KR101156604B1 - Ion cluster generating apparatus - Google Patents

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(주)수도프리미엄엔지니어링
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    • F24F8/30—Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by ionisation

Abstract

본 발명의 이온클러스터 발생장치는 방전소자로서 플레이트형 유전체를 사용하고, 플레이트형 유전체의 내부전극을 선형 패턴으로 하여, 플라즈마 방전을 위한 전기회로부의 출력전압에 따른 이온클러스터 발생량의 변화(출력전압 민감도)를 감소시키고, 내부전극의 위치를 유전체의 두께방향으로 중앙이 아닌 한 쪽으로 치우치게 하여, 방전개시전압이 낮추어지도록 함으로써, 전기회로부의 출력전압을 낮출 수 있어, 출력전압 민감도의 감소뿐 만 아니라, 전기회로부의 부담을 덜 수 있고, 또한 오존과 같은 플라즈마 방전에 따른 부산물의 발생을 줄일 수 있는 효과를 가진다. The ion cluster generator of the present invention uses a plate-like dielectric as a discharge element and changes the ion cluster generation amount according to the output voltage of the electrical circuit part for plasma discharge by using a plate-like dielectric as a linear pattern. ), The position of the internal electrode is biased toward the dielectric thickness direction other than the center, and the discharge initiation voltage is lowered, thereby lowering the output voltage of the electrical circuit portion, as well as reducing the output voltage sensitivity. It can reduce the burden of the electrical circuit portion, and also has the effect of reducing the generation of by-products due to plasma discharge such as ozone.

Description

이온클러스터 발생장치{ION CLUSTER GENERATING APPARATUS}ION CLUSTER GENERATING APPARATUS}

본 발명은 플라즈마 방전원리를 이용한 이온클러스터 발생장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 플레이트형 유전체를 방전부재로 사용하여 소형화가 가능한 이온클러스터 발생장치에 관한 것이다.
The present invention relates to an ion cluster generator using plasma discharge principle, and more particularly, to an ion cluster generator capable of miniaturization by using a plate-like dielectric as a discharge member.

일반적으로 플라즈마 방전소자는 유전체를 사이에 두고 그 내외부에 위치하는 고전압전극과 접지전극으로 구성되며, 고전압의 인가에 의해 플라즈마 방전을 하는 과정에서 다량의 산화기 및 수산화기 이온(O2, O2 -, O2 +, HO2 -, OH- 등)의 소위 이온클러스터(ION CLUSTER)가 다량 생성되어 산화 처리됨으로써 담배 냄새, 땀 냄새 등의 탈취효과와 더불어 바이러스, 곰팡이, 진드기 등을 살균하여 실내공기를 쾌적하게 정화하는 각종 공기정화장치에 사용되고 있으며, 이러한 플라즈마 방전소자는 유전체의 소재로서 유리, 석영, 세라믹, 필름 등을 사용함에 따라 크게 방전관형과 플레이트형으로 분류되고 있다.In general, a plasma discharge device is composed of a high voltage electrode and a ground electrode disposed inside and outside with a dielectric interposed therebetween, and a large amount of oxidizer and hydroxide ions (O 2 , O 2 −) during plasma discharge by applying a high voltage. , O 2 +, HO 2 - , OH - , and so on) of the so-called ion cluster (iON cLUSTER) a large amount is oxidized generated by being tobacco odor, smell of sweat, etc., with deodorizing viruses, fungi, mites and sterilizing the room air The plasma discharge device is classified into a discharge tube type and a plate type according to the use of glass, quartz, ceramic, film, etc. as a material of the dielectric material.

대표적으로 석영관을 사용하는 방전관형 방전소자는 고전압 발생을 위한 전기회로부가 별도로 구성됨에 따라 협소한 설치공간에 설치되는 것이 어렵고, 전압을 인가하는 와이어의 길이에 따라 출력저하 및 내구성의 문제가 초래될 수 있으며, 고전압부의 노출로 인한 안전사고의 위험이 있고, 고전압부의 노출을 방지하기 위하여 케이싱을 해야 하는 경우 추가 부품의 구성으로 인하여 경제성이 떨어지는 단점이 있어, 이에 본 출원인은 유전체를 사이에 두고 위치시킨 제 1 및 제 2 전극에 접속되어 고전압을 인가하여 플라즈마 방전을 발생시키는 전기회로부를 내부공간에 포함함에 따라, 방전소자와 고전압발생을 위한 전기회로부가 분리된 기존의 분리형에 비해 설치에 소요되는 공간을 최소화할 수 있고, 전극에 고전압을 인가하기 위한 와이어 등의 부재를 생략할 수 있어 내구성이 증대하고, 안전사고 및 출력저하를 방지하며, 고전압 노출을 위한 케이싱이 필요없어 제조비용이 낮아지는 회로부 삽입형 방전소자를 한국등록특허 제10-0913343호(등록일 2009.8.14)에 개시하고 있다.Typically, the discharge tube type discharge element using quartz tube is difficult to be installed in a narrow installation space because the electric circuit part for high voltage generation is separately formed, and the problem of output degradation and durability depending on the length of the wire to apply voltage. There is a risk of a safety accident due to the exposure of the high voltage portion, and if the casing is to be prevented to prevent the exposure of the high voltage portion, there is a disadvantage that the economical efficiency is reduced due to the configuration of additional components, so the applicant has a dielectric between As it includes an electric circuit part connected to the positioned first and second electrodes to generate a plasma discharge by applying a high voltage to the internal space, it is required to be installed as compared to a conventional separate type in which the discharge element and the electric circuit part for high voltage generation are separated. Space can be minimized, wire for applying high voltage to electrode The member can be omitted to increase the durability, to prevent safety accidents and output degradation, and to eliminate the need for a casing for high voltage exposure circuit insert-type discharge element that lowers the manufacturing cost Korean Patent No. 10-0913343 (Registration No. 2009.8. 14).

하지만, 이러한 방전관형 방전소자는 유리, 석영관 또는 세라믹 재질의 원통형 유전체를 사용하므로, 플레이트형 유전체를 사용하였을 때보다 방전소자의 크기가 크게 되어 소형화에 한계가 있는 단점이 있다.However, since the discharge tube type discharge element uses a cylindrical dielectric made of glass, quartz tube or ceramic, the size of the discharge element is larger than when the plate type dielectric is used.

한편 대표적으로 세라믹 판을 사용하는 플레이트형 방전소자는 고전압의 인가에 의해 세라믹 판과 메쉬망과의 사이에 있는 공기가 높은 전기장을 받게 되어 플라즈마방전이 일어남에 따라 이온클러스터를 방출되는 바, 세라믹 판에 스테인레스의 메쉬망을 감싸서 방전플레이트를 구성할 수 있다.On the other hand, a plate-type discharge device using a ceramic plate typically receives a high electric field between the ceramic plate and the mesh network by applying a high voltage, and thus emits ion clusters as plasma discharge occurs. The discharge plate can be constructed by wrapping a mesh of stainless steel in the.

그런데, 이러한 플레이트형 방전소자는 외부전극과 유전체의 밀착도를 일정하게 유지시키기가 힘들어 제품간의 이온클러스터의 발생량에 편차가 발생함에 따라 대량 생산에 문제가 있다.
However, such a plate-type discharge device is difficult to maintain a constant adhesion between the external electrode and the dielectric, there is a problem in mass production as the variation in the generation amount of the ion cluster between products.

본 발명은 이와 같은 문제를 해결하고자 안출된 것으로, 그 목적은 플레이트형 유전체를 방전부재로 사용하여 소형화가 가능하면서도, 플라즈마 방전을 위한 전기회로부의 출력전압에 따른 이온클러스터 발생량의 변화(출력전압 민감도)를 감소시키고, 방전개시전압을 낮춤에 따라 출력전압을 낮출 수 있으므로, 전기회로부의 부담을 줄이며, 오존과 같은 플라즈마 방전에 따른 부산물의 발생을 줄일 수 있는 이온클러스터 발생장치를 제공하는 것이다.
The present invention has been made to solve such a problem, and its purpose is to reduce the size by using a plate-type dielectric as a discharge member, while the amount of ion cluster generation according to the output voltage of the electrical circuit part for plasma discharge (output voltage sensitivity It is possible to reduce the output voltage according to the reduction and the discharge start voltage is reduced, thereby reducing the burden of the electrical circuit portion, and to provide an ion cluster generator that can reduce the generation of by-products due to plasma discharge, such as ozone.

본 발명의 일 실시 양태에 따르는 이온클러스터 발생장치는 내부전극이 구비된 세라믹 판과, 외부전극으로서 상기 세라믹 판의 외면에 감겨진 스테인레스 메쉬망과으로 구성된 방전플레이트와, 상기 스테인레스 메쉬망과 접촉되도록 설치된 접지용 판스프링과, 플라즈마 방전을 위해 상기 내부전극과 외부전극에 인가되는 고전압을 발생시키는 전기회로부가 들어있는 회로부 케이스를 포함한다.Ion cluster generating device according to one embodiment of the present invention is to contact the ceramic plate of the inner electrode is provided with, and as an external electrode composed of the stainless steel mesh net wound around the outer surface of the ceramic plate, the discharge plate, and the stainless steel mesh net And a circuit part case including an installed ground leaf spring and an electrical circuit part for generating a high voltage applied to the inner electrode and the outer electrode for plasma discharge.

회로부 케이스에는 홈이 형성된 홀더가 부착되며, 방전플레이트의 양단이 상기 홀더의 홈에 끼워지면, 접지용 판스프링과 스테인레스 메쉬망이 자동적으로 접촉될 수 있다.A holder having a groove is attached to the circuit part case, and when both ends of the discharge plate are inserted into the groove of the holder, the ground plate spring and the stainless steel mesh network may be automatically contacted.

방전플레이트의 스테인레스 메쉬망은 그 양단을 용접한 후, 상기 세라믹 판에 끼운 다음 압착하여 제작되며, 이때 스테인테스 메쉬망 양단의 용접부위는 회로부 케이스의 방향으로 향하도록 세라믹 판의 하면에 위치하는 것이 바람직하다.The stainless steel mesh net of the discharge plate is manufactured by welding both ends of the discharge plate and then inserting the same into the ceramic plate and then crimping the welding mesh at both ends of the stained mesh net so as to face the direction of the circuit case. desirable.

회로부 케이스의 고압 출력단은 세라믹 판에 노출된 노출전극을 통해 내부전극과 연결되며, 이때 세라믹 판의 내부전극은 선형 패턴을 가지는 도전성 재료를 이용하며, 이 선형 내부전극은 세라믹 판의 두께 방향으로 보았을 때, 회로부 케이스의 방향으로 치우치도록 세라믹 판의 하부에 위치하는 것이 바람직하다.
The high voltage output terminal of the circuit part case is connected to the internal electrode through an exposed electrode exposed to the ceramic plate, wherein the internal electrode of the ceramic plate is made of a conductive material having a linear pattern, and the linear internal electrode is viewed in the thickness direction of the ceramic plate. At this time, it is preferable to be located in the lower part of the ceramic plate to be biased in the direction of the circuit part case.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 방전소자로서 플레이트형 유전체를 사용하고, 플레이트형 유전체의 내부전극을 선형 패턴으로 하여, 플라즈마 방전을 위한 전기회로부의 출력전압에 따른 이온클러스터 발생량의 변화(출력전압 민감도)를 감소시키고, 내부전극의 위치를 유전체의 두께방향으로 중앙이 아닌 한 쪽으로 치우치게 하여, 방전개시전압이 낮추어지도록 함으로써, 전기회로부의 출력전압을 낮출 수 있어, 출력전압 민감도의 감소뿐 만 아니라, 전기회로부의 부담을 덜 수 있고, 또한 오존과 같은 플라즈마 방전에 따른 부산물의 발생을 줄일 수 있는 효과를 가진다.
According to an embodiment of the present invention, a plate-type dielectric is used as the discharge element, and the internal electrode of the plate-type dielectric is formed in a linear pattern, and the amount of ion cluster generation according to the output voltage of the electric circuit part for plasma discharge (output voltage Sensitivity) and the position of the internal electrodes are shifted to the thickness of the dielectric in the non-center direction so that the discharge start voltage is lowered, thereby lowering the output voltage of the electrical circuit portion, as well as reducing the output voltage sensitivity. In addition, the burden of the electrical circuit part can be reduced, and also, it is possible to reduce the generation of by-products due to plasma discharge such as ozone.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 이온클러스터 발생장치를 나타내는 개략도이고,
도 2는 도 1 발생장치의 정면도이고,
도 3은 도 2 발생장치의 A-A선을 따라 취하여 방전플레이트의 하부면을 나타내는 단면도이고,
도 4는 도 3 방전플레이트의 세라믹 판 내부의 판형 내부전극을 나타내는 개략도이고,
도 5는 도 3 방전플레이트의 세라믹 판 내부의 선형 내부전극을 나타내는 개략도로서, 원부분은 그 내부 단면도이고,
도 6은 판형 내부전극과 선형 내부전극에 있어서의 출력전압 대 이온클러스터의 발생량을 나타내는 그래프이고,
도 7은 내부 전극의 위치에 따른 출력전압 대 이온클러스터의 발생량을 나타내는 그래프이다.1 is a schematic view showing an ion cluster generator according to an embodiment of the present invention,
Figure 2 is a front view of the generator of Figure 1,
3 is a cross-sectional view showing the lower surface of the discharge plate taken along the line AA of the generator 2,
4 is a schematic view showing a plate-shaped internal electrode inside the ceramic plate of the discharge plate of FIG.
5 is a schematic view showing a linear internal electrode inside a ceramic plate of the discharge plate of FIG.
6 is a graph showing the output voltage vs. the amount of ion clusters generated in the plate-shaped internal electrodes and the linear internal electrodes.
7 is a graph showing output voltage vs. generation amount of ion cluster according to the position of an internal electrode.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 하기에서 본 발명을 설명함에 있어서, 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략하였다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description of the present invention, detailed descriptions of well-known functions or configurations are omitted when it is determined that they may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 이온클러스터 발생장치를 나타내는 개략도이고, 도 2는 도 1 발생장치의 정면도이고, 도 3은 도 1 발생장치의 A-A선을 따라 취한 단면도이고, 도 4는 도 1 발생장치의 B-B선을 따라 취하여 방전플레이트의 구성을 나타내는 단면도이다.1 is a schematic view showing an ion cluster generator according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a front view of the generator 1, Figure 3 is a cross-sectional view taken along the line AA of the generator 1, Figure 4 1 is a cross-sectional view showing the configuration of a discharge plate along the line BB of the generator.

도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 이온클러스터 발생장치는 플라즈마 방전을 위한 전기회로부(도시하지 않음)가 들어있는 회로부 케이스(10)의 일면의 양측에는 방전플레이트(50)의 양단이 삽입되어 장착되도록 "ㄷ"자 형상의 홈(22)이 형성된 홀더(20)가 배치된다. 도 2에서 미설명 부호 (110)과 (100)의 각각은 전원에 연결되면 전기회로부에 전원을 공급하는 입력전원 단자와, 전기회로부로부터 교류 고전압이 출력되는 전기회로부의 출력단이다.1 to 4, the ion cluster generator according to an embodiment of the present invention, the discharge plate on both sides of one surface of the circuit portion case 10 containing the electric circuit portion (not shown) for plasma discharge Holder 20 is formed with a groove (22) of the "C" shape is arranged so that both ends of the 50 is inserted. In FIG. 2, each of reference numerals 110 and 100 is an input power terminal for supplying power to an electric circuit part when connected to a power source, and an output terminal of an electric circuit part from which an AC high voltage is output from the electric circuit part.

방전플레이트(50)는 유전체로서 세라믹 판(40)으로 구성되며 외부 전극으로서 스테인레스 메쉬망(30)이 감겨져서 접지용 판스프링(60)에 의해 회로부 케이스(10)내의 전기회로부의 접지와 연결되어 접지전극으로 사용된다.The discharge plate 50 is composed of a ceramic plate 40 as a dielectric material, and a stainless mesh net 30 is wound as an external electrode, and is connected to the ground of the electric circuit part in the circuit part case 10 by a ground plate spring 60. Used as ground electrode.

도 2로 부터 잘 알 수 있는 바와 같이, 접지용 판스프링(60)은 방전플레이트(50)가 홀더(20)의 홈(22)에 끼워지면 스테인레스 메쉬망(30)과 자동적으로 접촉되도록 회로부 케이스(10)에 부착될 수 있다.As can be seen from Figure 2, the grounding leaf spring 60 is a circuit part case so that the discharge plate 50 is automatically contacted with the stainless mesh net 30 when fitted to the groove 22 of the holder 20 10 may be attached.

도 3을 참조하면, 방전플레이트(50)는 스테인레스 메쉬망(30)의 양단을 사전에 미리 용접한 후, 세라믹 판(40)에 끼운 다음 압착하여 제작한다. 이때 스테인테스 메쉬망(30) 양단의 용접부위(70)는 세라믹 판(40)의 하면, 즉 회로부 케이스(10)를 향하도록 하는 것이 바람직하다. 세라믹 판(40)의 하면에는 회로부 케이스(10)의 고압 출력단(100)과 납땜에 의해 접합되도록 노출전극(90)이 노출되어 있고, 이러한 노출전극은 세라믹 판(40)의 내부에 있는 내부전극과 연결되어 있으며, 이러한 세라믹 판(40)의 내부전극으로서, 도 4에 도시된 바와 같은 일반적인 판형 내부전극(120)이 사용될 수 있다.Referring to FIG. 3, the discharge plate 50 is welded to both ends of the stainless steel mesh net 30 in advance, and then inserted into the ceramic plate 40 and then pressed. At this time, it is preferable that the welding portions 70 at both ends of the staines mesh net 30 face the lower surface of the ceramic plate 40, that is, the circuit part case 10. An exposed electrode 90 is exposed on a lower surface of the ceramic plate 40 so as to be bonded to the high voltage output terminal 100 of the circuit part case 10 by soldering, and the exposed electrode is an internal electrode inside the ceramic plate 40. It is connected to the, as the internal electrode of the ceramic plate 40, a general plate-shaped internal electrode 120 as shown in Figure 4 may be used.

이상과 같은 구성에 의해 본 발명의 이온클러스터 발생장치는 입력전원 단자(110)에 전원을 연결하면, 전기회로부의 출력단(100)을 통해 교류 고전압이 출력되어 세라믹 판(40)의 판형 내부전극(120)에 고전압이 인가된다. 스테인레스 메쉬망(30)은 접지용 판스프링(60)과 전기적으로 접지되어 있으므로, 스테인레스 메쉬망(30)과 세라믹 판(40)사이에 있는 공기는 높은 전기장을 받게 된다. 이 전기장의 세기가 일정한 값, 공기의 경우 약 30 kv/cm를 넘게 되면, 공기는 전리를 시작하여 소위 플라즈마 방전이 일어나게 된다. 이 교류 플라즈마 방전에 의해 +,-의 극성을 띤 이온클러스터가 방출되게 된다.When the ion cluster generator of the present invention is connected to the input power terminal 110, the AC high voltage is output through the output terminal 100 of the electric circuit unit. A high voltage is applied to 120. Since the stainless mesh net 30 is electrically grounded with the ground plate spring 60, the air between the stainless mesh net 30 and the ceramic plate 40 is subjected to a high electric field. When the intensity of this electric field exceeds a constant value, about 30 kv / cm in the case of air, the air starts to ionize and so-called plasma discharge occurs. By this alternating plasma discharge, ion clusters having a polarity of + and-are released.

그런데, 스테인레스 메쉬망(30)과 세라믹 판(40)과의 접촉이 균일하다면 동일한 출력전압에 의한 이온클러스터의 발생량은 동일하다고 할 수 있다. 하지만, 실제로는 아무리 스테인레스 메쉬망(30)을 세라믹 판(40)에 잘 압착시킨다고 하더라도 접촉이 가까운 곳과 먼 곳과의 편차가 발생하기 때문에 동일한 출력전압을 인가하더라도 제품간 이온클러스터 발생량에 불가피하게 편차가 발생하게 된다.By the way, if the contact between the stainless mesh net 30 and the ceramic plate 40 is uniform, the generation amount of the ion cluster by the same output voltage can be said to be the same. However, in reality, even if the stainless mesh net 30 is pressed well to the ceramic plate 40, since the contact is far from the near and far place, even if the same output voltage is applied, it is inevitably generated in the amount of ion clusters between products. Deviation will occur.

이에 따라 본 발명에 있어서, 세라믹 판(40)의 내부전극으로서, 판형 내부전극(120) 대신에 도 5에 도시된 바와 같은 선형의 내부전극(80)을 사용한다. 이러한 선형 내부전극(80)의 패턴은 텅스텐 페이스트를 실크스크린 인쇄하여 만들 수 있다. 또한 본 발명에 있어서, 선형 내부전극(80)은 세라믹 판(40)의 두께 방향으로 보았을 때, 세라믹 판(40)의 하부에 위치하여, 즉 회로부 케이스(10) 방향으로 치우치게 제작하는 것이 바람직하다.Accordingly, in the present invention, a linear internal electrode 80 as shown in FIG. 5 is used instead of the plate-shaped internal electrode 120 as the internal electrode of the ceramic plate 40. The pattern of the linear internal electrode 80 may be made by silkscreen printing tungsten paste. In addition, in the present invention, when viewed in the thickness direction of the ceramic plate 40, the linear internal electrode 80 is preferably located below the ceramic plate 40, that is, manufactured to be biased toward the circuit part case 10. .

이하에서는 내부전극으로서 패턴이 형성된 선형의 내부전극(80)으로 하고, 두께 방향으로 보았을 때, 세라믹 판(40)의 가운데에 위치하지 않고 세라믹 판(40)의 하부쪽으로 치우치게 제작하는 이유에 대하여, 판형 내부전극과 선형 내부전극에 있어서의 출력전압 대 이온클러스터의 발생량을 나타내는 그래프인 도 6과, 내부 전극의 위치에 따른 출력전압 대 이온클러스터의 발생량을 나타내는 그래프인 도 7을 참조하여 설명한다.In the following description, a linear internal electrode 80 having a pattern formed as an internal electrode is used, and when viewed in the thickness direction, it is not positioned in the center of the ceramic plate 40 but is biased toward the lower side of the ceramic plate 40. A description will be given with reference to FIG. 6, which is a graph showing the output voltage vs. the amount of ion clusters generated in the plate-shaped internal electrode and the linear internal electrode, and FIG.

일반적으로, 동일한 크기의 출력전압일 때, 판형 내부전극(120)의 경우, 스테인레스 메쉬망(30)과 세라믹 판(40)사이의 공기층이 받는 전기장의 세기는 일정하지만, 선형 내부전극(80)의 경우에는 전극의 패턴에 따라 전기장의 세기가 다르기 때문에, 전체적인 평균 전기장의 세기는 판형 내부전극(120)의 경우보다 작으므로 발생하는 이온클러스터의 양이 작게 된다.In general, when the output voltage of the same magnitude, in the case of the plate-shaped internal electrode 120, the strength of the electric field received by the air layer between the stainless mesh network 30 and the ceramic plate 40 is constant, but the linear internal electrode 80 In this case, since the intensity of the electric field varies depending on the pattern of the electrode, the overall average electric field intensity is smaller than that of the plate-shaped internal electrode 120, so that the amount of ion clusters generated is small.

그렇지만, 실제의 경우에는 스테인레스 메쉬망(30)과 세라믹 판(40)과의 접촉이 일정할 수 없으므로 제품간에 발생하는 이온클러스터의 량에 편차가 있게 된다.However, in actual cases, since the contact between the stainless mesh net 30 and the ceramic plate 40 cannot be constant, there is a variation in the amount of ion clusters generated between products.

그렇다고 하더라도 도 6으로부터 알 수 있는 바와 같이 본 발명의 이온클러스터 발생장치가 선형 내부전극을 사용하게 되면, 이온클러스터 발생량의 제품간 편차가 판형 내부전극을 사용하였을 경우 보다 작게 되므로 제품간의 성능 편차를 줄이게 된다.Nevertheless, as can be seen from FIG. 6, when the ion cluster generator of the present invention uses a linear internal electrode, the deviation between the products of the ion cluster generation amount is smaller than when the plate internal electrode is used, thereby reducing the performance variation between the products. do.

더구나, 출력전압을 증가시키면 이온클러스터의 발생량도 증가하지만, 플라즈마 방전의 부산물인 오존의 발생도 증가하게 되므로, 출력전압의 크기에는 제한이 따르며, 통상 방전개시전압보다 약간 높은 값으로 출력전압을 사용하게 되는 것이 일반적이지만, 도 7로부터 알 수 있는 바와 같이 본 발명의 이온클러스터 발생장치는 세라믹 판(40)의 두께 방향으로 한쪽으로 치우치게 내부전극을 배치함으로써, 치우친 방향으로 내부전극과 스테인레스 메쉬망 사이의 간격이 좁아지므로, 전기장의 세기가 크게 되어 치우친 면에서 방전이 먼저 일어나게 된다. 즉 방전개시전압이 중앙에 내부전극을 배치한 경우 보다 낮아지게 된다. 이에 따라 출력전압을 낮출 수 있으므로 회로의 부담을 덜 수 있게 되며, 또한 세라믹 판(40)의 하부 방향, 즉 회로부 케이스(10)의 방향으로 내부전극을 배치함에 따라 외부로 부터의 접촉에 따른 플라즈마 방전의 불안정성을 감소시키는 효과도 가지게 된다.Moreover, increasing the output voltage also increases the amount of ion clusters generated, but also increases the generation of ozone, a byproduct of plasma discharge. Therefore, the magnitude of the output voltage is limited, and the output voltage is generally used slightly higher than the discharge start voltage. As is apparent from FIG. 7, in the ion cluster generator of the present invention, an inner electrode is disposed to be biased to one side in the thickness direction of the ceramic plate 40, thereby between the inner electrode and the stainless mesh net in the biased direction. Since the spacing becomes narrower, the intensity of the electric field is increased, so that discharge occurs first in a biased surface. That is, the discharge start voltage is lower than when the internal electrode is disposed in the center. Accordingly, the output voltage can be lowered, thereby reducing the burden on the circuit, and also by placing the internal electrode in the lower direction of the ceramic plate 40, that is, in the direction of the circuit part case 10, the plasma due to contact from the outside. It also has the effect of reducing the instability of the discharge.

이와 같이, 본 발명의 이온클러스터 발생장치는 선형의 내부전극을 사용하고, 세라믹 판의 두께 방향으로 한쪽으로 치우치게 내부전극을 배치함으로써 판형의 내부전극 및 중앙에 배치된 경우에 비해서 방전개시전압 부근에서 출력전압의 변화에 따른 이온클러스터 발생량의 변화, 즉 출력전압의 민감도가 작게 되므로, 세라믹 판과 스테인레스 메쉬망의 불완전 접촉에 따른 제품간의 성능편차를 줄일 수 있게 되므로, 품질향상에 도움을 주게 된다.As described above, the ion cluster generator according to the present invention uses a linear inner electrode and arranges the inner electrode to one side in the thickness direction of the ceramic plate, so that it is near the discharge start voltage as compared with the case where the inner cluster and the center are arranged in the plate-shaped inner electrode. Since the change of the ion cluster generation amount, that is, the sensitivity of the output voltage is reduced according to the change of the output voltage, it is possible to reduce the performance deviation between the products due to incomplete contact of the ceramic plate and the stainless steel mesh network, thereby improving quality.

이상 설명한 바와 같은 본 발명의 이온클러스터 발생장치는 본 명세서에 개시된 기술적 요소가 최광의 범위를 갖는 것으로 해석되어야 하는 것으로, 당업자라면 각 구성요소의 재질, 크기 등을 적용 분야에 따라 용이하게 변경할 수 있다. 또한 개시된 실시형태들을 조합/치환하여 적시되지 않은 구조를 채택할 수 있으나, 이 역시 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 것이다. 이외에도 당업자는 본 명세서에 기초하여 개시된 실시형태를 용이하게 변경 또는 변형할 수 있으며, 이러한 변경 또는 변형도 본 발명의 권리범위에 속함은 명백하다.
As described above, the ion cluster generator of the present invention should be interpreted that the technical elements disclosed in the present specification have the widest range, and those skilled in the art can easily change the material, size, etc. of each component according to the application field. . It is also possible to adopt a structure not shown by combining / substituting the disclosed embodiments, which again does not depart from the scope of the invention. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications may be readily made without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

10 : 회로부 케이스 20 : 홀더
30 : 스테인레스 메쉬망 40 : 세라믹 판
50 : 방전플레이트 60 : 접지용 스프링
70 : 용접부위 80 : 선형 내부전극
90 : 노출전극 100 : 출력단
110 : 입력전원단자 120 : 판형 내부전극
10: circuit part case 20: holder
30: stainless steel mesh 40: ceramic plate
50: discharge plate 60: grounding spring
70: welding part 80: linear internal electrode
90: exposed electrode 100: output terminal
110: input power terminal 120: plate-shaped internal electrode

Claims (6)

고전압이 인가되는 내부전극이 구비된 세라믹 판과, 외부전극으로서 상기 세라믹 판의 외면에 감겨진 스테인레스 메쉬망으로 구성된 방전플레이트와, 상기 스테인레스 메쉬망과 접촉되도록 설치된 접지용 판스프링과, 플라즈마 방전을 위해 상기 내부전극과 외부전극에 인가되는 고전압을 발생시키는 전기회로부가 들어있는 회로부 케이스를 포함하되,
상기 세라믹 판의 내부전극은 선형 패턴을 가지는 도전성 재료를 이용하며,
상기 선형 내부전극은 상기 세라믹 판의 두께 방향으로 보았을 때, 상기 회로부 케이스의 방향으로 치우치도록 상기 세라믹 판의 하부에 위치하는
이온클러스터 발생장치.
A ceramic plate having an internal electrode to which a high voltage is applied, a discharge plate composed of a stainless mesh net wound on the outer surface of the ceramic plate as an external electrode, a ground plate spring installed in contact with the stainless mesh net, and plasma discharge To include a circuit portion case containing an electrical circuit portion for generating a high voltage applied to the internal electrode and the external electrode,
The internal electrode of the ceramic plate uses a conductive material having a linear pattern,
The linear internal electrode is positioned below the ceramic plate to be oriented in the direction of the circuit part case when viewed in the thickness direction of the ceramic plate.
Ion cluster generator.
제 1 항에 있어서,
상기 회로부 케이스에는 홈이 형성된 홀더가 배치되며,
상기 방전플레이트의 양단이 상기 홀더의 홈에 끼워지면, 상기 접지용 판스프링과 스테인레스 메쉬망이 자동적으로 접촉되는
이온클러스터 발생장치.
The method of claim 1,
A grooved holder is disposed in the circuit part case.
When both ends of the discharge plate is inserted into the groove of the holder, the ground plate spring and the stainless mesh net is automatically contacted
Ion cluster generator.
제 1 항에 있어서,
상기 방전플레이트의 스테인레스 메쉬망은 그 양단을 용접한 후, 상기 세라믹 판에 끼운 다음 압착하여 제작하며, 상기 스테인레스 메쉬망 양단의 용접부위는 상기 회로부 케이스의 방향으로 향하도록 상기 세라믹 판의 하면에 위치하는
이온클러스터 발생장치.
The method of claim 1,
The stainless steel mesh net of the discharge plate is welded at both ends, and then inserted into the ceramic plate and pressed. The welding part of both ends of the stainless steel mesh net is located on the lower surface of the ceramic plate to face the circuit part case. doing
Ion cluster generator.
제 1 항에 있어서,
상기 회로부 케이스의 고압 출력단은 상기 세라믹 판에 노출된 노출전극을 통해 상기 내부전극과 연결되는
이온클러스터 발생장치.
The method of claim 1,
The high voltage output terminal of the circuit part case is connected to the internal electrode through an exposed electrode exposed on the ceramic plate.
Ion cluster generator.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101404402B1 (en) * 2013-11-13 2014-06-10 (주)구츠 High-capacity water purifying apparatus with function air sterilizing and cleaning
KR20200119056A (en) 2019-04-09 2020-10-19 주식회사 아이지티 Plasma Reactor of Dielectric Barrier Discharge and Gas Treatment Equipment

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003036955A (en) 2001-05-15 2003-02-07 Ngk Spark Plug Co Ltd Ion-generator
KR200360642Y1 (en) 2004-05-25 2004-09-07 윤임식 Negative ion generator
JP2006302573A (en) 2005-04-18 2006-11-02 Sharp Corp Ion generating element and ion generating device using this
KR20080053785A (en) * 2006-12-11 2008-06-16 삼성전자주식회사 An ion making device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003036955A (en) 2001-05-15 2003-02-07 Ngk Spark Plug Co Ltd Ion-generator
KR200360642Y1 (en) 2004-05-25 2004-09-07 윤임식 Negative ion generator
JP2006302573A (en) 2005-04-18 2006-11-02 Sharp Corp Ion generating element and ion generating device using this
KR20080053785A (en) * 2006-12-11 2008-06-16 삼성전자주식회사 An ion making device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101404402B1 (en) * 2013-11-13 2014-06-10 (주)구츠 High-capacity water purifying apparatus with function air sterilizing and cleaning
WO2015072595A1 (en) * 2013-11-13 2015-05-21 (주)구츠 High-capacity potable water supply device having air sterilization and purification function
KR20200119056A (en) 2019-04-09 2020-10-19 주식회사 아이지티 Plasma Reactor of Dielectric Barrier Discharge and Gas Treatment Equipment

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