KR101147941B1 - Cylindrical target obtained by hot isostatic pressing - Google Patents

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Abstract

회전식 타겟과 타겟 결과물을 생성하기 위한 방법이 설명된다. 타겟 형성 재료는 원통형 몰드 사이에 형성된 중공에 부어지고, 내부 튜브는 상부 및 저부 폐쇄 본체에 의해 동축으로 보유된다. 조립체는 상승된 온도와 압력에서 열간 등방압 처리를 받는다. 본 방법은 열간 등방압 처리 동안 내부 튜브가 변형되고 사실상 변형되지 않는 외부 몰드에 대해 타겟 형성 재료를 가압하는 점에서 종래 기술 분야와 상이하다.A rotating target and a method for generating the target output are described. The target forming material is poured into a hollow formed between the cylindrical molds and the inner tube is held coaxially by the top and bottom closure bodies. The assembly is subjected to hot isostatic treatment at elevated temperatures and pressures. The method differs from the prior art in that the inner tube deforms during hot isostatic treatment and presses the target forming material against the outer mold which is virtually undeformed.

Description

열간 등방압 처리에 의해 얻어진 원통형 타겟{CYLINDRICAL TARGET OBTAINED BY HOT ISOSTATIC PRESSING}Cylindrical target obtained by hot isotropic pressure treatment {CYLINDRICAL TARGET OBTAINED BY HOT ISOSTATIC PRESSING}

본 발명은 외향 열간 등방압 처리(HIP, Hot Isostatic Pressing)에 의해 회전 가능한 스퍼터링 타겟을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a rotatable sputtering target by outward hot isostatic pressing (HIP).

재료의 사용량의 증가 및 호의 감소 등의 회전 원통형 타겟의 장점은 세라믹과 같은 종래의 재료가 아닌 것을 이용하는데 보다 매력적이라는 것이다. 이들 재료를 용융 또는 기화시키기 위해 필요한 높은 열은 주조와 같은 종래의 타겟 제조 방법을 사용하지 못하게 한다. 근래, 회전식 세라믹 타겟을 배킹 튜브에서 직접 제조하기 위한 두 가지의 가장 일반적인 루트가 있고, 이는,Advantages of rotating cylindrical targets, such as increased material usage and reduced arcing, are that they are more attractive for using non-traditional materials such as ceramics. The high heat needed to melt or vaporize these materials prevents the use of conventional target manufacturing methods such as casting. Nowadays, there are two most common routes for manufacturing rotary ceramic targets directly from the backing tube, which is

- 세라믹을 포함하는 파우더가 가스 플라즈마에 의해 가열되고 제어된 가스 대기에서 배킹 튜브 상에 고속으로 스프레이되는 플라즈마 스프레이. 예를 들어, 타겟 재료가 TiOx(x < 2)인 미국 특허 제6,461,686호를 참조한다. 그러나, 이러한 방법은 예를 들어, 파우더가 너무 미세하거나 피더 내에서 점착될 확률이 있으면 파우더를 노즐 제트 내로 주입하기 어려서 적용할 수 없다. A plasma spray in which the powder comprising ceramic is heated by the gas plasma and sprayed at high speed on the backing tube in a controlled gas atmosphere. See, for example, US Pat. No. 6,461,686, wherein the target material is TiO x (x <2). However, this method cannot be applied, for example, if the powder is too fine or if there is a possibility of sticking in the feeder, it is difficult to inject the powder into the nozzle jet.

- 열간 등방압 처리 방법(HIPping). 여기서 타겟 형성 재료는 비변형성 코 어를 갖는 비교적 얇은 벽을 갖는 변형 가능한 원통형 캔으로 이루어지고, 비변형성 코어는 원통형 캔과 동축으로 장착된다. 가스 기밀식 밀봉부에 의해 상호 과립형 가스의 배출 후에, 캔은 높은 압력(일반적으로 특히 아르곤인 유체에 의해 50 내지 200 ㎫)을 받으면서, 높은 온도(250 내지 1500 ℃)에서 유지된다. 그 다음의 냉각 및 압력 정상화 후에, 캔은 타겟 재료로부터 기계적으로 제거된다. 압력 및 온도는 이론적인 밀도에 매우 근접한 밀도를 갖는 고형의 유리형 재료로 파우더의 밀도를 높게 한다.Hot isotropic pressure treatment (HIPping). The target forming material here consists of a deformable cylindrical can having a relatively thin wall with an undeformed core, and the undeformed core is mounted coaxially with the cylindrical can. After the discharge of the intergranular gas by means of a gas tight seal, the can is kept at high temperature (250-1500 ° C.), while being subjected to high pressure (50 to 200 MPa, in particular by a fluid which is usually argon). After subsequent cooling and pressure normalization, the can is mechanically removed from the target material. Pressure and temperature increase the density of the powder with a solid glassy material having a density very close to the theoretical density.

HIP 방법에 의해 얻어진 회전식 스퍼터링 타겟은 미국 특허 제5,354,446호 및 미국 특허 제5,435,965호에 개시되어 있습니다. 비변형성 코어는 열간 등방압 처리에서 타겟 재료가 용해되는 고형 금속 실린더이다. 고형 금속 실린더는 타겟의 작동 동안 코어와 타겟 사이의 열응력을 완화하기 위한 중간층으로 코팅될 수 있다.(미국 특허 제5,354,446호) 또한, 고형 금속은 배킹 튜브와 타겟 재료 사이의 접착을 개선시키기 위해 기계적으로 처리(쓰레드 가공 또는 샌드 블래스트 가공)될 수 있다.(미국 특허 제5,354,446호) 고형 실린더 대신에, 원형 튜브를 이용하는 것이 미국 특허 제5,435,965호에 제안되었다.Rotary sputtering targets obtained by the HIP method are disclosed in US Pat. No. 5,354,446 and US Pat. No. 5,435,965. An undeformed core is a solid metal cylinder in which a target material is dissolved in a hot isostatic treatment. Solid metal cylinders may be coated with an interlayer to mitigate thermal stress between the core and the target during operation of the target. (US Pat. No. 5,354,446) Solid metal may also be used to improve adhesion between the backing tube and the target material. It can be mechanically processed (threaded or sand blasted). (US Pat. No. 5,354,446) Instead of solid cylinders, it has been proposed in US Pat. No. 5,435,965 to use round tubes.

외부 캔의 벽은 너무 두껍지 않아야 하고, 벽은 파우더의 등방압 작용을 방해하지 않는다. 외부 캔의 압축도는 캔의 치수, 타겟 재료층의 최종 두께 및 파우더의 압밀도에 종속된다. 외부 캔 재료의 압축도가 임계치를 초과하면, 외부 캔은 비틀림(buckle)이 발생할 것이고, 즉 외부 캔의 압축도가 더 이상 균일하지 않고 외부 표면은 함께 주름지게 된다. 비틀림이 발생할 때, 비용융 타겟 재료의 압축 도는 더 이상 균일하지 않아서 불균일한 재료로 된다. 타겟 재료가 HIP 프로세스 동안 용융되는 경우에, 재료는 계속해서 균일하게 압축될 것이다. 두 경우에, 캔의 불규칙한 형상은 잉곳으로부터 캔을 제어하기 어렵게 되고, 외부 표면의 기계 가공을 요구한다.(미국 특허 제5,435,965호의 표2에 도시됨) 이러한 기계 가공은 부가의 프로세스 단계뿐만 아니라 고가의 재료의 상당한 손실을 야기한다.The wall of the outer can should not be too thick and the wall does not interfere with the isostatic action of the powder. The compressibility of the outer can depends on the dimensions of the can, the final thickness of the target material layer and the compactness of the powder. If the compressibility of the outer can material exceeds the threshold, the outer can will be buckled, ie the compressibility of the outer can is no longer uniform and the outer surfaces are corrugated together. When torsion occurs, the degree of compaction of the non-melting target material is no longer uniform, resulting in a non-uniform material. If the target material is melted during the HIP process, the material will continue to compact evenly. In both cases, the irregular shape of the can becomes difficult to control the can from the ingot and requires machining of the outer surface (shown in Table 2 of US Pat. No. 5,435,965). Such machining is expensive as well as additional process steps. Causes significant loss of material.

본 발명의 목적은 종래 기술의 전술한 단점을 제거하는 것이다. 보다 상세히는, 본 발명의 목적은 잉곳의 외부 표면을 기계 가공하는 부가의 프로세스 단계를 제거하기 위한 것이다. 부가적으로, 이러한 기계 가공 단계에 의한 재료의 손실이 또한 방지된다. 현존하는 기술의 다른 문제들 또한 후술하는 설명에서 개시한 바와 같이 해결될 것이다.It is an object of the present invention to obviate the aforementioned disadvantages of the prior art. More specifically, it is an object of the present invention to eliminate the additional process steps of machining the outer surface of the ingot. In addition, the loss of material by this machining step is also prevented. Other problems of the existing technology will also be solved as disclosed in the description below.

본 발명의 제1 양태는 청구항 제1항 및 그 종속항인 청구항 제2항 내지 제7항의 특징을 조합하여 설명되는 회전식 스퍼터링 타겟의 제조 방법에 관한 것이다.A first aspect of the invention relates to a method for producing a rotary sputtering target described by combining the features of claims 1 and its dependent claims.

이러한 방법은,This way,

(A) 내부 튜브를 제공한다. 최종적으로 이러한 내부 튜브는 타겟 재료의 캐리어일 것이다. 이러한 내부 튜브의 외부 표면은 내부 튜브로의 타겟 재료의 접착을 개선하기 위해 표면 코팅 또는 (쓰레드 가공, 브러시 가공 또는 그리트 블래스팅과 같은) 표면 처리를 구비하거나 구비하지 않을 것이다. 또는, 이러한 내부 튜브는 냉각 후에 잔여 열응력을 완화시키기 위해 내부 튜브와 타겟 재료 사이의 중간 열 팽창 계수를 갖는 코팅으로 처리될 수 있다. 이들 코팅은 플라즈마 스프레이와 같은 공지된 기술에 의해 도포될 수 있다.(A) Provide an inner tube. Finally this inner tube will be a carrier of the target material. The outer surface of this inner tube may or may not have a surface coating or surface treatment (such as threading, brushing or grit blasting) to improve the adhesion of the target material to the inner tube. Alternatively, such inner tubes may be treated with a coating having a median thermal expansion coefficient between the inner tube and the target material to relieve residual thermal stress after cooling. These coatings may be applied by known techniques such as plasma sprays.

(B) 제2 단계에서 외부 몰드가 내부 튜브 주변에 장착된다. 이러한 몰드는 회전 중심축을 갖는 회전 본체의 형상의 내부 공동(cavity)을 갖는다. 몰드는 내부 튜브의 축에 동축인 회전 중심축에 장착된다. 내부 튜브와 외부 몰드 사이에 형성되는 중공은 타겟 형성 재료가 보유되도록 제공된다. 몰드의 내측은 Al2O3와 같은 점착 방지층, 열 스프레이층, 또는 포일로 커버되거나 또는 표면 처리를 받을 수 있거나 그렇지 않을 것이다.(B) In the second step, the outer mold is mounted around the inner tube. Such a mold has an internal cavity in the shape of a rotating body having a central axis of rotation. The mold is mounted on a central axis of rotation coaxial to the axis of the inner tube. A hollow formed between the inner tube and the outer mold is provided to hold the target forming material. The inside of the mold may or may not be covered or surface treated with an anti-stick layer, such as Al 2 O 3 , a thermal spray layer, or foil.

(C) 저부 환형 폐쇄 본체가 내부 튜브와 몰드 사이에 제공된다. 폐쇄 본체는 몰드와 내부 튜브 사이를 밀봉하여, 다음 단계에서 극한 상태의 온도와 압력 하에서 시임을 보유한다. 밀봉은 용접 또는 땜질에 의해 수행될 수 있다. 밀봉은 또한 예를 들어 내부 튜브의 단부의 외측과 환형 폐쇄 본체의 내부 덮개(mantle)에 쓰레드 가공함으로써 쓰레드 체결식 연결부에 의해서와 같이 기계적인 수단에 의해 얻어질 수 있다. 동일한 것이 환형 폐쇄 본체의 외부 덮개와 몰드 단부의 내측에 수행될 수 있다. 또는, 내부 튜브는 플랜지와 림 사이에 적절한 밀봉부를 갖고 몰드에 부착되는 림에 그 다음에 볼트 체결되는 단부 플랜지의 중심에 쓰레드 결합될 수 있다. (C) A bottom annular closed body is provided between the inner tube and the mold. The closed body seals between the mold and the inner tube, retaining the seam under extreme temperatures and pressures in the next step. Sealing can be performed by welding or soldering. Sealing can also be obtained by mechanical means, such as by threaded connections, for example by threading the outside of the end of the inner tube and the inner mantle of the annular closure body. The same can be done inside the outer lid of the annular closure body and the mold end. Alternatively, the inner tube may be threaded to the center of the end flange which is then bolted to the rim attached to the mold with a suitable seal between the flange and the rim.

(D) 타겟 형성 재료로 중공을 충진한다. 통상적으로, 파우더 형태로 공급될 수 있는 임의의 종류의 타겟 형성 재료용으로 본 방법이 이용될 수 있다. 파우더는 내부 튜브와 몰드 사이의 중공에 예를 들어 주입함으로써 제공될 수 있다. 파우더의 비제한적인 예는 세라믹 파우더이고, 보다 특정하게는, 인듐, 주석, 아연, 갈륨, 구리, 티타늄, 알루미늄 등과 같은 금속의 산화물, 질화물 또는 탄화물이다. 이들 세라믹 파우더들의 합성 혼합물이 또한 가능하고, 예를 들어 산화아연(ZnO)이 산화알루미늄(Al2O3)과 혼합될 수 있다. 순수한 금속 파우더와 이들 세라믹 파우더의 혼합물이 또한 회전식 타겟의 바람직한 특성을 얻기 위해 가능하고, 주목할 만한 예는 주석(Sn) 파우더와 혼합된 인듐 세스퀴산화물(indium sesquioxide; In2O3)이다. 파우더는 중공 내에서 이들을 주입하기 전에 합금될 수 있다. 하나의 합금 방법, 즉 기계적인 합금은 예를 들어, 유럽 특허 EP 0 871 793호에 개시된다. 당업자들은 파우더가 그 다음 단계로 진행하기 전에 적절하게 밀도가 상승하여야 한다는 것을 이해할 것이다. 가장 일반적으로 이는 진동에 의해 수행된다.(D) The hollow is filled with the target forming material. Typically, the method can be used for any kind of target forming material that can be supplied in powder form. The powder may be provided by, for example, injecting into the hollow between the inner tube and the mold. Non-limiting examples of powders are ceramic powders, more particularly oxides, nitrides or carbides of metals such as indium, tin, zinc, gallium, copper, titanium, aluminum and the like. Synthetic mixtures of these ceramic powders are also possible, for example zinc oxide (ZnO) can be mixed with aluminum oxide (Al 2 O 3 ). Pure metal powders and mixtures of these ceramic powders are also possible to achieve the desired properties of the rotary targets, a notable example being indium sesquioxide (In 2 O 3 ) mixed with tin (Sn) powder. Powders may be alloyed prior to injecting them in the cavity. One alloying process, ie mechanical alloying, is for example disclosed in European patent EP 0 871 793. Those skilled in the art will understand that the powder must rise appropriately before proceeding to the next step. Most commonly this is done by vibration.

(E) 상부 환형 폐쇄 본체를 제공하여 상기 내부 튜브와 상기 몰드에 대해 상부 환형 폐쇄 본체를 밀봉한다. 밀봉은 저부 폐쇄 본체를 밀봉하기 위한 단계 (C)의 프로세스에서 설명된 것과 같은 임의의 기술로 수행된다.(E) Provide an upper annular closure body to seal the upper annular closure body against the inner tube and the mold. Sealing is performed by any technique as described in the process of step (C) for sealing the bottom closure body.

(F) 배출하고 상기 중공을 밀봉한다. 배출은 일반적으로 상부 폐쇄 본체의 배출 튜브를 통해 수행된다. 배출 동안, 밀도가 높아진다. 배출 동안의 상승된 온도(> 100 ℃)는 파우더로부터 물과 다른 휘발성 오염물을 제거하는 것을 조력할 것이다. 배출 튜브는 충분한 진공에 도달하면 밀봉된다. 몰드와 함께, 내부 튜브와 저부 폐쇄 본체는 중앙에 홀을 갖는 폐쇄 용기를 형성한다.(F) Drain and seal the hollow. Discharge is generally carried out through the discharge tube of the upper closure body. During discharge, the density is high. Elevated temperatures during discharge (> 100 ° C.) will help remove water and other volatile contaminants from the powder. The discharge tube is sealed when a sufficient vacuum is reached. Together with the mold, the inner tube and the bottom closure body form a closed container with a hole in the center.

(G) 제조의 다음 단계로써, 용기의 열간 등방압 처리를 받는다. 이러한 처리는 일반적으로 불활성 대기 하에서 50 내지 200 ㎫의 압력과 250 ℃ 내지 1500 ℃ 사이의 상승된 온도에서 수행된다. 생성되는 타겟 재료는 온도, 압력 및 기간의 정확한 프로세싱 상태로 지시된다. 처리 사이클은 최적 타겟 재료를 얻기 위해 상이한 기간 동안 상이한 수준의 온도와 압력으로 유지됨으로써 복잡해질 수 있다.(G) As a next step of manufacture, the vessel is subjected to a hot isostatic treatment. This treatment is generally carried out under an inert atmosphere at a pressure of 50 to 200 MPa and at elevated temperatures between 250 ° C and 1500 ° C. The resulting target material is dictated by the exact processing state of temperature, pressure and duration. Treatment cycles can be complicated by maintaining different levels of temperature and pressure for different periods of time to obtain optimal target materials.

단계 (A) 내지 (G)는 해당 기술 분야에 공지되었다. 용기의 모든 부품은 금속 또는 그 사용을 위해 선택된 합금으로 제조된다. 통상적인 재료는 스테인리스 강, 티타늄 및 그 합금, 알루미늄 및 그 합금, 하스텔로이, 인코넬 등이다. 용기의 모든 부품은 동일한 금속 또는 합금으로 제조되지만 본 발명에서 그럴 필요는 없다.Steps (A) to (G) are known in the art. All parts of the container are made of metal or an alloy selected for its use. Typical materials are stainless steel, titanium and alloys thereof, aluminum and alloys thereof, Hastelloy, Inconel and the like. All parts of the container are made of the same metal or alloy but need not be so in the present invention.

본 발명자의 해당 기술 분야의 상황에 걸친 기여도는 이들이 열간 등방압 처리 동안 내부 튜브가 변형되고 실질적으로 변형이 이루어지지 않는 비변형성인 외부 몰드에 대해 타겟 형성 재료를 가압하여, 공지된 프로세스가 갖는 문제점을 극복했다는 것이다.The contribution of the present inventors to the state of the art is that the problem with known processes is that they press the target forming material against an unmodified outer mold in which the inner tube is deformed and substantially undeformed during the hot isostatic treatment. It is to overcome.

이를 보증하기 위해, 내부 튜브 및 외부 몰드의 강도 요구 사항은 현존하는 분야에 비해 반대로 된다. 실지로, 내부 튜브를 변형시키도록 하기 위해, 압력은 내부 튜브로 진입하여 이를 변형시킬 수 있어야 한다. 외부 몰드가 동일한 등방압을 받더라도, 외부 몰드는 압력에 견디어 내부 튜브 대비 변형이 실질적으로 거의 이루어지지 않는 비변형성이어야 한다. "비변형성" 또는 "실질적으로 변형이 거의 이루어지지 않는다"함은 외부 몰드가 내부 튜브보다 적게 변형되는 것을 의미하고, 이는 그 종방향 축을 따라 측정된 외부 몰드의 직경의 최대 감소치가 내부 튜브의 직경의 최대 증가치 보다 작아야 함을 의미한다. "실질적으로 변형이 이루어지지 않는다"는 의미를 가지는 비변형성의 경우에, 비틀린 몰드는 명백하게 제외된다.To ensure this, the strength requirements of the inner tube and outer mold are reversed compared to existing fields. Indeed, in order to be able to deform the inner tube, pressure must be able to enter and deform the inner tube. Even if the outer mold is subjected to the same isostatic pressure, the outer mold must be unstrained with little pressure to substantially deform the inner tube. "Non-deformation" or "substantially little deformation" means that the outer mold deforms less than the inner tube, which means that the maximum reduction in the diameter of the outer mold measured along its longitudinal axis is the diameter of the inner tube. Means less than the maximum increase. In the case of non-deformation, which means "substantially no deformation", the twisted mold is explicitly excluded.

상부 및 저부 폐쇄 본체의 임무는 이들이 변형되거나 프로세스가 본 발명에서 사실상 차이를 갖지 않더라도 이러한 변형이 중요하지 않게 하는 것이다.The task of the top and bottom closure bodies is to make these modifications insignificant even if they are deformed or the process has virtually no difference in the present invention.

내부 튜브와 몰드 사이의 변형도의 차이는 다수의 방식으로 실시될 수 있고, 이는 아래와 같다.Differences in the degree of deformation between the inner tube and the mold can be implemented in a number of ways, as follows.

- 가장 명백한 방법은 형성도의 정도를 변경시키도록 내부 튜브와 몰드의 치수 특성을 이용하는 것이다. 예를 들어, 내부 튜브는 몰드보다 사실상 얇게 제조된다. HIP 프로세스에서, 내부 튜브는 보다 쉽게 팽창하여, 타겟 재료는 외부 몰드에 대해 가압된다. 내부 튜브는 예로써 몰드의 재료 두께의 1/2 또는 1/3일 수 있다.The most obvious method is to use the dimensional properties of the inner tube and the mold to change the degree of formation. For example, the inner tube is made substantially thinner than the mold. In the HIP process, the inner tube expands more easily such that the target material is pressed against the outer mold. The inner tube can be for example 1/2 or 1/3 of the material thickness of the mold.

- 내부 튜브는 몰드와 상이한, 보다 연성의 재료로 제조될 수 있다. "연성"은 재료의 소성 변형에 관한 것이다. 본 발명에서, 프로세스의 상승된 온도에서의 연성이 특히 적절하다. 경험적으로, 금속 또는 금속 합금의 연성은 그 용융점의 1/3 이상에서 크게 증가한다.The inner tube can be made of a softer material, different from the mold. "Ductility" relates to plastic deformation of a material. In the present invention, ductility at elevated temperatures of the process is particularly suitable. Empirically, the ductility of a metal or metal alloy increases significantly above one third of its melting point.

- 내부 튜브는 변형에 낮은 저항을 갖는 영역을 가질 수 있는 반면, 몰드는 사실상 균일한 강성을 갖는다. 이는 예를 들어 내부 튜브의 외부 또는 내부 표면의 길이 방향으로 홈을 기계 가공함으로써 달성될 수 있다. 홈 아래의 재료는 홈 상부의 재료보다 쉽게 확장될 수 있다. 홈의 기계 가공은 또한 내부 튜브의 내부 튜브측과 외부측에 교호식으로 될 수 있어서, 재료의 두께가 사실상 동일하게 유지되어, 길이방향으로 주름진 튜브를 형성한다. 압력 하에서, 튜브는 부분적으로 또는 전체적으로 원주 방향으로 신장될 것이다. 이러한 접근법은 튜브에 대한 타겟 재료의 개선된 접착성과 내부 튜브의 증가된 강도를 야기할 수 있다.The inner tube can have a region with low resistance to deformation, while the mold has a substantially uniform stiffness. This can be achieved, for example, by machining the groove in the longitudinal direction of the outer or inner surface of the inner tube. The material below the groove can expand more easily than the material above the groove. The machining of the grooves can also be alternating between the inner tube side and the outer side of the inner tube, so that the thickness of the material remains substantially the same, forming a corrugated tube in the longitudinal direction. Under pressure, the tube will extend partially or wholly in the circumferential direction. This approach can result in improved adhesion of the target material to the tube and increased strength of the inner tube.

형성도의 정도 실행하는 다양한 방식들을 결합할 수 있는 것은 당업자들에게 명백하다.It will be apparent to those skilled in the art that various ways of implementing the degree of degree of formation can be combined.

제한된 경우로써, 몰드는 열간 등방압 처리 단계용의 고압 용기로써 작용할 수 있는 비변형성이고 강성으로 제조될 수 있다. 이러한 경우, 압력은 내부 튜브의 단부를 통해 인가된다. 가열은 몰드를 통해 또는 압력 유체를 통해 인가될 수 있다. In a limited case, the mold can be made non-deformable and rigid that can act as a high pressure vessel for hot isostatic treatment steps. In this case, pressure is applied through the end of the inner tube. Heating may be applied through a mold or through a pressure fluid.

고온 열간 등방압 처리 단계 후에, (종속항 2) 몰드와 저부 및 상부 환형 폐쇄 본체는 제거된다(종속항 3). 이러한 조작을 용이하게 하기 위해, 제거식 밴드에 의해 함께 단단히 보유된 예를 들어 두 개의 다수의 길이방향 분할 쉘로 구성된 몰드가 이용될 수 있다. 쉘이 다른 쉘과 접촉하는 영역은 또한 HIP 프로세스 후에 타겟의 제거를 용이하게 하기 위해 접착 방지 처리된다. 쉘들 사이의 시일은 열간 등방압 처리 동안 유체 진입을 방지하기 위한 것으로 예측된다. 이러한 시일은 예를 들어 구리 또는 인듐 개스킷에 의해 실시될 수 있다.After the hot hot isostatic treatment step (subordinate term 2), the mold and the bottom and upper annular closed bodies are removed (subordinate term 3). In order to facilitate this operation, a mold consisting of, for example, two multiple longitudinally divided shells firmly held together by a removable band can be used. The area where the shell is in contact with another shell is also anti-stick treated to facilitate removal of the target after the HIP process. The seal between the shells is expected to prevent fluid ingress during the hot isostatic treatment. Such a seal may be effected, for example, with copper or indium gasket.

회전식 스퍼터링 타겟의 외부 형상이 사실상 몰드 공급의 형상에 의해 결정됨에 따라, 스퍼터링 타겟의 외부 형상의 자유도가 크다. 내부 튜브와 동축인 실린더 형상의 공동을 제조할 수 있다.(종속항 4)As the outer shape of the rotary sputtering target is actually determined by the shape of the mold supply, the degree of freedom of the outer shape of the sputtering target is large. It is possible to produce a cylindrical cavity coaxial with the inner tube.

공동은 또한 원통형 중간부와 상기 상부 및 저부 폐쇄 본체에 근접한 두 개의 원통형 단부를 포함할 수 있고, 중간부의 외경은 단부의 직경보다 작다.(종속항 5) 이러한 타겟의 외부 형상은 미국 특허 제6,264,803호에 개시된 바와 같이 타겟 이용성을 증가시키도록 한다.The cavity may also include a cylindrical middle portion and two cylindrical ends proximate the upper and bottom closure bodies, the outer diameter of the middle portion being smaller than the diameter of the end. (Subordinate Clause 5) The outer shape of this target is US Pat. No. 6,264,803. Increase target availability as disclosed in the call.

내부 튜브가 상부 및 저부 환형 폐쇄 본체의 부근에서 작은 크기로 변형될 수 있기 때문에, 이들 상이하게 변형된 단부 섹션은 기계 가공되거나 기계 가공되지 않을 수 있다.(종속항 6) 단부 섹션이 절결되거나 절결되지 않는 임의의 경우, 내부 튜브가 열간 등방압 처리 단계에서 공학적 공차를 유지할 수 없기 때문에 스퍼터링 기계의 구동 시스템에 연결 가능한 회전식 타겟을 제조하기 위해 어댑터 피스가 필요하다.(종속항 7)Since the inner tube can be deformed to a smaller size in the vicinity of the upper and lower annular closure bodies, these differently deformed end sections may or may not be machined. (Subclaim 6) The end sections are cut out or cut out. In any case, the adapter piece is needed to make a rotary target connectable to the drive system of the sputtering machine since the inner tube cannot maintain engineering tolerances during the hot isostatic treatment step.

본 발명의 제2 양태에 따라, 회전식 스퍼터링 타겟이 제8항 내지 제16항에 개시된 특성을 갖는 종래 기술의 타겟과 구별되는 개시된 방법으로부터 야기된다.According to a second aspect of the present invention, the rotary sputtering target results from the disclosed method which is distinct from the targets of the prior art having the properties set forth in claims 8-16.

프로세스의 특성에 의해, 내부 튜브는 원주 방향으로 연장된다.(독립항 8) 열간 등방압 처리 전(d0)과 처리후(d1)의 각각의 내부 튜브의 외경에 따라, 연장부(ε)는 아래와 같이 상이할 것이다.Due to the nature of the process, the inner tube extends in the circumferential direction. (Independent Clause 8) The extension ε depending on the outer diameter of each inner tube before (d 0 ) and after (d 1 ) hot isostatic treatment. Will be different as

ε=In(d1/d0)ε = In (d 1 / d 0 )

압밀비(c)(즉, 파우더 재료 밀도에 대한 최종 타겟 재료 밀도의 비)는 순수한 실린더의 경우에 아래와 같이 d0 및 d1뿐만 아니라 회전식 타겟의 외경(D)에도 종속적이다.The consolidation ratio c (ie, the ratio of the final target material density to the powder material density) is dependent not only on d 0 and d 1 but also on the outer diameter D of the rotary target as shown below for pure cylinders.

c = (D2-d0 2)/(D2-d1 2)c = (D 2 -d 0 2 ) / (D 2 -d 1 2 )

바람직하게는 타겟을 생성하기 위한 방법은 적어도 2 %(종속항 9)의 연장을 야기할 것이다. 본 방법은 재료를 형성하는데 5 %의 연장이 필요할 때 보다 유익할 것이다.(종속항 10)Preferably the method for generating the target will result in an extension of at least 2% (dependent claim 9). This method will be more beneficial when a 5% extension is required to form the material (subclause 10).

현재의 회전식 타겟과 본 발명의 회전식 스퍼터링 타겟이 구별되는 다른 특성은 타겟의 단부가 여전히 존재할 때 현저하다. 내부 튜브의 내경은 단부 섹션의 내경보다 크다.(종속항 11) 내부 튜브가 받는 연장은 타겟의 단부 섹션에서 측정된 원래 내경과 타겟의 단부 섹션에서 측정된 최종 내경 사이의 상대 차이와 동일하다. 바람직하게는 이러한 차이는 2 %보다 크다.(종속항 12) 이러한 차이가 5 %보다 큰 것이 보다 바람직하다.(종속항 13)Another characteristic that distinguishes the current rotary target from the rotary sputtering target of the present invention is significant when the ends of the target still exist. The inner diameter of the inner tube is greater than the inner diameter of the end section. (Subordinate term 11) The extension received by the inner tube is equal to the relative difference between the original inner diameter measured at the end section of the target and the final inner diameter measured at the end section of the target. Preferably this difference is greater than 2% (subordinate term 12). It is more preferred that this difference is greater than 5%.

본 방법은 바람직하게는 높은 압밀비를 갖는 재료를 이용한다. 바람직하게는 본 방법에 적용되는 압밀비는 1.5 이상이고(종속항 14), 가장 바람직하게는 2 이상이다.(종속항 15) 이러한 방법의 회전식 스퍼터링 타겟은 특히 바람직하게는 다음의 타겟 형성 재료로 제조된다.The method preferably uses a material having a high consolidation ratio. Preferably, the consolidation ratio applied to the method is at least 1.5 (subordinate term 14), most preferably at least 2 (subordinate term 15). The rotary sputtering target of this method is particularly preferably the following target forming material: Are manufactured.

- 주석과 합금된 인듐 세스퀴(sesqui) 산화물(indiumtinoxide ITO)(종속항 16)Indium sesquioxide (TO) alloyed with tin (subordinate term 16)

- 티타늄 산화물(TiOx, x≤2)(종속항 17)Titanium oxide (TiO x , x≤2) (dependent clause 17)

- ZnO:Al 또는 ZnO:Ga로 도핑된 불순물(종속항 18)Impurities doped with ZnO: Al or ZnO: Ga (subordinate term 18)

내부 튜브에 이용되는 재료는 대부분의 경우 이에 형성되는 세라믹과 가장 잘 매치되는 재료의 특성에 따라 바람직하게는 티타늄 또는 그 합금 중 하나이다.(청구항 19)The material used for the inner tube is in most cases preferably one of titanium or an alloy thereof, depending on the properties of the material which best matches the ceramic formed thereon (claim 19).

본 발명은 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명될 것이다.The invention will be explained in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 열간 등방압 처리에 의해 회전식 타겟을 형성하는 종래 기술의 몰드 구성을 도시함.1 illustrates a prior art mold configuration for forming a rotary target by hot isostatic pressure treatment.

도 2a는 열간 등방압 처리 전에 제1 바람직한 실시예에 따른 예비 형성품의 제조를 도시하고, 도 2b는 열간 등방압 처리 후의 제1 바람직한 실시예의 구성의 형상을 도시함.FIG. 2A shows the production of a preform according to the first preferred embodiment before the hot isostatic treatment, and FIG. 2B shows the configuration of the configuration of the first preferred embodiment after the hot isostatic treatment.

도 3a는 열간 등방압 처리 전에 제2 바람직한 실시예에 따른 예비 형성품의 제조를 도시하고, 도 3b는 열간 등방압 처리 후의 제2 바람직한 실시예의 구성의 형상을 도시함.FIG. 3A shows the production of a preform according to the second preferred embodiment before hot isostatic treatment, and FIG. 3B shows the configuration of the configuration of the second preferred embodiment after hot isostatic treatment.

도 4a는 열간 등방압 처리 전에 제3 바람직한 실시예에 따른 예비 형성품의 제조를 도시하고, 도 4b는 열간 등방압 처리 후의 제3 바람직한 실시예의 구성의 형상을 도시함.4A shows the production of a preform according to a third preferred embodiment before hot isostatic pressure treatment, and FIG. 4B shows the configuration of the configuration of the third preferred embodiment after hot isostatic pressure treatment.

도 1은 열간 등방압 처리 방법에 따라 타겟을 제조하는데 이용되는 종래 기술의 캔(100)을 설명한다. 두꺼운 벽의 내부 튜브(102)는 튜브의 타겟 재료의 접착을 증가시키기 위해 쓰레드 가공된 캐리어로써 이용된다. 우선, 저부(108)는 내부 튜브(102)와 외부 튜브(104) 사이에 용접된다. 파우더리 타겟 형성 재료(110)는 내부 튜브(102)와 외부 튜브(104) 사이의 중공에 주입된다. 외부 튜브는 점착 방지 종이(112)로 코팅된다. 파우더의 치밀화(densify) 후에, 상부 커버(106)는 내부 튜브(102)와 외부 튜브(104) 사이에 용접된다. 모든 잔여 가스의 배출 후에, 캔은 열간 등방압 처리를 받는다. 그 다음에, 외부 캔(104), 저부 및 상부 커버는 기계적으로 제거된다.1 illustrates a prior art can 100 used to fabricate a target according to a hot isostatic pressure treatment method. The thick walled inner tube 102 is used as a threaded carrier to increase the adhesion of the target material of the tube. First, the bottom 108 is welded between the inner tube 102 and the outer tube 104. The powdery target forming material 110 is injected into the hollow between the inner tube 102 and the outer tube 104. The outer tube is coated with anti-stick paper 112. After densify of the powder, the top cover 106 is welded between the inner tube 102 and the outer tube 104. After the discharge of all residual gas, the cans are subjected to hot isostatic treatment. The outer can 104, bottom and top cover are then mechanically removed.

도 2a는 본 발명의 제1 바람직한 실시예를 도시하고, 바람직하게는 몰드가 사실상 비변형 상태로 유지되면서 내부 튜브는 변형된다. HIP 캔(200)은 내부 튜브(202)와 외부 몰드(204)를 포함하고, 내부 튜브(202)와 외부 몰드(204) 사이에서 저부 환형 폐쇄 본체(106)가 용접 시임(212)에 의해 용접된다. 캔(200)은 축(220)과 동축이다. 제1 실시예의 치수는 표1에서 요약된다(모든 치수는 ㎜이다).Figure 2a shows a first preferred embodiment of the present invention, preferably the inner tube is deformed while the mold remains substantially undeformed. The HIP can 200 includes an inner tube 202 and an outer mold 204, and a bottom annular closed body 106 is welded by a welding seam 212 between the inner tube 202 and the outer mold 204. do. Can 200 is coaxial with axis 220. The dimensions of the first embodiment are summarized in Table 1 (all dimensions are in mm).

도 2a의 도면부호2A 내경Bore 외경Outer diameter 두께thickness 202202 4545 5050 2.52.5 204204 6060 7070 55 내부 직경Inner diameter 외부 직경Outer diameter width 206206 5050 6060 5050

캔의 길이는 200 ㎜이다. 모든 피스들은 티타늄으로 제조된다. 원통형 공동은 내부 직경은 50 ㎜이고, 외부 직경은 60 ㎜이고 길이는 150 ㎜로 생성된다. 공동은 유럽 특허 제 0 871 793호에 따라 준비된 ISOT 파우더(주석으로 기계적으로 합금된 인듐 세스퀴 산화물)로 (높이 100㎜까지) 부분적으로 충진된다. 충진된 캔은 통상적으로 3.5 g/㎤의 탭핑 밀도를 달성하도록 탭 가공되고 진동된다. 충진 후에, 제2 티타늄 상부 환형 폐쇄 본체(210)가 파우더의 상부에 위치된다. 전체 구조는 함께 용접된다. 가스 제거 튜브(214)가 위치되어 가스가 배출될 수 있다. 캔을 충진한 후에, 파우더는 적어도 400 ℃의 온도에서 가스 제거된다. 여기서 가스 제거 튜브(214)는 가스 밀봉식으로 폐쇄된다. 캔(200)은 이제 열간 등방압 처리 준비가 되었다.The length of the can is 200 mm. All pieces are made of titanium. The cylindrical cavity is produced with an inner diameter of 50 mm, an outer diameter of 60 mm and a length of 150 mm. The cavity is partially filled (up to 100 mm in height) with ISOT powder (indium sesquioxide oxide mechanically alloyed with tin) prepared according to EP 0 871 793. Filled cans are typically tapped and vibrated to achieve a tapping density of 3.5 g / cm 3. After filling, a second titanium upper annular closure body 210 is placed on top of the powder. The whole structure is welded together. The degassing tube 214 is positioned so that gas can be discharged. After filling the can, the powder is degassed at a temperature of at least 400 ° C. Here the gas removal tube 214 is gas sealed. Can 200 is now ready for hot isostatic pressure treatment.

열간 등방압 처리 동안, 압력은 200 ㎫까지 천천히 상승하면서 동일한 시간동안 온도는 700 ℃까지 상승한다. 캔은 약 4시간 동안 열간 등방압 하에서 유지된다. 이러한 "드웰 시간" 후에, 캔은 서서히 냉각되면서 압력이 감소된다.During the hot isostatic treatment, the pressure rises slowly to 200 MPa while the temperature rises to 700 ° C. for the same time. The cans are maintained under hot isostatic pressure for about 4 hours. After this "dwell time", the can slowly cools and the pressure decreases.

열간 등방압 처리 후에, 캔은 도 2b에 도시된 바와 같이 변형될 수 있다. 내부 튜브(202')의 직경은 튜브의 중간부에서 측정할 때 45 ㎜에서 48 ㎜로 변화된다. 몰드(204)의 외부 직경은 70에서 68.5 ㎜로 변화한다. 최종 ITO의 밀도는 정량의 ITO(7.14 g/㎤)의 약 98 %인 7 g/㎤이다. 압밀비는 2이다. 내부 튜브의 연장은 6.5 %이다.After the hot isostatic treatment, the can can be deformed as shown in FIG. 2B. The diameter of the inner tube 202 'varies from 45 mm to 48 mm when measured in the middle of the tube. The outer diameter of the mold 204 varies from 70 to 68.5 mm. The density of the final ITO is 7 g / cm 3, which is about 98% of the quantitative ITO (7.14 g / cm 3). Consolidation ratio is two. The extension of the inner tube is 6.5%.

열간 등방압 처리 후에, 외부 캔은 제거되고 매끄러운 표면이 잔류한다. 중간부보다 적게 변형된 단부 섹션(218, 216)은 타겟으로부터 제거된다. 커넥터 피스의 삽입 후에, 타겟은 스퍼터링 장치에 장착할 준비가 된다.After the hot isostatic treatment, the outer can is removed and a smooth surface remains. End sections 218 and 216 that are less strained than the middle portion are removed from the target. After insertion of the connector piece, the target is ready for mounting to the sputtering apparatus.

제2 바람직한 실시예에 따라, 제1 실시예의 확장 버전이 이루어진다. 다시 초기 내경이 135 ㎜이고 외경은 141 ㎜이고, 따라서 벽 두께가 3 ㎜이고 길이가 600 ㎜인 티타늄 내부 튜브가 이용된다. 외부 몰드는 165 ㎜의 외경과 6 ㎜의 두께를 갖는다. 저부 폐쇄 본체가 내경 141 ㎜이고 외경 153 ㎜이고 두께가 100 ㎜인 티타늄 링이 이용된다. 공동은 높이 400 ㎜까지 ISOT 파우더로 충진된다. 진동에 의해, 3.5 g/㎤의 태핑 밀도가 달성될 수 있다. 충진 후에 저부 폐쇄 본체와 동일한 상부 폐쇄 본체가 삽입된다. 전체 구조는 가스가 가스 제거 튜브를 통해 배출되는 방식으로 3개의 가스 제거 튜브를 갖고 용접된다. 가스 제거는 적어도 400 ℃의 온도에서 수행된다. 여기서 튜브는 진공 밀봉되고 캔은 200 ㎫의 압력과 500 ℃의 온도에서 열간 등방압 처리를 위한 준비가 된다. 이러한 방식으로 내부 튜브가 변형되면서 캔의 외경은 제한된다. 내부 튜브의 외경은 135에서 139로, 즉 3 %의 원주 방향 연장으로 변형되면서 캔의 외경은 163.5가 된다. 재료의 밀도는 6.4 g/㎤로 증가되어 1.8의 압밀비를 산출한다. 몰드가 최종 타겟 재료로부터 제거되면서 매우 적은 재료가 손실된다.According to a second preferred embodiment, an extended version of the first embodiment is made. Again a titanium inner tube with an initial inner diameter of 135 mm and an outer diameter of 141 mm, thus having a wall thickness of 3 mm and a length of 600 mm, is used. The outer mold has an outer diameter of 165 mm and a thickness of 6 mm. Titanium rings with a bottom closure body of 141 mm inner diameter, 153 mm outer diameter and 100 mm thickness are used. The cavity is filled with ISOT powder up to 400 mm in height. By vibrating, a tapping density of 3.5 g / cm 3 can be achieved. After filling the same top closure body as the bottom closure body is inserted. The entire structure is welded with three degassing tubes in such a way that gas is discharged through the degassing tubes. Degassing is carried out at a temperature of at least 400 ° C. Here the tube is vacuum sealed and the can is ready for hot isostatic treatment at a pressure of 200 MPa and a temperature of 500 ° C. In this way the inner tube is deformed, limiting the outer diameter of the can. The outer diameter of the inner tube is deformed from 135 to 139, ie with a 3% circumferential extension, with the outer diameter of the can 163.5. The density of the material is increased to 6.4 g / cm 3, yielding a consolidation ratio of 1.8. Very little material is lost as the mold is removed from the final target material.

외부 몰드의 두께의 영향은 또한 제3 바람직한 실시예에서 보다 더 연구된다. 여기서 동일한 재료로 제2 실시예와 동일한 절차가 수행되지만 외부 몰드의 치수는 상이하다. 열간 등방압 처리 전후의 치수는 표2에 요약된다.The influence of the thickness of the outer mold is also studied more than in the third preferred embodiment. Here the same procedure is carried out with the same material as in the second embodiment, but the dimensions of the outer mold are different. The dimensions before and after the hot isostatic treatment are summarized in Table 2.

내부 튜브Inner tube 외부 몰드Outer mold I'm after I'm after IDID 127127 139139 160160 (159)(159) ODOD 133133 (145)(145) 200200 199199 LL 600600 594594

모든 숫자는 ㎜이다. "ID"와 "OD"는 각각 내경과 외경을 나타낸다. 괄호 안의 수는 튜브 또는 몰드의 두께를 계산하여 취함으로써 계산된 것이다. 두꺼운 외부 몰드(20 ㎜)는 보다 적은 변형을 야기한다. 내부 튜브는 12 ㎜의 증가된 직경을 갖고, 즉 재료는 9 %만큼 원주 방향으로 연장된다. 비틀림은 발생되지 않고 치밀화는 튜브의 길이를 따라 균일하다. 타겟의 외부 표면은 외부 몰드를 제거한 후에 매끄럽게 되고 부가의 매칭은 불필요하다. 내부 튜브의 양단부에서, 내부 튜브의 내경은 적게 압축된 환형 폐쇄 본체들 사이의 전이부 때문에 중간보다 적고(대략 130 ㎜), 내부 튜브는 (도 2b에 도시된 바와 같이, 청구항 11) 팽창된다. 이러한 방식으로 본 독창적인 방법의 타겟은 다른 방법으로 제조된 다른 타겟과 구별될 수 있다.All numbers are in mm. "ID" and "OD" represent an inner diameter and an outer diameter, respectively. The numbers in parentheses are calculated by taking the thickness of the tube or mold. The thick outer mold (20 mm) causes less deformation. The inner tube has an increased diameter of 12 mm, ie the material extends circumferentially by 9%. No torsion occurs and densification is uniform along the length of the tube. The outer surface of the target becomes smooth after removing the outer mold and no additional matching is necessary. At both ends of the inner tube, the inner diameter of the inner tube is less than the middle (approximately 130 mm) because of the transition between the less compressed annular closure bodies, and the inner tube is inflated (as shown in FIG. 2B, claim 11). In this way, the targets of the inventive method can be distinguished from other targets produced by other methods.

도 3a 및 3b에 도시된 제4 바람직한 실시예에 따라, 저부 및 상부 환형 폐쇄 본체(310)는 열간 등방압 처리(310')후에 단부 섹션의 부근에서 파우더의 적절한 압밀화를 보장하기 위한 특정 형상을 갖는다. 도 4에 도시된 제5 바람직한 실시예(400)에서, 외부 몰드(404)는 얇게 제조됨으로써 국부적(420)으로 연약할 수 있어서, 타겟 표면은 열간 등방압 처리 후에 특정 형상을 얻는다.In accordance with the fourth preferred embodiment shown in FIGS. 3A and 3B, the bottom and top annular closed bodies 310 are of a particular shape to ensure proper compaction of the powder in the vicinity of the end section after hot isostatic treatment 310 ′. Has In the fifth preferred embodiment 400 shown in FIG. 4, the outer mold 404 can be made thin so that it can be locally weakened 420 so that the target surface obtains a particular shape after hot isostatic treatment.

Claims (19)

회전식 스퍼터링 타겟을 제조하기 위한 방법에 있어서,A method for manufacturing a rotary sputtering target, 내부 튜브를 제공하는 단계;Providing an inner tube; 상기 내부 튜브 주위에 외부 몰드를 장착하는 단계로서, 상기 외부 몰드는 공동을 형성하고, 상기 공동은 회전 본체 형상을 가지며, 상기 공동은 내부 튜브와 동일한 축에 할당되어 내부 튜브와 몰드 사이에 중공을 형성하는 단계; Mounting an outer mold around the inner tube, the outer mold forming a cavity, the cavity having a rotatable body shape, the cavity being assigned to the same axis as the inner tube to create a hollow between the inner tube and the mold Forming; 상기 중공에 저부 환형 폐쇄 본체를 제공하고, 상기 내부 튜브와 몰드에 대해 상기 저부 폐쇄 본체를 밀봉하는 단계;Providing a bottom annular closure body in the hollow and sealing the bottom closure body against the inner tube and the mold; 상기 중공에 타겟 형성 재료를 충진하는 단계;Filling the hollow with a target forming material; 상부 환형 폐쇄 본체를 제공하고, 상기 환형 폐쇄 본체를 상기 내부 튜브 및 상기 몰드에 밀봉하는 단계;Providing an upper annular closure body and sealing the annular closure body to the inner tube and the mold; 상기 중공, 상기 내부 튜브, 상기 몰드, 상기 상부 폐쇄 본체 및 상기 저부 폐쇄 본체를 배출시키고 밀봉하여, 중간에 홀을 갖는 용기를 형성하는 단계; 및Discharging and sealing the hollow, the inner tube, the mold, the top closure body and the bottom closure body to form a container having a hole in the middle; And 상기 용기가 열간 등방압 처리를 받게 하는 단계;를 포함하며, And subjecting the container to hot isostatic pressure treatment. 상기 열간 등방압 처리 동안 내부 튜브가 변형되어 외부 몰드에 대해 상기 타겟 형성 재료를 가압하며, An inner tube is deformed during the hot isostatic treatment to pressurize the target forming material against an outer mold, 종방향 축을 따라 측정된 상기 외부 몰드 직경의 최대 감소치는 종방향 축을 따라 측정된 상기 내부 튜브 직경의 최대 증가치 보다 작은 것을 특징으로 하는 The maximum decrease of the outer mold diameter measured along the longitudinal axis is less than the maximum increase of the inner tube diameter measured along the longitudinal axis 회전식 스퍼터링 타겟 제조 방법. Rotary sputtering target manufacturing method. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 용기로부터 몰드를 제거하는 단계를 이후에 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회전식 스퍼터링 타겟 제조 방법.And subsequently removing the mold from the container. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 상부 환형 폐쇄 본체 및 상기 저부 환형 폐쇄 본체를 제거하는 단계를 이후에 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회전식 스퍼터링 타겟 제조 방법.And subsequently removing the upper annular closed body and the lower annular closed body. 제1항 또는 제3항에 있어서, The method according to claim 1 or 3, 상기 몰드 내의 상기 공동은 실린더인 것을 특징으로 하는 회전식 스퍼터링 타겟 제조 방법.And the cavity in the mold is a cylinder. 제1항 또는 제3항에 있어서, The method according to claim 1 or 3, 상기 공동은 원통형 중간부와 상기 상부 폐쇄 본체 및 상기 저부 폐쇄 본체에 근접한 두 개의 원통형 단부를 갖고, 상기 중간부는 제1 직경을 갖고, 상기 단부는 제2 직경을 가지며, 상기 제2 직경은 상기 제1 직경보다 더 큰 것을 특징으로 하는 회전식 스퍼터링 타겟 제조 방법. The cavity has a cylindrical middle portion and two cylindrical ends proximate the upper closure body and the bottom closure body, the intermediate portion has a first diameter, the end has a second diameter, and the second diameter is the first diameter. Rotary sputtering target manufacturing method characterized in that larger than 1 diameter. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 4. The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 내부 튜브의 중간부보다 적게 변형되는 상기 내부 튜브의 변형되는 부분을 포함하는 상기 회전식 스퍼터링 타겟의 단부 섹션은 절결되는 단계를 그 이후에 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회전식 스퍼터링 타겟 제조 방법.And the end section of the rotatable sputtering target comprising a deformed portion of the inner tube that is less deformed than the middle portion of the inner tube further comprises the step of cutting away. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 4. The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 내부 튜브에 관형 타겟을 마그네트론 스퍼터링 장치에 연결하기 위한 하나 또는 두 개의 어댑터 피스를 조립하는 단계를 그 이후에 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회전식 스퍼터링 타겟 제조 방법.And subsequently assembling one or two adapter pieces for connecting the tubular target to the magnetron sputtering device in the inner tube. 회전식 스퍼터링 타겟에 있어서,In a rotary sputtering target, 내부 튜브와 타겟 재료를 포함하고, Including an inner tube and a target material, 상기 타겟 재료는 상기 내부 튜브의 외부 표면에 배치되고, The target material is disposed on an outer surface of the inner tube, 상기 내부 튜브는 내부 튜브 재료로 제조되며, The inner tube is made of inner tube material, 상기 내부 튜브는 대칭축을 갖고, 상기 축에 직각인 면에서의 상기 내부 튜브 재료는 원주 방향으로 적어도 2% 연장되는 것을 특징으로 하는 회전식 스퍼터링 타겟.The inner tube has an axis of symmetry, and wherein the inner tube material in a plane perpendicular to the axis extends at least 2% in the circumferential direction. 제8항에 있어서, The method of claim 8, 상기 원주 방향으로의 연장은 적어도 5 %인 것을 특징으로 하는 회전식 스퍼터링 타겟.And wherein the extension in the circumferential direction is at least 5%. 회전식 스퍼터링 타겟에 있어서,In a rotary sputtering target, 내부 튜브를 포함하고, 상기 내부 튜브는 제1 단부 섹션과 제2 단부 섹션을 갖고, 상기 제1 및 제2 단부 섹션 사이의 내부 튜브의 외주 표면에 배치된 타겟 재료를 더 포함하고, 상기 내부 튜브는 단부 섹션에서 제1 직경을 갖고, 상기 내부 튜브는 제1 및 제2 단부 섹션 사이의 제2 직경을 갖고,An inner tube, the inner tube further comprising a target material having a first end section and a second end section, the target material disposed on an outer circumferential surface of the inner tube between the first and second end sections; Has a first diameter in the end section, the inner tube has a second diameter between the first and second end sections, 상기 제2 직경은 상기 제1 직경보다 큰 것을 특징으로 하는 회전식 스퍼터링 타겟.And said second diameter is greater than said first diameter. 제10항에 있어서, The method of claim 10, 상기 제2 직경은 제1 직경보다 2 % 큰 것을 특징으로 하는 회전식 스퍼터링 타겟. And the second diameter is 2% larger than the first diameter. 제10항에 있어서, The method of claim 10, 상기 제2 직경은 제1 직경보다 5 % 큰 것을 특징으로 하는 회전식 스퍼터링 타겟.And the second diameter is 5% larger than the first diameter. 제1항에 기재된 방법에 의해 얻어진 회전식 스퍼터링 타겟에 있어서,In the rotary sputtering target obtained by the method of claim 1, 상기 타겟 형성 재료는 적어도 1.5의 인수로 압밀되는 것을 특징으로 하는 회전식 스퍼터링 타겟.And the target forming material is consolidated with a factor of at least 1.5. 제1항에 기재된 방법에 의해 얻어진 회전식 스퍼터링 타겟에 있어서,In the rotary sputtering target obtained by the method of claim 1, 상기 타겟 형성 재료는 적어도 2.0의 인수로 압밀되는 것을 특징으로 하는 회전식 스퍼터링 타겟.And the target forming material is consolidated with a factor of at least 2.0. 제8항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 8 to 14, 상기 타겟 형성 재료는 주석과 합금된 인듐 세스퀴 산화물인 것을 특징으로 하는 회전식 스퍼터링 타겟.And said target forming material is an indium sesqui oxide alloyed with tin. 제8항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 8 to 14, 상기 타겟 형성 재료는 티타늄 산화물인 것을 특징으로 하는 회전식 스퍼터링 타겟.And the target forming material is titanium oxide. 제8항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 8 to 14, 상기 타겟 형성 재료는 알루미늄 또는 갈륨으로 도핑된 아연 산화물 불순물인 것을 특징으로 하는 회전식 스퍼터링 타겟.And the target forming material is a zinc oxide impurity doped with aluminum or gallium. 제8항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 8 to 14, 상기 내부 튜브는 티타늄 또는 티타늄 합금으로 제조되는 것을 특징으로 하는 회전식 스퍼터링 타겟.And the inner tube is made of titanium or a titanium alloy. 삭제delete
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