KR101148143B1 - Insulated conductive particles and anisotropic conductive film composition using the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 절연 전도성 입자 및 이를 포함하는 이방 전도성 필름용 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 말단에 에폭시 반응성 작용기를 갖는 절연성 수지 미립자를 이용하여 도전성 입자의 표면에 절연수지층을 형성함으로써 도전성 입자간의 응집을 피하면서 도전성 입자에 충분한 절연층을 형성할 수 있으며, 금속과의 결합력을 충족시키고, 수지 흐름성이 우수하며, 균일하고 우수한 품질의 전기 접속특성을 제공할 수 있는 절연 전도성 입자 및 이를 포함하는 이방 전도성 필름용 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to an insulating conductive particle and a composition for an anisotropic conductive film comprising the same, and more particularly, by forming an insulating resin layer on the surface of the conductive particle using insulating resin fine particles having an epoxy reactive functional group at an end thereof. Insulating conductive particles capable of forming a sufficient insulating layer on the conductive particles while avoiding agglomeration, satisfying bonding strength with the metal, excellent resin flowability, and providing uniform and excellent quality electrical connection properties, and including the same It relates to a composition for an anisotropic conductive film.
Description
본 발명은 절연 전도성 입자 및 이를 포함하는 이방 전도성 필름용 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 도전성 입자의 표면에 말단에 에폭시 반응성 작용기를 갖는 절연성 수지 미립자를 이용하여 절연수지층을 형성한 절연 전도성 입자 및 이를 포함하는 이방 전도성 필름용 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to an insulating conductive particle and a composition for an anisotropic conductive film comprising the same, and more particularly, to an insulating conductive particle in which an insulating resin layer is formed by using insulating resin fine particles having an epoxy reactive functional group on the surface of the conductive particle. And it relates to a composition for an anisotropic conductive film comprising the same.
전자부품이나 반도체 소자, 기판의 접속단자를 도전접속함에 있어서 이방성 도전접속 방식이 널리 사용되고 있다. 이방성 도전접속 방법은 평판디스플레이 패널 제조시 TCP 단자와 유리기판의 투명전극간 접속과, 구동 I/C와 FPC 단자간의 접속, 구동 I/C와 투명전극간의 접속 등에 널리 사용되며, 특히 최근에는 플립칩(flip-chip) 방식의 칩패키징에 있어서 솔더볼 접속 방식을 대체하는 미래형 패키징 방법으로 적용이 확대되고 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION Anisotropic conductive connection methods have been widely used in conductive connection of connection terminals of electronic components, semiconductor devices, and substrates. The anisotropic conductive connection method is widely used for the connection between the transparent terminal of the TCP terminal and the glass substrate, the connection between the driving I / C and the FPC terminal, and the connection between the driving I / C and the transparent electrode in the manufacture of flat panel display panels. In chip-chip chip packaging, applications are expanding to future packaging methods that replace the solder ball connection method.
최근에는 전자부품의 박형화, 소형화로 인해 접속단자의 패턴이 더욱 미세화 되고 있어, 이방성 도전접속을 실시할 때에 인접단자 간 쇼트의 발생을 방지하는 것이 중요한 이슈가 되고 있다. 이러한 쇼트 발생을 피하기 위해 이방성 도전접속용 도전성 입자로서 일반 도전성 입자의 표면을 얇은 수지층으로 피복시킨 소위 절연 도전성 입자의 사용이 점차 확대되고 있다.In recent years, due to the thinning and miniaturization of electronic components, the pattern of the connection terminals has been further refined. Therefore, it is an important issue to prevent short circuits between adjacent terminals when performing anisotropic conductive connection. In order to avoid such a short generation, the use of what is called insulating electroconductive particle which coat | covered the surface of general electroconductive particle with a thin resin layer as electroconductive particle for anisotropic conductive connection is gradually expanded.
그러나, 지금까지 개발된 절연 도전성 입자들은 제조 과정과 제품의 특성에 있어 여러 가지 문제를 갖고 있었다. 현재까지 개발된 절연 도전성 입자의 유형은 절연층이 열가소성 수지로 구성된 경우와 열경화성 수지로 구성된 경우, 부분 경화 수지로 구성된 경우 세 가지로 대별할 수 있다.However, the insulating conductive particles developed so far have various problems in the manufacturing process and the characteristics of the product. The types of insulating conductive particles developed to date can be roughly classified into three types when the insulating layer is composed of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and a partially cured resin.
먼저 열가소성 수지로 절연층을 피복하는 경우, 제조과정에서 절연층을 충분한 두께로 균일하게 형성하기가 어렵다는 제조상의 어려움이 있다. 실제, 일정 농도의 용액에 도전성 입자를 담근 후 꺼내어 건조하는 과정을 반복적으로 실시하여 일정한 두께를 얻는 용액침지법과 특정 반응성기를 포함하는 커플링제 또는 표면처리제로 도전성 입자의 표면을 처리한 후원하는 단량체를 가하여 중합하는 계면중합법 등에 대하여 보고되어 있다. 그러나 이들 방법은 모두 여러 단계의 공정이 요구되어 일정한 품질과 높은 수율을 보장할 수 없을 뿐 아니라, 제조과정상 어쩔 수 없이 발생하는 입자의 응집을 피할 수 없어 후에 이를 사용한 이방성 도전접속 재료가 전자소자 접속에 사용될 시 접속불량의 주요 원인이 된다. 더욱이 열가소성 절연층을 지닌 절연 도전성 입자를 사용하여 이방성 도전접속재료를 제조할 경우, 용매에 의해 수지피막이 용해되거나 벗겨질 수 있으며, 용매가 한정되어 배합조성도 한정된다는 문제를 피할 수 없다.First, when the insulating layer is coated with a thermoplastic resin, there is a manufacturing problem that it is difficult to uniformly form the insulating layer to a sufficient thickness during the manufacturing process. In practice, the process of dipping the conductive particles in a solution of a certain concentration, taking out and drying them repeatedly to obtain a constant thickness, and a monomer that supports the surface of the conductive particles with a coupling agent or surface treatment agent containing a specific immersion group and a surface treatment agent The interfacial polymerization method etc. which add and superpose | polymerize are reported. However, all of these methods require a multi-step process, which does not guarantee consistent quality and high yield, and also prevents agglomeration of particles that inevitably occur during the manufacturing process. It is the main cause of bad connection when used in In addition, when anisotropic conductive connection materials are manufactured using insulating conductive particles having a thermoplastic insulating layer, the resin film may be dissolved or peeled off by a solvent, and the problem that the solvent is limited and the formulation composition is also inevitable cannot be avoided.
한편, 열경화성 수지로 피복층을 형성할 경우에는 열가소성 수지의 경우에 발생하는 용해 문제 및 응집문제를 어느 정도 피할 수 있으나 절연수지층의 가교밀도 조절이 용이하지 않은 문제가 있다. 너무 낮은 가교밀도에서는 열가소성 수지와 동일한 문제가 있으며 가교밀도가 너무 높을 경우 이방접속 시 피복층이 벗겨지지 않아 전극간 통전을 기할 수 없는 우려가 있으며, 도전성 입자의 절연성 피막을 파괴하기 위해 높은 압력으로 가압할 필요가 있어 피접속체인 전극단자가 손상될 수 있으며, 그럼에도 불구하고 피막 박편들이 전극과 도전 입자의 경계로부터 제대로 제거되지 않아 전극간 통전이 신뢰성 있게 이루어지지 못하는 단점이 있다.On the other hand, when the coating layer is formed of a thermosetting resin, the dissolution and agglomeration problems occurring in the case of the thermoplastic resin can be avoided to some extent, but there is a problem in that the control of the crosslink density of the insulating resin layer is not easy. If the crosslinking density is too low, there is the same problem as the thermoplastic resin. If the crosslinking density is too high, the coating layer may not be peeled off during anisotropic connection, and thus, the electrode may not be energized, and it is pressurized at high pressure to break the insulating film of the conductive particles. It may be necessary to damage the electrode terminal to be connected, and nevertheless there is a disadvantage that the film flakes are not properly removed from the boundary between the electrode and the conductive particles, so that the interelectrode conduction is not reliable.
이같은 문제들을 해결하기 위해 적당한 가교도를 지닌 절연성 겔상 수지분말을 제조한 후, 이를 물리적ㅇ기계적 방법으로 도전성 미립자에 점착시켜 절연 도전성 미립자를 제조하는 기술, 헤테로 원소나 관능기를 표면에 함유하는 절연성 수지 미립자를 제조하는 기술이 개발되었다. 그러나, 상기 기술들은 제조과정에서 절연층을 충분한 두께로 균일하게 도포하기가 어렵고, 다단계 공정의 이용으로 높은 수율 보장이 어려우며, 입자간 응집이 커서 접속불량의 주요 원인이 되며, 수지 피막이 용해된다는 문제점이 있다.In order to solve such problems, a technique for preparing an insulating gel resin powder having an appropriate crosslinking degree and then adhering it to conductive fine particles by physical and mechanical methods to produce insulating conductive fine particles, and insulating resin fine particles containing hetero elements or functional groups on the surface thereof The technology for manufacturing the was developed. However, the above techniques are difficult to uniformly apply the insulating layer to a sufficient thickness during the manufacturing process, it is difficult to ensure a high yield by using a multi-step process, the coagulation between particles is a major cause of poor connection, the resin film is dissolved There is this.
상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하고자, 본 발명은 도전성 입자간의 응집을 피하면서 도전성 입자에 충분한 절연층을 형성할 수 있는 절연 전도성 입자를 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the problems of the prior art as described above, an object of the present invention is to provide insulating conductive particles capable of forming a sufficient insulating layer on the conductive particles while avoiding aggregation between the conductive particles.
또한 본 발명은 금속과의 결합력을 충족시키고, 수지 흐름성이 우수하며, 균일하고 우수한 품질의 전기 접속특성을 제공할 수 있는 절연 전도성 입자 및 이를 포함하는 이방 전도성 필름용 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide an insulating conductive particle and a composition for anisotropic conductive film that can satisfy the bonding force with the metal, excellent resin flow properties, and can provide a uniform and excellent quality electrical connection properties. do.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 도전성 입자; 및 상기 도전성 입자의 표면에 형성되는 절연수지층;을 포함하여 이루어지며, 상기 절연수지층은 말단에 에폭시 반응성 작용기를 갖는 절연성 수지 미립자로 형성되는 것을 특징으로 하는 절연 전도성 입자를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention is conductive particles; And an insulating resin layer formed on the surface of the conductive particles, wherein the insulating resin layer is formed of insulating resin fine particles having an epoxy reactive functional group at an end thereof.
또한 본 발명은 절연성 접착 성분, 상기 절연 전도성 입자 및 무기 미립자를 포함하는 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물을 제공한다.In another aspect, the present invention provides a composition for an anisotropic conductive film comprising an insulating adhesive component, the insulating conductive particles and inorganic fine particles.
또한 본 발명은 상기 조성물로 형성된 이방 전도성 필름을 제공한다.The present invention also provides an anisotropic conductive film formed of the composition.
본 발명의 절연 전도성 입자는 도전성 입자간의 응집을 피하면서 도전성 입자에 충분한 절연층을 형성할 수 있으며, 이같은 절연 전도성 입자를 포함하는 이방 전도성 필름은 금속과의 결합력을 충족시키고, 수지 흐름성이 우수하며, 균일하고 우수한 품질의 전기 접속특성을 제공할 수 있다.The insulating conductive particles of the present invention can form an insulating layer sufficient for the conductive particles while avoiding agglomeration between the conductive particles, and the anisotropic conductive film containing such insulating conductive particles satisfies the bonding force with the metal, and excellent resin flowability It is possible to provide uniform and excellent quality electrical connection characteristics.
이하, 본 발명을 자세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.
본 발명은 말단에 에폭시 반응성 작용기를 갖는 절연 수지 미립자를 이용하여 도전성 입자를 표면처리함으로써 이방 전도성 필름의 모듈적용시 수지 흐름성이 우수하고, 도전성 입자간의 응집을 피하면서도 도전성 입자에 충분한 절연층을 형성하여 이방 전도성 필름, 특히 에폭시 조성의 이방 전도성 필름에 적용시 절연 특성이 우수하며, 금속과의 결합력을 충족시키고, 균일하고 우수한 품질의 전기 접속특성을 제공하며, 비접속부위에도 절연특성을 부여할 수 있다.The present invention is excellent in resin flowability when the anisotropic conductive film is applied to the module by surface-treating the conductive particles using the insulating resin fine particles having an epoxy reactive functional group at the end, while avoiding agglomeration between the conductive particles, an insulating layer sufficient for the conductive particles. When applied to an anisotropic conductive film, especially an anisotropic conductive film of epoxy composition, it has excellent insulation properties, meets bonding strength with metals, provides uniform and excellent electrical connection properties, and imparts insulation properties to non-connected sites. can do.
본 발명의 절연 전도성 입자는 도전성 입자 및 상기 도전성 입자의 표면에 형성되는 절연수지층을 포함하여 이루어지며, 상기 절연수지층은 말단에 에폭시 반응성 작용기를 갖는 절연성 수지 미립자로 형성되는 것을 특징으로 한다.The insulating conductive particles of the present invention include conductive particles and an insulating resin layer formed on the surface of the conductive particles, wherein the insulating resin layer is formed of insulating resin fine particles having an epoxy reactive functional group at an end thereof.
상기 도전성 입자는 이방 전도성 필름에 사용되는 통상의 것이면 제한없이 사용할 수 있으며, 구체적으로 Au, Ag, Ni, Cu, 땜납 등을 포함하는 금속 입자; 탄소; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스타이렌, 폴리비닐알코올 등을 포함하는 수지 및 그 변성 수지를 입자로 하여 Au, Ag, Ni 등을 포함하는 금속으로 도금 코팅한 입자; 그 위에 절연입자를 추가로 코팅한 절연화 처리된 도전성 입자 등을 사용할 수 있다.The conductive particles may be used without limitation as long as they are conventionally used in an anisotropic conductive film, specifically, metal particles including Au, Ag, Ni, Cu, solder, etc .; carbon; Particles coated with a metal containing Au, Ag, Ni, etc., using resins containing polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, polyvinyl alcohol, and the like, and modified resins thereof as particles; Insulated electroconductive particle etc. which further coated the insulating particle on it can be used.
상기 도전성 입자의 크기는 적용되는 회로의 피치(pitch)에 의해 2 내지 30 ㎛ 범위에서 용도에 따라 선택하여 사용할 수 있다.The size of the conductive particles can be selected and used depending on the application in the range of 2 to 30 ㎛ by the pitch of the circuit to be applied.
본 발명의 절연수지층을 형성하는 상기 절연성 수지 미립자는 고분자 심재의 표면에 에폭시 반응성 작용기를 결합시켜, 그 말단에 에폭시 반응성 작용기를 갖는 것을 사용할 수 있다.The insulating resin fine particles forming the insulating resin layer of the present invention can be used to bond an epoxy reactive functional group to the surface of the polymer core material, and to have an epoxy reactive functional group at its terminal.
구체적으로, 상기 절연성 수지 미립자는 고분자 심재를 제조하는 단계 및 상기 고분자 심재의 말단에 에폭시 반응성 작용기를 결합시키는 단계로 제조할 수 있다.Specifically, the insulating resin fine particles may be prepared by preparing a polymer core material and bonding an epoxy reactive functional group to an end of the polymer core material.
상기 고분자 심재는 단일 구조일 수도 있고, 코어-쉘 형태의 2층 구조일 수도 있으나, 코어-쉘 형태의 2층 구조인 것이 더욱 바람직하다.The polymer core may have a single structure or a core-shell type two-layer structure, but more preferably a core-shell type two-layer structure.
상기 고분자 심재는 고가교 유기고분자 입자, 실리카 입자, 이산화티탄 입자를 포함하는 무기입자, 유기/무기 복합체 입자, 금속산화물 입자 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.The polymer core material may be made of any one of high-crosslinked organic polymer particles, silica particles, inorganic particles including titanium dioxide particles, organic / inorganic composite particles, and metal oxide particles.
상기 고가교 유기고분자 입자는 가교 중합성 단량체를 단독으로 사용한 중합체 또는 가교 중합성 단량체와 1종 이상의 일반 중합성 단량체와의 공중합체를 중합성 단량체 총량 대비 30 중량% 이상 사용하여 제조할 수 있다.The high crosslinked organic polymer particles may be prepared using a polymer using a crosslinkable polymerizable monomer alone or a copolymer of a crosslinkable polymerizable monomer with at least one general polymerizable monomer based on 30% by weight or more of the total amount of the polymerizable monomer.
상기 가교 중합성 중합체는 라디칼 중합이 가능한 것으로 디비닐벤젠, 1,4-디비닐옥시부탄, 디비닐술폰, 디알릴프탈레이트, 디알릴아크릴아미드, 트리알릴(이소)시아누레이트, 트리알리트리멜리테이트 등의 알릴 화합물과, (폴리)에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, (폴리)프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에릴트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에릴트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 글리세롤 트리(메타)아크릴레이트 등의 아크릴레이트계 가교제 화합물을 사용할 수 있다.The crosslinkable polymerizable polymer is capable of radical polymerization, and may be divinylbenzene, 1,4-divinyloxybutane, divinyl sulfone, diallyl phthalate, diallyl acrylamide, triallyl (iso) cyanurate, trially trimelli Allyl compounds, such as a tate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) acrylate, penta erythritol tetra (meth) acrylate, penta erythritol tri ( Meth) acrylate, pentaaryl tritol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) An acrylate crosslinking compound, such as an acrylate and glycerol tri (meth) acrylate, can be used.
또한 상기 일반 중합성 단량체는 라디칼 중합이 가능한 것으로, 스타이렌, α-메틸스티렌, m-클로로메틸스티렌, 에틸 비닐 벤젠 등의 스타이렌계 단량체, 메 틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트 등의 아크릴레이트계 단량체, 염화비닐, 비닐 아세테이트, 비닐 에테르, 비닐 프로피오네이트, 비닐부티레이트 등을 사용할 수 있다.In addition, the general polymerizable monomer is capable of radical polymerization, styrene monomers such as styrene, α-methyl styrene, m-chloromethyl styrene and ethyl vinyl benzene, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate , Propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) Acrylate monomers such as acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, vinyl chloride, vinyl acetate, vinyl ether, vinyl propionate, vinyl butyrate and the like can be used.
또한 상기 고분자 심재가 코어-쉘 형태의 2층 구조일 경우에는 상기와 같은 고분자 심재의 표면에 금속 친화성 관능기인 카르복시기, 히드록시기, 글리콜기, 알데히드기, 옥사졸린기, 실란(silane)기, 실라놀(silanol)기, 아민기, 암모늄기, 아미드기, 이미드기, 니트로기, 니트릴기, 피롤리돈(pyrrolidone)기, 티올(thiol)기, 술폰산기, 설포늄(sulfonium)기, 설파이드(sulfide)기, 이소시아네이트(isocyanate)기 등의 선형 또는 낮은 가교도의 유기 고분자 수지를 이용하여 쉘층을 형성할 수 있다.In addition, when the polymer core material has a core-shell type two-layer structure, the surface of the polymer core material as described above may be a carboxyl group, a hydroxyl group, a glycol group, an aldehyde group, an oxazoline group, a silane group, a silanol, and a metal affinity functional group. (silanol) groups, amine groups, ammonium groups, amide groups, imide groups, nitro groups, nitrile groups, pyrrolidone groups, thiol groups, sulfonic acid groups, sulfonium groups, sulfides A shell layer can be formed using linear or low crosslinking degree organic polymer resin, such as a group and an isocyanate group.
상기와 같은 고분자 심재에 결합되는 에폭시 반응성 작용기로는 에폭시기를 갖는 고분자 수지이면 제한없이 사용할 수 있으며, 구체적으로 글리시딜 메타아크릴레이트, 에폭시 아크릴레이트; 에폭시 메타크릴레이트; 또는 3염기산 및/또는 4염기산의 산무수물(a-i)과 불포화기 함유 모노알코올(a-ii)을 반응시켜 얻어지는 불포화기 함유 디카르본산 화합물에, 1분자 중 2개의 에폭시기를 가지는 에폭시 화합물을 반응시켜 얻어지는 1분자 중 2개의 에폭시기를 가지는 불포화기 함유의 에폭시 화합물과 불포화기 함유 모노카르본산을 반응시켜 얻어지는 반응 생성물에, 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 산변성 에폭시 (메타)아크릴레이트 화합물 및 상기 산변성 에폭시 (메타)아크릴레이트 화합물; 1분자 중 2개 이상의 에폭시기를 가지는 에폭시 화합물 등을 사용할 수 있다.As the epoxy reactive functional group bonded to the polymer core as described above, any polymer resin having an epoxy group can be used without limitation, and specifically, glycidyl methacrylate, epoxy acrylate; Epoxy methacrylates; Or an epoxy compound having two epoxy groups in one molecule of an unsaturated group-containing dicarboxylic acid compound obtained by reacting an acid anhydride (ai) of a tribasic acid and / or a tetrabasic acid with an unsaturated group-containing monoalcohol (a-ii). Acid-modified epoxy (meth) acrylate compound obtained by making polybasic acid anhydride react with the reaction product obtained by making the unsaturated compound containing epoxy group and the unsaturated group containing monocarboxylic acid react with two epoxy groups in 1 molecule obtained by making it react, and the said Acid-modified epoxy (meth) acrylate compounds; The epoxy compound etc. which have two or more epoxy groups in 1 molecule can be used.
상기 절연성 수지 미립자를 제조하는 방법을 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 유화중합법, 무유화(soap-free) 유화중합법, 시드 중합법 등이 사용가능하다.The method for producing the insulating resin fine particles is not particularly limited, and for example, an emulsion polymerization method, a soap-free emulsion polymerization method, a seed polymerization method and the like can be used.
상기와 같이 제조되어 말단에 에폭시 반응성 작용기를 갖는 절연성 수지 미립자는 도전성 입자의 표면에 처리되어 절연수지층을 형성한다.Insulating resin microparticles | fine-particles manufactured as mentioned above and having an epoxy reactive functional group at the terminal are processed to the surface of electroconductive particle, and form an insulating resin layer.
이때, 상기 도전성 입자에 처리되는 절연성 수지 미립자는 도전성 입자의 표면에 물리적/화학적 방법으로 접착할 수 있으며, 그 접착형태 또한 고정 타입과 피복 타입으로 모두 접착가능하다.At this time, the insulating resin fine particles to be treated to the conductive particles can be adhered to the surface of the conductive particles by a physical / chemical method, the adhesion form is also possible to be bonded to both the fixed type and the coating type.
상기 절연수지층은 도전성 입자의 표면에 0.01 내지 1 ㎛ 두께로 형성되는 것이 바람직하며, 그 두께가 0.01 ㎛ 미만일 경우에는 절연 성능이 저하될 수 있으며, 1 ㎛를 초과할 경우에는 접속특성이 발현되지 않을 수 있다The insulating resin layer is preferably formed on the surface of the conductive particles to a thickness of 0.01 to 1 ㎛, when the thickness is less than 0.01 ㎛ may lower the insulation performance, if it exceeds 1 ㎛ the connection characteristics are not expressed May not
또한 본 발명은 상기와 같이 도전성 입자의 표면에 말단에 에폭시 반응성 작용기를 갖는 절연성 수지 미립자를 이용하여 절연수지층이 형성된 절연 전도성 입자를 포함하는 이방 전도성 필름용 조성물을 제공한다. In another aspect, the present invention provides a composition for anisotropic conductive film comprising insulating conductive particles formed with an insulating resin layer using insulating resin fine particles having an epoxy reactive functional group on the surface of the conductive particles as described above.
구체적으로, 상기 이방 전도성 필름용 조성물은 상기 절연 전도성 입자와 절연 접착 성분 및 무기 미립자를 포함한다.Specifically, the composition for the anisotropic conductive film includes the insulating conductive particles, an insulating adhesive component, and inorganic fine particles.
본 발명의 이방 전도성 필름용 조성물에 사용되는 상기 절연 접착 성분은 에폭시기를 가지는 수지 및 필름형성용 수지를 포함한다.The said insulating adhesive component used for the composition for anisotropic conductive films of this invention contains resin which has an epoxy group, and resin for film formation.
상기 에폭시기를 가지는 수지는 분자 내에 2개 이상의 에폭시기를 갖는 다가 에폭시 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 구체적으로, 상기 에폭시기를 가지는 수지로는 페놀노볼락, 크레졸노볼락 등의 노볼락수지, 비스페놀A, 비스페놀F, 비스히드록시페닐에테르 등의 다가 페놀류, 에틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 글리세린, 트리메틸올프로판, 폴리프로필렌글리콜 등의 다가 알코올류, 에틸렌디아민, 트리에틸렌테트라아민, 아닐린 등의 폴리아미노화합물, 프탈산, 이소프탈산 등의 다가 카르복시화합물을 사용할 수도 있다.It is preferable that the resin which has the said epoxy group uses the polyhydric epoxy resin which has 2 or more epoxy groups in a molecule | numerator. Specifically, examples of the resin having an epoxy group include polyhydric phenols such as novolac resins such as phenol novolac and cresol novolac, bisphenol A, bisphenol F, and bishydroxyphenyl ether, ethylene glycol, neopentyl glycol, glycerin, and trimethylol. Polyhydric alcohols, such as propane and polypropylene glycol, Polyamino compounds, such as ethylenediamine, triethylene tetraamine, and aniline, Polyhydric carboxy compounds, such as phthalic acid and isophthalic acid, can also be used.
상기 에폭시기를 가지는 수지는 절연 접착 성분에 10 내지 40 중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 그 함량이 상기 10 중량% 미만일 경우에는 에폭시와의 상용성 및 반응이 미비하며, 40 중량%를 초과할 경우에는 중합이 이루어지지 않을 수 있다.It is preferable that resin which has the said epoxy group is contained by 10 to 40weight% in an insulation adhesive component. When the content is less than 10% by weight, compatibility and reaction with the epoxy is insufficient, and when the content exceeds 40% by weight may not be polymerization.
상기 필름형성용 수지는 사용되는 경화제와 화학적인 반응을 하지 않으면서, 필름형성이 잘 될 수 있는 수지이면 제한없이 사용할 수 있다. 구체적으로, 상기 필름형성용 수지로는 아크릴레이트 수지, 에틸렌아크릴레이트 공중합체, 에틸렌아크릴산 공중합체 등의 아크릴 수지, 에틸렌 수지, 에틸렌프로필렌 공중합체 등의 올레핀 수지, 부타디엔 수지, 아크릴로니트릴-부타디엔 공중합체, 스타이렌-부타디엔 블록공중합체, 스타이렌-부타디엔-스타이렌 블록공중합체, 카르복시화스타이렌-에틸렌-부타디엔-스타이렌-블록공중합체, 틸렌스타이렌-부틸렌 블록공중합체, 니트릴부타디엔 고무, 스타이렌부타디엔 고무, 클로로프렌 고무 등의 고무류, 비닐부틸알 수지, 비닐포름 수지 등의 비닐류 수지, 폴리에스터, 시아네이트에스터 수지 등 의 에스터 수지류, 페녹시 수지, 실리콘 고무, 우레탄 수지 등이 있을 사용할 수 있다.The resin for forming a film may be used without limitation as long as the resin is capable of forming a film well without chemically reacting with the curing agent used. Specifically, the film forming resin may be an acrylic resin such as an acrylate resin, an ethylene acrylate copolymer, an ethylene acrylic acid copolymer, an olefin resin such as an ethylene resin or an ethylene propylene copolymer, butadiene resin, acrylonitrile-butadiene air Copolymer, Styrene-Butadiene Block Copolymer, Styrene-Butadiene-Styrene Block Copolymer, Carboxylated Styrene-Ethylene-Butadiene-Styrene-Block Copolymer, Tylene Styrene-Butylene Block Copolymer, Nitrile Butadiene Rubbers such as rubber, styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, vinyl resins such as vinyl butylal resin and vinyl form resin, ester resins such as polyester and cyanate ester resin, phenoxy resin, silicone rubber, urethane resin, etc. Can be used.
상기 필름형성용 수지는 절연 접착 성분에 10 내지 50 중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 그 함량이 10 중량% 미만일 경우에는 필름형성이 어려울 수 있으며, 50 중량%를 초과할 경우에는 고상으로 유동성 수지 제조가 어려울 수 있다.The film forming resin is preferably contained in 10 to 50% by weight in the insulating adhesive component. When the content is less than 10% by weight it may be difficult to form a film, when it exceeds 50% by weight it may be difficult to manufacture a flowable resin in a solid phase.
본 발명의 이방 전도성 필름용 조성물에 사용되는 상기 절연 전도성 입자는 전술한 내용과 동일하므로, 여기에서는 자세한 언급은 생략한다.Since the insulating conductive particles used in the composition for anisotropic conductive film of the present invention are the same as described above, detailed description thereof will be omitted.
상기 절연 전도성 입자는 절연 접착 성분 100 중량부에 대하여 1 내지 30 중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 그 함량이 1 중량부 미만일 경우에는 도전성능이 저하될 수 있으며, 30 중량부를 초과할 경우에는 도전입자의 과량에 의한 필름형성 및 Pitch간 통전의 절연을 통제하기 어려울 수 있다The insulating conductive particles are preferably contained in 1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the insulating adhesive component. If the content is less than 1 part by weight, the conductivity may be lowered. If the content is more than 30 parts by weight, it may be difficult to control the insulation of the film formation and the pitch-to-pitch conduction due to the excessive amount of conductive particles.
본 발명의 이방 전도성 필름용 조성물에 사용되는 상기 무기 미립자는 실리카; 티타늄 옥사이드등의 무기 미립자 및 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스타이렌, 폴리비닐알코올 등을 포함하는 수지 및 그 변성 수지를 입자로 하여 유기물이 코팅된 입자; 그 위에 절연입자를 추가로 코팅한 절연화 처리된 도전성 입자 등을 사용할 수 있다.The inorganic fine particles used in the composition for anisotropic conductive films of the present invention are silica; Particles coated with an organic substance using inorganic fine particles such as titanium oxide and a resin including polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, polyvinyl alcohol, and the like and a modified resin thereof; Insulated electroconductive particle etc. which further coated the insulating particle on it can be used.
상기 무기 미립자는 절연 접착 성분 100 중량부에 대하여 0.1 내지 10 중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 그 함량이 0.1 중량부 미만일 경우에는 미립자에 의한 흐름성제어가 미비할 수 있으며, 10 중량부를 초과할 경우에는 필름형성 및 미립자의 분산이 용이하지 않을 수 있다.The inorganic fine particles are preferably contained in 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the insulating adhesive component. If the content is less than 0.1 parts by weight, flow control by the microparticles may be insufficient, and when the content exceeds 10 parts by weight, film formation and dispersion of the fine particles may not be easy.
상기와 같은 성분을 포함하는 이방 전도성 필름용 조성물은 경화제, 용제, 첨가제 등을 더 포함할 수 있다.The composition for anisotropic conductive films containing the above components may further include a curing agent, a solvent, an additive, and the like.
상기 경화제는 분자 내에 2개 이상의 활성수소를 가지는 것을 사용할 수 있으며, 구체적으로 이미다졸계, 이소시아네이트계, 아민계, 아미드계, 산무수물계 등을 사용할 수 있다. 그 함량은 절연 접착 성분 100 중량부에 대하여 0.1 내지 5 중량부로 포함될 수 있다.The curing agent may be used having two or more active hydrogen in the molecule, specifically, may be used imidazole, isocyanate, amine, amide, acid anhydride. The content may be included in an amount of 0.1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the insulating adhesive component.
상기 용제는 이방 전도성 필름용 조성물에 포함되는 각각의 성분을 균일하게 혼합하며, 조성물의 접도를 낮게 하여 필름의 제조가 용이하도록 하는 작용을 한다.The solvent uniformly mixes each component included in the composition for the anisotropic conductive film, and serves to make the film easier by lowering the composition of the composition.
상기 용제는 통상의 것이면 제한없이 사용할 수 있으며, 구체적으로 톨루엔, 자일렌, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 벤젠, 아세톤, 메틸에틸케톤, 테트라히드로 퓨란, 디메틸포름알데히드, 시클로헥사논 등을 사용할 수 있다. 그 함량은 절연 접착 성분 100 중량부에 대하여 10 내지 70 중량부로 포함될 수 있다.The solvent may be used without limitation as long as it is conventional, and specifically, toluene, xylene, propylene glycol monomethyl ether acetate, benzene, acetone, methyl ethyl ketone, tetrahydrofuran, dimethylformaldehyde, cyclohexanone, etc. may be used. . The content may be included in 10 to 70 parts by weight based on 100 parts by weight of the insulating adhesive component.
상기 첨가제는 이방 전도성 필름용 조성물의 기본 물성을 저해하지 않으면서 부가적인 물성을 추가시켜주기 위해 사용되는 것으로, 중합방지제, 산화방지제, 열안정제, 경화촉진제, 커플링제 등이 사용될 수 있다. 그 함량은 절연 접착 성분 100 중량부에 대하여 0.01 내지 5 중량부로 포함되는 것이 좋다.The additive is used to add additional physical properties without inhibiting the basic physical properties of the composition for the anisotropic conductive film, polymerization inhibitors, antioxidants, heat stabilizers, curing accelerators, coupling agents and the like can be used. The content is preferably included in 0.01 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the insulating adhesive component.
상기 중합방지제로는 하이드로퀴논, 하이드로퀴논 모노메틸에테르, p-벤조퀴논, 페노티아진, 이들의 혼합물 등을 사용할 수 있다. 또한, 열에 의해 유도되는 조성물의 산화반응 방지 및 열안정성을 부여해 주기 위한 목적으로 사용되는 상기 산화방지제로는 가지 친 페놀릭계 혹은 하이드록시 신나메이트계의 물질 등을 첨가할 수 있는데, 그 예로 테트라키스-(메틸렌-(3,5-디-t-부틸-4-하이드로 신나메이트)메탄, 3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시 벤젠 프로파노익 액시드 티올 디-2,1-에탄다일 에스터, 옥타데실 3,5-디-t-부틸-4-하이드록시 하이드로 신나메이트 (이상 Ciba사 제조), 2,6-디-터셔리-p-메틸페놀 등이 있으며, 반응 속도를 향상시켜 주는 경화촉진제로는 고상 이미다졸계 촉진제, 고상 및 액상 아민계 경화촉진제 등을 1종 이상 사용할 수 있다. 커플링제로는 비닐 트리클로로 실란, 비닐 트리메톡시 실란, 3-글리시독시 프로필 트리메톡시 실란, 3-메타아크릴록시 프로필 트리메톡시 실란, 2-아미노에틸-3-아미노프로필 메틸디메톡시 실란, 3-우레이도프로필 트리에톡시 실란 등이 있으며, 이와 같은 각종 실란계 커플링제가 1 종 이상 사용될 수 있으며, 상기 각종 첨가제들은 기재된 종류들로만 제한되는 것은 아니다.As the polymerization inhibitor, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, p-benzoquinone, phenothiazine, and mixtures thereof may be used. In addition, as the antioxidant used for the purpose of preventing oxidation reaction and imparting thermal stability of the composition induced by heat, a branched phenolic or hydroxy cinnamate-based substance may be added. For example, tetrakis -(Methylene- (3,5-di-t-butyl-4-hydro cinnamate) methane, 3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy benzene propanoic acid thiol di- 2,1-ethanediyl ester, octadecyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy hydrocinnamate (above manufactured by Ciba), 2,6-di-tertiary-p-methylphenol, and the like. As the curing accelerator for improving the reaction rate, at least one of a solid imidazole accelerator, a solid phase and a liquid amine curing accelerator can be used, etc. As the coupling agent, vinyl trichloro silane, vinyl trimethoxy silane, 3- Glycidoxy propyl trimethoxy silane, 3-methacryloxy propyl trimeth Methoxy silane, 2-aminoethyl-3-aminopropyl methyldimethoxy silane, 3-ureidopropyl triethoxy silane, and the like, and one or more of these various silane coupling agents may be used. It is not limited to kinds.
또한 본 발명의 이방 전도성 필름용 조성물은 상기의 기본 구성 인자 및 본 발명의 목적을 달성하기 위한 필수 함유 인자들 외에도 유기계 실란으로 표면 처리된 약 5~20 나노미터(㎚)의 크기를 갖는 소수성 나노 실리카 입자를 포함함으로써 공정 조건에 따른 흐름성의 원활한 조절과 경화된 이방 전도성 필름의 경화 구조를 매우 견고하도록 유도해 줌으로써 고온에서 팽창이 일어나지 않도록 해주며, 이에 따라 우수한 초기 접착력 및 낮은 접속 저항을 구현하는 이방 전도성 필름을 제조할 수도 있다.In addition, the composition for the anisotropic conductive film of the present invention is hydrophobic nano having a size of about 5 to 20 nanometers (nm) surface-treated with an organic silane, in addition to the basic constituent factors and essential containing factors for achieving the object of the present invention. The inclusion of silica particles induces smooth control of flowability according to the process conditions and very hardening of the cured structure of the cured anisotropic conductive film, thereby preventing expansion at high temperatures, thereby providing excellent initial adhesion and low connection resistance. You may manufacture an anisotropic conductive film.
이러한 유기계 실란으로 표면 처리된 약 5~20 나노미터(㎚)의 크기를 갖는 소수성 나노 실리카 입자로는 Aerosil R-972, Aerosil R-202, Aerosil R-805, Aerosil R-812, Aerosil R-8200(이상 데구사) 등이 있고, 어느 종류의 것을 사용하여도 무방하며, 반드시 이에 국한되는 것은 아니다.Hydrophobic nano silica particles having a size of about 5-20 nanometers (nm) surface-treated with such organic silanes include Aerosil R-972, Aerosil R-202, Aerosil R-805, Aerosil R-812, Aerosil R-8200 (Degussa) and the like, and may be used in any kind, but is not necessarily limited thereto.
또한 본 발명은 상기와 같은 이방 전도성 필름용 조성물로 형성된 이방 전도성 필름을 제공한다.In another aspect, the present invention provides an anisotropic conductive film formed of the composition for an anisotropic conductive film as described above.
상기 이방 전도성 필름을 형성하는 방법으로는 특별한 장치나 설비가 필요치 않으며, 절연 접착 성분, 절연 전도성 입자, 무기 미립자, 경화제 및 기타 첨가제를 용제에 용해시켜 액상화하여 상기의 성분들이 분쇄되지 않는 속도 범위 내에서 일정시간 교반하여 균일한 혼합물을 얻은 후, 이를 이형 필름 위에 10~50 ㎛의 두께로 도포한 다음 일정 시간 건조하여 용제를 휘발시킴으로써 단층의 이방성 도전 필름을 얻을 수 있다. 또한, 본 발명에서는 상기의 과정을 2회 이상 반복함으로써 2층 이상의 복층 구조를 갖는 이방성 도전 필름을 얻을 수도 있다.The method for forming the anisotropic conductive film does not require any special apparatus or equipment, and the insulating adhesive component, the insulating conductive particles, the inorganic fine particles, the curing agent and other additives are dissolved in a solvent to liquefy and the above components are within the range of the pulverization. After stirring for a certain time to obtain a uniform mixture, it is applied to a thickness of 10 ~ 50 ㎛ on a release film and then dried for a certain time to obtain a monolayer anisotropic conductive film. Moreover, in this invention, anisotropic conductive film which has a multilayer structure of two or more layers can also be obtained by repeating the above process twice or more.
이하 본 발명을 도면을 참조하여 자세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 1은 본 발명의 절연성 수지 미립자를 도시한 단면도이다. 도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 절연성 수지 미립자(10)는 코어층(11)과 쉘층(12)을 갖는 코어-쉘 형태의 고분자 심재(13)와 상기 고분자 심재(13)의 말단에 결합된 에폭시 반응성 작용기(14)로 이루어진다.1 is a cross-sectional view showing the insulating resin fine particles of the present invention. As shown in FIG. 1, the insulating resin
도 1에서는 코어-쉘 형태의 고분자 심재 말단에 에폭시 반응성 작용기가 결합된 구조를 도시하였으나, 본 발명의 절연성 수지 미립자가 코어-쉘 형태의 고분자 심재에만 한정되는 것이 아니라 단일 구조의 고분자 심재 말단에 에폭시 반응성 작용기가 결합된 것도 모두 포함한다.1 illustrates a structure in which an epoxy-reactive functional group is bonded to the core-shell-shaped polymer core end, but the insulating resin fine particles of the present invention are not limited to the core-shell polymer core but are epoxy at the end of a single core polymer core. It also includes all reactive functional groups.
상기 절연성 수지 미립자에 대한 구체적인 설명은 전술한 내용과 동일하므로, 여기에서는 자세한 언급은 생략한다.Since the detailed description of the insulating resin fine particles is the same as described above, detailed description thereof will be omitted.
도 2는 본 발명의 절연 전도성 입자를 도시한 단면도이다. 도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 절연 전도성 입자(20)는 도전성 입자(21)와 상기 도전성 입자(21)의 표면에 형성되며, 말단에 에폭시 반응성 작용기(14)를 갖는 절연성 수지 미립자(10)로 형성된 절연수지층(22)으로 이루어진다. 2 is a cross-sectional view showing the insulating conductive particles of the present invention. As shown in FIG. 2, the insulating
상기 절연 전도성 입자(20)는 도전성 입자(21)간의 응집을 피하면서 도전성 입자(21)의 표면에 충분한 절연수지층(22)를 형성할 수 있게 된다.The insulating
상기 절연 전도성 입자(20)에 에너지가 가하지게 되면 절연성 수지 미립자(10)의 말단에 결합된 에폭시 반응성 작용기(14)에 의하여 필름 조성물과 반응하게 되어 우수한 절연특성을 발휘하게 된다.When energy is applied to the insulating
상기 절연 전도성 입자에 대한 구체적인 설명은 전술한 내용과 동일하므로, 여기에서는 자세한 언급은 생략한다.Since the detailed description of the insulating conductive particles is the same as the above description, detailed description thereof will be omitted.
도 3은 본 발명의 이방 전도성 필름을 도시한 단면도이다. 도 3에 도시한 바와 같이, 본 발명의 이방 전도성 필름(30)은 절연 전도성 입자(20), 무기 미립자(31) 및 절연 접착 성분(32)로 이루어진다.3 is a cross-sectional view showing an anisotropic conductive film of the present invention. As shown in FIG. 3, the anisotropic
상기 이방 전도성 필름(30)은 본 발명의 절연 전도성 입자(20)를 포함하여 우수한 절연 특성을 나타내며, 금속과의 결합력을 충족시키고, 균일하고 우수한 품질의 전기 접속특성을 제공하게 된다.The anisotropic
상기 이방 전도성 필름에 대한 구체적인 설명은 전술한 내용과 동일하므로, 여기에서는 자세한 언급은 생략한다.Since the detailed description of the anisotropic conductive film is the same as the foregoing, detailed description thereof will be omitted.
이하에서는 합성예 및 실시예를 들어 본 발명에 관하여 더욱 상세하게 설명할 것이나. 이들 실시예는 단지 설명의 목적을 위한 것으로 본 발명의 보호 범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Synthesis Examples and Examples. These embodiments are for purposes of illustration only and are not intended to limit the scope of protection of the present invention.
실시예 1. 절연성 수지 미립자 제조Example 1 Preparation of Insulating Resin Fine Particles
소듐 라우릴 설페이트(sodium lauryl sulfate, SLS) 0.5g을 3,000g의 초순수(DI water)에 10분간 분산시켰다. 여기에 스타이렌(styrene, St) 30g을 넣고 1 시간 동안 분산 및 유화시켰다. 이때, 질소(N2)분위기를 조성해주었다. 그 다음, 포타슘 퍼설페이트(potassium persulfate, KPS) 1g을 물에 용해시켜 투입하고, 80℃에서 1시간 동안 반응시켜 고분자 심재를 형성하였다. 상기 반응이 완료된 후 스타이렌 45g, 디비닐벤젠(divinylbenzene, DVB) 75g 및 포타슘 퍼설페이트 3.5g을 순차적으로 투입하면서 동일온도에서 10시간 동안 반응시켰다. 반응 종료 후, 소듐 라우릴 설페이트 1.5g과 포타슘 퍼설페이트 0.5g을 추가 투입하여 20분간 교반한 후, 스타이렌 195g, 디비닐벤젠 25g 및 글리시딜 메타크릴레이트(glycidyl methacrylate) 45g을 순차적으로 투입하면서 10시간 동안 반응시켰다. 반응이 종결된 유화체는 원심분리기를 이용하여 중합체를 분리한 후 동결 건조하여 최종 절연성 수지 미립자를 수득하였다.0.5 g of sodium lauryl sulfate (SLS) was dispersed in 3,000 g of ultrapure water (DI water) for 10 minutes. 30 g of styrene (St) was added thereto and dispersed and emulsified for 1 hour. At this time, a nitrogen (N 2 ) atmosphere was formed. Then, 1g of potassium persulfate (potassium persulfate, KPS) was dissolved in water, added and reacted at 80 ° C for 1 hour to form a polymer core. After completion of the reaction, 45 g of styrene, 75 g of divinylbenzene (DVB), and 3.5 g of potassium persulfate were sequentially added, followed by reaction at the same temperature for 10 hours. After the reaction was completed, 1.5 g of sodium lauryl sulfate and 0.5 g of potassium persulfate were further added thereto, followed by stirring for 20 minutes. Then, 195 g of styrene, 25 g of divinylbenzene, and 45 g of glycidyl methacrylate were sequentially added. The reaction was carried out for 10 hours. After completion of the reaction, the emulsion was separated from the polymer using a centrifuge and freeze-dried to obtain final insulating resin fine particles.
실시예 2. 절연성 수지 미립자 제조Example 2. Preparation of Insulating Resin Fine Particles
상기 실시예 1에서 글리시딜 메타크릴레이트를 80g으로 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다.Except for using glycidyl methacrylate in 80g in Example 1 was carried out in the same manner as in Example 1.
비교예 1. 절연성 수지 미립자 제조Comparative Example 1. Preparation of insulating resin fine particles
상기 실시예 1에서 글리시딜 메타크릴레이트를 사용하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다.Except for using glycidyl methacrylate in Example 1 was carried out in the same manner as in Example 1.
실시예 3~8. 절연 전도성 입자 제조Examples 3-8. Insulation Conductive Particles Manufacturing
하기 표 1과 같이 직경 4㎛의 도전볼(Sekisui社 AUL-704)의 표면에 상기 실시예 1 또는 2에서 제조한 절연성 미립자를 물리적 충격법(Hybridizer)을 이용하여 피막을 형성하였다.As shown in Table 1, the insulating fine particles prepared in Example 1 or 2 were formed on the surface of the conductive ball (Sekisui AUL-704) having a diameter of 4 μm using a physical impact method (Hybridizer).
비교예 2~4. 절연 전도성 입자 제조Comparative Examples 2-4. Insulation Conductive Particles Manufacturing
하기 표 2와 같이 직경 4㎛의 도전볼(Sekisui社 AUL-704)의 표면에 상기 비교예 1에서 제조한 절연성 미립자를 물리적 충격법(Hybridizer)을 이용하여 피막을 형성하였다.As shown in Table 2, the insulating fine particles prepared in Comparative Example 1 were formed on the surface of the conductive ball (Sekisui AUL-704) having a diameter of 4 μm using a physical impact method (Hybridizer).
상기 제조된 절연 전도성 입자의 내전압을 도 4에 도시한 방법을 이용하여 측정하고, 그 결과를 하기 표 1 및 표 2에 나타내었다. 내전압은 그 값이 높을 수록 전기가 잘 통하지 않음을 의미한다. 따라서, 내전압이 0.5~1.2kV 에 있을 경우 절연특성이 우수하다.The withstand voltage of the prepared insulating conductive particles was measured using the method shown in FIG. 4, and the results are shown in Tables 1 and 2 below. The withstand voltage means that the higher the value, the less the electricity passes. Therefore, the insulation characteristic is excellent when the withstand voltage is 0.5 ~ 1.2kV.
(제조예)Insulating fine particles
(Production example)
함량 (wt%)Challenge Ball
Content (wt%)
(%)Coverage
(%)
(㎚)Insulation layer thickness
(Nm)
(kV)Withstand voltage
(kV)
(비교예)Insulating fine particles
(Comparative Example)
함량 (wt%)Challenge Ball
Content (wt%)
(%)Coverage
(%)
(㎚)Insulation layer thickness
(Nm)
(kV)Withstand voltage
(kV)
상기 표 1 및 표 2에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따라 말단에 에폭시 반응성 작용기를 갖는 절연성 수지 미립자를 이용하여 표면처리된 실시예 3 내지 8의 절연 전도성 입자는 내전압이 0.3~0.9KV으로 비교예 2 내지 4와 비교하여 절연특성이 우수하게 나타남을 확인할 수 있었다.As shown in Table 1 and Table 2, the insulating conductive particles of Examples 3 to 8 surface-treated using insulating resin fine particles having an epoxy reactive functional group at the terminal according to the present invention has a breakdown voltage of 0.3 ~ 0.9KV Comparative Example Compared with 2 to 4 it was confirmed that the insulation properties are excellent.
실시예 9~14. 이방 전도성 필름용 조성물 제조Examples 9-14. Preparation of composition for anisotropic conductive film
하기 표 3에 나타낸 성분과 조성으로 이방 전도성 필름용 조성물을 제조하였다.To the composition and composition shown in Table 3 below to prepare a composition for an anisotropic conductive film.
상기 이방 전도성 필름용 조성물을 각각 백색 이형 필름 위에 도포한 후, 80℃의 건조기에서 용제를 휘발시켜 20㎛ 두께의 건조된 이방 도전성 필름을 얻었다. After apply | coating said composition for anisotropic conductive films on a white release film, respectively, the solvent was volatilized in the dryer of 80 degreeC, and the dried anisotropic conductive film of 20 micrometer thickness was obtained.
그 다음, 상기 이방 도전성 필름을 이용하여 도 5 및 6에 도시한 방법으로 접속저항 및 절연저항을 측정하고, 그 결과를 하기 표 4에 나타내었다.Then, the connection resistance and insulation resistance were measured by the method shown in FIGS. 5 and 6 using the anisotropic conductive film, and the results are shown in Table 4 below.
(실시예)Applicable Insulation Ball
(Example)
(Ω)Connection resistance
(Ω)
(Ω)Insulation Resistance
(Ω)
상기 표 4에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 말단에 에폭시 반응성 작용기를 갖는 절연성 수지 미립자를 이용하여 표면처리된 절연 전도성 입자가 포함된 실시예 9 내지 14의 이방 전도성 필름은 접속저항, 절연저항 및 구동특성이 에폭시 그룹이 포함되지 않은 절연입자를 동일 함량으로 절연처리한 절연도전성 입자를 포함한 도전성 필름보다 우수함을 확인할 수 있었다.As shown in Table 4, the anisotropic conductive films of Examples 9 to 14 containing the insulating conductive particles surface-treated using the insulating resin fine particles having an epoxy reactive functional group at the terminal according to the present invention, the connection resistance, insulation resistance and It was confirmed that the driving characteristics were superior to the conductive film including the insulating conductive particles insulated with the same content of the insulating particles not containing the epoxy group.
비록 본 발명이 상기에 언급된 바람직한 실시예로서 설명되었으나, 발명의 요지와 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 수정이나 변형을 하는 것이 가능하다. 또한 첨부된 청구 범위는 본 발명의 요지에 속하는 이러한 수정이나 변형을 포함한다.Although the present invention has been described as the preferred embodiment mentioned above, it is possible to make various modifications or variations without departing from the spirit and scope of the invention. The appended claims also cover such modifications and variations as fall within the spirit of the invention.
도 1은 본 발명의 절연성 수지 미립자를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing the insulating resin fine particles of the present invention.
도 2는 본 발명의 절연 전도성 입자를 도시한 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing the insulating conductive particles of the present invention.
도 3은 본 발명의 이방 전도성 필름을 도시한 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing an anisotropic conductive film of the present invention.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따라 절연 전도성 입자의 내전압을 측정하기 위한 방법을 도시한 것이다.Figure 4 illustrates a method for measuring the breakdown voltage of the insulating conductive particles in accordance with an embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따라 이방 전도성 필름의 접속저항을 측정하기 위한 방법을 도시한 것이다.Figure 5 shows a method for measuring the connection resistance of the anisotropic conductive film in accordance with an embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따라 이방 전도성 필름의 절연저항을 측정하기 위한 방법을 도시한 것이다.Figure 6 illustrates a method for measuring the insulation resistance of the anisotropic conductive film according to an embodiment of the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
10: 절연성 수지 미립자10: insulating resin fine particles
11: 코어층 12: 쉘층11: core layer 12: shell layer
13: 코어-쉘 형태의 고분자 심재 14: 에폭시 반응성 작용기13: core-shell polymer core 14: epoxy reactive functional group
20: 절연 전도성 입자20: insulating conductive particles
21: 도전성 입자 22: 절연수지층21: conductive particles 22: insulating resin layer
30: 이방 전도성 필름30: anisotropic conductive film
31: 무기 미립자 32: 절연 접착 성분31: inorganic fine particles 32: insulating adhesive component
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