KR101155378B1 - 포토마스킹 미러 오염방지 시스템 - Google Patents

포토마스킹 미러 오염방지 시스템 Download PDF

Info

Publication number
KR101155378B1
KR101155378B1 KR1020110122041A KR20110122041A KR101155378B1 KR 101155378 B1 KR101155378 B1 KR 101155378B1 KR 1020110122041 A KR1020110122041 A KR 1020110122041A KR 20110122041 A KR20110122041 A KR 20110122041A KR 101155378 B1 KR101155378 B1 KR 101155378B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
air
plate
mirror
guide
nozzle
Prior art date
Application number
KR1020110122041A
Other languages
English (en)
Inventor
박동일
Original Assignee
주식회사 하나지엔씨
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 하나지엔씨 filed Critical 주식회사 하나지엔씨
Priority to KR1020110122041A priority Critical patent/KR101155378B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101155378B1 publication Critical patent/KR101155378B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041—Cleaning
    • H01L21/02057—Cleaning during device manufacture
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
    • G03F7/70583—Speckle reduction, e.g. coherence control or amplitude/wavefront splitting
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70916—Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70933—Purge, e.g. exchanging fluid or gas to remove pollutants
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
    • H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
    • H01L21/0274—Photolithographic processes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 발명은 포토마스킹 미러 오염방지 시스템에 관한 것으로서, 마스크실; 상기 마스크실의 일측에 배치되며, 내부에 미러판과 반사판이 상호 이격된 위치에서 대면되는 노광기; 상기 마스크실과 상기 노광기를 연결하여 상기 마스크실과 상기 노광기 간의 공기를 순환시키면서 상기 공기의 온도 및 습도를 미리 결정된 값으로 유지시키는 공조용 항온/항습 장치; 상기 노광기에 결합되며, 상기 공조용 항온/항습 장치로부터 상기 노광기 내로 유입되는 공기를 상기 미러판으로 가이드하면서 분사하여 상기 미러판의 오염을 방지시키는 미러판용 공기 분사노즐; 및 상기 노광기에 결합되며, 상기 공조용 항온/항습 장치로부터 상기 노광기 내로 유입되는 공기를 상기 반사판으로 가이드하면서 분사하여 상기 반사판의 오염을 방지시키는 반사판용 공기 분사노즐을 포함한다.

Description

포토마스킹 미러 오염방지 시스템{CONTAMINATION PREVENTION SYSTEM FOR PHOTO-MASKING MIRROR}
본 발명은, 포토마스킹 미러 오염방지 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 콤팩트하면서도 효율적인 구조를 가짐으로써 수입에만 의존하여 왔던 포터마스킹 미러 오염방지 시스템을 국산화시킬 수 있어 수입 대체에 따른 현격한 비용 절감의 효과를 제공할 수 있을 뿐만 아니라 수출 증대에도 기여할 수 있으며, 특히 노광기 내의 미러판 또는 반사판이 종래처럼 쉽게 오염되지 않도록 함으로써 청소 작업을 위해 장비의 가동을 중단시키는 데에 따른 생산성 차질 현상을 효과적으로 해결할 수 있는 포토마스킹 미러 오염방지 시스템에 관한 것이다.
최근들어 전자 및 반도체 산업과 IT 산업 시대로 전환되면서 고도의 경제 성장과 더불어 최첨단 산업의 급속한 신장에 따라 클린룸(clean room) 등의 청정 산업 분야도 빠른 신장 추세를 보이고 있다.
특히, 근래에 와서 공기청정과 관련하여 협회, 학회 및 연구소 등에서는 실내 환경 오염물질의 제거에 대한 기초 및 응용기술 발전의 필요성을 강조하고 있으며, 이를 위해 실내 오염물질에 대한 환경기준이 점점 구체화되고 또한 강화되어 가고 있다.
그러나 첨단산업인 반도체 산업과 LCD의 생산라인에서 발생되는 오염물질의 제거 및 초청정 관련기술이 부족한 것이 현재의 상태이다. 즉 특수 초청정 기술은 설계부터 시공, 제작 등 청정실 관련 기술을 거의 해외업체가 보유하고 있으며, 일부 청정실 관련 기술만을 국내 업체들이 소유하고 있는 실정이다.
이처럼 청정 기술은 반도체 기술과 같은 최첨단 산업과 밀접한 관계를 형성하고 있으며, LCD 산업과 반도체 생산라인 등 청정실의 수요가 계속 확대되고 있는 것이 현재 추세임에도 불구하고, LCD 및 반도체 생산라인 핵심 설비인 포토마스킹과 관련하여 초청정 및 정밀온도제어 시스템은 선진국 기술 및 설비를 전량 수입에 의존하고 있으며, 포토마스킹 장치관련 시스템을 한 해 20기 이상을 수입하고 있는 실정이다.
또한 현재 문제가 되고 있는 것은 포토마스킹 기기의 주요부인 미러(mirror)의 오염, 예컨대 미러판과 반사판 등의 오염으로 인해 생산 작업을 중단하고 이를 보수하는 것이 현실이다.
이로 인해 발생하는 반도체 생산량의 감소, 운전정지 후 설비시스템의 재가동 등 여러 분야에서 바람직하지 않은 결과를 초래하고 있다. 따라서 이를 개선하기 위하여 LCD 및 반도체 생산에 필수인 포토마스킹 미러의 오염방지 시스템을 개발하여 이를 국산화할 필요성이 절실히 대두되고 있다.
도 1은 종래기술에 따른 포토마스킹 시스템의 개략도이다.
이 도면을 참조하면, 마스크실(10)의 일측에 노광기(20)가 배치되어 있다. 노광기(20)에는 미러판(21)과 반사판(22)이 상호 이격된 위치에서 대면하고 있다.
그리고 마스크실(10)과 노광기(20)의 일측에 공기청정기(30)가 배치되어 마스크실(10)과 노광기(20)로의 공기를 순환시키고 있다.
그런데, 도 1과 같은 극히 단순한 구조의 시스템에 있어서는 노광기(20) 내의 반사판(22)을 비롯하여 미러판(21)이 쉽게 오염될 수 있기 때문에 제품의 불량 요인을 초래하는 문제점 있다.
만약, 미러판(21)과 반사판(22)이 오염되면 오염된 부분의 청소 작업을 진행해야 하는데, 청소 작업 중에는 장비의 가동을 중단시켜야만 하기 때문에 생산성이 감소될 수밖에 없다. 따라서 이러한 사항들을 전부 고려한 새로운 시스템 개발이 절실히 요구된다.
대한민국특허청 출원번호 제10-2004-0117058호 대한민국특허청 출원번호 제10-2000-0000034호 대한민국특허청 출원번호 제10-2002-0067737호 대한민국특허청 출원번호 제10-1999-0019958호
본 발명의 목적은, 콤팩트하면서도 효율적인 구조를 가짐으로써 수입에만 의존하여 왔던 포터마스킹 미러 오염방지 시스템을 국산화시킬 수 있어 수입 대체에 따른 현격한 비용 절감의 효과를 제공할 수 있을 뿐만 아니라 수출 증대에도 기여할 수 있으며, 특히 노광기 내의 미러판 또는 반사판이 종래처럼 쉽게 오염되지 않도록 함으로써 청소 작업을 위해 장비의 가동을 중단시키는 데에 따른 생산성 차질 현상을 효과적으로 해결할 수 있는 포토마스킹 미러 오염방지 시스템을 제공하는 것이다.
상기 목적은, 마스크실; 상기 마스크실의 일측에 배치되며, 내부에 미러판과 반사판이 상호 이격된 위치에서 대면되는 노광기; 상기 마스크실과 상기 노광기를 연결하여 상기 마스크실과 상기 노광기 간의 공기를 순환시키면서 상기 공기의 온도 및 습도를 미리 결정된 값으로 유지시키는 공조용 항온/항습 장치; 상기 노광기에 결합되며, 상기 공조용 항온/항습 장치로부터 상기 노광기 내로 유입되는 공기를 상기 미러판으로 가이드하면서 분사하여 상기 미러판의 오염을 방지시키는 미러판용 공기 분사노즐; 및 상기 노광기에 결합되며, 상기 공조용 항온/항습 장치로부터 상기 노광기 내로 유입되는 공기를 상기 반사판으로 가이드하면서 분사하여 상기 반사판의 오염을 방지시키는 반사판용 공기 분사노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스킹 미러 오염방지 시스템에 의해 달성된다.
상기 미러판용 공기 분사노즐은, 일단부에 제1 공기유입부가 형성되고 타단부에 제1 공기분사부가 형성되는 제1 노즐 케이싱; 및 상기 제1 노즐 케이싱 내에 마련되어 상기 제1 공기유입부에서 상기 제1 공기분사부로 향하는 공기를 흐름을 가이드하는 제1 가이드를 포함할 수 있다.
상기 제1 가이드는 상기 제1 노즐 케이싱 내에서 상호 이격되게 나란하게 배치되되 길이가 서로 다른 다수의 제1 가이드 플레이트일 수 있다.
상기 제1 가이드 플레이트들 중에서 길이가 짧은 숏 가이드 플레이트는 그 양단부가 상기 제1 노즐 케이싱의 내벽과 이격되어 상기 제1 노즐 케이싱의 내벽과의 사이에서 상기 공기의 흐름을 형성하며, 상기 제1 가이드 플레이트들 중에서 길이가 긴 롱 가이드 플레이트는 그 양단부가 상기 제1 노즐 케이싱의 내벽에 접촉되되 그 중앙 영역에 상기 공기의 흐름을 형성하는 통공이 형성될 수 있다.
상기 숏 가이드 플레이트와 상기 롱 가이드 플레이트는 상호간 교번적으로 배열될 수 있다.
상기 반사판용 공기 분사노즐은, 일단부에 제2 공기유입부가 형성되고 타단부에 제2 공기분사부가 형성되는 제2 노즐 케이싱; 및 상기 제2 노즐 케이싱 내에 마련되어 상기 제2 공기유입부에서 상기 제2 공기분사부로 향하는 공기를 흐름을 가이드하는 제2 가이드를 포함할 수 있다.
상기 제2 가이드는 상기 제2 노즐 케이싱 내에서 상호 이격되게 나란하게 배치되되 경사 배치되는 다수의 제2 가이드 플레이트일 수 있다.
상기 제2 가이드 플레이트들의 길이는 모두 동일할 수 있으며, 상기 제2 가이드 플레이트들은 일단부와 타단부가 순차적으로 상기 제2 노즐 케이싱의 내벽에 결합됨으로써 상기 공기의 흐름을 지그재그(zigzag)식으로 형성할 수 있다.
상기 공조용 항온/항습 장치는, 외부로부터 단열되는 유닛 케이싱; 상기 마스크실과 상기 노광기로 순환되는 공기의 유동방향에 대하여 상기 유닛 케이싱의 앞쪽에 배치되는 콘덴싱 유닛(condensing unit); 상기 콘덴싱 유닛의 일측에 배치되는 제1 댐퍼(O.A damper); 상기 제1 댐퍼의 일측에 배치되는 증발기(evaporator); 상기 증발기와 연결되는 히터(heater); 상기 히터의 일측에 배치되는 순환팬(return fan); 상기 순환팬의 일측에 배치되는 광촉매필터(chemical filter); 상기 광촉매필터의 일측에 배치되는 급기팬(supply fan); 및 상기 급기팬의 배출부 영역에 배치되어 공기 청정도를 유지시키는 ULPA 필터(filter)를 포함할 수 있다.
상기 공조용 항온/항습 장치는, 상기 콘덴싱 유닛에 연결되는 고/저압 케이지; 상기 급기팬과 상기 ULPA 필터 사이에 배치되는 디지털 차압계; 상기 광촉매필터의 전단부에 배치되는 UV 램프; 상기 유닛 케이싱의 하부를 이루는 베이스에 마련되는 드레인(drain); 상기 제1 댐퍼의 일측에 연결되는 제2 댐퍼(B.P damper); 및 상기 유닛 케이싱의 외부에 결합되어 각종 제어를 담당하는 전기 패널(electric panel)을 더 포함할 수 있다.
상기 노광기 내에 마련되어 상기 노광기 내의 온도를 감지하는 온도센서; 상기 공조용 항온/항습 장치에 마련되는 노광부 양압 조절댐퍼; 상기 노광기 내의 제1 및 제2 팬 유닛과 상기 노광부 양압 조절댐퍼를 각각 연결하는 다수의 제1 공기라인; 및 상기 미러판용 공기 분사노즐 및 상기 반사판용 공기 분사노즐과 상기 공조용 항온/항습 장치를 연결하는 다수의 제2 공기라인을 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면, 콤팩트하면서도 효율적인 구조를 가짐으로써 수입에만 의존하여 왔던 포터마스킹 미러 오염방지 시스템을 국산화시킬 수 있어 수입 대체에 따른 현격한 비용 절감의 효과를 제공할 수 있을 뿐만 아니라 수출 증대에도 기여할 수 있으며, 특히 노광기 내의 미러판 또는 반사판이 종래처럼 쉽게 오염되지 않도록 함으로써 청소 작업을 위해 장비의 가동을 중단시키는 데에 따른 생산성 차질 현상을 효과적으로 해결할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 종래기술에 따른 포토마스킹 시스템의 개략도.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 포토마스킹 미러 오염방지 시스템의 전체 구성도.
도 3은 공조용 항온/항습 장치의 상세도.
도 4는 도 2에 도시된 미러판용 공기 분사노즐의 내부 구조도.
도 5는 도 2에 도시된 반사판용 공기 분사노즐의 내부 구조도.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 포토마스킹 미러 오염방지 시스템의 전체 구성도, 도 3은 공조용 항온/항습 장치의 상세도, 도 4는 도 2에 도시된 미러판용 공기 분사노즐의 내부 구조도, 그리고 도 5는 도 2에 도시된 반사판용 공기 분사노즐의 내부 구조도이다.
본 실시예에 따른 포토마스킹 미러 오염방지 시스템은, 마스크실(110), 마스크실(110)의 일측에 배치되는 노광기(120), 공조용 항온/항습 장치(130), 미러판용 공기 분사노즐(170), 그리고 반사판용 공기 분사노즐(180)을 포함할 수 있다.
마스크실(110)과 달리 노광기(120) 내에는 미러판(121)과 반사판(122)이 상호 이격된 위치에서 대면된다. 미러판(121)과 반사판(122)의 하부 영역에는 제1 및 제2 팬 유닛(123a, 123b)이 각각 배치된다.
그리고 노광기(120) 내에는 노광기(120) 내의 온도를 감지하는 온도센서(124)가 마련된다.
마스크실(110)과 노광기(120) 사이에는 디지털 차압계(115)가 마련되어 이들 간의 압력을 수시로 감지할 수 있다.
반사판용 공기 분사노즐(180)은 마스크실(110)과 노광기(120)를 연결하여 마스크실(110)과 노광기(120) 간의 공기를 순환시키면서 공기의 온도 및 습도를 미리 결정된 값으로 유지시키는 역할을 한다.
도 3을 참조하여 공조용 항온/항습 장치(130)의 구성에 대해 살펴본다. 참고로, 도 3의 공조용 항온/항습 장치(130)에 대한 구성은 하나의 실시예이며, 이의 사항에 본 발명의 권리범위가 제한되지 않는다.
공조용 항온/항습 장치(130)는 유닛 케이싱(131)을 구비한다. 유닛 케이싱(131)은 외부로부터 단열된 상태로 제작된다. 따라서 유닛 케이싱(131) 내에는 각종 단열재가 내장될 수 있다.
유닛 케이싱(131)의 하부를 이루는 베이스(144)에는 드레인(drain, 145)이 마련되어 유닛 케이싱(131) 내에서 온도차에 의해 발생된 응축수를 배출한다. 드레인(145)은 별도의 배관과 연결되어 청정실의 외부로 배출될 수 있다.
마스크실(110)과 노광기(120)로 순환되는 공기의 유동방향에 대하여 유닛 케이싱(131)의 앞쪽에는 콘덴싱 유닛(condensing unit, 132)이 배치된다. 콘덴싱 유닛(132)은 전기를 축적하는 기능을 가질 수 있다. 콘덴싱 유닛(132)의 일측에는 고/저압 케이지(133)가 연결된다.
고/저압 케이지(133)를 사이에 두고 콘덴싱 유닛(132)의 반대편에는 제1 댐퍼(O.A damper, 134)가 배치된다. 제1 댐퍼(134)의 주변에는 제2 댐퍼(B.P damper, 146)가 배치될 수 있다. 제1 및 제2 댐퍼(134, 146)는 공기의 순환 개폐 기능을 한다.
제1 댐퍼(134)의 일측에는 증발기(evaporator, 135)가 배치된다. 그리고 증발기(135)에는 히터(heater, 136)가 배치된다. 증발기(135)는 공기를 냉각시키는 작용을 하고, 히터(136)는 공기의 가열시키는 작용을 한다.
제어부에 의해 제어될 수 있는 증발기(135) 및 히터(136)의 작용에 의해 온도를 늘 일정한 온도로 유지시킬 수 있을 뿐만 아니라 공기 내의 수분 발생을 차단시킨다. 본 실시예에서 증발기(135)는 수냉식이 적용될 수 있지만 공랭식이 적용될 수도 있으며, 통상적인 냉장고의 냉동사이클이 적용되어도 무방하다.
마스크실(110)과 노광기(120)로 순환되는 공기의 유동방향에 대하여 히터(136)의 후방에는 순환팬(return fan, 137)과, 광촉매필터(chemical filter, 138)가 각각 순차적으로 배치된다. 순환팬(137)은 공기를 광촉매필터(138) 쪽으로 리턴시키는 역할을 한다. 광촉매필터(138)의 전단부에는 UV 램프(143)가 마련된다.
마스크실(110)과 노광기(120)로 순환되는 공기의 유동방향에 대하여 광촉매필터(138)의 후방에는 급기팬(supply fan, 139)이 배치된다. 급기팬(139)은 순환되는 공기가 노광기(120) 쪽으로 향할 수 있도록 공기를 공급하는 역할을 한다. 급기팬(139)의 배출부(140) 영역에는 공기 청정도를 유지시키는 ULPA 필터(filter, 141)가 마련될 수 있다.
급기팬(139)과 ULPA 필터(141) 사이에는 디지털 차압계(142)가 마련되어 이 영역을 지나는 압력의 차이를 감지한다. ULPA 필터(141)의 후단부 영역에는 온도센서(미도시)가 마련되어 이 영역을 지나는 공기의 온도를 감지할 수 있다.
유닛 케이싱(131)의 외부에는 각종 제어를 담당하는 전기 패널(electric panel, 147)이 마련된다. 그리고 유닛 케이싱(131)의 외측에는 노광부 양압 조절댐퍼(148)가 마련되어 마스크실(110)로부터의 공기를 유닛 케이싱(131) 내로 유입시킨다.
이러한 구조에서 노광기(120) 내의 제1 및 제2 팬 유닛(123a, 123b)은 다수의 제1 공기라인(161)에 의해 공조용 항온/항습 장치(130)의 노광부 양압 조절댐퍼(148)와 각각 연결된다. 그리고 공조용 항온/항습 장치(130)는 다수의 제2 공기라인(162)에 의해 미러판용 공기 분사노즐(170) 및 반사판용 공기 분사노즐(180)과 각각 연결된다. 제2 공기라인(162)은 측정구(165)를 통과하게 배치될 수 있다.
한편, 미러판용 공기 분사노즐(170)은 노광기(120)에 결합되며, 공조용 항온/항습 장치(130)로부터 다수의 제2 공기라인(162)을 통해 노광기(120) 내로 유입되는 공기를 미러판(121)으로 가이드하면서 분사하여(도 2의 화살표 참조) 미러판(121)의 오염을 방지시키는 역할을 한다.
그리고 반사판용 공기 분사노즐(180) 역시, 노광기(120)에 결합되며, 공조용 항온/항습 장치(130)로부터 다수의 제2 공기라인(162)을 통해 노광기(120) 내로 유입되는 공기를 반사판(122)으로 가이드하면서 분사하여(도 2의 화살표 참조) 반사판(122)의 오염을 방지시키는 역할을 한다.
도 2 및 도 4를 참조하여 미러판용 공기 분사노즐(170)에 대해 설명한다. 미러판용 공기 분사노즐(170)은, 일단부에 제1 공기유입부(171a)가 형성되고 타단부에 제1 공기분사부(171b)가 형성되는 제1 노즐 케이싱(171)과, 제1 노즐 케이싱(171) 내에 마련되어 제1 공기유입부(171a)에서 제1 공기분사부(171b)로 향하는 공기를 흐름을 가이드하는 제1 가이드(173)를 포함할 수 있다. 제1 공기유입부(171a)는 제2 공기라인(162)과 연결된다.
제1 가이드(173)는 제1 노즐 케이싱(171) 내에서 상호 이격되게 나란하게 배치되되 길이가 서로 다른 다수의 제1 가이드 플레이트(173a, 173b)를 포함할 수 있다. 다수의 제1 가이드 플레이트(173a, 173b)는 난류 발생의 억제 기능을 겸한다.
이때, 다수의 제1 가이드 플레이트(173a, 173b) 중에서 길이가 짧은 숏 가이드 플레이트(173a)는 그 양단부가 제1 노즐 케이싱(171)의 내벽과 이격되어 제1 노즐 케이싱(171)의 내벽과의 사이에서 공기의 흐름을 형성한다.
그리고 다수의 제1 가이드 플레이트(173a, 173b) 중에서 길이가 긴 롱 가이드 플레이트(173b)는 그 양단부가 제1 노즐 케이싱(171)의 내벽에 접촉되되 그 중앙 영역에 공기의 흐름을 형성하는 통공(H)이 형성된다.
이러한 숏 가이드 플레이트(173a)와 롱 가이드 플레이트(173b)는 상호간 교번적으로 배열되면서 공기의 흐름을 가이드할 수 있다.
이에 따라, 공조용 항온/항습 장치(130)로부터 제2 공기라인(162)을 경유하여 미러판용 공기 분사노즐(170)을 통해 흐르는 공기의 흐름은 도 4의 점선 화살표처럼 진행되며, 이후에 제1 공기분사부(171b)를 통해 도 2에 도시된 미러판(121)으로 향하게 됨에 따라 미러판(121)의 오염을 방지시킨다. 즉 미러판(121)에 분진이 부착되는 현상을 방지시킨다.
다음으로, 도 2 및 도 5를 참조하여 반사판용 공기 분사노즐(180)에 대해 설명한다. 반사판용 공기 분사노즐(180)은, 일단부에 제2 공기유입부(181a)가 형성되고 타단부에 제2 공기분사부(181b)가 형성되는 제2 노즐 케이싱(181)과, 제2 노즐 케이싱(181) 내에 마련되어 제2 공기유입부(181a)에서 제2 공기분사부(181b)로 향하는 공기를 흐름을 가이드하는 제2 가이드(183)를 포함할 수 있다. 제2 공기유입부(181a) 역시, 제2 공기라인(162)과 연결된다.
제2 가이드(183)는 제2 노즐 케이싱(181) 내에서 상호 이격되게 나란하게 배치되되 경사 배치되는 다수의 제2 가이드 플레이트(183)로 적용될 수 있다. 다수의 제2 가이드 플레이트(183)는 난류 발생의 억제 기능을 겸한다.
이때, 제2 가이드 플레이트(183)들의 길이는 모두 동일하게 마련될 수 있는데, 제2 가이드 플레이트(183)들은 일단부와 타단부가 순차적으로 제2 노즐 케이싱(181)의 내벽에 결합됨으로써 공기의 흐름을 도 5의 점선 화살표처럼 지그재그(zigzag)식으로 형성할 수 있다.
이에 따라, 공조용 항온/항습 장치(130)로부터 제2 공기라인(162)을 경유하여 반사판용 공기 분사노즐(180)을 통해 흐르는 공기의 흐름은 도 5의 점선 화살표처럼 지그재그식으로 진행되며, 이후에 제2 공기분사부(181b)를 통해 도 2에 도시된 반사판(122)으로 향하게 됨에 따라 반사판(122)의 오염을 방지시킨다. 즉 반사판(122)에 분진이 부착되는 현상을 방지시킨다.
이러한 구성을 갖는 본 발명의 포토마스킹 미러 오염방지 시스템의 동작을 간략하게 살펴본다.
장비가 동작되면 마스크실(110), 노광기(120) 및 공조용 항온/항습 장치(130)를 통한 공기의 흐름이 제1 및 제2 공기라인(161, 162)을 통해 진행된다.
이후, 노광기(120) 내에서 미러판용 공기 분사노즐(170)이 미러판(121)을 향해, 그리고 반사판용 공기 분사노즐(180)이 반사판(122)을 향해 예컨대, 3 내지 4m/s의 풍속으로 공기를 분사한다. 이에 따라, 미러판(121)과 반사판(122)에 분진이 부착되는 현상을 방지시킬 수 있게 된다.
이때, 노광기(120) 내의 청정도는 공조용 항온/항습 장치(130)에 의해 100 class로 유지될 수 있다.
이와 같이, 본 실시예에 따르면, 콤팩트하면서도 효율적인 구조를 가짐으로써 수입에만 의존하여 왔던 포터마스킹 미러 오염방지 시스템을 국산화시킬 수 있어 수입 대체에 따른 현격한 비용 절감의 효과를 제공할 수 있을 뿐만 아니라 수출 증대에도 기여할 수 있으며, 특히 노광기(120) 내의 미러판(121) 또는 반사판(122)이 종래처럼 쉽게 오염되지 않도록 함으로써 청소 작업을 위해 장비의 가동을 중단시키는 데에 따른 생산성 차질 현상을 효과적으로 해결할 수 있게 된다.
이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
110 : 마스크실 120 : 노광기
121 : 미러판 122 : 반사판
123a, 123b : 제1 및 제2 팬 유닛 124 : 온도센서
130 : 공조용 항온/항습 장치 161 : 제1 공기라인
162 : 제2 공기라인 170 : 미러판용 공기 분사노즐
171 : 제1 노즐 케이싱 171a : 제1 공기유입부
171b : 제1 공기분사부 173 : 제1 가이드
173a : 숏 가이드 플레이트 173b : 롱 가이드 플레이트
180 : 반사판용 공기 분사노즐 181a : 제2 공기유입부
181b : 제2 공기분사부 181 : 제2 노즐 케이싱
183 : 제2 가이드

Claims (11)

  1. 마스크실;
    상기 마스크실의 일측에 배치되며, 내부에 미러판과 반사판이 상호 이격된 위치에서 대면되는 노광기;
    상기 마스크실과 상기 노광기를 연결하여 상기 마스크실과 상기 노광기 간의 공기를 순환시키면서 상기 공기의 온도 및 습도를 미리 결정된 값으로 유지시키는 공조용 항온/항습 장치;
    상기 노광기에 결합되며, 상기 공조용 항온/항습 장치로부터 상기 노광기 내로 유입되는 공기를 상기 미러판으로 가이드하면서 분사하여 상기 미러판의 오염을 방지시키는 미러판용 공기 분사노즐; 및
    상기 노광기에 결합되며, 상기 공조용 항온/항습 장치로부터 상기 노광기 내로 유입되는 공기를 상기 반사판으로 가이드하면서 분사하여 상기 반사판의 오염을 방지시키는 반사판용 공기 분사노즐을 포함하며,
    상기 미러판용 공기 분사노즐은,
    일단부에 제1 공기유입부가 형성되고 타단부에 제1 공기분사부가 형성되는 제1 노즐 케이싱; 및
    상기 제1 노즐 케이싱 내에 마련되어 상기 제1 공기유입부에서 상기 제1 공기분사부로 향하는 공기를 흐름을 가이드하는 제1 가이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스킹 미러 오염방지 시스템.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제1 가이드는 상기 제1 노즐 케이싱 내에서 상호 이격되게 나란하게 배치되되 길이가 서로 다른 다수의 제1 가이드 플레이트인 것을 특징으로 하는 포토마스킹 미러 오염방지 시스템.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1 가이드 플레이트들 중에서 길이가 짧은 숏 가이드 플레이트는 그 양단부가 상기 제1 노즐 케이싱의 내벽과 이격되어 상기 제1 노즐 케이싱의 내벽과의 사이에서 상기 공기의 흐름을 형성하며,
    상기 제1 가이드 플레이트들 중에서 길이가 긴 롱 가이드 플레이트는 그 양단부가 상기 제1 노즐 케이싱의 내벽에 접촉되되 그 중앙 영역에 상기 공기의 흐름을 형성하는 통공이 형성되는 것을 특징으로 하는 포토마스킹 미러 오염방지 시스템.
  5. 제4항에 있어서,
    공기의 흐름이 양측에서 중앙으로 모아진 후 다시 양측으로 향하고 다시 중앙으로 모아지는 반복되는 방향성을 가질 수 있도록, 상기 숏 가이드 플레이트와 상기 롱 가이드 플레이트는 상호간 교번적으로 배열되어 공기의 흐름을 형성하는 것을 특징으로 하는 포토마스킹 미러 오염방지 시스템.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 반사판용 공기 분사노즐은,
    일단부에 제2 공기유입부가 형성되고 타단부에 제2 공기분사부가 형성되는 제2 노즐 케이싱; 및
    상기 제2 노즐 케이싱 내에 마련되어 상기 제2 공기유입부에서 상기 제2 공기분사부로 향하는 공기를 흐름을 가이드하는 제2 가이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스킹 미러 오염방지 시스템.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제2 가이드는 상기 제2 노즐 케이싱 내에서 상호 이격되게 나란하게 배치되되 경사 배치되는 다수의 제2 가이드 플레이트인 것을 특징으로 하는 포토마스킹 미러 오염방지 시스템.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제2 가이드 플레이트들의 길이는 모두 동일하며,
    상기 제2 가이드 플레이트들은 일단부와 타단부가 순차적으로 상기 제2 노즐 케이싱의 내벽에 결합됨으로써 상기 공기의 흐름을 지그재그(zigzag)식으로 형성하는 것을 특징으로 하는 포토마스킹 미러 오염방지 시스템.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 공조용 항온/항습 장치는,
    외부로부터 단열되는 유닛 케이싱;
    상기 마스크실과 상기 노광기로 순환되는 공기의 유동방향에 대하여 상기 유닛 케이싱의 앞쪽에 배치되는 콘덴싱 유닛(condensing unit);
    상기 콘덴싱 유닛의 일측에 배치되는 제1 댐퍼(O.A damper);
    상기 제1 댐퍼의 일측에 배치되는 증발기(evaporator);
    상기 증발기와 연결되는 히터(heater);
    상기 히터의 일측에 배치되는 순환팬(return fan);
    상기 순환팬의 일측에 배치되는 광촉매필터(chemical filter);
    상기 광촉매필터의 일측에 배치되는 급기팬(supply fan); 및
    상기 급기팬의 배출부 영역에 배치되어 공기 청정도를 유지시키는 ULPA 필터(filter)를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스킹 미러 오염방지 시스템.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 공조용 항온/항습 장치는,
    상기 콘덴싱 유닛에 연결되는 고/저압 케이지;
    상기 급기팬과 상기 ULPA 필터 사이에 배치되는 디지털 차압계;
    상기 광촉매필터의 전단부에 배치되는 UV 램프;
    상기 유닛 케이싱의 하부를 이루는 베이스에 마련되는 드레인(drain);
    상기 제1 댐퍼의 일측에 연결되는 제2 댐퍼(B.P damper); 및
    상기 유닛 케이싱의 외부에 결합되어 각종 제어를 담당하는 전기 패널(electric panel)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스킹 미러 오염방지 시스템.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 노광기 내에 마련되어 상기 노광기 내의 온도를 감지하는 온도센서;
    상기 공조용 항온/항습 장치에 마련되는 노광부 양압 조절댐퍼;
    상기 노광기 내의 제1 및 제2 팬 유닛과 상기 노광부 양압 조절댐퍼를 각각 연결하는 다수의 제1 공기라인; 및
    상기 미러판용 공기 분사노즐 및 상기 반사판용 공기 분사노즐과 상기 공조용 항온/항습 장치를 연결하는 다수의 제2 공기라인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스킹 미러 오염방지 시스템.
KR1020110122041A 2011-11-22 2011-11-22 포토마스킹 미러 오염방지 시스템 KR101155378B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110122041A KR101155378B1 (ko) 2011-11-22 2011-11-22 포토마스킹 미러 오염방지 시스템

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110122041A KR101155378B1 (ko) 2011-11-22 2011-11-22 포토마스킹 미러 오염방지 시스템

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101155378B1 true KR101155378B1 (ko) 2012-06-19

Family

ID=46688878

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110122041A KR101155378B1 (ko) 2011-11-22 2011-11-22 포토마스킹 미러 오염방지 시스템

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101155378B1 (ko)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10275767A (ja) * 1997-03-28 1998-10-13 Nikon Corp 露光装置
KR100211666B1 (ko) * 1996-10-15 1999-08-02 윤종용 반도체 스테퍼설비의 오염방지장치 및 그 방법
KR20020068615A (ko) * 2001-02-21 2002-08-28 삼성전자 주식회사 반도체 노광장치용 조명장치 및 이를 이용한 노광장치
KR20070045535A (ko) * 2005-10-27 2007-05-02 세메스 주식회사 기판 노광 장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100211666B1 (ko) * 1996-10-15 1999-08-02 윤종용 반도체 스테퍼설비의 오염방지장치 및 그 방법
JPH10275767A (ja) * 1997-03-28 1998-10-13 Nikon Corp 露光装置
KR20020068615A (ko) * 2001-02-21 2002-08-28 삼성전자 주식회사 반도체 노광장치용 조명장치 및 이를 이용한 노광장치
KR20070045535A (ko) * 2005-10-27 2007-05-02 세메스 주식회사 기판 노광 장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3306247B1 (en) Air-water heat exchanger structure and method for controlling and enhancing the operation thereof
JP6324538B2 (ja) サーバ室冷却装置、及びそれを具備するデータセンターの空調システムの製造方法
KR102056547B1 (ko) Uv-led 모듈을 이용한 기능성 공기정화 장치
JP6700192B2 (ja) サーバ室冷却装置
US10882078B1 (en) Apparatus for cleaning and remediating environmental air handling apparatus
KR20170094982A (ko) 결로방지부를 구비한 전열교환기
KR101155378B1 (ko) 포토마스킹 미러 오염방지 시스템
US5069113A (en) Stacked and cross-connected recirculating fans in a semiconductor manufacturing cleanroom
JP3130023U (ja) 自動化清浄倉庫
JPH08210679A (ja) トンネル式クリーンルーム空調システム
KR20100033594A (ko) 물을 이용한 공기 조화 장치
JP2005211742A (ja) 汚染物質除去装置
KR19990070053A (ko) 냉각응축기를 갖는 습식 공기청정장치
JP4441727B2 (ja) 汚染物質除去装置
JP2004069125A (ja) 建物用換気装置
JP4441728B2 (ja) 汚染物質除去装置
KR20060100793A (ko) 폐열회수 환기장치
CN205809520U (zh) 全密封恒温恒湿超净环境激光投影系统
KR200205179Y1 (ko) 반도체 소자 제조용 패브의 공조기
CN214891651U (zh) 一种高效净化的双冷源新风机组
KR20140141168A (ko) 클린룸용 가스 제거 시스템
JPH11253732A (ja) クリーンルーム
KR20030013077A (ko) 공기조화기의 팬 드라이 코일 유니트
JP4687941B2 (ja) 汚染物質除去装置
JP4057739B2 (ja) 半導体工場

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160527

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170711

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190401

Year of fee payment: 8