:1, 68.Monoazo Lake system: Pigment Red 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49: 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 52: 2, 53: 1, 53: 2, 57: 1, 58: 4, 63: 1, 63: 2, 64: 1, 68.
벤즈이미다졸론계: 피그먼트 레드 171, 피그먼트 레드 175, 피그먼트 레드 176, 피그먼트 레드 185, 피그먼트 레드 208.Benzimidazolone series: Pigment Red 171, Pigment Red 175, Pigment Red 176, Pigment Red 185, Pigment Red 208.
페릴렌계: 솔벤트 레드 135, 솔벤트 레드 179, 피그먼트 레드 123, 피그먼트 레드 149, 피그먼트 레드 166, 피그먼트 레드 178, 피그먼트 레드 179, 피그먼트 레드 190, 피그먼트 레드 194, 피그먼트 레드 224.Perylene series: Solvent Red 135, Solvent Red 179, Pigment Red 123, Pigment Red 149, Pigment Red 166, Pigment Red 178, Pigment Red 179, Pigment Red 190, Pigment Red 194, Pigment Red 224 .
디케토피롤로피롤계: 피그먼트 레드 254, 피그먼트 레드 255, 피그먼트 레드 264, 피그먼트 레드 270, 피그먼트 레드 272.Diketopyrrolopyrrole series: Pigment Red 254, Pigment Red 255, Pigment Red 264, Pigment Red 270, Pigment Red 272.
축합 아조계: 피그먼트 레드 220, 피그먼트 레드 144, 피그먼트 레드 166, 피그먼트 레드 214, 피그먼트 레드 220, 피그먼트 레드 221, 피그먼트 레드 242.Condensation azo system: Pigment Red 220, Pigment Red 144, Pigment Red 166, Pigment Red 214, Pigment Red 220, Pigment Red 221, Pigment Red 242.
안트라퀴논계: 피그먼트 레드 168, 피그먼트 레드 177, 피그먼트 레드 216, 솔벤트 레드 149, 솔벤트 레드 150, 솔벤트 레드 52, 솔벤트 레드 207.Anthraquinone series: Pigment Red 168, Pigment Red 177, Pigment Red 216, Solvent Red 149, Solvent Red 150, Solvent Red 52, Solvent Red 207.
퀴나크리돈계: 피그먼트 레드 122, 피그먼트 레드 202, 피그먼트 레드 206, 피그먼트 레드 207, 피그먼트 레드 209.Quinacridone series: Pigment Red 122, Pigment Red 202, Pigment Red 206, Pigment Red 207, Pigment Red 209.
청색 착색제:Blue colorant:
청색 착색제로서는 프탈로시아닌계, 안트라퀴논계가 있으며, 안료계는 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물, 구체적으로는: 피그먼트 블루 15, 피그먼트 블루 15:1, 피그먼트 블루 15:2, 피그먼트 블루 15:3, 피그먼트 블루 15:4, 피그먼트 블루 15:6, 피그먼트 블루 16, 피그먼트 블루 60.As the blue colorant, there are phthalocyanine-based and anthraquinone-based compounds, and the pigment-based compound is classified as Pigment, specifically: Pigment Blue 15, Pigment Blue 15: 1, Pigment Blue 15: 2, Pig Pigment Blue 15: 3, Pigment Blue 15: 4, Pigment Blue 15: 6, Pigment Blue 16, Pigment Blue 60.
염료계로서는, 솔벤트 블루 35, 솔벤트 블루 63, 솔벤트 블루 68, 솔벤트 블루 70, 솔벤트 블루 83, 솔벤트 블루 87, 솔벤트 블루 94, 솔벤트 블루 97, 솔벤트 블루 122, 솔벤트 블루 136, 솔벤트 블루 67, 솔벤트 블루 70 등을 사용할 수 있다. 상기 이외에도, 금속 치환 또는 비치환된 프탈로시아닌 화합물도 사용할 수 있다.As dye system, solvent blue 35, solvent blue 63, solvent blue 68, solvent blue 70, solvent blue 83, solvent blue 87, solvent blue 94, solvent blue 97, solvent blue 122, solvent blue 136, solvent blue 67, solvent blue 70 may be used. In addition to the above, a metal substituted or unsubstituted phthalocyanine compound can also be used.
녹색 착색제:Green colorant:
녹색 착색제로서는, 마찬가지로 프탈로시아닌계, 안트라퀴논계, 페릴렌계가 있으며, 구체적으로는 피그먼트 그린 7, 피그먼트 그린 36, 솔벤트 그린 3, 솔벤트 그린 5, 솔벤트 그린 20, 솔벤트 그린 28 등을 사용할 수 있다. 상기 이외에도, 금속 치환 또는 비치환된 프탈로시아닌 화합물도 사용할 수 있다.Examples of the green colorant include phthalocyanine series, anthraquinone series, and perylene series, and specifically, pigment green 7, pigment green 36, solvent green 3, solvent green 5, solvent green 20, solvent green 28, and the like can be used. . In addition to the above, a metal substituted or unsubstituted phthalocyanine compound can also be used.
황색 착색제:Yellow colorant:
황색 착색제로서는 모노아조계, 디스아조계, 축합 아조계, 벤즈이미다졸론계, 이소인돌리논계, 안트라퀴논계 등이 있으며, 구체적으로는 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the yellow colorant include monoazo, disazo, condensed azo, benzimidazolone, isoindolinone, anthraquinone and the like. Specific examples include the following.
안트라퀴논계: 솔벤트 옐로우 163, 피그먼트 옐로우 24, 피그먼트 옐로우 108, 피그먼트 옐로우 193, 피그먼트 옐로우 147, 피그먼트 옐로우 199, 피그먼트 옐로우 202.Anthraquinone series: solvent yellow 163, pigment yellow 24, pigment yellow 108, pigment yellow 193, pigment yellow 147, pigment yellow 199, pigment yellow 202.
이소인돌리논계: 피그먼트 옐로우 110, 피그먼트 옐로우 109, 피그먼트 옐로우 139, 피그먼트 옐로우 179, 피그먼트 옐로우 185.Isoindolinone series: Pigment Yellow 110, Pigment Yellow 109, Pigment Yellow 139, Pigment Yellow 179, Pigment Yellow 185.
축합 아조계: 피그먼트 옐로우 93, 피그먼트 옐로우 94, 피그먼트 옐로우 95, 피그먼트 옐로우 128, 피그먼트 옐로우 155, 피그먼트 옐로우 166, 피그먼트 옐로우 180.Condensation azo system: Pigment Yellow 93, Pigment Yellow 94, Pigment Yellow 95, Pigment Yellow 128, Pigment Yellow 155, Pigment Yellow 166, Pigment Yellow 180.
벤즈이미다졸론계: 피그먼트 옐로우 120, 피그먼트 옐로우 151, 피그먼트 옐로우 154, 피그먼트 옐로우 156, 피그먼트 옐로우 175, 피그먼트 옐로우 181.Benzimidazolone series: Pigment Yellow 120, Pigment Yellow 151, Pigment Yellow 154, Pigment Yellow 156, Pigment Yellow 175, Pigment Yellow 181.
모노아조계: 피그먼트 옐로우 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 61, 62, 62:1, 65, 73, 74, 75, 97, 100, 104, 105, 111, 116, 167, 168, 169, 182, 183.Monoazo series: Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 61, 62, 62: 1, 65, 73, 74, 75, 97, 100, 104, 105, 111 , 116, 167, 168, 169, 182, 183.
디스아조계: 피그먼트 옐로우 12, 13, 14, 16, 17, 55, 63, 81, 83, 87, 126, 127, 152, 170, 172, 174, 176, 188, 198.Disazo system: Pigment Yellow 12, 13, 14, 16, 17, 55, 63, 81, 83, 87, 126, 127, 152, 170, 172, 174, 176, 188, 198.
그 이외에, 색조를 조정하는 목적으로 보라색, 주황색, 갈색, 흑색 등의 착색제를 첨가할 수도 있다.In addition, coloring agents, such as purple, orange, brown, and black, can also be added for the purpose of adjusting a color tone.
구체적으로 예시하면, 피그먼트 바이올렛 19, 23, 29, 32, 36, 38, 42, 솔벤트 바이올렛 13, 36, C.I.피그먼트 오렌지 1, C.I.피그먼트 오렌지 5, C.I.피그먼트 오렌지 13, C.I.피그먼트 오렌지 14, C.I.피그먼트 오렌지 16, C.I.피그먼트 오렌지 17, C.I.피그먼트 오렌지 24, C.I.피그먼트 오렌지 34, C.I.피그먼트 오렌지 36, C.I.피그먼트 오렌지 38, C.I.피그먼트 오렌지 40, C.I.피그먼트 오렌지 43, C.I.피그먼트 오렌지 46, C.I.피그먼트 오렌지 49, C.I.피그먼트 오렌지 51, C.I.피그먼트 오렌지 61, C.I.피그먼트 오렌지 63, C.I.피그먼트 오렌지 64, C.I.피그먼트 오렌지 71, C.I.피그먼트 오렌지 73, C.I.피그먼트 브라운 23, C.I.피그먼트 브라운 25, C.I.피그먼트 블랙 1, C.I.피그먼트 블랙 7 등이 있다.Specifically, Pigment Violet 19, 23, 29, 32, 36, 38, 42, Solvent Violet 13, 36, CI Pigment Orange 1, CI Pigment Orange 5, CI Pigment Orange 13, CI Pigment Orange 14, CI Pigment Orange 16, CI Pigment Orange 17, CI Pigment Orange 24, CI Pigment Orange 34, CI Pigment Orange 36, CI Pigment Orange 38, CI Pigment Orange 40, CI Pigment Orange 43, CI Pigment Orange 46, CI Pigment Orange 49, CI Pigment Orange 51, CI Pigment Orange 61, CI Pigment Orange 63, CI Pigment Orange 64, CI Pigment Orange 71, CI Pigment Orange 73, CI Pigment There are 23 Brown, CI Pigment Brown 25, CI Pigment Black 1, and CI Pigment Black 7.
상기한 바와 같은 착색제 (H)의 배합 비율은 특별히 제한은 없지만, 상기 카르복실기 함유 수지 (A) 100 질량부에 대하여 바람직하게는 0 내지 10 질량부, 특히 바람직하게는 0.1 내지 5 질량부의 비율로 충분하다.Although the mixing | blending ratio of the coloring agent (H) as mentioned above does not have a restriction | limiting in particular, Preferably it is 0-10 mass parts with respect to 100 mass parts of said carboxyl group-containing resin (A), Especially preferably, the ratio of 0.1-5 mass parts is sufficient. Do.
본 발명의 경화성 수지 조성물은 그 도막의 물리적 강도 등을 높이기 위해, 필요에 따라 충전재를 배합할 수 있다. 이러한 충전재로서는, 공지 관용의 무기 또는 유기 충전재를 사용할 수 있지만, 상기한 수산화알루미늄, 진구상 실리카 이외에 황산바륨, 실리카, 탈크, 히드로탈사이트, 수산화마그네슘, 베마이트, 알루미나, 산화티탄 등도 사용할 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상 배합할 수 있다.The curable resin composition of this invention can mix | blend a filler as needed in order to raise the physical strength of the coating film, etc. As such a filler, known conventional inorganic or organic fillers can be used, but in addition to the above-described aluminum hydroxide and spherical silica, barium sulfate, silica, talc, hydrotalcite, magnesium hydroxide, boehmite, alumina, titanium oxide and the like can be used. These can be combined individually or 2 or more types.
이들 충전재의 배합량은, 상기 카르복실기 함유 수지 (A) 100 질량부에 대하여 바람직하게는 300 질량부 이하, 보다 바람직하게는 0.1 내지 300 질량부, 특히 바람직하게는 0.1 내지 150 질량부이다. 충전재의 배합량이 300 질량부를 초과한 경우, 경화성 수지 조성물의 점도가 높아져 인쇄성이 저하되거나, 경화물이 취약해지기 때문에 바람직하지 않다.The compounding quantity of these fillers becomes like this. Preferably it is 300 mass parts or less, More preferably, it is 0.1-300 mass parts, Especially preferably, it is 0.1-150 mass parts with respect to 100 mass parts of said carboxyl group-containing resin (A). When the compounding quantity of a filler exceeds 300 mass parts, since the viscosity of curable resin composition becomes high and printability falls or hardened | cured material becomes weak, it is unpreferable.
본 발명의 경화성 수지 조성물에는, 가요성, 지촉 건조성의 향상을 목적으로 관용 공지의 결합제 중합체를 사용할 수 있다. 결합제 중합체로서는, 셀룰로오스계, 폴리에스테르계, 페녹시 수지계의 중합체가 바람직하다. 셀룰로오스계 중합체로서는 이스트먼사 제조 셀룰로오스아세테이트부티레이트(CAB), 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트(CAP) 시리즈를 들 수 있으며, 폴리에스테르계 중합체로서는 도요보사 제조 바이론 시리즈, 페녹시 수지계 중합체로서는 비스페놀 A, 비스페놀 F 및 이들의 수소 첨가 화합물의 페녹시 수지가 바람직하다. 이들 결합제 중합체의 첨가량은, 상기 카르복실기 함유 수지 (A) 100 질량부에 대하여 바람직하게는 50 질량부 이하, 보다 바람직하게는 1 내지 30 질량부, 특히 바람직하게는 5 내지 30 질량부이다. 결합제 중합체의 배합량이 50 질량부를 초과한 경우, 경화성 수지 조성물의 알칼리 현상성이 저하되고, 현상 가능한 가사(可使) 시간이 짧아지기 때문에 바람직하지 않다.A conventionally well-known binder polymer can be used for curable resin composition of this invention for the purpose of the improvement of flexibility and a touch drying property. As the binder polymer, polymers of cellulose, polyester, and phenoxy resins are preferable. Examples of the cellulose polymers include cellulose acetate butyrate (CAB) and cellulose acetate propionate (CAP) manufactured by Eastman, and by the Toyobo company, Byron series, bisphenol A, bisphenol F, and the like. Phenoxy resins of these hydrogenated compounds are preferred. The addition amount of these binder polymers becomes like this. Preferably it is 50 mass parts or less, More preferably, it is 1-30 mass parts, Especially preferably, it is 5-30 mass parts with respect to 100 mass parts of said carboxyl group-containing resin (A). When the compounding quantity of a binder polymer exceeds 50 mass parts, since alkali developability of curable resin composition falls and developable pot life becomes short, it is unpreferable.
본 발명의 경화성 수지 조성물에는, 층간의 밀착성 또는 감광성 수지층과 기재의 밀착성을 향상시키기 위해 밀착 촉진제를 사용할 수 있다. 구체예로서는, 예를 들면 벤즈이미다졸, 벤즈옥사졸, 벤즈티아졸, 2-머캅토벤즈이미다졸, 2-머캅토벤즈옥사졸, 2-머캅토벤즈티아졸, 3-모르폴리노메틸-1-페닐-트리아졸-2-티온, 5-아미노-3-모르폴리노메틸-티아졸-2-티온, 2-머캅토-5-메틸티오-티아디아졸, 트리아졸, 테트라졸, 벤조트리아졸, 카르복시벤조트리아졸, 아미노기 함유 벤조트리아졸, 실란 커플링제 등이 있다.In the curable resin composition of this invention, an adhesion promoter can be used in order to improve the adhesiveness of an interlayer or the adhesiveness of the photosensitive resin layer and a base material. As a specific example, for example, benzimidazole, benzoxazole, benzthiazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzthiazole, 3-morpholinomethyl-1 -Phenyl-triazole-2-thione, 5-amino-3-morpholinomethyl-thiazole-2-thione, 2-mercapto-5-methylthio-thiadiazole, triazole, tetrazole, benzotria Sol, carboxybenzotriazole, amino group-containing benzotriazole, silane coupling agent and the like.
일반적으로 고분자 재료의 대부분은 일단 산화가 시작되면 잇달아 연쇄적으로 산화 열화가 발생하고, 고분자 소재의 기능 저하를 초래하기 때문에, 본 발명의 경화성 수지 조성물에는 산화를 방지하기 위해 (1) 발생한 라디칼을 무효화하는 라디칼 포착제 또는/및 (2) 발생한 과산화물을 무해한 물질로 분해하고, 새로운 라디칼이 발생하지 않도록 하는 과산화물 분해제 등의 산화 방지제를 첨가할 수 있다.In general, since most of the polymer material is oxidatively deteriorated serially once the oxidation starts, and causes a decrease in the function of the polymer material, the curable resin composition of the present invention contains (1) radicals generated in order to prevent oxidation. An antioxidant such as a radical scavenger to invalidate and / or (2) peroxide decomposing agent which decomposes the generated peroxide into a harmless substance and prevents generation of new radicals can be added.
라디칼 포착제로서 기능하는 산화 방지제로서는, 구체적인 화합물로서 히드로퀴논, 4-t-부틸카테콜, 2-t-부틸히드로퀴논, 히드로퀴논모노메틸에테르, 2,6-디-t-부틸-p-크레졸, 2,2-메틸렌-비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-히드록시-5-t-부틸페닐)부탄, 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)벤젠, 1,3,5-트리스(3',5'-디-t-부틸-4-히드록시벤질)-S-트리아진-2,4,6-(1H,3H,5H)트리온 등의 페놀계, 메타퀴논, 벤조퀴논 등의 퀴논계 화합물, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-세바케이트, 페노티아진 등의 아민계 화합물 등을 들 수 있다.As antioxidant which functions as a radical trapping agent, as a specific compound, hydroquinone, 4-t- butylcatechol, 2-t- butyl hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, 2, 6- di-t- butyl- p-cresol, 2 , 2-methylene-bis (4-methyl-6-t-butylphenol), 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane, 1,3,5 -Trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 1,3,5-tris (3 ', 5'-di-t-butyl-4 Phenolic compounds such as -hydroxybenzyl) -S-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione, quinone compounds such as metaquinone and benzoquinone, bis (2,2,6, And amine compounds such as 6-tetramethyl-4-piperidyl) -sebacate and phenothiazine.
라디칼 포착제는 시판된 것일 수도 있으며, 예를 들면 아데카스타브 AO-30, 아데카스타브 AO-330, 아데카스타브 AO-20, 아데카스타브 LA-77, 아데카스타브 LA-57, 아데카스타브 LA-67, 아데카스타브 LA-68, 아데카스타브 LA-87(이상, 아사히 덴까사 제조, 상품명), 이르가녹스(IRGANOX)1010, 이르가녹스 1035, 이르가녹스 1076, 이르가녹스 1135, 티누빈(TINUVIN) 111FDL, 티누빈 123, 티누빈 144, 티누빈 152, 티누빈 292, 티누빈 5100(이상, 시바 스페셜티 케미칼즈사 제조, 상품명) 등을 들 수 있다.Radical scavengers may be commercially available and include, for example, adecastave AO-30, adecastave AO-330, adecastave AO-20, adecastave LA-77, adecastave LA-57, adecas Tab LA-67, Adecastave LA-68, Adecastave LA-87 (above, Asahi Denkasa make, brand name), Irganox 1010, Irganox 1035, Irganox 1076, Irganox 1135, TINUVIN 111FDL, TINUVIN 123, TINUVIN 144, TINUVIN 152, TINUVIN 292, TINUVIN 5100 (above, Ciba Specialty Chemicals make, brand name), etc. are mentioned.
과산화물 분해제로서 기능하는 산화 방지제로서는, 구체적인 화합물로서 트리페닐포스파이트 등의 인계 화합물, 펜타에리트리톨테트라라우릴티오프로피오네이트, 디라우릴티오디프로피오네이트, 디스테아릴 3,3'-티오디프로피오네이트 등의 황계 화합물 등을 들 수 있다.As antioxidant which functions as a peroxide decomposition agent, As a specific compound, Phosphorus type compounds, such as a triphenyl phosphite, a pentaerythritol tetralauryl thio propionate, a dilauryl thiodipropionate, a distearyl 3,3'- thi Sulfur type compounds, such as an odys propionate, etc. are mentioned.
과산화물 분해제는 시판된 것일 수도 있으며, 예를 들면 아데카스타브 TPP(아사히 덴까사 제조, 상품명), 마크 AO-412S(아데카 아가스 가가꾸사 제조, 상품명), 스밀라이저 TPS(스미또모 가가꾸사 제조, 상품명) 등을 들 수 있다.The peroxide decomposer may be commercially available, for example, Adecastab TPP (manufactured by Asahi Denka Corporation, trade name), Mark AO-412S (manufactured by Adeka Agas Chemical Co., Ltd.), smiller TPS (Sumitomo Kaga) Manufactured by Kakusa Co., Ltd., and the like.
상기한 산화 방지제는 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Said antioxidant can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
또한, 일반적으로 고분자 재료는 빛을 흡수하고, 그에 따라 분해ㆍ열화를 일으키기 때문에, 본 발명의 경화성 수지 조성물에는 자외선에 대한 안정화 대책을 행하기 위해 상기 산화 방지제 이외에 자외선 흡수제를 사용할 수 있다.In addition, in general, the polymer material absorbs light and thus causes decomposition and deterioration. Thus, in order to take stabilization measures against ultraviolet rays, a ultraviolet absorber can be used for the curable resin composition of the present invention.
자외선 흡수제로서는, 벤조페논 유도체, 벤조에이트 유도체, 벤조트리아졸 유도체, 트리아진 유도체, 벤조티아졸 유도체, 신나메이트 유도체, 안트라닐레이트유도체, 디벤조일메탄 유도체 등을 들 수 있다. 벤조페논 유도체의 구체적인 예로서는, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-n-옥톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논 및 2,4-디히드록시벤조페논 등을 들 수 있다. 벤조에이트 유도체의 구체적인 예로서는, 2-에틸헥실살리실레이트, 페닐살리실레이트, p-t-부틸페닐살리실레이트, 2,4-디-t-부틸페닐-3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤조에이트 및 헥사데실-3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤조에이트 등을 들 수 있다. 벤조트리아졸 유도체의 구체적인 예로서는, 2-(2'-히드록시-5'-t-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸 및 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-아밀페닐)벤조트리아졸 등을 들 수 있다. 트리아진 유도체의 구체적인 예로서는, 히드록시페닐트리아진, 비스에틸헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진 등을 들 수 있다.Examples of the ultraviolet absorbents include benzophenone derivatives, benzoate derivatives, benzotriazole derivatives, triazine derivatives, benzothiazole derivatives, cinnamate derivatives, anthranilate derivatives and dibenzoylmethane derivatives. Specific examples of the benzophenone derivatives include 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone and 2 And 4-dihydroxy benzophenone. Specific examples of the benzoate derivatives include 2-ethylhexyl salicylate, phenyl salicylate, pt-butylphenyl salicylate, 2,4-di-t-butylphenyl-3,5-di-t-butyl-4 -Hydroxybenzoate, hexadecyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, and the like. Specific examples of the benzotriazole derivatives include 2- (2'-hydroxy-5'-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- ( 2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-butylphenyl) -5 -Chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole and 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-amylphenyl) benzotriazole and the like Can be mentioned. Specific examples of the triazine derivatives include hydroxyphenyltriazine, bisethylhexyloxyphenol methoxyphenyltriazine, and the like.
자외선 흡수제는 시판된 것일 수도 있으며, 예를 들면 티누빈 PS, 티누빈 99-2, 티누빈 109, 티누빈 384-2, 티누빈 900, 티누빈 928, 티누빈 1130, 티누빈 400, 티누빈 405, 티누빈 460, 티누빈 479(이상, 시바 스페셜티 케미칼즈사 제조, 상품명) 등을 들 수 있다.Ultraviolet absorbers may be commercially available and include, for example, tinuvin PS, tinubin 99-2, tinubin 109, tinubin 384-2, tinubin 900, tinubin 928, tinubin 1130, tinubin 400, tinubin 405, tinuvin 460, tinuvin 479 (above, Ciba Specialty Chemicals make, brand name), etc. are mentioned.
상기한 자외선 흡수제는 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있으며, 상기 산화 방지제와 병용함으로써 본 발명의 경화성 수지 조성물로부터 얻어지는 성형물의 안정화를 도모할 수 있다.Said ultraviolet absorber can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types, It can aim at stabilization of the molding obtained from curable resin composition of this invention by using together with the said antioxidant.
또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물은 상기 카르복실기 함유 수지 (A)의 합성이나 조성물의 조정을 위해, 또는 기판이나 캐리어 필름에 도포하기 위한 점도 조정을 위해 유기 용제를 사용할 수 있다.Moreover, the curable resin composition of this invention can use an organic solvent for the synthesis | combination of the said carboxyl group-containing resin (A), adjustment of a composition, or viscosity adjustment for apply | coating to a board | substrate or a carrier film.
이러한 유기 용제로서는, 케톤류, 방향족 탄화수소류, 글리콜에테르류, 글리콜에테르아세테이트류, 에스테르류, 알코올류, 지방족 탄화수소, 석유계 용제 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로는 메틸에틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌, 테트라메틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 카르비톨, 메틸카르비톨, 부틸카르비톨, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜부틸에테르아세테이트 등의 에스테르류; 에탄올, 프로판올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 알코올류; 옥탄, 데칸 등의 지방족 탄화수소; 석유 에테르, 석유 나프타, 수소 첨가 석유 나프타, 솔벤트 나프타 등의 석유계 용제 등이다. 이러한 유기 용제는, 단독으로 또는 2종 이상의 혼합물로서 사용된다.Examples of such organic solvents include ketones, aromatic hydrocarbons, glycol ethers, glycol ether acetates, esters, alcohols, aliphatic hydrocarbons, and petroleum solvents. More specifically, ketones, such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and tetramethylbenzene; Cellosolve, methyl cellosolve, butyl cellosolve, carbitol, methyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether Glycol ethers such as these; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, and propylene glycol butyl ether acetate; Alcohols such as ethanol, propanol, ethylene glycol and propylene glycol; Aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; Petroleum solvents such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, and solvent naphtha. These organic solvents are used alone or as a mixture of two or more kinds.
본 발명의 경화성 수지 조성물은, 추가로 필요에 따라 공지 관용의 열중합 금지제, 미분 실리카, 유기 벤토나이트, 몬모릴로나이트 등의 공지 관용의 증점제, 실리콘계, 불소계, 고분자계 등의 소포제 및/또는 레벨링제, 이미다졸계, 티아졸계, 트리아졸계 등의 실란 커플링제, 산화 방지제, 방청제 등과 같은 공지 관용의 첨가제류를 배합할 수 있다.The curable resin composition of the present invention may further contain, if necessary, known conventional thermal polymerization inhibitors, finely divided silicas such as finely divided silica, organic bentonite and montmorillonite, antifoaming agents and / or leveling agents such as silicone, fluorine, and polymers, Known conventional additives such as silane coupling agents such as imidazole series, thiazole series, and triazole series, antioxidants, and rust inhibitors can be blended.
상기 열중합 금지제는, 상기 중합성 화합물의 열적인 중합 또는 시간 경과에 따른 중합을 방지하기 위해 사용할 수 있다. 열중합 금지제로서는, 예를 들면 4-메톡시페놀, 히드로퀴논, 알킬 또는 아릴 치환 히드로퀴논, t-부틸카테콜, 피로갈롤, 2-히드록시벤조페논, 4-메톡시-2-히드록시벤조페논, 염화 제1구리, 페노티아진, 클로라닐, 나프틸아민, β-나프톨, 2,6-디-t-부틸-4-크레졸, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 피리딘, 니트로벤젠, 디니트로벤젠, 피크르산, 4-톨루이딘, 메틸렌 블루, 구리와 유기 킬레이트제 반응물, 살리실산메틸 및 페노티아진, 니트로소 화합물, 니트로소 화합물과 Al의 킬레이트 등을 들 수 있다.The thermal polymerization inhibitor can be used to prevent thermal polymerization or polymerization over time of the polymerizable compound. Examples of the thermal polymerization inhibitor include 4-methoxyphenol, hydroquinone, alkyl or aryl substituted hydroquinone, t-butylcatechol, pyrogallol, 2-hydroxybenzophenone and 4-methoxy-2-hydroxybenzophenone. Cuprous chloride, phenothiazine, chloranyl, naphthylamine, β-naphthol, 2,6-di-t-butyl-4-cresol, 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t Butylphenol), pyridine, nitrobenzene, dinitrobenzene, picric acid, 4-toluidine, methylene blue, copper and organic chelating agent reactants, methyl salicylate and phenothiazine, nitroso compounds, nitroso compounds and chelates of Al Can be mentioned.
본 발명의 경화성 수지 조성물은, 캐리어 필름(지지체)과, 상기 캐리어 필름 상에 형성된 상기 경화성 수지 조성물을 포함하는 층을 구비한 드라이 필름의 형태로 할 수도 있다.Curable resin composition of this invention can also be made into the form of the dry film provided with the carrier film (support) and the layer containing the said curable resin composition formed on the said carrier film.
드라이 필름화시에는, 본 발명의 경화성 수지 조성물을 상기 유기 용제에 의해 희석하여 적절한 점도로 조정하고, 콤마 코터, 블레이드 코터, 립 코터, 로드 코터, 스퀴즈 코터, 리버스 코터, 트랜스퍼 롤 코터, 그라비아 코터, 분무 코터 등으로 캐리어 필름 상에 균일한 두께로 도포하고, 통상적으로 50 내지 130 ℃의 온도에서 1 내지 30분간 건조하여 막을 얻을 수 있다. 도포 막 두께에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 일반적으로 건조 후의 막 두께로 10 내지 150 ㎛, 바람직하게는 20 내지 60 ㎛의 범위에서 적절하게 선택된다.At the time of dry film formation, the curable resin composition of this invention is diluted with the said organic solvent, it adjusts to an appropriate viscosity, a comma coater, a blade coater, a lip coater, a rod coater, a squeeze coater, a reverse coater, a transfer roll coater, and a gravure coater. The film can be applied to the carrier film with a spray coater or the like at a uniform thickness and usually dried at a temperature of 50 to 130 ° C. for 1 to 30 minutes. Although there is no restriction | limiting in particular about coating film thickness, Generally, the film thickness after drying is suitably selected in 10-150 micrometers, Preferably it is 20-60 micrometers.
캐리어 필름으로서는 플라스틱 필름이 사용되며, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름, 폴리이미드 필름, 폴리아미드이미드 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리스티렌 필름 등의 플라스틱 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 캐리어 필름의 두께에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 일반적으로 10 내지 150 ㎛의 범위에서 적절하게 선택된다.A plastic film is used as a carrier film, It is preferable to use plastic films, such as polyester films, such as a polyethylene terephthalate, a polyimide film, a polyamideimide film, a polypropylene film, and a polystyrene film. Although there is no restriction | limiting in particular about the thickness of a carrier film, Usually, it selects suitably in the range of 10-150 micrometers.
캐리어 필름 상에 성막한 후, 추가로, 막의 표면에 먼지가 부착되는 것을 방지하는 등의 목적으로 막의 표면에 박리 가능한 커버 필름을 적층하는 것이 바람직하다.After film formation on the carrier film, it is preferable to further laminate a cover film that can be peeled off the surface of the film for the purpose of preventing dust from adhering to the surface of the film.
박리 가능한 커버 필름으로서는, 예를 들면 폴리에틸렌 필름, 폴리테트라플루오로에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 표면 처리한 종이 등을 사용할 수 있으며, 커버 필름을 박리할 때 막과 캐리어 필름의 접착력보다 막과 커버 필름의 접착력이 더욱 작은 것이 바람직하다.As a peelable cover film, a polyethylene film, a polytetrafluoroethylene film, a polypropylene film, surface-treated paper, etc. can be used, for example, When peeling a cover film, it is a film | membrane and a cover film rather than the adhesive force of a film | membrane and a carrier film. It is preferable that the adhesive force of is smaller.
본 발명의 경화성 수지 조성물은, 예를 들면 상기 유기 용제에 의해 도포 방법에 적합한 점도로 조정하고, 기재 상에 침지 코팅법, 플로우 코팅법, 롤 코팅법, 바 코터법, 스크린 인쇄법, 커튼 코팅법 등의 방법에 의해 도포하고, 약 60 내지 100 ℃의 온도에서 조성물 중에 포함되는 유기 용제를 휘발 건조(임시 건조)시킴으로써, 태크 프리의 도막을 형성할 수 있다. 또한, 상기 조성물을 캐리어 필름 상에 도포하고, 건조시켜 필름으로서 권취한 드라이 필름의 경우, 라미네이터 등에 의해 경화성 수지 조성물층이 기재와 접촉하도록 기재 상에 접합한 후, 캐리어 필름을 박리함으로써 수지 절연층을 형성할 수 있다.Curable resin composition of this invention is adjusted to the viscosity suitable for an application | coating method with the said organic solvent, for example, and it is immersion coating method, flow coating method, roll coating method, bar coater method, screen printing method, curtain coating on a base material. A tack free coating film can be formed by apply | coating by methods, such as a method, and carrying out volatilization (temporary drying) of the organic solvent contained in a composition at the temperature of about 60-100 degreeC. Moreover, in the case of the dry film which apply | coated the said composition on a carrier film, and dried and wound up as a film, after bonding a curable resin composition layer on a base material by a laminator etc. in contact with a base material, a resin film is peeled off by peeling a carrier film. Can be formed.
광경화성 수지 조성물의 경우에는, 그 후 접촉식(또는 비접촉 방식)에 의해, 패턴을 형성한 포토마스크를 통해 선택적으로 활성 에너지선에 의해 노광, 또는 레이저 다이렉트 노광기에 의해 직접 패턴 노광하고, 미노광부를 희알칼리 수용액(예를 들면 0.3 내지 3 중량% 탄산소다 수용액)에 의해 현상하여 레지스트 패턴이 형성된다. 또한, 열경화성 성분 (D)를 함유하고 있는 조성물의 경우, 예를 들면 약 140 내지 180 ℃의 온도로 가열하여 열경화시킴으로써, 상기 카르복실기 함유 수지 (A)의 카르복실기와, 분자 중에 2개 이상의 환상 에테르기 및/또는 환상 티오에테르기를 갖는 열경화성 성분 (D)가 반응하고, 내열성, 내약품성, 내흡습성, 밀착성, 전기 특성 등의 다양한 특성이 우수한 경화 도막을 형성할 수 있다. 또한, 열경화성 성분 (D)를 함유하지 않은 경우에도 열 처리함으로써, 노광시에 미반응된 상태로 남은 에틸렌성 불포화 결합이 열 라디칼 중합하고, 도막 특성이 향상되기 때문에 목적ㆍ용도에 따라 열처리(열경화)할 수도 있다.In the case of the photocurable resin composition, it is then exposed by active energy rays or directly by a laser direct exposure machine through a photomask in which a pattern is formed by a contact type (or non-contact method), and then an unexposed part. Is developed with a dilute alkaline aqueous solution (for example, 0.3 to 3 wt% aqueous sodium carbonate solution) to form a resist pattern. In the case of the composition containing the thermosetting component (D), for example, by heating to a temperature of about 140 to 180 ° C and thermosetting, the carboxyl group of the carboxyl group-containing resin (A) and two or more cyclic ethers in the molecule A thermosetting component (D) having a group and / or a cyclic thioether group reacts to form a cured coating film excellent in various properties such as heat resistance, chemical resistance, hygroscopicity, adhesiveness, and electrical properties. Moreover, even when it does not contain a thermosetting component (D), by heat-processing, since the ethylenically unsaturated bond which remained in the unreacted state at the time of exposure heat-polymerizes, and a coating film characteristic improves, it heat-processes according to a purpose and a use (heat Curing).
상기 기재로서는, 미리 회로 형성된 인쇄 배선판이나 연성 인쇄 배선판 이외에, 종이 페놀, 종이 에폭시, 유리천 에폭시, 유리 폴리이미드, 유리천/부직포 에폭시, 유리천/종이 에폭시, 합성 섬유 에폭시, 불소ㆍ폴리에틸렌ㆍPPOㆍ시아네이트에스테르 등을 사용한 고주파 회로용 동장 적층판 등의 재질을 사용한 것이며, 모든 등급(FR-4 등)의 동장 적층판, 기타 폴리이미드 필름, PET 필름, 유리 기판, 세라믹 기판, 웨이퍼판 등을 들 수 있다.Examples of the substrate include paper phenol, paper epoxy, glass cloth epoxy, glass polyimide, glass cloth / nonwoven fabric epoxy, glass cloth / paper epoxy, synthetic fiber epoxy, fluorine, polyethylene and PPO, in addition to printed wiring boards and flexible printed wiring boards formed in advance. ㆍ Materials such as copper clad laminates for high frequency circuits using cyanate esters are used, and copper clad laminates of all grades (FR-4, etc.), other polyimide films, PET films, glass substrates, ceramic substrates, wafer plates, etc. Can be.
본 발명의 경화성 수지 조성물을 도포한 후에 행하는 휘발 건조는, 열풍 순환식 건조로, IR로, 핫 플레이트, 컴벡션 오븐 등(증기에 의한 공기 가열 방식의 열원을 구비한 것을 사용하여 건조기 내의 열풍을 향류 접촉시키는 방법 및 노즐로부터 지지체에 분무하는 방식)을 이용하여 행할 수 있다.Volatilization drying after apply | coating curable resin composition of this invention is hot-air circulation type drying, and it uses IR, and hotplate in a dryer using a hotplate, a convection oven, etc. (the thing provided with the heat source of the air heating system by steam) And a method of spraying the support from the nozzle).
광경화성 수지 조성물의 경우, 도포하고, 용제를 휘발 건조한 후 얻어진 도막에 대하여 노광(활성 에너지선의 조사)을 행함으로써, 노광부(활성 에너지선에 의해 조사된 부분)가 경화된다.In the case of a photocurable resin composition, an exposure part (part irradiated with an active energy ray) is hardened by apply | coating and exposing (coating of an active energy ray) with respect to the coating film obtained after volatilizing and drying a solvent.
상기 활성 에너지선 조사에 사용되는 노광기로서는, 고압 수은등 램프, 초고압 수은등 램프, 메탈 할라이드 램프, 수은 쇼트 아크 램프 등을 탑재하고, 350 내지 450 ㎚의 범위에서 자외선을 조사하는 장치이면, 직접 묘화 장치(예를 들면 컴퓨터로부터의 CAD 데이터에 의해 직접 레이저로 화상을 그리는 레이저 다이렉트 이미징 장치)도 사용할 수 있다. 직묘기(直描機)의 레이저 광원으로서는, 최대 파장이 350 내지 410 ㎚의 범위에 있는 레이저광을 사용하면 가스 레이저, 고체 레이저 중 어떠한 것이어도 상관없다. 화상 형성을 위한 노광량은 막 두께 등에 따라 상이하지만, 일반적으로는 20 내지 800 mJ/㎠, 바람직하게는 20 내지 600 mJ/㎠의 범위 내로 할 수 있다.As an exposure apparatus used for the said active energy ray irradiation, if it is a device which mounts a high pressure mercury lamp lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp lamp, a metal halide lamp, a mercury short arc lamp, etc., and irradiates an ultraviolet-ray in the range of 350-450 nm, a direct drawing apparatus ( For example, a laser direct imaging device which draws an image directly with a laser by CAD data from a computer) can also be used. As the laser light source of the weaving machine, any one of a gas laser and a solid laser may be used as long as the laser light having a maximum wavelength in the range of 350 to 410 nm is used. Although the exposure amount for image formation changes with film thickness etc., it can be generally in the range of 20-800 mJ / cm <2>, Preferably it is 20-600 mJ / cm <2>.
상기 현상 방법으로서는, 침지법, 샤워법, 분무법, 브러시법 등에 의해 행할 수 있으며, 현상액으로서는 수산화칼륨, 수산화나트륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 인산나트륨, 규산나트륨, 암모니아, 아민류 등의 알칼리 수용액을 사용할 수 있다.As the developing method, it can be carried out by an immersion method, a shower method, a spray method, a brush method or the like, and an aqueous solution of an alkali such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium phosphate, sodium silicate, ammonia and amines can be used. have.
[실시예][Example]
이하에 실시예 및 비교예를 나타내어 본 발명에 대하여 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 하기 실시예로 한정되지 않는다. 또한, 이하에서 "부" 및 "%"라는 것은, 특별히 언급하지 않는 한 모두 질량 기준이다.Although an Example and a comparative example are shown to the following and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to the following Example. In addition, below "part" and "%" are mass references | standards unless there is particular notice.
합성예Synthetic example
(A-1) 상기 카르복실기 함유 수지 (5)에 해당하는 수지의 합성:(A-1) The synthesis | combination of resin corresponding to the said carboxyl group-containing resin (5):
교반 장치, 온도계, 콘덴서를 구비한 반응 용기에 1,5-펜탄디올과 1,6-헥산디올로부터 유도되는 폴리카르보네이트디올(아사히 가세이 케미칼즈(주) 제조, TJ5650J, 수 평균 분자량 800)을 2400 g(3 몰), 디메틸올프로피온산을 603 g(4.5 몰) 및 모노히드록실 화합물로서 2-히드록시에틸아크릴레이트를 238 g(2.6 몰) 투입하였다. 이어서, 폴리이소시아네이트로서 이소포론디이소시아네이트 1887 g(8.5 몰)을 투입하고, 교반하면서 60 ℃까지 가열하여 정지하고, 반응 용기 내의 온도가 저하되기 시작한 시점에 재차 가열하여 80 ℃에서 교반을 계속하고, 적외선 흡수 스펙트럼으로 이소시아네이트기의 흡수 스펙트럼(2280 cm-1)이 소실된 것을 확인한 후, 반응을 종료하였다. 고형분이 50 질량%가 되도록 카르비톨아세테이트를 첨가하였다. 얻어진 카르복실기 함유 수지의 고형분의 산가는 50 mgKOH/g이었다.Polycarbonate diol derived from 1,5-pentanediol and 1,6-hexanediol in a reaction vessel equipped with a stirring device, a thermometer and a condenser (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd., TJ5650J, number average molecular weight 800) Was charged with 2400 g (3 mol), 603 g (4.5 mol) of dimethylol propionic acid and 238 g (2.6 mol) of 2-hydroxyethyl acrylate as a monohydroxy compound. Subsequently, 1887 g (8.5 mol) of isophorone diisocyanate was added as a polyisocyanate, and it heated and stopped to 60 degreeC, stirring, heating again when the temperature in a reaction container began to fall, and continued stirring at 80 degreeC, After confirming that the absorption spectrum (2280 cm <-1> ) of the isocyanate group was lost by the infrared absorption spectrum, reaction was complete | finished. Carbitol acetate was added so that solid content might be 50 mass%. The acid value of solid content of obtained carboxyl group-containing resin was 50 mgKOH / g.
(A-2) 상기 카르복실기 함유 수지 (7)에 해당하는 감광성 카르복실기 함유 수지:(A-2) Photosensitive carboxyl group-containing resin corresponding to the said carboxyl group-containing resin (7):
감광성기를 갖고 비페닐 노볼락 구조의 다관능 에폭시를 사용한 감광성 카르복실기 함유 수지인 니혼 가야꾸(주) 제조 ZCR-1601H(고형분 65 %; 수지로서의 산가는 98 mgKOH/g)의 수지 용액을 A-2로 한다.Nippon Kayaku Co., Ltd. product ZCR-1601H (solid content 65%; acid value as resin is 98 mgKOH / g) which is a photosensitive carboxyl group-containing resin using the polyfunctional epoxy of biphenyl novolak structure, and having a photosensitive group, A-2 Shall be.
수산화알루미늄 슬러리의 제조:Preparation of aluminum hydroxide slurry:
수산화알루미늄(쇼와 덴꼬(주) 제조 하이디라이트 42M) 700 g과, 용제로서 카르비톨아세테이트 280 g, BYK-110을 20 g 혼합 교반하고, 비드밀로 0.5 ㎛의 지르코니아 비드를 사용하여 분산 처리를 행하였다. 이것을 3회 반복하여 3 ㎛의 필터를 통과시킨 수산화알루미늄 슬러리 (B-1)을 제조하였다.700 g of aluminum hydroxide (Showy Denko Co., Ltd. Heidilite 42M) and 20 g of carbitol acetate and BYK-110 are mixed and stirred as a solvent, and it disperse | distributes using 0.5 micrometer zirconia beads with a bead mill. It was. This was repeated three times to prepare an aluminum hydroxide slurry (B-1) that was passed through a 3 μm filter.
실리카 슬러리의 제조:Preparation of Silica Slurry:
진구상 실리카(애드마 테크사 제조 SO-E2) 700 g, 용제로서 카르비톨아세테이트 295 g, 실란 커플링제로서 비닐실란 커플링제 5 g을 혼합 교반한 것을 상기와 동일하게 비드밀로 분산 처리를 행하였다. 이것을 3회 반복하여 3 ㎛ 필터로 여과한 실리카 슬러리 (C-1)을 제조하였다.A mixture of 700 g of spherical silica (SO-E2 manufactured by Adma Tech Co., Ltd.), 295 g of carbitol acetate as a solvent, and 5 g of a vinylsilane coupling agent as a silane coupling agent was subjected to dispersion treatment in the same manner as above. . This was repeated three times to prepare a silica slurry (C-1) filtered through a 3 μm filter.
진구상 실리카(애드마 테크사 제조 SO-C5) 700 g을 상기 실리카 슬러리와 동일하게 분산시키고, 5 ㎛의 필터를 통과시켜 실리카 슬러리 (C-2)를 제조하였다. Silica slurry (C-2) was prepared by dispersing 700 g of spherical silica (SO-C5 manufactured by Adma Tech Co., Ltd.) in the same manner as the silica slurry and passing through a 5 μm filter.
실시예 1 내지 9, 비교예 1 내지 4Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 4
상기 합성예의 수지 용액을 사용하여, 표 1에 나타낸 다양한 성분과 함께 표 1에 나타낸 비율(질량부)로 배합하고, 교반기로 예비 혼합한 후, 3축 롤밀로 혼련하여 솔더 레지스트 경화성 수지 조성물을 제조하였다. 여기서, 얻어진 경화성 수지 조성물의 분산도를 에리크센사 제조 그라인드 미터에 의한 입도 측정으로 평가한 바, 15 ㎛ 이하였다.Using the resin solution of the said synthesis example, it mix | blended in the ratio (mass part) shown in Table 1 with the various components shown in Table 1, pre-mixed with a stirrer, and knead | mixed with a triaxial roll mill to manufacture a soldering resist curable resin composition It was. Here, when the dispersion degree of the obtained curable resin composition was evaluated by the particle size measurement by the erycksen company grinder, it was 15 micrometers or less.
성능 평가:Performance rating:
<최적 노광량><Optimal exposure amount>
상기 실시예 2 내지 9 및 비교예 1 내지 4의 열경화성ㆍ광경화성 수지 조성물을, 구리 두께 35 ㎛의 회로 패턴 기판을 버프롤 연마한 후, 수세하고, 건조한 후 스크린 인쇄법에 의해 전면에 도포하고, 80 ℃의 열풍 순환식 건조로에서 30분간 건조시킨다. 건조 후, 메탈 할라이드 램프가 탑재된 노광 장치((주)오크 세이사꾸쇼 제조 HMW-680-GW20)를 사용하여 스텝 타블렛(코닥 No.2)을 통해 노광하고, 현상(90 ℃, 0.2 MPa, 1 중량% Na2CO3 수용액)을 90초간 행했을 때 잔존하는 스텝 타블렛의 패턴이 6단일 때를 최적 노광량으로 하였다.The thermosetting and photocurable resin compositions of Examples 2 to 9 and Comparative Examples 1 to 4 were subjected to buff roll polishing of a circuit pattern substrate having a copper thickness of 35 μm, washed with water, dried, and then applied to the entire surface by screen printing. Dry for 30 minutes in a hot air circulating drying furnace at 80 ° C. After drying, exposure was performed through a step tablet (Kodak No. 2) using an exposure apparatus equipped with a metal halide lamp (HMW-680-GW20, manufactured by Oak Seisakusho Co., Ltd.), and developed (90 ° C, 0.2 MPa, 1 wt% Na 2 CO 3 solution) to the optimum dose for 6 days when the pattern of the step-tablet which remains when the line for 90 seconds.
특성 시험:Characteristic test:
<땜납 내열성>Solder Heat Resistance
로진계 플럭스를 도포한 평가 기판을 미리 260 ℃로 설정한 땜납조에 침지하고, 변성 알코올로 플럭스를 세정한 후, 육안에 의한 레지스트층의 팽창ㆍ박리에 대하여 평가하였다. 판정 기준은 이하와 같다.The evaluation board | substrate with which the rosin type flux was apply | coated was immersed in the solder tank previously set to 260 degreeC, and the flux was wash | cleaned with denatured alcohol, and the expansion and peeling of the resist layer by visual observation were evaluated. The criteria are as follows.
○: 10초간 침지 1회에 박리가 관찰되지 않음.(Circle): Peeling is not observed by immersion once for 10 second.
△: 5초간 침지 1회에 박리가 관찰되지 않음.(Triangle | delta): Peeling is not observed by immersion once for 5 second.
×: 5초간 침지 1회에 레지스트층에 팽창, 박리가 있음.X: There exists expansion and peeling in a resist layer once in immersion for 5 second.
<난연성><Flammability>
각 실시예 및 비교예의 조성물을 12.5 ㎛ 또는 25 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름(도레이 듀퐁(주) 제조 캡톤 100H, 50H)에 스크린 인쇄로 전면 도포하고, 80 ℃에서 20분간 건조하여 실온까지 방냉하였다. 또한, 이면을 마찬가지로 스크린 인쇄로 전면 도포하고, 80 ℃에서 20분간 건조하여 실온까지 방냉하여 양면 도포 기판을 얻었다. 실시예 1의 기판에 대해서는, 150 ℃에서 60분간의 열경화를 행하여 평가 샘플로 하였다. 실시예 2 내지 9 및 비교예 1 내지 4의 기판에 대해서는, 메탈 할라이드 램프가 탑재된 노광 장치(HMW-680-GW20)를 사용하여 최적 노광량으로 솔더 레지스트를 전면 노광하고, 30 ℃의 1 중량% Na2CO3 수용액을 분무압 0.2 MPa의 조건으로 90초간 현상을 행하고, 150 ℃에서 60분간 열경화를 행하여 평가 샘플로 하였다. 이 난연성 평가용 샘플에 대하여, UL94 규격에 준거한 박재(薄材) 수직 연소 시험을 행하였다. 평가는 UL94 규격에 기초하여, VTM-0 또는 NG(VTM-0을 달성하지 못한 것)로 나타내었다.The composition of each Example and the comparative example was apply | coated completely by screen printing to the polyimide film (Kapton 100H, 50H by Toray Dupont) of 12.5 micrometers or 25 micrometers thick, dried at 80 degreeC for 20 minutes, and cooled to room temperature. In addition, the front surface was similarly applied by screen printing, dried at 80 ° C. for 20 minutes, and allowed to cool to room temperature to obtain a double coated substrate. About the board | substrate of Example 1, 60 minutes of thermosetting were performed at 150 degreeC, and it was set as the evaluation sample. About the board | substrate of Examples 2-9 and Comparative Examples 1-4, the soldering resist is fully exposed by the optimal exposure amount using the exposure apparatus (HMW-680-GW20) with a metal halide lamp, and 1 weight% of 30 degreeC The Na 2 CO 3 aqueous solution was developed for 90 seconds under a spray pressure of 0.2 MPa, and thermally cured at 150 ° C. for 60 minutes to obtain an evaluation sample. The thin material vertical combustion test based on the UL94 standard was done about this flame retardance evaluation sample. The evaluation is expressed as VTM-0 or NG (which did not achieve VTM-0), based on the UL94 specification.
<가요성(내굴곡성)><Flexibility>
각 실시예 및 비교예의 조성물을 25 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름(도레이 듀퐁(주) 제조 캡톤 100H)에 스크린 인쇄로 전면 도포하고, 80 ℃에서 30분간 건조하여 실온까지 방냉하였다. 실시예 1의 기판에 대해서는, 150 ℃에서 60분간의 열경화를 행하여 평가 샘플로 하였다. 실시예 2 내지 9 및 비교예 1 내지 4의 기판에 대해서는, 메탈 할라이드 램프가 탑재된 노광 장치(HMW-680-GW20)를 사용하여 최적 노광량으로 솔더 레지스트를 전면 노광하고, 30 ℃의 1 중량% Na2CO3 수용액을 분무압 0.2 MPa의 조건으로 90초간 현상을 행하고, 150 ℃에서 60분간 열경화를 행하여 평가 샘플로 하였다.The composition of each Example and the comparative example was apply | coated completely by screen printing to the polyimide film (Kapton 100H of Toray Dupont) of thickness 25micrometer, dried at 80 degreeC for 30 minutes, and cooled to room temperature. About the board | substrate of Example 1, 60 minutes of thermosetting were performed at 150 degreeC, and it was set as the evaluation sample. About the board | substrate of Examples 2-9 and Comparative Examples 1-4, the soldering resist is fully exposed by the optimal exposure amount using the exposure apparatus (HMW-680-GW20) with a metal halide lamp, and 1 weight% of 30 degreeC The Na 2 CO 3 aqueous solution was developed for 90 seconds under a spray pressure of 0.2 MPa, and thermally cured at 150 ° C. for 60 minutes to obtain an evaluation sample.
얻어진 평가 샘플에 대하여, 꺾어서 구부림으로써 180° 절곡을 수회 반복하여 행하고, 이 때의 커버레이에서의 균열 발생 상황을 육안 및 광학 현미경(배율×200)으로 관찰하여, 균열이 발생하지 않은 횟수를 평가하였다.With respect to the obtained evaluation sample, 180 ° bending was repeated several times by bending and bending, and the crack occurrence state in the coverlay at this time was observed with the naked eye and an optical microscope (magnification x 200), and the number of times the crack did not occur was evaluated. It was.
상기 각 평가 시험의 결과를 표 2에 통합하여 나타낸다.The result of each said evaluation test is put together in Table 2, and is shown.
실시예 10 내지 17Examples 10 to 17
표 1에 기재된 실시예 2 내지 9에 나타낸 조성물을 실리콘계 소포제를 배합하지 않고 제조한 난연성 광경화성 수지 조성물을 메틸에틸케톤으로 희석하고, 캐리어 필름 상에 도포하고, 가열 건조하여 두께 20 ㎛의 감광성 수지 조성물층을 형성하고, 그 위에 커버 필름을 접합하여 드라이 필름을 얻었다. 그 후, 커버 필름을 박리하고, 패턴 형성된 동박 기판에 라미네이터를 사용하여 필름을 접합하였다. 이 기판에 메탈할라이드 램프가 탑재된 노광 장치(HMW-680-GW20)를 사용하여 최적 노광량으로 솔더 레지스트 패턴을 노광하고, 캐리어 필름을 박리한 후, 30 ℃의 1 중량% Na2CO3 수용액을 분무압 0.2 MPa의 조건으로 90초간 현상을 행하여 레지스트 패턴을 얻었다. 그 후, 150 ℃의 열풍 건조기에서 60분간 가열 경화를 행하여, 시험 기판을 제작하였다. 얻어진 경화 피막을 갖는 시험 기판에 대하여, 상술한 시험 방법 및 평가 방법과 동일하게 하여 각 특성의 평가 시험을 행하였다.The flame-retardant photocurable resin composition prepared by mixing the compositions shown in Examples 2 to 9 in Table 1 without the addition of a silicone antifoaming agent was diluted with methyl ethyl ketone, coated on a carrier film, heated and dried to form a photosensitive resin having a thickness of 20 μm. The composition layer was formed, the cover film was bonded on it, and the dry film was obtained. Then, the cover film was peeled off and the film was bonded to the patterned copper foil board | substrate using a laminator. Using a metal halide lamp is equipped with an exposure apparatus (HMW-680-GW20) in the substrate to expose a solder resist pattern by the optimal exposure amount, and then peeling the carrier film, a 1 wt% Na 2 CO 3 aqueous solution for 30 ℃ The development was carried out for 90 seconds under the condition of a spray pressure of 0.2 MPa to obtain a resist pattern. Then, heat hardening was performed for 60 minutes in the 150 degreeC hot air dryer, and the test board | substrate was produced. About the test board | substrate which has the obtained hardened film, the evaluation test of each characteristic was done similarly to the above-mentioned test method and evaluation method.
상기 각 평가 시험의 결과를 표 3에 통합하여 나타낸다.The result of each said evaluation test is put together in Table 3, and is shown.
Claims (11)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009070761A JP5261242B2 (en) | 2009-03-23 | 2009-03-23 | Curable resin composition, dry film and printed wiring board using the same |
JPJP-P-2009-070761 | 2009-03-23 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20100106233A KR20100106233A (en) | 2010-10-01 |
KR101174981B1 true KR101174981B1 (en) | 2012-08-17 |
Family
ID=42770040
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020100025106A KR101174981B1 (en) | 2009-03-23 | 2010-03-22 | Curable resin composition, and dry film and printed wiring board using the same |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5261242B2 (en) |
KR (1) | KR101174981B1 (en) |
CN (1) | CN101845219B (en) |
TW (1) | TWI399396B (en) |
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---|---|---|---|---|
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WO2012081295A1 (en) | 2010-12-14 | 2012-06-21 | 株式会社カネカ | Novel photosensitive resin composition and use thereof |
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CN104049457B (en) * | 2013-03-11 | 2016-01-27 | 太阳油墨制造株式会社 | Photocurable resin composition, its dry film and solidfied material and there is the printed circuit board (PCB) of cured film using their to be formed |
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CN105739239B (en) * | 2014-12-10 | 2020-04-03 | 太阳油墨(苏州)有限公司 | Photocurable/thermosetting resin composition, dry film, cured product, and printed wiring board |
CN105824191A (en) * | 2015-01-09 | 2016-08-03 | 日本化药株式会社 | Photo-curable coloring composition, solidification object and article |
CN108137791A (en) * | 2015-09-30 | 2018-06-08 | 太阳油墨制造株式会社 | Hardening resin composition, dry film and use its printed circuit board |
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JP6875176B2 (en) * | 2017-03-31 | 2021-05-19 | 積水化学工業株式会社 | Inorganic filler-containing photocurable composition and inorganic filler-containing sheet |
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CN116685050B (en) * | 2023-05-31 | 2024-01-23 | 江苏耀鸿电子有限公司 | Manufacturing method of PCB |
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JP2006284911A (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Showa Denko Kk | Flame retardant composition for solder resist and cured body of same |
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DE102007001862A1 (en) * | 2007-01-12 | 2008-07-17 | Clariant International Ltd. | Flame retardant resin formulation and its use |
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-
2009
- 2009-03-23 JP JP2009070761A patent/JP5261242B2/en active Active
-
2010
- 2010-03-16 CN CN2010101322610A patent/CN101845219B/en active Active
- 2010-03-22 KR KR1020100025106A patent/KR101174981B1/en active IP Right Grant
- 2010-03-22 TW TW099108364A patent/TWI399396B/en active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101845219A (en) | 2010-09-29 |
CN101845219B (en) | 2012-12-26 |
JP5261242B2 (en) | 2013-08-14 |
TW201105720A (en) | 2011-02-16 |
JP2010224170A (en) | 2010-10-07 |
TWI399396B (en) | 2013-06-21 |
KR20100106233A (en) | 2010-10-01 |
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