KR101078313B1 - Tank for preserving a chemical solution and apparatus for supplying a chemical solution - Google Patents

Tank for preserving a chemical solution and apparatus for supplying a chemical solution Download PDF

Info

Publication number
KR101078313B1
KR101078313B1 KR1020090114175A KR20090114175A KR101078313B1 KR 101078313 B1 KR101078313 B1 KR 101078313B1 KR 1020090114175 A KR1020090114175 A KR 1020090114175A KR 20090114175 A KR20090114175 A KR 20090114175A KR 101078313 B1 KR101078313 B1 KR 101078313B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
chemical liquid
storage tank
space
side wall
outlet
Prior art date
Application number
KR1020090114175A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20110057682A (en
Inventor
강병철
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020090114175A priority Critical patent/KR101078313B1/en
Publication of KR20110057682A publication Critical patent/KR20110057682A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101078313B1 publication Critical patent/KR101078313B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/306Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching
    • H01L21/30604Chemical etching
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Weting (AREA)

Abstract

약액 저장 탱크는 바닥부, 측벽부 및 공간 축소부를 포함한다. 바닥부는 약액을 배출하기 위한 배출구를 갖는다. 측벽부는 바닥부의 가장자리로부터 연장되어, 내부에 약액이 채워지는 공간을 제공한다. 공간 축소부는 배출구 주위에서 일정 부피를 갖도록 바닥부에 형성되어 바닥부에서 약액이 채워지는 공간을 축소시킨다. 따라서, 안정적인 배출을 약액의 일정량을 감소시킬 수 있다. The chemical storage tank includes a bottom portion, a side wall portion and a space shrinkage portion. The bottom has an outlet for discharging the chemical liquid. The side wall portion extends from the edge of the bottom portion to provide a space in which the chemical liquid is filled. The space reduction portion is formed at the bottom to have a constant volume around the outlet so as to reduce the space where the chemical liquid is filled at the bottom. Therefore, stable discharge can reduce a certain amount of chemical liquid.

Description

약액 저장 탱크 및 이를 포함하는 약액 공급 장치{TANK FOR PRESERVING A CHEMICAL SOLUTION AND APPARATUS FOR SUPPLYING A CHEMICAL SOLUTION}Chemical liquid storage tank and chemical liquid supply apparatus including the same {TANK FOR PRESERVING A CHEMICAL SOLUTION AND APPARATUS FOR SUPPLYING A CHEMICAL SOLUTION}

본 발명은 약액 저장 탱크 및 이를 포함하는 약액 공급 장치에 관한 것으로써, 보다 상세하게는 기판을 처리하는데 사용되는 약액을 임시 보관하는 탱크 및 이를 포함하여 상기 약액을 상기 기판을 처리하기 위한 공정 챔버로 공급하는 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a chemical liquid storage tank and a chemical liquid supply device including the same, and more particularly, a tank for temporarily storing a chemical liquid used to process a substrate, and a chemical chamber including the same as a process chamber for processing the substrate. It relates to a device for supplying.

일반적으로, 평판표시장치는 액정을 이용하는 액정표시장치(LCD), 플라즈마를 이용하는 플라즈마 표시장치(PDP), 유기 발광 소자를 이용하는 유기 발광 표시장치(OLED) 등을 들 수 있다. In general, the flat panel display includes a liquid crystal display (LCD) using liquid crystal, a plasma display (PDP) using plasma, an organic light emitting display (OLED) using an organic light emitting element, and the like.

이와 같은 상기 평판표시장치는 실질적으로 영상을 표시하기 위한 표시 패널을 포함한다. 상기 표시 패널은 유리 재질의 기판을 기초로 하여 제조된다. Such a flat panel display includes a display panel for substantially displaying an image. The display panel is manufactured based on a glass substrate.

구체적으로, 상기 표시 패널은 상기 기판을 대상으로 하는 증착 공정, 식각 공정, 포토리소그래피 공정, 세정 공정, 검사 공정 등을 수행하여 제조된다. In detail, the display panel is manufactured by performing a deposition process, an etching process, a photolithography process, a cleaning process, an inspection process, and the like on the substrate.

상기와 같은 공정들 중 식각 공정 및 세정 공정은 공정 챔버 내에 상기 기판을 배치시킨 다음, 상기 공정 챔버에 해당 약액을 공급함으로써 수행될 수 있다. Among the above processes, the etching process and the cleaning process may be performed by disposing the substrate in the process chamber and then supplying the chemical liquid to the process chamber.

이때, 상기 약액은 상기 공정 챔버와 인접하게 설치된 저장 탱크에 임시 보관된 상태에서 공급 라인을 통하여 상기 공정 챔버로 공급될 수 있다. 구체적으로, 상기 저장 탱크의 바닥부에서 상기 공급 라인과 연결된 배출구로부터 상기 약액을 배출하면서 상기 공정 챔버에 공급할 수 있다. In this case, the chemical liquid may be supplied to the process chamber through a supply line while temporarily stored in a storage tank installed adjacent to the process chamber. Specifically, it may be supplied to the process chamber while discharging the chemical liquid from the outlet connected to the supply line at the bottom of the storage tank.

이럴 경우, 상기 저장 탱크에는 상기 약액이 출렁거림에 따른 공급 난조 현상과 배출 시 회오리 현상에 따른 에어의 유입을 방지하기 위하여 일정 수위를 유지하도록 채워질 필요성이 있다. In this case, the storage tank needs to be filled to maintain a constant water level in order to prevent the inflow of air due to the supply hunting due to the slump and the whirlwind during discharge.

즉, 상기 저장 챔버에 채워진 약액 중 상기 일정 수위 아래의 비교적 많은 량의 약액은 실질적으로 사용하지 못하는 경우가 발생될 수 있다. That is, a case where a relatively large amount of the chemical liquid below the predetermined level of the chemical liquid filled in the storage chamber may not be substantially used.

본 발명의 목적은 출렁거림에 따른 공급 난조 현상과 배출 시 회오리 현상에 따른 에어의 유입을 방지하기 위한 일정 수위를 비교적 적은 량으로 유지할 수 있는 약액 저장 탱크를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a chemical liquid storage tank that can maintain a constant level in a relatively small amount to prevent the inflow of air due to the supply hunting phenomenon and the whirlwind during discharge.

본 발명의 다른 목적은 상기한 약액 저장 탱크를 포함하는 약액 공급 장치를 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a chemical liquid supply apparatus including the chemical liquid storage tank described above.

상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 일 특징에 따른 약액 저장 탱크는 바닥부, 측벽부 및 공간 축소부를 포함한다.In order to achieve the above object of the present invention, a chemical storage tank according to one aspect includes a bottom portion, a side wall portion and a space shrinking portion.

상기 바닥부는 약액을 배출하기 위한 배출구를 갖는다. 상기 측벽부는 상기 바닥부의 가장자리로부터 연장되어, 내부에 상기 약액이 채워지는 공간을 제공한다. The bottom portion has a discharge port for discharging the chemical liquid. The side wall portion extends from an edge of the bottom portion to provide a space in which the chemical liquid is filled.

상기 공간 축소부는 상기 배출구 주위에서 일정 부피를 갖도록 상기 바닥부에 형성되어 상기 바닥부에서 상기 약액이 채워지는 공간을 축소시킨다.The space reduction part is formed in the bottom portion to have a predetermined volume around the discharge port to reduce the space in which the chemical liquid is filled in the bottom portion.

상기 공간 축소부는 상기 측벽부로부터 상기 배출구를 향하여 경사진 구조를 가질 수 있다. 이와 달리, 상기 공간 축소부는 상기 측벽부로부터 일정한 두께를 유지하다가 상기 배출구의 주위에서 단차진 구조를 가질 수 있다. The space reduction part may have a structure inclined toward the outlet from the side wall part. On the contrary, the space reduction part may have a stepped structure around the outlet while maintaining a constant thickness from the side wall part.

한편, 상기 약액 저장 탱크는 상기 약액의 최소 수위를 감지하기 위하여 상기 측벽부에 장착된 레벨 센서를 더 포함할 수 있다.On the other hand, the chemical storage tank may further include a level sensor mounted on the side wall to detect the minimum level of the chemical liquid.

이에, 상기 공간 축소부는 상기 바닥부로부터 상기 레벨 센서까지 형성될 수 있다. 또한, 상기 약액 저장 탱크는 상기 바닥부와 상기 레벨 센서 사이에서 상기 배출구의 상부에 위치하도록 상기 측벽부로부터 연장된 격막을 더 포함할 수 있다.Thus, the space reduction part may be formed from the bottom part to the level sensor. In addition, the chemical storage tank may further include a diaphragm extending from the side wall portion to be located above the outlet between the bottom portion and the level sensor.

상술한 본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여, 일 특징에 따른 약액 공급 장치는 저장 탱크, 공급 라인 및 펌프를 포함한다. In order to achieve the above object of the present invention, the chemical liquid supply apparatus according to one feature includes a storage tank, a supply line and a pump.

상기 저장 탱크는 기판을 처리하기 위한 약액을 저장한다. 상기 공급 라인은 상기 저장 탱크와 상기 기판을 대상으로 공정을 수행하는 공정 챔버를 연결한다. 상기 펌프는 상기 약액을 상기 저장 탱크로부터 상기 공정 챔버에 공급하기 위하여 상기 공급 라인에 설치된다.The storage tank stores the chemical liquid for processing the substrate. The supply line connects the storage tank and a process chamber to perform a process on the substrate. The pump is installed in the supply line to supply the chemical liquid from the storage tank to the process chamber.

이에, 상기 저장 탱크는 상기 공급 라인과 연결된 배출구를 갖는 바닥부, 상기 바닥부의 가장자리로부터 연장되어 내부에 상기 약액이 채워지는 공간을 제공하는 측벽부 및 상기 배출구 주위에서 일정 부피를 갖도록 상기 바닥부에 형성되어 상기 바닥부에서 상기 약액이 채워지는 공간을 축소시키는 공간 축소부를 포함할 수 있다. Thus, the storage tank has a bottom portion having an outlet connected to the supply line, a side wall portion extending from an edge of the bottom portion to provide a space in which the chemical liquid is filled, and the bottom portion having a predetermined volume around the outlet. It may include a space reduction portion is formed to reduce the space in which the chemical liquid is filled in the bottom portion.

이러한 약액 저장 탱크 및 이를 포함하는 약액 공급 장치에 따르면, 바닥부 및 상기 바닥부의 에지로부터 연장된 측벽부로 이루어져 내부에 약액이 채워지는 저장 탱크에서 그 바닥부에 일정 부피를 갖는 공간 축소부를 형성함으로써, 상기 저장 탱크에 상기 약액을 비교적 적은 량으로 채워도 배경 기술에서 설명하였던 일정 수위를 유지할 수 있다.According to such a chemical liquid storage tank and a chemical liquid supplying apparatus including the same, by forming a space shrinking portion having a predetermined volume at a bottom thereof in a storage tank filled with a chemical liquid therein, comprising a bottom portion and a side wall portion extending from an edge of the bottom portion, Even if the storage tank is filled with a relatively small amount of the chemical liquid, it is possible to maintain a constant level as described in the background art.

따라서, 상기 저장 탱크에 채워지는 약액의 사용하지 못하는 량을 최소화함으로써, 이에 소비되는 자재 비용을 절감할 수 있다. Therefore, by minimizing the unusable amount of the chemical liquid filled in the storage tank, it is possible to reduce the material cost consumed.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 탱크 및 이를 포함하는 약액 공급 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하부서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the chemical liquid storage tank and the chemical liquid supply apparatus including the same according to an embodiment of the present invention. As the inventive concept allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to the specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. Like reference numerals refer to like elements throughout the drawings. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are shown in an enlarged scale than actual for clarity of the invention.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprises", "having", and the like are used to specify that a feature, a number, a step, an operation, an element, a part or a combination thereof is described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여 기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.On the other hand, unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치를 개략적으로 나타낸 구성도이다.1 is a configuration diagram schematically showing a chemical liquid supply apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치(1000)는 저장 탱크(100), 공급 라인(200) 및 펌프(300)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the chemical liquid supply apparatus 1000 according to the exemplary embodiment includes a storage tank 100, a supply line 200, and a pump 300.

상기 저장 탱크(100)는 기판(G)을 처리하기 위한 약액(L)을 저장한다. 여기서, 상기 기판(G)은 일 예로, 액정을 이용하여 영상을 표시하는 액정표시장치(LCD)를 제조하는데 사용되는 유리 재질의 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor; TFT) 기판 또는 컬러 필터(Color Filter; CF) 기판일 수 있다. 이와 달리, 상기 기판(G)은 반도체 소자를 제조하는데 사용되는 반도체 기판(G)일 수 있다.The storage tank 100 stores the chemical liquid L for processing the substrate G. The substrate G may be, for example, a thin film transistor (TFT) substrate or a color filter made of a glass material used to manufacture a liquid crystal display (LCD) for displaying an image using liquid crystals; CF) substrate. Alternatively, the substrate G may be a semiconductor substrate G used to manufacture a semiconductor device.

또한, 상기 약액(L)은 상기 기판(G)을 대상으로 식각 공정 또는 세정 공정을 진행하고자 할 경우 황산(H2SO4), 염산(HCl), 불산(HF), 과산화 수소 용액(H2O2), 탈이온수(H2O) 등을 포함할 수 있다.In addition, the chemical liquid L may be sulfuric acid (H 2 SO 4), hydrochloric acid (HCl), hydrofluoric acid (HF), hydrogen peroxide solution (H 2 O 2), or deionized water when the etching process or the cleaning process is performed on the substrate (G). (H 2 O) and the like.

상기 저장 탱크(100)는 바닥부(110) 및 측벽부(120)를 포함한다. 상기 측벽부(120)는 상기 바닥부(110)의 가장자리로부터 연장되어 내부에 상기 약액(L)이 채 워지는 공간을 제공한다. 이에, 상기 바닥부(110)는 일측 부위에 상기 약액(L)을 외부로 배출하기 위한 배출구(112)를 갖는다.The storage tank 100 includes a bottom portion 110 and a side wall portion 120. The side wall part 120 extends from an edge of the bottom part 110 to provide a space in which the chemical liquid L is filled. Thus, the bottom 110 has a discharge port 112 for discharging the chemical liquid (L) to one side.

이에, 상기 저장 탱크(100)는 상기 측벽부(120)의 상부에 개방된 부위를 클로징하기 위한 커버부(130)를 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 커버부(130)는 상기 저장 탱크(100)의 내부에 상기 약액(L)을 채워주기 위한 공급 라인(200)를 가질 수 있다. 이와 달리, 상기 저장구(132)는 상기 측벽부(120)의 상단 부위에 형성될 수도 있다.Thus, the storage tank 100 may further include a cover portion 130 for closing a portion open to the upper side of the side wall portion 120. In this case, the cover part 130 may have a supply line 200 for filling the chemical liquid L in the storage tank 100. Alternatively, the reservoir 132 may be formed at the upper end portion of the side wall portion 120.

또한, 상기 저장 탱크(100)는 본 발명의 목적을 구현하기 위한 공간 축소부(140)를 더 포함한다. 상기 공간 축소부(140)는 상기 저장 탱크(100)의 바닥부(110)로부터 상기 약액(L)이 채워질 때 그 바닥부(110)에서 채워지는 공간을 축소시키기 위하여 상기 배출구(112)의 주위에서 일정 부피를 갖도록 상기 바닥부(110)에 형성된다.In addition, the storage tank 100 further includes a space reduction unit 140 for implementing the object of the present invention. The space shrinking unit 140 may surround the outlet 112 to reduce the space filled at the bottom 110 when the chemical liquid L is filled from the bottom 110 of the storage tank 100. In the bottom portion 110 is formed to have a predetermined volume.

따라서, 상기 저장 탱크(100)에 상기 약액(L)을 비교적 적은 량을 채워도 배경 기술에서 설명하였던 일정 수위를 유지할 수 있음에 따라, 상기 저장 탱크(100)에 채워지는 약액(L) 중 사용하지 못하는 량을 최소화할 수 있다. 즉, 상기 약액(L)의 사용량을 줄임으로써, 이에 소비되는 자재 비용을 절감할 수 있다. Therefore, even if the storage tank 100 is filled with a relatively small amount of the chemical liquid (L) can maintain a constant level as described in the background art, do not use among the chemical liquid (L) filled in the storage tank 100 You can minimize the amount you can't. That is, by reducing the amount of the chemical liquid (L), it is possible to reduce the material cost consumed therein.

구체적으로, 상기 공간 축소부(140)는 도 1에서와 같이, 상기 측벽부(120)로부터 상기 배출구(112)를 향하여 경사진 구조를 가질 수 있다. 이에, 상기 저장 탱크(100)에 채워진 약액(L)은 상기 공간 축소부(140)에 의해서 상기 배출구(112)로 가이드될 수 있다. In detail, as illustrated in FIG. 1, the space reduction part 140 may have a structure inclined toward the outlet 112 from the side wall part 120. Thus, the chemical liquid L filled in the storage tank 100 may be guided to the discharge port 112 by the space reducing unit 140.

이하, 도 2 및 도 3을 추가적으로 참조하여 상기 공간 축소부(140)의 다른 형상을 구체적으로 설명하고자 한다. Hereinafter, another shape of the space reduction part 140 will be described in detail with reference to FIGS. 2 and 3.

도 2 및 도 3은 도 1에 도시된 약액 공급 장치에서 저장 탱크의 공간 축소부의 다른 형상들을 나타낸 도면들이다. 2 and 3 are views showing other shapes of the space reduction part of the storage tank in the chemical liquid supply device shown in FIG.

도 2를 참조하면, 상기 공간 축소부(140)는 상기 측벽부(120)로부터 일정한 두께를 유지하다가 상기 배출구(112)의 주위에서 단차진 구조를 가질 수 있다. Referring to FIG. 2, the space reduction part 140 may have a stepped structure around the outlet 112 while maintaining a constant thickness from the side wall part 120.

이럴 경우, 상기 공간 축소부(140)의 구조가 단순하여 제작이 용이할 뿐만 아니라, 공간을 도 1에서보다 더 많이 축소할 수 있다는 장점을 가질 수 있다. In this case, the structure of the space reduction unit 140 is simple and not only easy to manufacture, but also has the advantage that the space can be reduced more than in FIG.

도 3을 참조하면, 상기 공간 축소부(140)는 도 1의 구조와 도 2의 구조를 적절하게 혼합한 구조를 가질 수 있다. Referring to FIG. 3, the space reduction unit 140 may have a structure in which the structure of FIG. 1 and the structure of FIG. 2 are appropriately mixed.

구체적으로, 상기 공간 축소부(140)는 상기 측벽부(120)로부터는 도 1의 구조에서와 같이 상기 배출구(112)를 향하여 경사진 구조를 가지다가 상기 배출구(112)의 주위에서는 도 2의 구조에서와 같이 단차진 구조를 가질 수 있다. Specifically, the space reduction part 140 has a structure inclined toward the outlet 112 as in the structure of FIG. 1 from the side wall portion 120, but the space around the outlet 112 of FIG. It may have a stepped structure as in the structure.

이때, 상기 공간 축소부(140)는 경사진 구조의 기울기를 단차진 구조로 인하여 도 1보다 완만하게 형성할 수 있다. 이로써, 상기 공간 축소부(140)는 상기 약액(L)을 상기 배출구(112)로 가이드할 수 있을 뿐만 아니라, 비교적 많은 공간도 축소할 수 있다. In this case, the space reduction unit 140 may form a slope of the inclined structure more gently than in FIG. 1 due to the stepped structure. As a result, the space reduction unit 140 may not only guide the chemical liquid L to the outlet 112, but also reduce a relatively large space.

또한, 상기 저장 탱크(100)는 상기 약액(L)이 출렁거림에 따른 공급 난조 현상과 상기 배출구(112)에서 배출 시 회오리 현상에 따른 에어의 유입을 방지하기 위한 최소한의 수위를 감지하는 레벨 센서(150)를 더 포함한다. In addition, the storage tank 100 is a level sensor for detecting a minimum level to prevent the inflow of air due to the whirlpool phenomenon when the supply of the chemical liquid (L) and the discharge from the discharge port 112 It further includes 150.

상기 레벨 센서(150)는 상기 측벽부(120)에서 상기 최소한의 수위에 해당하는 위치에 장착될 수 있다. 이러한 레벨 센서(150)는 상기 약액(L)과의 접촉을 감지하는 센서를 포함할 수 있다. 이와 달리, 상기 레벨 센서(150)는 상기 커버부(130)로부터 상기 최소한 수위에 해당하는 저장 챔버의 내부로 연장되어 부레를 통해 상기 약액(L)의 수위를 감지하는 센서를 포함할 수 있다. The level sensor 150 may be mounted at a position corresponding to the minimum level in the side wall part 120. The level sensor 150 may include a sensor for detecting contact with the chemical liquid (L). In contrast, the level sensor 150 may include a sensor extending from the cover part 130 to the inside of the storage chamber corresponding to the minimum level to sense the level of the chemical liquid L through the brewer.

이에, 상기 공간 축소부(140)는 상기 최소한 수위에서 상기 약액(L)의 상면이 갖는 면적을 그대로 유지하기 위하여 상기 바닥부(110)로부터 상기 레벨 센서(150)까지 형성될 수 있다. Thus, the space reduction part 140 may be formed from the bottom part 110 to the level sensor 150 to maintain the area of the upper surface of the chemical liquid L at the minimum level.

또한, 상기 저장 탱크(100)는 상기 배출구(112)의 상부에 위치하도록 상기 배출구(112)와 인접한 측벽부(120)로부터 연장된 격막(160)을 더 포함할 수 있다. In addition, the storage tank 100 may further include a diaphragm 160 extending from the side wall portion 120 adjacent to the outlet 112 so as to be located above the outlet 112.

이에, 상기 저장 탱크(100)에 채워진 약액(L)을 상기 배출구(112)를 통해 배출시키고자 할 경우, 상기 약액(L)은 상기 격막(160)에 의해 그 흐름이 일부 저지되어 상기 배출구(112)에서 발생될 수 있는 회오리 현상을 보다 확실하게 방지할 수 있다. Thus, when the chemical liquid L filled in the storage tank 100 is to be discharged through the outlet 112, the chemical liquid L is partially blocked by the diaphragm 160 and thus the outlet ( It is possible to more reliably prevent the tornado phenomenon that may occur at 112).

이때, 상기 격막(160)은 상기 회오리 현상의 방지를 위해 상기 바닥부(110)와 상기 레벨 센서(150) 사이에 형성할 수 있다. 또한, 상기 격막(160)은 상기 배출구(112)의 직경에 따라 상기 회오리 현상이 발생될 수 있는 위치가 변경됨에 따라, 그 배치되는 위치에 달라질 수 있다. In this case, the diaphragm 160 may be formed between the bottom part 110 and the level sensor 150 to prevent the tornado phenomenon. In addition, the diaphragm 160 may be changed in the position where the tornado phenomenon occurs according to the diameter of the outlet 112 is changed.

구체적으로, 상기 격막(160)은 상기 배출구(112)의 직경이 작으면 상기 배출구(112)와 인접하게 배치시키고, 상기 배출구(112)의 직경이 크면 상기 배출 구(112)로부터 멀어지게 배치시킬 수 있다. Specifically, the diaphragm 160 is disposed to be adjacent to the outlet 112 when the diameter of the outlet 112 is small, and to be disposed away from the outlet 112 when the diameter of the outlet 112 is large. Can be.

상기 공급 라인(200)은 일단이 상기 저장 챔버 바닥부(110)의 배출구(112)에 연결된다. 또한, 상기 공급 라인(200)은 타단이 상기 기판(G)을 대상으로 상기 식각 공정 또는 세정 공정을 진행하기 위한 공정 챔버(10)의 상부에 연결된다. 구체적으로, 상기 공급 라인(200)은 상기 공정 챔버(10)의 내부에서 실질적으로 상기 기판(G)에 상기 약액(L)을 분사하는 약액 분사부(12)와 연결될 수 있다. One end of the supply line 200 is connected to the outlet 112 of the storage chamber bottom 110. In addition, the other end of the supply line 200 is connected to an upper portion of the process chamber 10 for performing the etching process or the cleaning process on the substrate G. In detail, the supply line 200 may be connected to the chemical liquid injector 12 that substantially injects the chemical liquid L to the substrate G in the process chamber 10.

상기 펌프(300)는 상기 공급 라인(200)에 설치된다. 상기 펌프(300)는 압력작용을 이용하여 상기 배출구(112)로부터 배출되는 약액(L)을 상기 공정 챔버(10)의 약액 분사부(12)로 공급할 수 있다. The pump 300 is installed in the supply line 200. The pump 300 may supply the chemical liquid L discharged from the outlet 112 to the chemical liquid injection unit 12 of the process chamber 10 by using a pressure action.

이때, 상기 펌프(300)를 기준으로 상기 공급 라인(200)의 상기 배출구(112)와 인접한 부위 및 상기 약액 분사부(12)와 인접한 부위 각각에는 상기 약액(L)의 흐름을 제어하기 위한 제1 및 제2 밸브(400, 500)들 각각이 설치될 수 있다. At this time, each of the portions adjacent to the outlet 112 of the supply line 200 and the portions adjacent to the chemical injection part 12 on the basis of the pump 300 for controlling the flow of the chemical liquid (L) Each of the first and second valves 400 and 500 may be installed.

여기서, 상기 제1 밸브(400)는 외부의 폐기 장소와 연결된 폐수 라인(600)과 병렬로 연결되어 상기 배출구(112)로부터 배출되는 약액(L) 중 더 이상 재사용이 불가능한 것에 한하여 상기 폐수 라인(600)으로 흐르도록 조절될 수 있다.Here, the first valve 400 is connected in parallel with the waste water line 600 connected to the external waste place in parallel with the waste water line (so long as it is impossible to reuse any more of the chemical liquid L discharged from the outlet 112). 600).

또한, 상기 공급 라인(200)에는 상기 약액(L)이 상기 약액 분사부(12)에 공급될 때 상기 기판(G)의 처리를 원활하게 하기 위하여 상기 약액(L)을 가열하기 위한 공급 히터(미도시)가 설치될 수 있다. In addition, the supply line 200 has a supply heater for heating the chemical liquid (L) to facilitate the processing of the substrate (G) when the chemical liquid (L) is supplied to the chemical liquid injection unit 12 ( Not shown) may be installed.

한편, 상기 저장 탱크(100)의 바닥부(110)와 커버부(130) 사이에는 상기 저장 탱크(100)의 내부의 약액(L)을 순환시키기 위한 순환 라인(미도시)이 연결될 수 있다. 이때, 상기 순환 라인에는 상기 약액(L)을 예열시키기 위한 순환 히터(미도시)가 설치될 수 있다. Meanwhile, a circulation line (not shown) for circulating the chemical liquid L inside the storage tank 100 may be connected between the bottom 110 and the cover 130 of the storage tank 100. In this case, a circulation heater (not shown) for preheating the chemical liquid L may be installed in the circulation line.

또한, 상기 공정 챔버(10)의 하부와 상기 저장 탱크(100)의 저장구(132) 사이에는 저장 라인(700)이 연결될 수 있다. 상기 저장 라인(700)은 상기 공정 챔버(10)로부터 상기 기판(G)을 처리한데 사용된 약액(L)을 상기 저장 챔버로 재사용 또는 폐기를 위하여 공급하여 저장시킬 수 있다. In addition, a storage line 700 may be connected between the lower portion of the process chamber 10 and the storage port 132 of the storage tank 100. The storage line 700 may supply and store the chemical liquid L used to process the substrate G from the process chamber 10 to the storage chamber for reuse or disposal.

이때, 상기 저장 라인(700)에는 제3 밸브(800)가 설치된다. 이때, 상기 제3 밸브(800)에는 급수 라인(900)이 병렬로 연결될 수 있다. 이에, 상기 제3 밸브(800)는 상기 저장 탱크(100)에 폐기 등의 이유로 약액(L)의 량이 상기 레벨 센서(150)에 의해 감지되지 않을 경우, 상기 급수 라인(900)을 통해 상기 약액(L)이 상기 저장 탱크(100)에 공급되도록 조절될 수 있다. In this case, a third valve 800 is installed in the storage line 700. In this case, a water supply line 900 may be connected to the third valve 800 in parallel. Thus, when the amount of the chemical liquid L is not detected by the level sensor 150 due to the disposal of the third valve 800 in the storage tank 100, the chemical liquid is supplied through the water supply line 900. L may be adjusted to be supplied to the storage tank 100.

앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical and exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

상술한 본 발명은 내부의 바닥부에 형성된 공간 축소부를 통해서 그 내부에 약액이 비교적 적은 량으로 최소한의 수위를 유지하도록 함으로써, 사용하지 못하는 약액의 량을 최소화시킬 수 있는 약액 저장 탱크에 이용될 수 있다. The present invention described above can be used in a chemical storage tank that can minimize the amount of chemicals that can not be used by maintaining a minimum level of the chemicals in the relatively small amount through the space reduction portion formed in the bottom of the interior have.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치를 개략적으로 나타낸 구성도이다.1 is a configuration diagram schematically showing a chemical liquid supply apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2 및 도 3은 도 1에 도시된 약액 공급 장치에서 저장 탱크의 공간 축소부의 다른 형상들을 나타낸 도면들이다. 2 and 3 are views showing other shapes of the space reduction part of the storage tank in the chemical liquid supply device shown in FIG.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

G : 기판 L : 약액G: Substrate L: Chemical

10 : 공정 챔버 100 : 저장 탱크10 process chamber 100 storage tank

110 : 바닥부 112 : 배출구110: bottom 112: outlet

120 : 측벽부 130 : 커버부120 side wall portion 130 cover portion

140 : 공간 축소부 150 : 레벨 센서140: space reduction unit 150: level sensor

160 : 격막 200 : 공급 라인160: diaphragm 200: supply line

300 : 펌프 1000 : 약액 공급 장치300: pump 1000: chemical supply device

Claims (6)

약액을 배출하기 위한 배출구를 갖는 바닥부;A bottom portion having a discharge port for discharging the chemical liquid; 상기 바닥부의 가장자리로부터 연장되어, 내부에 상기 약액이 채워지는 공간을 제공하는 측벽부;A side wall portion extending from an edge of the bottom portion to provide a space in which the chemical liquid is filled; 상기 배출구 주위에서 일정 부피를 갖도록 상기 바닥부에 형성되어, 상기 바닥부에서 상기 약액이 채워지는 공간을 축소시키는 공간 축소부;A space reduction part formed in the bottom part to have a predetermined volume around the outlet, and reduce a space in which the chemical liquid is filled in the bottom part; 상기 약액의 최소 수위를 감지하기 위하여 상기 측벽부에 장착된 레벨 센서; 및A level sensor mounted to the side wall to detect the minimum level of the chemical liquid; And 상기 바닥부와 상기 레벨 센서 사이에서 상기 배출구의 상부에 위치하도록 상기 측벽부로부터 연장된 격막을 포함하는 약액 저장 탱크.And a diaphragm extending from said side wall portion so as to be located above said outlet between said bottom portion and said level sensor. 제1항에 있어서, 상기 공간 축소부는 상기 측벽부로부터 상기 배출구를 향하여 경사진 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 약액 저장 탱크.The chemical storage tank of claim 1, wherein the space contracting portion has a structure inclined from the side wall portion toward the outlet. 제1항에 있어서, 상기 공간 축소부는 상기 측벽부로부터 일정한 두께를 유지하다가 상기 배출구의 주위에서 단차진 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 약액 저장 탱크. The chemical storage tank of claim 1, wherein the space reducing part maintains a constant thickness from the side wall part and has a stepped structure around the outlet. 제1항에 있어서, 상기 공간 축소부는 상기 바닥부로부터 상기 레벨 센서까지 형성되는 것을 특징으로 하는 약액 저장 탱크.The chemical storage tank of claim 1, wherein the space reducing part is formed from the bottom part to the level sensor. 삭제delete 기판을 처리하기 위한 약액을 저장하는 저장 탱크;A storage tank for storing the chemical liquid for processing the substrate; 상기 저장 탱크와 상기 기판을 대상으로 공정을 수행하는 공정 챔버를 연결하는 공급 라인; 및A supply line connecting the storage tank and a process chamber to perform a process on the substrate; And 상기 약액을 상기 저장 탱크로부터 상기 공정 챔버에 공급하기 위하여 상기 공급 라인에 설치된 펌프를 포함하며, A pump installed in the supply line for supplying the chemical liquid from the storage tank to the process chamber, 상기 저장 탱크는 The storage tank 상기 공급 라인과 연결된 배출구를 갖는 바닥부;A bottom having an outlet connected to the supply line; 상기 바닥부의 가장자리로부터 연장되어, 내부에 상기 약액이 채워지는 공간을 제공하는 측벽부;A side wall portion extending from an edge of the bottom portion to provide a space in which the chemical liquid is filled; 상기 배출구 주위에서 일정 부피를 갖도록 상기 바닥부에 형성되어, 상기 바닥부에서 상기 약액이 채워지는 공간을 축소시키는 공간 축소부;A space reduction part formed in the bottom part to have a predetermined volume around the outlet, and reduce a space in which the chemical liquid is filled in the bottom part; 상기 약액의 최소 수위를 감지하기 위하여 상기 측벽부에 장착된 레벨 센서; 및A level sensor mounted to the side wall to detect the minimum level of the chemical liquid; And 상기 바닥부와 상기 레벨 센서 사이에서 상기 배출구의 상부와 위치하도록 상기 측벽부로부터 연장된 격막을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.And a diaphragm extending from the side wall portion so as to be positioned between the bottom portion and the level sensor and the top of the discharge port.
KR1020090114175A 2009-11-24 2009-11-24 Tank for preserving a chemical solution and apparatus for supplying a chemical solution KR101078313B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090114175A KR101078313B1 (en) 2009-11-24 2009-11-24 Tank for preserving a chemical solution and apparatus for supplying a chemical solution

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090114175A KR101078313B1 (en) 2009-11-24 2009-11-24 Tank for preserving a chemical solution and apparatus for supplying a chemical solution

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110057682A KR20110057682A (en) 2011-06-01
KR101078313B1 true KR101078313B1 (en) 2011-10-31

Family

ID=44393263

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090114175A KR101078313B1 (en) 2009-11-24 2009-11-24 Tank for preserving a chemical solution and apparatus for supplying a chemical solution

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101078313B1 (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100788906B1 (en) * 2006-07-24 2007-12-27 세메스 주식회사 Method for supplying treating liquid

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100788906B1 (en) * 2006-07-24 2007-12-27 세메스 주식회사 Method for supplying treating liquid

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110057682A (en) 2011-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101750647B1 (en) Liquid supply device and substrate processing device
CN108511320B (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
KR101078313B1 (en) Tank for preserving a chemical solution and apparatus for supplying a chemical solution
KR100708314B1 (en) Unit and method for treating a nozzle, and apparatus for treating a substrate with the unit
JP2013252500A (en) Steam cleaning method of object to be cleaned, and its device
KR100934364B1 (en) Chemical supply
KR101100274B1 (en) Apparatus for and Method of supplying chemical
KR100956557B1 (en) Apparatus of supplying chemical liquid
JP2006278466A (en) Substrate treatment apparatus
CN101622696A (en) Substrate cleaning apparatus
KR102378983B1 (en) Apparatus and Method for supplying chemical
KR101456458B1 (en) Improved Apparatus and Method of Supplying HMDS, and Improved Apparatus and Method of Suplying Chemical Liquid
KR20110068389A (en) Apparatus for supplying chemical
KR20100046902A (en) Apparatus for preserving a chemical solution
KR20100060902A (en) Method and apparatus for supplying treating liquid
KR20100124448A (en) Apparatus of supplying chemical liquid
KR200492620Y1 (en) Apparatus of inputting supplementary liquid for battery of forklift
WO2023162341A1 (en) Substrate processing method and substrate processing apparatus
KR101390808B1 (en) Solution supplying apparatus
KR101037182B1 (en) An Apparatus for Handling Requid in System for Manufacturing Substrate and Method Thereof
JP2011098302A (en) Ink jet unit
JP2009054650A (en) Substrate cleaning apparatus and replenishing liquid supplying apparatus therefor
KR101478229B1 (en) Reservoir for super critical fluid
KR20100030101A (en) Draining apparatus
JP2016108025A (en) Liquid chemical storage tank and liquid chemical replenishment method for liquid chemical storage tank

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141007

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160929

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170927

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181001

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191002

Year of fee payment: 9