KR101152642B1 - 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법으로서, (a) 하부 폴리머 기질에 미세 구조를 형성하는 단계; (b) TiO2를 하부 폴리머 기질에 코팅시켜 TiO2 패턴화하는 단계; (c) 상부 폴리머 기질을 하부 폴리머 기질과 본딩(bonding)하는 단계; 및 (d) UV를 조사하여 TiO2가 코팅된 지역을 친수성으로 전환시키는 단계를 포함하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법 및 상기 제조방법으로 제조된 폴리머 기반의 미세유체 장치를 제공한다. 본 발명은 안정성이 높으면서도 지속적으로 사용가능한 미세유체 장치의 개발을 가능하게 하는 효과가 있다.

Description

폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법{METHOD OF PREPARING MICROFLUIDIC DEVICES BASED ON A POLYMER}
본 발명은 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법에 관한 것이다.
마이크로어레이와 미세유체 기술은 생화학이나 세포내 연구에서 사용되어 왔다. 기술 기반의 플랫폼들이 생체분자간의 상호작용, 세포 기반의 정량, 질병 진단 및 생체 유사 조직 엔지니어링 등에 적용되어 왔다. 마이크로어레이에서, 소수성/친수성 콘트라스트는 어레이의 각각의 스팟으로부터 신뢰성있는 정량을 얻을 수 있게 하는 단일 샘플이나 전용 세포 패턴화을 가능하게 한다. 그래서, 소수성/친수성 변형을 가진 마이크로어레이 기질 개발 필요가 요청되었다.
최근에 비용을 줄이고 대량 제조를 위해 유리 미세유체 체널 대신에 플라스틱 미세유체 채널을 만들고 있다. 대부분의 플라스틱 미세유체 칩은 내재된 소수성의 성질 때문에 수성의 샘플을 전달하기에 어려움이 있었다.
그래서, 소수성/친수성 콘트라스트를 가지는 플라스틱 미세유체 채널의 개발 필요성이 있었다.
본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위하여, 소수성/친수성 콘트라스트를 가지는 폴리머 기반의 미세유치 장치의 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법으로서, (a) 하부 폴리머 기질에 미세 구조를 형성하는 단계; (b) TiO2를 하부 폴리머 기질에 코팅시켜 TiO2 패턴화하는 단계; (c) 상부 폴리머 기질을 하부 폴리머 기질과 본딩(bonding)하는 단계; 및 (d) UV를 조사하여 TiO2가 코팅된 지역을 친수성으로 전환시키는 단계를 포함하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법 및 상기 제조방법으로 제조된 폴리머 기반의 미세유체 장치를 제공한다.
본 발명은 안정성이 높으면서도 지속적으로 사용가능한 미세유체 장치의 개발을 가능하게 하는 효과가 있다.
도 1은 TiO2 패턴화된 미세채널의 소수성/친수성 콘트라스트로 액체를 핸들링(handling) 하는 것을 나타낸 것으로, (a)는 TiO2 패턴화과정이고, (b)는 상부 폴리머를 덮은 그림이며, (c)는 UV조사로 인해 친수성으로 전환되는 과정을 나타낸 것이고, (d)는 수성 유체를 로딩하는 것을 나타낸 것이다.
도 2는 UV 조사 후의 PDMS와 COC 위의 물방울의 광학 이미지를 나타낸 것이다. TiO2 LPD를 20회 반복하였고, UV는 0.04 mW/cm2의 강도로 30분간 조사하였다.
도 3은 LPD로 COC를 TiO2로 코팅한 SEM 이미지는 나타낸 것으로 LPD 횟수는 각각 5, 10, 20회이다.
도 4는 UV 조사 후의 COC 기질의 표면에서의 물접촉각을 나타낸 것이다. 10°미만은 측정이 어렵고, LPD 횟수는 (a)는 5회, (b)는 10회, (c)는 20회이다.
도 5는 유기 오염 후의 친수성 회복을 나타낸 것으로 UV 광을 0.5mm 두께의 COC 슬라이드에 700mJ로 조사하였다.
도 6은 TiO2 가 증착된 COC의 광촉매적 활성의 장기간 안정성을 나타낸 것이다. UV 광을 0.5mm 두께의 COC 슬라이드에 700mJ로 조사하였다.
도 7은 전도성 하이드로겔과 통합하여 미세유체 칩을 제작하는 과정을 나타낸 것이다. 액체 로딩과 자외선 조사로 하이드로겔 구조를 완성하였다.
도 8은는 COC 미세유체 칩이 (a) 수용성 잉크가 TiO2 패턴화된 미세채널과 보통의 COC 미세채널로 주입되었을 때이고, (b)는 TiO2 코팅된 미세채널 안의 하이드로겔 구조를 나타낸 것이다.
이하, 본 발명은 상세히 설명한다.
본 발명에서 상기 미세유체 장치는 하나 이상의 미세 구조를 포함하는 유체 장치를 말하며, 미세구조란 반드시 마이크로미터 수준의 차원을 갖는 것을 의미하는 것은 아니며, 작은 차원의 구조를 갖는 것을 의미한다. 미세유체 장치는 유체 흐름의 통로를 제공하는 장치일 수 있다. 예를 들어, 입구와 출구가 하나 이상의 채널을 통하여 연결되어 있는 미세 유동 장치로, 채널, 챔버, 입구 및 출구로 구성되는 군에서 선택되는 미세구조일 수 있고, 밸브, 펌프 등의 추가 구조를 더 포함할 수 있다. 상기 미세 구조는 기질의 표면이나, 내부나, 표면 및 내부에 일부분이 형성되어 있는 것일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서 상기 폴리머는 소수성 표면을 가지는 플라스틱이 포함되며, 비제한적인 예로 시클로올레핀코폴리머(Cyclo olefin copolymer:COC), 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate:PMMA), 폴리카보네이트(polycarbonate:PC), 시클로올레핀폴리머(cyclo olefin polymer:COP), 액체 결정 폴리머(liquid Crystalline Polymers:LCP), 폴리아미드(polyamide:PA), 폴리에틸렌(polyethylene:PE), 폴리이미드(polyimide:PI), 폴리프로필렌(polypropylene:PP), 폴리페닐렌에테르(polyphenylene ether:PPE), (polystyrene:PS), 폴리옥시메틸렌(polyoxymethylene:POM), 폴리에테르에테르케톤(polyetheretherketone:PEEK), 폴리에테르술폰(polyethersulfone:PES), 폴리에틸렌프탈레이트(polyethylenephthalate:PET), 폴리테트라플루오로에틸렌(polytetrafluoroethylene:PTFE), 폴리비닐클로라이드(polyvinylchloride:PVC), 폴리비닐리덴플루오라이드(polyvinylidene fluoride:PVDF), 폴리부틸렌테레프탈레이트(polybutyleneterephthalate:PBT), 플루오르화에틸렌프로필렌(fluorinated ethylenepropylene:FEP) 및 퍼플루오르알콕시알칸(perfluoralkoxyalkane:PFA)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나가 사용될 수 있고, 바람직하게는 시클로올레핀코폴리머(Cyclo olefin copolymer:COC)를 사용할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서 상기 COC는 높은 UV 투과성과 화학적인 안정성 때문에 표면에 포토리소그래피 패턴화를 하게 하여서 미세유체 채널로 제작하기에 유리하다. 강한 UV 방사로 표면을 변형시켜서 미세유체 칩으로 조립할 수 있다. COC를 사용할 때 물 접촉각이 45°까지 감소되었고 체널로 하이드로겔의 로딩을 촉진시킨다. 그러나 COC의 젖음성(wettability)이 점차적으로 유체 흐름을 블로킹하는 원인이 되므로 이를 극복할 필요가 있었다. 그래서, 본 발명은 폴리머 미세체널의 장기간의 안정성을 위해 COC 미세채널 위에 광촉매적인 TiO2 박막을 만들어서(도 1 (a), (b)), UV 광을 조사하여 소수성/친수성의 고콘트라스트를 유도하였다(도 1 (c)). 소수성/친수성 패턴 기능을 수동 밸브로 미세채널내의 수성 유체를 정지시켜서 얻을 수 있다(도 1 (d)). 이는 미세채널로 점차적인 수성 용액의 로딩을 가능하게 하고 세척-없는 하이드로겔-통합된 미세유체 칩을 제작할 수 있게 한다. 이는 마이크로일렉트로포레이터(microeletroporator)의 개발에 적용할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서 상기 (a) 단계의 하부 폴리머 기질에 미세 구조를 형성하는 것은 사출성형 방법이나 포토리소그래피 방법을 사용할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서 상기 (b) 단계의 TiO2의 코팅은 액상 침적(Liquid phase deposition: LPD), 증발, 스퍼터링(sputtering) 및 화학증기 증착(chemicla vapor deposition: CVD) 방법으로 이루어진 군에서 선택되는 방법을 사용할 수 있고, 바람직하게는 LPD를 사용할 수 있다.
상기 TiO2의 LPD는 70~90℃에서, 1회 이상 반복 실시할 수 있다. TiO2의 유니폼한 증착을 위해 LPD 시행 온도가 중요하다. 70℃ 미만이면 불균일 도포가 이루어지고, 90 ℃초과이면 기판의 변형을 유도하기 때문이다.
본 발명에서 상기 TiO2의 코팅은 LPD 이후 리프트-오프(lift-off)하여 완성시킬 수 있다.
Ti 금속을 화학증기 증착(chemicla vapor deposition: CVD), 양극 산화(anodization) 또는 열 산화(thermal oxidation) 하여 광촉매적인 TiO2 박막에 대한 많은 보고가 있었지만, 초음파 분무(ultrasonic nebulization), 열분해(pyrolysis), TiO2 졸 코팅시에, 높은 제조온도와 어닐링(annealing) 온도 때문에 플라스틱 기질에 적용이 방해되어 왔다. TiO2는 친수성 폴리머에 노출될 때에 한정하여 폴리스티렌-b-폴리비닐피리딘(polystyrene-b-polyvinylpyridine (PS-b-PVP) )의 프린팅과 접촉하였을 때 친수성 폴리머 멀티레이어에 선택적으로 증착될 수 있었다. 그러나 폴리머에 증착될 때 TiO2의 광촉매적 효과는 본 발명에서 처음 발명한 것이다.
본 발명의 일 실시예에서 (b)단계 이전에 하부 폴리머 기질에 Ti 또는 TiO2를 박막으로 코팅하여 시드층(seed layer)을 만드는 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 코팅은 스퍼터링 (sputtering) 방법을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 코팅된 Ti 또는 TiO2 박막은 10~100nm일 수 있다. 10nm 미만이면 비균질 막을 형성하고, 100nm 초과면 광투과성이 현저히 떨어지며 비용증가에 따른 실익이 없다.
상기 (c) 단계의 상부 폴리머 기질은 유체를 로딩시킬 입구 홀(inlet hole) 및 출구 홀(outlet hole)을 포함할 수 있고 추가로 밸브 또는 펌프를 포함할 수 있다.
상기 (c) 단계의 본딩(bonding)은 100~180℃에서 열 본딩 방법을 사용할 수 있다. 100 ℃미만이면 본딩의 강도가 약하고 비결합부가 자주 발생하며, 180 ℃ 초과면 TiO2 박막의 광촉매 특정이 저하하기 때문이다.
본 발명의 일 실시예는 상기 제조방법으로 제조된 폴리머 기반의 미세유체 장치를 제공한다. 미세유체 장치는 미세유체 채널, 미세유체 칩 이외에도 미세 구조를 포함하는 유체 장치는 모두 포함할 수 있다.
이하, 본 발명의 실시예를 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다.
<실시예1> 시약과 재료의 준비
TiCl3((Cica merck, Japan)와 25% NH4OH(대정화학금속회사, 한국), 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane :PDMS)기질과 SYLGARD 184 실리콘 엘라스토머 키트(다우코닝사, 미국)을 준비하고 베이스의 액체 혼합물과 경화제를 핫 플레이트에서 85℃, 45분간 경화시켰다. 디알리디메틸암모늄 클로라이드(diallyldimethyl ammonium chloride), 2-히드록시-4'-(2--히드록시메틸)-2-메틸프로피오페논(2-hydroxy-4'-(2-hydroxymethyl)-2-methylpropiophenone), N,-N'-메틸렌-비사릴아미드(N, N'-methylene-bisarylamide)와 KCl은 Sigma Aldrich에서 구입하였다. 상기 65% 모노머 (diallyldimethyl ammonium chloride), 2% 광개시제 2-(2-hydroxy-4'-(2-hydroxymethyl)-2-methylpropiophenone), 5% 가교제 (N, N'-methylene-bisarylamide)와 500 mM KCl을 포함하는 모노머 혼합용액으로 하이드로겔을 만들었다.
<실시예2> TiO2의 증착과 UV 조사
Ti와 산화된 Ti의 박막을 COC 기질이나 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane:PDMS) 기질에 50nm 두께로 스퍼터링(SHES-4M-300T, Sam-Han Vacuum Development Co.)하였다. 스퍼터링된 박막은 TiO2의 액상 증착(LPD)를 위한 시드층(seed layer)으로 역할을 하였다. 0.1 M TiCl3 용액을 90 ℃로 유지하였고 20 % NH4OH 수용액으로 pH1.2에서 점차적으로 완충하였더니, TiO2 나노입자가 엷은 퍼플로 용액의 색이 변하였다. TiCl3 용액의 느린 가수분해에 의해 기질에 TiO2 막이 생겼다. LPD의 1회 시행은 70℃에서 1회 딥(dip), 1회의 세척(rinse) 과 건조이다. 폴리머 기질은 10초 동안 TiCl3 용액에 담그고 5초 동안 탈이온수로 세척하고, 3초 동안 N2 블로우(bolw)로 건조하였다. 상기 LPD를 여러 번 반복하였다. TiO2 표면의 친수성 전환을 위한 UV 조사는 UV 램프((Clean Maker Co., Korea)로 하였고, 표면의 소수성은 anglometer Phoenix 300 (Surface Electro Optics Inc.)로 측정하였다. 기질의 형태(morphology)는 주사전자현미경(Nova NanoSEM 200, FEI Inc.)으로 측정하였다.
도 2는 물 접촉각을 비교한 것이다. LPD를 20회 반복한 후 70 mJ의 UV 조사로 COC 기질은 소수성 표면이 초-친수성 표면으로 전환될 수 있다. 스퍼터링된 Ti는 Ti 막의 OH기 때문에 부드러운 친수성 표면을 보여준다. PDMS 표면은 Ti 의 스퍼터링된 증착 또는 TiO2 의 LPD 이후에 조금 덜 소수성이 되었지만 광촉매적 스위칭은 관찰할 수 없었다.
TiO2 입자의 크기는 100nm로 균일하였고 TiO2 입자가 LPD 10회 반복 후부터는 빽빽하게 COC 표면 전 지역의 코팅이 시작되었다. PDMS 표면에서 TiO2 입자는 흩어져 있음을 볼 수 있었다.
TiO2 와 기질과의 접착을 위해 Ti를 기질에 스퍼터링하여 시드층으로 이용할 수 있다. 스퍼터링된 박막은 기질과 더 잘 접착성을 가진다. COC에 Ti가 스퍼터링된 입자 크기는 50nm로 매우 균질함을 알 수 있다(도 3). Ti-코팅된 COC를 LPD 5회 시행한 경우가 Ti-코팅하지 않은 COC를 LPD 10회 시행한 경우보다 TiO2 입자가 더 밀도있게 만들어짐을 알 수 있다. 이는 Ti 시드층이 액체내에서 TiO2의 성장율을 촉진하는 것을 말해주는 것이다. PDMS에서 TiO2 의 퀄리티는 Ti 시드층의 도움으로도 개선되지 않았다. PDMS에서의 Ti 입자의 크기는 COC에서보다 더 작았고, 30~100nm의 크기로 덩어리로 뭉쳐 있었다. PDMS와 Ti 사이의 접착력은 좋지 않았고, TiO2 입자의 성장은 PDMS 기질과 Ti/TiO2 와의 친화도를 악화시킴을 알 수 있다
티타늄 옥사이드나 Tl 시드층은 TiO2 LPD의 성장율과 안정성면에서 뿐 아니라 광촉매 활성을 증진시킨다. 도 4는 시드층이 COC 기질의 친수성 전환을 촉진시키고, 상기 Ti 시드층의 광촉매 활성 촉진은 LPD 횟수에 무관함을 보여준다. 시드층하에서는 1회 LPD로도 TiO2 를 광활성시키는데 충분함을 알 수 있다.
COC 위에 성장한 TiO2 표면을 유기 용액으로 오염시킨 후에 광활성의 안정성을 테스트한 결과를 도 5에 나타내었다. TiO2 코팅된 COC는 10분동안 아세톤에 담그었을 때 물 접촉각은 30°로 증가하였다. UV 조사한 COC 슬라이드는 물 접촉각이 10° 미만으로 회복되었다. 그 결과는 미세채널에서 친수성 표면을 얻을 수 있다는 것과 TiO2 층이 포토리소그래피와 같은 유기 화학물질의 과정에도 적합하다는 것을 말해준다.
도 6은 4달 동안 모니터링한 결과를 나타낸 것이다. TiO2 가 증착된 COC는 보통상태의 습도와 실내 온도하에서 유지한 결과이다. 스퍼터링된 티타늄 옥사이드는 의미있는 광활성 효과를 보여주지는 않았지만, LPD TiO2 막은 1달 후에도 친수성의 광활성 회복이 매우 안정하였고, 4달 후에도, 물접촉각이 20°였다. 그것은 장기간의 오염의 악화로 광촉매 활성이 감소하였기 때문일 것이다. 그러므로, 만약 불활성 상태로 칩을 보관한다면, 더욱 장기간 동안 저장이 가능할 것이다.
<실시예3> COC로 미세유체 칩의 제조
미세구조를 가지는 폴리머 플레이트를 인젝션 몰딩으로 제작하였다. COC 레플리카(replicas)를 Ni 몰드로 만들고 그 구조를 SU-8 마이크로구조로 한정하였다. TiO2를 위한 패턴은 포토리소그래피로 수행하였다. 포토레지스트 AZ4620 (AZ Electronics Materials, USA)로 미세홈을 포함하는 하부 COC 플레이트를 스핀코트하였다.
그리고 나서, 하부 플레이트를 Cr-패턴화된 마스크를 통해 365 nm 에서 3 J/cm2 로 노출시켰다. 포토레지스트를 25% AZ400K 수용액에서 150초 동안 노출시켰다. 포토레지스트 패턴에서, Ti 를 50nm로 스퍼터링하고, TiO2를LPD 방법으로 코팅하였다. TiO2 패턴은 리프트-오프(lift-iff)를 통해 포토레지스트를 제거함으로써 완성하였다. COC의 상부 플레이트는 입구와 출구를 구멍을 뚫고 TiO2 패턴화된 하부 플레이트와 150℃에서 열 본딩하여 결합시켰다. 미세채널의 치수는 40 mm × 40 mm 이었다.
도 7은 COC 레플리카로 시작하여 하이드로겔을 가지고 미세유체칩을 제작하는 과정을 나타낸 것이다. (a)는 미세홈을 가진 COC 플레이트에 TiO2 층을 패턴화시키는 과정이고, (b)는 포토레지스트 패턴화한 것이다. (c)는 TiO2 LPD/ lift-off한 것이고, (d)는 TiO2 패턴화된 COC 플레이트와 상부 플레이트를 본딩시킨 것이고, (e)는 700 mJ의 UV 조사로 TiO2 코팅된 지역을 초친수성 표면으로 전환시킨 것이다. (f)는 미세채널로 모노머 혼합 용액을 로딩시킨 후에 원하는 지역에 위치시킨 것이다.
하부와 상부 COC 플레이트의 결합 후에 제작된 미세채널의 특정 지역이 3개의 TiO2 코팅지역과 1개의 COC만 표면인 지역으로 구성되었다. TiO2 표면의 친수성 전환을 위한 UV 조사 후에, 수용액이 칩으로 로딩되었다. 로딩되는 힘이 3개의 친수성 면이 1개의 면보다 우세하기 때문에 물의 매니커스(meniscus)가 천천히 진행되고, TiO2 패턴의 끝에 가서 멈추었다.
도 8 (a)는 잉크물이 소수성 COC 미세채널로 끌어당겨져서, TiO2 패턴화된 채널로 스스로 로딩됨을 보여준다. 제조 과정에서 미세채널이 포토레지스트와 용매와 같은 유기 화학물질에 오염될 우려가 있다. TiO2 의 광촉매 활성은 유기 오염을 제거시키고 TiO2 표면을 강한 친수성을 회복시켰음을 알 수 있다.
기존 연구에서는 인시츄 포토폴리메리제이션(in situ photopolymerization) 후에 경화되지 않은 모노머 용액이 제거되었고 채널이 버퍼로 세척되었다. 도 8 (b)의 본 발명은 이와 같은 세척 과정이 없으므로 칩이 대량 생산될 수 있게 한다. 하이드로겔용 모노머 용액이 잉크물과 같이 스스로 로딩되었고, 하이드로겔 통합된 칩을 10분 동안 햇빛 하에 놓은 후 완성하였다.
이상으로 본 발명의 특정한 부분을 상세히 기술하였는 바, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 이러한 구체적인 기술은 단지 바람직한 구현예일 뿐이며, 이에 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아닌 점은 명백하다. 따라서, 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 청구항과 그의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.

Claims (10)

  1. 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법으로서,
    (a) 하부 폴리머 기질에 미세 구조를 형성하는 단계;
    (b) TiO2를 기질에 코팅시켜 TiO2 패턴화하는 단계;
    (c) 상부 폴리머 기질을 하부 폴리머 기질과 본딩(bonding)하는 단계; 및
    (d) UV를 조사하여 TiO2가 코팅된 지역을 친수성으로 전환시키는 단계를 포함하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 폴리머는 시클로올레핀코폴리머(Cyclo olefin copolymer:COC), 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate:PMMA), 폴리카보네이트(polycarbonate:PC), 시클로올레핀폴리머(cyclo olefin polymer:COP), 액체 결정 폴리머(liquid Crystalline Polymers:LCP), 폴리아미드(polyamide:PA), 폴리에틸렌(polyethylene:PE), 폴리이미드(polyimide:PI), 폴리프로필렌(polypropylene:PP), 폴리페닐렌에테르(polyphenylene ether:PPE), (polystyrene:PS), 폴리옥시메틸렌(polyoxymethylene:POM), 폴리에테르에테르케톤(polyetheretherketone:PEEK), 폴리에테르술폰(polyethersulfone:PES), 폴리에틸렌프탈레이트(polyethylenephthalate:PET), 폴리테트라플루오로에틸렌(polytetrafluoroethylene:PTFE), 폴리비닐클로라이드(polyvinylchloride:PVC), 폴리비닐리덴플루오라이드(polyvinylidene fluoride:PVDF), 폴리부틸렌테레프탈레이트(polybutyleneterephthalate:PBT), 플루오르화에틸렌프로필렌(fluorinated ethylenepropylene:FEP) 및 퍼플루오르알콕시알칸(perfluoralkoxyalkane:PFA)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나인 것을 특징으로 하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 (b) 단계의 TiO2의 코팅은 액상 침적(Liquid phase deposition: LPD), 증발, 스퍼터링(sputtering) 및 화학증기 증착(chemicla vapor deposition: CVD) 방법으로 이루어진 군에서 선택되는 방법을 사용하는 것을 특징으로 하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 TiO2의 LPD는 70~90℃에서 실시하는 것을 특징으로 하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법.
  5. 제1항에 있어서,
    (b)단계 이전에 하부 폴리머 기질에 Ti 또는 TiO2를 박막으로 코팅하여 시드층(seed layer)을 만드는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 코팅 방법은 스퍼터링(sputtering) 방법인 것을 특징으로 하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 코팅된 Ti 또는 TiO2 박막은 10~100nm인 것을 특징으로 하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 (c) 단계의 상부 폴리머 기질은 유체를 로딩시킬 입구 홀(inlet hole) 및 출구 홀(outlet hole)을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 (c) 단계의 본딩은 100~180℃에서 열 본딩하는 것을 특징으로 하는 폴리머 기반의 미세유체 장치의 제조방법.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 폴리머 기반의 미세유체 장치.
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