KR101142791B1 - Touch screen panel - Google Patents

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Abstract

본 발명은 터치스크린 패널에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 터치스크린 패널은 제1 기판; 상기 제1 기판의 하면 상에 형성되며 제1 방향으로 배열된 복수의 제1 투명 패턴들을 포함하는 제1 투명 전도층; 상기 제1 투명 전도층의 하면에 형성된 제1 투명 절연층; 상기 제1 투명 절연층의 하면 상에 형성되며 상기 제1 방향과 다른 제2 방향으로 배열된 복수의 제2 투명 패턴들을 포함하는 제2 투명 전도층; 및 상기 제1 투명 전도층의 가장자리 및 상기 제2 투명 전도층의 가장자리에 형성되며 상기 복수의 제1 투명 패턴들 및 제2 투명 패턴들의 일단에 각각 전기적으로 연결된 전극 패턴들을 포함하는 제1 전극층;을 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a touch screen panel, wherein the touch screen panel according to the present invention comprises: a first substrate; A first transparent conductive layer formed on a bottom surface of the first substrate and including a plurality of first transparent patterns arranged in a first direction; A first transparent insulating layer formed on the bottom surface of the first transparent conductive layer; A second transparent conductive layer formed on a bottom surface of the first transparent insulating layer and including a plurality of second transparent patterns arranged in a second direction different from the first direction; And a first electrode layer formed at an edge of the first transparent conductive layer and an edge of the second transparent conductive layer and electrically connected to one end of the plurality of first transparent patterns and the second transparent patterns, respectively. Characterized in that it comprises a.

Description

터치스크린 패널{TOUCH SCREEN PANEL}Touch screen panel {TOUCH SCREEN PANEL}

본 발명은 터치스크린 패널에 관한 것으로, 특히 멀티터치가 가능한 터치스크린 패널에 관한 것이다.
The present invention relates to a touch screen panel, and more particularly to a touch screen panel capable of multi-touch.

일반적으로, 터치스크린(touch-screen)은 키보드를 사용하지 않고 화면(screen)에 나타난 문자나 특정 위치에 사람의 손끝 또는 기타 물체가 닿으면, 그 위치를 파악하여 저장된 소프트웨어에 의해 특정 처리를 할 수 있도록, 화면에서 직접 입력을 받을 수 있게 한 표시장치를 말한다. 즉, 화면을 표시하는 출력장치와 손가락 등의 접촉을 통해 명령을 입력하는 입력장치가 일체로 구성되며, LCD, CRT, OLED 등의 DISPLAY와 화면 접촉을 인식하는 터치스크린 패널(TOUCH SCREEN PANEL)로 구성된다.In general, the touch-screen is used to detect the position of a person's fingertips or other objects on a screen or a specific position without using a keyboard, and to detect the position and perform specific processing by the stored software. It refers to a display device that can receive input directly from the screen. That is, the output device for displaying the screen and the input device for inputting a command through the touch of a finger are integrally formed, and the touch screen panel for recognizing the screen contact with the display of LCD, CRT, OLED, etc. It is composed.

터치스크린은 정밀도가 높지는 않지만, 키보드가 필요 없고 조작이 간단하기 때문에 대중들이 많이 이용하는 장소 즉, 지하철, 백화점, 은행 등의 공공장소에서 안내용 소프트웨어에 많이 이용되며, 각종 점포에서 판매용 단말기에도 많이 응용될 뿐만 아니라, 근래에는 휴대전화기, DMB, 차량용 네비게이션 등 휴대용 단말기로도 널리 활용되고 있다.
Although the touch screen is not high in precision, it does not require a keyboard and is simple to operate, so it is widely used for guidance software in public places such as subways, department stores, banks, etc. In addition to the application, in recent years has been widely used as a portable terminal such as a mobile phone, DMB, car navigation.

터치스크린의 종류로는 저항막 방식(resistive overlay), 정전용량 방식(capacitive overlay), 표면 초음파 방식(surface acoustic wave) 및 적외선 방식(infrared beam) 등이 있다. Types of touch screens include resistive overlay, capacitive overlay, surface acoustic wave, and infrared beam.

저항막 방식의 터치스크린은 ITO 등의 전도성 물질이 코팅된　유리 또는 필름재질의 2개의 기판 층과 로고 등의 인쇄층을 가지며, 표면 보호 및 내구성 향상을 목적으로 하는 윈도우로 구성된다. 두 기판층 사이에는 서로 닿지 않도록 일정한 간격으로 스페이서(spacer)가 설치되어 있는데, 손으로 접촉 시 이 두 면이 서로 접촉하게 되고 이때 저항값이 변화하게 되며 이에 따라 전압도 변화하게 되는데 이러한 전압의 변화 정도로 손끝의 접촉 위치 즉, 터치포인트(touch point)를 인식하는 방식이다.The resistive touch screen has two substrate layers made of glass or film coated with a conductive material such as ITO and a printed layer such as a logo, and is composed of windows for the purpose of protecting the surface and improving durability. Spacers are installed at regular intervals between the two substrate layers so as not to touch each other. When the hands are touched, these two surfaces come into contact with each other, and the resistance value changes, and accordingly, the voltage changes. It is a method of recognizing the contact point of the fingertip, that is, the touch point.

정전용량 방식의 터치스크린 패널은 투명 기판상에 소정의 형상으로 패터닝되는 투명 전도막을 형성하고, 투명 전도층은 투명 기판상에 배치되는 전극과 전기적으로 연결된다. 상기 전극은 터치스크린을 제어하는 제어 모듈과 연결되고, 신체의 접촉에 따라 투명 전극에서 발생하는 정전용량(capacitance)의 변화가 상기 제어 모듈로 전달되어 접촉 위치를 판단하게 된다.
A capacitive touch screen panel forms a transparent conductive film patterned in a predetermined shape on a transparent substrate, and the transparent conductive layer is electrically connected to an electrode disposed on the transparent substrate. The electrode is connected to a control module for controlling the touch screen, and a change in capacitance generated in the transparent electrode according to the contact of the body is transmitted to the control module to determine the contact position.

한편, 멀티터치(multi-touch)란 사용자가 터치스크린 상에 복수의 접촉을 하였을 때, 상기 복수의 접촉 위치를 동시에 인식할 수 있도록 하는 기술이다. 따라서, 종래의 한 곳의 접촉 위치만을 인식할 수 있었던 터치스크린과 비교하여 다양한 응용이 가능하기 때문에, 게임기, 휴대용 단말기와 같은 멀티미디어 기기에 대해 활용 범위가 넓다.
On the other hand, multi-touch (multi-touch) is a technology that allows the user to simultaneously recognize the plurality of contact positions when a plurality of contacts on the touch screen. Therefore, various applications are possible in comparison with the touch screen which can recognize only one contact point in the related art, and thus the application range is wide for multimedia devices such as game machines and portable terminals.

도 1은 종래의 저항막 방식 터치스크린 패널의 단면도이다.　1 is a cross-sectional view of a conventional resistive touch screen panel.

도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 저항막 방식 터치스크린 패널은 제1 기판(101), 상기 제1 기판(101)의 하면에 OCA(103, Optically Clear Adhesive, 투명접착제)를 이용해 접착된 제1 ITO 층(102, Indium Tin Oxide), 상기 제1　ITO 층(102)의 가장자리에 형성되는 제1　전극(104), 제2 기판(105), 상기 제2 기판(105)의 상면에 OCA(107)를 이용해 접착된 제2 ITO 층(106), 상기 제2　ITO 층(106)의 가장자리에 형성되는 제2　전극(108), 상기 제1　ITO 층(102) 및 상기 제2　ITO 층(106) 사이에 형성된 스페이서(109)를 포함하고, 상기 제1　전극(104)의 하면 및 상기 제2　전극(108)의 상면이 접착제(110)에 의해 서로 접착되어 형성된다.As shown in FIG. 1, the conventional resistive touch screen panel includes a first substrate 101 and an adhesive bonded to an under surface of the first substrate 101 using an optically clear adhesive (OCA) 103. 1 ITO layer 102 (Indium Tin Oxide), the first electrode 104 formed on the edge of the first IIT layer 102, the second substrate 105, the upper surface of the second substrate 105 A second ITO layer 106 bonded to the second ITO layer 106, a second electrode 108 formed at an edge of the second ITO layer 106, the first ITO layer 102 and the second ITO layer 106. And a spacer 109 formed between the upper and lower surfaces of the first electrode 104 and the upper surface of the second electrode 108 are bonded to each other by an adhesive 110.

　종래의 저항막 방식 터치스크린 패널에서는 OCA(103, 107) 접착 공정 시, 기포 발생 및 이물질　침투 등이 발생하여 공정 수율이 감소되는 문제점이 있었다. 또한, 종래의 저항막 방식 터치스크린 패널에서는 외부의 압력에 의해 상기 제1　ITO 층(102) 및 제2　ITO 층(106)의 전기적인 연결에 의한 저항값의 변화를 측정하여, 이를 이용하여 접촉 위치를 인식하기 때문에 단 하나의 접촉 위치만을 인식할 수 있을 뿐, 2 이상의 접촉 위치를 인식하는 멀티터치 기능을 지원할 수 없는 문제점이 있었다.In the conventional resistive touch screen panel, when the OCA (103, 107) bonding process, there is a problem that the process yield is reduced due to the generation of bubbles and foreign matter penetrating. In addition, in the conventional resistive touch screen panel, a change in resistance value due to the electrical connection between the first ITO layer 102 and the second ITO layer 106 is measured by external pressure, and the contact is made using the same. Since the location is recognized, only one contact location can be recognized, and there is a problem in that it cannot support a multi-touch function for recognizing two or more contact locations.

　

도 2는 종래의 정전용량 방식 터치스크린 패널의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a conventional capacitive touch screen panel.

도 2에 도시된 바와 같이, 종래의 정전용량 방식 터치스크린 패널은 제1 기판(21), 상기 제1 기판(21)의 하면에 OCA(22)에 의해 접착되는 제1　ITO 층(23), 상기 제1　ITO 층(23)의 하면에 접착되는 OCA(24), 상기 OCA(24)의 하면에 형성되는 제2　ITO 층(25), 상기 제2　ITO 층(25)의 하면에 OCA(26)에 의해 접착되는 제2 기판(27)으로 형성된다.As shown in FIG. 2, a conventional capacitive touch screen panel includes a first substrate 21, a first ITO layer 23 adhered to an under surface of the first substrate 21 by an OCA 22, OCA 24 adhered to the bottom surface of the first ITO layer 23, a second ITO layer 25 formed on the bottom surface of the OCA 24, and an OCA 26 on the bottom surface of the second ITO layer 25. Is formed as a second substrate 27 bonded by the < RTI ID = 0.0 >

상기 종래의 저항막 방식 터치스크린 패널과 마찬가지로,　종래의 정전용량 방식 터치스크린 패널에서는 상기 제1 ITO 층(23) 및 제2 ITO 층(25)을 상기 제1 기판(21) 및 제2 기판(27)과 OCA(22, 26)를 이용하여 접착해야 하기 때문에 공정 수율이 감소되는 문제가 있었다. 또한, 상기 제1 ITO 층(23)　및 제2 ITO 층(25)에 전압을 인가하기 위한 전극을 형성할 때, 스크린 프린트 및 레이저를 사용하기 때문에 선폭 및 두께가 상대적으로 커져서 데드스페이스(dead space) 내에서　채널　수 제한이 생기고, 제품을 얇게 생산하는 데에 있어 방해요인이 되는 문제점이 있었다.
Like the conventional resistive touch screen panel, in the conventional capacitive touch screen panel, the first ITO layer 23 and the second ITO layer 25 may be formed of the first substrate 21 and the second substrate ( 27) and the OCA (22, 26) to be bonded using a problem that the process yield is reduced. In addition, when forming an electrode for applying a voltage to the first ITO layer 23 and the second ITO layer 25, because the screen print and laser are used, the line width and thickness are relatively large, and thus dead space There is a problem in that the number of channels is generated within) and the obstacles in producing a thin product.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 투명 기판 상면에 전도성 투명 패턴 및 전극 패턴을 직접 형성함으로써, 공정 축소로 인하여 수율 및 생산성이 향상된다. 또한 두께 감소 효과로 인해 광투과율이 우수한 터치스크린을 제공함에 있다.
An object of the present invention for solving the above problems, by directly forming a conductive transparent pattern and an electrode pattern on the upper surface of the transparent substrate, the yield and productivity is improved due to the process reduction. In addition, due to the thickness reduction effect is to provide a touch screen with excellent light transmittance.

본 발명의 일 실시 예에 따른 저항막 방식의 터치스크린 패널은, 제1 기판, 상기 제1 기판의 하면 상에 직접 증착되며, 제1 방향으로 배열된 복수의 제1 투명 패턴들을 포함하는 제1 투명 전도층 및 상기 제1 투명 전도층의 가장자리에 직접 증착되며, 상기 복수의 제1 투명 패턴들의 일단에 각각 전기적으로 연결된 제1 전극 패턴들을 포함하는 제1 전극층을 포함하는 제1 전도부와; 제2 기판, 상기 제2 기판의 상면 상에 직접 증착되며, 상기 제1 방향과 다른 제2 방향으로 배열된 복수의 제2 투명 패턴들을 포함하는 제2 투명 전도층, 및 상기 제2 투명 전도층의 가장자리에 직접 증착되며, 상기 복수의 제2 투명 패턴들의 일단에 각각 전기적으로 연결된 제2 전극 패턴들을 포함하는 제2 전극층을 포함하는 제2 전도부와; 상기 제1 투명 전도층의 하면 및 제2 투명 전도층의 상면 사이에 형성되는 절연 스페이서;를 포함하고, 상기 제1 전도부의 하면 및 제2 전도부의 상면이 서로 접착되어 고정되는 것을 특징으로 한다.
A resistive touch screen panel according to an exemplary embodiment of the present invention may include a first substrate and a first substrate directly deposited on a lower surface of the first substrate and including a plurality of first transparent patterns arranged in a first direction. A first conductive portion deposited directly on an edge of the transparent conductive layer and the first transparent conductive layer and including a first electrode layer including first electrode patterns electrically connected to one ends of the plurality of first transparent patterns; A second transparent conductive layer deposited on a second substrate, an upper surface of the second substrate, and including a plurality of second transparent patterns arranged in a second direction different from the first direction, and the second transparent conductive layer A second conductive portion deposited directly on an edge of the second conductive portion, the second conductive layer including second electrode patterns electrically connected to one ends of the plurality of second transparent patterns; And an insulating spacer formed between the bottom surface of the first transparent conductive layer and the top surface of the second transparent conductive layer, wherein the bottom surface of the first conductive portion and the top surface of the second conductive portion are adhered to and fixed to each other.

본 발명의 일 실시 예에 따른 정전용량 방식의 터치스크린 패널은, 제1 기판; 상기 제1 기판의 하면 상에 형성되며 제1 방향으로 배열된 복수의 제1 투명 패턴들을 포함하는 제1 투명 전도층; 상기 제1 투명 전도층의 하면에 형성된 제1 투명 절연층; 상기 제1 투명 절연층의 하면 상에 형성되며 상기 제1 방향과 다른 제2 방향으로 배열된 복수의 제2 투명 패턴들을 포함하는 제2 투명 전도층; 및 상기 제1 투명 전도층의 가장자리 및 상기 제2 투명 전도층의 가장자리에 형성되며, 상기 복수의 제1 투명 패턴들 및 제2 투명 패턴들의 일단에 각각 전기적으로 연결된 전극 패턴들을 포함하는 제1 전극층;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
A capacitive touch screen panel according to an embodiment of the present invention, the first substrate; A first transparent conductive layer formed on a bottom surface of the first substrate and including a plurality of first transparent patterns arranged in a first direction; A first transparent insulating layer formed on the bottom surface of the first transparent conductive layer; A second transparent conductive layer formed on a bottom surface of the first transparent insulating layer and including a plurality of second transparent patterns arranged in a second direction different from the first direction; And first electrode layers formed at edges of the first transparent conductive layer and edges of the second transparent conductive layer and electrically connected to one ends of the plurality of first transparent patterns and the second transparent patterns, respectively. It characterized by including.

본 발명에 따르면, 전도성 투명 패턴 및 전극 패턴을 곧바로 투명 기판에 형성하여, 투명 접착제에 의한 접착 공정(OCA 공정)을 생략함으로써, 터치스크린 패널의 두께 감소, 광 투과율의 향상, 제조 시간 단축, 제조 원가 절감 및 수율 향상의 이점이 있으며, 저항막 방식의 터치스크린 패널 및 정전용량 방식의 터치스크린 패널 모두에서 멀티 터치 기능이 가능하도록 하는 이점이 있다.
According to the present invention, the conductive transparent pattern and the electrode pattern are formed directly on the transparent substrate, and the adhesion process (OCA process) by the transparent adhesive is omitted, thereby reducing the thickness of the touch screen panel, improving the light transmittance, shortening the manufacturing time, manufacturing There is an advantage of cost reduction and yield improvement, and has the advantage of enabling the multi-touch function in both the resistive touch screen panel and the capacitive touch screen panel.

도 1은 종래 기술에 따른 저항막 방식 터치스크린 패널의 단면도;
도 2는 종래 기술에 따른 정전용량 방식 터치스크린 패널의 단면도;
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 저항막 방식 터치스크린 패널의 단면도;
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 정전용량 방식 터치스크린 패널의 단면도;
도 5는 투명 전도층을 형성하기 위한 지그(jig)를 개략적으로 도시한 평면도;　
도 6은 기판 상면에 투명 전도층을 형성하는 단계를 개략적으로 도시한 도면;　
도 7 내지 도 9는 본 발명에 따라 형성된 투명 전도층 및 전극층을 표시한 도면.1 is a cross-sectional view of a resistive touch screen panel according to the prior art;
2 is a cross-sectional view of a capacitive touch screen panel according to the prior art;
3 is a cross-sectional view of a resistive touch screen panel according to an embodiment of the present invention;
4 is a cross-sectional view of a capacitive touch screen panel according to an embodiment of the present invention;
5 is a plan view schematically showing a jig for forming a transparent conductive layer;
6 schematically illustrates a step of forming a transparent conductive layer on a top surface of a substrate;
7-9 illustrate a transparent conductive layer and an electrode layer formed in accordance with the present invention.

하기에서 본 발명을 설명함에 있어 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. In the following description of the present invention, detailed descriptions of well-known functions or configurations will be omitted if it is determined that the detailed description of the present invention may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention.

이하에서는 본 발명에 따른 터치스크린 패널에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.
Hereinafter, a touch screen panel according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 저항막 방식(resistive layer) 터치스크린 패널의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of a resistive layer touch screen panel according to an exemplary embodiment.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시 예에 따른 저항막 방식의 터치스크린 패널은 제1 기판(31), 제1 투명 전도층(32) 및 제1 전극층(33)을 포함하는 제1 전도부(30-1); 제2 기판(34), 제2 투명 전도층(35) 및 제2 전극층(36)을 포함하는 제2 전도부(30-2); 및 절연 스페이서(37)를 포함한다.
As shown in FIG. 3, a resistive touch screen panel according to an embodiment of the present invention may include a first substrate 31, a first transparent conductive layer 32, and a first electrode layer 33. 1 conductive portion 30-1; A second conductive portion 30-2 including a second substrate 34, a second transparent conductive layer 35, and a second electrode layer 36; And an insulating spacer 37.

구체적으로, 상기 제1 기판(31)은 폴리카보네이트(polycarbonate), 글라스(glass) 또는 폴리에틸렌 테레프트레이트(Poly Ethylene Terephthalate)와 같은 투명한 재료로 형성될 수 있다. 또한 상기 투명한 재료의 복수의 조합으로도 형성될 수 있다.
In detail, the first substrate 31 may be formed of a transparent material such as polycarbonate, glass, or polyethylene terephthalate. It may also be formed from a plurality of combinations of the above transparent materials.

상기 제1 투명 전도층(32)은 상기 제1 기판(31)의 하면에 형성된다. 상기 제1 투명 전도층(32)은 제1 방향으로 배열된 복수의 제1 투명 패턴들을 포함한다. 상기 제1 투명 패턴들은 ITO(Indium-Tin Oxide), ZnO, 전도성폴리머, CNT(Carbon Nano Tube), ZTO(Zinc Transparent Oxide), GZO(Ga-doped Zinc Oxide), AZO(Al-doped Zinc Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), TiO2:Nb, Mg(OH)2:C 및 Ag 중 적어도 하나로 형성될 수 있다.
The first transparent conductive layer 32 is formed on the bottom surface of the first substrate 31. The first transparent conductive layer 32 includes a plurality of first transparent patterns arranged in a first direction. The first transparent patterns are indium tin oxide (ITO), ZnO, conductive polymer, carbon nano tube (CNT), zinc transparent oxide (ZTO), Ga-doped Zinc Oxide (GZO), and Al-doped Zinc Oxide (AZO). , Indium Zinc Oxide (IZO), TiO 2 : Nb, Mg (OH) 2 : C and Ag.

상기 제1 전극층(33)은 상기 제1 투명 전도층(32)의 가장자리에 형성된다. 또한, 상기 제1 전극층(33)은 상기 제1 기판(31)의 하면에, 상기 제1 투명 전도층(32)의 가장자리에서부터 측면부에 걸쳐서 형성될 수 있다.The first electrode layer 33 is formed at an edge of the first transparent conductive layer 32. In addition, the first electrode layer 33 may be formed on the lower surface of the first substrate 31 from the edge of the first transparent conductive layer 32 to the side surface thereof.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 제1 전극층(33)은 상기 제1 투명 전도층(32)의 제1측 가장자리에 형성되며, 상기 제1 투명 전도층(32)의 제2측 가장자리에는 상기 제1 전극층(33)과의 단차를 줄이기 위한 제1 더미 전극이 형성된다. 즉, 상기 제1 투명 전도층(32)의 가장자리에 상기 제1 전극층(33)이 형성되지 않은 위치에 제1 더미 전극이 형성될 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the first electrode layer 33 is formed at the edge of the first side of the first transparent conductive layer 32 and at the edge of the second side of the first transparent conductive layer 32. A first dummy electrode is formed to reduce the step with the first electrode layer 33. That is, the first dummy electrode may be formed at a position where the first electrode layer 33 is not formed at the edge of the first transparent conductive layer 32.

상기 제1 더미 전극은 이후에 설명할 상기 제1 전도부(30-1) 및 제2 전도부(30-2)를 접착 시, 상기 제1 전극층(33)이 형성된 위치와 형성되지 않은 위치와의 높이 차이에 의해 측면 단차가 발생하는 것을 방지하기 위해 즉, 터치스크린 패널의 평탄도를 개선할 목적으로 형성된다. 상기 제1 더미 전극을 형성함으로써 본 발명에 따른 터치스크린 패널의 외관 또한 개선될 수 있다.When the first dummy electrode is bonded to the first conductive portion 30-1 and the second conductive portion 30-2, which will be described later, a height between a position where the first electrode layer 33 is formed and a position that is not formed In order to prevent the side step difference caused by the difference, that is, to improve the flatness of the touch screen panel is formed. The appearance of the touch screen panel according to the present invention may also be improved by forming the first dummy electrode.

도 8(b)를 참조하면, 참조번호 87에 해당하는 부분이 더미 전극이 된다. 도 8(b)에서 참조번호 87의 더미 전극은 절연성 기판상의 상부 및 양측부에 걸쳐 "ㄷ"자 형태로 형성되었지만, 터치스크린 패널의 평탄도를 개선하는 것이 목적이므로, 상기 절연성 기판상의 상부에만 형성될 수도 있으며, 이외에도 다양한 형태로 형성될 수 있다.Referring to FIG. 8B, a portion corresponding to the reference numeral 87 becomes a dummy electrode. In FIG. 8 (b), the dummy electrode of reference numeral 87 is formed in a “c” shape over the top and both sides of the insulating substrate. However, since the purpose of improving flatness of the touch screen panel is only the upper portion of the insulating substrate. It may be formed, but may also be formed in various forms.

상기 제1 전극층(33)은 복수의 제1 전극 패턴들을 포함하며, 상기 복수의 제1 전극 패턴들은 상기 복수의 제1 투명 패턴들의 일단에 각각 전기적으로 연결된다. 상기 복수의 제1 전극 패턴들은 은으로 형성될 수 있으며, 이외에도 금, 구리, 백금, 팔라듐, 몰리브덴 및 알루미늄 중 적어도 하나로 형성될 수 있다.The first electrode layer 33 includes a plurality of first electrode patterns, and the plurality of first electrode patterns are electrically connected to one ends of the plurality of first transparent patterns, respectively. The plurality of first electrode patterns may be formed of silver, and may be formed of at least one of gold, copper, platinum, palladium, molybdenum, and aluminum.

상기 복수의 제1 투명 패턴들 및 제1 전극 패턴들에 대해서는 아래에서 좀더 자세히 설명하기로 한다. 상기 제1 전도부(30-1)는 상기 제1 기판(31), 제1 투명 전도층(32) 및 제1 전극층(33)을 포함한다.
The plurality of first transparent patterns and the first electrode patterns will be described in more detail below. The first conductive portion 30-1 includes the first substrate 31, the first transparent conductive layer 32, and the first electrode layer 33.

또한, 상기 제2 전도부(30-2)는 상기 제2 기판(34), 제2 투명 전도층(35) 및 제2 전극층(36)을 포함한다. In addition, the second conductive portion 30-2 includes the second substrate 34, the second transparent conductive layer 35, and the second electrode layer 36.

구체적으로, 상기 제2 기판(34)은 앞서 설명한 상기 제1 기판(31)과 동일하게 형성될 수 있다. 즉, 상기 제2 기판(34)은 폴리카보네이트, 글라스 또는 폴리에틸렌 테레프트레이트와 같은 투명한 재료로 형성될 수 있다. 또한 상기 투명한 재료의 복수의 조합으로도 형성될 수 있다.
Specifically, the second substrate 34 may be formed in the same manner as the first substrate 31 described above. That is, the second substrate 34 may be formed of a transparent material such as polycarbonate, glass, or polyethylene tererate. It may also be formed from a plurality of combinations of the above transparent materials.

상기 제2 투명 전도층(35)은 상기 제2 기판(34)의 상면에 형성된다. 상기 제2 투명 전도층(35)은 상기 제1 방향과 다른 제2 방향으로 배열된 복수의 제2 투명 패턴들을 포함한다. 상기 제2 투명 패턴들은 ITO, ZnO, 전도성폴리머, CNT, ZTO, GZO, AZO, IZO, TiO2:Nb, Mg(OH)2:C 및 Ag 중 적어도 하나로 형성될 수 있다.
The second transparent conductive layer 35 is formed on the upper surface of the second substrate 34. The second transparent conductive layer 35 includes a plurality of second transparent patterns arranged in a second direction different from the first direction. The second transparent patterns may be formed of at least one of ITO, ZnO, a conductive polymer, CNT, ZTO, GZO, AZO, IZO, TiO 2 : Nb, Mg (OH) 2 : C, and Ag.

상기 제2 전극층(36)은 상기 제2 투명 전도층(35)의 가장자리에 형성된다. 또한, 상기 제2 전극층(36)은 상기 제2 기판(34)의 하면에, 상기 제2 투명 전도층(35)의 가장자리에서부터 측면부에 걸쳐서 형성될 수 있다.The second electrode layer 36 is formed at an edge of the second transparent conductive layer 35. In addition, the second electrode layer 36 may be formed on the lower surface of the second substrate 34 from the edge of the second transparent conductive layer 35 to the side surface thereof.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 제2 전극층은 상기 제2 투명 전도층의 제3측 가장자리에 형성되며, 상기 제1 투명 전도층의 제4측 가장자리에는 상기 제1 전극층과의 단차를 줄이기 위한 제2 더미 전극이 형성될 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the second electrode layer is formed on the third side edge of the second transparent conductive layer, and the step of reducing the step with the first electrode layer on the fourth side edge of the first transparent conductive layer. The second dummy electrode may be formed.

상기 제2 더미 전극은 이후에 설명할 상기 제1 전도부(30-1) 및 제2 전도부(30-2)를 접착 시, 상기 제2 전극층(36)이 형성된 위치와 형성되지 않은 위치와의 높이 차이에 의해 측면 단차가 발생하는 것을 방지하기 위해 즉, 터치스크린 패널의 평탄도를 개선할 목적으로 형성된다. 상기 제2 더미 전극을 형성함으로써 본 발명에 따른 터치스크린 패널의 외관 또한 개선될 수 있다.When the second dummy electrode is bonded to the first conductive portion 30-1 and the second conductive portion 30-2, which will be described later, a height between a position where the second electrode layer 36 is formed and a position that is not formed In order to prevent the side step difference caused by the difference, that is, to improve the flatness of the touch screen panel is formed. The appearance of the touch screen panel according to the present invention may also be improved by forming the second dummy electrode.

도 8(b)를 참조하면, 참조번호 87에 해당하는 부분이 더미 전극이 된다. 도 8(b)에서 참조번호 87의 더미 전극은 절연성 기판상의 상부 및 양측부에 걸쳐 "ㄷ"자 형태로 형성되었지만, 터치스크린 패널의 평탄도를 개선하는 것이 목적이므로, 상기 절연성 기판상의 상부에만 형성될 수도 있으며, 이외에도 다양한 형태로 형성될 수 있다.Referring to FIG. 8B, a portion corresponding to the reference numeral 87 becomes a dummy electrode. In FIG. 8 (b), the dummy electrode of reference numeral 87 is formed in a “c” shape over the top and both sides of the insulating substrate. However, since the purpose of improving flatness of the touch screen panel is only the upper portion of the insulating substrate. It may be formed, but may also be formed in various forms.

상기 제2 전극층(36)은 복수의 제2 전극 패턴들을 포함하며, 상기 복수의 제2 전극 패턴들은 상기 복수의 제2 투명 패턴들의 일단에 각각 전기적으로 연결된다. 상기 복수의 제2 전극 패턴들은 은으로 형성될 수 있으며, 이외에도 금, 구리, 백금, 팔라듐, 몰리브덴 및 알루미늄 중 적어도 하나로 형성될 수 있다.The second electrode layer 36 includes a plurality of second electrode patterns, and the plurality of second electrode patterns are electrically connected to one ends of the plurality of second transparent patterns, respectively. The plurality of second electrode patterns may be formed of silver, and may be formed of at least one of gold, copper, platinum, palladium, molybdenum, and aluminum.

상기 복수의 제2 투명 패턴들 및 제2 전극 패턴들에 대해서는 아래에서 도 5 내지 도 9에 대한 설명과 함께 좀더 자세히 설명하기로 한다.
The plurality of second transparent patterns and the second electrode patterns will be described in more detail below with reference to FIGS. 5 to 9.

본 발명의 일 실시 예에 따른 저항막 방식의 터치스크린에서, 제1 기판(31)의 하면에 제1 투명 전도층(32) 및 제1 전극층(33)을 형성할 때와, 제2 기판(34)의 상면에 제2 투명 전도층(35) 및 제2 전극층(36)을 형성할 때, 종래의 OCA(Optically Clear Adhesive, 투명접착제)를 이용하여 접착하는 대신, 상기 제1 기판(31) 및 상기 제2 기판(34)에 투명 전도층 및 전극층을 직접 형성한다.In the resistive touch screen according to an embodiment of the present invention, when the first transparent conductive layer 32 and the first electrode layer 33 are formed on the bottom surface of the first substrate 31, the second substrate ( When the second transparent conductive layer 35 and the second electrode layer 36 are formed on the upper surface of the substrate 34, the first substrate 31 is used instead of using a conventional OCA (Optically Clear Adhesive). And directly forming a transparent conductive layer and an electrode layer on the second substrate 34.

상기 제1 투명 전도층(32)과 제1 전극층(33) 또는 상기 제2 투명 전도층(35)과 제2 전극층(36)은 지그(jig)를 이용한 CVD(Chemical Vapor Deposition), PVD(Physical Vapor Deposition) 등의 증착 공정 또는 리소그래피 공정을 이용하여 상기 제1 기판(31) 또는 상기 제2 기판(34)의 일면에 형성할 수 있다.The first transparent conductive layer 32 and the first electrode layer 33, or the second transparent conductive layer 35 and the second electrode layer 36 may be formed by chemical vapor deposition (CVD) and / or physical PVD (jig). It may be formed on one surface of the first substrate 31 or the second substrate 34 using a deposition process or a lithography process such as vapor deposition.

지그(jig)를 이용한 증착 공정 또는 리소그래피 공정 등의 공정을 이용하여 상기 제1 투명 패턴, 제2 투명 패턴, 제1 전극 패턴 및 제2 전극 패턴을 형성함으로써, 선폭을 미세하게 구현할 수 있고, 종래 기술에 비하여 데드스페이스 안에서 채널 수를 증가시킬 수 있어서, 보다 정밀하고 슬림한 터치스크린을 구현할 수 있는 장점이 있다.
By forming the first transparent pattern, the second transparent pattern, the first electrode pattern, and the second electrode pattern by using a process such as a deposition process or a lithography process using a jig, a line width can be minutely realized and conventionally. Compared to the technology, the number of channels can be increased in the dead space, thereby providing a more precise and slim touch screen.

투명 전도층 및 전극층이 형성된 상기 제1 전도부(30-1) 및 제2 전도부(30-2)는 상기 제1 투명 전도층(32) 및 제2 투명 전도층(35)이 마주보는 식으로 접착된다. 서로 마주보는 상기 제1 투명 전도층(32)과 상기 제2 투명 전도층(35)은 사용자가 상기 제1 기판(31) 등을 누르는 등 외부로부터 압력이 가해질 때만 서로 맞닿아서 전기적으로 연결된다. 즉, 외부로부터 압력이 가해지지 않는다면 상기 제1 투명 전도층(32)과 상기 제2 투명 전도층(35)은 이격되어 절연되어야 한다. The first conductive part 30-1 and the second conductive part 30-2 having the transparent conductive layer and the electrode layer formed thereon are bonded in such a manner that the first transparent conductive layer 32 and the second transparent conductive layer 35 face each other. do. The first transparent conductive layer 32 and the second transparent conductive layer 35 facing each other are electrically contacted with each other only when a user presses the first substrate 31 or the like, and when pressure is applied from the outside. . That is, unless pressure is applied from the outside, the first transparent conductive layer 32 and the second transparent conductive layer 35 should be spaced apart from each other.

따라서, 외부 압력이 가해지지 않을 때 상기 제1 투명 전도층(32)과 제2 투명 전도층(35)의 전기적인 연결을 차단해주는 역할을 하는 절연 스페이서(37)가 상기 제1 투명 전도층(32) 및 제2 투명 전도층(35) 사이에 위치한다. 즉, 상기 제1 전도부(30-1) 및 제2 전도부(30-2)의 가장자리를 접착물(38)을 이용하여 접착할 때, 상기 제1 전도부(30-1) 및 제2 전도부(30-2) 사이에 복수의 상기 절연 스페이서(37)를 복수의 위치에 배치한다. Therefore, when the external pressure is not applied, the insulating spacer 37 which serves to block the electrical connection between the first transparent conductive layer 32 and the second transparent conductive layer 35 is provided with the first transparent conductive layer ( 32) and the second transparent conductive layer 35. That is, when the edges of the first conductive portion 30-1 and the second conductive portion 30-2 are bonded using the adhesive 38, the first conductive portion 30-1 and the second conductive portion 30 are bonded to each other. The plurality of insulating spacers 37 are arranged at a plurality of positions between -2).

상기 절연 스페이서(37)는 고분자 탄소 화합물 등 탄성을 지닌 다양한 재료로 형성될 수 있다. 상기 절연 스페이서(37)의 단면은 구형, 반구형 또는 다각형의 입체 등 다양한 형태로 이루어질 수 있다. 바람직하게 상기 절연 스페이서(37)는 상기 제1 투명 전도층(32) 및 상기 제2 투명 전도층(35)에 접하는 면적을 적절히 확보하여 사용자가 터치스크린을 수회 반복 동작시켜도 제조 시에 형성된 위치로 고정될 수 있도록 형성된다.
The insulating spacer 37 may be formed of various materials having elasticity such as a polymer carbon compound. The cross section of the insulating spacer 37 may be formed in various shapes such as a sphere, a hemispherical shape, or a three-dimensional shape of a polygon. Preferably, the insulating spacer 37 properly secures an area in contact with the first transparent conductive layer 32 and the second transparent conductive layer 35 to a position formed at the time of manufacture even if the user repeatedly operates the touch screen several times. It is formed to be fixed.

도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 정전용량 방식(capacitive layer) 터치스크린의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of a capacitive layer touch screen according to an embodiment of the present invention.

　

도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시 예에 따른 정전용량 방식의 터치스크린은 제1 기판(41), 제1 투명 전도층(42), 제1 투명 절연층(43), 제2 투명 전도층(44), 및 제1 전극층(45-1, 45-2)을 포함한다.
As shown in FIG. 4, the capacitive touch screen according to an embodiment of the present invention may include a first substrate 41, a first transparent conductive layer 42, a first transparent insulating layer 43, and a second The transparent conductive layer 44 and the first electrode layers 45-1 and 45-2 are included.

구체적으로, 상기 제1 기판(41)은 폴리카보네이트, 글라스 또는 폴리에틸렌 테레프트레이트와 같은 투명한 재료로 형성될 수 있다. 또한 상기 투명한 재료의 복수의 조합으로도 형성될 수 있다.
In detail, the first substrate 41 may be formed of a transparent material such as polycarbonate, glass, or polyethylene tererate. It may also be formed from a plurality of combinations of the above transparent materials.

상기 제1 투명 전도층(42)은 상기 제1 기판(41)의 하면에 형성된다. 상기 제1 투명 전도층(42)은 제1 방향으로 배열된 복수의 제1 투명 패턴들을 포함한다. 상기 제1 투명 패턴들은 ITO, ZnO, 전도성폴리머, CNT, ZTO, GZO, AZO, IZO, TiO2:Nb, Mg(OH)2:C 및 Ag 중 적어도 하나로 형성될 수 있다.
The first transparent conductive layer 42 is formed on the bottom surface of the first substrate 41. The first transparent conductive layer 42 includes a plurality of first transparent patterns arranged in a first direction. The first transparent patterns may be formed of at least one of ITO, ZnO, a conductive polymer, CNT, ZTO, GZO, AZO, IZO, TiO 2 : Nb, Mg (OH) 2 : C, and Ag.

상기 제1 투명 절연층(43)은 상기 제1 투명 전도층(42)의 하면에 형성된다. 이 경우, 상기 제1 투명 절연층(43)은 상기 제1 투명 전도층(42)의 가장자리에 상기 제1 전극층(45-1)이 형성되어, 상기 제1 투명 전도층(42)의 제1 투명 패턴과 상기 제1 전극층(45-1)의 전극 패턴들이 전기적으로 연결될 수 있도록 형성된다. 예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 제1 투명 절연층(43)은 상기 제1 투명 전도층(42)의 하면 중 좌측 가장자리의 하면 부분을 제외한 부분에 형성됨으로써, 상기 제1 전극층(45-1)이 상기 제1 투명 전도층(42)의 가장자리에 형성될 수 있는 영역이 확보될 수 있도록 한다.The first transparent insulating layer 43 is formed on the bottom surface of the first transparent conductive layer 42. In this case, in the first transparent insulating layer 43, the first electrode layer 45-1 is formed at an edge of the first transparent conductive layer 42, so that the first transparent conductive layer 42 is formed on the first transparent insulating layer 42. The transparent pattern and the electrode patterns of the first electrode layer 45-1 are formed to be electrically connected to each other. For example, as illustrated in FIG. 4, the first transparent insulating layer 43 is formed on a portion of the lower surface of the first transparent conductive layer 42 except for the lower surface portion of the left edge, thereby forming the first electrode layer. An area 45-1 may be secured to the edge of the first transparent conductive layer 42.

상기 제1 투명 절연층(43)은 SiO2, Nb2O5, 오산화탄탈럼(Ta2O5), BST{(Ba,Sr)TiO3}, PZT{Pb(Zr,Ti)O3}, 산화알루미늄(Al2O3), 산화하프늄(HfO2), 산화지르코늄(ZrO2), 산화란탄(La2O3), 알루미네이트, 실리케이트 합금 및 투명한 유기 절연 물질 중 적어도 하나로 형성된다.The first transparent insulating layer 43 is SiO 2 , Nb 2 O 5 , tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ), BST {(Ba, Sr) TiO 3 }, PZT {Pb (Zr, Ti) O 3 } , At least one of aluminum oxide (Al 2 O 3 ), hafnium oxide (HfO 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), lanthanum oxide (La 2 O 3 ), aluminate, a silicate alloy, and a transparent organic insulating material.

본 발명의 일 실시 예에 따른 터치스크린 패널은 상기 제1 투명 전도층(42) 및 상기 제1 투명 절연층(43)의 시인성을 개선하기 위해 특정 물질을 추가로 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 제1 투명 전도층(42) 및 상기 제1 투명 절연층(43) 사이의 색차는 0.1 이하이다. The touch screen panel according to an embodiment of the present invention may further include a specific material to improve visibility of the first transparent conductive layer 42 and the first transparent insulating layer 43. According to an embodiment of the present invention, the color difference between the first transparent conductive layer 42 and the first transparent insulating layer 43 is 0.1 or less.

보통의 글라스(glass) 기판의 경우 빛의 투과율은 91 내지 92%이고, 색차값은 a*가 -2 내지 -0.02, b*가 0.10 내지 0.08 정도로 나타난다. 상기 a* 및 b*는 색상을 나타내는 CIE 좌표계의 구성요소로, 그 값이 0으로부터 멀어질수록 강한 색상이 나타나게 된다. 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 제1 투명 전도층 및 상기 제1 투명 절연층의 색차값이 a*는 1.5이하, b*는 1.5이하, 투과율은 88%이상, 반사율은 1%이하이다.In the case of an ordinary glass substrate, the transmittance of light is 91 to 92%, and the color difference value is about -2 to -0.02 and b * is about 0.10 to 0.08. A * and b * are components of the CIE coordinate system representing color, and the stronger the color is, the farther from 0 is. According to an embodiment of the present invention, the color difference between the first transparent conductive layer and the first transparent insulating layer is a * is 1.5 or less, b * is 1.5 or less, transmittance is 88% or more, and reflectance is 1% or less. .

상기 글라스에 SiO2 및 ITO를 증착하면 투과율이 88% 정도가 되며, 반사율은 1% 이하, 색차값은 a*가 -2 내지 1.5, b*가 1.5 이하가 된다. 상기 SiO2 및 ITO가 증착된 글라스의 시인성을 개선하기 위해서는 증착 전과 후의 색차값의 차이를 감소시키면 되므로, 고굴절 물질을 추가로 증착함으로써 시인성을 개선할 수 있다.
When SiO 2 and ITO are deposited on the glass, the transmittance is about 88%, the reflectance is 1% or less, and the color difference value is a * of -2 to 1.5 and b * of 1.5 or less. In order to improve the visibility of the glass on which SiO 2 and ITO are deposited, the difference between the color difference values before and after the deposition may be reduced, so that the visibility may be improved by further depositing a high refractive material.

상기 제2 투명 전도층(44)은 상기 제1 투명 절연층(43)의 하면에 형성된다. 상기 제2 투명 전도층(44)은 상기 제1 방향과 다른 제 2방향으로 배열된 복수의 제2 투명 패턴들을 포함한다. 상기 제2 투명 패턴들은 ITO, ZnO, 전도성폴리머, CNT, ZTO, GZO, AZO, IZO, TiO2:Nb, Mg(OH)2:C 및 Ag 중 적어도 하나로 형성될 수 있다.
The second transparent conductive layer 44 is formed on the bottom surface of the first transparent insulating layer 43. The second transparent conductive layer 44 includes a plurality of second transparent patterns arranged in a second direction different from the first direction. The second transparent patterns may be formed of at least one of ITO, ZnO, a conductive polymer, CNT, ZTO, GZO, AZO, IZO, TiO 2 : Nb, Mg (OH) 2 : C, and Ag.

상기 제1 전극층(45-1, 45-2)은 상기 제1 투명 전도층(42) 및 상기 제2 투명 전도층(44)의 가장자리에 형성된다. 즉, 참조 번호 45-1에 해당하는 제1 전극층은 상기 제1 투명 전도층(42)의 가장자리에, 참조 번호 45-2에 해당하는 제1 전극층은 상기 제2 투명 전도층(44)의 가장자리에 형성된다. 또한, 상기 제1 전극층(45-1, 45-2)은 상기 제1 투명 전도층(42) 및 상기 제2 투명 전도층(44)의 가장자리에서부터 측면부에 걸쳐서 형성될 수 있다.The first electrode layers 45-1 and 45-2 are formed at edges of the first transparent conductive layer 42 and the second transparent conductive layer 44. That is, the first electrode layer corresponding to the reference number 45-1 is at the edge of the first transparent conductive layer 42, and the first electrode layer corresponding to the reference number 45-2 is at the edge of the second transparent conductive layer 44. Is formed. In addition, the first electrode layers 45-1 and 45-2 may be formed from side edges of the first transparent conductive layer 42 and the second transparent conductive layer 44.

상기 제1 전극층(45-1, 45-2)은 복수의 전극 패턴들을 포함한다. 상기 복수의 전극 패턴들은 상기 복수의 제1 투명 패턴들 및 제2 투명 패턴들의 일단에 각각 전기적으로 연결된다. 상기 복수의 전극 패턴들은 은으로 형성될 수 있으며, 이외에도 금, 구리, 백금, 팔라듐, 몰리브덴 및 알루미늄 중 적어도 하나로 형성될 수 있다.The first electrode layers 45-1 and 45-2 include a plurality of electrode patterns. The plurality of electrode patterns are electrically connected to one ends of the plurality of first transparent patterns and the second transparent patterns, respectively. The plurality of electrode patterns may be formed of silver, and may be formed of at least one of gold, copper, platinum, palladium, molybdenum, and aluminum.

상기 복수의 제1 투명 패턴들, 제2 투명 패턴들 및 전극 패턴들에 대해서는 아래 도 5 내지 도 9와 관련된 부분에서 좀더 자세히 설명하기로 한다.
The plurality of first transparent patterns, second transparent patterns, and electrode patterns will be described in more detail below with reference to FIGS. 5 to 9.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 제1 투명 전도층(42), 제1 투명 절연층(43), 제2 투명 전도층(44) 및 제1 전극층(45-1, 45-2)이 형성된 후, 비산되는 것을 방지하기 위해 상기 제1 투명 전도층(42), 제1 투명 절연층(43), 제2 투명 전도층(44) 및 제1 전극층(45-1, 45-2)의 하면을 투명 물질(46)로 코팅할 수 있다. 상기 투명 물질(46)로 코팅한 후 상기 터치스크린 패널을 디스플레이에 접착시키면 형성된 상기 제1 투명 전도층(42), 제1 투명 절연층(43), 제2 투명 전도층(44) 및 제1 전극층(45-1, 45-2)은 비산되지 않고 유지될 수 있다. 또한 상기 투명 물질(46)의 코팅으로 인하여 디스플레이와 결합 시 밀착도를 증가시키는 등의 이점이 있다.
According to one embodiment of the present invention, the first transparent conductive layer 42, the first transparent insulating layer 43, the second transparent conductive layer 44 and the first electrode layer (45-1, 45-2) After the formation of the first transparent conductive layer 42, the first transparent insulating layer 43, the second transparent conductive layer 44, and the first electrode layers 45-1 and 45-2 to prevent scattering, The bottom surface may be coated with a transparent material 46. The first transparent conductive layer 42, the first transparent insulating layer 43, the second transparent conductive layer 44 and the first transparent layer formed by coating the transparent material 46 and then attaching the touch screen panel to the display The electrode layers 45-1 and 45-2 may be maintained without being scattered. In addition, the coating of the transparent material 46 has the advantage of increasing the adhesion when combined with the display.

상기 제2 투명 전도층(44) 및 제1 전극층(45-1, 45-2)까지 형성된 터치스크린 패널의 하면에 디스플레이 패널이 직접 접착되거나, 비산 방지를 위한 상기 투명 물질(46) 또는 제2 투명 절연층을 형성한 후 상기 디스플레이 패널이 접착될 수 있다. 상기 제2 투명 절연층은 SiO2, Nb2O5, Ta2O5, BST{(Ba,Sr)TiO3}, PZT{Pb(Zr,Ti)O3}, Al2O3, HfO2, ZrO2, La2O3, 알루미네이트, 실리케이트 합금 및 투명한 유기 절연 물질 중 적어도 하나로 형성된다.
The display panel is directly adhered to the lower surface of the touch screen panel formed up to the second transparent conductive layer 44 and the first electrode layers 45-1 and 45-2, or the transparent material 46 or the second layer is formed to prevent scattering. After the transparent insulating layer is formed, the display panel may be bonded. The second transparent insulating layer is SiO 2 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , BST {(Ba, Sr) TiO 3 }, PZT {Pb (Zr, Ti) O 3 }, Al 2 O 3 , HfO 2 , ZrO 2 , La 2 O 3 , aluminate, silicate alloys and transparent organic insulating materials.

도 4의 실시 예에 따른 터치스크린 패널에서, 상기 제1 기판(41)의 하면에 상기 제1 투명 전도층(42)을 형성할 때와, 상기 제1 투명 절연층(43)의 하면에 상기 제2 투명 전도층(44)을 형성할 때, 종래의 OCA를 이용하여 접착하는 대신 직접 형성한다.In the touch screen panel according to the embodiment of FIG. 4, when the first transparent conductive layer 42 is formed on the bottom surface of the first substrate 41, the bottom surface of the first transparent insulating layer 43 When the second transparent conductive layer 44 is formed, it is formed directly instead of bonding using a conventional OCA.

상기 제1 투명 전도층(42), 상기 제2 투명 전도층(45) 및 상기 제1 전극층(45-1, 45-2)은 지그(jig)를 이용한 CVD, PVD 등의 증착 공정 또는 리소그래피 공정을 이용하여 형성될 수 있다.The first transparent conductive layer 42, the second transparent conductive layer 45, and the first electrode layers 45-1 and 45-2 are a deposition process or a lithography process such as CVD or PVD using a jig. It can be formed using.

지그를 이용한 증착 공정 또는 리소그래피 공정 등의 공정을 이용하여 상기 제1 투명 패턴, 제2 투명 패턴 및 전극 패턴을 형성함으로써, 선폭을 미세하게 구현할 수 있고, 종래 기술에 비하여 데드스페이스 안에서 채널 수를 증가시킬 수 있어서, 보다 정밀하고 슬림한 터치스크린을 구현할 수 있는 장점이 있다.
By forming the first transparent pattern, the second transparent pattern, and the electrode pattern using a process such as a deposition process or a lithography process using a jig, the line width can be finely realized, and the number of channels in the dead space is increased in comparison with the prior art. It can be made, there is an advantage that can implement a more precise and slim touch screen.

도 5는 투명 전도층을 형성하기 위해 기판 상면에 지그(51, jig)가 셋팅된 상태를 개략적으로 도시한 평면도이다. 　FIG. 5 is a plan view schematically illustrating a state in which jigs 51 and jig are set on an upper surface of a substrate to form a transparent conductive layer.

도 5에 도시된 바와 같이, 증착 공정에 의해 상기 지그(51)의 패턴에 따라 빈 공간인 open 패턴(53)에 투명 전도층이 형성된다. 또한, 상기 지그(51)의 패턴은 다양하게 변형될 수 있다. 예를 들면, 도 5에 도시된 바와 같은 지그(51)를 이용하여 기판의 수직방향으로 복수의 투명 전도층을 형성할 수 있다. 상기 투명 전도층에 전압을 인가하는 전극 패턴을 형성하는 공정도 증착 공정에 의해 전극 패턴용 지그를 이용하여 다양하게 형성할 수 있다.As illustrated in FIG. 5, a transparent conductive layer is formed in the open pattern 53, which is an empty space, according to the pattern of the jig 51 by a deposition process. In addition, the pattern of the jig 51 may be variously modified. For example, a plurality of transparent conductive layers can be formed in the vertical direction of the substrate using the jig 51 as shown in FIG. 5. The process of forming an electrode pattern for applying a voltage to the transparent conductive layer may also be variously formed using an electrode pattern jig by a deposition process.

　

또한, 상기 투명 전도층 및 전극을 패터닝하기 위한 증착 공정으로 PVD, CVD 또는 PECVD 등의 공정을 이용할 수 있다. 즉, 패턴이 형성되어 있는 지그를 기판의 일면에 밀착시킨 후, 고진공 상태에서 투명 전도층 또는 전극으로 사용할 물질을 증착시켜 지그의 패턴에 따라 상기 기판의 일면에 일정한 투명 전도 패턴 또는 전극 패턴을 형성할 수 있다. 선택적으로, 상기 제1 기판의 하면에 상기 제1 투명 전도층을 형성하는 공정 및 상기 제1 투명 전도층의 가장자리에 상기 제1 전극층을 형성하는 공정에는 리소그래피 공정도 이용될 수 있다.In addition, a process such as PVD, CVD, or PECVD may be used as a deposition process for patterning the transparent conductive layer and the electrode. That is, the jig in which the pattern is formed is brought into close contact with one surface of the substrate, and then a material for use as a transparent conductive layer or an electrode is deposited in a high vacuum state to form a transparent transparent conductive pattern or an electrode pattern on one surface of the substrate according to the jig pattern. can do. Optionally, a lithography process may also be used to form the first transparent conductive layer on the bottom surface of the first substrate and to form the first electrode layer on the edge of the first transparent conductive layer.

　

도 6은 기판 상면에 투명 전도층을 형성하는 단계를 개략적으로 도시한 도면이다.FIG. 6 is a diagram schematically illustrating a step of forming a transparent conductive layer on an upper surface of a substrate.

　

도 6에 도시된 바와 같이, 기판(61, substrate)의 일면에 투명 전도층을 형성하는 방법은 상기 기판(61)의 일면에 지그(51)를 셋팅하는 단계(6a), 투명 전도층 증착타겟(63)으로 상기 지그(51) 및 open 패턴(53) 영역에 증착하는 단계(6b) 및 상기 지그(51)를 상기 기판(61)으로부터 제거하여 상기 투명 전도층을 형성하는 단계(6c)를 포함한다.As shown in FIG. 6, a method of forming a transparent conductive layer on one surface of a substrate 61 may include setting a jig 51 on one surface of the substrate 61, and depositing a transparent conductive layer on a surface of the substrate 61. (6) depositing the jig 51 and the open pattern 53 in the region (6b) and removing the jig 51 from the substrate 61 to form the transparent conductive layer (6c) Include.

　

또한, 상기 투명 전도층에 전압을 인가하는 전극층을 형성하는 방법도 상기 기판(61)의 일면에 전극 패턴용 지그를 셋팅하는 단계, 전극 패턴용 증착타겟으로 상기 전극 패턴용 지그 및 open 패턴 영역에 증착하는 단계 및 상기 전극 패턴용 지그로부터 제거하여 상기 전극 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.In addition, a method of forming an electrode layer for applying a voltage to the transparent conductive layer may also include setting an electrode pattern jig on one surface of the substrate 61. And depositing from the jig for electrode pattern to form the electrode pattern.

　

도 7 내지 도 9는 본 발명에 따른 터치스크린 패널에 형성된 투명 전도층 및 전극층을 도시한 도면이다.7 to 9 are diagrams illustrating a transparent conductive layer and an electrode layer formed on the touch screen panel according to the present invention.

　

도 7a는 본 발명의 일 실시 예에 따라, 제1 기판의 하면에 형성된 제1 투명 전도층에 포함된 제1 투명 패턴(71)을 도시하고 있다. 복수의 제1 투명 패턴(71)들이 제1 방향(예를 들어, 수평 방향)으로 배열되어 있다. 상기 제1 투명 패턴의 형상은 다양하게 변형될 수 있다.FIG. 7A illustrates a first transparent pattern 71 included in a first transparent conductive layer formed on a bottom surface of a first substrate according to an embodiment of the present invention. The plurality of first transparent patterns 71 are arranged in a first direction (eg, a horizontal direction). The shape of the first transparent pattern may be variously modified.

　도 7b는 본 발명의 일 실시 예에 따라, 상기 제1 기판의 하면에 형성된 제1 전극층에 포함된 제1 전극 패턴(75)들을 도시하고 있다. 상기 각각의 제1 전극 패턴(75)의 일단은 상기 제1 투명 패턴(71)의 일단에 전기적으로 연결되며, 상기 제1 전극 패턴(75)의 타단은 터치스크린 패널의 외부로부터 전압을 인가받기 위해 전기적으로 연결되는 전극패드(73)와 연결된다. 상기 제1 전극 패턴(75)들의 형상은 다양하게 변형될 수 있다.FIG. 7B illustrates first electrode patterns 75 included in a first electrode layer formed on a bottom surface of the first substrate, according to an exemplary embodiment. One end of each first electrode pattern 75 is electrically connected to one end of the first transparent pattern 71, and the other end of the first electrode pattern 75 receives a voltage from the outside of the touch screen panel. It is connected to the electrode pad 73 is electrically connected to. The shape of the first electrode patterns 75 may be variously modified.

　

도 8a는 본 발명의 일 실시 예에 따라, 제2 기판의 상면에 형성된 제2 투명 전도층에 포함된 제2 투명 패턴(81)을 도시하고 있다. 복수의 제2 투명 패턴(81)들이 상기 제1 투명 패턴(71)들이 배열된 제1 방향과 다른 방향인 제2 방향(예를 들어, 수직 방향)으로 배열되어 있다. 상기 제2 투명 패턴의 형상은 다양하게 변형될 수 있다.FIG. 8A illustrates a second transparent pattern 81 included in a second transparent conductive layer formed on an upper surface of a second substrate according to an embodiment of the present invention. The plurality of second transparent patterns 81 are arranged in a second direction (eg, a vertical direction) that is different from the first direction in which the first transparent patterns 71 are arranged. The shape of the second transparent pattern may be variously modified.

　도 8b는 본 발명의 일 실시 예에 따라, 상기 제2 기판의 상면에 형성된 제2 전극층에 포함된 제2 전극 패턴(85)들을 도시하고 있다. 상기 각각의 제2 전극 패턴(85)의 일단은 상기 제2 투명 패턴(81)의 일단에 전기적으로 연결되며, 상기 제2 전극 패턴(85)의 타단은 터치스크린 패널의 외부로부터 전압을 인가받기 위해 전기적으로 연결되는 전극패드(83)와 연결된다. 상기 제2 전극 패턴(85)들의 형상은 다양하게 변형될 수 있다.8B illustrates second electrode patterns 85 included in a second electrode layer formed on an upper surface of the second substrate, according to an embodiment of the present invention. One end of each second electrode pattern 85 is electrically connected to one end of the second transparent pattern 81, and the other end of the second electrode pattern 85 receives a voltage from the outside of the touch screen panel. It is connected to the electrode pad 83 is electrically connected to. The shape of the second electrode patterns 85 may be variously modified.

　

도 9는 도 7 및 도 8에 따라 제작된 제1 기판 및 제2 기판이 접착된 터치스크린 패널의 평면도이다. 즉, 도 9는 각각 제1 기판, 제1 투명 전도층 및 제1 전극층으로 형성된 제1 전도부와 제2 기판, 제2 투명 전도층 및 제2 전극층으로 형성된 제2 전도부로부터, 상기 제1 투명 전도층과 제2 투명 전도층이 대면하도록 접착되어 형성된 형상을 도시하고 있다.FIG. 9 is a plan view of a touch screen panel bonded to a first substrate and a second substrate manufactured according to FIGS. 7 and 8. That is, FIG. 9 shows the first transparent conductive portion from the first conductive portion formed of the first substrate, the first transparent conductive layer, and the first electrode layer, and the second conductive portion formed of the second substrate, the second transparent conductive layer, and the second electrode layer, respectively. The shape formed by bonding the layer and the second transparent conductive layer to face each other is shown.

　

한편, 도 4에 따른 실시 예에 따른 터치스크린 패널에 있어서도, 상기 도 5 내지 도 9에 따른 터치스크린 패널 제조 방법을 이용하여 전도성 투명 패턴 및 전극 패턴을 곧바로 투명 기판에 형성하여 제조된다. 따라서, 투명 접착제에 의한 접착 공정을 생략함으로써, 터치스크린 패널의 두께 감소, 광 투과율의 향상, 제조 시간 단축, 제조 원가 절감 및 수율 향상의 이점이 있다.Meanwhile, in the touch screen panel according to the exemplary embodiment of FIG. 4, the conductive transparent pattern and the electrode pattern are directly formed on the transparent substrate using the touch screen panel manufacturing method of FIGS. 5 to 9. Therefore, by omitting the bonding process by the transparent adhesive, there is an advantage of reducing the thickness of the touch screen panel, improving the light transmittance, shortening the manufacturing time, reducing the manufacturing cost and yield.

　

한편, 이상에서는 본 발명의 구체적인 실시 예에 관해 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 국한되지 않으며, 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.On the other hand, the above has been described with respect to specific embodiments of the present invention, of course, various modifications are possible without departing from the scope of the invention. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments, but should be defined not only by the claims, but also by those equivalent to the claims.

Claims (12)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1 기판;
상기 제1 기판의 하면 상에 형성되며, 제1 방향으로 배열된 복수의 제1 투명 패턴들을 포함하는 제1 투명 전도층;
상기 제1 투명 전도층의 하면에 형성된 제1 투명 절연층;
상기 제1 투명 절연층의 하면 상에 형성되며, 상기 제1 방향과 다른 제2 방향으로 배열된 복수의 제2 투명 패턴들을 포함하는 제2 투명 전도층; 및
상기 제1 투명 전도층의 가장자리 및 상기 제2 투명 전도층의 가장자리에 형성되며, 상기 복수의 제1 투명 패턴들 및 제2 투명 패턴들의 일단에 각각 전기적으로 연결된 전극 패턴들을 포함하는 제1 전극층을 포함하고,
상기 제1 투명 전도층 및 상기 제1 투명 절연층에 있어서, 색차값이 a*는 1.5 이하, b*는 1.5 이하이고, 투과율은 88% 이상이며, 반사율은 1% 이하인 것을 특징으로 하는 터치스크린 패널.
A first substrate;
A first transparent conductive layer formed on a bottom surface of the first substrate and including a plurality of first transparent patterns arranged in a first direction;
A first transparent insulating layer formed on the bottom surface of the first transparent conductive layer;
A second transparent conductive layer formed on a bottom surface of the first transparent insulating layer and including a plurality of second transparent patterns arranged in a second direction different from the first direction; And
A first electrode layer formed at an edge of the first transparent conductive layer and an edge of the second transparent conductive layer and including electrode patterns electrically connected to one end of the plurality of first transparent patterns and the second transparent patterns, respectively; Including,
In the first transparent conductive layer and the first transparent insulating layer, a color difference value of a * is 1.5 or less, b * is 1.5 or less, transmittance is 88% or more, reflectance is 1% or less touch screen panel.
제6항에 있어서,
상기 제1 투명 패턴 및 제2 투명 패턴은 ITO, ZnO, 전도성폴리머, CNT, ZTO, GZO, AZO, IZO, TiO2:Nb, Mg(OH)2:C 및 Ag 중 적어도 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 터치스크린 패널.
The method of claim 6,
The first transparent pattern and the second transparent pattern is formed of at least one of ITO, ZnO, conductive polymer, CNT, ZTO, GZO, AZO, IZO, TiO 2 : Nb, Mg (OH) 2 : C and Ag Touch screen panel made.
제6항에 있어서,
상기 제1 투명 절연층은 SiO2, Nb2O5, Ta2O5, BST{(Ba,Sr)TiO3}, PZT{Pb(Zr,Ti)O3}, Al2O3, HfO2, ZrO2, La2O3, 알루미네이트, 실리케이트 합금 및 투명한 유기 절연 물질 중 적어도 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 터치스크린 패널.
The method of claim 6,
The first transparent insulating layer is SiO 2 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , BST {(Ba, Sr) TiO 3 }, PZT {Pb (Zr, Ti) O 3 }, Al 2 O 3 , HfO 2 , ZrO 2 , La 2 O 3 , an aluminate, a silicate alloy, and a transparent organic insulating material.
제6항에 있어서,
상기 제2 투명 전도층 및 제1 전극층의 하면 상에 형성된 제2 투명 절연층을 포함하며, 상기 제2 투명 절연층은 SiO2, Nb2O5, Ta2O5, BST{(Ba,Sr)TiO3}, PZT{Pb(Zr,Ti)O3}, Al2O3, HfO2, ZrO2, La2O3, 알루미네이트, 실리케이트 합금 및 투명한 유기 절연 물질 중 적어도 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 터치스크린 패널.
The method of claim 6,
And a second transparent insulating layer formed on the bottom surface of the second transparent conductive layer and the first electrode layer, wherein the second transparent insulating layer comprises SiO 2 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , BST {(Ba, Sr ) TiO 3 }, PZT {Pb (Zr, Ti) O 3 }, Al 2 O 3 , HfO 2 , ZrO 2 , La 2 O 3 , aluminate, silicate alloy and transparent organic insulating material Touch screen panel.
삭제delete 제6항에 있어서,
상기 제1 기판은 폴리카보네이트, 글라스 및 폴리에틸렌 테레프트레이트 중 적어도 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 터치스크린 패널.
The method of claim 6,
The first substrate is a touch screen panel, characterized in that formed of at least one of polycarbonate, glass and polyethylene tererate.
제6항에 있어서,
상기 전극 패턴은 은, 금, 구리, 백금, 팔라듐, 몰리브덴 및 알루미늄 중 적어도 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 터치스크린 패널.The method of claim 6,
The electrode pattern is a touch screen panel, characterized in that formed of at least one of silver, gold, copper, platinum, palladium, molybdenum and aluminum.
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