KR101172708B1 - wet type gas scrubber - Google Patents

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KR101172708B1
KR101172708B1 KR1020110129420A KR20110129420A KR101172708B1 KR 101172708 B1 KR101172708 B1 KR 101172708B1 KR 1020110129420 A KR1020110129420 A KR 1020110129420A KR 20110129420 A KR20110129420 A KR 20110129420A KR 101172708 B1 KR101172708 B1 KR 101172708B1
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이경주
전민호
성한욱
박종훈
유미온
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유미온
주식회사 어드밴스드바이오테크놀로지
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Abstract

PURPOSE: A wet type gas scrubber is provided to increase the surface of gas-liquid and to rapidly separate moisture from gas without a clogging phenomenon. CONSTITUTION: A wet type gas scrubber includes a chamber(30), a washing liquid spraying unit(20), and a gas-liquid separating unit(10). The chamber secures a space for transferring materials between gas and washing liquid. Multi-layered washing liquid spraying units are installed at the chamber. The washing liquid spraying units spray the washing liquid to become droplet. The gas-liquid separating unit is installed at the upper sides of the washing liquid spraying units and separates moisture from gas. The washing liquid spraying units include washing liquid pipes(21) and perforated boards(25). Washing holes are formed at the washing liquid pipes. The perforated boards are separately installed at the lower parts of the washing liquid pipes.

Description

습식 가스스크러버{wet type gas scrubber}Wet type gas scrubber

본 발명은 습식 가스스크러버에 관한 기술로서, 종래 습식 가스스크러버에서 가스로부터 수분을 분리하기 위하여 사용되는 데미스터(demister)를 대체하는 기액분리장치를 사용하며, 또한, 세정액의 미립자 액적을 만들어주기 위하여 특수히 고안된 세정액분사장치를 적용하는 습식 가스스크러버에 관한 기술이다.
The present invention relates to a wet gas scrubber, which uses a gas-liquid separator that replaces a demister used to separate water from a gas in a conventional wet gas scrubber, and to make particulate droplets of a cleaning liquid. The present invention relates to a wet gas scrubber applying a specially designed cleaning solution spraying device.

가스스크러버는 크게 웨팅(wetting)방식과 버닝(burning)방식으로 대별된다. 웨팅방식 스크러버는 물을 이용하여 배기가스를 세정 및 냉각하는 구조로서, 비교적 간단한 구성을 가지므로 제작이 용이하고 대용량화할 수 있다는 장점은 있으나, 비수용성의 가스는 처리가 불가능하다는 단점이 있다. 버닝방식 스크러버는 수소 버너 등의 버너 속을 배가가스가 통과되도록 하여 직접 연소시키거나, 또는 열원을 이용하여 고온의 체임버를 형성하고 그 속으로 배기가스가 통과되도록 하여 간접적으로 연소시키는 구조를 갖는다. 이러한 버닝방식 스크러버는 발화성 가스의 처리에는 탁월한 효과가 있으나, 잘 연소되지 않은 가스의 처리에는 부적절하다.
Gas scrubbers are roughly classified into a wetting method and a burning method. Wetting scrubber is a structure that cleans and cools the exhaust gas using water, and has a relatively simple configuration, which is easy to manufacture and large-capacity, but has a disadvantage in that water-insoluble gas cannot be processed. The burning type scrubber has a structure in which a double gas passes through a burner, such as a hydrogen burner, to be directly burned, or indirectly burned by forming a high temperature chamber using a heat source and allowing exhaust gas to pass through the burner. Such a burning scrubber has an excellent effect on the treatment of ignitable gases, but is inadequate for the treatment of gases that are not well burned.

본 발명은 웨팅방식의 스크러버에 관한 기술로서, 웨팅방식의 스크러버의 경우 충전탑식 스크러버(packed type scrubber), 분무탑식 스크러버(spray type scrubber), 싸이클론식 스크러버(cyclone scrubber), 벤츄리식 스크러버(venturi scrubber), 이젝터식 스크러버(ejector scrubber) 등의 다양한 방식이 존재한다.
The present invention relates to a wetting scrubber, in the case of a wetting scrubber, a packed-type scrubber, a spray-type scrubber, a cyclone scrubber, a cyclonic scrubber, a venturi scrubber There are various methods such as scrubbers and ejector scrubbers.

본 발명은, 특히, 분무탑식 스크러버에 관한 기술로서, 분무탑식 스크러버의 경우 충전탑식 스크러버와는 달리 별도의 충전재(packing material)가 없이, 노즐과 같은 스프레이를 통하여 액적을 만들어서, 이 액적의 표면을 물질 전달 면적으로 하여 오염 물질의 흡수를 행한다.
In particular, the present invention relates to a spray tower scrubber, which, unlike a packed column scrubber, makes a droplet through a spray such as a nozzle without a packing material, unlike a packed column scrubber. The contaminant is absorbed by the mass transfer area.

도 1은 종래 분무탑식 스크러버(100')의 전형적인 구조를 설명하는 도면이다. 도 1을 참고하면, 오염가스를 원통형 체임버(3')의 하부로 주입하고, 가스로부터 오염물질을 흡수 제거하기 위한 매체인 세정액(주로 물에 산성 또는 염기성 화합물이 용해된 수용액)이 스크러버 하부로부터 상부로 순환되며, 노즐 형태의 세정액분사장치(1')를 통해 미세한 입자화되어, 오염가스와 접촉하여 오염가스로부터 오염물질을 흡수 제거하여 스크러버 하부로 낙하하며, 오염가스는 상승한 뒤 가스 속의 수분을 제거하기 위하여 데미스터(demister, 2')를 거쳐 건조한 가스 상태로 외부 또는 다른 공정으로 배출된다.
1 is a view for explaining the typical structure of a conventional spray tower scrubber (100 '). Referring to FIG. 1, a contaminant gas is injected into the lower portion of the cylindrical chamber 3 ', and a cleaning liquid (mainly an aqueous solution in which an acidic or basic compound is dissolved in water) is a medium for absorbing and removing contaminants from the gas from the lower portion of the scrubber. It is circulated to the upper part, and becomes fine particles through the nozzle-type cleaning liquid spraying device 1 ', and absorbs and removes the pollutants from the polluted gas in contact with the polluted gas, and falls to the lower part of the scrubber. It is discharged to an external or other process in a dry gas state through a demister (2 ') to remove the gas.

상기 종래 분무탑식 스크러버(100')에서의 세정액분사장치(1')는 통상 노즐(nozzle)을 이용하는데, 상기 노즐은 고가이며, 세정액에 포함된 오염물질로 인하여 막힘(plugging)이 발생하기 쉽다. 또한, 종래 분무탑식 스크러버(100')에서는 액적으로부터 오염물질이 제거된 가스에 포함되어 있는 수분을 제거하기 위하여 데미스터(demister, 2')를 사용한다. 데미스터는 도 1의 확대도와 같이, 일종의 필터로서, 그물코를 여러 겹으로 포개어 증기를 통과시켜, 증기 속의 수분을 제거한다. 데미스터는 필터이기 때문에 필연적으로 불순물에 의한 오염이 발생하고, 이러한 오염에 의하여 채널링(channeling) 현상이 발생하여 수분 제거 효율이 떨어지는 등의 여러 문제점이 있다.
The cleaning liquid spraying device 1 'in the conventional spray tower scrubber 100' uses a nozzle, which is expensive and is likely to be plugged due to contaminants contained in the cleaning liquid. . In addition, the conventional spray tower scrubber (100 ') uses a demister (demister, 2') to remove the water contained in the gas from which the contaminants have been removed from the droplets. The demister is a kind of filter, as shown in the enlarged view of FIG. 1, which overlaps the mesh in multiple layers and passes the steam to remove moisture in the steam. Since the demister is a filter, it is inevitably contaminated by impurities, and there are various problems such as channeling due to such contamination, resulting in poor water removal efficiency.

본 발명의 목적은 종래의 데미스터를 대체하면서도, 오염물질에 의한 막힘이나 채널링 현상이 없이 수분의 분리효율이 높은 기액분리장치를 적용한 스크러버를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to replace a conventional demister, to provide a scrubber applying a gas-liquid separation device having a high separation efficiency of water without clogging or channeling phenomenon caused by contaminants.

또한, 본 발명의 목적은 종래 노즐식 분사 장치를 대신하여 저가로 제작이 가능하고, 액적을 효율적으로 분사시킬 수 있는 세정액분사장치를 적용한 스크러버를 제공하는 것이다.
In addition, it is an object of the present invention to provide a scrubber to which a cleaning liquid spraying device which can be manufactured at low cost and efficiently ejects droplets in place of the conventional nozzle type spraying apparatus.

본 발명은 세정액의 분사를 통하여 오염가스를 정화하기 위한 습식 가스스크러버에 있어서, 오염된 가스가 유입되는 가스유입관을 하부에 가지며, 가스와 세정액 사이의 물질 전달이 일어나는 공간을 제공하는 체임버; 상기 체임버에 수직으로 1단 이상으로 설치되어 세정액을 분사 액적화하는 세정액분사장치; 및 상기 세정액분사장치의 상부에 설치되어 가스로부터 수분을 분리 제거하는 기액분리장치를 포함하며, 상기 세정액분사장치는 세정액이 분사될 수 있는 세정공이 한 개 이상 형성된 세정액파이프와, 상기 세정액파이프와 하부에 이격 설치되어 상기 세정공으로부터 분사된 세정액이 충돌하여 액적화할 수 있는 다공판을 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 가스스크러버를 제공한다.
The present invention provides a wet gas scrubber for purifying polluted gas through injection of a cleaning liquid, the wet gas scrubber comprising: a chamber having a gas inlet pipe through which the polluted gas flows and providing a space for mass transfer between the gas and the cleaning liquid; A washing liquid spraying device installed at one or more stages perpendicular to the chamber to spray droplets of the washing liquid; And a gas-liquid separator installed at an upper portion of the cleaning liquid spraying device to separate and remove moisture from a gas, wherein the cleaning liquid spraying device includes a cleaning liquid pipe having one or more cleaning holes through which cleaning liquid can be injected, and the cleaning liquid pipe and the lower portion of the cleaning liquid pipe. It provides a wet gas scrubber characterized in that it comprises a porous plate spaced apart in the cleaning liquid jetted from the cleaning hole to collide with the liquid.

특히, 상기 세정액분사장치의 세정공은 내경에서 외경 방향으로 절개폭이 더 증가되어 세정액이 부채꼴 모양으로 분사되도록 하는 것이 바람직하다.
In particular, it is preferable that the cleaning hole of the cleaning liquid spraying device further increases the cutting width from the inner diameter to the outer diameter so that the cleaning liquid is sprayed in a fan shape.

특히, 상기 체임버의 외부로 상기 세정액파이프가 연장 형성된 연장형성세정액파이프가 더 구비되며, 상기 연장형성세정액파이프에는 세정공이 없으며, 두 개로 분기 되고 각각 분기된 부분에 밸브가 형성되어 있는 것이 바람직하다.
In particular, it is further provided with an extension forming cleaning liquid pipe in which the cleaning liquid pipe is extended to the outside of the chamber, wherein the extension forming cleaning liquid pipe has no cleaning holes, and it is preferable that the valve is formed in two branched portions.

특히, 상기 기액분리장치는 수분을 포함하는 가스(=습윤가스)가 유입되는 습윤가스입구를 하나 이상 갖는 원통형의 분리부와, 상기 분리부 상부에 상기 분리부보다 직경이 큰 원통형의 확대분리부를 갖는 것이 바람직하다.
In particular, the gas-liquid separator includes a cylindrical separator having one or more wet gas inlets through which water-containing gas (= wet gas) is introduced, and a cylindrical enlarged separator having a diameter larger than that of the separator on the separator. It is desirable to have.

특히, 상기 확대분리부는 하부의 직경이 상기 분리부의 직경보다 크지만, 상부로 갈수록 폭이 좁아지는 형태일 수 있다.
In particular, although the diameter of the enlarged separator is larger than the diameter of the separator, the width may be narrowed toward the top.

특히, 상기 기액분리장치의 습윤가스입구는 분리부의 중심축 방향에서 일정 각도 벗어난 사선방향 또는 법선방향으로 설치되는 것이 바람직하다.
In particular, the wet gas inlet of the gas-liquid separator is preferably installed in an oblique or normal direction away from a certain angle from the direction of the central axis of the separator.

특히, 상기 기액분리장치의 분리부 상부에 오리피스를 더 구비하는 것이 바람직하다.
In particular, it is preferable that an orifice is further provided on the separation part of the gas-liquid separator.

또한, 본 발명은 염기성 세정액과 산성 세정액으로 각각 오염가스를 세정하는 2단 약액세정탑 구조의 습식 가스스크러버에 있어서, 오염된 가스가 유입되는 가스유입관을 하부에 가지며, 중간 격막에 의하여 분리되어 하부에는 산성 세정액이 분사되는 산성 세정탑 역할을 하고, 상부는 염기성 세정액이 분사되는 염기성 세정탑의 역할을 하는 체임버; 상기 각 세정탑에는 세정액을 분사하기 위하여 1개 이상 배치되는 세정액분사장치; 및 상기 중간격막과 상기 체임버의 최상부에 각각 설치되는 1개 이상의 기액분리장치를 포함하며, 상기 세정액분사장치는 세정액이 분사될 수 있는 세정공이 1개 이상 형성된 세정액파이프와, 상기 세정액파이프의 하부에 이격 설치되어 상기 세정공으로부터 분사된 세정액이 충돌하여 액적화할 수 있는 다공판을 포함하는 것을 특징으로 하는 2단 약액세정탑 구조의 습식 가스스크러버를 제공한다.
In addition, the present invention is a wet gas scrubber having a two-stage chemical liquid washing tower structure for cleaning contaminated gas with a basic cleaning liquid and an acidic cleaning liquid, respectively, having a gas inlet pipe through which contaminated gas flows and separated by an intermediate diaphragm. A chamber that serves as an acidic cleaning tower through which an acidic cleaning solution is injected, and an upper portion as a basic cleaning tower where the basic cleaning solution is injected; At least one cleaning liquid spraying device disposed in each of the cleaning towers to spray the cleaning liquid; And one or more gas-liquid separators respectively provided on top of the intermediate diaphragm and the chamber, wherein the cleaning liquid injection unit includes a cleaning liquid pipe having one or more cleaning holes through which cleaning liquid can be injected, and a lower portion of the cleaning liquid pipe. Provided is a wet gas scrubber having a two-stage chemical liquid washing tower structure is installed spaced apart and comprises a porous plate that can be droplets collide with the cleaning liquid injected from the cleaning hole.

특히, 상기 세정액분사장치의 세정공은 내경에서 외경 방향으로 절개폭이 더 증가되어 세정액이 부채꼴 모양으로 분사되도록 하는 것이 바람직하다.
In particular, it is preferable that the cleaning hole of the cleaning liquid spraying device further increases the cutting width from the inner diameter to the outer diameter so that the cleaning liquid is sprayed in a fan shape.

특히, 상기 체임버의 외부로 상기 세정액파이프가 연장 형성된 연장형성세정액파이프가 더 구비되며, 상기 연장형성세정액파이프에는 세정공이 없으며, 두 개로 분기 되고 각각 분기된 부분에 밸브가 형성되어 있는 것이 바람직하다.
In particular, it is further provided with an extension forming cleaning liquid pipe in which the cleaning liquid pipe is extended to the outside of the chamber, wherein the extension forming cleaning liquid pipe has no cleaning holes, and it is preferable that the valve is formed in two branched portions.

특히, 상기 기액분리장치는 수분을 포함하는 가스(=습윤가스)가 유입되는 습윤가스입구를 하나 이상 갖는 원통형의 분리부와, 상기 분리부 상부에 상기 분리부보다 직경이 큰 원통형의 확대분리부를 갖는 것이 바람직하다.
In particular, the gas-liquid separator includes a cylindrical separator having one or more wet gas inlets through which water-containing gas (= wet gas) is introduced, and a cylindrical enlarged separator having a diameter larger than that of the separator on the separator. It is desirable to have.

특히, 상기 확대분리부는 하부의 직경이 상기 분리부의 직경보다 크지만, 상부로 갈수록 폭이 좁아지는 형태일 수 있다.
In particular, although the diameter of the enlarged separator is larger than the diameter of the separator, the width may be narrowed toward the top.

특히, 상기 기액분리장치의 습윤가스입구는 분리부의 중심축 방향에서 일정 각도 벗어난 사선방향으로 설치되는 것이 바람직하다.
In particular, the wet gas inlet of the gas-liquid separator is preferably installed in an oblique direction away from a predetermined angle from the direction of the central axis of the separation unit.

특히, 상기 기액분리장치의 분리부 상부에 오리피스를 더 구비하는 것이 바람직하다.
In particular, it is preferable that an orifice is further provided on the separation part of the gas-liquid separator.

특히, 상기 산성 세정탑과 염기성 세정탑의 상하 순서가 바뀐 것도 가능하다.
In particular, the up-and-down order of the acidic washing tower and the basic washing tower may be changed.

본 발명의 스크러버는 종래 데미스터를 대체하는 신규한 기액분리장치를 통하여 간단한 구조와 막힘 현상 없이 빠른 속도로 가스로부터 수분을 분리할 수 있으며, 또한, 종래 분사노즐 대신 간단한 구조의 세정액파이프와 다공판으로 이루어진 세정액분사장치를 이용하여 효과적으로 세정액을 액적화하여 기액 표면적을 증가시킬 수 있는 장점이 있다.
The scrubber of the present invention can separate moisture from the gas at a high speed without a clogging phenomenon with a simple structure through a novel gas-liquid separation device replacing the conventional demister, and also has a simple structure of the cleaning liquid pipe and the porous plate instead of the conventional spray nozzle. Using the cleaning liquid injection value consisting of an effective cleaning liquid droplets there is an advantage that can increase the gas-liquid surface area.

도 1은 종래의 스크러버를 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 의한 스크러버의 단면도이다.
도 3a는 본 발명의 기액분리장치의 사시도이며, 도 3b는 수평단면도이며, 도 3c는 수직단면도이며, 도 3d는 본 발명의 기액분리장치의 타 실시예의 단면도이며, 도 3e는 오리피스를 추가한 기액분리장치의 단면도이며,도 3f는 오리피스의 사시도이다.
도 4a는 본 발명의 세정액분사장치의 사시도이며, 도 4b 및 도 4c는 각 단면도이며, 도 4d는 본 발명의 스크러버의 횡단면도로서 수평적으로 세정액분사장치가 다수개 설치되어 있는 것을 나타내는 것을 설명하기 위한 도면이다.
도 5a 및 도 5b는 세정액분사장치 내에 축적된 오물을 제거하기 위한 세척방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 의한 스크러버(2단 약액세정탑 구조)의 단면도이다.
** 도면의 부호에 대한 간단한 설명 **
10 : 기액분리장치 11 : 분리부
12 : 습윤가스입구 13 : 드레인관
14 : 확대분리부 15 : 건조가스출구
16 : 오리피스 20 : 세정액분사장치
21 : 세정액파이프 22 : 세정액분사공
25 : 다공판 30 : 체임버
40 : 가스유입관 50 : 순환펌프
60 : 세정액유입관 70 : 연장형성세정액파이프
80 : 브러쉬 90 : 중간격막
100 : 스크러버1 is a view showing a conventional scrubber.
2 is a cross-sectional view of the scrubber according to the first embodiment of the present invention.
Figure 3a is a perspective view of the gas-liquid separator of the present invention, Figure 3b is a horizontal cross-sectional view, Figure 3c is a vertical cross-sectional view, Figure 3d is a cross-sectional view of another embodiment of the gas-liquid separator of the present invention, Figure 3e is an orifice added It is sectional drawing of a gas-liquid separator, and FIG. 3F is a perspective view of an orifice.
4A is a perspective view of the cleaning liquid spraying device of the present invention, FIGS. 4B and 4C are cross-sectional views, and FIG. 4D is a cross-sectional view of the scrubber of the present invention, showing that a plurality of cleaning liquid spraying devices are provided horizontally. It is for the drawing.
5A and 5B are views for explaining a washing method for removing dirt accumulated in the washing liquid spraying device.
6 is a cross-sectional view of a scrubber (two-step chemical liquid washing tower structure) according to a second embodiment of the present invention.
** Brief description of symbols in the drawing **
10: gas-liquid separator 11: separator
12: wet gas inlet 13: drain pipe
14: expansion separator 15: dry gas outlet
16: orifice 20: cleaning liquid spraying device
21: washing liquid pipe 22: washing liquid spraying hole
25: perforated plate 30: chamber
40: gas inlet pipe 50: circulation pump
60: washing liquid inlet pipe 70: extension forming cleaning liquid pipe
80: brush 90: middle septum
100: scrubber

이하 도면을 참고하여 본 발명에 대하여 설명하기로 한다.
Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings.

제 1 1st 실시예에Example 의한  by 스크러버의Scrubber 구조 rescue

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 의한 스크러버(100)의 단면도이다. 본 발명의 스크러버(100)는 원통형의 체임버(30)를 기본 형태로 하는데, 종래 스크러버(100')와 다른 점으로 첫째, 종래 데미스터(demister)를 대체하는 본 발명만의 신규한 기액분리장치(10)를 체임버(30)의 상부에 가지며, 둘째, 종래 세정액을 액적으로 분사하기 위한 노즐 대신에 본 발명에서는 신규한 형태의 세정액분사장치(10)를 적용하는 것을 특징으로 한다.
2 is a cross-sectional view of the scrubber 100 according to the first embodiment of the present invention. The scrubber 100 of the present invention has a cylindrical chamber 30 as a basic form, and is different from the conventional scrubber 100 '. First, the novel gas-liquid separation device of the present invention replaces the conventional demister. (10) in the upper portion of the chamber 30, and second, in the present invention, instead of the nozzle for spraying the conventional cleaning liquid droplets, a novel type of cleaning liquid spraying device 10 is applied.

본 발명의 세정액분사장치(10)는 수직으로 1단 이상의 다단으로 구성되는 것이 바람직하며, 수평적으로도 1개 이상의 세정액분사장치(10)가 평행하게 다수 개 구비될 수 있다(도 4d 참조). 이는 수평적 및 수직적으로 세정액이 균일하게 분사되도록 하기 위함이다.
The washing liquid spraying apparatus 10 of the present invention is preferably composed of one or more stages in multiple stages vertically, and one or more washing liquid spraying apparatuses 10 may be provided in parallel with each other (see FIG. 4D). . This is to ensure that the cleaning liquid is uniformly sprayed horizontally and vertically.

본 발명의 스크러버(100)에서의 오염가스의 세정 과정은 종래의 스크러버(100')에서의 세정 과정과 동일하다. 즉, 오염가스가 송풍기(도면 미도시) 등의 강제 송풍장치에 의해 가스유입관(40)을 거쳐 스크러버(100)의 체임버(30)에 유입된 후, 체임버(30)의 상부로 상승하게 된다. 한편, 세정액은 체임버(30)의 하부에 모여있거나, 별도의 외부 세정액 저장용기에 담겨 있을 수 있다. 세정액은 순환펌프(50)에 의하여 세정액유입관(60)을 통하여 각 분기된 세정액분사장치(20)로 분배된다. 각 세정액분사장치(20)별로 순환펌프를 별도로 설치하는 것도 가능하나, 경제성 및 설치공간의 절약을 위하여, 도 2와 같이 하나의 순환펌프를 사용하는 것이 바람직하다. 세정액은 본 발명의 세정액분사장치(20)를 통하여 0.5 ~ 1mm 정도의 크기로 액적화되어, 총 표면적을 넓히며, 이러한 액적의 표면이 물질전달 계면 역할을 하여, 상승하는 오염가스로부터 오염물질을 전달받아 중력에 의하여 하강한다. 이러한 하강한 세정액은 다시 순환펌프에 의하여 세정액분사장치로 순환되거나, 드레인밸브(도면 미도시)를 통하여 외부로 이송된다.
The cleaning process of the contaminated gas in the scrubber 100 of the present invention is the same as the cleaning process of the conventional scrubber 100 '. That is, the polluted gas is introduced into the chamber 30 of the scrubber 100 through the gas inlet pipe 40 by a forced blower such as a blower (not shown), and then rises to the upper portion of the chamber 30. . On the other hand, the cleaning liquid may be collected in the lower portion of the chamber 30, or may be contained in a separate external cleaning liquid storage container. The cleaning liquid is distributed to each of the branched cleaning liquid spraying apparatuses 20 through the cleaning liquid inlet pipe 60 by the circulation pump 50. It is also possible to separately install a circulating pump for each cleaning liquid spraying device 20, but for the sake of economy and saving of installation space, it is preferable to use one circulating pump as shown in FIG. The cleaning liquid is dropletized to a size of about 0.5 to 1 mm through the cleaning liquid spraying device 20 of the present invention, thereby widening the total surface area, and the surface of such droplets serves as a material transfer interface to transfer contaminants from the rising pollutant gas. Receive and descend by gravity. The lowered washing liquid is circulated to the washing liquid spraying device again by a circulation pump or is transferred to the outside through a drain valve (not shown).

세정액분사장치(20)를 통과한 가스는 오염물질이 제거되나, 가스 속에 수분이 포함된 습윤상태의 가스이다. 따라서, 이러한 수분을 제거하기 위하여 종래에는 필터 형태의 데미스터를 사용하였으나, 본 발명에서는 특별히 고안된 기액분리장치(10)를 통하여 수분이 제거된다.
The gas passing through the cleaning liquid spraying device 20 is a gas in a wet state in which contaminants are removed but water is contained in the gas. Therefore, in order to remove such moisture, a filter type demister is conventionally used, but in the present invention, water is removed through a specially designed gas-liquid separator 10.

이하에서는 본 발명의 특징적인 부분인 기액분리장치(10) 및 세정액분사장치(20)에 대하여 설명하기로 한다.
Hereinafter, a description will be given of the gas-liquid separation device 10 and the cleaning liquid injection device 20 which is a characteristic part of the present invention.

기액분리장치Gas liquid separator

도 3a는 본 발명의 기액분리장치의 사시도이며, 도 3b는 수평단면도이며, 도 3c는 수직단면도이며, 도 3d는 본 발명의 기액분리장치의 타 실시예의 단면도이며, 도 3e는 오리피스를 추가한 기액분리장치의 단면도이며, 도 3f는 오리피스의 사시도이다.
Figure 3a is a perspective view of the gas-liquid separator of the present invention, Figure 3b is a horizontal cross-sectional view, Figure 3c is a vertical cross-sectional view, Figure 3d is a cross-sectional view of another embodiment of the gas-liquid separator of the present invention, Figure 3e is an orifice added 3 is a perspective view of an orifice.

본 발명의 기액분리장치(10)는 전술한 바와 같이 도 1에서의 필터 형태의 데미스터(2')와는 전혀 다른 형태로서, 필터 형태가 아니므로 필터막힘 현상이 일어나지 않아 교체할 필요가 없으며, 필터형태의 데미스터에 비하여 기액 분리 속도가 빠른 것을 특징으로 한다.
As described above, the gas-liquid separator 10 of the present invention is completely different from the filter type demister 2 'in FIG. 1 and does not need to be replaced because the filter clogging does not occur because it is not a filter type. Compared to the filter type demister, the gas-liquid separation rate is faster.

불순물(=오염물질)을 포함하는 가스는 세정액분사장치(20)를 통과하여 상승하면서 불순물이 제거되나, 세정 과정에서 수분이 포함된 습윤가스 형태로 상승하게 된다. 이러한 습윤가스가 유입될 수 있는 습윤가스입구(12)가 실린더 형태의 분리부(11)의 하부에 위치한다. 분리부(11)의 하부로 유입된 습윤가스는 자연적으로 회전하면서 상승이 일어나며, 이러한 상승과정에서 원심력에 의하여 자연스럽게 밀도가 높은 무거운 수분은 서로 응집하여 분리부(11)의 내부 벽면을 타고 하부로 낙하하게 되며, 분리부(11)의 하부, 특히, 분리부(11) 바닥면 중앙에 설치되는 드레인관(13)을 통하여 물이 배출된다. 드레인관(13)을 통해 배출된 물은 전술한 체임버(30) 내에서 자유낙하하여 다른 세정액과 혼합된 후, 순환펌프(50)를 통하여 세정액분사장치(20)로 순환하게 된다.
The gas containing impurities (= contaminants) rises through the cleaning liquid spraying device 20 to remove impurities, but rises in the form of a wet gas containing water during the cleaning process. The wet gas inlet 12 through which the wet gas may flow is located at the lower portion of the separation part 11 in the form of a cylinder. The wet gas flowing into the lower part of the separator 11 rises while rotating naturally, and in this ascending process, heavy moisture naturally dense by the centrifugal force coagulates with each other and rides down the inner wall of the separator 11 downward. Falling, the water is discharged through the drain pipe 13 is installed in the lower portion of the separation unit 11, in particular, the bottom surface of the separation unit (11). The water discharged through the drain pipe 13 is freely dropped in the above-described chamber 30 and mixed with other cleaning liquids, and then circulated to the cleaning liquid injection device 20 through the circulation pump 50.

본 발명의 기액분리장치(10)에서 습윤가스입구(12)는 분리부(11)의 하부 벽면에 1개 이상 설치되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 도 3b는 2개의 습윤가스입구(12)를 갖는 실시예를 나타내고 있으나, 2개 이상도 가능함은 당연하다. 특히, 도 3b와 같이 각 습윤가스입구(12)는 분리부의 중심축을 향하여 입사하는 각도가 아닌, 가스의 회전방향을 고려하여, 습윤가스입구(12) 방향이 분리부(11)의 중심축 방향이 아닌 사선방향, 또는 법선방향으로 위치하는 것이 바람직하다. 이렇게 습윤가스입구(12)가 분리부(11)의 중심축 방향이 아닌 사선방향으로 위치함으로써, 회전하는 가스의 방향으로 습윤가스가 유입되어, 먼저 회전하던 가스의 회전 운동을 방해하지 않기 때문이다.
In the gas-liquid separator 10 of the present invention, it is preferable that one or more wet gas inlets 12 are installed on the lower wall surface of the separator 11. For example, although FIG. 3B shows an embodiment with two wet gas inlets 12, it is obvious that two or more may be possible. In particular, as shown in FIG. 3B, each of the wet gas inlets 12 is not an angle incident toward the central axis of the separation unit, but considers the rotational direction of the gas, so that the direction of the wet gas inlet 12 is the central axis direction of the separation unit 11. It is preferably located in an oblique direction or a normal direction. This is because the wet gas inlet 12 is positioned in an oblique direction instead of the central axis direction of the separating part 11, so that the wet gas flows in the direction of the rotating gas, and thus does not interfere with the rotational movement of the previously rotated gas. .

도 3c는 본 발명의 기액분리장치(10)에서 습윤가스가 습윤가스입구(12)로 들어온 후, 상부를 향하여 회전운동을 하면서 상승하며, 그 과정에서 비중이 무거운 수분은 원심력에 의하여 서로 결합되어 액체 상태의 물이 되어 분리부(11)의 내부 벽면을 타고 낙하하는 것을 설명하는 도면이다. 수분과 분리된 건조가스는 상부의 건조가스출구(15)를 통하여 외부 대기 중으로 배출되거나, 다른 공정으로 이송된다. 도면에는 미도시되었으나, 본 발명의 기액분리장치(10)의 건조가스출구(15) 후단에는 강제 송풍장치가 구비되어 가스의 배출을 도울 수 있음은 당연하다.
3c is wet gas enters the wet gas inlet 12 in the gas-liquid separation device 10 of the present invention, and ascends while rotating toward the top, in the process, the heavy gravity of the water is coupled to each other by centrifugal force It is a figure explaining falling to liquid water and riding on the inner wall surface of the separating part 11. The dry gas separated from the water is discharged to the outside atmosphere through the upper dry gas outlet 15 or transferred to another process. Although not shown in the drawings, it is obvious that a forced blower may be provided at the rear end of the dry gas outlet 15 of the gas-liquid separator 10 of the present invention to help discharge of the gas.

또한, 본 발명의 기액분리장치(10)는 기액분리 효율을 높이기 위하여 분리부(11)의 직경(D2)보다 큰 직경(D1)을 일부 또는 전부 갖는 확대분리부(14)를 갖는 것이 바람직하다. 도 3a 내지 도 3c의 경우 확대분리부(14)의 단면이 상부로 갈수록 좁혀지는 형상이나, 도 3d와 같이 확대분리부의 직경이 동일한 원통형인 것도 가능하다. 중요한 점은 분리부(11)에 접하는 부분에서의 확대분리부(14)의 직경(D1)이 분리부의 직경(D2)보다 크기만 하면 된다. 이와 같이 본 발명에서 분리부(11) 이외에 별도로 확대분리부(14)를 더 갖는 것은 직경이 커짐으로써 원심력이 커지기 때문이다. 예를 들어, 원심력 = mrω2이며, 상기 r은 반지름으로서, 반지름이 커질수록 원심력이 커지며, 따라서 수분이 더욱 큰 원심력을 받아 응집이 더 잘 되기 때문이다.
In addition, the gas-liquid separator 10 of the present invention preferably has an enlarged separator 14 having some or all of the diameter (D1) larger than the diameter (D2) of the separator 11 in order to increase the gas-liquid separation efficiency. . 3A to 3C, the cross-section of the enlarged separator 14 is narrowed toward the upper side, but it may be a cylindrical shape having the same diameter as the enlarged separator, as shown in FIG. 3D. The important point is that the diameter D1 of the enlarged separation portion 14 at the portion in contact with the separation portion 11 only needs to be larger than the diameter D2 of the separation portion. Thus, in the present invention, in addition to the separation unit 11, the expansion separation unit 14 is further provided because the centrifugal force is increased by increasing the diameter. For example, the centrifugal force = mrω 2 , and r is the radius, and the larger the radius, the greater the centrifugal force, and therefore, the greater the moisture, the better the cohesion.

또한, 본 발명의 경우 분리부(11)의 상부에 도 3e와 같이, 분리부(11)의 직경(D2)보다 작은 직경(D3)을 갖는 오리피스(16)를 더 구비할 수 있다. 이는 오리피스(16)를 분리부(11) 상단에 더 구비함으로써, 가스 속의 분진과 같은 물질이 오리피스(16)에 부딪쳐 하부로 떨어지도록 하기 위함이다. 가스는 오리피스(16)의 통공(16a)을 지나 전술한 확대분리부(14)로 진입하게 된다. 도 3f는 본 발명에서 사용가능한 오리피스(16)의 일 예로서, 오리피스(16) 통공(16a)의 직경(D3)이 분리부의 직경(D2)보다 작기만 하면 도 3f의 형태가 아니어도 사용 가능하다. 또한, 상기 오리피스(16)로 인하여 상승하던 수분도 오리피스(16)에 부딪쳐 가스로부터 분리되는 효과를 얻을 수 있다.
In addition, in the case of the present invention, as shown in FIG. 3E, an orifice 16 having a diameter D3 smaller than the diameter D2 of the separation unit 11 may be further provided on the separation unit 11. This is because the orifice 16 is further provided on the upper portion of the separator 11 so that a substance such as dust in the gas collides with the orifice 16 and falls downward. The gas passes through the through hole 16a of the orifice 16 and enters the above-described enlarged separator 14. Figure 3f is an example of the orifice 16 usable in the present invention, as long as the diameter (D3) of the orifice (16) through the hole (16a) is smaller than the diameter (D2) of the separation portion can be used even if not in the form of Figure 3f Do. In addition, the water rising due to the orifice 16 also hits the orifice 16 can be separated from the gas can be obtained.

세정액분사장치Cleaning liquid spray device

도 4a는 본 발명의 세정액분사장치의 사시도이며, 도 4b 및 도 4c는 각 단면도이며, 도 4d는 본 발명의 스크러버의 횡단면도로서 수평적으로 세정액분사장치가 다수개 설치되어 있는 것을 나타내는 것을 설명하기 위한 도면이다.
4A is a perspective view of the cleaning liquid spraying device of the present invention, FIGS. 4B and 4C are cross-sectional views, and FIG. 4D is a cross-sectional view of the scrubber of the present invention, showing that a plurality of cleaning liquid spraying devices are provided horizontally. It is for the drawing.

본 발명의 세정액분사장치(20)는 세정액파이프(21)와 다공판(25)을 포함하여 구성된다. 먼저, 세정액파이프(21)는 내부에 세정액이 흐를 수 있는 공간을 갖는 통상의 파이프를 기본 형태로 한다. 이러한 기본 형태에 더하여 세정액을 분사하기 위하여 세정액파이프(21)의 하부에 일정한 간격 또는 불규칙한 간격으로 천공된 세정액분사공(22)을 갖는다. 상기 세정액분사공(22)으로 분사된 세정액은 하부에 위치하는 다공판(25)에 부딪쳐 미세한 크기의 액적, 예를 들어, 0.5 ~ 1mm 크기의 입자 형태로 분산되어, 오염가스와 물질교환을 통하여 오염물질을 전달받게 된다. 또한, 다공판(25)을 통과한 일부의 세정액도 하부에서 상승하는 오염가스와 물질교환을 통하여 오염물질을 전달받는다. 본 발명의 세정액파이프(21)와 다공판(25)을 이용한 세정액분사장치(20)는 종래의 팩킹물질을 이용한 기액 표면적 증가 방식보다 기액 표면적이 증가하고, 막힘이 없으며, 항상 일정한 성능을 유지할 수 있는 장점이 있다. 특히, 노즐 대신 세정액파이프(21)를 사용함으로써, 제조 단가도 낮아지고, 세척이 용이한 장점이 있다(이러한 세척 방법에 대하여는 후술하는 목차에서 설명하기로 한다).
The cleaning liquid spraying device 20 of the present invention includes the cleaning liquid pipe 21 and the porous plate 25. First, the cleaning liquid pipe 21 has a basic shape of a conventional pipe having a space in which the cleaning liquid can flow. In addition to this basic form, the cleaning liquid spraying hole 22 is formed in the lower portion of the cleaning liquid pipe 21 at regular or irregular intervals in order to spray the cleaning liquid. The cleaning liquid sprayed into the cleaning liquid spraying hole 22 hits the porous plate 25 positioned below and is dispersed in the form of droplets having a small size, for example, particles having a size of 0.5 to 1 mm. Contaminants are delivered. In addition, some of the cleaning liquid passing through the porous plate 25 also receives the contaminants through the material exchange with the contaminating gas rising from the bottom. The cleaning liquid spraying apparatus 20 using the cleaning liquid pipe 21 and the porous plate 25 of the present invention increases the gas-liquid surface area, and does not block, and can maintain constant performance at all times, compared to the gas-liquid surface area increasing method using a conventional packing material. There is an advantage. In particular, by using the cleaning liquid pipe 21 instead of the nozzle, there is an advantage that the manufacturing cost is lowered and the cleaning is easy (these cleaning methods will be described in the table below).

도 4b와 같이, 세정액분사공(22)은 바람직하게는 세정액파이프(21)의 중심축을 기준으로 내경(23)과 외경(24)으로 동일한 각도(α)로 절개되어 형성되는 것이 바람직하다. 또한, 중심축을 기준으로 동일한 각도가 아니더라도, 내경(23)에서 외경(24)으로 갈수록 절단폭이 증가하도록 사선방향(또는 "八"자 형태 절개)으로 절개됨으로써, 세정액분사공(22) 밖으로 세정액이 분사될 때, 부채꼴 모양으로 넓게 퍼지면서 분사되어 다공판(25)에 부딪치도록 하는 것이 바람직하다. 이는 넓게 분사되어 다공판(25)에 부딪치는 경우에 액적화가 용이하기 때문이다.
As shown in FIG. 4B, the cleaning liquid spraying hole 22 is preferably formed by cutting at the same angle α between the inner diameter 23 and the outer diameter 24 with respect to the central axis of the cleaning liquid pipe 21. In addition, even if the angle is not the same angle with respect to the central axis, the cutting liquid is cut in an oblique direction (or "8" shaped incision) so as to increase the cutting width from the inner diameter 23 to the outer diameter 24, thereby cleaning liquid out of the washing liquid spraying hole 22. When it is injected, it is preferable to spray while spreading in a fan shape so as to hit the porous plate 25. This is because it is easy to make droplets when the spray is wide and hit the porous plate 25.

한편, 본 발명의 다공판(25)은 다수의 통공이 있는 금속 또는 플라스틱 등의 다공판을 사용할 수 있다. 세정액파이프(21)의 분사공(22)에서 분사되는 세정액이 부딪쳐 액적화 되며, 또한, 다공판(25)의 홀(hole)들로 투과한 세정액은 하부로 낙하하면서, 가스와 물질교환을 통하여 오염물질을 제거하게 된다. 다공판(25)과 부딪쳐 액적화된 수분은 다공판(25) 상부에서 미스트(mist) 형태로 존재하며, 하부에서 올라오는 오염가스와 물질전달을 통하여 오염물질을 제거하게 된다.
On the other hand, the porous plate 25 of the present invention can use a porous plate such as metal or plastic having a plurality of through holes. The cleaning liquid sprayed from the injection hole 22 of the cleaning liquid pipe 21 collides with droplets, and the cleaning liquid that has permeated through the holes of the porous plate 25 falls downward, and exchanges gas therethrough. It will remove contaminants. Moisture droplets hit by the porous plate 25 is present in the form of a mist (mist) in the upper portion of the porous plate 25, and removes contaminants through the contaminated gas and material transfer from the bottom.

또한, 전술한 바와 같이 본 발명에서 세정액분사장치(20)는 수직적으로 다단으로 구성될 수 있으며(도 2 참조), 도 4d와 같이 수평적으로도 1개 이상의 세정액분사장치(20)가 구비되어, 체임버(30) 내의 수평면적을 커버하면서 세정액이 균일하게 형성되도록 하는 것이 바람직하다.
In addition, as described above, in the present invention, the washing liquid spraying device 20 may be vertically configured in multiple stages (see FIG. 2), and one or more washing liquid spraying devices 20 may be provided horizontally as shown in FIG. 4D. It is preferable that the cleaning liquid is uniformly formed while covering the horizontal area in the chamber 30.

본 발명의 세정액분사장치(20)는 매우 간단한 형태의 파이프와 다공판을 이용하여, 세정액을 액적화시키면서도, 종래 팩킹물질보다도 기액 접촉 표면적을 늘릴 수 있으며, 제조비용도 저렴하다는 장점이 있다. 또한, 분사노즐을 사용했을 때는 분사노즐의 세척이 거의 불가능하였으나, 본 발명의 경우 세정액파이프(21)를 세척하는 것이 가능한 장점이 있다. 이하에서는 세정액파이프(21)의 세척 방법에 대하여 설명하기로 한다.
The cleaning liquid spraying apparatus 20 of the present invention has the advantage that the liquid-liquid contact surface area can be increased and the manufacturing cost is lower than that of the conventional packing material, while using the pipe and the porous plate of a very simple form, while lowering the cleaning liquid. In addition, when the injection nozzle is used, it is almost impossible to wash the injection nozzle, but in the present invention, it is possible to wash the cleaning liquid pipe 21. Hereinafter, the cleaning method of the cleaning liquid pipe 21 will be described.

세정액분사장치의 세척 방법Cleaning method of cleaning liquid spraying device

도 5a 및 도 5b를 참고하여 본 발명의 세정액분사장치(20)의 세척 방법을 설명하기로 한다. 참고로, 도면부호 71 및 72의 밸브는 통상의 오염가스 세정작업에는 닫힌 상태로 있어야 한다. 이는 도면부호 71 및 72의 밸브가 닫힌 상태로 있어야. 세정액파이프(21)의 세정액분사공(22)으로 세정액이 분사되기 때문이다.
5A and 5B, the cleaning method of the cleaning liquid spraying device 20 of the present invention will be described. For reference, the valves 71 and 72 should be closed for normal pollutant cleaning operations. This requires the valves 71 and 72 to be closed. This is because the cleaning liquid is injected into the cleaning liquid injection hole 22 of the cleaning liquid pipe 21.

본 발명의 세정액분사장치(20)의 장점으로 종래 노즐을 이용한 세정액분사장치에 비하여 가격이 저렴할 뿐만 아니라, 작업자가 직접 청소가 가능하다는 장점이 있다. 본 발명의 세정액분사장치(20)의 세정액파이프(21)는 체임버(30)의 외부로 더 연장형성된 부분, 즉, 연장형성세정액파이프(70)를 가지며, 이러한 체임버 밖으로 연장형성된 연장형성세정액파이프(70)에는 세정액분사공(22)은 없으며, 도 2, 도 5a 및 도 5b와 같이 두 개로 세정파이프(21)가 분기되며 각 분기된 부분에 밸브(71, 72)를 갖는다.
As an advantage of the cleaning liquid spraying device 20 of the present invention, it is not only cheaper than the cleaning liquid spraying device using the conventional nozzle, but also has the advantage of being directly cleaned by an operator. The cleaning liquid pipe 21 of the cleaning liquid spraying device 20 of the present invention has a portion that is further extended to the outside of the chamber 30, that is, an extension cleaning liquid pipe 70, and extends out of the chamber. There is no cleaning liquid injection hole 22 in 70, and two cleaning pipes 21 are branched as shown in FIGS. 2, 5A, and 5B, and valves 71 and 72 are provided at each branched part.

먼저, 세정액분사장치(20)의 세정액파이프(21) 내에 슬러지 등의 오물이 소량 적층되어 있는 경우에는 도면부호 71의 밸브를 오픈함으로써, 세정액이 오픈된 밸브(71)를 따라 흘러가며, 이러한 세정액의 흐름에 의하여 오물이 배출되게 된다. 통상 세정액은 고압으로 세정액분사장치(20)로 공급되므로, 밸브(71)를 열어줌으로써, 고압으로 세정액이 토출되며, 이러한 토출 과정에서 세정액파이프(21) 내의 오염물질이 함께 쓸려나가게 된다.
First, when a small amount of dirt, such as sludge, is stacked in the cleaning liquid pipe 21 of the cleaning liquid spraying device 20, the valve 71 is opened so that the cleaning liquid flows along the open valve 71. The dirt is discharged by the flow of. Since the cleaning liquid is normally supplied to the cleaning liquid spraying device 20 at a high pressure, the cleaning liquid is discharged at a high pressure by opening the valve 71, and contaminants in the cleaning liquid pipe 21 are swept away together during this discharge process.

한편, 세정액파이프(21) 내에 오물이 과량 적층되어 있는 경우에는 도 5b와 같이 도면부호 72의 밸브를 오픈하여 작업자가 직접적으로 브러쉬(80)를 세정액파이프(21) 내에 삽입한 후, 좌우로 반복운동함으로써, 세정액파이프(21) 내에 쌓인 오물을 제거할 수 있다. 브러쉬(80)를 이용한 청소가 끝난 후에는 도 5a와 같이 도면부호 71의 밸브를 열어주고, 고압으로 세정액을 공급함으로써 브러쉬 청소 후 세정액파이프(21)로부터 탈리된 오물을 세정액과 함께 외부로 배출할 수 있다.
On the other hand, if the dirt is excessively stacked in the cleaning liquid pipe 21, as shown in FIG. 5B, the valve of reference numeral 72 is opened, and the operator directly inserts the brush 80 into the cleaning liquid pipe 21, and then repeats left and right. By moving, dirt accumulated in the cleaning liquid pipe 21 can be removed. After cleaning using the brush 80, as shown in FIG. 5A, the valve 71 is opened, and the cleaning liquid is supplied at a high pressure to clean the brush, and the desorbed dirt from the cleaning liquid pipe 21 can be discharged to the outside together with the cleaning liquid. Can be.

제 2 Second 실시예에Example 의한  by 스크러버의Scrubber 구조 rescue

도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 의한 스크러버의 단면도이다. 제 2 실시예의 경우 세정원리 및 그에 의한 세정액분사장치와 기액분리장치는 제 1 실시예와 동일하며, 다만, 산성 세정액과 알칼리 세정액을 이용한 2단 약액세정탑 구조인 점이 다르다. 이러한 2단 약액세정탑은 종래부터 알려진 구조이며, 제 2 실시예의 스크러버 역시 본 발명의 신규한 기액분리장치(10) 및 세정액분사장치(20)를 사용하는 것을 특징으로 한다.
6 is a cross-sectional view of a scrubber according to a second embodiment of the present invention. In the case of the second embodiment, the cleaning principle, the cleaning liquid spraying device and the gas-liquid separation device are the same as those of the first embodiment except that the structure of the two-stage chemical cleaning tower using the acidic cleaning liquid and the alkaline cleaning liquid is different. This two-stage chemical liquid washing tower has a structure known in the related art, and the scrubber of the second embodiment is also characterized by using the novel gas-liquid separator 10 and the cleaning liquid spraying apparatus 20 of the present invention.

전술한 제 1 실시예의 스크러버와는 달리, 실시예 2의 스크러버는 산성 세정액과 염기성 세정액으로 두 번 가스를 세정하여 주는 2단 세정탑 구조를 갖는다. 이러한 산성 세정액과 염기성 세정액의 2단 세정을 통하여, 염기성과 산성 세정액에 각각 잘 용해되는 오염 성분을 모두 가스로부터 용이하게 세정액으로 물질전달을 일으킬 수 있기 때문이다. 도 6에서는 염기성 세정탑이 상부에, 산성 세정탑이 하부에 있는 구조이나, 당연히 그 반대로 있는 것도 상관없다. 상기 산성 세정탑과 염기성 세정탑 부분은 하나의 체임버(30)의 중간부분을 중간격막(90)에 의하여 분리하여, 상부는 염기성 세정탑의 역할을 하고, 하부는 산성 세정탑의 역할을 한다.
Unlike the scrubber of the first embodiment described above, the scrubber of Example 2 has a two-stage scrubber tower structure in which the gas is washed twice with an acidic washing liquid and a basic washing liquid. This is because through the two-stage cleaning of the acidic cleaning liquid and the basic cleaning liquid, all the contaminants that are well dissolved in the basic and acidic cleaning liquid can be easily transferred from the gas to the cleaning liquid. In FIG. 6, the basic washing tower is at the top and the acid washing tower is at the bottom, but of course, the reverse direction may not be present. The acidic scrubber tower and the basic scrubber tower part separate the middle portion of one chamber 30 by the middle diaphragm 90, the upper part serves as a basic scrubber tower, and the lower part acts as an acid scrubber tower.

제 2 실시예인 2단 세정탑 구조의 스크러버(100) 역시 세정원리는 제 1 실시예와 동일하며, 이에 적용되는 기액분리장치(10)와 세정액분사장치(20)도 모두 동일하다.
The scrubber 100 of the two-stage washing tower structure, which is the second embodiment, also has the same cleaning principle as that of the first embodiment, and the gas-liquid separator 10 and the washing liquid spraying device 20 are also the same.

도 6과 같이 오염가스가 가스유입관(40)을 통하여 2단 세정탑 구조의 스크러버의 하부 세정탑에 들어와 상승하게 된다. 하부 세정탑인 산성 세정탑에는 산성 세정액이 1단 이상의 세정액분사장치(20)를 통하여 분사 액적화되어 가스로부터 오염물질을 제거하고, 상부의 염기성 세정탑으로 올라가기 전에 가스 속의 수분을 제거하기 위하여 중간격막(90)에 설치된 1개 이상의 기액분리장치(10)를 통하여 수분을 제거한 후, 염기성 세정탑으로 상승한다. 도 6에서는 산성 세정탑으로부터 염기성 세정탑으로 올라가기 전의 수분 제거를 위하여 두 개의 기액분리장치(10)를 구비한 예를 나타내고 있으나, 이는 처리할 가스의 양이나 체임버(30)의 크기에 따라 1개 이상 설치할 수 있다는 것을 보여주기 위함이다.
As shown in FIG. 6, the polluted gas enters the lower scrubber tower of the scrubber having the two-stage scrubber tower structure through the gas inlet pipe 40 and rises. In the acid washing tower, which is a lower washing tower, an acid cleaning liquid is sprayed and dropped through the one or more stages of the washing liquid spraying device 20 to remove contaminants from the gas, and to remove moisture in the gas before going up to the basic washing tower. After the water is removed through the one or more gas-liquid separators 10 installed in the intermediate diaphragm 90, the base is raised to the basic washing tower. FIG. 6 shows an example in which two gas-liquid separators 10 are provided for removing water before the acid scrubbing tower is moved from the acid scrubber to the basic scrubber, but this is determined according to the amount of gas to be treated or the size of the chamber 30. To show that you can install more than.

상부의 염기성 세정탑에서는 염기성 화합물이 용해된 수용액을 세정액분사장치(20)를 통하여 분사 액적화하여 산성 세정탑을 통과하여 상승한 가스로부터 오염물질을 한 번 더 제거한다. 최종적으로 대기 또는 다른 공정으로 배출되기 전의 염기성 세정액으로 인한 습윤가스는 기액분리장치(10)에 의하여 수분을 제거하고 배출된다. 바람직하게는 체임버(30)의 최상부에 기액분리장치(10)가 1개 이상 설치되어 염기성 세정탑에서 세정 후의 습윤가스에서 수분을 제거한 후 대기 또는 다른 공정으로 배출하게 된다.
In the upper basic washing tower, the aqueous solution in which the basic compound is dissolved is sprayed into the liquid through the washing liquid spraying device 20 to remove contaminants from the gas rising through the acid washing tower once more. Finally, the wet gas due to the basic cleaning liquid before being discharged to the atmosphere or another process is removed by removing the moisture by the gas-liquid separator 10. Preferably, at least one gas-liquid separator 10 is installed at the top of the chamber 30 to remove moisture from the wet gas after washing in a basic washing tower and then discharge it to the atmosphere or another process.

하부 산성 세정탑에서도 별도의 세정액보관조가 구비될 수 있으나, 통상 상부의 염기성 세정탑의 경우에 체임버(30) 외부에 별도의 세정액보관조(51)를 더 구비한 후, 상기 세정액보관조(51)로부터 염기성 세정액을 순환시킨다.
In the lower acid washing tower, a separate washing solution storage tank may be provided. However, in the case of the basic washing tower of the upper portion, a separate washing solution storage tank 51 is further provided outside the chamber 30, and then the washing solution storage tank 51 is provided. Circulates the basic washing liquid.

도 6과 달리 산성 세정탑과 염기성 세정탑은 상하 순서가 바뀌어도 무방하므로, 이에 대한 설명은 생략하기로 한다.
Unlike in FIG. 6, the acidic scrubber tower and the basic scrubber tower may be changed up and down, and thus description thereof will be omitted.

Claims (15)

세정액의 분사를 통하여 오염가스를 정화하기 위한 습식 가스스크러버에 있어서, 오염된 가스가 유입되는 가스유입관을 하부에 가지며, 가스와 세정액 사이의 물질 전달이 일어나는 공간을 제공하는 체임버;
상기 체임버에 수직으로 1단 이상으로 설치되어 세정액을 분사 액적화하는 세정액분사장치; 및
상기 세정액분사장치의 상부에 설치되어 가스로부터 수분을 분리 제거하는 기액분리장치를 포함하며,
상기 세정액분사장치는 세정액이 분사될 수 있는 세정공이 한 개 이상 형성된 세정액파이프와, 상기 세정액파이프와 하부에 이격 설치되어 상기 세정공으로부터 분사된 세정액이 충돌하여 액적화할 수 있는 다공판을 포함하여 이루어지며,
상기 기액분리장치는 수분을 포함하는 가스(=습윤가스)가 유입되는 습윤가스입구를 하나 이상 갖는 원통형의 분리부와, 상기 분리부 상부에 상기 분리부보다 직경이 큰 원통형의 확대분리부를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 습식 가스스크러버.
A wet gas scrubber for purifying polluted gas through injection of a cleaning liquid, comprising: a chamber having a gas inlet pipe through which the polluted gas flows and providing a space for mass transfer between the gas and the cleaning liquid;
A washing liquid spraying device installed at one or more stages perpendicular to the chamber to spray droplets of the washing liquid; And
A gas-liquid separator installed at an upper portion of the cleaning liquid spraying device to separate and remove moisture from a gas;
The cleaning liquid spraying apparatus includes a cleaning liquid pipe having one or more cleaning holes through which cleaning liquids can be injected, and a porous plate spaced apart from the cleaning liquid pipes so that the cleaning liquids sprayed from the cleaning holes collide to form droplets. Done,
The gas-liquid separator includes a cylindrical separator having at least one wet gas inlet through which water-containing gas (= wet gas) is introduced, and a cylindrical enlarged separator having a larger diameter than the separator at the top of the separator. Wet gas scrubber, characterized in that made.
제1항에서, 상기 세정액분사장치의 세정공은 내경에서 외경 방향으로 절개폭이 더 증가되어 세정액이 부채꼴 모양으로 분사되도록 하는 것을 특징으로 하는 습식 가스스크러버.
The wet gas scrubber according to claim 1, wherein the cleaning hole of the cleaning liquid spraying device further increases the cutting width from the inner diameter to the outer diameter so that the cleaning liquid is sprayed in a fan shape.
제1항에서, 상기 체임버의 외부로 상기 세정액파이프가 연장 형성된 연장형성세정액파이프가 더 구비되며, 상기 연장형성세정액파이프에는 세정공이 없으며, 두 개로 분기 되고 각각 분기된 부분에 밸브가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 습식 가스스크러버.
The cleaning liquid pipe of claim 1, wherein the cleaning liquid pipe is further extended to the outside of the chamber, wherein the extension cleaning liquid pipe has no cleaning holes, and is divided into two branched valves respectively formed. Wet gas scrubber characterized in that.
삭제delete 제1항에서, 상기 확대분리부는 하부의 직경이 상기 분리부의 직경보다 크지만, 상부로 갈수록 폭이 좁아지는 형태인 것을 특징으로 하는 습식 가스스크러버.
The wet gas scrubber according to claim 1, wherein the enlarged separation part has a diameter of a lower part than a diameter of the separation part, but is narrowed toward an upper part.
제1항에서, 상기 기액분리장치의 습윤가스입구는 분리부의 중심축 방향에서 일정 각도 벗어난 사선방향 또는 법선방향으로 설치되는 것을 특징으로 하는 습식 가스스크러버.
The wet gas scrubber according to claim 1, wherein the wet gas inlet of the gas-liquid separator is installed in a diagonal direction or a normal direction deviated by an angle from the direction of the central axis of the separator.
제1항에서, 상기 기액분리장치의 분리부 상부에 오리피스를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 습식 가스스크러버.
The wet gas scrubber according to claim 1, further comprising an orifice on an upper portion of the separator of the gas-liquid separator.
염기성 세정액과 산성 세정액으로 각각 오염가스를 세정하는 2단 약액세정탑 구조의 습식 가스스크러버에 있어서,
오염된 가스가 유입되는 가스유입관을 하부에 가지며, 중간 격막에 의하여 분리되어 하부에는 산성 세정액이 분사되는 산성 세정탑 역할을 하고, 상부는 염기성 세정액이 분사되는 염기성 세정탑의 역할을 하는 체임버;
상기 각 세정탑에는 세정액을 분사하기 위하여 1개 이상 배치되는 세정액분사장치; 및
상기 중간격막과 상기 체임버의 최상부에 각각 1개 이상 설치되는 기액분리장치를 포함하며,
상기 세정액분사장치는 세정액이 분사될 수 있는 세정공이 1개 이상 형성된 세정액파이프와, 상기 세정액파이프의 하부에 이격 설치되어 상기 세정공으로부터 분사된 세정액이 충돌하여 액적화할 수 있는 다공판을 포함하여 이루어지며,
상기 기액분리장치는 수분을 포함하는 가스(=습윤가스)가 유입되는 습윤가스입구를 하나 이상 갖는 원통형의 분리부와, 상기 분리부 상부에 상기 분리부보다 직경이 큰 원통형의 확대분리부를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 2단 약액세정탑 구조의 습식 가스스크러버.
In a wet gas scrubber having a two-stage chemical liquid washing tower structure in which a contaminated gas is washed with a basic washing liquid and an acid washing liquid, respectively.
A chamber having a gas inlet pipe through which contaminated gas is introduced, separated by an intermediate diaphragm, and acting as an acid cleaning tower in which an acidic cleaning solution is injected, and an upper part serving as a basic cleaning tower in which a basic cleaning solution is injected;
At least one cleaning liquid spraying device disposed in each of the cleaning towers to spray the cleaning liquid; And
And a gas-liquid separator installed at least one of the intermediate diaphragm and the uppermost portion of the chamber,
The cleaning liquid spraying apparatus includes a cleaning liquid pipe having one or more cleaning holes through which cleaning liquid can be injected, and a porous plate spaced apart from the cleaning liquid pipe so that the cleaning liquid sprayed from the cleaning hole collides to form droplets. Done,
The gas-liquid separator includes a cylindrical separator having at least one wet gas inlet through which water-containing gas (= wet gas) is introduced, and a cylindrical enlarged separator having a larger diameter than the separator at the top of the separator. A wet gas scrubber having a two-stage chemical liquid washing tower structure.
제8항에서, 상기 세정액분사장치의 세정공은 내경에서 외경 방향으로 절개폭이 더 증가되어 세정액이 부채꼴 모양으로 분사되도록 하는 것을 특징으로 하는 2단 약액세정탑 구조의 습식 가스스크러버.
The wet gas scrubber of claim 8, wherein the cleaning hole of the cleaning liquid spraying device further increases the cutting width from the inner diameter to the outer diameter so that the cleaning liquid is sprayed in a fan shape.
제8항에서, 상기 체임버의 외부로 상기 세정액파이프가 연장 형성된 연장형성세정액파이프가 더 구비되며, 상기 연장형성세정액파이프에는 세정공이 없으며, 두 개로 분기 되고 각각 분기된 부분에 밸브가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 2단 약액세정탑 구조의 습식 가스스크러버.
The cleaning liquid pipe of claim 8, wherein the cleaning liquid pipe is further extended to the outside of the chamber, and the extension cleaning liquid pipe has no cleaning holes, and is divided into two branches and each of which has a valve formed therein. A wet gas scrubber with a two-stage chemical liquid washing tower structure.
삭제delete 제8항에서, 상기 확대분리부는 하부의 직경이 상기 분리부의 직경보다 크지만, 상부로 갈수록 폭이 좁아지는 형태인 것을 특징으로 하는 2단 약액세정탑 구조의 습식 가스스크러버.
The wet gas scrubber of claim 8, wherein the enlarged separation part has a diameter lower than that of the separation part, but is narrowed toward an upper part thereof.
제8항에서, 상기 기액분리장치의 습윤가스입구는 분리부의 중심축 방향에서 일정 각도 벗어난 사선방향 또는 법선방향으로 설치되는 것을 특징으로 하는 2단 약액세정탑 구조의 습식 가스스크러버.
The wet gas scrubber of claim 8, wherein the wet gas inlet of the gas-liquid separator is installed in a diagonal direction or a normal direction deviated by a predetermined angle from the direction of the central axis of the separator.
제8항에서, 상기 기액분리장치의 분리부 상부에 오리피스를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 2단 약액세정탑 구조의 습식 가스스크러버.
The wet gas scrubber of claim 8, further comprising an orifice on an upper portion of the separation part of the gas-liquid separator.
제8항에서, 상기 산성 세정탑과 염기성 세정탑의 상하 순서가 바뀐 것을 특징으로 하는 2단 약액세정탑 구조의 습식 가스스크러버.9. The wet gas scrubber of claim 8, wherein the acid cleaning tower and the basic cleaning tower are changed in the up and down order.
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