KR101163097B1 - Gas dissolution equipment using gaps for treatment of drinking water and wastewater - Google Patents

Gas dissolution equipment using gaps for treatment of drinking water and wastewater Download PDF

Info

Publication number
KR101163097B1
KR101163097B1 KR20120006309A KR20120006309A KR101163097B1 KR 101163097 B1 KR101163097 B1 KR 101163097B1 KR 20120006309 A KR20120006309 A KR 20120006309A KR 20120006309 A KR20120006309 A KR 20120006309A KR 101163097 B1 KR101163097 B1 KR 101163097B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
water
bubble
dissolution
treated
Prior art date
Application number
KR20120006309A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
왕창근
김상진
Original Assignee
주식회사두합크린텍
충남대학교산학협력단
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사두합크린텍, 충남대학교산학협력단 filed Critical 주식회사두합크린텍
Priority to KR20120006309A priority Critical patent/KR101163097B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101163097B1 publication Critical patent/KR101163097B1/en

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/727—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation using pure oxygen or oxygen rich gas
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
    • C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
    • C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/68—Treatment of water, waste water, or sewage by addition of specified substances, e.g. trace elements, for ameliorating potable water
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/70—Treatment of water, waste water, or sewage by reduction
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/78—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with ozone
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W10/00—Technologies for wastewater treatment
    • Y02W10/10—Biological treatment of water, waste water, or sewage

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)

Abstract

PURPOSE: A gas dissolving apparatus for water from water works and sewage and wastewater is provided to reduce energy by lowering the pressure of injected gas without a separate stirrer and a pump. CONSTITUTION: Feed water and gas pass through a gas dissolving unit such that gas is dissolved in the feed water. Bubbles raised based on buoyancy and collides with the lower parts of stick fins(5). The retention time of the gas is extended to continuously dissolve the gas in the feed water. Enlarged bubbles of the gas with the feed water pass through a gap between stick. A bubble collecting and dissolving module(6) is composed of walls. An introducing side wall is opened, and the feed water and raising bubbles are entered through the introducing side wall. An opposite side wall and lateral side walls are closed and blocks the raising bubbles to increase the retention time of the gas in the feed water.

Description

상수 및 하폐수 처리용 틈새구조형 가스용해장치 {Gas dissolution equipment using gaps for treatment of drinking water and wastewater}Gas dissolution equipment using gaps for treatment of drinking water and wastewater}

본 발명은 상수 및 하폐수 처리를 위한 틈새구조형 가스용해장치에 관한 것으로 오존, 산소, 이산화탄소, 아황산가스와 같은 가스를 처리대상수에 효과적으로 용해시킴으로써 가스이용효율을 높이고 장치 제작의 편리성과 경제성을 제고하고자 한 기술이다.
The present invention relates to a crevice-type gas dissolving device for treating water and sewage water, which effectively dissolves gases such as ozone, oxygen, carbon dioxide, and sulfurous acid in the water to be treated to increase gas utilization efficiency and improve convenience and economy of device fabrication. One technique.

가스용해장치를 구성하는 저류판, 기포포집 및 용해 모듈, 저류판과 저류판 사이의 틈새, 저류판과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새, 기포포집 및 용해 모듈과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새의 특징에 대하여 살펴보면 저류판은 상승하는 가스기포의 충돌, 교반, 가스 체류 및 용해시간 확보의 기능을 수행하고 기포포집 및 용해 모듈은 가스기포의 포집, 저류, 교반, 가스용해경계면, 가스 체류 및 용해시간을 제공하며 가스와 처리대상수가 함께 통과하는 틈새는 빠른 통과 유속을 유발함으로써 상부에 위치한 저류판이나 기포포집 및 용해 모듈에서의 교반 효과를 높이는 역할을 한다.
The reservoir plate, bubble collection and dissolution module constituting the gas dissolving device, the gap between the reservoir plate and the reservoir plate, the gap between the reservoir plate and the bubble collection and dissolution module, the gap between the bubble collection and dissolution module and the bubble collection and dissolution module The storage plate performs the functions of securing the rising gas bubbles collision, stirring, gas retention and dissolution time, and the bubble collection and dissolution module captures the gas bubbles, storage, stirring, gas dissolving interface, gas retention and The gap between the gas and the treated water, which provides the dissolution time, increases the agitation effect at the upper reservoir or bubble collection and dissolution module by inducing a rapid passage flow rate.

따라서, 가스의 반응조 내 체류시간의 증가는 기체 분자가 처리대상수에 용해되는 시간의 증가로 이어져 가스용해효율을 획기적으로 증가시키고 각 부재 간의 틈새구조를 이용함으로써 장치 제작의 편리성과 경제성이 제고된 기술이다.
Therefore, the increase in the residence time of the gas in the reaction tank leads to an increase in the time that gas molecules are dissolved in the water to be treated, which dramatically increases the gas dissolution efficiency and improves the convenience and economics of manufacturing the device by using the gap structure between each member. Technology.

상수, 하폐수, 산업용수, 지하수와 같은 물을 처리할 때 다양한 가스(기체)를 투입하여 용해시킴으로써 수소이온농도(pH)의 조절, 산화(Oxidation), 환원(Reduction), 미생물에의 산소(Oxygen) 공급, 침전물 형성(Precipitation), 살균(Disinfection) 등 다양한 목적을 달성한다. 사용되는 가스의 종류로는 오존(O3), 산소(O2), 공기(Air), 이산화탄소(CO2), 염소(Cl2), 질소(N2), 아황산가스(SO2) 등이 있다. 또한, 알콜, 벤젠과 같은 다양한 용매에 가스를 용해시켜 필요한 목적을 달성하는 경우도 있다.
When treating water such as water, wastewater, industrial water and groundwater, various gases (gases) are added and dissolved to control hydrogen ion concentration (pH), oxidation, reduction, oxygen to microorganisms (Oxygen) ) A variety of purposes, such as supplying, precipitation and disinfection, are achieved. Types of gas used include ozone (O 3 ), oxygen (O 2 ), air (Air), carbon dioxide (CO 2 ), chlorine (Cl 2 ), nitrogen (N 2 ), and sulfur dioxide (SO 2 ). have. In addition, in some cases, a gas is dissolved in various solvents such as alcohol and benzene to achieve the necessary purpose.

가스를 처리대상수에 용해시키고자 할 때 가스를 반응조 하부에 투입하면서 모터와 패들로 구성된 교반기로 투입된 가스와 처리대상수가 혼합되도록 하여 가스를 용해시키는 기계교반(Mechanical mixing)식과, 산기관이나 산기판을 통하여 반응조 하부로 가스를 주입함으로써 미세한 기포를 다수 형성시켜 가스를 용해시키는 디퓨저(Diffuser)식, 그리고 직접(In-Line) 주입방식과 간접(Sidestream) 주입방식으로 분류되는 인젝터(Injector)식 등이 있다.
When the gas is to be dissolved in the water to be treated, a mechanical mixing method for dissolving the gas by mixing the gas and the water to be treated with an agitator composed of a motor and a paddle while injecting the gas into the lower part of the reactor, and an acid pipe or an acid By injecting gas into the lower part of the reactor through the substrate, a large number of fine bubbles are formed to dissolve the gas, and an injector type that is classified into an in-line injection method and a sidestream injection method. Etc.

염소(Cl2)와 같이 물에 투입되었을 때 매우 빠른 속도로 대부분 용해되는 가스가 있는 반면 오존(O3)이나 산소(O2)와 같이 헨리의 법칙(Henry's law)에 따라 가스분자의 분압에 비례하여 용해되는 가스가 있다. 처리대상수에 주입된 가스(기체)는 통상 다양한 크기의 기포형상을 가지며 기포의 부력에 의해 빠른 속도로 상승한다. 예로서, 디퓨저(Diffuser)를 통해 주입된 가스는 디퓨저가 위치하는 수심 즉 수압과 기공직경에 따라 다르겠으나 디퓨저를 벗어나는 순간의 기포크기는 매우 작으나 부력에 의해 상승하면서 기포들끼리 서로 충돌하여 합쳐지므로 상부로 이동할수록 그 크기가 커지며 부력도 커지게 되어 기포의 상승속도도 점점 높아진다. 따라서, 기포의 반응조 내 체류시간이 짧아지고 기액접촉면적이 작아지게 되어 기체의 용존율도 낮아지게 된다.
While there is a gas that dissolves at a very high rate when introduced into water, such as chlorine (Cl 2 ), the partial pressure of the gas molecules in accordance with Henry's law, such as ozone (O 3 ) or oxygen (O 2 ). There is a gas that dissolves proportionally. The gas (gas) injected into the water to be treated generally has bubble shapes of various sizes and rises rapidly due to buoyancy of the bubbles. For example, the gas injected through the diffuser may vary depending on the depth at which the diffuser is located, that is, the water pressure and the pore diameter, but the bubble size at the moment of exiting the diffuser is very small, but the bubbles rise and collide with each other as they rise due to buoyancy. As it moves upwards, the size increases and buoyancy increases, and the bubble rises gradually. Therefore, the residence time of the bubbles in the reaction vessel is shortened, the gas-liquid contact area is reduced, and the gas dissolution rate is also lowered.

기계교반식 가스용해장치는 가스 기포크기가 매우 큰 형태로 주입되므로 기포가 매우 빠른 속도로 상승하게 됨으로써 교반기에 의한 교반강도를 높게 하여도 가스용해율은 매우 낮고 또한 교반기 작동에 따른 에너지의 소비도 높은 단점이 있다. 오존(O3)의 경우 오존(O3) 용해율은 50~60% 정도인 것으로 보고된 바 있다.
In the mechanical stirring gas dissolving device, the gas bubble size is injected in a very large form, so the bubble rises at a very high speed so that the gas dissolution rate is very low even when the stirring strength is increased by the agitator, and the energy consumption of the agitator is also high. There are disadvantages. In the case of ozone (O 3) ozone (O 3) dissolving rate has been reported to be about 50-60% of the bar.

디퓨저(Diffuser)식 가스용해장치는 60㎛ 정도의 기공직경을 갖는 세라믹(Ceramic) 재질의 산기관이나 산기판을 통하여 가스를 주입하며 미세한 기포가 다수 형성되면서 처리대상수로 이동한다. 전술한 바와 같이, 기포의 반응조 내 체류시간과 기포의 크기에 따라 용해율은 달라지겠으나 오존(O3)의 경우 통상 80% 정도의 용해율을 보이는 것으로 보고된 바 있다. 오존의 용해효율을 높이기 위해 반응조의 수심을 4~6m로 매우 깊게 함으로써 건설비가 증가하고 오존가스의 주입을 위한 압력이 요구되어 에너지가 소모된다.
Diffuser gas dissolving device injects gas through an acid pipe or an acid substrate of ceramic material having a pore diameter of about 60 μm, and moves to water to be treated as many fine bubbles are formed. As described above, the dissolution rate will vary depending on the residence time of the bubble in the reaction tank and the size of the bubble, but ozone (O 3 ) has been reported to show a dissolution rate of about 80%. In order to increase the dissolution efficiency of ozone, the depth of the reactor is deepened to 4 ~ 6m, which increases the construction cost and requires pressure for the injection of ozone gas, which consumes energy.

인젝터(Injector)식 중 간접주입방식(Sidestream)의 가스용해장치는 소량의 물을 취하여 고압의 가스(기체)를 먼저 주입한 후 물, 가스 혼합물을 본체 수류로 다시 주입시키는 방식으로 오존(O3)의 경우 90% 내외의 용해율을 보이는 것으로 보고된 바 있다. 이 방식에서는 펌프를 사용하게 되므로 에너지 소비량이 높은 단점이 있다.
Injector-type side dissolving device dissolves ozone (O 3 ) by taking a small amount of water and injecting high-pressure gas (gas) first, and then injecting water and gas mixture back into the body water stream. ) Has been reported to show a dissolution rate of about 90%. This method has a disadvantage of high energy consumption because the pump is used.

상기 선행기술에 대한 설명에서 알 수 있듯이, 세 가지 방식 모두 기포의 반응조 내 체류시간을 증가시키는 수단은 없으며 일단 주입되고 나면 반응조 내에서 기포크기에 따른 부력에 의해 상승속도가 결정되고 기포가 상승하면서 기포간의 충돌에 의해 기포의 크기는 점점 더 커지고 상승속도도 빨라진다.
As can be seen from the description of the prior art, in all three methods there is no means to increase the residence time of the bubble in the reaction vessel, once the injection rate is determined by the buoyancy according to the bubble size in the reaction vessel as the bubble rises The collision between bubbles increases the size of bubbles and increases the speed of rise.

오존(O3)은 강한 산화 및 살균력을 가지고 있어 상수나 하폐수 처리를 위한 수처리공정에서 많이 응용되는 가스이다. 오존의 강력한 산화력에도 분해되지 않는 난분해성 물질은 OH라디칼(Hydroxyl radical)에 의해서 분해되는 경우가 있다. OH라디칼은 용해된 오존(O3)에 자외선(Ultraviolet radiation)을 조사하거나 오존과 과산화수소수(H2O2)와의 반응에 의해 생성된다. 따라서, 동일한 양의 자외선 조사나 과산화수소수를 투입하였을 때 오존용해율이 높으면 OH라디칼 생성 및 이용량도 증가한다. 이러한 OH라디칼과 같은 산화수단을 이용하는 산화공정을 고도산화공정(Advanced Oxidation Process, AOP)이라 한다.
Ozone (O 3 ) is a gas that is widely used in water treatment processes for treating water and sewage due to its strong oxidation and sterilization ability. Hardly decomposable substances that do not decompose under the strong oxidizing power of ozone may be decomposed by OH radicals. OH radicals are produced by irradiating dissolved ozone (O 3 ) with ultraviolet (Ultraviolet radiation) or by reacting ozone with hydrogen peroxide (H 2 O 2 ). Therefore, if the ozone dissolution rate is high when the same amount of ultraviolet irradiation or hydrogen peroxide solution is added, the amount of OH radicals generated and used also increases. An oxidation process using an oxidation means such as OH radicals is called an Advanced Oxidation Process (AOP).

대한민국 등록 특허 10-0349214에는 “다공판을 이용한 수처리 장치”가 소개되어 있다. 이 발명은 본원 출원인에 의해 출원된 것으로 가스 기포의 다공판 하부에의 저류 및 구멍을 통과할 때 기포의 쪼개짐 원리를 이용하여 기포의 반응조 내 체류시간을 증가시킴으로써 가스의 용해효율을 높이고자 한 기술이다.
Korean Patent Registration No. 10-0349214 introduces a "water treatment apparatus using a porous plate." The present invention has been filed by the applicant of the present invention, and the technique is intended to increase the dissolution efficiency of the gas by increasing the residence time of the bubble in the reaction tank of the bubble by using the splitting principle of the bubble when passing through the reservoir and the hole in the lower portion of the porous plate of the gas bubble to be.

대한민국 등록 특허 10-1010893의 “상수 및 하폐수 처리용 가스용해장치”는 본원 출원인에 의해 출원된 것으로 상기 가스용해장치는 다공판, 기포포집 및 용해 모듈, 기포부탈착 매체로 구성되어 있으며 다공판은 기포의 체류시간을 증가시키고 기포를 작게 쪼갬으로써 가스용해가 효과적으로 일어나도록 하였고 옆면에 다공구조를 갖는 기포포집 및 용해 모듈은 기포를 포집하고 저류할 수 있어 가스의 체류시간을 증가시킴과 동시에 처리대상수와 가스가 혼합될 수 있도록 하였고 기포부탈착 매체에서는 작은 기포가 매체 표면에 부착하여 탈착될 때까지 기포의 체류시간을 증가시키고자 한 기술이다.
The “gas dissolving device for water and sewage treatment” of Korean Patent No. 10-1010893 has been filed by the applicant of the present application, and the gas dissolving device is composed of a porous plate, a bubble collecting and dissolving module, and a bubble desorption medium. Increasing the residence time of bubbles and splitting the bubbles into small pieces to effectively dissolve the gas, and the bubble collection and dissolution module with a porous structure on the side can capture and store bubbles, increasing the residence time of the gas and at the same time It is a technique that allows water and gas to be mixed and increases the residence time of bubbles until small bubbles adhere to and detach from the bubble-bearing medium.

기계교반식, 디퓨저식, 인젝터식 가스용해장치를 채택하는 종래의 기술들에 있어서, 가스의 용해효율을 높이기 위해 반응조의 수심을 깊게 함으로써 건설비가 높게 되는 단점이 있다. 용해효율도 구조적으로 낮을 수밖에 없으며 또한, 고가의 가스를 제대로 이용하지 못하고 그대로 배출하는 비율이 높고 가스용해장치의 운영을 위해 에너지의 소비가 높은 단점이 있다.
In the conventional techniques employing a mechanical stirring, diffuser, and injector gas dissolving device, there is a disadvantage in that the construction cost is high by deepening the depth of the reactor to increase the dissolution efficiency of the gas. Dissolution efficiency is also structurally low, and also has a disadvantage in that expensive gas is not properly used, and a high rate of exhaustion is high, and energy consumption is high for operating a gas dissolving device.

따라서, 본원 출원인이 특허권자인 “다공판을 이용한 수처리장치”(대한민국 특허 등록번호 10-0349214)와 “상수 및 하폐수 처리용 가스용해장치”(대한민국 특허 등록번호 10-1010893)의 가스용해효율은 유지하면서도 장치 제작의 편리성을 도모하고 고가의 다공판 제작 문제를 해소함으로써 제작 및 건설비용을 낮출 수 있도록 상기 특허 기술을 개량하고자 하였다.
Therefore, the gas dissolution efficiency of the applicant's patentee, "Water treatment apparatus using a porous plate" (Korean Patent Registration No. 10-0349214) and "Gas Dissolution System for water and wastewater treatment" (Korean Patent Registration No. 10-1010893) are maintained. In addition, the patented technology is intended to be improved in order to reduce the manufacturing and construction costs by improving the convenience of manufacturing the device and solving the expensive porous plate manufacturing problem.

그리고, 가스용해 후 최종처리수에 가스기포가 섞여서 유출되는 문제를 해결하기 위하여 가스용해 마지막 단계에서 가스기포를 최종처리수로부터 분리 배출하는 장치를 개발하였다.
In addition, in order to solve the problem that the gas bubbles are mixed with the final treated water after gas melting, a device for separating and discharging the gas bubbles from the final treated water in the final stage of gas melting was developed.

본 발명은 본 출원인의 선출원 발명인 “상수 및 하폐수 처리용 가스용해장치”개량한 것으로, 저류판(Baffle), 기포포집 및 용해 모듈(Gas bubble collection and dissolution module), 저류판과 저류판 사이의 틈새(Gap between the baffles), 저류판과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새(Gap between baffle and gas bubble collection and dissolution module), 기포포집 및 용해 모듈과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새(Gap between the gas bubble collection and dissolution modules)를 조합하여 가스용해장치를 형성하고, 처리대상수와 가스가 가스용해장치를 통과함에 따라 처리대상수와 가스의 효과적인 접촉이 이루어져 가스가 처리대상수에 용해될 수 있도록 함과 동시에 장치 제작이 편리해지고 제작비용을 절감함을 목적으로 한다.
The present invention has been improved by the applicant of the present invention, "Gas dissolving apparatus for water and sewage treatment," and includes a gap between a baffle, a bubble collection and dissolution module, a storage plate and a storage plate. Gap between the baffles, gap between the baffle and gas bubble collection and dissolution module, gap between the baffle and gas bubble collection and dissolution module bubble collection and dissolution modules) to form a gas dissolving device, and as the treated water and the gas pass through the gas dissolving device, effective contact between the treated water and the gas is performed so that the gas can be dissolved in the treated water. At the same time, the purpose of the device manufacturing is easy and the manufacturing cost is reduced.

저류판은 하부로부터 부력에 의해 상승하는 기포가 저류판 아랫면에 막혀 더 이상 상승하지 못하고 저류되도록 함으로써 가스 체류 및 용해시간을 확보하고 또한 상승기포가 저류판 아랫면에 충돌할 때 처리대상수와의 교반이 국지적으로 이루어지는 과정에서 가스의 용해를 촉진시킨다.
The reservoir plate ensures gas retention and dissolution time by allowing bubbles rising by buoyancy from the lower side to be blocked by the bottom of the reservoir plate so that they cannot rise any more, and when the rising bubble collides with the bottom surface of the reservoir plate, it is stirred with the water to be treated. This locally accelerated dissolution of the gas.

기포포집 및 용해 모듈은 상승하는 기포를 모듈 내부에 포집하면서 가스저류공간을 형성시켜 가스의 반응조 내 체류 및 용해시간을 증가시키고 확보된 가스용해경계면을 통하여 가스용해가 지속되도록 한다.The bubble capture and dissolution module collects rising bubbles in the module to form a gas storage space, thereby increasing the residence and dissolution time of the gas in the reactor and allowing gas dissolution to continue through the gas dissolution boundary.

상기한 각종 틈새는 가스와 처리대상수가 반응조 내에서 이동하는 통로이면서 처리대상수의 순간 통과 유속을 크게 증가시켜 틈새 상부의 저류판이나 기포포집 및 용해 모듈에서의 교반효과를 높인다.
The various gaps are passages through which the gas and the treated water move in the reaction tank, and greatly increase the instantaneous flow rate of the treated water, thereby increasing the stirring effect in the reservoir plate or the bubble collection and dissolution module in the upper portion of the gap.

종래의 선행기술에서는 가스를 처리대상수에 용해시키기 위하여 수심이 깊고 용적이 큰 반응조를 필요로 하였으나 본 발명에서는 기포의 반응조 내 체류시간을 구조적으로 증가시킬 수 있어 가스의 이용률을 높임과 동시에 반응조의 용적을 획기적으로 줄일 수 있는 효과가 있다.
In the prior art, a reactor having a deep depth and a large volume was required to dissolve gas in the water to be treated. However, in the present invention, the residence time of the bubble in the reactor can be structurally increased, thereby increasing the utilization rate of the gas and simultaneously There is an effect that can significantly reduce the volume.

또한, 본 발명에서는 별도의 교반장치나 펌프가 불필요하고 주입가스의 압력도 최소한으로 낮출 수 있어 에너지가 크게 절감되는 효과가 있다.
In addition, in the present invention, there is no need for a separate stirring device or pump, and the pressure of the injection gas can be lowered to a minimum, thereby greatly reducing energy.

다공판을 이용하는 선행기술에 비해 제작 및 시공이 편리하고 제작 및 건설비용이 크게 감소되어 경제성이 제고되는 효과가 있다.
Compared with the prior art using a perforated plate, the production and construction are more convenient, and the manufacturing and construction costs are greatly reduced, thereby improving economic efficiency.

도1은 본 발명의 저류판, 기포포집 및 용해 모듈, 저류판과 저류판 사이의 틈새, 저류판과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새, 기포포집 및 용해 모듈과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새가 조합된 가스용해장치 예시(단면도)
도2는 저류판, 기포포집 및 용해 모듈, 저류판과 저류판 사이의 틈새, 저류판과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새, 기포포집 및 용해 모듈과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새의 구조와 기능 설명도
도3은 본 발명의 기포포집 및 용해 모듈 형상 예시(다면체형 기포포집 및 용해 모듈, 절단 파이프형 기포포집 및 용해 모듈)
도4는 본 발명의 저류판, 저류판과 저류판 사이의 틈새로 구성된 가스용해장치 예시
도5는 본 발명의 기포포집 및 용해 모듈, 기포포집 및 용해 모듈과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새로 구성된 가스용해장치 예시
도6은 본 발명의 저류판과 기포포집 및 용해 모듈을 이용한 최종처리수로의 가스기포 유출방지 시스템
도7은 본 발명의 저류판을 배열하여 저류판과 저류판 사이의 틈새를 형성하는 방법 예시1 is a storage plate, bubble collection and dissolution module of the present invention, the gap between the storage plate and the storage plate, the gap between the storage plate and bubble collection and dissolution module, the gap between the bubble collection and dissolution module and the bubble collection and dissolution module Gas dissolving device combined
2 shows the structure of the reservoir plate, bubble collection and dissolution module, the gap between the reservoir plate and the reservoir plate, the gap between the reservoir plate and the bubble collection and dissolution module, and the gap between the bubble collection and dissolution module and the bubble collection and dissolution module. Function diagram
Figure 3 is an example of the bubble capture and dissolution module shape of the present invention (polyhedral bubble capture and dissolution module, cut pipe-type bubble capture and dissolution module)
Figure 4 illustrates a gas dissolving device composed of a gap between the reservoir plate, the reservoir plate and the reservoir plate of the present invention
Figure 5 illustrates a gas dissolving device composed of a gap between the bubble capture and dissolution module, the bubble capture and dissolution module and the bubble capture and dissolution module of the present invention
Figure 6 is a gas bubble outflow prevention system to the final treatment water using the reservoir plate and the bubble collection and dissolution module of the present invention
Figure 7 illustrates a method for arranging the reservoir plates of the present invention to form a gap between the reservoir plate and the reservoir plate.

본 발명의 실시에 대한 구체적인 내용을 도1 내지 도7을 참조하며 상세히 설명한다. 도1에 예시한 바와 같이 가스용해장치(1)는 처리대상수 공급수단(3), 가스 공급수단(4), 배가스 배출구(13), 최종처리수 유출구(14), 반응조(2), 저류판(5), 기포포집 및 용해 모듈(6), 저류판과 저류판 사이의 틈새(7), 저류판과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새(8), 기포포집 및 용해 모듈과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새(9)로 구성된다. 가스의 용해는 가스와 액체의 접촉시간과 접촉면적에 비례하고 기체와 액체 간의 교반도 용해속도를 증가시킨다. 따라서, 본 발명에서는 가스가 가스용해장치(1) 내에 오랫동안 체류함과 동시에 용해를 가속화하기 위한 기액 교반이 잘 이루어질 수 있도록 장치를 구성, 배치하였다.
Detailed description of the implementation of the present invention will be described with reference to Figs. As illustrated in FIG. 1, the gas dissolving device 1 includes a water supply means 3 for treatment, a gas supply means 4, an exhaust gas outlet 13, a final treatment water outlet 14, a reaction tank 2, and a storage Plate (5), bubble collection and dissolution module (6), gap between reservoir and reservoir plate (7), gap between reservoir and bubble collection and dissolution module (8), bubble collection and dissolution module and bubble collection and It consists of a gap 9 between the melting modules. Dissolution of the gas is proportional to the contact time and the contact area of the gas and the liquid, and the stirring between the gas and the liquid also increases the dissolution rate. Therefore, in the present invention, the device is configured and arranged so that the gas stays in the gas dissolving device 1 for a long time and the gas-liquid agitation for accelerating dissolution can be well performed.

처리대상수 공급수단(3)은 가스용해장치(1)의 하부에 위치하며 처리대상수가 균등하게 공급될 수 있도록 유공 파이프망으로 구성하는 것이 바람직하다. 가스 공급수단(4)은 가급적 작은 기포가 가스용해장치(1)의 하부에서 균등하게 공급될 수 있도록 유공 파이프망이나 다수의 디퓨저로 구성한다.
The water to be treated means 3 is preferably located in the lower part of the gas dissolving device 1, and preferably constituted by a perforated pipe network so that the water to be treated can be equally supplied. The gas supply means 4 is composed of a perforated pipe network or a plurality of diffusers so that small bubbles as possible can be evenly supplied from the lower part of the gas dissolving device 1.

도1, 도2, 도4, 도6 및 도7에 나타낸 저류판(5)은 스테인리스스틸, 아크릴, 폴리에틸렌, 피브이시(PVC) 등과 같은 재질을 갖는 적절한 크기의 판을 여러 개 수평 배열하여 반응조(2) 내에 설치하고 저류판을 배열하는 과정에서 사전에 계산된 특정 간격을 두게 되며 이 간격은 저류판과 저류판 사이의 틈새(7)를 형성한다.1, 2, 4, 6, and 7, the storage plate 5 shown in FIG. 1 is arranged horizontally by several horizontally arranged plates of appropriate sizes having a material such as stainless steel, acrylic, polyethylene, PVC, etc. In the process of installing in 2) and arranging the reservoir plate, there is a predetermined gap which is calculated in advance, and this gap forms the gap 7 between the reservoir plate and the reservoir plate.

가스 공급수단(4)을 통하여 반응조(2) 하부로 유입된 가스기포는 부력에 의해 상승하고 상기 저류판(5)의 하부에 도달하면서 상승속도에 의해 충돌과 교반이 일어나게 되며 기 저류된 기포와 뭉쳐져 점점 커지게 된다. 저류판(5) 아래에 저류된 기포와 처리대상수는 저류판과 저류판 사이의 틈새(7)로만 통과할 수 있다. 물과 같은 액체는 상시 통과하는 반면 가스기포는 저류판(5) 아랫면을 따라 불규칙하게 이동하면서 저류판과 저류판 사이의 틈새(7)를 만날 경우에 상승을 지속하게 된다. 이 과정에서 가스의 체류시간이 증가하고 가스용해가 지속된다.
The gas bubbles introduced into the lower part of the reaction tank 2 through the gas supply means 4 rise by buoyancy and reach the lower part of the storage plate 5, thereby causing collisions and agitation by the rising speed. They get bigger and bigger. Bubbles stored under the reservoir plate 5 and the water to be treated can only pass through the gap 7 between the reservoir plate and the reservoir plate. While a liquid such as water passes through at all times, the gas bubbles continue to rise when encountering the gap 7 between the reservoir plate and the reservoir plate while irregularly moving along the bottom surface of the reservoir plate 5. In this process, the residence time of the gas increases and gas dissolution continues.

도7에는 저류판(5)을 배열하여 저류판과 저류판 사이의 틈새(7)를 형성하는 방법을 예시하였다. 다공판을 이용하는 선행기술에서는 다공판 제작 시 구멍개수 당 비용이 산정되므로 목적 달성을 위해서는 고가의 제작비용이 수반된다. 따라서, 본 발명에서는 소정의 크기로 재단된 저류판을 목적에 따라 사전에 계획된 간격으로 받침 위에 수평으로 올려놓는 것으로 시공이 완료되므로 매우 편리하고 경제적이다. 예로서, 100.0cm×101.0cm의 반응조 면적에 대하여 10cm×100cm 저류판을 저류판과 저류판 사이의 틈새(7) 1mm가 되도록 배열하면 10개의 저류판이 소요되며 틈새면적은 100cm2 정도가 확보되고 처리대상수가 틈새를 통과할 때 반응조 내 평균 상승유속의 100배로 순간 가속된다. 저류판의 개수와 틈새 간격을 조절함으로써 상승유속과 저류판 하부에서의 기포 저류시간을 조절할 수 있음은 자명하다.
7 illustrates a method of arranging the reservoir plates 5 to form a gap 7 between the reservoir plates and the reservoir plates. In the prior art using a perforated plate, since the cost per number of holes is calculated during fabrication of the perforated plate, expensive manufacturing costs are involved in achieving the purpose. Therefore, the present invention is very convenient and economical because the construction is completed by placing the storage plate cut to a predetermined size horizontally on the base at intervals previously planned according to the purpose. For example, if a 10cm × 100cm reservoir is arranged so that the gap between the reservoir plate and the reservoir plate (1) is 1mm for a reactor area of 100.0cm × 101.0cm, 10 reservoir plates are required and the clearance area is about 100cm 2 . As the treated water passes through the gap, it is accelerated to 100 times the average ascent flow rate in the reactor. It is apparent that by controlling the number and clearance gap of the reservoir plate, the rising flow rate and the bubble retention time at the bottom of the reservoir plate can be controlled.

도1, 도2, 도3, 도5 및 도6에 나타낸 기포포집 및 용해 모듈(6)은 처리대상수와 상승기포가 진입하는 유입부 쪽은 열려있고 유입부 반대편과 옆쪽은 막혀있는 벽면으로 구성되며, 유입부 반대편의 막혀있는 벽면은 아래에서 상승하는 기포를 더 이상 상부로 상승하지 못하도록 차단하여 기포포집 및 용해 모듈(6) 내부 공간에 가스저류공간(11)과 가스용해경계면(12)을 형성시킴으로써 가스체류시간의 증가와 함께 가스용해가 지속된다. 저류판과 저류판 사이의 틈새(7)나 기포포집 및 용해 모듈과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새(9)를 통하여 올라오는 처리대상수와 가스기포는 매우 빠른 유속으로 기포포집 및 용해 모듈(6)의 열려있는 유입부로 진입하게 되며 빠른 유속에 의해 가스용해경계면(12) 부근의 가스저류공간(11) 내에서 분출되는 형상으로 교반이 일어나 가스의 용해를 가속화한다. 가스저류공간(11)은 가스의 반응조(2) 내 체류시간 확보에 기여한다. 도3에는 기포포집 및 용해 모듈(6)의 형상을 예시하였으며 다면체형 기포포집 및 용해 모듈과 파이프를 종방향으로 절단한 형상의 절단 파이프형 기포포집 및 용해 모듈 등이 있다.
1, 2, 3, 5, and 6, the bubble collecting and dissolving module 6 is a wall surface in which the inlet part to which the water to be treated and the rising bubble enter is opened and the inlet part and the side part are blocked. The closed wall surface opposite the inlet part blocks the air bubbles rising from the bottom to no longer rise upwards, and thus the gas storage space 11 and the gas-dissolving boundary surface 12 in the air bubble collecting and dissolving module 6 internal spaces. By forming a gas dissolution, gas dissolution is continued with an increase in gas residence time. The treated water and gas bubbles coming up through the gap between the reservoir plate and the reservoir plate (7) or the gap between the bubble collection and dissolution module and the bubble collection and dissolution module (9) are collected at a very high flow rate. It enters the open inlet of 6), and agitation occurs in a shape that is ejected in the gas storage space 11 near the gas dissolving boundary surface 12 due to a high flow rate to accelerate dissolution of the gas. The gas storage space 11 contributes to securing the residence time of the gas in the reaction tank 2. 3 illustrates the shape of the bubble collection and dissolution module 6 and includes a polyhedral bubble collection and dissolution module and a cut pipe type bubble collection and dissolution module having a shape in which the pipe is cut in the longitudinal direction.

처리대상수와 가스기포는 연속적으로 기포포집 및 용해 모듈(6) 내부에 형성된 가스저류공간(11)으로 유입되므로 유입된 양만큼 기포포집 및 용해 모듈(6) 밖으로 빠져나와 저류판과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새(8)와 기포포집 및 용해 모듈과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새(9)를 통하여 상부로 계속 이동한다.
The water to be treated and the gas bubbles are continuously introduced into the gas storage space 11 formed inside the bubble collecting and dissolving module 6 so that they flow out of the bubble collecting and dissolving module 6 as much as the inflow amount. It continues to move upward through the gap 8 between the dissolution module and the gap 9 between the bubble collection and dissolution module and the bubble collection and dissolution module.

가스용해장치(1) 내에서 처리대상수와 가스가 체류하는 동안 용해가 이루어진 후 최종처리수는 최종처리수 유출구(14)로 배출되고 가스는 배가스로서 배가스 배출구(13)를 통하여 배출된다. 도1의 최종처리수 유출구조에서 알 수 있듯이 통상적으로 최종처리수와 가스기포는 섞여서 같이 상승하므로 일부 가스기포가 최종처리수와 섞여서 유출되는 바람직하지 않은 현상이 발생한다. 도6에는 본 발명의 저류판(5)과 기포포집 및 용해 모듈(6)을 반응조(2) 내 최상부 수면 직하에 설치하여 아래로부터 올라오는 가스기포를 저류판(5) 하부와 기포포집 및 용해 모듈(6)에 저류하였다가 바로 수면 위 배가스층으로 합류시킴으로써 최종처리수와 가스기포를 분리 배출하는 시스템을 나타내었다. 이 경우 저류판과 저류판 사이의 틈새(7), 저류판과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새(8), 기포포집 및 용해 모듈과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새(9)를 넓게 하여 기포의 쪼개짐 현상을 없애는 것이 바람직하다.
After dissolution is performed while the water to be treated and the gas remain in the gas dissolving apparatus 1, the final treated water is discharged to the final treated water outlet 14 and the gas is discharged through the exhaust gas outlet 13 as exhaust gas. As can be seen in the final treatment water outflow structure of FIG. 1, since the final treatment water and the gas bubbles are mixed and rise together, an undesirable phenomenon occurs in which some gas bubbles are mixed with the final treatment water and flow out. 6, the storage plate 5 and the bubble collecting and dissolving module 6 of the present invention are installed directly under the top surface of the water in the reaction tank 2 so that the gas bubbles rising from below are collected and dissolved in the bottom of the storage plate 5 and the bubble. A system for storing the final treated water and gas bubbles by storing them in the module 6 and directly joining the exhaust gas layer above the water surface is shown. In this case, the gap between the reservoir plate and the reservoir plate (7), the gap between the reservoir plate and the bubble collection and dissolution module (8), and the gap between the bubble collection and dissolution module and the bubble collection and dissolution module (9) is widened It is desirable to eliminate the cleavage phenomenon.

선행기술의 기계교반식 가스용해장치, 디퓨저식 가스용해장치 또는 인젝터식 가스용해장치에 상기 가스용해장치(1)를 추가로 설치하면 선행기술의 가스용해효율을 크게 상승시킬 수 있다.
Further installation of the gas dissolving device 1 in the mechanical stirring gas dissolving device, the diffuser gas dissolving device or the injector gas dissolving device of the prior art can greatly increase the gas dissolution efficiency of the prior art.

용해된 오존(O3)에 자외선을 조사하거나 과산화수소수(H2O2)를 주입하면 OH라디칼(Hydroxyl radical)이 생성되며 OH라디칼은 오존(O3) 분자보다 산화력이 강하여 OH라디칼을 이용하는 산화공정을 고도산화(Advanced Oxidation)라 한다. 따라서, 본 발명의 가스용해장치에 자외선램프를 장착하거나 처리대상수와 과산화수소수를 함께 투입함으로써 고도산화 목적을 달성할 수 있다. 자외선램프는 저류판(5), 기포포집 및 용해 모듈(6) 사이에 장착할 수 있다.
When ozone (O 3 ) is dissolved in UV light or hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) is injected, OH radicals are generated. OH radicals are more oxidative than ozone (O 3 ) molecules and are oxidized using OH radicals. The process is called Advanced Oxidation. Therefore, the purpose of advanced oxidation can be achieved by attaching an ultraviolet lamp to the gas dissolving device of the present invention or by adding the treatment target water and the hydrogen peroxide water together. The ultraviolet lamp can be mounted between the storage plate 5, the bubble collection and the dissolution module 6.

헨리의 법칙(Henry's law)은 용매에 용해되는 가스(기체)의 양은 가스(기체)의 분압에 비례한다는 것이다. 따라서, 상기 가스용해 시스템을 적용함에 있어서 주입하는 가스를 용매에 용해시킬 목적으로 사용될 수도 있지만, 역으로 용매에 기 용해되어 있는 가스(기체)의 농도를 저감할 목적으로 기 용해되어 있는 기체분자가 존재하지 않는 가스를 용매와 접촉시키면 기 용해되어 있는 기체농도가 감소하면서 주입된 가스로 탈기되어 제거된다. 대표적인 적용사례가 암모니아스트리핑(Ammonia stripping) 공법이다. 따라서, 본 발명의 가스용해장치(1)를 가스탈기장치로 사용될 수 있다.
Henry's law states that the amount of gas (gas) dissolved in a solvent is proportional to the partial pressure of the gas (gas). Therefore, although the gas to be injected may be used for the purpose of dissolving the gas to be injected into the solvent in the application of the gas dissolving system, the gas molecules dissolved in advance for the purpose of reducing the concentration of the gas (gas) dissolved in the solvent are reversed. When a non-existent gas is contacted with a solvent, the dissolved gas concentration is degassed and removed by the injected gas. A typical application is the ammonia stripping method. Therefore, the gas dissolving apparatus 1 of this invention can be used as a gas degassing apparatus.

본 발명을 적용함에 있어서 처리대상수 이외에 알콜, 벤젠과 같은 용매에 가스를 용해시키기 위한 목적으로 사용될 수 있다.
In the application of the present invention can be used for the purpose of dissolving the gas in a solvent such as alcohol, benzene in addition to the water to be treated.

1 : 가스용해장치 2 : 반응조
3 : 처리대상수 공급수단(유공 파이프망 등, 용매 공급수단 겸용)
4 : 가스 공급수단(유공 파이프망, 디퓨저 등)
5 : 저류판(Baffle)
6 : 기포포집 및 용해 모듈(Gas bubble collection and dissolution module)
7 : 저류판과 저류판 사이의 틈새
8 : 저류판과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새
9 : 기포포집 및 용해 모듈과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새
10 : 틈새 띄움 받침(Spacer)
11 : 가스저류공간 12 : 가스용해경계면
13 : 배가스 배출구 14 : 최종처리수 유출구1 gas dissolving device 2 reactor
3: water supply means for treatment (combined solvent supply means such as perforated pipe network)
4: Gas supply means (hole pipe network, diffuser, etc.)
5: Baffle
6: Gas bubble collection and dissolution module
7: gap between the reservoir plate and the reservoir plate
8: gap between reservoir and bubble collection and melting module
9: gap between bubble capture and melt module and bubble capture and melt module
10: Spacer support
11 gas storage space 12 gas melting boundary
13: exhaust gas outlet 14: final treated water outlet

Claims (8)

처리대상수 공급수단, 가스 공급수단, 최종처리수 유출구, 배가스 배출구가 구비된 반응조 내에 저류판, 기포포집 및 용해 모듈, 저류판과 저류판 사이의 틈새, 저류판과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새, 기포포집 및 용해 모듈과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새가 형성되어 가스용해장치를 형성하고, 상기 가스용해장치로 처리대상수와 가스가 통과함에 따라 처리대상수와 가스의 효과적인 접촉이 이루어져 가스가 처리대상수에 용해되는 구조적 특징을 갖는 상수 및 하폐수 처리용 가스용해장치에 있어서,

상기 저류판은 하부로부터 부력에 의해 상승하는 기포가 저류판 하부에 부딪히면서 저류되고 하부로부터 올라오는 상승기포와의 충돌을 통하여 점점 커지는 과정에서 가스체류시간의 증가와 함께 가스용해가 지속되고, 커진 가스기포는 처리대상수와 함께 저류판과 저류판 사이의 틈새를 통과하고,

상기 기포포집 및 용해 모듈은 처리대상수와 상승기포가 진입하는 유입부 쪽은 열려있고 유입부 반대쪽과 옆쪽은 막혀있는 벽면으로 구성되며, 유입부 반대쪽의 막혀있는 벽면은 아래에서 상승하는 기포를 더 이상 상부로 상승하지 못하도록 차단하여 기포포집 및 용해 모듈 내부 공간에 가스저류공간과 가스용해경계면을 형성시킴으로써 가스체류시간의 증가와 함께 가스용해가 지속되고, 가스는 처리대상수와 함께 상기 저류판과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새, 기포포집 및 용해 모듈과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새를 통과하면서 흐름이 지속되는 동안 가스를 처리대상수에 용해시키는 구조적 특징을 갖는 상수 및 하폐수 처리용 가스용해장치.
The reservoir plate, bubble collection and dissolution module, gap between the reservoir plate and the reservoir plate, the gap between the reservoir plate and the bubble collection and dissolution module in a reaction tank equipped with a water supply means, a gas supply means, a final treatment water outlet, and an exhaust gas outlet A gap is formed between the gap, the bubble collecting and dissolving module, and the bubble collecting and dissolving module to form a gas dissolving device. As the water and gas pass through the gas dissolving device, effective contact between the water to be treated and the gas is achieved. In the gas dissolving device for treating water and wastewater having structural characteristics in which gas is dissolved in the water to be treated,

In the reservoir plate, gas dissolution continues with an increase in gas residence time in the process in which bubbles rising by buoyancy from the bottom collide with the riser bubbles rising from the bottom and are gradually increased by collision with rising bubbles rising from the bottom. Bubbles pass through the gap between the reservoir plate and the reservoir plate with the water to be treated,

The bubble collecting and dissolving module is composed of a wall surface in which the inlet part into which the water to be treated and the rising bubble enter is opened and the inlet part and the side part are blocked, and the blocked wall surface opposite the inlet part further has a bubble rising from below. By preventing the gas from rising to the upper part and forming a gas storage space and a gas dissolving boundary in the bubble trapping and dissolution module internal space, gas dissolution is continued with the increase of gas residence time, and the gas is treated with the storage plate together with the water to be treated. Gas dissolution for wastewater and sewage treatment, with structural features that dissolve the gas into the treated water during the flow as it passes through the gap between the bubble capture and dissolution modules, the gap between the bubble capture and dissolution modules and the bubble capture and dissolution modules Device.
제 1항에 있어서,
상기 가스용해장치를 기계교반식 가스용해장치, 디퓨저식 가스용해장치 또는 인젝터식 가스용해장치에 추가로 설치하여 가스용해효율을 높이는 구조적 특징을 갖는 상수 및 하폐수 처리용 가스용해장치.
The method of claim 1,
Gas dissolving device for water and wastewater treatment having a structural feature to further increase the gas dissolving efficiency by installing the gas dissolving device in addition to the mechanical stirring gas dissolving device, diffuser gas dissolving device or injector gas dissolving device.
제 1항에 있어서,
상기 가스용해장치를 처리대상수와 주입된 가스가 통과함에 따라 처리대상수와 주입된 가스의 접촉이 이루어져 처리대상수 중에 이미 용해되어 존재하는 가스가 주입된 가스쪽으로 이동하여 배출됨으로써 처리대상수 중에 용해된 가스의 농도를 감소시키는 기능을 수행하는 상수 및 하폐수 처리용 가스용해장치.
The method of claim 1,
As the treated gas and the injected gas pass through the gas dissolving device, the treated water and the injected gas come into contact with each other, so that the gas already dissolved and present in the treated water moves toward the injected gas and is discharged. A gas dissolving apparatus for treating wastewater and sewage, which serves to reduce the concentration of dissolved gas.
제 1항에 있어서,
상기 처리대상수 이외에 알콜, 벤젠 등과 같은 용매에 가스를 용해시킴을 특징으로 하는 상수 및 하폐수 처리용 가스용해장치.
The method of claim 1,
Gas dissolving apparatus for treating water and wastewater, characterized in that for dissolving the gas in a solvent such as alcohol, benzene and the like other than the water to be treated.
제 1항에 있어서,
상기 가스용해장치의 저류판, 기포포집 및 용해 모듈 사이에 자외선램프를 장착하거나, 처리대상수에 과산화수소수를 투입하고 가스 공급수단을 통하여 오존가스를 투입하므로써 고도 산화의 기능을 갖는 상수 및 하폐수 처리용 가스용해장치.
The method of claim 1,
Equipped with an ultraviolet lamp between the reservoir plate, bubble collection and dissolution module of the gas dissolving device, or by adding hydrogen peroxide water to the water to be treated and ozone gas through the gas supply means, water and sewage water treatment having a high oxidation function Gas Dissolving Apparatus.
제 1항에 있어서,
상기 저류판과 기포포집 및 용해 모듈을 상기 반응조 내 최상부 수면 직하에 설치함으로써 최종처리수 유출구로 가스기포가 섞여서 유출되지 않도록 하는 구조적 특징을 갖는 상수 및 하폐수 처리용 가스용해장치.
The method of claim 1,
A gas dissolving apparatus for treating water and sewage water having structural features such that the reservoir plate and the bubble collecting and dissolving module are installed directly below the top surface of the reaction tank to prevent the gas bubbles from being mixed with the final treated water outlet.
제 1항에 있어서,
상기 가스용해장치를 저류판, 저류판과 저류판 사이의 틈새로 구성하는 구조적 특징을 갖는 상수 및 하폐수 처리용 가스용해장치.
The method of claim 1,
A gas dissolving apparatus for treating water and wastewater having structural features comprising the gas dissolving apparatus comprising a gap between the storage plate, the storage plate and the storage plate.
제 1항에 있어서,
상기 가스용해장치를 기포포집 및 용해 모듈, 기포포집 및 용해 모듈과 기포포집 및 용해 모듈 사이의 틈새로 구성하는 구조적 특징을 갖는 상수 및 하폐수 처리용 가스용해장치.The method of claim 1,
Gas dissolving apparatus for water and wastewater treatment having a structural feature consisting of the gas dissolving device comprising a gap between the bubble capture and dissolution module, the bubble capture and dissolution module and the bubble capture and dissolution module.
KR20120006309A 2012-01-19 2012-01-19 Gas dissolution equipment using gaps for treatment of drinking water and wastewater KR101163097B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20120006309A KR101163097B1 (en) 2012-01-19 2012-01-19 Gas dissolution equipment using gaps for treatment of drinking water and wastewater

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20120006309A KR101163097B1 (en) 2012-01-19 2012-01-19 Gas dissolution equipment using gaps for treatment of drinking water and wastewater

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101163097B1 true KR101163097B1 (en) 2012-07-05

Family

ID=46716356

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20120006309A KR101163097B1 (en) 2012-01-19 2012-01-19 Gas dissolution equipment using gaps for treatment of drinking water and wastewater

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101163097B1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103253724A (en) * 2013-05-31 2013-08-21 无锡海拓环保装备科技有限公司 Rapid air dissolution device with micro-bubbles
KR101382140B1 (en) * 2013-08-30 2014-04-07 주식회사두합크린텍 Air pollutants removal equipment with multifunction for effective scrubbing of particulate matter and gas absorption
CN111115787A (en) * 2020-01-17 2020-05-08 南京昭凌精密机械有限公司 Fusion device for preparing high-concentration carbonic acid spring

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100349214B1 (en) 1999-10-28 2002-08-14 주식회사두합크린텍 Water treatment apparatus using perforated plates

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100349214B1 (en) 1999-10-28 2002-08-14 주식회사두합크린텍 Water treatment apparatus using perforated plates

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103253724A (en) * 2013-05-31 2013-08-21 无锡海拓环保装备科技有限公司 Rapid air dissolution device with micro-bubbles
KR101382140B1 (en) * 2013-08-30 2014-04-07 주식회사두합크린텍 Air pollutants removal equipment with multifunction for effective scrubbing of particulate matter and gas absorption
CN111115787A (en) * 2020-01-17 2020-05-08 南京昭凌精密机械有限公司 Fusion device for preparing high-concentration carbonic acid spring

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100703890B1 (en) Plant for high concentration wastewater treatment by anaerobic and aerobic digestion
KR101697526B1 (en) high efficient ozone-water treatment system
KR101634774B1 (en) Jet loop fluidized bed fenton reactor for improving fenton reaction performance and waste water treatment system and the method thereof
KR101682392B1 (en) Wastewater disposal equipment
KR101010893B1 (en) Gas dissolution equipment for treatment of drinking water and wastewater
KR20120005857A (en) Plant for treatment waste water
KR100349214B1 (en) Water treatment apparatus using perforated plates
KR101742557B1 (en) Water treatment apparatus and method using ozone reaction
KR101163097B1 (en) Gas dissolution equipment using gaps for treatment of drinking water and wastewater
CN106630108B (en) Wastewater decoloring device with rotary releaser and decoloring method
KR101687388B1 (en) Fluid treatment equipment using micro bubble
JP6072254B2 (en) Water treatment equipment
JP4528828B2 (en) Water treatment process and apparatus by fluid flow
JP2006255596A (en) Apparatus and method for purifying water
KR101774488B1 (en) Settling and floating sludge removal equipment and operating method of the same
KR101785922B1 (en) Method for reduction and high temperature digestion of excess sludge and high density organic waste water by aerobic and anaerobic, complex digestion tank and its system thereof
KR20050093916A (en) Method and devic for manufacturing of gas/liguid mixing ozone solution watar
KR101205356B1 (en) Gas dissolution equipment using gaps, bubble formation and mixing by gravity flow for treatment of water and wastewater
JP2002336890A (en) Method and device for treating organic effluent
JP4819841B2 (en) Membrane separator
KR20040064579A (en) Fluids fluxion process and plant for wastewater treatment
CN102491590A (en) Device and method for treating landfill leachate
CN203946939U (en) The ozone Oxidation Treatment device of waste water
KR101163968B1 (en) The supper micro-bubble bioreactor
KR101789528B1 (en) Waste water treating system

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150626

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160627

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170623

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180627

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190620

Year of fee payment: 8