KR101134341B1 - 진공 감압 건조 장치 및 그 방법 - Google Patents

진공 감압 건조 장치 및 그 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101134341B1
KR101134341B1 KR1020090133882A KR20090133882A KR101134341B1 KR 101134341 B1 KR101134341 B1 KR 101134341B1 KR 1020090133882 A KR1020090133882 A KR 1020090133882A KR 20090133882 A KR20090133882 A KR 20090133882A KR 101134341 B1 KR101134341 B1 KR 101134341B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
vacuum
substrate
decompression chamber
fixed body
movable
Prior art date
Application number
KR1020090133882A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20110077338A (ko
Inventor
김종우
Original Assignee
주식회사 케이씨텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 케이씨텍 filed Critical 주식회사 케이씨텍
Priority to KR1020090133882A priority Critical patent/KR101134341B1/ko
Publication of KR20110077338A publication Critical patent/KR20110077338A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101134341B1 publication Critical patent/KR101134341B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/168Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70841Constructional issues related to vacuum environment, e.g. load-lock chamber
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70933Purge, e.g. exchanging fluid or gas to remove pollutants

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

본 발명은 진공 감압 건조 장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 이동 바디와; 상기 이동 바디와 맞닿아 외기로부터 밀폐되는 진공 감압실을 형성하는 고정 바디와; 상기 고정 바디에 상하로 이동 가능하게 설치되고, 상면에 기판을 지지할 수 있는 지지핀이 다수 배열된 이동바와; 상기 진공 감압실에 형성된 배기 포트를 통하여 상기 진공 감압실을 감압시키는 진공 펌프를; 포함하여 구성되며, 상기 기판을 전달하는 아암의 분기부가 상기 지지핀의 사이로 삽입되어 상기 기판을 상기 이동바의 지지핀에 전달함에 따라, 진공 감압실의 높이를 낮게 유지하면서 진공 감압실에 외기와 노출될 수 있는 통기공을 모두 제거하여 진공의 효율을 보다 향상시킬 수 있는 진공 감압 건조 장치를 제공한다.
진공 감압 건조 장치, LCD, 지지핀, Vacuum Dryer

Description

진공 감압 건조 장치 및 그 방법{Vacuum drying device and method}
본 발명은 진공 감압 건조 장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는, 진공 감압 건조 장치의 구성 및 공정을 간소화시키고 진공 감압실의 압력 누수 및 이물질 유입을 방지하며 진공 감압실의 내구성을 강화할 수 있는 진공 감압 건조 장치 및 그 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 평판형 표시장치의 하나인 액정 표시 장치(Liquid Crystal Diplay, LCD)는 음극선관(CRT)에 비해 시인성이 우수하고 평균 소비 전력도 같은 화면 크기의 음극선관에 비해 작을 뿐만 아니라 발열량도 작기 때문에 플라즈마 표시 장치(Plasma Display Panel, PDP)나 전계 방출 표시 장치(Field Emission Display, FED)와 함께 휴대폰이나 컴퓨터의 모니터, 텔레비젼의 차세대 표시장치로서 각광받고 있다.
액정 표시 장치는 패널의 상판 및 하판에 화소 단위를 이루는 액정 셀을 형성하고 포토리소그라피(Photolithography) 공정을 통하여 패턴을 형성한다. 패턴은 빛에 민감한 감광제(Photoresist)를 이용하여야 하는데, 일반적으로 감광제로 사용되는 약액은 점액성 액체 상태로 이루어지며 후속 공정에서의 정밀한 작업에 오차 를 발생시키지 않기 위해서는 진공 감압 건조 장치를 통하여 감광제의 용제(Solvent) 등을 제거할 필요가 있다.
도 1은 종래 기술에 의한 진공 감압 건조 장치(1)의 단면을 도시한 단면도로서, 도 1에 도시된 바와 같이, 종래 기술에 의한 진공 감압 건조 장치(1)는 진공 감압실을 형성하는 하부 바디(10)에 기판(G)을 지지하기 위한 지지핀(31)들이 관통하여 출입가능하도록 다수의 관통공(11)이 형성되어 있었다. 즉, 기판(G)이 로봇암이나 트랜스퍼로부터 이송되어 하부 바디(10)의 상부에 평행하게 위치하게 되면, 지지핀(31)들이 부착된 리프트(30)가 상승하면서 지지핀(31)들이 기판(G)을 지지하게 되며, 하부 바디(10)와 대향하는 상부 바디(20)가 하강하여 하부 바디(10)와 결합함으로써 기판(G)을 둘러싸는 진공 감압실을 형성하도록 구성되어 있었다.
그런데, 종래 기술에 따르면 진공 감압실을 구성하는 하부 바디(10)에 다수의 지지핀 관통공(11)들이 형성되어 있기 때문에, 이를 통하여 챔버 내부의 압력 누수가 발생하며 이물질이 외부로부터 유입될 위험이 있으며 챔버 내외부의 큰 압력차를 견디기 위한 내구성의 측면에서도 응력 파괴(Stress Fracture)에 취약한 응력 집중부가 늘어난다는 단점이 발생하는 문제점이 있었다.
한편, 상기 종래 기술에서 설명한 장치 등의 구성은 오로지 본 발명의 기술적 배경을 이해하기 위하여 기술한 것으로서, 본 발명의 기술 분야의 당업자에게 이미 알려진 선행 기술을 의미하는 것은 아니다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 진공 감압 건조 장치의 구성 및 공정을 간소화시키고 진공 감압실의 압력 누수 및 이물질 유입을 방지하며 진공 감압실의 내구성을 강화할 수 있는 진공 감압 건조 장치 및 그 방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.
상술한 바와 같은 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은, 이동 바디와; 상기 이동 바디와 맞닿아 외기로부터 밀폐되는 진공 감압실을 형성하는 고정 바디와; 상기 고정 바디에 상하로 이동 가능하게 설치되고, 상면에 기판을 지지할 수 있는 지지핀이 다수 배열된 이동바와; 상기 진공 감압실에 형성된 배기 포트를 통하여 상기 진공 감압실을 감압시키는 진공 펌프를; 포함하여 구성되며, 상기 기판을 전달하는 아암의 분기부가 상기 지지핀의 사이로 삽입되어 상기 기판을 상기 이동바의 지지핀에 전달하는 것을 특징으로 하는 진공 감압 건조 장치를 제공한다.
이를 통해, 기판 코터 장치에서 표면에 약액으로 코팅된 기판을 아암을 통해 진공 감압 건조 장치의 진공 감압실로 이송하는 데 있어서, 이동바가 상방으로 이동한 상태에서 기판을 지지하는 아암의 분기부가 이동바의 지지핀의 사이로 삽입되어 기판을 지지핀 상에 전달하도록 구성됨에 따라, 종래에 지지핀의 상하 이동을 위해 고정 바디에 다수의 통공이 형성되어 진공 감압실의 압력이 누수되고 이물질이 유입되어던 문제점을 해소할 수 있다.
이 때, 상기 이동바는 고정 바디의 양측에 설치된 안내 수단을 따라 상하로 이동 가능하게 설치된다. 그리고, 상기 안내 수단은 상기 이동바의 끝단을 수용하는 형상의 레일로 형성된 것이 바람직하다.
무엇보다도, 본 발명은 상기 이동바에 수직한 방향으로 상기 기판을 전달하는 아암이 상기 고정 바디의 상측으로 진입할 수 있는 통로가 마련된다는 데 큰 특징이 있다. 이 통로는 터널과 같이 형성될 수도 있지만 상기 이동바에 접근할 수 있도록 마련된 개구라도 무방하다.
즉, 예를 들어, 상기 고정 바디에는 상기 안내 수단을 고정하는 측벽이 양측에 형성되고, 상기 이동 바디에는 상기 측벽과 맞닿는 측벽이 전후측에 형성되어, 상기 측벽의 사이로 상기 기판을 전달하는 아암이 상기 고정 바디의 상측으로 진입할 수 있게 구성될 수 있다.
이와 같은 구성을 통해, 기판을 이송하는 아암은 고정 바디의 측벽 사이의 개구를 통해 이동바에 접근할 수 있고, 이동 바디와 고정 바디가 상호 결합될 때에는 이동 바디의 전후측의 벽에 의해 상기 통로(즉, 개구)는 밀폐되어, 기밀 상태로 된다. 따라서, 진공 감압실의 높이가 낮더라도 고정 바디에 설치된 이동바의 지지핀에 아암이 진입하여 기판을 전달하는 것이 가능해지는 유리한 효과가 얻어진다.
여기서, 양측벽 및 전후 방향은 임의의 방향을 의미하는 것으로, 고정 바디의 형상이 원형으로 형성되는 경우라도, 상기 안내수단을 고정하기 위하여 서로 마주보는 양측에 형성되는 측벽
따라서, 상기 이동바는 상기 고정 바디의 측벽보다 높지 않은 범위 내에서 상하 이동하는 것이 바람직하다.
또한, 이동바의 상측에 돌출된 다수의 지지핀에 의해 기판을 지지하는 데 있어서, 상기 이동바는 서로 이격된 2열 이상으로 형성됨으로써 지지핀의 상측에서 기판을 안정되게 지지할 수 있다.
이 때, 상기 고정 바디의 바닥면으로부터 이격된 정류판이 더 포함되어, 상기 고정 바디의 하측에 위치한 배기 포트를 통해 상기 진공 감압실에 부압을 작용시킴에 있어서, 진공 감압실 내부에서 하방으로의 기체 유동에 의해 얇은 기판이 파손되는 것을 방지한다. 여기서, 상기 이동바는 상기 정류판의 사이에 설치된다.
한편, 발명의 다른 분야에 따르면, 본 발명은, 이동 바디가 상방 이동하여 진공 감압실을 개방하는 제1단계와; 이동바를 정류판보다 높은 위치로 상방 이동시키는 제2단계와; 기판을 상측에 거치시킨 아암이 상기 이동바의 배열에 수직한 방향으로 접근하여 상기 이동바의 지지핀의 사이로 상기 아암의 분기부를 삽입시키는 제3단계와; 상기 아암의 분기부를 하방으로 이동시켜 상기 기판을 상기 지지핀 상에 거치시키는 제4단계와; 상기 아암이 후퇴하고 상기 이동바를 하방으로 이동시키는 제5단계와; 상기 이동 바디가 하방이동하여 상기 정류판과 상기 이동바가 설치된 고정 바디와 맞닿아 상기 이동 바디와 상기 고정 바디의 사이에 상기 기판을 수용한 상태로 외기로부터 밀폐된 진공 감압실을 형성하는 제6단계와; 상기 이동 바디와 상기 고정 바디의 결합으로 형성된 진공 감압실을 감압 및 건조하는 제 7단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 진공 감압 건조 방법을 제공한다.
이 때, 상기 제 5단계는 상기 지지핀에 의해 지지되는 상기 기판은 상기 정류판보다 높은 위치에 위치하도록 상기 이동바가 하방이동한다.
상술한 바와 같이 본 발명은 상면에, 지지핀이 다수 형성되고 상하로 이동가능한 이동바가 고정 바디에 설치함에 따라, 이동바가 상방 이동한 상태에서 기판 코터 장치로부터 약액이 코팅된 기판을 아암으로부터 전달받을 수 있도록 구성되어, 밀폐된 진공 감압실을 형성함에 따라 종래에 지지핀의 상하 이동을 위해 고정 바디에 다수의 통공이 형성되어 진공 감압실의 압력이 누수되고 이물질이 유입되어던 문제점을 해소하는 유리한 효과를 얻는다.
그리고, 본 발명은 상기 이동바에 수직한 방향으로 상기 기판을 전달하는 아암이 상기 고정 바디의 상측으로 진입할 수 있는 통로가 마련됨에 따라, 진공 감압실의 공간의 상측에 노출될 때까지 이동바가 상방 이동하지 않더라도, 고정 바디와 이동 바디가 상호 결합한 경우에 형성되는 진공 감압실의 내부에 위치한 이동바의 지지핀에 기판을 전달할 수 있게 되므로, 진공 감압실의 높이를 최소화할 수 있게 되는 장점이 얻어진다.
또한, 본 발명은 고정 바디에 진공을 위한 배기 포트를 제외하고는 밀봉시킴으로써 진공 감압실의 압력 누수 및 이물질 유입을 방지하며, 진공 감압실 내외부의 압력차로 인한 응력 파괴의 위험을 감소시킬 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 감압 건조 장치에 대하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대해서는 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하며, 동일하거나 유사한 기능 혹은 구성에 대해서는 동일하거나 유사한 도면 부호를 부여하기로 한다.
도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 감압 건조 장치의 단면을 도시한 단면도, 도3은 도2의 진공 감압 건조 장치에 기판을 공급하는 아암을 도시한 평면도, 도4는 도2의 절단선 Ⅳ-Ⅳ에 따른 단면도, 도5a 내지 도5e는 도2의 진공 감압 건조 장치에 기판을 장착하는 구성을 순차적으로 도시한 단면도, 도6은 도2의 고정 바디의 평면도, 도7은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 감압 건조 방법을 순차적으로 도시한 순서도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 감압 건조 장치(100)는, 구동부(M1)의 구동에 따라 승하강이 가능한 이동 바디(110)와, 이동 바디(110)와 결합하여 그 사이 공간을 외기와 밀폐된 진공 감압실(101)을 형성하는 고정 바디(120)와, 고정 바디(120)에 설치되어 상하(130d)로 이동 가능하고 상면에 돌출된 다수의 지지핀(131)이 형성된 이동바(130)와, 이동바(130)의 사이와 양측에 평탄하게 형성된 정류판(140)과, 진공 감압실(101)로부터 공기를 흡입하여 진공 감압실(101) 내부의 압력을 감소시키는 감압부(150)로 구성될 수 있다.
우선, 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 감압 건조 장치(100)에 의하여 건조 될 수 있는 기판(G)은 실리콘 웨이퍼(Wafer) 기판, 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display, LCD) 기판, 플라즈마 표시 장치(Plasma Diplay Panel, PDP) 기판, 전계 방출 표시 장치(Field Emission Display, FED) 기판은 물론, 논리 회로나 데이터 기억 소자를 갖춘 메커니즘 또는 IC 칩과 같은 소자용 기판 등도 해당될 수 있다.
상기 이동 바디(110)는 고정 바디(120)와 대향 결합하여 내부에 진공 감압실(101)을 형성하게 되며, 구동부(M1)에 의하여 승하강이 가능하다. 이동 바디(110)는 도 2에서는 사각형의 플레이트(Plate) 형상으로 이루어져 있으나, 그 형상은 내부에 위치할 기판(G)의 형상에 종속적이라고 볼 수 있다. 따라서, 반도체 웨이퍼 기판과 같은 원형의 기판(G)에 주로 사용되어야 하는 경우라면, 이동 바디(110)의 형상도 원형이 될 수 있다.
이동 바디(110)는 기판(G)의 감압 및 건조 과정에서 상온보다 높고 평균 대기압보다 낮은 환경, 즉, 물리적?화학적으로 열악한 환경에서 사용되는 것이 일반적이므로, 내열성, 내구성, 내식성 등이 어느 정도 보장될 수 있는 소재로 이루어지는 것이 바람직하다. 또한, 종래 기술에 해당하는 도 1의 경우와는 달리, 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 감압 건조 장치(100)는 이동 바디(110)의 4면이 아니라 2개의 면에만 벽(110a)이 형성된다. 따라서, 고정 바디(120)로부터 이동 바디(110)가 분리되면, 이동바디(110)의 벽(110a)이 위치하였던 방향으로는 고정 바디(110)의 내부로 진입할 수 있는 통로가 마련된다.
상기 고정 바디(120)는 이동 바디(110)와 결합하여 내부에 진공 감압실(101)을 형성하는 구성 요소로서, 도4에 도시된 바와 같이, 이동 바디(110)의 전후방의 벽(110a)과 측방향으로 맞닿는 측벽(120a)이 양측에 형성된다. 이 양측벽(120a)은 이동바(130)의 상하 이동을 안내하는 안내 레일(132)을 지지하는 역할을 한다.
다만, 본 실시예에서는 고정 바디(120)의 양측벽(120a)에 의해 이동바(130)의 안내 레일(132)이 지지되도록 구성되지만, 본 발명의 태양에 따르면, 이동바(130)의 안내 레일(132)은 스스로 고정 바디(120)의 바닥면에 고정되고, 고정바디(120)의 양측벽(120)이 형성되지 않을 수도 있다.
그러나, 본 발명은, 기판(G)을 지지할 수 있도록 다수의 지지핀(131)이 고정 바디를 관통하여 상하 이동하였던 종래의 구성과 달리, 본 발명의 일 실시예에서는 고정 바디(120)자체에 지지핀(131)이 구비되므로 고정 바디(120)에 관통공을 형성할 필요가 없게 되어, 진공 감압실(101)의 압력이 누수되거나 관통공을 통하여 외부의 이물질이 유입될 우려가 없어진다. 뿐만 아니라, 진공 감압실은 대기압보다 낮은 기압과 상온보다 높은 온도에서 운용되는 까닭에 고정 바디에 관통공이 형성된다면 응력 파괴(Stress Fracture)에 취약할 우려가 있으나, 본 발명의 일 실시예에서는 고정 바디(120)에 관통공을 형성할 필요가 없게 되어 고정 바디(120)의 내구성이 높아질 수 있다.
상기 이동바(130)는 도4에 도시된 바와 같이 안내 레일의 일측(132')에 설치된 구동부(M2)의 구동에 따라 승하강된다. 이 때, 다른 편의 안내 레일(132)에도 구동부가 설치될 수도 있고, 단순히 이동바(130)의 승하강을 안내하는 역할만을 할 수도 있다. 그리고, 이동바(130)의 상측에 상향 돌출된 지지핀(131)은 기판(G)을 이송하는 아암의 분기부(50)가 삽입할 수 있을 정도로 높게 형성된다.
여기서, 지지핀(131)은 아암(50)로부터 전달받은 기판(G)을 종국적으로 지지하는 구성 요소이다. 이동 바디(110)와 고정 바디(120)가 결합한 후에는 오로지 지지핀(131)만이 기판(G)을 지지하기 때문에 다수의 지지핀(131)이 기판(G)을 안정적으로 상방 지지할 수 있도록 적절히 배열된다. 다만, 기판(G)은 첨단 기술의 발달로 인하여 면적은 점차 넓어지면서도 그 두께는 점차 얇아지고 있기 때문에 지지핀(131)의 수가 너무 적으면 기판(G)에 휨 응력(Bending Stress)이 크게 걸려 휨 변형(Bending Deflection)이 발생할 우려가 있으며, 반면에 지지핀(131)의 수가 너무 많으면 기판(G)과 지지핀(131)의 접촉에 의한 스크래치, 변형 등의 우려가 있을 뿐만 아니라 접촉 부위의 공정 성능 저하 등의 문제가 있을 수 있으므로, 지지핀(131)의 수는 이와 같은 사정을 고려하여 적절하게 설정되는 것이 바람직하다.
그리고, 고정 바디(120) 상에서 지지핀(131)들 사이의 간격을 조정하기 위해서 또는 지지핀(131)의 적절한 위치를 설정(Configuration)하기 위해서 지지핀(131)을 고정 바디(120) 상에서 슬라이드(Slide) 또는 쉬프트(Shift)하는 것은 본 발명의 기술적 구성을 방해하지 않는다. 왜냐하면, 진공 감압실(101)의 압력이 외부로 누수되거나 외부의 물질이 유입될 수 있는 관통공이 고정 바디(120)에 형성되지만 않는다면, 진공 감압실(101)의 내부에서 지지핀(131)이 이동하는 것은 얼마든지 가능하기 때문이다. 따라서, 지지핀(131)이 상방 지지해야할 기판(G)의 크기나 컴플라이언스(Compliance) 등의 조건에 따라, 지지핀(131)의 개수를 조정할 수 있도록 지지핀(131)을 탈부착이 가능하도록 고정 바디(120)에 부착시키거나, 지지핀(131)들 사이의 간격을 조정하기 위하여 지지핀(131)을 슬라이드(Slide) 또는 쉬프트(Shift)할 수 있도록 고정 바디(120)에 부착시키는 것은, 본 발명의 권리범위에 당연히 포함된다.
또한, 이동바(130)는 기판(G)의 안정된 거치를 위하여 2열 이상으로 형성되는 데, 기판(G)을 전달해주는 아암(50)의 분기부가 지지핀(131)의 사이를 동시에 관통할 수 있도록, 다수의 열의 이동바(130) 상측의 지지핀(131)은 모두 일정한 배열로 배치되는 것이 바람직하다. 도면에는 지지핀(131)이 매우 조밀하게 배치된 것으로 도시하였지만, 이는 기판(G)의 두께가 얇고 큰 것을 기준으로 한 것이며, 기판(G)의 두께와 크기에 따라 도면에 도시된 것보다 훨씬 적은 수의 지지핀(131)으로 구성될 수도 있다.
상기 정류판(140)은 도6에 도시된 바와 같이 고정 바디(120)의 바닥면으로부터 이격되어 설치되며, 이동바(130)의 양측에 위치한다. 이를 통해, 기판(G)의 약액을 건조시키기 위해 기판(G)이 지지핀(131)에 거치된 상태에서, 고정 바디(120)의 하측에 위치한 배기 포트(130b)를 통해 진공 감압실(101)에 부압을 작용시키는 기체 유동에도 불구하고, 얇은 기판(G)이 손상되거나 파손되는 것을 방지한다.
상기 감압부(150)는 고정 바디(120) 또는 이동 바디(110)에 형성된 배기 포트를 통하여 진공 감압실(101)의 공기를 흡입하여 진공 감압실(101)을 감압시키는 구성 요소이다. 감압부(150)는 배기 포트(130b)와 연결되어 공기 통로를 개폐하는 진공 밸브(151)와 감압 흡입력을 발생시키는 진공 펌프(152)로 구성될 수 있다.
이하, 도7을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 감압 건조 방법(S100)을 상술한다.
단계 1: 먼저, 도5a에 도시된 바와 같이, 구동부(M1)의 작동에 의하여 이동 바디(110)가 상방 이동하여 진공 감압실(101)을 개방시킨다(S110).
단계 2: 이와 동시에 또는 그 다음에, 진공 감압실(101)의 하부에 위치하였던 이동바(130)도 구동부(M2)에 의해 상방 이동하여(S120), 아암의 분기부(50)가 이동바(130)의 지지핀(131)의 사이로 삽입할 수 있을 정도가 된다. 이 때, 지지핀(131)의 길이에 따라 지지핀(131)의 전부가 정류판(140)보다 높아지도록 이동바(130)가 상향 이동할 수도 있고, 지지핀(131)의 일부만이 정류판(140)보다 높아지도록 이동바(130)가 이동할 수도 있다
단계 3: 그리고 나서, 도5b 및 도5c에 도시된 바와 같이, 기판(G)을 거치하는 아암(50)의 분기부가 지지핀(131)의 사이로 삽입한다(S130). 여기서, 도5c에 도시된 바와 같이, 진공 감압실(101)의 전후 측벽(110a)이 이동 바디(110)에 형성됨에 따라, 이동 바디(110)가 상방 이동한 상태에서는 기판(G)을 파지한 아암(50)이 진공 감압실(101)의 내부로 진입할 수 있는 통로가 마련되므로, 기판(G)을 파지하는 아암(50)이 지지핀(131)의 사이로 삽입되는 것이 가능해진다.
이때, 기판(G)은 아암(50)에 의해 지지되며, 지지핀(131)에 접촉하지 않은 상태이다.
단계 4: 그 다음, 도5b 및 도5c에 도시된 상태에서 아암(50)이 하방으로 약간 이동하고 상기 통로를 통해 후퇴함에 따라, 도5d에 도시된 바와 같이 기판(G)은 이동바(130)의 지지핀(131)의 선단(131a)에 거치된 상태가 된다.
단계 5: 그 다음, 구동부(M2)의 구동에 의해 이동바(130)가 진공 감압실(101)의 하측으로 이동하여, 기판(G)의 표면이 정류판(140)의 표면보다 약간 높은 위치로 위치하게 한다(S150).
단계 6: 그리고 나서, 이동 바디(110)가 하방이동하여 정류판(140)과 이동바(130)가 설치된 고정 바디(120)와 결합하여, 도5e에 도시된 바와 같이, 이동 바디(110)와 고정 바디(120)의 사이에 기판(G)을 수용한 상태로 외기로부터 밀폐된 진공 감압실(101)을 형성한다(S160).
단계 7: 그리고 나서, 이동 바디(110)와 고정 바디(120)의 결합으로 형성된 진공 감압실(101)에 진공 펌프(152)가 작동하여 배기 포트(130b)를 통해 진공 감압실(101) 내부의 압력을 낮추면서 건조시킨다(S170).
이와 같은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 건조 감압 방법(S100)에 따르면, 진공 감압실(101) 내부에서 지지핀(131)이 상하로 이동하는 이동바를 구비함에 따라 고정 바디(120)에 통공을 형성하지 않은 밀폐된 구조를 구현할 수 있게 됨에 따라, 진공의 효율을 보다 향상시킬 수 있는 잇점이 얻어진다.
또한, 기판(G)을 전달하는 아암(50)의 분기부가 지지핀(131)의 사이로 삽입g하는 통로가 고정 바디(120)에 마련됨에 따라, 진공 감압실(101)의 공간의 상측에 노출될 때까지 이동바(130)를 상방 이동시키지 않더라도, 고정 바디(120)와 이동 바디(110)가 상호 결합한 경우에 형성되는 진공 감압실(101)의 내부에 위치한 이동바(130)의 지지핀(131)에 기판을 전달할 수 있게 되므로, 진공 감압실(101)의 높이를 최소화할 수 있게 된다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 상기와 같은 특정 실시예에 한정되지 아니하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 본 발명의 특허청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경 가능한 것이다.
도1은 종래 기술에 의한 진공 감압 건조 장치의 단면을 도시한 단면도이다.
도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 감압 건조 장치의 단면을 도시한 단면도이다.
도3은 도2의 진공 감압 건조 장치에 기판을 공급하는 아암을 도시한 평면도
도4는 도2의 절단선 Ⅳ-Ⅳ에 따른 단면도
도5a 내지 도5e는 도2의 진공 감압 건조 장치에 기판을 장착하는 구성을 순차적으로 도시한 단면도
도6은 도2의 고정 바디의 평면도
도7은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 감압 건조 방법을 순차적으로 도시한 순서도이다.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
100: 진공 감압 건조 장치 110: 이동 바디
120: 고정 바디 130: 이동바
131: 지지핀 131a : 지지핀의 상단 팁
140: 정류판 151: 진공 밸브
152: 진공 펌프

Claims (11)

  1. 전후측에 측벽이 형성된 이동 바디와;
    상기 이동 바디와 맞닿아 외기로부터 밀폐되는 진공 감압실을 형성하고, 상기 이동 바디의 상기 측벽과 맞닿는 측벽이 양측에 형성되는 고정 바디와;
    상기 고정 바디에 상하로 이동 가능하게 설치되고, 상면에 기판을 지지할 수 있는 지지핀이 다수 배열되며, 상기 고정 바디의 양측에 설치된 안내 수단을 따라 상하로 이동 가능하게 설치된 이동바와;
    상기 진공 감압실에 형성된 배기 포트를 통하여 상기 진공 감압실을 감압시키는 진공 펌프를;
    포함하여 구성되어, 상기 이동 바디의 상기 측벽의 사이에 상기 고정 바디의 상측으로 진입하는 통로가 마련되어, 상기 기판을 전달하는 아암의 분기부가 상기 통로를 통해 상기 지지핀의 사이로 삽입되어 상기 기판을 상기 이동바의 지지핀에 전달하는 것을 특징으로 하는 진공 감압 건조 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 안내 수단은 상기 이동바의 끝단을 수용하는 형상의 레일로 형성된 것을 특징으로 하는 진공 감압 건조 장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 안내 수단은 상기 고정 바디의 상기 측벽에 형성된 것을 특징으로 하는 진공 감압 건조 장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 이동바는 상기 고정 바디의 상기 측벽보다 높지 않은 범위 내에서 상하 이동하는 것을 특징으로 하는 진공 감압 건조 장치.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 이동바는 서로 이격된 2열 이상으로 형성된 것을 특징으로 하는 진공 감압 건조 장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 진공 감압실에 부압을 작용하는 배기 포트가 상기 고정 바디의 하측에 위치하고, 상기 고정 바디의 바닥면으로부터 이격되어 설치된 정류판을 더 포함하는 진공 감압 건조 장치.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 이동바는 상기 정류판의 사이에 설치된 것을 특징으로 하는 진공 감압 건조 장치.
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
KR1020090133882A 2009-12-30 2009-12-30 진공 감압 건조 장치 및 그 방법 KR101134341B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090133882A KR101134341B1 (ko) 2009-12-30 2009-12-30 진공 감압 건조 장치 및 그 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090133882A KR101134341B1 (ko) 2009-12-30 2009-12-30 진공 감압 건조 장치 및 그 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110077338A KR20110077338A (ko) 2011-07-07
KR101134341B1 true KR101134341B1 (ko) 2012-04-10

Family

ID=44916936

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090133882A KR101134341B1 (ko) 2009-12-30 2009-12-30 진공 감압 건조 장치 및 그 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101134341B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200098775A (ko) 2019-02-12 2020-08-21 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101297689B1 (ko) * 2011-10-28 2013-08-21 주식회사 테라세미콘 진공 건조 장치
KR102260324B1 (ko) * 2019-06-17 2021-06-03 세메스 주식회사 진공 건조 장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040038540A (ko) * 2002-11-01 2004-05-08 엘지.필립스 엘시디 주식회사 기판 로딩 및 언로딩용 테이블
KR100583134B1 (ko) * 1999-11-16 2006-05-24 동경 엘렉트론 주식회사 기판의 처리장치 및 처리방법
KR20080047745A (ko) * 2006-11-27 2008-05-30 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 그의 처리 방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100583134B1 (ko) * 1999-11-16 2006-05-24 동경 엘렉트론 주식회사 기판의 처리장치 및 처리방법
KR20040038540A (ko) * 2002-11-01 2004-05-08 엘지.필립스 엘시디 주식회사 기판 로딩 및 언로딩용 테이블
KR20080047745A (ko) * 2006-11-27 2008-05-30 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 그의 처리 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200098775A (ko) 2019-02-12 2020-08-21 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110077338A (ko) 2011-07-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100993441B1 (ko) 기판 탑재 기구, 기판 주고받음 방법, 기판 처리 장치 및 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체
JP4951536B2 (ja) 基板載置台及び基板処理装置
KR100705846B1 (ko) 기판 반송 장치, 기판 반송 방법 및 진공 처리 장치
KR100937073B1 (ko) 진공 처리 장치
KR101023890B1 (ko) Tft-lcd 테스팅을 위한 소형 프로버
KR101134341B1 (ko) 진공 감압 건조 장치 및 그 방법
KR20130018540A (ko) 기판 수수 방법
JP3597321B2 (ja) 減圧乾燥装置
KR20130090829A (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
JP5926694B2 (ja) 基板中継装置,基板中継方法,基板処理装置
KR100589234B1 (ko) 평판표시소자 제조를 위한 기판 처리 장치
KR100764628B1 (ko) 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치
KR100720419B1 (ko) 합착 장치
CN111180373B (zh) 用于制造有机发光元件面板的基板移动装置及方法
KR101077834B1 (ko) 진공 감압 건조 방법 및 이에 사용되는 장치
KR100714882B1 (ko) 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치
KR101256485B1 (ko) 기판처리장치의 공정챔버
KR101507736B1 (ko) 기판정렬장치 및 기판정렬방법
KR100606565B1 (ko) 로딩/언로딩 장치 및 그 로딩/언로딩 장치가 마련되는 기판합착기
KR20240041237A (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR100819701B1 (ko) 식각 장비의 로딩/언로딩 방법
KR20040110563A (ko) 기판지지장치
JP2024072401A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
CN117012698A (zh) 基片处理装置和基片处理装置的制造方法
KR20070071333A (ko) 기판 리프팅 모듈 및 리프팅 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160404

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170417

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190328

Year of fee payment: 8