KR101139553B1 - Nano-hybride composition and the preparation of thin-film and thick-film using organo-gelation and inorganic sol-gel process - Google Patents

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Abstract

본 발명은 유무기 나노복합체 박막 코팅 및 필름에 관한 것으로서 바일산은 유기 겔을 형성하고 금속 알콕사이드(Metal alkoxide)는 졸-겔에 의해 무기 겔을 형성하여 만들어진 유무기 복합체로서 우수한 박막 코팅성 및 필름을 형성할 수 있는 유무기 복합조성물에 관한 것이다. 또한 무기산화물 및 금속산화물 필름의 부서지기 쉬운 표면을 매끄럽게 가공할 수 있고, 뛰어난 코팅성과 다양한 용매에 대한 용해성을 통해 보다 간소화된 공정 절차를 가져간다.

또한 다양한 기재에 분무 방식, 코팅, 전기영동 증착, 캐스팅, 잉크젯 프린팅, 오프셋 프린팅의 간편한 코팅방법을 사용하여 다양한 용액공정분야에 가능하다.

Figure 112009034987385-pat00001

유기겔, 무기겔, 나노복합체, 박막 코팅, 필름 제조

The present invention relates to an organic-inorganic nanocomposite thin film coating and film, which is an organic-inorganic composite made by forming a inorganic acid gel by forming a monobasic organic gel and a metal alkoxide by forming a sol-gel. It relates to an organic-inorganic composite composition which can form a. In addition, the brittle surfaces of inorganic oxide and metal oxide films can be processed smoothly, resulting in a simplified process procedure through excellent coating properties and solubility in various solvents.

It is also possible in various solution processes using a simple coating method of spraying, coating, electrophoretic deposition, casting, inkjet printing, offset printing on a variety of substrates.

Figure 112009034987385-pat00001

Organic Gel, Inorganic Gel, Nanocomposite, Thin Film Coating, Film Preparation

Description

유기 겔과 무기 겔에 의한 나노 복합체의 조성물 및 그의 박막 코팅과 필름 제조방법 {Nano-hybride composition and the preparation of thin-film and thick-film using organo-gelation and inorganic sol-gel process}Nano-hybride composition and the preparation of thin-film and thick-film using organo-gelation and inorganic sol-gel process}

본 발명은 반사방지막(AR film)을 포함한 기능성 광학필름, 태양전지, LED 봉지재, 광학렌즈 코팅, 반도체, 디스플레이, 광통신케이블, 광도파로 등 다양한 분야에서 관심도가 증가된 기능성 박막 코팅 및 필름에 관한 소재로서 유기 겔화와 졸-겔 법의 유무기 나노복합체의 조성물과 그의 박막 코팅 및 필름에 관한 것이다. The present invention relates to a functional thin film coating and a film having increased interest in various fields such as a functional optical film including an AR film, a solar cell, an LED encapsulant, an optical lens coating, a semiconductor, a display, an optical communication cable, an optical waveguide, and the like. The present invention relates to a composition of organic-inorganic nanocomposites of organic gelling and sol-gel methods, as well as thin film coatings and films thereof.

기존의 고 굴절율 박막은 고분자-티타늄을 사용하여 많은 연구가 진행되고 있다. 좋은 코팅성과 고유 굴절율을 지닌 고분자이지만 1.3~1.7의 굴절률을 가지고있기 때문에 고 굴절율 소재인 금속과 복합 시킨 유무기 나노복합체 필름이 필요하다. 선행 연구에 사용된 고분자로는 폴리실세스퀴옥산(poly(silsesquioxanes)), 폴리(메틸 메타아크릴레이트)(Poly(methyl methacrylate)), 폴리이미드 (Polyimide)등이 대표적이다.(J. Mater. Chem., 2003, 13, 2189, Mater. Chem. Phys., 2004, 83, 71, J. Mater. Chem., 1999, 9, 2999, Chem. Mater., 2001, 13, 1137, J. Mater. Chem., 2003, 13, 1475, Appl. Phys. Lett., 2003, 82, 2691, J. Mater. Chem., 2004, 14, 2978, J. Electroseram., 2006, 16, 431, Chem. Mater., 2006, 18, 5876, J. Polym. Sci. Part A: Polym. Chem., 2001, 39, 3419, Macromol. Mater. Eng., 2006, 291, 1521, Polymer, 2003, 44, 2249)Existing high refractive index thin film has been studied a lot by using polymer-titanium. It is a polymer with good coating property and intrinsic refractive index, but because it has a refractive index of 1.3 ~ 1.7, an organic-inorganic nanocomposite film complexed with metal, which is a high refractive index material, is needed. Polymers used in previous studies are poly (silsesquioxanes), poly (methyl methacrylate), polyimide, etc. (J. Mater. Chem., 2003, 13, 2189, Mater.Chem. Phys., 2004, 83, 71, J. Mater.Chem., 1999, 9, 2999, Chem. Mater., 2001, 13, 1137, J. Mater. Chem., 2003, 13, 1475, Appl. Phys. Lett., 2003, 82, 2691, J. Mater. Chem., 2004, 14, 2978, J. Electroseram., 2006, 16, 431, Chem. , 2006, 18, 5876, J. Polym. Sci.Part A: Polym. Chem., 2001, 39, 3419, Macromol.Mate.Eng., 2006, 291, 1521, Polymer, 2003, 44, 2249)

상기 실험에서 졸-겔법으로 제조된 고분자-티타늄 하이브리드 필름은 1.505-1.876의 굴절률을 가지며 가시광선 영역에서 높은 투과율을 나타내었다. 그러나 폴리(메틸 메타아크릴레이트)(Poly(methyl methacrylate))의 경우 열적 안정성이 낮아 광전자 소자에 적용이 제한적이다. 이를 해결하기위해 폴리(메틸 메타아크릴레이트)(Poly(methyl methacrylate)) 대신 열적 안정성이 높은 폴리이미드(Polyimide)를 이용한 연구가 활발하게 이뤄지고 있다. 그러나 고분자를 이용한 고 굴절율 필름의 경우의 용해성이 있는 용매가 다양하지 못하며, 용해성 단량체 설계 및 합성을 통해 고분자를 합성해야 하는 공정의 번거로움이 있다. In the above experiment, the polymer-titanium hybrid film prepared by the sol-gel method had a refractive index of 1.505-1.876 and showed high transmittance in the visible region. However, poly (methyl methacrylate) has a low thermal stability and thus is limited in application to optoelectronic devices. In order to solve this problem, studies using polyimide having high thermal stability instead of poly (methyl methacrylate) have been actively conducted. However, in the case of a high refractive index film using a polymer is not a variety of soluble solvent, there is a hassle of the process of synthesizing the polymer through the design and synthesis of soluble monomer.

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종래의 고 굴절율 박막은 진공 증착법, 스퍼터링(spattering)법 등의 물리적인 기상 성장법(PVD)이나, 열 CVD, 플라즈마(plasma) CVD 등의 화학적 기상 성장법(CVD)에 의하여 제조되는 것이 주류였다.Conventional high refractive index thin films are mainly produced by physical vapor deposition (PVD), such as vacuum deposition and sputtering, or chemical vapor deposition (CVD), such as thermal CVD and plasma CVD. .

그런데 명시된 상기 기상법은 대형 진공 설비가 필요하기 때문에 많은 비용이 들며, 생산성이 떨어지는 문제점이 있다. 최근에는 대기중에서 적은 비용으로 생산성이 우수한 액상법의 일종인 졸(Sol)-겔(Gel)법을 이용하여 고 굴절율 박막을 제조하는 방법이 주목받게 되었다.However, the above-described gas phase method requires a large vacuum equipment, which is expensive and has a problem of low productivity. Recently, a method of manufacturing a high refractive index thin film using a sol (Gel) method, which is a kind of liquid phase method having high productivity at low cost in the air, has attracted attention.

예를 들면, 티타늄 알콕사이드(Titaninum alkoxide)를 알코올(alcohol)류 등의 유기용매 중에 용해한 혼합물을 투명 고분자 필름상에 도공하고, 건조시켜 박막을 형성한 뒤, 특정 조도, 특정 광량의 자외선을 조사하여 티타늄(Titaninum) 산화물을 포함하는 고 굴절율 투명 적층 필름 등이 개시되어 있다.(특개 2004-197189호 공보)For example, a mixture obtained by dissolving titanium alkoxide in an organic solvent, such as alcohol, is coated on a transparent polymer film, dried to form a thin film, and then irradiated with a specific illuminance and a specific amount of ultraviolet light. A high refractive index transparent laminated film containing titanium oxide (Titaninum) oxide and the like is disclosed. (JP-A 2004-197189)

그렇지만, 상기 기재된 기술은, 다음과 같은 개량의 여지가 남아있다. 졸(Sol)-겔(Gel)법과 자외선 조사법을 사용한 경우, 박막 필름의 내부까지 가수분해축합반응이 충분히 진행하기 어려워 티타늄 알콕사이드(Titaninum alkoxide)의 원 물질이 남아있기 쉽다. 그 때문에 박막에 조사하는 자외선 광량을 가능한 한 많게 하여 미반응 성분을 줄이는 것이 바람직하다. 그렇지만 많은 자외선의 조사는 면 방향으로 수축하려는 박막이 투명 고분자 필름에 구속되어있기 때문에 수축할 수 없어 박막에 균열이 발생되는 열팽창계수에 의한 문제점이 있다. 또한 양산시 다량의 자외선을 조사하기 위해서는 생산 라인(line)의 속도를 줄여야하는 생산성의 문제도 야기된다. However, the above-described technique leaves room for improvement as follows. In the case of using the Sol-Gel method and the ultraviolet irradiation method, the hydrolysis condensation reaction does not proceed sufficiently to the inside of the thin film, and thus, the raw material of titanium alkoxide is likely to remain. Therefore, it is desirable to reduce the amount of unreacted components by increasing the amount of ultraviolet light emitted to the thin film as much as possible. However, many ultraviolet rays have a problem due to the coefficient of thermal expansion in which the thin film to shrink in the plane direction is constrained to the transparent polymer film and thus cannot be shrunk, causing cracks in the thin film. In addition, in order to irradiate a large amount of ultraviolet light during the mass production also causes a problem of productivity to reduce the speed of the production line (line).

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본 발명이 해결하려는 과제는 다양한 용매에 대한 용해성을 가지며, 보다 간단한 공정으로 유무기 나노복합체의 조성물과 그의 박막 코팅 및 필름을 제조하는 것이다.
본 발명이 해결하려는 과제는 균열의 발생을 억제할 수 있고 박막 형성 및 필름이 쉬운 조성물 및 생산비를 줄일 수 있는 용액용 공정을 개발하는 것이다.
따라서 본 발명의 목적은 유기 겔과 졸-겔의 방법을 이용한 기능성 박막 코팅 및 필름용 유무기 소재를 개발하는 것으로, 기존의 졸-겔 법을 이용한 박막 코팅 및 필름은 깨지기 쉽기 때문에 유연성 기재에 사용 할 수 없다. 1) 하지만 유기물과 금속 알콕사이드(Metal alkoxide)를 복합화 할 경우 유연성 기재에 우수한 코팅 및 유연성 필름을 형성 할 수 있으며, 기존 기술의 문제점은 유연성 기재와 접착력이 매우 약하지만 2) 유기 겔 무기 복합체 코팅은 접착력이 매우 강하다. 또한, 3) 유기 용재에 의한 다양한 코팅 방법을 사용 할 수 있다.
The problem to be solved by the present invention is to have a solubility in a variety of solvents, and to prepare a composition of the organic-inorganic nanocomposite, a thin film coating and a film thereof in a simpler process.
The problem to be solved by the present invention is to develop a process for a solution that can suppress the occurrence of cracks and can reduce the composition and production cost of the thin film formation and easy film.
Accordingly, an object of the present invention is to develop an organic-inorganic material for a functional thin film coating and film using the method of organic gel and sol-gel, and the thin film coating and film using the conventional sol-gel method are fragile and thus used for flexible substrates. Can not. 1) However, when organic materials and metal alkoxides are combined, excellent coating and flexible films can be formed on the flexible substrate, and the problem of the existing technology is that the adhesion with the flexible substrate is very weak. Adhesion is very strong. Also, 3) various coating methods using organic solvents can be used.

본 발명의 또 다른 목적은 1) 유기 겔(Organo gel) 도입으로 무기산화물 및 금속산화물 필름의 부서지기 쉬운 표면을 매끄럽게 가공할 수 있고, 3) 뛰어난 코팅성과 다양한 용매에 대한 용해성을 통해, 4) 보다 간소화된 공정 절차로 다양한 기재에 유무기 나노복합체 투명 박막을 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is 1) the introduction of organic gel (Organo gel) to smoothly process the brittle surface of the inorganic oxide and metal oxide film, 3) through excellent coating properties and solubility in various solvents, 4) A more simplified process procedure is to provide organic-inorganic nanocomposite transparent thin films on various substrates.

구체적으로, 상기의 바일산-금속 나노복합체를 사용하여 분무 방식, 코팅, 전기영동 증착, 캐스팅, 잉크젯 프린팅, 오프셋 프린팅의 간편한 코팅방법을 사용하여 다양한 용액공정분야에 유용한 용액공정용 조성물을 제공하는데 있다.Specifically, by using a simple method of spraying, coating, electrophoretic deposition, casting, inkjet printing, offset printing using the above-mentioned metal nitrate-metal nanocomposite to provide a solution process composition useful in a variety of solution process fields have.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 투명 유무기 복합 박막용 조성물은 금속 알콕사이드, 바일산 또는 바일산 유도체, 물, 유기용매 또는 이들의 혼합용매 및 촉매를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 투명 유무기 복합 박막의 제조방법은 금속 알콕사이드를 제 1 유기용매와 혼합하여 제 1 혼합물을 형성하는 단계, 바일산 또는 바일산 유도체를 제 2 유기용매와 혼합하여 제 2 혼합물을 형성하는 단계, 상기 제 1 혼합물과 상기 제 2 혼합물을 혼합하고, 이에 촉매를 첨가하여 투명 박막용 조성물을 형성하는 단계 및 상기 투명 박막용 조성물을 기재 상에 도포하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
그리고, 상기 목적을 달성하기 위하여, 바일산은 유기 겔을 형성하고 금속 알콕사이드(Metal alkoxide)는 졸-겔에 의해 무기 겔을 형성하여 만들어진 유무기 복합체의 조성물로서 유기 겔을 형성하는 화합물의 화학식은 하기 표현되는 바일산 및 그의 유도체이다.
In order to achieve the above object, the transparent organic-inorganic composite thin film composition according to the present invention is characterized in that it comprises a metal alkoxide, a bile acid or a bile acid derivative, water, an organic solvent or a mixed solvent thereof and a catalyst.
In addition, in order to achieve the above object, the method for preparing a transparent organic-inorganic composite thin film according to the present invention comprises the steps of mixing a metal alkoxide with a first organic solvent to form a first mixture, a bile acid or a bile acid derivative to a second organic Mixing with a solvent to form a second mixture, mixing the first mixture and the second mixture, adding a catalyst to form a transparent thin film composition, and applying the transparent thin film composition on a substrate Characterized in that it comprises a step.
And, in order to achieve the above object, the chemical formula of the compound to form the organic gel as a composition of the organic-inorganic complex made by forming the organic gel and the metal alkoxide (metal alkoxide) to form an inorganic gel by the sol-gel Baline acid and its derivatives represented below.

Figure 112009034987385-pat00003
Figure 112009034987385-pat00003

Figure 112009034987385-pat00004
Figure 112009034987385-pat00004

Figure 112009034987385-pat00005
Figure 112009034987385-pat00005

상기 화학식1a 내지 화학식3a에서, p1, p2 및 p3는 1 또는 2 이고; R3내지 R12는 서로 독립적이며, 적어도 하나 이상이 지방족, 방향족 또는 반응성기(Reactive group)을 포함하는 관능기를 가지는 치환체이며, Z1, Z2는 작용기가 2 이상의 4가 이하를 가지는 화합물이며, 따라서 m1은 2내지 4의 정수이다. 또한, V1, V2는 연결기이다.In Formulas 1a to 3a, p1, p2, and p3 are 1 or 2; R3 to R12 are independent of each other, at least one is a substituent having a functional group containing an aliphatic, aromatic or reactive group, Z1, Z2 is a compound having a functional group of two or more tetravalent or less, thus m1 is Is an integer from 2 to 4. In addition, V1 and V2 are couplers.

본 발명에서는 상기 화학식1a. 화학식2a, 화학식3a을 중심으로 하여 선형(Linear), 가지형(branched) 또는 덴드리머형(Dendrimeric), 스타형(star type)구조의 수용성 유도체를 제공한다.In the present invention, Formula 1a. It provides a water-soluble derivative of linear, branched or dendrimeric, star type structure around the formula (2a), formula (3a).

또한, 졸-겔 법을 경유하는 조성물로서 금속 알콕사이드(Metal alkoxide)로 구성된 상기언급한 조성물로서 유기 젤 화와 졸-겔법을 경유한 박막 코팅으로 기존의 졸-겔법의 단점인 박막의 깨지기 쉬운 점과 기재와의 접착력 문제 및 용해성을 해결한다.In addition, the above-mentioned composition composed of metal alkoxide as a composition via the sol-gel method, and a thin film coating through the organic gelation and the sol-gel method, which is a disadvantage of the thin film, which is a disadvantage of the conventional sol-gel method. Solves the problem of adhesion and solubility with the substrate.

본 발명에 따른 우수한 코팅성의 박막 및 필름을 형성할 수 있는 유무기 복합조성물은 유기물과 금속 알콕사이드(Metal alkoxide)를 복합화 할 경우 유연성 기재에 뛰어난 코팅 및 유연성 필름을 형성 할 수 있으며, 유기 겔 무기 복합체 코팅은 접착력이 매우 강하다. 또한, 유기 용재에 의한 다양한 코팅 방법을 사용할 수 있다.The organic-inorganic composite composition capable of forming a thin film and a film having excellent coating properties according to the present invention can form an excellent coating and a flexible film on a flexible substrate when an organic material and a metal alkoxide are combined, and an organic gel inorganic composite. The coating is very strong in adhesion. In addition, various coating methods using an organic solvent can be used.

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또한 본 발명에서 사용되는 기능성 유기 겔 형성 물질 인 바일산(Bile acid)은 스테로이드의 화학구조를 가지며, 히드록시기의 위치, 입체적 배위, 수, 곁사슬 구조 등의 차이에 의해 다양한 종류의 바일산이 있다.

Figure 112011090898897-pat00009

Bile acids R1 R2 Cholic acid OH OH Deoxycholic acid H OH Chenodeoxycholic acid OH H Lithocholic acid H H
바일산은 친수성 면(α-face) 즉, 여러 개의 히드록시(-OH)기와 1개의 카르복시산기를 가지고, 또한 완전히 소수성을 가지는 스테로이드와 3개의 메틸(methyl)기 그리고 3개의 키랄중심(chiral center)을 가지는 양쪽성 화합물이다.
이 같은 구조에서 오는 바일산은 특징은 자체결집능력(capacity of self assembling)이 우수하며, 또한 고안정성, 하이드록시기 또는 카르복시기의 반응성 및 단분자임에도 고(高)분자량(콜릭산의 경우 Mw= 408.57)을 가진다.
구조적인 성질에 의해서, 바일산은 미셀(micelle) 또는 다른 초분자구조(supramolecular structure)를 형성할 수 있고, 하이드록시 및 카르복시기는 알려진 방법에 의해서 쉽게 변형할 수 있기 때문에 많은 유도체가 가능하며 많은 응용분야에 사용될 수 있다.(Acc, Chem. Res. 2002, 35, 539-546, Chem Rev. 1997, 97, 283-304, Tetrahedron Lett. 1999, 40, 2849-2852, J. Lipid. Res. 1995, 36, 901-910, J. Pharm. Sci, 1992, 81, 726-730, Tetrahedron Lett. 1992, 33, 195-198.)
종래의 바일산 유도체의 응용분야는 국한 되어 사용되어져 왔다. 그러나 바일산의 고유 성질인 양친성 때문에 계면활성제로서 사용될 수 있고, 또한 자기결합능력(Self-Assembling)을 가지기 때문에 용액공정용 겔 화 소재로서도 사용될 수 있으며, 이 같은 성질을 이용하여, 무기물, 금속물, 무기산화물, 금속산화물 및 유기 화합물과 결합하거나 혼합하여 우수한 분산제로서 사용할 수 도 있으며 이를 이용하여, 분무 방식, 코팅, 전기영동 증착, 캐스팅, 잉크젯 프린팅 및 오프셋 프린팅의 코팅방법에 응용할 수 있는 다양한 용액공정용 소재로서 쓰일 수 있다. 이는 간단한 용액공정을 이용하여 박막을 형성함으로써, 공정 단가의 절감, 대멱적 코팅, 공정의 효율성 등 많은 장점을 가지고 있다.
본 발명에 따르는 유무기 나노복합체는 상기의 금속 알콕사이드(Metal alkoxide)와 바일산을 혼합하거나 바일산 유도체의 반응기와 결합을 통해 유기 겔(Organo gel)을 형성함으로서 고 굴절율 유무기 나노복합체 투명 필름을 제공한다.In addition, the functional organic gel-forming material used in the present invention is a bile acid (Bile acid) has a chemical structure of steroids, and there are various types of bile acid due to differences in the position of the hydroxyl group, steric coordination, number, side chain structure, and the like.
Figure 112011090898897-pat00009

Bile acids R1 R2 Cholic acid OH OH Deoxycholic acid H OH Chenodeoxycholic acid OH H Lithocholic acid H H
Bilic acid has a hydrophilic (α-face), ie, several hydroxy (-OH) groups and one carboxylic acid group, and is also a completely hydrophobic steroid, three methyl groups and three chiral centers. It is an amphoteric compound having.
The bile acid from this structure is characterized by excellent capacity of self assembling, and high molecular weight (Mw = in the case of cholic acid) even though it is high stability, reactive or monomolecular hydroxy or carboxyl group. 408.57).
Due to its structural properties, bilic acid can form micelles or other supramolecular structures, and hydroxy and carboxyl groups can be easily modified by known methods, allowing many derivatives and many applications. (Acc, Chem. Res. 2002, 35, 539-546, Chem Rev. 1997, 97, 283-304, Tetrahedron Lett. 1999, 40, 2849-2852, J. Lipid. Res. 1995, 36, 901-910, J. Pharm.Sci, 1992, 81, 726-730, Tetrahedron Lett. 1992, 33, 195-198.)
The field of application of conventional baline acid derivatives has been limited and used. However, it can be used as a surfactant due to the amphipathy that is intrinsic property of bilic acid, and can also be used as a gelling material for solution process because of its self-assembling ability. It can be used as a good dispersant by combining or mixing with water, inorganic oxides, metal oxides and organic compounds, and can be used for various coating methods for spraying, coating, electrophoretic deposition, casting, inkjet printing and offset printing. It can be used as a material for solution process. This forms a thin film using a simple solution process, has a number of advantages, such as reducing the cost of the process, alternative coating, process efficiency.
The organic-inorganic nanocomposite according to the present invention is a high refractive index organic-inorganic nanocomposite transparent film by forming the organic gel (Organo gel) by mixing the metal alkoxide (metal alkoxide) and the bile acid or by combining with the reactor of the bail derivatives. to provide.

본 발명에서는 상기에서 설명하는 용액공정, 코팅, 분무 방식, 전기영동 증착, 캐스팅, 잉크젯 프린팅 및 오프셋 프린팅의 코팅방법에 유용하게 쓰일 수 있다.      In the present invention, it can be usefully used in the coating method of the solution process, coating, spray method, electrophoretic deposition, casting, inkjet printing and offset printing described above.

구체적으로, 본 발명에서 제공하는 화합물 및 조성물은 다음과 같다.Specifically, the compounds and compositions provided by the present invention are as follows.

1) 바일산 및 그의 유도체, 금속 알콕사이드(Metal alkoxide), 알코올(alcohol)류, 유기용매 또는 이들의 혼합용매 그리고 촉매(산 및 염기)를 포함하는 조성물.1) A composition comprising bamic acid and its derivatives, metal alkoxides, alcohols, organic solvents or mixed solvents thereof, and catalysts (acids and bases).

2) 금속 알콕사이드(Metal alkoxide)는 틴 부톡사이드(Tin(IV) tert-butoxide), 티타늄 부톡사이드(Titanium butoxide), 티타늄 에톡사이드(Titanium ethoxide), 티타늄 메톡사이드(Titanium methoxide), 티타늄 이소프로폭사이드(Titanium isopropoxide), 티타늄 프로폭사이드(Titanium propoxide), 인듐 하이드록사이드(Indium hydroxide, In(OH)3), 알루미늄 에톡사이드(Aluminum ethoxide), 알루미늄 이소프로폭사이드(Aluminum iso-propoxide), 알루미늄 페녹사이드(Aluminum phenoxide), 알루미늄 터트부톡사이드(Aluminum tert-butoxide), 알루 미늄 트리부톡사이드(Aluminum tri-butoxide), 알루미늄 트리세크부톡사이드(Aluminum tri-sec-butoxide), 인듐(III) 터트부톡사이드(Indium(III) tert-butoxide), 안티모니(III) 부톡사이드(Antimony(III) butoxide), 안티모니(III) 에톡사이드(Antimony(III) ethoxide), 안티모니(III) 메톡사이드(Antimony(III) methoxide), 안티모니(III) 프로폭사이드(Antimony(III) propoxide), 하프늄(IV) 노말 부톡사이드(Hafnium(IV) n-butoxide), 하프늄(IV) 터트 부톡사이드(Hafnium(IV) tert-butoxide), 지르코늄(IV) 부톡사이드(Zirconium(IV) butoxide), 지르코늄(IV) 에톡사이드(Zirconium(IV) ethoxide), 지르코늄(IV) 이소프로폭사이드(Zirconium(IV) iso-propoxide), 지르코늄(IV) 프로폭사이드(Zirconium(IV) propoxide), 지르코늄(IV) 터트 부톡사이드(Zirconium(IV) tert-butoxide), 구리(II) 메톡사이드(Copper(II) methoxide), 칼슘 이소프로폭사이드(Calcium isopropoxide), 칼슘 메톡사이드(Calcium methoxide), 마그네슘 에톡사이드(Magnesium ethoxide), 마그네슘 메톡사이드(Magnesium methoxide), 테트라부틸 올소실리케이트(Tetrabutyl orthosilicate), 테트라에틸 올소실리케이트(Tetraethyl orthosilicate), 테트라메틸 올소실리케이트(Tetramethyl orthosilicate), 테트라프로필 올소실리케이트(Tetrapropyl orthosilicate) 등을 예시할 수 있다. 이것들은 1종류 또는 2종 이상 사용해도 좋다. 2) Metal alkoxides include tin (IV) tert-butoxide, titanium butoxide, titanium ethoxide, titanium methoxide, titanium isopropoxide Titanium isopropoxide, Titanium propoxide, Indium hydroxide (In (OH) 3 ), Aluminum ethoxide, Aluminum isopropoxide, Aluminum phenoxide, Aluminum tert-butoxide, Aluminum tri-butoxide, Aluminum tri-sec-butoxide, Indium (III) tert Indium (III) tert-butoxide, Antimony (III) butoxide, Antimony (III) ethoxide, Antimony (III) methoxide ( Antimony (III) methoxide), antimony III) Propione (Antimony (III) propoxide), Hafnium (IV) n-butoxide, Hafnium (IV) tert-butoxide, Zirconium (IV) ) Zirconium (IV) butoxide, zirconium (IV) ethoxide, zirconium (IV) isopropoxide, zirconium (IV) propoxide (Zirconium (IV) propoxide), zirconium (IV) tert-butoxide, Zirconium (IV) tert-butoxide, Copper (II) methoxide, Calcium isopropoxide, Calcium Calcium methoxide, Magnesium ethoxide, Magnesium methoxide, Tetrabutyl orthosilicate, Tetraethyl orthosilicate, Tetramethyl orthosilicate, Tetrapropyl orthosilicate silicate) and the like. You may use these 1 type or 2 or more types.

바일산 및 그의 유도체는 콜릭산(Cholic acid), 체노디옥시콜릭산(Chenodeoxycholic acid), 디하이드록시콜릭산(Dehydrocholic acid), 디옥시콜릭산(Deoxycholic acid), 히요디옥시콜릭산(Hyodeoxycholic acid), 리소콜릭산(Lithocholic acid), 소듐 클리고체노디옥시콜레이트(Sodium glycochenodeoxycholate), 소듐 부우로디옥시콜레이트(Sodium taurochenodeoxycholate), 소듐 타우로콜레이트(Sodium taurocholate hydrate), 소듐 디하이드로콜레이트(Sodium dehydrocholate), 소듐 디옥시콜레이트(Sodium deoxycholate), 얼소디옥시콜릭산(Ursodeoxycholic acid), 소듐 콜레이트 하이드레이트(Sodium cholate hydrate), 히요디옥시콜릭산 메틸 에스터(Hyodeoxycholic acid methyl ester), 5β-콜란닉-3α,12α-디올 3-아세테이트 메틸 에스터(5β-Cholanic acid-3α,12α-diol 3-acetate methyl ester), 5β-콜란닉 산-3-온(5β-Cholanic acid-3-one), 5β-콜란닉산 3,7-디온 메틸 에스터(5β-Cholanic acid 3,7-dione methyl ester) 및 5β-콜란닉 산-3,7-디온(5β-Cholanic acid-3,7-dione)중에서 선택되는 1종 이상의 바일산 화합물이 혼합된 조성물.Bilic acid and its derivatives include Cholic acid, Chenodeoxycholic acid, Dehydroxycholic acid, Deoxycholic acid, Hiyodeoxycholic acid ), Lithocholic acid, Sodium glycochenodeoxycholate, Sodium taurochenodeoxycholate, Sodium taurocholate hydrate, Sodium dehydrocholate, Sodium deoxycholate, Ursodeoxycholic acid, Sodium cholate hydrate, Hiyodeoxycholic acid methyl ester, 5β-cholanic-3α, 12α -Diol 3-acetate methyl ester (5β-Cholanic acid-3α, 12α-diol 3-acetate methyl ester), 5β-cholanic acid-3-one, 5β-cholanic acid 3 , 7-dione methyl ester ( 1. A composition in which at least one bail acid compound selected from -Cholanic acid 3,7-dione methyl ester and 5β-cholanic acid-3,7-dione is mixed.

상기 조성물에서 용매는 물, 알코올류, 케톤류, 에테르류, 아미드류, 벤젠류 등으로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 또는 2종이상의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다. 구체적으로, 물(Water), 메탄올(methanol), 에탄올(ethanol), 프로판올(propanol), 부탄올(butanol), 펜타놀(pentanol), 아세톤(acetone), 메틸에틸케톤(methylethylketone), 아세도니트릴(acetonitrile), 다이글라임(diglyme), 글라임(glyme), 셀루솔브(cellosolve), 디엠에프(DMF), 디옥산(dioxane), 에틸렌 글리콜(ethylene glycol), 클리세린(glycerin), 니트로메탄(nitromethane), 피리딘, 벤젠(Benzene), 톨루엔(toluene), 자일렌(xylene), 테트라하이드로퓨 란(tetrahydrofuran), 펜탄(pentane), 헥산(hexane), 클로로폼(chloroform), 디클로로메탄(dichloromehtnae), 디클로로에탄(dichloroethane), 트리클로로에틸렌(trichloroethylene), 테트라클로로메탄(tetrachloromethane), 에테르(diethylether), 디아이스프로필에테르(diisopropylether), 메틸-t-부틸 에테르(methyl-t-butyl ether), 헵탄(heptane), 에틸아세테이트(ethylacetate), 시클로헥산(cyclohexane), 부틸아세테이트(butylacetate), 이온 액체(ionic liquid) 등이며, 본 발명은 이에 국한 하는 것은 아니다.In the composition, it is preferable to use one or a mixture of two or more solvents selected from the group consisting of water, alcohols, ketones, ethers, amides, benzenes, and the like. Specifically, water, methanol, ethanol, propanol, butanol, butanol, pentanol, acetone, methyl ethyl ketone, acetonitrile acetonitrile, diglyme, glyme, cellosolve, DMF, dioxane, ethylene glycol, glycerin, nitromethane nitromethane, pyridine, benzene, toluene, xylene, tetrahydrofuran, pentane, hexane, chloroform, dichloromehtnae , Dichloroethane, trichloroethylene, tetrachloromethane, ether, diethylether, diisopropylether, methyl-t-butyl ether, heptane (heptane), ethylacetate, cyclohexane, butyl acetate (but ylacetate, ionic liquid, and the like, but the present invention is not limited thereto.

4) 조성물과 1종이상의 촉매가 혼합된 조성물.       4) A composition comprising a composition and at least one catalyst.

상기 조성물에서 촉매는 산, 염기 등으로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 또는 2종이상의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다. 구체적으로, 염산(Hydrochloric acid), 황산(Sulfuric acid), 빙초산(Acetic acid), 암모니아수(Ammonium hydroxide), 1,8-다이아자바이싸이클로(5.4.0)언덱-7-엔(DBU), 트리에틸아민(Triethylamine) 등이며, 본 발명은 이에 국한 하는 것은 아니다.       In the composition, it is preferable to use one or a mixture of two or more selected from the group consisting of acids, bases and the like. Specifically, hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, ammonium hydroxide, 1,8-diazabicyclo (5.4.0), undec-7-ene (DBU), triethyl Amines (Triethylamine) and the like, and the present invention is not limited thereto.

바일산 및 그의 유도체, 금속 알콕사이드(Metal alkoxide), 알코올(alcohol)류, 유기용매 또는 이들의 혼합용매 그리고 촉매(산 및 염기)를 포함하는 조성물. Composition comprising a bile acid and its derivatives, metal alkoxides, alcohols, organic solvents or mixed solvents thereof, and catalysts (acids and bases).

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조성물의 구성은 바일산 및 바일산 유도체, 금속 알콕사이드(Metal alkoxide), 용재 그리고 촉매로 이루어지며, 한 종류 혹은 한 종류 이상으로 혼합이 가능하다.The composition of the composition is composed of a bile acid and a bile acid derivative, a metal alkoxide, a solvent and a catalyst, and may be mixed in one or more kinds.

상기 조성물은 분무 방식, 스핀코팅, 전기영동 증착, 캐스팅, 잉크젯 프린팅 및 오프셋 프린팅 등의 다양한 코팅 방법을 사용하여 적당한 기재에 코팅될 수 있다. 여기서, 기재는 종이, 반도체 및 금속, 세라믹 그리고 고분자 등으로 구성된 것 어떤 것이라도 좋다. 그 예로 종이, 유리, 실리콘, 실리콘산화막, 금(Gold), 폴리술폰(Polysulfone), 폴리이미드(PI), 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(Polycarbonate) 및 폴리에틸렌(Polyethylene) 등이 있으나, 이는 응용분야에 따라 다양하게 선택될 수 있으며, 본 발명은 이에 국한 하는 것은 아니다.The composition can be coated on a suitable substrate using various coating methods such as spraying, spin coating, electrophoretic deposition, casting, inkjet printing and offset printing. Here, the substrate may be any of paper, semiconductors and metals, ceramics and polymers. Examples include paper, glass, silicon, silicon oxide, gold, polysulfone, polyimide (PI), polytetrafluoroethylene (PTFE), polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate, and Polyethylene (Polyethylene), etc., but may be selected in various ways depending on the application, the present invention is not limited thereto.

일반적인 조성물의 제조 방법은 다음과 같다.The general method for preparing the composition is as follows.

방법 1. 유기젤화와 졸-겔 방법을 이용한 코팅 조성물의 제조Method 1. Preparation of Coating Composition Using Organogelation and Sol-Gel Method

25ml 둥근바닥플라스크에 금속 알콕사이드(Metal alkoxide)와 알코올류 용매를 넣고 10~120분간 교반하였다. 상기 혼합물에 바일산 및 바일산의 유도체를 유기용매에 녹인 용액을 천천히 첨가한 후 상온에서 10~120분간 교반하였다. 소량의 산 또는 염기 촉매를 증류수와 알코올류 용매에 희석하여 상기 혼합용액에 상온에서 1~30분간 천천히 첨가한 후 10~120분간 교반하였다. 최종 혼합물 용액을 0.01~1.0폴리머 또는 멤브레인 필터로 여과하여 유무기 나노복합 박막 또는 필름의 제조를 위한 코팅 조성물을 제조하였다.Metal alkoxide and an alcohol solvent were added to a 25 ml round bottom flask and stirred for 10 to 120 minutes. To the mixture was slowly added a solution obtained by dissolving a bile acid and a derivative of bile acid in an organic solvent, and then stirred at room temperature for 10 to 120 minutes. A small amount of acid or base catalyst was diluted in distilled water and an alcohol solvent and slowly added to the mixed solution at room temperature for 1 to 30 minutes, followed by stirring for 10 to 120 minutes. The final mixture solution was filtered through a 0.01 to 1.0 polymer or membrane filter to prepare a coating composition for the preparation of organic-inorganic nanocomposite thin films or films.

방법 2. 유무기 나노복합 박막 및 필름의 제조Method 2. Preparation of Organic-Inorganic Nanocomposite Thin Film and Film

상기에서 제조한 조성물을 분무 방식, 스핀코팅, 전기영동 증착, 캐스팅, 잉크젯 프린팅 및 오프셋 프린팅 등의 방법으로 유리, 실리콘, 폴리머 등의 기재위에 도포하였다. 위의방법 중 스핀코팅의 경우 1000~4000rpm의 회전속도로 10~180초 동안 코팅을 실시하였다. 위의 방법으로 형성된 박막을 60~100℃의 핫플레이트에서 10~120분간 건조한 후, 80~150℃의 진공오븐에서 2~120시간 동안 건조하여 유무기 나노복합 투명 박막 및 필름을 제조하였다.The composition prepared above was applied onto substrates such as glass, silicon, polymer, etc. by spraying, spin coating, electrophoretic deposition, casting, inkjet printing and offset printing. Spin coating of the above method was performed for 10 ~ 180 seconds at a rotation speed of 1000 ~ 4000rpm. The thin film formed by the above method was dried for 10 to 120 minutes in a hot plate of 60 ~ 100 ℃, dried for 2 to 120 hours in a vacuum oven of 80 ~ 150 ℃ to prepare an organic-inorganic nano-composite transparent thin film and film.

방법 3. 유무기 나노복합 박막 및 필름의 특성 측정Method 3. Characterization of Organic-Inorganic Nanocomposite Thin Films and Films

상기에서 제조된 박막 및 필름의 특성은 광학적 특성, 전기적 특성 그리고 필름표면의 상태를 측정하였으며, 그 결과는 실시예의 표2 및 도에서 나타내었다. 광학적 특성으로는 광 투과율 및 굴절율을 측정 하였으며, 633nm의 파장에서의 측정 결과를 표2에서 나타내었다. 전기적 특성으로는 박막 및 필름의 면저항 및 전도도를 측정 하였으며, 그 결과는 실시예의 표2에서 나타내었다.The characteristics of the thin film and the film prepared above were measured optical properties, electrical properties and the state of the film surface, the results are shown in Table 2 and Figure of the Examples. The optical properties were measured for the light transmittance and the refractive index, and the measurement results at the wavelength of 633 nm are shown in Table 2. As electrical properties, the sheet resistance and conductivity of the thin film and the film were measured, and the results are shown in Table 2 of the examples.

본 발명에 대해, 이상의 실시예를 사용하여 자세히 설명한다. 또한, 본 발명은 이들의 실시예에만 한정되는 것은 아니다.The present invention will be described in detail using the above embodiments. In addition, this invention is not limited only to these Examples.

실시예1Example 1

25ml 둥근바닥플라스크에 티타튬 부톡사이드(titanium butoxide) 2.014g과 부탄올 2.5ml를 넣고 30분간 교반하였다. 상기 혼합물에 0.106g의 콜릭산(cholic acid)을 디메틸아세트아마이드 2.5ml에 녹인 용액을 주사기를 사용하여 천천히 첨가한 후 상온에서 30분간 교반하였다. 0.0625g의 염산용액(37%)을 0.073g의 증류수와 1.25ml의 부탄올에 희석하여 상기 혼합용액에 상온에서 15분간 천천히 첨가한 후 30분간 교반하였다. 최종 혼합물 용액을 0.2폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 주사기 필터가 부착된 주사기를 이용하여 유리기재위에 도포한 후 스핀 코팅방법으로 2000rpm에서 60초간 스핀 코팅하였다. 형성된 박막을 60℃의 핫플레이트에서 30분간 건조한 후, 100℃의 진공오븐에서 12시간 동안 건조하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였다. 제조된 박막의 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다. (금속 알콕사이드:바일산=95:5)Titanium butoxide 2.014g and butanol 2.5ml were added to a 25 ml round bottom flask and stirred for 30 minutes. A solution of 0.106 g of cholic acid dissolved in 2.5 ml of dimethylacetamide was slowly added to the mixture using a syringe, followed by stirring at room temperature for 30 minutes. 0.0625 g of hydrochloric acid solution (37%) was diluted in 0.073 g of distilled water and 1.25 ml of butanol and slowly added to the mixed solution at room temperature for 15 minutes, followed by stirring for 30 minutes. The final mixture solution was applied onto a glass substrate using a syringe with a 0.2 polytetrafluoroethylene (PTFE) syringe filter, followed by spin coating at 2000 rpm for 60 seconds using a spin coating method. The formed thin film was dried in a hot plate at 60 ° C. for 30 minutes and then dried in a vacuum oven at 100 ° C. for 12 hours to prepare an organic-inorganic nanocomposite thin film. The properties of the prepared thin film are shown in Tables 1 and 2 below. (Metal alkoxide: bilic acid = 95: 5)

실시예2Example 2

25ml 둥근바닥플라스크에 티타튬 부톡사이드(titanium butoxide) 1.06g과 부탄올 2.5ml를 넣고 30분간 교반하였다. 상기 혼합물에 1.06g의 디옥시콜릭산(deoxycholic acid)을 디메틸아세트아마이드 2.5ml에 녹인 용액을 주사기를 사용하여 천천히 첨가한 후 상온에서 30분간 교반하였다. 0.0625g의 염산용액(37%)을 0.073g의 증류수와 1.25ml의 부탄올에 희석하여 상기 혼합용액에 상온에서 15분간 천천히 첨가한 후 30분간 교반하였다. 최종 혼합물 용액을 0.2폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 주사기 필터가 부착된 주사기를 이용하여 유리기재위에 도포한 후 스 핀 코팅방법으로 2000rpm에서 60초간 스핀 코팅하였다. 형성된 박막을 60℃의 핫플레이트에서 30분간 건조한 후, 100℃의 진공오븐에서 12시간 동안 건조하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였다. 제조된 박막의 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다. (금속 알콕사이드:바일산=50:50)In a 25 ml round bottom flask, 1.06 g of titanium butoxide and 2.5 ml of butanol were added and stirred for 30 minutes. A solution of 1.06 g of deoxycholic acid dissolved in 2.5 ml of dimethylacetamide was slowly added to the mixture using a syringe, followed by stirring at room temperature for 30 minutes. 0.0625 g of hydrochloric acid solution (37%) was diluted in 0.073 g of distilled water and 1.25 ml of butanol and slowly added to the mixed solution at room temperature for 15 minutes, followed by stirring for 30 minutes. The final mixture solution was applied onto a glass substrate using a syringe with a 0.2 polytetrafluoroethylene (PTFE) syringe filter, followed by spin coating at 2000 rpm for 60 seconds using a spin coating method. The formed thin film was dried in a hot plate at 60 ° C. for 30 minutes and then dried in a vacuum oven at 100 ° C. for 12 hours to prepare an organic-inorganic nanocomposite thin film. The properties of the prepared thin film are shown in Tables 1 and 2 below. (Metal alkoxide: bilic acid = 50:50)

실시예3Example 3

25ml 둥근바닥플라스크에 징크나이트레이트 핵사하이드레이트(zinc nitrate hexahydrate) 1.06g과 에탄올 2.5ml를 넣고 45분간 교반하였다. 상기 혼합물에 1.06g의 콜릭산(cholic acid)을 디메틸아세트아마이드 2.5ml에 녹인 용액을 주사기를 사용하여 천천히 첨가한 후 상온에서 45분간 교반하였다. 0.0625g의 빙초산을 0.073g의 증류수와 1.25ml의 에탄올에 희석하여 상기 혼합용액에 상온에서 15분간 천천히 첨가한 후 45분간 교반하였다. 최종 혼합물 용액을 0.2폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 주사기 필터가 부착된 주사기를 이용하여 유리기재위에 도포한 후 스핀 코팅방법으로 2500rpm에서 60초간 스핀 코팅하였다. 형성된 박막을 80℃의 핫플레이트에서 60분간 건조한 후, 100℃의 진공오븐에서 24시간 동안 건조하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였다. 제조된 박막의 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다. (금속 알콕사이드:바일산=50:50)1.06 g of zinc nitrate hexahydrate and 2.5 ml of ethanol were added to a 25 ml round bottom flask and stirred for 45 minutes. A solution of 1.06 g of cholic acid in 2.5 ml of dimethylacetamide was slowly added to the mixture using a syringe, followed by stirring at room temperature for 45 minutes. 0.0625 g of glacial acetic acid was diluted in 0.073 g of distilled water and 1.25 ml of ethanol, and slowly added to the mixed solution at room temperature for 15 minutes, followed by stirring for 45 minutes. The final mixture solution was applied onto a glass substrate using a syringe with a 0.2 polytetrafluoroethylene (PTFE) syringe filter, followed by spin coating at 2500 rpm for 60 seconds using a spin coating method. The formed thin film was dried in a hot plate at 80 ° C. for 60 minutes and then dried in a vacuum oven at 100 ° C. for 24 hours to prepare an organic-inorganic nanocomposite thin film. The properties of the prepared thin film are shown in Tables 1 and 2 below. (Metal alkoxide: bilic acid = 50:50)

실시예4Example 4

25ml 둥근바닥플라스크에 징크나이트레이트 핵사하이드레이트(zinc nitrate hexahydrate) 1.06g과 에탄올 2.5ml를 넣고 30분간 교반하였다. 상기 혼합물에 1.06g의 디옥시콜릭산(deoxycholic acid)을 디메틸포름아마이드 2.5ml에 녹인 용액 을 주사기를 사용하여 천천히 첨가한 후 상온에서 45분간 교반하였다. 0.0625g의 빙초산을 0.073g의 증류수와 1.25ml의 에탄올에 희석하여 상기 혼합용액에 상온에서 15분간 천천히 첨가한 후 45분간 교반하였다. 최종 혼합물 용액을 0.2폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 주사기 필터가 부착된 주사기를 이용하여 유리기재위에 도포한 후 스핀 코팅방법으로 2500rpm에서 60초간 스핀 코팅하였다. 형성된 박막을 60℃의 핫플레이트에서 60분간 건조한 후, 100℃의 진공오븐에서 24시간 동안 건조하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였다. 제조된 박막의 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다. (금속 알콕사이드:바일산=50:50)1.06 g of zinc nitrate hexahydrate and 2.5 ml of ethanol were added to a 25 ml round bottom flask and stirred for 30 minutes. A solution of 1.06 g of deoxycholic acid dissolved in 2.5 ml of dimethylformamide was slowly added to the mixture using a syringe, followed by stirring at room temperature for 45 minutes. 0.0625 g of glacial acetic acid was diluted in 0.073 g of distilled water and 1.25 ml of ethanol, and slowly added to the mixed solution at room temperature for 15 minutes, followed by stirring for 45 minutes. The final mixture solution was applied onto a glass substrate using a syringe with a 0.2 polytetrafluoroethylene (PTFE) syringe filter, followed by spin coating at 2500 rpm for 60 seconds using a spin coating method. The formed thin film was dried in a hot plate at 60 ° C. for 60 minutes and then dried in a vacuum oven at 100 ° C. for 24 hours to prepare an organic-inorganic nanocomposite thin film. The properties of the prepared thin film are shown in Tables 1 and 2 below. (Metal alkoxide: bilic acid = 50:50)

실시예5Example 5

25ml 둥근바닥플라스크에 인듐하이드록사이드(Indium hydroxide, In(OH)3)와 하이드로로마카이트(hydroromarchite, Sn3O2(OH)2)의 혼합물 1.06g과 부탄올 2.5ml를 넣고 60분간 교반하였다. 상기 혼합물에 1.06g의 콜릭산(cholic acid)을 디메틸아세트아마이드 2.5ml에 녹인 용액을 주사기를 사용하여 천천히 첨가한 후 상온에서 60분간 교반하였다. 0.0625g의 암모니아수(27%)를 0.073g의 증류수와 1.25ml의 부탄올에 희석하여 상기 혼합용액에 상온에서 15분간 천천히 첨가한 후 60분간 교반하였다. 최종 혼합물 용액을 0.2폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 주사기 필터가 부착된 주사기를 이용하여 유리기재위에 도포한 후 스핀 코팅방법으로 500rpm에서 60초간 스핀 코팅하였다. 형성된 박막을 80℃의 핫플레이트에서 120분간 건조한 후, 100℃의 진공오븐에서 48시간 동안 건조하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였다. 제조된 박막의 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다. (금속 알콕사이드:바일산=50:50)Into a 25 ml round bottom flask was added 1.06 g of a mixture of indium hydroxide (In (OH) 3 ) and hydrochromite (hydroromarchite, Sn 3 O 2 (OH) 2 ) and 2.5 ml of butanol and stirred for 60 minutes. A solution of 1.06 g of cholic acid dissolved in 2.5 ml of dimethylacetamide was slowly added to the mixture using a syringe, followed by stirring at room temperature for 60 minutes. 0.0625 g of ammonia water (27%) was diluted in 0.073 g of distilled water and 1.25 ml of butanol and slowly added to the mixed solution at room temperature for 15 minutes, followed by stirring for 60 minutes. The final mixture solution was applied onto a glass substrate using a syringe with a 0.2 polytetrafluoroethylene (PTFE) syringe filter and then spin coated at 500 rpm for 60 seconds using a spin coating method. The formed thin film was dried in a hot plate at 80 ° C. for 120 minutes and then dried in a vacuum oven at 100 ° C. for 48 hours to prepare an organic-inorganic nanocomposite thin film. The properties of the prepared thin film are shown in Tables 1 and 2 below. (Metal alkoxide: bilic acid = 50:50)

실시예6Example 6

25ml 둥근바닥플라스크에 인듐하이드록사이드(Indium hydroxide, In(OH)3)와 하이드로로마카이트(hydroromarchite, Sn3O2(OH)2)의 혼합물 1.06g과 부탄올 2.5ml를 넣고 60분간 교반하였다. 상기 혼합물에 1.06g의 디옥시콜릭산(deoxycholic acid)을 디메틸포름아마이드 2.5ml에 녹인 용액을 주사기를 사용하여 천천히 첨가한 후 상온에서 60분간 교반하였다. 0.0625g의 암모니아수(27%)를 0.073g의 증류수와 1.25ml의 부탄올에 희석하여 상기 혼합용액에 상온에서 15분간 천천히 첨가한 후 60분간 교반하였다. 최종 혼합물 용액을 0.2폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 주사기 필터가 부착된 주사기를 이용하여 유리기재위에 도포한 후 스핀 코팅방법으로 3000rpm에서 60초간 스핀 코팅하였다. 형성된 박막을 80℃의 핫플레이트에서 120분간 건조한 후, 100℃의 진공오븐에서 48시간 동안 건조하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였다. 제조된 박막의 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다. (금속 알콕사이드:바일산=50:50)Into a 25 ml round bottom flask was added 1.06 g of a mixture of indium hydroxide (In (OH) 3 ) and hydrochromite (hydroromarchite, Sn 3 O 2 (OH) 2 ) and 2.5 ml of butanol and stirred for 60 minutes. A solution of 1.06 g of deoxycholic acid dissolved in 2.5 ml of dimethylformamide was slowly added to the mixture using a syringe, followed by stirring at room temperature for 60 minutes. 0.0625 g of ammonia water (27%) was diluted in 0.073 g of distilled water and 1.25 ml of butanol and slowly added to the mixed solution at room temperature for 15 minutes, followed by stirring for 60 minutes. The final mixture solution was applied onto a glass substrate using a syringe with a 0.2 polytetrafluoroethylene (PTFE) syringe filter, followed by spin coating at 3000 rpm for 60 seconds using a spin coating method. The formed thin film was dried in a hot plate at 80 ° C. for 120 minutes and then dried in a vacuum oven at 100 ° C. for 48 hours to prepare an organic-inorganic nanocomposite thin film. The properties of the prepared thin film are shown in Tables 1 and 2 below. (Metal alkoxide: bilic acid = 50:50)

실시예7Example 7

25ml 둥근바닥플라스크에 티타튬 부톡사이드(titanium butoxide) 1.06g과 부탄올 2.5ml를 넣고 30분간 교반하였다. 상기 혼합물에 1.06g의 체노디옥시콜릭산(chenodeoxycholic acid)을 디메틸포름아마이드 2.5ml에 녹인 용액을 주사기를 사용하여 천천히 첨가한 후 상온에서 15분간 교반하였다. 0.0625g의 염산용액(37%) 을 0.073g의 증류수와 1.25ml의 부탄올에 희석하여 상기 혼합용액에 상온에서 15분간 천천히 첨가한 후 15분간 교반하였다. 최종 혼합물 용액을 0.2폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 주사기 필터가 부착된 주사기를 이용하여 유리기재위에 도포한 후 스핀 코팅방법으로 3000rpm에서 60초간 스핀 코팅하였다. 형성된 박막을 60℃의 핫플레이트에서 30분간 건조한 후, 100℃의 진공오븐에서 24시간 동안 건조하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였다. 제조된 박막의 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다. (금속 알콕사이드:바일산=50:50)In a 25 ml round bottom flask, 1.06 g of titanium butoxide and 2.5 ml of butanol were added and stirred for 30 minutes. A solution of 1.06 g of chenodeoxycholic acid dissolved in 2.5 ml of dimethylformamide was slowly added to the mixture using a syringe, followed by stirring at room temperature for 15 minutes. 0.0625 g of hydrochloric acid solution (37%) was diluted in 0.073 g of distilled water and 1.25 ml of butanol and slowly added to the mixed solution at room temperature for 15 minutes, followed by stirring for 15 minutes. The final mixture solution was applied onto a glass substrate using a syringe with a 0.2 polytetrafluoroethylene (PTFE) syringe filter, followed by spin coating at 3000 rpm for 60 seconds using a spin coating method. The formed thin film was dried in a hot plate at 60 ° C. for 30 minutes and then dried in a vacuum oven at 100 ° C. for 24 hours to prepare an organic-inorganic nanocomposite thin film. The properties of the prepared thin film are shown in Tables 1 and 2 below. (Metal alkoxide: bilic acid = 50:50)

실시예8Example 8

25ml 둥근바닥플라스크에 징크나이트레이트 핵사하이드레이트(zinc nitrate hexahydrate) 1.06g과 에탄올 2.5ml를 넣고 30분간 교반하였다. 상기 혼합물에 1.06g의 체노디옥시콜릭산(chenodeoxycholic acid)을 디메틸포름아마이드 2.5ml에 녹인 용액을 주사기를 사용하여 천천히 첨가한 후 상온에서 30분간 교반하였다. 0.0625g의 빙초산을 0.073g의 증류수와 1.25ml의 에탄올에 희석하여 상기 혼합용액에 상온에서 15분간 천천히 첨가한 후 60분간 교반하였다. 최종 혼합물 용액을 0.2폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 주사기 필터가 부착된 주사기를 이용하여 유리기재위에 도포한 후 스핀 코팅방법으로 2500rpm에서 60초간 스핀 코팅하였다. 형성된 박막을 80℃의 핫플레이트에서 60분간 건조한 후, 100℃의 진공오븐에서 48시간 동안 건조하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였다. 제조된 박막의 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다. (금속 알콕사이드:바일산=50:50)1.06 g of zinc nitrate hexahydrate and 2.5 ml of ethanol were added to a 25 ml round bottom flask and stirred for 30 minutes. A solution of 1.06 g of chenodeoxycholic acid dissolved in 2.5 ml of dimethylformamide was slowly added to the mixture using a syringe, followed by stirring at room temperature for 30 minutes. 0.0625 g of glacial acetic acid was diluted in 0.073 g of distilled water and 1.25 ml of ethanol, and slowly added to the mixed solution at room temperature for 15 minutes, followed by stirring for 60 minutes. The final mixture solution was applied onto a glass substrate using a syringe with a 0.2 polytetrafluoroethylene (PTFE) syringe filter, followed by spin coating at 2500 rpm for 60 seconds using a spin coating method. The formed thin film was dried in a hot plate at 80 ° C. for 60 minutes and then dried in a vacuum oven at 100 ° C. for 48 hours to prepare an organic-inorganic nanocomposite thin film. The properties of the prepared thin film are shown in Tables 1 and 2 below. (Metal alkoxide: bilic acid = 50:50)

실시예9Example 9

25ml 둥근바닥플라스크에 25ml 둥근바닥플라스크에 인듐하이드록사이드(Indium hydroxide, In(OH)3)와 하이드로로마카이트(hydroromarchite, Sn3O2(OH)2)의 혼합물 1.06g과 부탄올 2.5ml를 넣고 60분간 교반하였다. 상기 혼합물에 1.06g의 체노디옥시콜릭산(chenodeoxycholic acid)을 디메틸포름아마이드 2.5ml에 녹인 용액을 주사기를 사용하여 천천히 첨가한 후 상온에서 60분간 교반하였다. 0.0625g의 암모니아수(27%)를 0.073g의 증류수와 1.25ml의 부탄올에 희석하여 상기 혼합용액에 상온에서 15분간 천천히 첨가한 후 60분간 교반하였다. 최종 혼합물 용액을 0.2폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 주사기 필터가 부착된 주사기를 이용하여 유리기재위에 도포한 후 스핀 코팅방법으로 3500rpm에서 60초간 스핀 코팅하였다. 형성된 박막을 70℃의 핫플레이트에서 60분간 건조한 후, 100℃의 진공오븐에서 48시간 동안 건조하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였다. 제조된 박막의 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다. (금속 알콕사이드:바일산=50:50)In a 25 ml round bottom flask, add 1.06 g of a mixture of indium hydroxide (In (OH) 3 ) and hydroromarchite (hydroromarchite, Sn 3 O 2 (OH) 2 ) and 2.5 ml butanol in a 25 ml round bottom flask. Stir for 60 minutes. A solution of 1.06 g of chenodeoxycholic acid dissolved in 2.5 ml of dimethylformamide was slowly added to the mixture using a syringe, followed by stirring at room temperature for 60 minutes. 0.0625 g of ammonia water (27%) was diluted in 0.073 g of distilled water and 1.25 ml of butanol and slowly added to the mixed solution at room temperature for 15 minutes, followed by stirring for 60 minutes. The final mixture solution was applied onto a glass substrate using a syringe with a 0.2 polytetrafluoroethylene (PTFE) syringe filter, followed by spin coating at 3500 rpm for 60 seconds using a spin coating method. The formed thin film was dried in a hot plate at 70 ° C. for 60 minutes and then dried in a vacuum oven at 100 ° C. for 48 hours to prepare an organic-inorganic nanocomposite thin film. The properties of the prepared thin film are shown in Tables 1 and 2 below. (Metal alkoxide: bilic acid = 50:50)

실시예10Example 10

25ml 둥근바닥플라스크에 티타튬 부톡사이드(titanium butoxide) 1.06g과 부탄올 2.5ml를 넣고 45분간 교반하였다. 상기 혼합물에 1.06g의 디하이드로콜릭산(dehydrocholic acid)을 디메틸포름아마이드 2.5ml에 녹인 용액을 주사기를 사용하여 천천히 첨가한 후 상온에서 30분간 교반하였다. 0.0625g의 염산용액(37%)을 0.073g의 증류수와 1.25ml의 부탄올에 희석하여 상기 혼합용액에 상온에서 15분간 천천히 첨가한 후 45분간 교반하였다. 최종 혼합물 용액을 0.2폴리테트라플루오로 에틸렌(PTFE) 주사기 필터가 부착된 주사기를 이용하여 유리기재위에 도포한 후 스핀 코팅방법으로 2700rpm에서 40초간 스핀 코팅하였다. 형성된 박막을 70℃의 핫플레이트에서 30분간 건조한 후, 90℃의 진공오븐에서 18시간 동안 건조하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였다. 제조된 박막의 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다. (금속 알콕사이드:바일산=50:50)In a 25 ml round bottom flask, 1.06 g of titanium butoxide and 2.5 ml of butanol were added and stirred for 45 minutes. A solution of 1.06 g of dehydrocholic acid in 2.5 ml of dimethylformamide was slowly added to the mixture using a syringe, followed by stirring at room temperature for 30 minutes. 0.0625 g of hydrochloric acid solution (37%) was diluted in 0.073 g of distilled water and 1.25 ml of butanol and slowly added to the mixed solution at room temperature for 15 minutes and then stirred for 45 minutes. The final mixture solution was applied onto a glass substrate using a syringe with a 0.2 polytetrafluoro ethylene (PTFE) syringe filter, followed by spin coating at 2700 rpm for 40 seconds using a spin coating method. The formed thin film was dried in a hot plate at 70 ° C. for 30 minutes and then dried in a vacuum oven at 90 ° C. for 18 hours to prepare an organic-inorganic nanocomposite thin film. The properties of the prepared thin film are shown in Tables 1 and 2 below. (Metal alkoxide: bilic acid = 50:50)

실시예11Example 11

25ml 둥근바닥플라스크에 25ml 둥근바닥플라스크에 징크나이트레이트 핵사하이드레이트(zinc nitrate hexahydrate) 1.06g과 에탄올 2.5ml를 넣고 30분간 교반하였다. 상기 혼합물에 1.06g의 디하이드로콜릭산(dehydrocholic acid)을 디메틸포름아마이드 2.5ml에 녹인 용액을 주사기를 사용하여 천천히 첨가한 후 상온에서 60분간 교반하였다. 0.0625g의 빙초산을 0.073g의 증류수와 1.25ml의 에탄올에 희석하여 상기 혼합용액에 상온에서 30분간 천천히 첨가한 후 60분간 교반하였다. 최종 혼합물 용액을 0.2폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 주사기 필터가 부착된 주사기를 이용하여 유리기재위에 도포한 후 스핀 코팅방법으로 2000rpm에서 60초간 스핀 코팅하였다. 형성된 박막을 60℃의 핫플레이트에서 80분간 건조한 후, 100℃의 진공오븐에서 36시간 동안 건조하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였다. 제조된 박막의 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다. (금속 알콕사이드:바일산=50:50)In a 25 ml round bottom flask, 1.06 g of zinc nitrate hexahydrate and 2.5 ml of ethanol were added to a 25 ml round bottom flask and stirred for 30 minutes. A solution of 1.06 g of dihydrocholic acid in 2.5 ml of dimethylformamide was slowly added to the mixture using a syringe, followed by stirring at room temperature for 60 minutes. 0.0625 g of glacial acetic acid was diluted in 0.073 g of distilled water and 1.25 ml of ethanol, and slowly added to the mixed solution at room temperature for 30 minutes, followed by stirring for 60 minutes. The final mixture solution was applied onto a glass substrate using a syringe with a 0.2 polytetrafluoroethylene (PTFE) syringe filter, followed by spin coating at 2000 rpm for 60 seconds using a spin coating method. The formed thin film was dried in a hot plate at 60 ° C. for 80 minutes and then dried in a vacuum oven at 100 ° C. for 36 hours to prepare an organic-inorganic nanocomposite thin film. The properties of the prepared thin film are shown in Tables 1 and 2 below. (Metal alkoxide: bilic acid = 50:50)

실시예12Example 12

25ml 둥근바닥플라스크에 25ml 둥근바닥플라스크에 인듐하이드록사이드(Indium hydroxide, In(OH)3)와 하이드로로마카이트(hydroromarchite, Sn3O2(OH)2)의 혼합물 1.06g과 부탄올 2.5ml를 넣고 45분간 교반하였다. 상기 혼합물에 1.06g의 디하이드로콜릭산(dehydrocholic acid)을 디메틸포름아마이드 2.5ml에 녹인 용액을 주사기를 사용하여 천천히 첨가한 후 상온에서 60분간 교반하였다. 0.0625g의 암모니아수(27%)를 0.073g의 증류수와 1.25ml의 부탄올에 희석하여 상기 혼합용액에 상온에서 15분간 천천히 첨가한 후 60분간 교반하였다. 최종 혼합물 용액을 0.2폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 주사기 필터가 부착된 주사기를 이용하여 유리기재위에 도포한 후 스핀 코팅방법으로 3000rpm에서 60초간 스핀 코팅하였다. 형성된 박막을 60℃의 핫플레이트에서 60분간 건조한 후, 100℃의 진공오븐에서 18시간 동안 건조하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였다. 제조된 박막의 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다. (금속 알콕사이드:바일산=50:50)In a 25 ml round bottom flask, add 1.06 g of a mixture of indium hydroxide (In (OH) 3 ) and hydroromarchite (hydroromarchite, Sn 3 O 2 (OH) 2 ) and 2.5 ml butanol in a 25 ml round bottom flask. Stir for 45 minutes. A solution of 1.06 g of dihydrocholic acid in 2.5 ml of dimethylformamide was slowly added to the mixture using a syringe, followed by stirring at room temperature for 60 minutes. 0.0625 g of ammonia water (27%) was diluted in 0.073 g of distilled water and 1.25 ml of butanol and slowly added to the mixed solution at room temperature for 15 minutes, followed by stirring for 60 minutes. The final mixture solution was applied onto a glass substrate using a syringe with a 0.2 polytetrafluoroethylene (PTFE) syringe filter, followed by spin coating at 3000 rpm for 60 seconds using a spin coating method. The formed thin film was dried in a hot plate at 60 ° C. for 60 minutes and then dried in a vacuum oven at 100 ° C. for 18 hours to prepare an organic-inorganic nanocomposite thin film. The properties of the prepared thin film are shown in Tables 1 and 2 below. (Metal alkoxide: bilic acid = 50:50)

실시예13Example 13

상기 실시예2에 대응하는 실시예로서, 바일산 조성물을 디옥시콜릭산 대신에 콜릭산과 디옥시콜릭산을 무게비 5:5의 혼합물을 사용한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 2, an organic-inorganic nanocomposite thin film was prepared in the same manner as in the case of using the bilic acid composition in place of deoxycholic acid, except for using a mixture of collic acid and deoxycholic acid in a weight ratio of 5: 5. , The composition and properties of the prepared thin film are shown in Table 1 and Table 2.

실시예14Example 14

상기 실시예2에 대응하는 실시예로서, 바일산 조성물을 디옥시콜릭산 대신에 콜릭산과 체노디옥시콜릭산을 무게비 5:5의 혼합물을 사용한 것 외에는 동일하게 실시 하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 2, the organic acid-inorganic nanocomposite thin film was prepared in the same manner as that of the bilic acid composition except for using a mixture of collic acid and chenodioxycholic acid in a weight ratio of 5: 5 instead of deoxycholic acid. The composition and properties of the prepared thin film are shown in Tables 1 and 2 below.

실시예15Example 15

상기 실시예2에 대응하는 실시예로서, 바일산 조성물을 디옥시콜릭산 대신에 콜릭산과 디하이드로콜릭산을 무게비 5:5의 혼합물을 사용한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 2, the organic acid-inorganic nanocomposite thin film was prepared in the same manner except that the acid composition was used in the same manner except that the mixture of collic acid and dihydrocolic acid in a weight ratio of 5: 5 was used instead of deoxycholic acid. , The composition and properties of the prepared thin film are shown in Table 1 and Table 2.

실시예16Example 16

상기 실시예6에 대응하는 실시예로서, 바일산 조성물을 디옥시콜릭산 대신에 콜릭산과 디옥시콜릭산을 무게비 5:5의 혼합물을 사용한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 6, the organic-inorganic nanocomposite thin film was prepared by performing the same method of the bilic acid composition except for using a mixture of collic acid and deoxycholic acid in a weight ratio of 5: 5 instead of deoxycholic acid. , The composition and properties of the prepared thin film are shown in Table 1 and Table 2.

실시예17Example 17

상기 실시예6에 대응하는 실시예로서, 바일산 조성물을 디옥시콜릭산 대신에 콜릭산과 체노디옥시콜릭산을 무게비 5:5의 혼합물을 사용한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 6, the organic acid-inorganic nanocomposite thin film was prepared in the same manner as in the case of using the bilic acid composition instead of deoxycholic acid, using a mixture of collic acid and chenodioxycholic acid in a weight ratio of 5: 5. The composition and properties of the prepared thin film are shown in Tables 1 and 2 below.

실시예18Example 18

상기 실시예6에 대응하는 실시예로서, 바일산 조성물을 디옥시콜릭산 대신에 콜릭산과 디하이드로콜릭산을 무게비 5:5의 혼합물을 사용한 것 외에는 동일하게 실시 하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 6, an organic-inorganic nanocomposite thin film was prepared in the same manner except that the acid composition was used instead of the dioxycholic acid and a mixture of collic acid and dihydrocolic acid in a weight ratio of 5: 5. , The composition and properties of the prepared thin film are shown in Table 1 and Table 2.

실시예19Example 19

상기 실시예1에 대응하는 실시예로서, 유기용매 조성물을 DMAc 대신에 DMAc와 테트라하이드로퓨란을 무게비 7:3의 혼합물을 사용한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 1, an organic-inorganic nanocomposite thin film was prepared in the same manner as in the organic solvent composition except that a mixture of DMAc and tetrahydrofuran in a weight ratio of 7: 3 was used instead of DMAc. The composition and properties of are shown in Table 1 and Table 2 below.

실시예20Example 20

상기 실시예19에 대응하는 실시예로서, 바일산 조성물을 콜릭산 대신에 디옥시콜릭산을 사용한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 19, the organic acid-inorganic nanocomposite thin film was prepared in the same manner as that of the valine acid composition except for using dioxycholic acid instead of collic acid, and the composition and properties of the prepared thin film are shown in the following table. 1 and Table 2.

실시예21Example 21

상기 실시예19에 대응하는 실시예로서, 바일산 조성물을 콜릭산 대신에 체노디옥시콜릭산을 사용한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 19, the organic acid-inorganic nanocomposite thin film was prepared in the same manner as that of the valine acid composition except for using chenodioxycholic acid instead of collic acid, and the composition and properties of the prepared thin film were as follows. Table 1 and Table 2 are shown.

실시예22Example 22

상기 실시예19에 대응하는 실시예로서, 바일산 조성물을 콜릭산 대신에 디하이드로콜릭산을 사용한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 19, the organic acid-inorganic nanocomposite thin film was prepared in the same manner as in the case of using the bile acid composition instead of dihydrocholic acid in place of collic acid. 1 and Table 2.

실시예23Example 23

상기 실시예1에 대응하는 실시예로서, 유기용매 조성물을 DMAc 대신에 DMF와 톨루엔을 무게비 9:1의 혼합물을 사용한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 1, an organic-inorganic nanocomposite thin film was prepared in the same manner as in the organic solvent composition except for using a mixture of DMF and toluene in a weight ratio of 9: 1 in place of DMAc, and the composition of the prepared thin film. And properties are shown in Tables 1 and 2 below.

실시예24Example 24

상기 실시예19에 대응하는 실시예로서, 바일산 조성물을 콜릭산 대신에 디옥시콜릭산을 사용한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 19, the organic acid-inorganic nanocomposite thin film was prepared in the same manner as that of the valine acid composition except for using dioxycholic acid instead of collic acid, and the composition and properties of the prepared thin film are shown in the following table. 1 and Table 2.

실시예25Example 25

상기 실시예19에 대응하는 실시예로서, 바일산 조성물을 콜릭산 대신에 체노디옥시콜릭산을 사용한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 19, the organic acid-inorganic nanocomposite thin film was prepared in the same manner as that of the valine acid composition except for using chenodioxycholic acid instead of collic acid, and the composition and properties of the prepared thin film were as follows. Table 1 and Table 2 are shown.

실시예26Example 26

상기 실시예19에 대응하는 실시예로서, 바일산 조성물을 콜릭산 대신에 디하이드로콜릭산을 사용한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 19, the organic acid-inorganic nanocomposite thin film was prepared in the same manner as in the case of using the bile acid composition instead of dihydrocholic acid in place of collic acid. 1 and Table 2.

실시예27Example 27

상기 실시예5에 대응하는 실시예로서, 박막 스핀코팅시 회전 속도를 2500rpm으로 코팅한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 5, the organic-inorganic nanocomposite thin film was manufactured by the same method as the spin speed of the thin film except that the rotational speed was coated at 2500 rpm, and the composition and characteristics of the prepared thin film are shown in Table 1 and Table. 2 is shown.

실시예28Example 28

상기 실시예5에 대응하는 실시예로서, 박막 스핀코팅시 회전 속도를 3000rpm으로 코팅한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 5, the organic-inorganic nanocomposite thin film was manufactured by the same method as that of coating the rotational speed at 3000 rpm during spin coating of the thin film, and the composition and properties of the prepared thin film are shown in Table 1 and Table. 2 is shown.

실시예29Example 29

상기 실시예5에 대응하는 실시예로서, 박막 스핀코팅시 회전 속도를 3500rpm으로 코팅한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 5, the organic-inorganic nanocomposite thin film was manufactured by the same method as that of coating the rotational speed at 3500 rpm during spin coating of the thin film, and the composition and properties of the prepared thin film are shown in Table 1 and Table. 2 is shown.

실시예30Example 30

상기 실시예5에 대응하는 실시예로서, 박막 스핀코팅시 회전 속도를 4000rpm으로 코팅한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 5, the organic-inorganic nanocomposite thin film was manufactured by performing the same process except that the rotational speed was coated at 4000 rpm during spin coating of the thin film, and the composition and characteristics of the prepared thin film are shown in Table 1 and Table. 2 is shown.

실시예31Example 31

상기 실시예5에 대응하는 실시예로서, 코팅 조성물 제조시 디메틸아세트아마이드의 양을 2.5ml에서 3.0ml로 늘인 것과 박막 스핀코팅시 회전 속도를 2500rpm으로 코팅한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 5, the organic-inorganic nanocomposite was carried out in the same manner except that the amount of dimethylacetamide was increased from 2.5ml to 3.0ml when the coating composition was prepared, and the rotational speed was coated at 2500rpm during thin film spin coating. A thin film was prepared, and the composition and properties of the prepared thin film are shown in Tables 1 and 2 below.

실시예32Example 32

상기 실시예5에 대응하는 실시예로서, 코팅 조성물 제조시 디메틸아세트아마이드의 양을 2.5ml에서 3.5ml로 늘인 것과 박막 스핀코팅시 회전 속도를 2500rpm으로 코팅 한 것 외에는 동일하게 실시하여 유무기 나노복합 박막을 제조하였으며, 제조된 박막의 조성 및 특성을 다음 표1 및 표2에 나타내었다.As an example corresponding to Example 5, the organic-inorganic nanocomposite was carried out in the same manner except that the amount of dimethylacetamide was increased from 2.5ml to 3.5ml when the coating composition was prepared, and the rotational speed was coated at 2500rpm during thin film spin coating. A thin film was prepared, and the composition and properties of the prepared thin film are shown in Tables 1 and 2 below.

조성물의 구성Composition of the composition 구분division 조성물Composition 용매menstruum 촉매catalyst 금속
알콕사이드
metal
Alkoxide
바일산Baishan 알코올류Alcohol 유기용매Organic solvent
실시예1Example 1 티타늄titanium 콜릭산Collic acid 부탄올Butanol DMAcDMAc 염산Hydrochloric acid 실시예2Example 2 티타늄titanium 디옥시콜릭산Deoxycholic acid 부탄올Butanol DMFDMF 염산Hydrochloric acid 실시예3Example 3 아연zinc 콜릭산Collic acid 에탄올ethanol DMAcDMAc 초산Acetic acid 실시예4Example 4 아연zinc 디옥시콜릭산Deoxycholic acid 에탄올ethanol DMFDMF 초산Acetic acid 실시예5Example 5 인듐indium 콜릭산Collic acid 부탄올Butanol DMAcDMAc 암모니아ammonia 실시예6Example 6 인듐indium 디옥시콜릭산Deoxycholic acid 부탄올Butanol DMFDMF 암모니아ammonia 실시예7Example 7 티타늄titanium 체노디옥시콜릭산Chenodioxycholic acid 부탄올Butanol DMFDMF 염산Hydrochloric acid 실시예8Example 8 아연zinc 체노디옥시콜릭산Chenodioxycholic acid 에탄올ethanol DMFDMF 초산Acetic acid 실시예9Example 9 인듐indium 체노디옥시콜릭산Chenodioxycholic acid 부탄올Butanol DMFDMF 암모니아ammonia 실시예10Example 10 티타늄titanium 디하이드로콜릭산Dihydrocholic acid 에탄올ethanol DMFDMF 염산Hydrochloric acid 실시예11Example 11 아연zinc 디하이드로콜릭산Dihydrocholic acid 에탄올ethanol DMFDMF 초산Acetic acid 실시예12Example 12 인듐indium 디하이드로콜릭산Dihydrocholic acid 에탄올ethanol DMFDMF 암모니아ammonia 실시예13Example 13 티타늄titanium 콜릭산:디옥시콜릭산 (5:5)Cholic acid: Deoxycholic acid (5: 5) 에탄올ethanol DMFDMF 염산Hydrochloric acid 실시예14Example 14 티타늄titanium 콜릭산:체노디옥시콜릭산 (5:5)Cholic acid: Cenodioxycholic acid (5: 5) 에탄올ethanol DMFDMF 염산Hydrochloric acid 실시예15Example 15 티타늄titanium 콜릭산:디하이드로콜릭산 (5:5)Cholic acid: dihydrocholic acid (5: 5) 에탄올ethanol DMFDMF 염산Hydrochloric acid 실시예16Example 16 인듐indium 콜릭산:디옥시콜릭산 (5:5)Cholic acid: Deoxycholic acid (5: 5) 부탄올Butanol DMFDMF 암모니아ammonia 실시예17Example 17 인듐indium 콜릭산:체노디옥시콜릭산 (5:5)Cholic acid: Cenodioxycholic acid (5: 5) 부탄올Butanol DMFDMF 암모니아ammonia 실시예18Example 18 인듐indium 콜릭산:디하이드로콜릭산 (5:5)Cholic acid: dihydrocholic acid (5: 5) 부탄올Butanol DMFDMF 암모니아ammonia 실시예19Example 19 티타늄titanium 콜릭산Collic acid 부탄올Butanol DMAc:THF (7:3)DMAc: THF (7: 3) 염산Hydrochloric acid 실시예20Example 20 티타늄titanium 디옥시콜릭산Deoxycholic acid 부탄올Butanol DMAc:THF (7:3)DMAc: THF (7: 3) 염산Hydrochloric acid 실시예21Example 21 티타늄titanium 체노디옥시콜릭산Chenodioxycholic acid 부탄올Butanol DMAc:THF (7:3)DMAc: THF (7: 3) 염산Hydrochloric acid 실시예22Example 22 티타늄titanium 디하이드로콜릭산Dihydrocholic acid 부탄올Butanol DMAc:THF (7:3)DMAc: THF (7: 3) 염산Hydrochloric acid 실시예23Example 23 티타늄titanium 콜릭산Collic acid 부탄올Butanol DMF:톨루엔 (9:1)DMF: toluene (9: 1) 염산Hydrochloric acid 실시예24Example 24 티타늄titanium 디옥시콜릭산Deoxycholic acid 부탄올Butanol DMF:톨루엔 (9:1)DMF: toluene (9: 1) 염산Hydrochloric acid 실시예25Example 25 티타늄titanium 체노디옥시콜릭산Chenodioxycholic acid 부탄올Butanol DMF:톨루엔 (9:1)DMF: toluene (9: 1) 염산Hydrochloric acid 실시예26Example 26 티타늄titanium 디하이드로콜릭산Dihydrocholic acid 부탄올Butanol DMF:톨루엔 (9:1)DMF: toluene (9: 1) 염산Hydrochloric acid 실시예27Example 27 인듐indium 콜릭산Collic acid 부탄올Butanol DMAcDMAc 암모니아ammonia 실시예28Example 28 인듐indium 콜릭산Collic acid 부탄올Butanol DMAcDMAc 암모니아ammonia 실시예29Example 29 인듐indium 콜릭산Collic acid 부탄올Butanol DMAcDMAc 암모니아ammonia 실시예30Example 30 인듐indium 콜릭산Collic acid 부탄올Butanol DMAcDMAc 암모니아ammonia 실시예31Example 31 인듐indium 콜릭산Collic acid 부탄올Butanol DMAcDMAc 암모니아ammonia 실시예32Example 32 인듐indium 콜릭산Collic acid 부탄올Butanol DMAcDMAc 암모니아ammonia

유무기 나노복합체의 광학적 및 전기적 특성Optical and Electrical Properties of Organic-Inorganic Nanocomposites 구분division 굴절률Refractive index 투과율 (%)Transmittance (%) 면저항 (Ω/)Sheet resistance (Ω /) 박막두께 (nm)Thin film thickness (nm) 1.8911.891 90.1790.17 ?? 207.3207.3 실시예1Example 1 1.7781.778 99.8599.85 ?? 218.1218.1 실시예2Example 2 1.7641.764 91.4291.42 ?? 227.8227.8 실시예3Example 3 1.7371.737 91.5891.58 ?? 221.5221.5 실시예4Example 4 ?? 98.4598.45 121121 564.1564.1 실시예5Example 5 ?? 98.9198.91 270270 213.5213.5 실시예6Example 6 1.7501.750 92.1492.14 ?? 191.6191.6 실시예7Example 7 1.6711.671 92.2092.20 ?? 219.1219.1 실시예8Example 8 ?? 99.0599.05 265265 197.3197.3 실시예9Example 9 1.7061.706 97.4597.45 ?? 192.3192.3 실시예10Example 10 1.6391.639 97.5597.55 ?? 213.4213.4 실시예11Example 11 ?? 98.9598.95 267267 238.0238.0 실시예12Example 12 1.7421.742 96.9996.99 ?? 226.4226.4 실시예13Example 13 1.6111.611 98.4598.45 ?? 214.0214.0 실시예14Example 14 1.6071.607 97.9897.98 ?? 186.6186.6 실시예15Example 15 ?? 99.2099.20 266266 218.2218.2 실시예16Example 16 ?? 99.1499.14 259259 187.8187.8 실시예17Example 17 ?? 99.2599.25 254254 233.9233.9 실시예18Example 18 1.8011.801 98.1398.13 ?? 241.3241.3 실시예19Example 19 1.7321.732 97.2497.24 ?? 230.7230.7 실시예20Example 20 1.6231.623 97.5897.58 ?? 214.6214.6 실시예21Example 21 1.7031.703 96.9996.99 ?? 194.4194.4 실시예22Example 22 1.5941.594 98.7598.75 ?? 207.8207.8 실시예23Example 23 1.6641.664 97.4997.49 ?? 246.1246.1 실시예24Example 24 1.7701.770 98.1098.10 ?? 268.6268.6 실시예25Example 25 1.7211.721 97.2197.21 ?? 179.6179.6 실시예26Example 26 ?? 99.2199.21 231231 245.2245.2 실시예27Example 27 ?? 99.3099.30 270270 238.4238.4 실시예28Example 28 ?? 99.3499.34 361361 221.5221.5 실시예29Example 29 ?? 99.5199.51 387387 200.6200.6 실시예30Example 30 ?? 99.4399.43 341341 215.7215.7 실시예31Example 31 ?? 99.7799.77 550550 89.489.4

본 발명에 따른 고 굴절율 유무기 나노복합체 투명 필름은 유기-젤(Organo-gel) 도입으로 열안정성을 증가시킬 뿐 아니라, 다른 분자와 용이하게 반응할 수 있는 작용기를 가지므로 상이한 분자와의 공유결합이 용이하므로 용액공정용 조성물을 용이하게 제조할 수 있으며, 본 발명에 따르는 유무기 나노복합체는 분무 방식, 스핀코팅, 전기영동 증착, 캐스팅, 잉크젯 프린팅 및 오프셋 프린팅 등의 간편한 코팅 방법을 사용하여 기재에 코팅이 가능하기 때문에 다양한 용액공정 분야에서 고 굴절율 유무기 나노복합체 투명 필름을 제조하는데 유용하게 쓰일 수 있다.The high refractive index organic-inorganic nanocomposite transparent film according to the present invention not only increases thermal stability by introducing organic-gel, but also has a functional group that can easily react with other molecules, thereby covalently bonding with different molecules. Since it is easy to prepare a composition for a solution process, the organic-inorganic nanocomposite according to the present invention is based on a simple coating method such as spraying, spin coating, electrophoretic deposition, casting, inkjet printing and offset printing It can be useful for manufacturing high refractive index organic-inorganic nanocomposite transparent film in various solution processing fields.

도 1 은 본 발명의 일 실시예에 의한 바일산 유도체와 금속 알콕사이드의 조성물이 졸-겔 반응을 통해 투명 유무기 복합 박막용 조성물을 형성하는 화학반응을 나타낸다.1 illustrates a chemical reaction in which a composition of a bile acid derivative and a metal alkoxide according to an embodiment of the present invention forms a composition for a transparent organic-inorganic composite thin film through a sol-gel reaction.

도 2 는 본 발명에 따른 실시예 2(검정색 실선), 실시예 23(파란색 실선), 실시예 20(녹색 실선), 실시예 14(붉은색 실선) 및 실시예 22(황색 실선)의 방법으로 얻어진 투명 유무기 복합 박막의 파장에 따른 굴절율 스펙트럼을 나타내는 도면이다.2 shows the method of Example 2 (solid black line), Example 23 (solid blue line), Example 20 (green solid line), Example 14 (red solid line) and Example 22 (yellow solid line) according to the present invention. It is a figure which shows the refractive index according to the wavelength of the obtained transparent organic-inorganic composite thin film.

도 3 은 본 발명의 실시예 31(붉은색 실선), 실시예 29(파란색 실선), 실시예 23(녹색 실선), 실시예 19(검정색 실선), 실시예 6(하늘색 실선)의 방법으로 얻어진 투명 유무기 복합 박막의 광투과율을 나타낸다.Fig. 3 is obtained by the method of Example 31 (solid solid line), Example 29 (solid blue line), Example 23 (green solid line), Example 19 (black solid line), Example 6 (light solid line) of the present invention. The light transmittance of the transparent organic-inorganic composite thin film is shown.

Claims (11)

금속 알콕사이드;Metal alkoxides; 바일산 또는 바일산 유도체;Bilic acid or bilic acid derivative; 물, 유기용매 또는 이들의 혼합용매; 및Water, an organic solvent or a mixed solvent thereof; And 촉매를 포함하는 투명 유무기 복합 박막용 조성물.Transparent organic-inorganic composite thin film composition comprising a catalyst. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 금속 알콕사이드는 Sn, Ti, In, Al, Sb, Hf, Zr, Cu, Ca, Si 및 Mg 중에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 유무기 복합 박막용 조성물.The metal alkoxide is a composition for a transparent organic-inorganic composite thin film, characterized in that it comprises at least one selected from Sn, Ti, In, Al, Sb, Hf, Zr, Cu, Ca, Si and Mg. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 바일산 또는 바일산 유도체는 콜릭산, 체노디옥시콜릭산, 디하이드록시콜릭산, 디옥시콜릭산, 히요디옥시콜릭산, 리소콜릭산, 소듐 클리고체노디옥시콜레이트, 소듐 타우로디옥시콜레이트, 소듐 타우로콜레이트 하이드레이트, 소듐 디하이드로콜레이트, 소듐 디옥시콜레이트, 얼소디옥시콜릭산, 소듐 콜레이트 하이드레이트, 히요디옥시콜릭산 메틸 에스터, 5-콜란닉-3,12-디올 3-아세테이트 메틸에스터, 5-콜란닉 산-3-온, 5-콜란닉산 3,7-디온 메틸 에스터 및 5-콜란닉산-3,7-디온 중에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 유무기 복합 박막용 조성물.The valic acid or the valine acid derivative may be cholic acid, chenodioxycholic acid, dihydroxycholic acid, dioxycholic acid, hiyodioxycholic acid, lysocholic acid, sodium chrygonodioxycholate, sodium taurodioxycholate Sodium Taurocholate Hydrate, Sodium Dihydrocholate, Sodium Dioxycholate, Ursodioxycholic Acid, Sodium Cholate Hydrate, Hiyodioxycholic Acid Methyl Ester, 5-cholanic-3,12-diol 3-acetate Methyl Ester Transparent organic-inorganic complex comprising at least one selected from 5-cholanic acid-3-one, 5-cholanic acid 3,7-dione methyl ester and 5-cholanic acid-3,7-dione Thin film composition. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 용매는 물, 알코올류, 케톤류, 에테르류, 아미드류 및 벤젠류 중에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 유무기 복합 박막용 조성물.The solvent is a composition for a transparent organic-inorganic composite thin film comprising at least one selected from water, alcohols, ketones, ethers, amides and benzenes. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 촉매는 염산, 황산, 암모니아 및 초산 중에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 유무기 복합 박막용 조성물.The catalyst is a transparent organic-inorganic composite thin film composition comprising at least one selected from hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonia and acetic acid. 금속 알콕사이드를 제 1 유기용매와 혼합하여 제 1 혼합물을 형성하는 단계;Mixing the metal alkoxide with the first organic solvent to form a first mixture; 바일산 또는 바일산 유도체를 제 2 유기용매와 혼합하여 제 2 혼합물을 형성하는 단계;Mixing the bile acid or bile acid derivative with a second organic solvent to form a second mixture; 상기 제 1 혼합물과 상기 제 2 혼합물을 혼합하고, 이에 촉매를 첨가하여 투명 박막용 조성물을 형성하는 단계; 및Mixing the first mixture and the second mixture, and adding a catalyst to form a transparent thin film composition; And 상기 투명 박막용 조성물을 기재 상에 도포하는 단계를 포함하는 투명 유무기 복합 박막의 제조방법.Method for producing a transparent organic-inorganic composite thin film comprising the step of applying the composition for the transparent thin film on a substrate. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제 1 유기용매는 알코올류 용매를 포함하며, 상기 제 2 유기용매는 아미드류 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 유무기 복합 박막의 제조방법.The first organic solvent includes an alcohol solvent, and the second organic solvent comprises an amide solvent. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 투명 박막용 조성물을 기재 상에 도포하는 단계는 분무, 스핀코팅, 전기 영동 증착, 캐스팅, 잉크젯 프린팅 및 오프셋 프린팅 중에서 선택되는 어느 하나로 수행되는 것을 특징으로 하는 투명 유무기 복합 박막의 제조방법.The step of applying the composition for a transparent thin film on a substrate is a method of manufacturing a transparent organic-inorganic composite thin film, characterized in that carried out by any one selected from spraying, spin coating, electrophoretic deposition, casting, inkjet printing and offset printing. 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 7 to 9, 상기 방법으로 제조되는 투명 유무기 복합 박막.Transparent organic-inorganic composite thin film prepared by the above method. 제10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 박막의 두께는 80nm 내지 600nm 인 것을 특징으로 하는 투명 유무기 복합 박막.Transparent organic-inorganic composite thin film, characterized in that the thickness of the thin film is 80nm to 600nm.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020092903A (en) * 1999-08-31 2002-12-12 브라코 이미징 에스.피.에이. A Process for the Preparation of 3-Amino Bile Acid Derivatives
JP2004197189A (en) 2002-12-20 2004-07-15 Tokai Rubber Ind Ltd Method of manufacturing product fitted with titanium oxide film
KR20090037172A (en) * 2007-10-11 2009-04-15 주식회사 엘지화학 Cholate-based compound and negative-type photoresist resin composition comprising the same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020092903A (en) * 1999-08-31 2002-12-12 브라코 이미징 에스.피.에이. A Process for the Preparation of 3-Amino Bile Acid Derivatives
JP2004197189A (en) 2002-12-20 2004-07-15 Tokai Rubber Ind Ltd Method of manufacturing product fitted with titanium oxide film
KR20090037172A (en) * 2007-10-11 2009-04-15 주식회사 엘지화학 Cholate-based compound and negative-type photoresist resin composition comprising the same

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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