AT12292U3 - TUBE TARGET - Google Patents

TUBE TARGET Download PDF

Info

Publication number
AT12292U3
AT12292U3 ATGM562/2011U AT5622011U AT12292U3 AT 12292 U3 AT12292 U3 AT 12292U3 AT 5622011 U AT5622011 U AT 5622011U AT 12292 U3 AT12292 U3 AT 12292U3
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
pipe
pipe section
partially
tube
target
Prior art date
Application number
ATGM562/2011U
Other languages
German (de)
Other versions
AT12292U2 (en
Inventor
Peter Abenthung
Christian Linke
Andre Dronhofer
Hartmut Wolf
Tobias Will
Wolfgang Koeck
Original Assignee
Plansee Se
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Plansee Se filed Critical Plansee Se
Priority to ATGM562/2011U priority Critical patent/AT12292U3/en
Publication of AT12292U2 publication Critical patent/AT12292U2/en
Priority to TW101134109A priority patent/TWI550115B/en
Priority to KR1020147009935A priority patent/KR20140091677A/en
Priority to ES12795724.9T priority patent/ES2555876T3/en
Priority to US14/352,725 priority patent/US20140238850A1/en
Priority to CN201280051077.0A priority patent/CN104040019B/en
Priority to PL12795724T priority patent/PL2769002T3/en
Priority to PCT/AT2012/000262 priority patent/WO2013056286A1/en
Priority to JP2014536061A priority patent/JP2015501376A/en
Priority to EP12795724.9A priority patent/EP2769002B1/en
Publication of AT12292U3 publication Critical patent/AT12292U3/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3402Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
    • H01J37/3405Magnetron sputtering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3414Targets
    • H01J37/342Hollow targets
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3414Targets
    • H01J37/3423Shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3414Targets
    • H01J37/3426Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3488Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
    • H01J37/3491Manufacturing of targets

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)

Abstract

Die Erfindung beschreibt ein Rohrtarget aus Refraktärmetall oder einer Refraktärmetalllegierung, das zumindest einen Rohrabschnitt X mit einer relativen Dichte RDx und zumindest einen Rohrabschnitt Y mit einer relativen Dichte RDy umfasst, wobei zumindest ein Rohrabschnitt X zumindest bereichsweise einen größeren Außendurchmesser als zumindest bereichsweise ein Rohrabschnitt Y aufweist und das Dichteverhältnis die Beziehung (RDy-RDx)/RDy = 0,001 erfüllt. Weiters beschreibt die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Rohrtargets aus Refraktärmetall oder einer Refraktärmetall-Legierung durch Sintern und örtlich unterschiedlich hohes Verformen. Das Rohrtarget weist einen über die gesamte Oberfläche gleichmäßigeren Sputterabtrag auf im Vergleich zu Rohrtargets gemäß dem Stand der Technik. Die Rohrtargets neigen weder zum Arcen, noch zur Teilchengenerierung.The invention describes a pipe target made of refractory metal or a refractory metal alloy comprising at least one pipe section X with a relative density RDx and at least one pipe section Y with a relative density RDy, wherein at least one pipe section X at least partially has a larger outer diameter than at least partially a pipe section Y. and the density ratio satisfies the relation (RDy-RDx) / RDy = 0.001. Furthermore, the invention describes a method for producing a tube target made of refractory metal or a refractory metal alloy by sintering and locally different degrees of deformation. The tube target has more uniform sputter removal over the entire surface as compared to tube targets of the prior art. The tube targets are neither prone to arcen nor to particle generation.

Claims (25)

österreichisches Patentamt AT 12 292 U2 2012-03-15 Rohrenden prozessbedingt ein verstärkter Abtrag auf. Wie hoch dieser verstärkte Abtrag ist, hängt von den Prozessbedingungen ab. Mit den Proben gemäß den Beispielen 1 bis 6 kann ein Unterschied von 1,0 bis 12% kompensiert werden. Der Fachmann kann daher in einfacher Weise zunächst den unterschiedlichen Abtrag an einem gemäß dem Stand der Technik hergestellten Rohrtarget ermitteln und dann den optimalen (RDy-RDx)/RDy - Wert durch wenige Versuche ermitteln. Ansprüche 1. Rohrtarget (100) aus Refraktärmetall oder einer Refraktärmetalllegierung mit einem Refraktärmetallgehalt > 50 At.% umfassend zumindest einen Rohrabschnitt X (200,201) mit zumindest bereichsweise einer relativen Dichte RDx und zumindest einen Rohrabschnitt Y (300) mit zumindest bereichsweise einer relativen Dichte RDy, wobei zumindest ein Rohrabschnitt X (200,201) zumindest bereichsweise einen größeren Außendurchmesser als zumindest bereichsweise ein Rohrabschnitt Y (300) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass RDy~RDx > o,001 beträgt. RDyAustrian Patent Office AT 12 292 U2 2012-03-15 an increased erosion due to the process. How high this increased removal depends on the process conditions. With the samples according to Examples 1 to 6, a difference of 1.0 to 12% can be compensated. The person skilled in the art can therefore first of all determine the different removal of a tube target produced according to the prior art in a simple manner and then determine the optimum (RDy-RDx) / RDy value by means of a few tests. Claims 1. A pipe target (100) of refractory metal or a refractory metal alloy having a refractory metal content > 50 At.% Comprising at least one pipe section X (200,201) with at least partially a relative density RDx and at least one pipe section Y (300) with at least partially a relative density RDy, wherein at least one pipe section X (200,201) at least partially a larger outer diameter than at least partially a pipe section Y (300), characterized in that RDy ~ RDx > o, 001 is. RD Y 2. Rohrtarget nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest ein Rohrabschnitt X (200,201) zumindest bereichsweise einen Außendurchmesser ADx und zumindest ein Rohrabschnitt Y (300) zumindest bereichsweise einen Außendurchmesser ADy aufweist, wobei ADx~ADy > o 01 beträgt. ADx AD^C_/j Dy2. Pipe target according to claim 1, characterized in that at least one pipe section X (200,201) at least partially an outer diameter ADx and at least one pipe section Y (300) at least partially has an outer diameter ADy, wherein ADx ~ ADy > o is 01. ADx AD ^ C_ / j Dy 3. Rohrtarget nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass-- < 0,3 beträgt. ADx3. Pipe target according to claim 2, characterized in that - < 0.3. ADx 4. Rohrtarget nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Rohrenden zumindest bereichsweise als Rohrabschnitte X (200,201) ausgebildet sind und zumindest ein Rohrabschnitt Y (300) dazwischen angeordnet ist, der sich in axialer Richtung über einen längeren Bereich erstreckt, als die Summe der axialen Erstreckung der Rohrabschnitte X (200,201).4. Pipe target according to one of the preceding claims, characterized in that the pipe ends are at least partially formed as pipe sections X (200,201) and at least one pipe section Y (300) is arranged therebetween, which extends in the axial direction over a longer range than the Sum of the axial extent of the pipe sections X (200,201). 5. Rohrtarget nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest zwischen einem Rohrabschnitt X (200,201) und einem Rohrabschnitt Y (300) ein Abschnitt Z (400,401) angeordnet ist, wobei sich der Außendurchmesser im Abschnitt Z (400,401) von ADx auf ADy ändert.5. Pipe target according to one of the preceding claims, characterized in that at least between a pipe section X (200,201) and a pipe section Y (300) a portion Z (400,401) is arranged, wherein the outer diameter in section Z (400,401) of ADx on ADy changes. 6. Rohrtarget nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest ein Rohrabschnitt X (200, 201) konisch ausgeführt ist.6. Pipe target according to one of the preceding claims, characterized in that at least one pipe section X (200, 201) is conical. 7. Rohrtarget nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass es pulvermetallurgisch hergestellt ist.7. Pipe target according to one of the preceding claims, characterized in that it is produced by powder metallurgy. 8. Rohrtarget nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest ein Rohrabschnitt X (200,201) eine feine und gleichmäßige Porenstruktur aufweist.8. Pipe target according to one of the preceding claims, characterized in that at least one pipe section X (200,201) has a fine and uniform pore structure. 9. Rohrtarget nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass dieses aus einem Werkstoff der Gruppe Molybdän, Molybdänlegierung, Wolfram, Wolframlegierung, Chrom und Chromlegierung besteht.9. Pipe target according to one of the preceding claims, characterized in that it consists of a material of the group molybdenum, molybdenum alloy, tungsten, tungsten alloy, chromium and chromium alloy. 10. Rohrtarget nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass alle Rohrabschnitte X (200,201) und alle Rohrabschnitte Y (300) dieselbe Werkstoffzusammensetzung aufweisen.10. Pipe target according to one of the preceding claims, characterized in that all pipe sections X (200,201) and all pipe sections Y (300) have the same material composition. 11. Rohrtarget nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass es einteilig ausgeführt ist. 10/14 österreichisches Patentamt AT 12 292 U2 2012-03-1511. Pipe target according to one of the preceding claims, characterized in that it is made in one piece. 10/14 Austrian Patent Office AT 12 292 U2 2012-03-15 12. Rohrtarget nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest ein Rohrabschnitt Y (300) eine relative Dichte von 99 bis 100% aufweist.12. Pipe target according to one of the preceding claims, characterized in that at least one pipe section Y (300) has a relative density of 99 to 100%. 13. Rohrtarget nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest ein Rohrabschnitt X (200,201) zumindest bereichsweise über eine Länge in axialer Richtung von 50 mm eine mittlere relative Dichte RDxm und zumindest ein Rohrabschnitt Y (300) zumindest bereichsweise über eine Länge in axialer Richtung von 50 mm eine mittlere relative Dichte RDym aufweist, mit RDxm > o,001. RDym13. Pipe target according to one of the preceding claims, characterized in that at least one pipe section X (200,201) at least partially over a length in the axial direction of 50 mm, a mean relative density RDxm and at least one pipe section Y (300) at least partially over a length in axial direction of 50 mm has a mean relative density RDym, with RDxm > o 001. RDym 14. Rohrtarget nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest ein Verhältnis , „ RDy-RDx , RDym-RDxm ^ . , ... . aus der Gruppe — -und — -> 0,01 betragt.14. tube target according to claim 13, characterized in that at least one ratio, "RDy-RDx, RDym-RDxm ^. , .... from the group - and - - > 0.01 amounts. 15. Rohrtarget nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest ein Verhältnis aus der Gruppe und RDy RDx und RDym < q,2 beträgt.15. Pipe target according to claim 13 or 14, characterized in that at least one ratio from the group and RDy RDx and RDym < q is 2. 16. Rohrtarget nach einem der vorangehenden Ansprüche zur Herstellung einer Funktionsschicht einer Dünnschicht-Solarzelle oder einer TFT Struktur.16. Pipe target according to one of the preceding claims for producing a functional layer of a thin-film solar cell or a TFT structure. 17. Verfahren zur Herstellung eines Rohrtargets (100) aus einem Refraktärmetall oder einer Refraktärmetalllegierung mit einem Refraktärmetallgehalt > 50 At.%, wobei das Verfahren zumindest folgende Schritte umfasst: - Herstellen eines Grünlings durch Pressen eines Pulvers mit einem Pressdruck p, mit 100 MPa < p < 400 MPa; - Herstellen eines Rohrrohlings durch druckloses oder druckunterstütztes Sintern bei 0,4 bis 0,9 homologe Temperatur und optional mechanische Bearbeitung; dadurch gekennzeichnet, dass das Rohrtarget (100) zumindest einen Rohrabschnitt X (200,201) und zumindest einen Rohrabschnitt Y (300) umfasst, und der Rohrrohling in einem Bereich, der im fertigen Rohrtarget (100) dem Rohrabschnitt Y (300) entspricht, dergestalt verformt wird, dass zumindest bereichsweise der Umformgrad höher ist als zumindest bereichsweise in einem Bereich, der im fertigen Rohrtarget (100) dem Rohrabschnitt X (200,201) entspricht.17. A method for producing a tube target (100) from a refractory metal or a refractory metal alloy having a refractory metal content > 50 at.%, Wherein the method comprises at least the following steps: - producing a green compact by pressing a powder with a compacting pressure p, with 100 MPa < p < 400 MPa; - Production of a tube blank by pressureless or pressure-assisted sintering at 0.4 to 0.9 homologous temperature and optional mechanical processing; characterized in that the tube target (100) comprises at least one tube portion X (200,201) and at least one tube portion Y (300), and the tube blank deforms in a range corresponding to the tube portion Y (300) in the finished tube target (100) is that at least partially the degree of deformation is higher than at least partially in an area corresponding to the pipe section X (200,201) in the finished pipe target (100). 18. Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass der Rohrrohling in einem Bereich, der im fertigen Rohrtarget (100) dem Rohrabschnitt Y (300) entspricht, zumindest bereichsweise um |φ| > 0,03 höher verformt wird, als zumindest bereichsweise in einem Bereich, der im fertigen Rohrtarget (100) dem Rohrabschnitt X (200,201) entspricht.18. The method according to claim 17, characterized in that the tube blank in a region which corresponds to the pipe section Y (300) in the finished pipe target (100), at least in regions by | φ | ≫ 0.03 is deformed higher than at least partially in a range that corresponds to the pipe section X (200,201) in the finished pipe target (100). 19. Verfahren nach Anspruch 17 oder 18, dadurch gekennzeichnet, dass der Rohrrohling eine relative Dichte RDr aufweist, mit RDr 0,8 < RDr < 0,995.19. The method according to claim 17 or 18, characterized in that the tube blank has a relative density RDr, with RDr 0.8 < RDr < 0.995. 20. Verfahren nach einem der Ansprüche 17 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass der Rohrabschnitt Y zumindest bereichsweise einen kleineren Außendurchmesser als der Rohrabschnitt X aufweist.20. The method according to any one of claims 17 to 19, characterized in that the pipe section Y at least partially has a smaller outer diameter than the pipe section X. 21. Verfahren nach einem der Ansprüche 17 bis 20, dadurch gekennzeichnet, dass der Grünling durch kaltisostatisches Pressen hergestellt wird, wobei der Grünling eine Form aufweist, ausgewählt aus der Gruppe, Rohr, Zylinder, Rohr mit bereichsweise größerem Außendurchmesser und Zylinder mit bereichsweise größerem Außendurchmesser.21. The method according to any one of claims 17 to 20, characterized in that the green compact is produced by cold isostatic pressing, wherein the green compact has a shape selected from the group, tube, cylinder, pipe with partially larger outer diameter and cylinder with partially larger outer diameter , 22. Verfahren nach einem der Ansprüche 17 bis 21, dadurch gekennzeichnet, dass der Rohrabschnitt X zumindest bereichsweise nicht verformt ist.22. The method according to any one of claims 17 to 21, characterized in that the pipe section X is at least partially not deformed. 23. Verfahren nach einem der Ansprüche 17 bis 22, dadurch gekennzeichnet, dass der Rohrrohling durch zumindest ein Verfahren der Gruppe Schmieden Strangpressen und Drückwalzen verformt wird. 11 /14 österreichisches Patentamt AT 12 292 U2 2012-03-1523. The method according to any one of claims 17 to 22, characterized in that the tube blank is deformed by at least one method of the group forging extrusion and flow forming. 11/14 Austrian Patent Office AT 12 292 U2 2012-03-15 24. Verfahren nach einem der Ansprüche 17 bis 23, dadurch gekennzeichnet, dass durch mechanische Bearbeitung des verformten Rohrrohlings ein Rohrtarget (100) hergestellt wird und dieses optional mit einem Trägerrohr verbunden wird.24. The method according to any one of claims 17 to 23, characterized in that by mechanical processing of the deformed tube blank, a tube target (100) is produced and this is optionally connected to a carrier tube. 25. Verfahren nach einem der Ansprüche 17 bis 24 zur Herstellung eines Rohrtargets (100) nach einem der Ansprüche 1 bis 16. Hierzu 2 Blatt Zeichnungen 12/1425. The method according to any one of claims 17 to 24 for the production of a tube target (100) according to any one of claims 1 to 16. For this 2-sheet drawings 12/14
ATGM562/2011U 2011-10-18 2011-10-18 TUBE TARGET AT12292U3 (en)

Priority Applications (10)

Application Number Priority Date Filing Date Title
ATGM562/2011U AT12292U3 (en) 2011-10-18 2011-10-18 TUBE TARGET
TW101134109A TWI550115B (en) 2011-10-18 2012-09-18 Tubular target
EP12795724.9A EP2769002B1 (en) 2011-10-18 2012-10-17 Tubular target
US14/352,725 US20140238850A1 (en) 2011-10-18 2012-10-17 Tubular target and method of producing a tubular target
ES12795724.9T ES2555876T3 (en) 2011-10-18 2012-10-17 Tubular white
KR1020147009935A KR20140091677A (en) 2011-10-18 2012-10-17 Tubular target
CN201280051077.0A CN104040019B (en) 2011-10-18 2012-10-17 Tubular target
PL12795724T PL2769002T3 (en) 2011-10-18 2012-10-17 Tubular target
PCT/AT2012/000262 WO2013056286A1 (en) 2011-10-18 2012-10-17 Tubular target
JP2014536061A JP2015501376A (en) 2011-10-18 2012-10-17 Tubular target

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
ATGM562/2011U AT12292U3 (en) 2011-10-18 2011-10-18 TUBE TARGET

Publications (2)

Publication Number Publication Date
AT12292U2 AT12292U2 (en) 2012-03-15
AT12292U3 true AT12292U3 (en) 2013-03-15

Family

ID=45463107

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ATGM562/2011U AT12292U3 (en) 2011-10-18 2011-10-18 TUBE TARGET

Country Status (10)

Country Link
US (1) US20140238850A1 (en)
EP (1) EP2769002B1 (en)
JP (1) JP2015501376A (en)
KR (1) KR20140091677A (en)
CN (1) CN104040019B (en)
AT (1) AT12292U3 (en)
ES (1) ES2555876T3 (en)
PL (1) PL2769002T3 (en)
TW (1) TWI550115B (en)
WO (1) WO2013056286A1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT14912U1 (en) 2015-05-06 2016-08-15 Plansee Se Connection piece for pipe target

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5725746A (en) * 1990-08-10 1998-03-10 Viratec Thin Films, Inc. Shielding for arc suppression in rotating magnetron sputtering systems
WO2006008197A1 (en) * 2004-07-16 2006-01-26 Bekaert Advanced Coatings Cylindrical target obtained by hot isostatic pressing
WO2007141173A1 (en) * 2006-06-02 2007-12-13 Bekaert Advanced Coatings A rotatable sputter target
US20090290685A1 (en) * 2005-10-27 2009-11-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Molybdenum alloy; and x-ray tube rotary anode target, x-ray tube and melting crucible using the same

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0342537B1 (en) * 1988-05-16 1995-09-06 Tosoh Corporation Process for the manufacture of a sputtering target for producing electroconductive transparent films
BE1007067A3 (en) * 1992-07-15 1995-03-07 Emiel Vanderstraeten Besloten SPUTTER CATHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING THIS CATHOD
JPH06172991A (en) * 1992-11-30 1994-06-21 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Ceramic target for magnetron sputtering
JP3863204B2 (en) * 1995-08-25 2006-12-27 株式会社アライドマテリアル Sputtering target material and manufacturing method thereof
JP2002302762A (en) * 2001-04-04 2002-10-18 Tosoh Corp Ito sputtering target
JP4014982B2 (en) * 2002-09-19 2007-11-28 株式会社神戸製鋼所 Rod target for arc evaporation source, manufacturing method thereof, and arc evaporation apparatus
WO2005073418A1 (en) * 2004-01-30 2005-08-11 Nippon Tungsten Co., Ltd. Tungsten based sintered compact and method for production thereof
US20050279630A1 (en) * 2004-06-16 2005-12-22 Dynamic Machine Works, Inc. Tubular sputtering targets and methods of flowforming the same
AT8697U1 (en) * 2005-10-14 2006-11-15 Plansee Se TUBE TARGET
EP2024530A1 (en) * 2006-06-02 2009-02-18 Bekaert Advanced Coatings A rotatable sputter target
FR2944295B1 (en) * 2009-04-10 2014-08-15 Saint Gobain Coating Solutions MOLYBDENE-BASED TARGET AND THERMAL PROJECTION DELIVERY METHOD OF A TARGET

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5725746A (en) * 1990-08-10 1998-03-10 Viratec Thin Films, Inc. Shielding for arc suppression in rotating magnetron sputtering systems
WO2006008197A1 (en) * 2004-07-16 2006-01-26 Bekaert Advanced Coatings Cylindrical target obtained by hot isostatic pressing
US20090290685A1 (en) * 2005-10-27 2009-11-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Molybdenum alloy; and x-ray tube rotary anode target, x-ray tube and melting crucible using the same
WO2007141173A1 (en) * 2006-06-02 2007-12-13 Bekaert Advanced Coatings A rotatable sputter target

Also Published As

Publication number Publication date
EP2769002B1 (en) 2015-09-30
ES2555876T3 (en) 2016-01-11
JP2015501376A (en) 2015-01-15
EP2769002A1 (en) 2014-08-27
WO2013056286A1 (en) 2013-04-25
US20140238850A1 (en) 2014-08-28
TW201329265A (en) 2013-07-16
CN104040019B (en) 2016-06-29
CN104040019A (en) 2014-09-10
AT12292U2 (en) 2012-03-15
PL2769002T3 (en) 2016-03-31
KR20140091677A (en) 2014-07-22
TWI550115B (en) 2016-09-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102010062089A1 (en) Surface-structured metallic glasses and methods of manufacture
DE102009042603A1 (en) Method for producing a composite component
DE102010014303A1 (en) Composite component for rolling steel, comprises a carrier made of powder metal, and a wear-resistant body made of hard metal that is embedded in sections in the carrier, where the hard-metal body is metallized in sections
DE112007003740T5 (en) carbide rotary tool
DE102005025929A1 (en) Steam oxidation of powder metal parts
DE102006016147A1 (en) Method for producing a honeycomb seal
DE112014001875T5 (en) Bearing part and its manufacturing process
AT12292U3 (en) TUBE TARGET
DE102016216486A1 (en) From a cam acted upon lever for actuating gas exchange valves of an internal combustion engine
DE112007003622T5 (en) Powder metal gear with varying case hardness and method therefor
DE112018001615T5 (en) Valve seat made of sintered iron alloy with excellent thermal conductivity for use in internal combustion engines
AT517383B1 (en) plain bearing element
AT505698A1 (en) METHOD FOR PRODUCING A SINTER-CURABLE SINTER MOLDING PART
DE102011053740A1 (en) Preparing a hard material tool component e.g. a full hard metal tool, comprises transforming and/or pressing or extruding a hard material, a sintering agent such as carbon monoxide, and/or binding agent to slug, and then sintering
DE102012015127A1 (en) Sintering substrate arranged between green solid molded body to be sintered and base body, comprises green solid film disposed on metallic or ceramic carrier and separating layer made of material disposed between green solid molded body
DE102012013778B4 (en) Forming tool made of a steel material with different material properties in some areas for the massive forming of a metal material and method for producing such a forming tool
DE102014205164B4 (en) Bearing element for a rolling bearing
DE112014001906T5 (en) Bearing item and method for producing a bearing part
AT15262U1 (en) Glass melting component
DE102018120574A1 (en) Wälzgleitkörper and method for producing the same and rolling bearing, which has the Wälzleitkörper
DE102012006952B4 (en) Method and device for influencing the grain size of a workpiece and workpiece
DE102007028823A1 (en) Process for producing a sheet in a rolling mill
DE10320014B4 (en) Apparatus for extruding pipes and profiles of steel, metal and metal alloys
DE102004060023B4 (en) Method for producing a honeycomb seal segment
EP2473709B1 (en) Rotor shaft for a steam turbine

Legal Events

Date Code Title Description
HA Change or addition of new inventor

Inventor name: WILL TOBIAS, AT

Effective date: 20121017

Inventor name: WOLF HARTMUT, AT

Effective date: 20121017

Inventor name: KOECK WOLFGANG, AT

Effective date: 20121017

Inventor name: LINKE CHRISTIAN, AT

Effective date: 20121017

Inventor name: ABENTHUNG PETER, AT

Effective date: 20121017

Inventor name: DRONHOFER ANDRE, AT

Effective date: 20121017

MM01 Lapse because of not paying annual fees

Effective date: 20151031