KR101166831B1 - 액정표시소자의 제조방법 및 제조장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 제1기판 및 제2기판을 준비하는 공정; 상기 제1기판 및 제2기판 중 적어도 하나의 기판 상에 광반응기를 함유하는 배향물질을 도포하는 공정; 상기 기판의 양측면과 마주보도록 스테이지를 사이에 두고 위치된 한 쌍의 전자석 장치로 이루어진 자기장 인가 장치를 이용하여 상기 도포된 배향물질에 자기장을 인가하여 상기 배향물질을 정렬하는 공정; 상기 기판 상부에 위치하는 UV조사 장치를 이용하여 상기 정렬된 배향물질에 UV를 조사하여 배향물질을 배향시키는 공정; 및 상기 제1기판 및 제2기판 사이에 액정층을 매개하는 공정을 포함하여 이루어지며, 가열이 가능한 상기 스테이지를 이용하여 상기 도포된 배향물질에 열을 가하는 공정을 추가로 포함하고, 상기 UV조사공정은 상기 자기장 인가 공정 및 가열 공정이 수행되는 동안에 수행되며, 상기 배향물질을 도포하는 공정은 폴리아믹 에시드(Polyamic acid), 폴리노보넨, 페닐 말레이미드 공중합체, 폴리비닐신나메이트(polyvinylcinnamate), 폴리아조벤젠(polyazobenzene), 폴리에틸렌이민(Polyethyleneimine), 폴리에틸렌(Polyethylene), 폴리스틸렌(Polystylene), 폴리페닐렌프탈아미드(Polyphenylenephthalamide), 폴리에스테르(Polyester), 및 폴리메틸 메타크릴레이트(Polymethyl methacrylate)로 구성된 군에서 선택된 고분자물질을 도포하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법 및 제조장치에 관한 것으로서,
본 발명에 따르면, 자기장을 인가하여 배향물질이 정렬한 상태에서 UV를 조사함으로써 배향방향을 결정하는 광반응기의 반응률을 향상시켜 이방성 특성을 증가시키고, 그에 따라 높은 앵커링 에너지를 갖는 배향막을 형성할 수 있어, 잔상 특성이 개선된다.
광배향, 자기장

Description

액정표시소자의 제조방법 및 제조장치{Method and apparatus of fabricating liquid crystal display device}
도 1은 종래 TN모드 액정표시소자의 분해사시도이다.
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 일 실시에에 따른 액정표시소자의 제조공정을 도시한 것이다.
도 3은 본 발명에 따라 편광된 UV조사에 의해 배향물질이 배향되는 구조를 보여주는 것이다.
도 4는 본 발명의 일 실시에에 따른 액정표시소자의 제조 장치를 개략적으로 도시한 것이다.
<도면의 주요부의 부호에 대한 설명>
100: 배향물질 101: 광반응기
200: 스테이지 300a, 300b: 자기장 인가장치
400: UV조사장치
본 발명은 액정표시소자에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 액정표시소자에 서 액정의 초기배향을 위한 배향막에 관한 것이다.
표시화면의 두께가 수 센치미터(cm)에 불과한 초박형의 평판표시소자(Flat Panel Display) 중에서 액정표시소자는 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고 휴대용으로 쓰일 수 있는 등의 이점으로 노트북 컴퓨터, 모니터, 우주선, 항공기 등에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.
액정표시소자는 일반적으로 컬러필터층이 형성된 컬러필터기판, 상기 컬러필터 기판과 대향되며 박막트랜지스터가 형성된 박막트랜지스터 기판, 및 상기 양 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성된다.
이와 같은 액정표시소자는 상기 액정층의 배향이 전압인가에 의해 변경되어 빛의 투과도가 조절됨으로써 화상이 재현되게 된다. 따라서, 전압인가를 위해서 상기 박막트랜지스터 기판 및/또는 컬러필터 기판에 전극이 형성되게 되는데, 박막트랜지스터 기판에 화소전극이 배치되고 컬러필터기판에 공통전극이 배치되어 양 기판 사이에 수직의 전계가 형성되는 경우(예로, TN(Twisted nematic)모드)도 있고, 박막트랜지스터 기판에 화소전극과 공통전극이 평행하게 배치되어 수평의 전계가 형성되는 경우(예로, IPS(In-plane Switching) 모드)도 있다.
도 1은 일반적인 TN 모드 액정표시소자의 분해 사시도를 나타낸 것이다.
도 1에서 알 수 있듯이, 박막트랜지스터 기판(10)에는 게이트 라인(12) 및 데이터 라인(14)이 교차 형성되어 있고, 그 교차영역에 박막트랜지스터(T)가 형성되어 있으며, 박막트랜지스터(T)와 연결되어 화소전극(16)이 형성되어 있다.
또한 컬러필터기판(20)에는 빛의 누설을 방지하기 위한 차광층(22)이 형성되 어 있고, 차광층(22) 사이에 R, G, B의 컬러필터층(24)이 형성되어 있으며, 그 위에 공통전극(25)이 형성되어 있다.
여기서, 박막트랜지스터 기판(10)에 형성된 화소전극(16)과 컬러필터기판(20)에 형성된 공통전극(25) 사이에서 수직의 전계가 형성되고, 그에 따라 액정의 배향 방향이 조절되게 된다.
상기 구조의 양 기판(10, 20)은 그 후 합착 되어 하나의 액정패널을 형성하며, 이때, 양 기판(10, 20) 사이에는 액정층이 형성되게 된다.
한편, 상기 액정층이 양 기판(10, 20) 사이에서 임의로 배열되어 있으면 액정층의 일관된 분자배열을 얻기가 어려우므로, 도시하지는 않았지만, 박막트랜지스터기판(10) 및 컬러필터기판(20)에 액정의 초기 배향을 위한 배향막이 형성된다.
이와 같은 액정의 초기 배향을 위한 배향막을 형성하는 방법으로는 러빙배향법과 광배향법이 있다.
러빙배향법은 기판 상에 폴리이미드와 같은 유기 고분자를 박막의 형태로 도포한 후, 러빙포가 감겨진 러빙롤을 회전시켜 유기 고분자를 문지름으로써 유기 고분자를 일정방향으로 정렬시키는 방법이다.
그러나, 러빙배향법은 러빙포와 유기 고분자간의 마찰로 인해 발생되는 정전기 때문에 기판 표면에 먼지 등 오염물질이 부착될 수 있고, 러빙포의 배열이 흐트러질 경우 러빙이 원활히 수행되지 않아 그 영역에서 빛샘이 발생하는 등의 문제가 있다. 이와 같은 러빙배향법의 문제점은 모두 러빙롤과 기판간의 물리적인 접촉에 의해서 발생되는 것이다.
그리하여, 상기 러빙배향법의 문제점을 해결하기 위하여 물리적인 접촉이 요하지 않는 배향막의 제조 방법이 연구되었고, 그 일환으로 광배향법이 대두되었다.
액정 배향이 일어나기 위해서는 배향막이 구조적인 이방성을 가져야 한다.
광배향법은 광반응기를 갖는 배향물질에 UV를 조사함으로써 상기 광반응기가 반응하여 배향물질에 이방성을 부여하도록 한 것이다.
그러나, 이와 같은 광배향법은 전술한 러빙배향법의 문제점은 해결할 수 있지만, 앵커링 에너지(anchoring energy)가 낮아 잔상이 발생하는 문제가 있다.
보다 구체적으로 설명하면, 도포된 배향물질은 방향성이 전혀 없이 램덤하게 배열된 상태이므로, 편광된 UV의 편광방향에 수평한(또는 수직한) 광반응기의 양이 적어 광반응률이 떨어지게 되어 이방성 특성이 저하될 수 있다.
또한, 도포된 배향물질은 방향성이 전혀 없이 램덤하게 배열된 상태이므로, 편광된 UV의 편광방향에 수직한(또는 수평한) 광반응기를 제외한 모든 방향의 광반응기가 반응에 참여할 경우에는 오 정렬이 발생하여 이방성 특성이 저하될 수 있다.
이와 같이, 이방성 특성이 저하될 경우 앵커링 에너지가 낮아져 결국 잔상이 발생하게 되는 문제가 있다.
본 발명은 이와 같은 종래 문제를 해결하기 위해 고안된 것으로, 본 발명의 제1목적은 광배향법을 이용하여 배향막을 형성함에 있어서 이방성 특성이 향상되어 높은 앵커링 에너지를 갖는 배향막을 형성하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 제2목적은 이방성 특성이 향상되어 높은 앵커링 에너지를 갖는 배향막을 형성할 수 있는 장치를 제공하는 것이다.
상기 제1목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 제1기판 및 제2기판을 준비하는 공정; 상기 제1기판 및 제2기판 중 적어도 하나의 기판 상에 광반응기를 함유하는 배향물질을 도포하는 공정; 상기 기판의 양측면과 마주보도록 스테이지를 사이에 두고 위치된 한 쌍의 전자석 장치로 이루어진 자기장 인가 장치를 이용하여 상기 도포된 배향물질에 자기장을 인가하여 상기 배향물질을 정렬하는 공정; 상기 기판 상부에 위치하는 UV조사 장치를 이용하여 상기 정렬된 배향물질에 UV를 조사하여 배향물질을 배향시키는 공정; 및 상기 제1기판 및 제2기판 사이에 액정층을 매개하는 공정을 포함하여 이루어지며, 가열이 가능한 상기 스테이지를 이용하여 상기 도포된 배향물질에 열을 가하는 공정을 추가로 포함하고, 상기 UV조사공정은 상기 자기장 인가 공정 및 가열 공정이 수행되는 동안에 수행되며, 상기 배향물질을 도포하는 공정은 폴리아믹 에시드(Polyamic acid), 폴리노보넨, 페닐 말레이미드 공중합체, 폴리비닐신나메이트(polyvinylcinnamate), 폴리아조벤젠(polyazobenzene), 폴리에틸렌이민(Polyethyleneimine), 폴리에틸렌(Polyethylene), 폴리스틸렌(Polystylene), 폴리페닐렌프탈아미드(Polyphenylenephthalamide), 폴리에스테르(Polyester), 및 폴리메틸 메타크릴레이트(Polymethyl methacrylate)로 구성된 군에서 선택된 고분자물질을 도포하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법을 제공한다.
즉, 본 발명은 자기장을 인가하여 배향물질의 정렬 공정을 추가한 것을 특징으로 하는 것으로서, 이와 같이 배향물질을 정렬한 상태에서 UV를 조사함으로써 배향방향을 결정하는 광반응기의 반응률을 향상시켜 이방성 특성을 증가시키고, 그에 따라 높은 앵커링 에너지를 갖는 배향막을 형성할 수 있도록 한 것이다.
여기서, 열을 가하는 공정은 배향물질의 유리전이 온도(Tg)로 가열하는 것이 바람직하다.
삭제
상기 UV는 편광된 UV를 조사할 수 있다.
상기 제2목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 배향물질이 도포된 기판이 안착되며, 가열이 가능하여 상기 기판 상에 도포된 배향물질에 열을 가하는 스테이지; 상기 기판의 양측면과 마주보도록 상기 스테이지를 사이에 두고 위치된 한 쌍의 전자석 장치로 이루어지며, 상기 스테이지에 안착된 상기 기판 상에 도포된 배향물질에 자기장을 인가할 수 있는 자기장 인가장치; 및 상기 스테이지에 안착된 기판에 UV를 조사할 수 있도록 상기 기판 상부에 위치하는 UV 조사장치를 포함하여 이루어지며, 상기 배향물질은 폴리아믹 에시드(Polyamic acid), 폴리노보넨, 페닐 말레이미드 공중합체, 폴리비닐신나메이트(polyvinylcinnamate), 폴리아조벤젠(polyazobenzene), 폴리에틸렌이민(Polyethyleneimine), 폴리에틸렌(Polyethylene), 폴리스틸렌(Polystylene), 폴리페닐렌프탈아미드(Polyphenylenephthalamide), 폴리에스테르(Polyester), 및 폴리메틸 메타크릴레이트(Polymethyl methacrylate)로 구성된 군에서 선택된 고분자물질인 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조장치를 제공한다.
삭제
삭제
상기 UV 조사장치는 스테이지 상부에 위치된 편광된 UV 조사장치로 이루어질 수 있다.
이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 보다 상세히 설명한다.
1. 액정표시소자 제조방법
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 일 실시에에 따른 액정표시소자의 제조공정을 도시한 것이다.
(1) 제1공정
우선, 제1기판과 제2기판을 준비한다.
상기 제1기판 및 제2기판의 구조는 적용되는 액정표시소자의 모드에 따라 다양하게 변경형성될 수 있다.
예로서, 적용되는 액정표시소자가 TN모드 액정표시소자의 경우는, 상기 제1기판은 투명기판 상에 서로 교차 형성되어 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데 이터 배선; 상기 게이트 배선 및 데이터 배선의 교차영역에 형성되며, 게이트 전극, 소스 전극, 및 드레인 전극을 포함하여 구성된 박막트랜지스터; 및 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극과 연결되는 화소전극을 형성하는 공정을 포함하여 형성하고, 상기 제2기판은 투명기판 상에 빛의 누설을 방지하는 차광층; 상기 차광층 위에 형성된 녹색, 적색, 청색의 컬러필터층; 상기 컬러필터층 상부에 형성된 공통전극을 형성하는 공정을 포함하여 형성한다.
적용되는 액정표시소자가 IPS모드 액정표시소자의 경우는, 상기 제1기판은 서로 교차 형성되어 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선; 상기 게이트 배선 및 데이터 배선의 교차영역에 형성되며, 게이트 전극, 소스 전극, 및 드레인 전극을 포함하여 구성된 박막트랜지스터; 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극과 연결되는 화소전극; 및 상기 화소전극과 평행하게 형성되는 공통전극을 형성하는 공정을 포함하여 형성하고, 상기 제2기판은 빛의 누설을 방지하는 차광층; 상기 차광층 위에 형성된 녹색, 적색, 청색의 컬러필터층; 상기 컬러필터층 상부에 형성된 오버코트층을 형성하는 공정을 포함하여 형성한다.
그 외, 각각의 구성요소의 재료 및 형성방법 등은 당업계에 공지된 다양한 방법으로 변경형성할 수 있다.
(2) 제2공정
그 후, 상기 제1기판 및 제2기판 중 적어도 하나의 기판 상에 배향물질을 도포한다.
상기 배향물질을 도포하는 공정은 기판 상에 배향물질을 인쇄하는 공정 및 인쇄된 배향막을 경화하는 공정으로 이루어진다.
상기 배향물질을 인쇄하는 공정은 유기용매에 배향물질 성분을 용해시킨 후 스핀코팅법, 롤 코팅법, 또는 잉크젯 코팅법을 이용하여 수행할 수 있다.
상기 인쇄된 배향막을 경화하는 공정은 고온에서, 바람직하게는 60℃～80℃ 정도의 온도와 80℃～230℃ 정도의 온도에서 두 번에 걸쳐 경화하는 것이 바람직하다.
상기 배향물질은 광배향법을 적용하기 위해서 광반응기를 함유하고 있으며, 광반응이 가능한 물질은 어느 것이나 적용가능하지만, 폴리이미드(Polyimide), 폴리아믹 에시드(Polyamic acid), 폴리노보넨, 페닐 말레이미드 공중합체, 폴리비닐신나메이트(polyvinylcinnamate), 폴리아조벤젠(polyazobenzene), 폴리에틸렌이민(Polyethyleneimine), 폴리비닐알콜(Polyvinyl alcohol), 폴리아미드(Polyamide), 폴리에틸렌(Polyethylene), 폴리스틸렌(Polystylene), 폴리페닐렌프탈아미드(Polyphenylenephthalamide), 폴리에스테르(Polyester), 폴리우레탄(Polyurethane), 및 폴리메틸 메타크릴레이트(Polymethyl methacrylate)로 구성된 군에서 선택된 고분자물질이 바람직하다.
도 2a는 이와 같이 기판 상에 도포된 배향물질의 모습을 개략적으로 도시한 것으로서, 도 2a에서 알 수 있듯이 도포된 배향물질(100)은 방향성이 없이 램덤하게 배열되어 있으며, 특히 측쇄에 결합되어 있는 광반응기(101)가 램덤하게 배열되어 있다.
(3) 제3공정
그 후, 상기 도포된 배향물질에 자기장을 인가하여 상기 배향물질을 정렬한다.
도 2b는 이와 같이 자기장을 인가한 상태의 배향물질의 정렬상태를 도시한 것으로서, 도 2b에서 알 수 있듯이 자기장을 인가할 경우 배향물질(100)의 광반응기(101)가 일정한 방향으로 정렬하게 된다.
도 2b와 같이 자기장의 인가방향(화살표 방향)으로 배향물질(100)의 광반응기(101)가 정렬하게 된다. 다만, 배향 물질에 따라서 자기장의 인가방향과 반대방향으로 광반응기가 정렬할 수도 있다.
한편, 이와 같은 배향물질(100)의 광반응기(101)의 정렬공정을 보다 원활히 수행하기 위해서는, 배향물질(100)에 열을 가하는 공정을 추가하는 것이 바람직하다. 그 이유는, 배향물질(100)을 열을 가할 경우에는 광반응기(101)의 운동성이 향상되어, 자기장 인가시 보다 원활하게 광반응기(101)가 정렬될 수 있기 때문이다.
여기서, 배향물질(100)에 열을 가하는 공정은 배향물질(100)의 유리전이 온도(Tg)만큼 가열하는 것이 광반응기(101)의 운동성 향상을 위해 바람직하다.
(4) 제4공정
그 후, 상기 정렬된 배향물질(100)에 UV를 조사하여 배향물질(100)을 배향시킨다.
도 2c는 이와 같이 UV를 조사한 상태의 배향물질의 배향상태를 도시한 것으로서, 도 2c에서 알 수 있듯이 UV를 조사할 경우 배향물질(100)의 광반응기(101) 간에 중합반응을 일으켜 배향물질이 배향되게 된다.
UV조사공정은 전술한 자기장 인가 공정이 수행되는 동안, 또는 자기장 인가 공정 및 가열 공정이 수행되는 동안에 수행하는 것이 바람직하다. 자기장 인가를 종료한 후에 UV조사공정을 수행할 경우 정렬된 배향물질(100)의 광반응기(101)가 원래 상태로 돌아갈 수 있기 때문이다.
상기 UV로는 편광된 UV를 조사함으로써, 편광 방향에 따라 배향물질의 배향방향을 결정할 수 있다.
도 3은 편광된 UV조사에 의해 배향물질의 광반응기간에 중합반응을 일으켜 배향물질이 배향되는 구조를 보다 구체적으로 보여주는 것으로서, 도 3에서 알 수 있듯이, (↕) 방향으로 편광된 UV를 조사하면 편광방향과 나란하게 위치한 측쇄의 광반응기 간에 중합반응이 일어나 편광방향에 수직한 방향(↔)의 측쇄 만이 남게 되어 그 방향으로 배향물질이 배향되게 된다.
이와 같이, UV의 편광방향과 수직한 방향으로 배향물질이 배향되게 되지만, 반드시 그런 것은 아니고 배향물질의 종류에 따라서 UV의 편광방향과 수평한 방향으로 배향물질이 배향될 수도 있다.
상기 편광된 UV는 부분편광(Partially polarized light) 또는 선편광(linearly polarized light)된 UV를 사용할 수 있다.
또한, UV조사공정은 기판에 대해 경사지게 조사할 수도 있고, 수직으로 조사할 수도 있다.
또한, 상기 UV조사공정은 스캔타입의 노광법에 의해 수행될 수도 있고, 전면 노광법에 의해 수행될 수도 있다.
(5) 제5공정
그 후, 상기 양 기판 사이에 액정층을 매개한다.
상기 액정층을 매개하는 방법으로는 진공주입법 또는 액정적하법이 있다.
상기 진공주입법은 양 기판 사이에 주입구를 형성한 채로 양 기판을 합착한 후에 진공상태에서 압력차를 이용하여 액정을 주입하는 방식이다.
상기 액정적하법은 양 기판 중 어느 하나의 기판 상에 액정을 적하한 후에 양 기판을 합착하는 방식이다.
기판의 사이즈가 커질 경우에는 진공주입방식은 액정 주입시간이 늘어나 생산성이 떨어지므로 액정적하법이 바람직하다.
2. 액정표시소자 제조장치
도 4는 본 발명의 일 실시에에 따른 액정표시소자의 제조 장치를 개략적으로 도시한 것이다.
도 4에서 알 수 있듯이, 상기 장치는 기판(250)이 안착되는 스테이지(200), 상기 스테이지(200)에 안착된 기판(250)에 자기장을 인가할 수 있는 자기장 인가장치(300a, 300b), 및 상기 스테이지(200)에 안착된 기판(250)에 UV를 조사할 수 있는 UV 조사장치(400)를 포함하여 이루어진다.
상기 스테이지(200)는 가열이 가능하여, 기판(250) 상에 형성되는 배향물질에 열을 가할 수 있게 된다.
상기 자기장 인가장치(300a, 300b)는 상기 스테이지(200)를 사이에 두고 위치된 한 쌍의 전자석 장치로 이루어질 수 있다.
상기 UV 조사장치(400)는 상기 스테이지(200) 상부에 위치될 수 있으며, 편광된 UV를 조사할 수 있는 장치로 이루어질 수 있다.
이상 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것은 아니고, 당업자에게 자명한 범위내에서 변경실시할 수 있는 범위내이다.
상기 본 발명에 따르면, 자기장을 인가하여 배향물질이 정렬한 상태에서 UV를 조사함으로써 배향방향을 결정하는 광반응기의 반응률을 향상시켜 이방성 특성을 증가시키고, 그에 따라 높은 앵커링 에너지를 갖는 배향막을 형성할 수 있어, 잔상 특성이 개선된다.

Claims (16)

  1. 제1기판 및 제2기판을 준비하는 공정;
    상기 제1기판 및 제2기판 중 적어도 하나의 기판 상에 광반응기를 함유하는 배향물질을 도포하는 공정;
    상기 기판의 양측면과 마주보도록 스테이지를 사이에 두고 위치된 한 쌍의 전자석 장치로 이루어진 자기장 인가 장치를 이용하여 상기 도포된 배향물질에 자기장을 인가하여 상기 배향물질을 정렬하는 공정;
    상기 기판 상부에 위치하는 UV조사 장치를 이용하여 상기 정렬된 배향물질에 UV를 조사하여 배향물질을 배향시키는 공정; 및
    상기 제1기판 및 제2기판 사이에 액정층을 매개하는 공정을 포함하여 이루어지며,
    가열이 가능한 상기 스테이지를 이용하여 상기 도포된 배향물질에 열을 가하는 공정을 추가로 포함하고,
    상기 UV조사공정은 상기 자기장 인가 공정 및 가열 공정이 수행되는 동안에 수행되며,
    상기 배향물질을 도포하는 공정은 폴리아믹 에시드(Polyamic acid), 폴리노보넨, 페닐 말레이미드 공중합체, 폴리비닐신나메이트(polyvinylcinnamate), 폴리아조벤젠(polyazobenzene), 폴리에틸렌이민(Polyethyleneimine), 폴리에틸렌(Polyethylene), 폴리스틸렌(Polystylene), 폴리페닐렌프탈아미드(Polyphenylenephthalamide), 폴리에스테르(Polyester), 및 폴리메틸 메타크릴레이트(Polymethyl methacrylate)로 구성된 군에서 선택된 고분자물질을 도포하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 열을 가하는 공정은 배향물질의 유리전이 온도(Tg)로 가열하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서,
    상기 자기장의 인가에 의해 상기 배향물질의 광반응기가 정렬하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 자기장의 인가방향과 배향물질의 광반응기의 정렬방향이 수평관계인 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 UV조사에 의해 배향물질의 광반응기 간에 중합반응을 일으켜 배향물질이 배향되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 UV를 조사하는 공정은 편광된 UV를 조사하는 것을 특징으로 하는 액정 표시소자의 제조방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 UV의 편광방향과 배향물질의 배향방향은 서로 수직 관계인 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.
  11. 삭제
  12. 제1항에 있어서,
    상기 제1기판 및 제2기판 사이에 액정층을 매개하는 공정은 상기 제1기판 및 제2기판 중 어느 하나의 기판 상에 액정을 적하하고 상기 제1기판 및 제2기판을 합착하는 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.
  13. 배향물질이 도포된 기판이 안착되며, 가열이 가능하여 상기 기판 상에 도포된 배향물질에 열을 가하는 스테이지;
    상기 기판의 양측면과 마주보도록 상기 스테이지를 사이에 두고 위치된 한 쌍의 전자석 장치로 이루어지며, 상기 스테이지에 안착된 상기 기판 상에 도포된 배향물질에 자기장을 인가할 수 있는 자기장 인가장치; 및
    상기 스테이지에 안착된 기판에 UV를 조사할 수 있도록 상기 기판 상부에 위치하는 UV 조사장치를 포함하여 이루어지며,
    상기 배향물질은 폴리아믹 에시드(Polyamic acid), 폴리노보넨, 페닐 말레이미드 공중합체, 폴리비닐신나메이트(polyvinylcinnamate), 폴리아조벤젠(polyazobenzene), 폴리에틸렌이민(Polyethyleneimine), 폴리에틸렌(Polyethylene), 폴리스틸렌(Polystylene), 폴리페닐렌프탈아미드(Polyphenylenephthalamide), 폴리에스테르(Polyester), 및 폴리메틸 메타크릴레이트(Polymethyl methacrylate)로 구성된 군에서 선택된 고분자물질인 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조장치.
  14. 삭제
  15. 삭제
  16. 제13항에 있어서,
    상기 UV 조사장치는 스테이지 상부에 위치된 편광된 UV 조사장치로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조장치.
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