KR101125624B1 - 안테나 구조체 및 플라즈마 발생 장치 - Google Patents
안테나 구조체 및 플라즈마 발생 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101125624B1 KR101125624B1 KR1020100033576A KR20100033576A KR101125624B1 KR 101125624 B1 KR101125624 B1 KR 101125624B1 KR 1020100033576 A KR1020100033576 A KR 1020100033576A KR 20100033576 A KR20100033576 A KR 20100033576A KR 101125624 B1 KR101125624 B1 KR 101125624B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- section
- upper section
- layer
- disposed
- antenna structure
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/321—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
- H01J37/3211—Antennas, e.g. particular shapes of coils
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01Q—ANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
- H01Q1/00—Details of, or arrangements associated with, antennas
- H01Q1/36—Structural form of radiating elements, e.g. cone, spiral, umbrella; Particular materials used therewith
- H01Q1/364—Structural form of radiating elements, e.g. cone, spiral, umbrella; Particular materials used therewith using a particular conducting material, e.g. superconductor
- H01Q1/366—Structural form of radiating elements, e.g. cone, spiral, umbrella; Particular materials used therewith using a particular conducting material, e.g. superconductor using an ionized gas
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01Q—ANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
- H01Q7/00—Loop antennas with a substantially uniform current distribution around the loop and having a directional radiation pattern in a plane perpendicular to the plane of the loop
- H01Q7/005—Loop antennas with a substantially uniform current distribution around the loop and having a directional radiation pattern in a plane perpendicular to the plane of the loop with variable reactance for tuning the antenna
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
- H05H1/4645—Radiofrequency discharges
- H05H1/4652—Radiofrequency discharges using inductive coupling means, e.g. coils
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
도 1b는 도 1a의 안테나 구조체의 평면도이다.
도 1c는 도 1b의 I-I' 선을 따라 자른 단면도이다.
도 2a은 본 발명의 다른 실시예에 따른 안테나 구조체를 설명하는 도면이다.
도 2b는 도 2a의 안테나 구조체의 평면도이다.
도 2c는 도 2b의 II-II' 선을 따라 자른 단면도이다.
도 3a은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 안테나 구조체를 설명하는 도면이다.
도 3b는 도 3a의 안테나 구조체의 단면도이다.
도 4은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 안테나 구조체를 설명하는 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치를 설명하는 도면이다.
도 6은 도 5의 플라즈마 발생 장치의 단면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치를 설명하는 도면이다.
101: 유도 안테나들
110: 외부 상부 섹션
112: 내부 상부 섹션
122: 내부 하부 섹션
120: 외부 하부 섹션
Claims (13)
- 플라즈마 발생용 안테나 구조체에 있어서
상기 안테나 구조체는 서로 병렬 연결되고 중첩 배치된 동일한 구조의 4 개의 유도 안테나들을 포함하고,
상기 유도 안테나들은:
제1 층의 제 1 사분면에 배치된 외부 상부 섹션;
상기 외부 상부 섹션에 연결되고 제1 층의 제 2 사분면에 배치된 내부 상부 섹션;
상기 내부 상부 섹션에 연결되고 상기 제1 층의 하부에 배치된 제2층의 제3 사분면에 배치된 내부 하부 섹션;
상기 내부 하부 섹션에 연결되고 상기 제 2층의 제 4 사분면에 배치된 외부 하부 섹션;
상기 외부 상부 섹션의 타단과 상기 내부 상부 섹션의 일단을 연결하는 상부 브렌치;
상기 내부 상부 섹션의 타단과 상기 하부 내부 섹션의 일단을 연결하는 수직 브렌치; 및
상기 하부 내부 섹션의 타단과 상기 하부 외부 섹션의 일단을 연결하는 하부 브렌치를 포함하고,
상기 외부 상부 섹션의 일단에 RF 전력이 공급되고, 상기 외부 하부 섹션의 타단은 접지되는 것을 특징으로 하는 안테나 구조체. - 삭제
- 제 1항에 있어서,
외부 상부 섹션 및 외부 하부 섹션은 제1 곡률을 가지고,
내부 상부 섹션 및 내부 하부 섹션은 제2 곡률을 가지고,
상기 제1 곡률의 반경은 상기 제2 곡률의 반경보다 큰 것을 특징으로 하는 안테나 구조체. - 제 1항에 있어서,
외부 상부 섹션 및 외부 하부 섹션은 직각으로 절곡되고,
내부 상부 섹션 및 내부 하부 섹션은 직각으로 절곡되는 것을 특징으로 하는 안테나 구조체. - 제 1항에 있어서,
상기 제1 층과 상기 제2 층 사이에는 절연층이 배치되는 것을 특징으로 하는 안테나 구조체. - 제 1항에 있어서,
외부 상부 섹션 및 외부 하부 섹션의 폭은 내부 상부 섹션 및 내부 하부 섹션의 폭보다 작은 것을 특징으로 하는 안테나 구조체. - 플라즈마 발생용 안테나 구조체에 있어서,
상기 안테나 구조체는 서로 병렬 연결되고 중첩 배치된 동일한 구조의 4 개의 유도 안테나들을 포함하고,
상기 유도 안테나들(101a)은 제1 층(141)의 제 1 사분면에 배치된 외부 상부 섹션(110a);
상기 외부 상부 섹션(110a)에 연결되고 상기 제1 층 상부에 배치된 제2 층(142)의 제 2 사분면에 배치된 내부 상부 섹션(112a);
상기 내부 상부 섹션(112a)에 연결되고 상기 제2 층의 하부에 배치된 제 3층(143)의 제3 사분면에 배치된 내부 하부 섹션(122a);
상기 내부 하부 섹션(122a)에 연결되고 제1 층(141)의 하부에 배치된 제 4층(144)의 제 4 사분면에 배치된 외부 하부 섹션(120a);
상기 외부 상부 섹션의 타단과 상기 내부 상부 섹션의 일단을 연결하는 상부 브렌치;
상기 내부 상부 섹션의 타단과 상기 하부 내부 섹션의 일단을 연결하는 수직 브렌치; 및
상기 하부 내부 섹션의 타단과 상기 하부 외부 섹션의 일단을 연결하는 하부 브렌치를 포함하고, 상기 외부 상부 섹션(110a)의 일단에 RF 전력이 공급되고, 상기 외부 하부 섹션(120a)의 타단은 접지되는 것을 특징으로 하는 안테나 구조체. - 삭제
- 플라즈마 발생용 안테나 구조체에 있어서
상기 안테나 구조체는 서로 병렬 연결되고 중첩 배치된 동일한 구조의 2 개의 유도 안테나들을 포함하고,
상기 유도 안테나들은 제1 층의 제 1 사분면 및 제2 사분면에 걸쳐서 배치된 외부 상부 섹션;
상기 외부 상부 섹션에 연결되고 상기 제1 층의 제 3 사분면 및 제 4 사분면에 걸쳐서 배치된 내부 상부 섹션;
상기 내부 상부 섹션에 연결되고 상기 제1 층의 하부에 배치된 제 2층의 제1 사분면 및 제2 사분면에 걸쳐서 배치된 내부 하부 섹션;
상기 내부 하부 섹션에 연결되고 제 2층의 제 3 사분면 및 제 4 사분면에 걸쳐서 배치된 외부 하부 섹션;
상기 외부 상부 섹션의 타단과 상기 내부 상부 섹션의 일단을 연결하는 상부 브렌치;
상기 내부 상부 섹션의 타단과 상기 하부 내부 섹션의 일단을 연결하는 수직 브렌치; 및
상기 하부 내부 섹션의 타단과 상기 하부 외부 섹션의 일단을 연결하는 하부 브렌치를 포함하고, 상기 외부 상부 섹션의 일단에 RF 전력이 공급되고, 상기 외부 하부 섹션의 타단은 접지되는 것을 특징으로 하는 안테나 구조체. - 삭제
- 플라즈마 발생 장치에 있어서,
상기 플라즈마 발생 장치는
진공 용기;
상기 진공 용기의 일부에 배치된 유전체부; 및
상기 유전체부 상에 배치된 플라즈마 발생용 안테나 구조체를 포함하고,
상기 안테나 구조체는 서로 병렬 연결되고 중첩 배치된 동일한 구조의 4 개의 유도 안테나들을 포함하고,
상기 유도 안테나들은:
제1 층의 제 1 사분면에 배치된 외부 상부 섹션;
상기 외부 상부 섹션에 연결되고 제1 층의 제 2 사분면에 배치된 내부 상부 섹션;
상기 내부 상부 섹션에 연결되고 상기 제1 층의 하부에 배치된 제2층의 제3 사분면에 배치된 내부 하부 섹션;
상기 내부 하부 섹션에 연결되고 상기 제 2층의 제 4 사분면에 배치된 외부 하부 섹션;
상기 외부 상부 섹션의 타단과 상기 내부 상부 섹션의 일단을 연결하는 상부 브렌치;
상기 내부 상부 섹션의 타단과 상기 하부 내부 섹션의 일단을 연결하는 수직 브렌치; 및
상기 하부 내부 섹션의 타단과 상기 하부 외부 섹션의 일단을 연결하는 하부 브렌치를 포함하고,
상기 외부 상부 섹션의 일단에 RF 전력이 공급되고, 상기 외부 하부 섹션의 타단은 접지되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치. - 제 11 항에 있어서,
상기 안테나 구조체는
제1 안테나 구조체 및 제2 안테나 구조체를 포함하고,
상기 제2 안테나 구조체는 상기 제1 안테나 구조체의 내부에 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치. - 제 11 항에 있어서,
상기 유전체부는 서로 이격된 복수의 유전체부들을 포함하고,
상기 안테나 구조체는 서로 이격된 복수의 안테나 구조체들을 포함하고,
상기 안테나 구조체들은 대응하는 상기 유전체부들 상에 각각 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100033576A KR101125624B1 (ko) | 2010-04-13 | 2010-04-13 | 안테나 구조체 및 플라즈마 발생 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100033576A KR101125624B1 (ko) | 2010-04-13 | 2010-04-13 | 안테나 구조체 및 플라즈마 발생 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20110114118A KR20110114118A (ko) | 2011-10-19 |
KR101125624B1 true KR101125624B1 (ko) | 2012-03-27 |
Family
ID=45029255
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020100033576A KR101125624B1 (ko) | 2010-04-13 | 2010-04-13 | 안테나 구조체 및 플라즈마 발생 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101125624B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101853370B1 (ko) * | 2011-09-16 | 2018-04-30 | 세메스 주식회사 | 안테나 구조체 및 플라즈마 발생 장치 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070033222A (ko) * | 2005-09-21 | 2007-03-26 | 주성엔지니어링(주) | 플라즈마 발생용 안테나 |
KR20080107758A (ko) * | 2007-06-08 | 2008-12-11 | 참앤씨(주) | 유도결합 플라즈마 처리장치 및 그 안테나 |
KR20090027479A (ko) * | 2007-09-12 | 2009-03-17 | 한양대학교 산학협력단 | 플라즈마 발생용 안테나 장치 |
KR20090102257A (ko) * | 2008-03-25 | 2009-09-30 | (주)타이닉스 | 유도결합형 플라즈마 에칭장치 |
-
2010
- 2010-04-13 KR KR1020100033576A patent/KR101125624B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070033222A (ko) * | 2005-09-21 | 2007-03-26 | 주성엔지니어링(주) | 플라즈마 발생용 안테나 |
KR20080107758A (ko) * | 2007-06-08 | 2008-12-11 | 참앤씨(주) | 유도결합 플라즈마 처리장치 및 그 안테나 |
KR20090027479A (ko) * | 2007-09-12 | 2009-03-17 | 한양대학교 산학협력단 | 플라즈마 발생용 안테나 장치 |
KR20090102257A (ko) * | 2008-03-25 | 2009-09-30 | (주)타이닉스 | 유도결합형 플라즈마 에칭장치 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101853370B1 (ko) * | 2011-09-16 | 2018-04-30 | 세메스 주식회사 | 안테나 구조체 및 플라즈마 발생 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20110114118A (ko) | 2011-10-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101853370B1 (ko) | 안테나 구조체 및 플라즈마 발생 장치 | |
US8441772B2 (en) | Substrate for electrostatic chuck and electrostatic chuck | |
US9947511B2 (en) | Antenna for plasma generation and plasma processing device having the same | |
US10896838B2 (en) | Electrostatic chucks and substrate processing apparatus including the same | |
JP5747231B2 (ja) | プラズマ生成装置およびプラズマ処理装置 | |
JP5962833B2 (ja) | 静電チャック | |
US9117634B2 (en) | Antenna unit for generating plasma and substrate processing apparatus including the same | |
KR101160906B1 (ko) | 용량 결합 플라즈마 반응기 | |
TW201138560A (en) | Off-center ground return for RF-powered showerhead | |
US10553406B2 (en) | Plasma generating apparatus and substrate processing apparatus | |
US20070193515A1 (en) | Apparatus for generating remote plasma | |
JP2004537839A (ja) | 誘導結合型プラズマ発生装置のアンテナ構造 | |
KR20070033222A (ko) | 플라즈마 발생용 안테나 | |
WO2001019144A1 (fr) | Dispositif de traitement au plasma a electrode interieure et procede associe | |
KR100692420B1 (ko) | 유도결합형 플라즈마 발생장치의 안테나구조 | |
KR101125624B1 (ko) | 안테나 구조체 및 플라즈마 발생 장치 | |
KR101214361B1 (ko) | 플라즈마 발생장치 | |
CN102646569B (zh) | 等离子体处理装置 | |
KR101151416B1 (ko) | Rf 전력 분배 장치 및 rf 전력 분배 방법 | |
KR20100048590A (ko) | 플라즈마 처리장치 | |
KR101039232B1 (ko) | 고밀도 플라즈마 발생장치 | |
KR101017100B1 (ko) | 유도결합 플라즈마 안테나 | |
KR101104093B1 (ko) | 내부 안테나 및 플라즈마 발생장치 | |
CN103165374A (zh) | 一种等离子体处理装置及应用于等离子处理装置的边缘环 | |
TW201820463A (zh) | 電漿處理裝置及電漿處理裝置之控制方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
N231 | Notification of change of applicant | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150306 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160307 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170227 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180306 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190305 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200225 Year of fee payment: 9 |