KR101077998B1 - 건축물 외벽 무수 광세척 방법 - Google Patents

건축물 외벽 무수 광세척 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 건축물 외벽 무수 광세척 방법에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 두드림 회전체, 상기 두드림 회전체의 바닥면에 부착되고 중앙에 이물질 흡입을 위한 통공을 가진 스펀지, 상기 두드림 회전체의 측면에 일측단이 삽입설치됨으로써 건축물 외벽에 대한 광세척시 모이는 이물질을 포집하기 위한 집진포로 구성되며, 건축물 외벽에 대한 광세척시 상기 스펀지의 바닥면이 건축물 외벽에 접촉하여 두드림과 회전력을 동시에 구현할 수 있는 무수 광세척 장치와 광세척 조성물을 구비하는 단계; 상기 무수 광세척 장치의 스펀지 바닥면에 상기 광세척 조성물을 묻히는 단계; 광세척 하고자 하는 건축물 외벽부위에 상기 광세척 조성물을 묻히는 단계; 상기 스펀지 바닥면에 광세척 조성물이 묻은 무수 광세척 장치를 가동 후 건축물 외벽에서 이동시켜 상기 광세척 조성물이 묻은 건축물 외벽부위에 상기 스펀지 바닥면이 건축물 외벽을 두드리면서 회전하도록 하여 광세척 하는 단계; 및 상기 광세척 후 광세척과 관련한 건축물 외벽의 자국을 제거하는 단계를 포함하는 건축물 외벽 무수 광세척 방법에 관한 것이다.
상술한 본 발명은, 세척 및 광택작업을 하나의 작업으로 동시에 할 수 있고, 물이 사용되지 않아 환경오염의 우려가 없는 바 폐수처리장치를 따로 둘 필요가 없으며, 작업의 신속성 및 용이성이 뛰어나면서도 건축물 외벽의 찌든 때 등 이물질을 깔끔하게 제거할 수 있고, 인건비가 절감되며 특히, 부드러운 재질로 된 건축물 외벽인 경우 세척 및 광택작업을 하나의 작업으로 동시에 하여도 이물질에 의해 건 축물 외벽이 손상되지 않는 등 그 장점이 현저하다.
세척, 광택, 건축물 외벽, 무수, 이물질

Description

건축물 외벽 무수 광세척 방법{Washing ＆ Polishing Method for Building Outer Wall}
본 발명은 건축물 외벽 무수(無水) 광세척 방법에 관한 것이다.
본 발명에 있어 '광세척'라 함은 건축물 외벽의 세척과 광택작업을 동시에 하는 것을 말한다.
본 발명에 있어 '무수 광세척'라 함은 본 발명에 따른 광세척의 주공정 상 근본적으로 물이 사용되지 않음을 말하는 것으로서, 본 발명과 관련된 모든 실시예에 대해 물이 전혀 사용되지 않음을 의미하는 것은 아니다.
본 발명에 있어 '광세척 조성물'이라 함은 광택제 및 세정제를 함유하는 액상의 혼합물로서 그 안에 유분(油分)을 포함하여 상호 접촉시 슬립(slip)현상을 일으킬 수 있는 것을 말한다.
일반적으로 건축물 외벽을 청소하는 작업은 고도의 훈련을 받고 전문적인 경험이 있는 작업자가 요구되므로 과도한 인건비가 지출되고, 작업이 오래 걸리는 폐단이 있었다.
이러한 문제점 해소를 위해 건축물의 외벽에서 작업자가 로우프에 의지하여 건축물을 청소하는 위험한 작업으로부터 인명을 보호하고, 인건비의 과다한 지출을 방지할 수 있도록 한 무인(無人) 자동세척장치에 관한 기술이 공개되어 있다(등록번호 10-0199566, 발명의 명칭; 건축물 외벽의 무인 자동세척장치). 또한, 시간과 인건비를 절약할 수 있고, 건축물의 평평한 유리창이나 벽면뿐만 아니라 건축물의 외벽에 붙어 있는 간판 등 돌출된 부분도 용이하게 세척할 수 있으며, 안전성을 확보한 건축물외벽 청소기에 관한 기술도 공개되어 있다(등록번호 20-0349753, 고안의 명칭; 건축물외벽 청소기). 그러나, 이 경우 광택작업은 세척작업과는 별도로 실시되어야하며, 일단 대기의 먼지나 자동차의 매연 등 각종 대기오염 물질에 의해 생긴 건축물 외벽의 찌든 때를 제거하기 위해 세척수를 뿌린 뒤 세정액을 묻혀서 세척작업을 한 후 물기를 제거하는 단계를 거치는바 환경오염의 우려가 있어 따로 폐수처리장치를 구비해야만 했었다. 또한, 건축물 외벽의 이물질을 치워내는 선행공정 없이 바로 세척 및 광택작업을 진행하는 경우 건축물 외벽의 재질에 따라 이물질에 의해 건축물 외벽이 손상되는 문제점이 존재하였다.
따라서, 물 없이도 건축물 외벽의 세척과 광택작업을 동시에 할 수 있고, 작업시간이 짧으면서도 작업이 용이하며, 인건비를 절감할 수 있고, 작업이 깔끔하게 이루어지면서도 작업시 건축물 외벽을 손상시키지 않는 즉, 종래기술의 문제점을 동시에 해결할 수 있는 건축물 외벽의 세척 및 광택방법 개발이 요구되고 있었다
따라서, 본 발명의 목적은 상술한 종래기술의 문제점을 동시에 해결하기 위 한 것으로서 구성요소로 두드림 및 회전작용을 동시에 수행하는 무수 광세척 장치를 채택함과 더불어 유분을 함유한 광세척 조성물이 서로 접촉할 때 일어나는 슬립현상을 이용한 건축물 외벽 무수 광세척 방법을 제공하는 데 있다.
본 발명에 따른 건축물 외벽 무수 광세척 방법은 두드림 회전체, 상기 두드림 회전체의 바닥면에 부착되고 중앙에 이물질 흡입을 위한 통공을 가진 스펀지, 상기 두드림 회전체의 측면에 일측단이 삽입설치됨으로써 건축물 외벽에 대한 광세척시 모이는 이물질을 포집하기 위한 집진포로 구성되며, 건축물 외벽에 대한 광세척시 상기 스펀지의 바닥면이 건축물 외벽에 접촉하여 두드림과 회전력을 동시에 구현할 수 있는 무수 광세척 장치와 광세척 조성물을 구비하는 단계; 상기 무수 광세척 장치의 스펀지 바닥면에 상기 광세척 조성물을 묻히는 단계; 광세척 하고자 하는 건축물 외벽부위에 상기 광세척 조성물을 묻히는 단계; 상기 스펀지 바닥면에 광세척 조성물이 묻은 무수 광세척 장치를 가동 후 건축물 외벽에서 이동시켜 상기 광세척 조성물이 묻은 건축물 외벽부위에 상기 스펀지 바닥면이 건축물 외벽을 두드리면서 회전하도록 하여 광세척 하는 단계; 및 상기 광세척 후 광세척과 관련한 건축물 외벽의 자국을 제거하는 단계를 포함하는 것이다.
또한, 상기 무수 광세척 장치는 모터에 의한 진동에 의해 광세척 작업의 구동력을 제공하는 진동장치, 상기 진동장치 하측에 설치되고, 내측에 이물질이 유입되는 공간부를 가지며, 하측에 상기 공간부와 통하는 다수의 통공이 형성되어 있으며, 상기 공간부의 내측으로 건축물 외벽에 대한 광세척시 모이는 이물질을 포집하 기 위한 집진포의 일측단이 삽입설치된 진동부재, 상기 진동부재의 바닥면에 부착되고 상기 진동부재 하측의 통공과 연결된 다수의 통공을 가진 완충패드, 상기 완충패드의 바닥면에 부착되고 상기 완충패드의 통공과 연결된 다수의 이물질흡입용 통공을 가진 스펀지를 포함하는 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 무수 광세척 장치의 완충패드 바닥면과 스펀지는 벨크로에 의해 분리 가능하도록 부착되는 것일 수 있다. 또한, 상기 무수 광세척 장치는 동작시 상기 완충패드의 바닥면이 작은 원을 그리며 오비탈 형식으로 움직이는 것일 수 있다.
그리고, 상기 광세척 조성물을 묻히는 단계는 스펀지의 바닥면에는 0.5 내지 1.5㎖의 광세척 조성물을 최초에 한번 만 분사하고, 광세척 하고자 하는 건축물 외벽부위에는 건축물 외벽 2000 내지 3000㎠ 면적당 0.5 내지 1.5㎖의 광세척 조성물을 한번 씩 분사하여 수행하는 것일 수 있다.
아울러, 상기 광세척 하는 단계는 무수 광세척 장치를 건축물 외벽에서 초당 30 내지 70cm의 속도로 이동시키며 광세척 하는 것일 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 건축물 외벽 무수 광세척 방법은 윗면에 로우프가 장착된 케이싱부, 상기 케이싱부의 전면 상부에 장착된 자국제거부, 상기 자국제거부의 하부에 바닥면이 전면을 향하도록 설치되고 모터에 의해 구동되는 두드림 회전체, 상기 두드림 회전체의 바닥면에 부착되고 중앙에 이물질 흡입을 위한 통공을 가진 스펀지, 상기 두드림 회전체의 측면에 일측단이 삽입설치된 집진포, 상기 두드림 회전체의 하부에 설치되고 저장탱크로부터 펌프에 의해 건축물 외벽에 광세척 조성물을 분사하는 공급부를 포함하는 무수 광세척 장치와 상기 저장탱크 내에 광 세척 조성물을 구비하는 단계; 상기 스펀지의 바닥면에 상기 광세척 조성물을 묻히는 단계; 광세척 하고자 하는 건축물 외벽부위에 상기 공급부를 통해 상기 광세척 조성물을 분사하는 단계; 상기 두드림 회전체를 가동 후 건축물의 옥상에 장착된 모터를 작동시켜 상기 로우프에 매달린 케이싱부가 건축물의 외벽을 따라 중력작용 방향으로 하강 이동하면서 상기 광세척 조성물이 분사된 건축물 외벽부위에 상기 스펀지 바닥면이 건축물 외벽을 두드리면서 회전하도록 하여 광세척 하는 단계; 및 상기 광세척 후 광세척과 관련한 건축물 외벽의 자국을 상기 자국제거부에 의해 제거하는 단계를 포함하는 것일 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 건축물 외벽 무수 광세척 방법은 두드림 회전체, 상기 두드림 회전체의 바닥면에 부착되고 중앙에 이물질 흡입을 위한 통공을 가진 스펀지, 상기 두드림 회전체의 측면에 일측단이 삽입설치됨으로써 건축물 외벽에 대한 광세척시 모이는 이물질을 포집하기 위한 집진포로 구성되며, 건축물 외벽에 대한 광세척시 상기 스펀지의 바닥면이 건축물 외벽에 접촉하여 두드림과 회전력을 동시에 구현할 수 있는 무수 광세척 장치와 광세척 조성물을 구비하는 단계; 상기 무수 광세척 장치의 스펀지 바닥면 또는 광세척 하고자 하는 건축물 외벽부위에 광세척 조성물을 묻히는 단계; 및 상기 무수 광세척 장치를 가동 후 건축물 외벽에서 이동시켜 건축물 외벽부위에 상기 스펀지 바닥면이 건축물 외벽을 두드리면서 회전하도록 하여 광세척 하는 단계를 포함하는 것일 수 있다.
그리고, 상기 광세척 조성물은 광택제 60 내지 80 중량%, 코팅제 12 내지 28 중량%, 세정제 4 내지 6 중량%, 산 제제 2 내지 3 중량%, 정제수 2 내지 3 중량%를 함유하는 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 광세척 조성물은 수용성 왁스 60 내지 80 중량%, 폴리머 실란트 12 내지 28 중량%, 계면활성제 4 내지 6 중량%, 산 제제 2 내지 3 중량%, 정제수 2 내지 3 중량 %를 함유하는 것일 수 있다.
아울러, 상기 광세척 조성물은 25℃에서의 점도가 2 내지 4 cP인 것이거나 작업시 건축물 외벽과의 마찰계수를 0.3 이하로 유지하도록 하는 것일 수 있다.
더불어, 상기 스펀지는 밀도가 0.1 내지 0.5g/㎤인 것이거나 두께가 5 내지 10cm인 것일 수 있으며, 상기 스펀지의 형상은 원형인 것이거나 그 표면이 엠보싱 형상으로 이루어진 것일 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면 세정기능과 광택기능을 갖는 광세척 조성물을 이용함으로써, 건축물 외벽의 세척 및 광택작업을 하나의 작업으로 동시에 할 수 있는 장점이 있다.
또한, 물이 사용되지 않아 폐수처리장치를 둘 필요가 없고 환경오염의 우려가 없는 이점이 있다.
그리고, 구성요소로서 진동에 의한 두드림 및 회전작용을 동시에 수행하는 무수 광세척 장치를 채택함으로써, 짧은 시간에 쉽게 건축물 외벽의 찌든 때 등 이물질을 깔끔하게 제거할 수 있으며 인건비가 절감되는 장점이 있다.
아울러, 광세척용 부재인 스펀지뿐만 아니라 건축물 외벽에도 광세척 조성물을 묻히는 방법으로 작업을 하게 되는데, 이때 일어나는 슬립현상과 전술한 무수 광세척 장치의 두드림 및 회전작용에 의해 세척 및 광택작업을 하나의 작업으로 동 시에 수행하여도 부드러운 재질의 건축물 외벽이 손상되지 않는다는 이점이 있다.
즉, 세척 및 광택작업의 일원화, 환경오염 방지를 위한 폐수처리장치 불필요, 작업의 신속성 및 용이성, 작업의 충실성, 인건비 절감, 건축물 외벽의 손상 방지라는 목적을 동시에 달성하는 효과를 제공한다.
이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다.
그러면, 본 발명의 실시예에 따른 건축물 외벽 무수 광세척 방법을 살펴본다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 건축물 외벽 무수 광세척 방법을 나타내는 공정도이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 건축물 외벽 무수 광세척 방법과 관련된 무수 광세척 장치 및 슬립현상을 나타내는 개략도이며, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 사용되는 무수 광세척 장치를 나타내는 단면도이고, 도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 사용되는 무수 광세척 장치를 나타내는 단면도이다.
도 1을 참고하면 본 발명의 실시예에 따른 건축물 외벽 무수 광세척 방법은 장치 및 조성물 구비 단계(S1), 스펀지에의 조성물 적용 단계(S2), 건축물 외벽에의 조성물 적용 단계(S3), 광세척 단계(S4), 그리고 자국 제거 단계(S5)를 포함한다.
먼저, 상기 장치 및 조성물 구비 단계(S1)는 본 발명인 건축물 외벽 무수 광 세척 방법에 사용될 무수 광세척 장치(100)와 광세척 조성물(200)을 구비하는 단계이다.
도 2를 참고하면 상기 무수 광세척 장치(100)는 두드림 회전체(100a), 스펀지(140) 및 집진포(150)를 포함한다.
본 발명에 있어 '두드림 회전체(100a)'란 두드림과 회전력을 동시에 구현할 수 있는 기구를 말한다. 즉, 작업 대상물의 표면을 진동에 의해 두드리는 작용과 함께 바닥면에 부착된 작업용 부재가 상기 작업 대상물의 표면과 접촉 후 회전하면서 가공할 수 있는 제반기구를 말한다. 연마기, 마사지기, 회전진동 용착기 등이 이에 해당되며 특히, 각종 가공물의 표면을 연마하거나 가공물 표면의 이물질을 제거하는데 사용되는 기구인 샌더기(sander)가 대표적인 예이다(공개번호 특1996-0040560, 발명의 명칭; 샌더 등). 즉, 공구업계에서 통상적으로 유통되고 있는 집진포가 설치된 샌더기를 구비하여 그 바닥면에 부착되어 있는 사포 등의 마찰부재를 제거한 후 본 발명에 의한 스펀지(140)를 대신 부착하여 사용할 수 있다.
스펀지(140)는 상기 두드림 회전체(100a)의 바닥면에 부착되어 상기 무수 광세척 장치(100)를 구성하며, 건축물 외벽(300)에 대한 광세척시 상기 스펀지(140)의 바닥면이 건축물 외벽(300)에 접촉하여 두드림과 회전력을 동시에 구현하면서 광세척 작업을 수행하는 부재로 사용된다. 또한, 그 중앙에 광세척시 분리되는 이물질(400)의 흡입을 위한 통공(141)을 가지고 있다. 여기서, 스펀지(140)는 상기 두드림 회전체(100a)의 바닥면과 접착제, 접착테이프 등 통상적으로 사용되는 모든 부착수단에 의해 결합될 수 있다.
집진포(150)는 상기 두드림 회전체(100a)의 측면에 일측단이 삽입설치되어 상기 무수 광세척 장치(100)를 구성하며, 건축물 외벽(300)에 대한 광세척시 모이는 이물질(400)을 포집하기 위한 수단으로 사용된다. 여기서, 이물질(400)의 포집수단으로 집진포(150)를 사용하였지만 이는 설명의 편의를 위한 것이다. 즉, 분진박스나 흡입호스 등 무수 광세척 장치(100) 사용시 이물질(400)을 포집할 수 있는 통상의 모든 수단이 포함된다. 상기 집진포(150)에 의해 작업 중 건축물 외벽(300)으로부터 분리되는 이물질(400)은 바닥으로 낙하하지않고 한 곳에 모이게 되어 이물질(400)로 인한 주변 오염이 방지되며, 작업 완료 후 이물질(400)의 분리 및 폐기가 용이하게 된다.
무수 광세척 장치(100)를 가동하면 진동장치(110)로부터 전달되는 진동을 통해 건축물 외벽(300)을 두드리며 회전하는 방식으로 세척 및 광택작업이 진행되는 것으로서 기존 광택기의 단순 원형회전 방식과는 차별화된다. 즉, 단순히 회전작용만을 하는 기존 광택기로 건축물 외벽(300)의 이물질(400)을 치워내는 선행공정 없이 바로 작업을 하게 되면 건축물 외벽(300)이 유리, 금속과 같이 부드럽고 매끈한 재질로 된 것이거나 페인트로 도장(塗裝)된 경우 스크래치 발생 등으로 건축물 외벽(300)이 손상된다. 반면에, 본 발명에 의한 무수 광세척 장치(100)를 이용하면 두드림 작용에 의한 관성력에 의해 이물질(400)이 쉽게 건축물 외벽(300)에서 순간적으로 부양(浮揚)하게 되고, 이는 스펀지(140)와 건축물 외벽(300)에 함께 묻혀진 광세척 조성물(200)에 의한 슬립현상과 접목되어 결과적으로 건축물 외벽(300)이 이물질(400)에 의해 손상되는 것을 막게 된다. 그리고, 무수 광세척 장치(100)는 작업의 용이성을 고려할 때 1 내지 1.5kg중의 무게를 갖는 가벼운 무수 광세척 장치(100)를 사용함이 바람직하다.
한편, 도 3을 참고하면 본 발명의 일 실시예에 사용되는 무수 광세척 장치(100)는 진동장치(110), 진동부재(120), 완충패드(130) 및 스펀지(140)를 포함하는 것일 수 있다.
진동장치(110)는 모터에 의한 진동에 의해 광세척 작업의 구동력을 제공하는 것이다. 진동장치(110)에 전력을 공급하는 방법으로는 무수 광세척 장치(100)의 전원코드를 건축물 옥상 등에 설치된 콘센트에 꽂아 일반공급 전력을 이용하는 것과 편리한 작업을 위해 충전 방식에 의한 전력을 이용하는 것이 포함된다.
진동부재(120)는 공간부(121), 통공(123) 및 집진포(150)를 포함한다. 진동부재(120)는 상기 진동장치(110)의 하측에 설치되고, 그 내측에 건축물 외벽(300)의 이물질(400)이 유입되는 장소인 공간부(121)를 가지고 있으며, 진동부재(120)의 하측에는 상기 공간부(121)와 통하는 다수의 통공(123)이 형성되어 있다. 또한, 상기 공간부(121)의 내측으로 건축물 외벽(300)에 대한 광세척시 모이는 이물질(400)을 포집하기 위한 집진포(150)의 일측단이 삽입설치된다.
완충패드(130)는 진동부재(120)의 바닥면에 부착되어 있다. 완충패드(130)는 진동장치(110)에서 발생한 진동이 과도하게 건축물 외벽(300)에 전달되는 것을 방지하여 건축물 외벽(300)을 보호하고 이물질(400)이 공중에 비산(飛散)하는 것을 막는 역할을 한다. 완충패드(130)로는 상기 역할을 할 수 있는 것으로서 당업계에서 통상적으로 사용되는 모든 수단이 포함될 수 있다. 또한, 완충패드(130)는 진동 부재(120) 하측의 통공(123)과 연결된 다수의 통공(131)을 가지고 있어 광세척 작업에 의해 흡입되는 이물질(400)이 이동하는 경로를 제공한다.
스펀지(140)는 상기 완충패드(130)의 바닥면에 부착되어 있으며, 상기 완충패드(130)의 통공(131)과 연결된 다수의 이물질흡입용 통공(141, 143)을 가지고 있다. 구체적으로, 스펀지(140)에는 중앙에 위치한 직경이 큰 통공(141) 외에도 이물질(400)의 흡입을 더욱 용이하게 하기 위해 상기 중앙에 위치한 통공(141) 주변에 완충패드(130)의 통공(131)과 연결되는 다수의 통공(143)이 형성되어 있다.
또한, 스펀지(140)는 상기 완충패드(130)의 바닥면과 접착제, 접착테이프 등 통상적으로 사용되는 모든 부착수단에 의해 결합될 수 있다. 바람직하게는, 벨크로에 의해 부착하여 스펀지(140)의 교체나 세척시 등 필요에 따라 스펀지(140)를 분리 가능하도록 할 수 있다.
그리고, 무수 광세척 장치(100)는 동작시 완충패드(130)의 바닥면이 작은 원을 그리며 오비탈 형식으로 움직이는 것을 사용할 수 있다. 일반 광택기의 경우 단일 원형회전에 의해 표면의 광택작업이 이루어지지만, 상기와 같은 오비탈 형식의 무수 광세척 장치(100)를 사용하면 작은 원형회전이 돼지꼬리 형상으로 상호 겹쳐지며 연속적으로 작업이 진행되므로 세척 및 광택작업이 충실하게 되고 작업의 효과가 향상된다. 오비탈 형식의 무수 광세척 장치(100)는 건축물 외벽(300)에 스펀지(140)의 바닥면을 접촉시킨 상태에서 직선 방향으로 밀어내는 방식으로 작업을 하면 된다. 편의를 위해서는 공구업계에서 일반적으로 유통되고 있는 일명, 오비탈 샌더기를 구비한 후 그 바닥면에 사포 등의 마찰부재 대신 스펀지(140)를 부착함으 로써 상기 오비탈 형식의 무수 광세척 장치(100)로 사용할 수 있다.
상기 스펀지에의 조성물 적용 단계(S2)와 건축물 외벽에의 조성물 적용 단계(S3)는 상기 무수 광세척 장치의 스펀지(140) 바닥면 및 광세척 하고자 하는 건축물 외벽부위에 광세척 조성물(200)을 묻히는 단계이다. 광세척 조성물(200)을 스펀지(140)의 바닥면과 건축물 외벽(300) 중 어느 한 곳에만 묻혀서 작업할 경우 슬립현상은 발생하지 않고 이물질(400)이 건축물 외벽(300)을 긁게 되어 건축물 외벽(300)이 손상될 수 있다. 반면에, 본 발명에서처럼 광세척 조성물(200)을 스펀지(140)와 건축물 외벽(300)에 모두 묻힐 경우 이물질(400)과 건축물 외벽(300)의 마찰계수 감소로 마찰력이 작아져 이물질(400)이 건축물 외벽(300)에서 미끄러지는 슬립현상이 발생한다. 따라서, 건축물 외벽(300)의 손상 없이 이물질(400)은 건축물 외벽(300)으로부터 분리되어 작업 진행에 따라 집진포(150) 내부로 모이게 된다.
여기서, 본 명세서에서는 스펀지에의 조성물 적용 단계(S2)를 행한 후 건축물 외벽에의 조성물 적용 단계(S3)를 행하는 것으로 기재하였으나, 이는 설명의 편의를 위한 것이다. 즉, 건축물 외벽에의 조성물 적용 단계(S3)를 먼저 행하고 스펀지에의 조성물 적용 단계(S2)를 나중에 행하여도 광세척 조성물(200)이 스펀지(140)와 건축물 외벽(300)에 함께 적용되어 본 발명에 의한 슬립현상을 유발할 수 있는 한 본 발명의 조성물 적용 단계(S2, S3)에 포함된다.
한편, 스펀지(140)의 바닥면 및 건축물 외벽(300)에 광세척 조성물(200)을 묻히는 방법은 당업자가 채용할 수 있는 통상의 모든 수단이 포함된다. 바람직하게 는, 스프레이를 이용해 분사하는 것이 사용상 편리하다.
또한, 광세척 조성물(200)은 스펀지(140)의 바닥면에는 최초에 한 번만 묻히는 것으로도 족하며, 이로써 작업비용은 더욱 절감된다. 건축물 외벽(300)에도 이미 광세척 조성물(200)이 적용되어 있으므로 광세척 단계(S4)의 작업 진행에 따라 건축물 외벽(300)에 묻어있던 광세척 조성물(200)이 점점 스펀지(140)에도 스며들어가기 때문이다. 바람직하게는, 스펀지(140)의 바닥면에는 0.5 내지 1.5㎖의 광세척 조성물(200)을 최초에 한번 만 분사하고, 광세척 하고자 하는 건축물 외벽부위에는 건축물 외벽(300) 2000 내지 3000㎠ 면적당 0.5 내지 1.5㎖의 광세척 조성물(200)을 한번 씩 분사하는 것이다. 더욱 구체적으로, 1회 분사량이 약 1㎖인 스프레이를 사용하여 스펀지(140)의 바닥면에 광세척 조성물(200)을 최초 한번 만 분사하고, 건축물 외벽(300)에는 가로 50cm x 세로 50cm 면적당 한번 씩 분사하는 형태로 실시될 수 있다. 광세척 조성물(200)을 건축물 외벽(300) 2000㎠ 면적당 1.5㎖가 넘게 너무 많은 양 적용할 경우, 자국 제거 단계(S5)에서 많은 힘과 시간이 소요된다. 반면에, 광세척 조성물(200)을 건축물 외벽(300) 3000㎠ 면적당 0.5㎖가 안 되게 너무 적은 양 적용할 경우 세척 및 광택작업의 효과가 감소하며 특히, 슬립현상이 불충분하게 일어나 본 발명에서 추구하는 건축물 외벽손상방지라는 목적을 달성할 수 없게 된다.
그리고, 건축물 외벽(300)에는 찌든 때 등 이물질(400)이 묻어있는 부위에만 광세척 조성물(200)을 묻힘으로써 필요한 부분만을 선별하여 광세척 할 수 있다. 본 발명에서는 건축물 외벽(300)에 물을 뿌리는 공정이 없으므로 광세척이 필요없 는 깨끗한 건축물 외벽부위가 다른 부위에 뿌려진 물의 번짐에 의해 오염될 우려가 없기 때문이다.
상기 광세척 단계(S4)는 일반 전력 또는 충전에 의해 전원이 공급된 상기 무수 광세척 장치(100)의 작동버튼(160)을 누르는 방식 등으로 무수 광세척 장치(100)를 가동 및 상기 스펀지(140)의 바닥면을 건축물 외벽(300)에 접촉시킨 후 상기 무수 광세척 장치(100)를 건축물 외벽(300)에서 이동시키며 광세척 조성물(200)이 묻어있는 스펀지(140)로서 역시 광세척 조성물(200)이 묻어있는 건축물 외벽(300)을 닦아내어 세척작업 및 광택작업을 동시에 행하는 단계이다.
스펀지(140)와 건축물 외벽(300)을 너무 강하게 접촉시키면 작업이 효과적으로 수행될 수 없고 슬립현상 발생에 장애가 될 수 있으므로 적당한 힘으로 스펀지(140)와 건축물 외벽(300)을 접촉시키는 것이 바람직하다.
상기 무수 광세척 장치(100)를 건축물 외벽(300)에서 직선 이동시키는 방식과 같이 당업자가 채용할 수 있는 통상의 수단으로 닦아내면 슬립현상에 의해 건축물 외벽(300)에 스크래치와 같은 손상이 발생하지 않으면서도 이물질(400)을 손쉽게 제거할 수 있다. 본 단계에 의해 모든 형태의 도시형 먼지가 제거 가능하며 특히, 입경 120㎛ 이하의 도시형 먼지에 대해 그 제거 효과가 뚜렷하다.
바람직하게는, 상기 무수 광세척 장치(100)를 건축물 외벽(300)에서 초당 30 내지 70cm의 속도로 이동시키며 본 단계를 수행한다. 무수 광세척 장치(100)를 초당 70cm가 넘는 빠른 속도로 이동시켜 작업하면 본 발명에서 요구하는 광세척의 효과를 충분히 얻지 못하고, 초당 30cm가 안 되는 느린 속도로 이동시켜 작업하면 작 업시간이 길어지게 된다. 더욱 바람직하게는, 무수 광세척 장치(100)를 초당 50cm의 속도로 이동시키면서 작업한다.
상기 자국 제거 단계(S5)는 상기 광세척 단계(S4)가 완료된 건축물 외벽(300)부분에 생긴 자국을 제거하는 단계이다. 마른 헝겊 또는 소량의 물을 적신 후 짜낸 헝겊 등으로 건축물 외벽(300)을 다시 한번 닦아냄으로써 자국을 제거하여 건축물 외벽(300)의 청결함을 유지함과 동시에 미끈한 느낌을 더해줄 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 건축물 외벽 무수 광세척 방법은 장치 및 조성물 구비 단계(S1), 스펀지 또는 건축물 외벽에의 조성물 적용 단계(S2 또는 S3), 광세척 단계(S4)를 포함하는 것일 수 있다.
건축물 외벽(300)이 석재, 벽돌과 같이 표면이 거칠고 마찰에 강한 재질로 된 것일 경우 건축물 외벽(300)에 다소의 스크래치가 생겨도 외관에 큰 영향을 주지는 않는다. 따라서, 작업의 편의, 신속 및 비용절감을 위해 광세척 조성물(200)을 스펀지(140) 바닥면 또는 건축물 외벽(300)에 택일적으로 묻혀서 작업하는 것이 가능하다. 이 경우 역시 무수 광세척 장치(100)의 두드림 작용에 의해 이물질(400)은 순간적으로 건축물 외벽(300)에서 부양하므로 통상적 방법에 의한 광세척 보다는 건축물 외벽(300) 손상이 더 적게 된다.
또한, 건축물 외벽(300)이 석재, 벽돌과 같은 재질로 된 것일 경우 건축물 외벽(300)의 재질이 유리, 금속 등인 경우와 달리 광세척 단계(S4)에 의해 생긴 자국이 외관에 크게 영향을 미치지 않으므로 자국 제거 단계(S5)를 생략할 수 있다.
이상 설명한 실시예들은 낮은 건축물의 외벽을 광세척하는 데 적합하다. 본 발명에 있어 '낮은 건축물'이라 함은 높이가 5m 이하로서 작업자가 로우프에 의지하여 작업하여도 인명보호에 큰 지장이 없는 건축물을 말한다.
한편, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 건축물 외벽 무수 광세척 방법은 무수 광세척 장치(100)로서 무인 자동 광세척 장치를 사용하는 것이다. 이러한 실시예는 높은 건축물의 외벽을 광세척하는 데 적합하다. 본 발명에 있어 '높은 건축물'이라 함은 높이가 5m 이상으로서 작업자가 로우프에 의지하여 작업시 인명보호에 지장이 있는 건축물을 말한다.
도 4를 참고하면 본 발명의 또 다른 실시예에 사용되는 무수 광세척 장치(100)는 케이싱부(170), 자국제거부(180), 두드림 회전체(100a), 스펀지(140), 집진포(150) 및 공급부(190)를 포함한다.
케이싱부(170)는 그 윗면에 로우프(171)가 장착되어 있으며, 건축물의 옥상에 장착된 모터(173)를 작동시키면 상기 로우프(171)에 매달린 케이싱부(170)가 건축물 외벽(300)을 따라 하강 이동한다.
자국제거부(180)는 상기 케이싱부(170)의 전면 상부에 장착된다. 본 발명에 있어 '전면'이란 건축물 외벽(300)에 맞닿는 면을 말한다. 자국제거부(180)는 헝겊, 스펀지, 수건, 융포 등의 섬유 부재가 건축물 외벽(300)과 접촉하여 광세척 후 건축물 외벽(300)에 생긴 자국을 제거하는 역할을 한다.
두드림 회전체(100a)는 상기 자국제거부(180)의 하부에 바닥면이 전면을 향하도록 설치되고 모터(111)에 의해 구동된다. 본 실시예에 사용되는 두드림 회전체(100a)의 구성 및 작용은 전술한 두드림 회전체(100a)의 경우와 같다.
스펀지(140)는 상기 두드림 회전체(100a)의 바닥면에 부착되고 중앙에 이물질(400) 흡입을 위한 통공(141)을 가지며 광세척용 부재로서 사용된다.
집진포(150)는 상기 두드림 회전체(100a)의 측면에 일측단이 삽입설치됨으로써 광세척시 모이는 이물질(400)을 포집하는 역할을 한다. 집진포(150)는 상기 두드림 회전체(100a)의 중력작용 방향에 해당하는 측면에 그 일측단을 삽입설치하는 것이 이물질(400) 포집에 유리하다.
공급부(190)는 상기 두드림 회전체(100a)의 하부에 설치되고 저장탱크(191)로부터 펌프(193)에 의해 건축물 외벽(300)에 광세척 조성물(200)을 분사하는 역할을 한다. 저장탱크(191)는 건축물의 옥상 등에 설치한다.
광세척 조성물(200)은 상기 저장탱크(191) 내에 구비하여 둔다.
구체적으로, 본 실시예에 사용되는 무수 광세척 장치(100)는 전술한 무인 자동세척장치에 관한 공개기술을 활용할 수 있다(등록번호 10-0199566, 발명의 명칭; 건축물 외벽의 무인 자동세척장치). 즉, 상기 공개기술에서 흡수부 대신 상기 자국제거부(180)를 장착하고, 세척부 대신 상기 두드림 회전체(100a)를 설치하며, 공급부(190)를 상기 두드림 회전체(100a)의 하부에 설치하고, 세액 대신 상기 광세척 조성물(200)을 구비하면 본 실시예에 사용되는 무수 광세척 장치(100)로서 활용할 수 있다.
스펀지에의 조성물 적용 단계(S2)는 상기 무수 광세척 장치의 스펀지(140) 바닥면에 광세척 조성물(200)을 묻히는 단계이다. 스펀지(140)에는 광세척 조성물(200)을 최초 1회 묻히는 것으로 족하며, 상기 케이싱부(170)를 하강 이동시키기 전에 스프레이에 의해 소정량을 스펀지(140) 바닥면에 분사하는 방식 등으로 묻힌다.
건축물 외벽에의 조성물 적용 단계(S3)는 광세척 하고자 하는 건축물 외벽부위에 상기 공급부(190)를 통해 광세척 조성물(200)을 분사하는 단계이다. 건축물 옥상 등에 설치된 저장탱크(191) 내의 광세척 조성물(200)을 펌프(193)에 의한 압력으로 건축물 외벽(300)에 분사하는 것이다. 바람직하게는, 펌프(193)의 주입량을 조절함으로써 건축물 외벽(300) 2000 내지 3000㎠ 면적당 0.5 내지 1.5㎖의 광세척 조성물(200)이 분사되도록 한다.
광세척 단계(S4)는 상기 두드림 회전체(100a)를 가동 후 건축물의 옥상에 장착된 모터(173)를 작동시켜 상기 로우프(171)에 매달린 케이싱부(170)가 건축물 외벽(300)을 따라 중력작용 방향으로 하강 이동하면서 상기 광세척 조성물(200)이 분사된 건축물 외벽부위에 상기 스펀지(140) 바닥면이 건축물 외벽(300)을 두드리면서 회전하도록 하여 광세척 하는 단계이다.
자국 제거 단계(S5)는 상기 광세척 후 광세척과 관련한 건축물 외벽(300)의 자국을 상기 자국제거부(180)에 의해 제거하는 단계이다. 자국제거부(180)는 두드림 회전체(100a)의 상부에 장착되므로 케이싱부(170)가 중력작용 방향으로 하강 이동함에 따라 광세척 단계(S4)가 수행된 건축물 외벽부위에 대해 자국 제거 단계(S5)가 순차적으로 자동수행된다.
광세척 조성물(200)은 전술한 바와 같이 세척 및 광택작업을 동시에 행할 수 있도록 광택제 및 세정제를 함유하는 액상의 혼합물로서 그 안에 유분을 포함하여 상호 접촉시 슬립현상을 일으킬 수 있는 것을 말한다. 즉, 도 2에 나타낸 바와 같이 본 발명은 광세척 조성물(200)을 스펀지(140)의 바닥면과 함께 건축물 외벽(300)에도 적용함으로써 유분을 포함한 광세척 조성물(200) 사이에 위치하게 되는 건축물 외벽(300)의 이물질(400)이 건축물 외벽(300)과의 마찰계수가 작아지고 상기 두드림 회전체(100a)에 의해 부양되어 건축물 외벽(300)에 손상을 주지 않으면서 분리되어 집진포(150) 내부로 모이게 된다.
여기서, 광세척 조성물(200)은 광택작용과 세정작용을 하는 성분을 포함함과 동시에 슬립현상을 발생시킬 정도의 유분을 함유하는 것이면 족하다. 광택제로는 유분을 포함한 수용성 왁스와 지용성 왁스가 사용될 수 있다. 세정제로는 계면활성제와 같이 건축물 외벽(300)의 세척에 사용될 수 있는 통상의 모든 수단이 포함된다. 또한, 건축물 외벽(300)이 금속 재질로 된 것이거나 페인트로 도장(塗裝)된 경우 광택제와 세정제 외에 코팅제를 더 포함함으로써 세척 및 광택효과 외에 부식방지 및 코팅효과까지 부여할 수 있다.
바람직하게는, 상기 광세척 조성물(200)은 광택제 60 내지 80 중량%, 코팅제 12 내지 28 중량%, 세정제 4 내지 6 중량%, 산 제제 2 내지 3 중량%, 정제수 2 내지 3 중량%를 함유하는 것일 수 있으며, 더욱 구체적으로 수용성 왁스 60 내지 80 중량%, 폴리머 실란트 12 내지 28 중량%, 계면활성제 4 내지 6 중량%, 산 제제 2 내지 3 중량%, 정제수 2 내지 3 중량 %를 함유하는 것이 사용될 수 있다. 유분을 함유하는 광택제 또는 왁스의 함량비율을 높이면 마찰계수 감소로 슬립현상은 강화되지만 세척효과가 감소하고 자국 제거 단계(S5)에 작업시간이 많이 소요되며, 반 대로 유분을 함유하는 광택제 또는 왁스의 함량비율을 낮추면 마찰계수가 증가해 부드러운 재질로 된 건축물 외벽(300)이 손상될 우려가 있다. 따라서, 유분을 함유하는 광택제 또는 왁스의 함량비율은 60 내지 80 중량%가 적당하다.
또한, 광세척 조성물(200)은 점도(viscosity)가 2 cP(centi-poise) 미만의 너무 낮은 값을 가지면 건축물 외벽(300)에서 중력에 의해 쉽게 흘러내려 작업이 불편해지고, 점도가 4 cP 초과의 너무 높은 값을 가지면 조성물이 스펀지(140)에 잘 스며들지 않고 건축물 외벽손상방지를 위한 슬립현상의 유발이 어려워진다. 따라서, 광세척 조성물(200)은 점도가 25℃에서 2 내지 4 cP인 것인 적당하다. 그리고, 광세척 조성물(200)에 포함된 유분의 함량이 너무 적어 건축물 외벽(300)과의 마찰계수가 0.3을 넘게 되면 작업시 이물질(400)에 의한 건축물 외벽(300)의 손상가능성이 있으므로 건축물 외벽(300)과의 마찰계수를 0.3 이하로 유지할 수 있는 광세척 조성물(200)이 권장된다.
스펀지(140)는 일반적으로 밀도가 작으면 스펀지의 조직이 거칠어지고, 밀도가 크면 탄력성이 떨어지므로 0.1 내지 0.5g/㎤의 밀도를 갖는 부드럽고도 탄력성있는 재질로 된 것이 바람직하다. 그 결과 광세척은 깔끔하게 되고 슬립현상 유발이 강화되어 건축물 외벽(300)의 손상 방지에 더욱 유리하다.
아울러, 스펀지(140)의 두께는 광세척의 효과 발휘, 진동장치(110)에서 발생한 진동의 용이한 전달 및 작업의 편의를 위해 5 내지 10cm로 하는 것이 바람직하다.
더불어, 스펀지(140)의 형상으로는 원형, 다각형 등이 사용될 수 있다. 일반 적으로 원형의 형상으로 된 것이 작업상 편리하다. 바람직하게는, 표면이 오목 볼록한 모양을 가지는 엠보싱(embossing) 형상을 갖는 스펀지(140)가 사용될 수 있다. 엠보싱 형상의 스펀지(140)는 일반 스펀지보다 표면이 부드럽고 건축물 외벽(300)과 접촉되는 스펀지(140)의 표면적이 넓기 때문에 세척 및 광택작업에 향상된 효과를 부여한다.
여기서, 본 발명에서는 광세척용 부재로 스펀지(140)를 사용하지만, 스펀지(140) 대신에 융포, 헝겊, 수건 등 당업계에서 일반적으로 건축물 외벽(300)을 세척하고 광택을 내는데 사용되는 다른 수단도 상술한 본 발명의 효과를 발휘하는 한 광세척용 부재로서 사용될 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 건축물 외벽 무수 광세척 방법의 실시를 통해 작업 용이성, 작업 신속성, 작업 충실도, 환경오염 방지, 건축물 외벽 손상 방지에 있어서의 우수성을 입증한다.
실시예 1
평균 입경 100㎛의 먼지가 약 2mm의 두께로 덮여있는 높이 3m, 너비 3m의 알루미늄 복합판넬 건물 외벽을 대상으로 무수 광세척 장치(100)의 무게, 스펀지(140)의 밀도 및 스펀지(140)의 두께를 변경해 가면서 작업 용이성을 실험하였다. 작업 용이성은 관능평가 요원 10명을 선발하여 원형 형상의 스펀지(140)를 구비한 오비탈 형식의 무수 광세척 장치(100)와 수용성 왁스 70 중량%, 폴리머 실란트 20 중량%, 계면활성제 5 중량%, 산 제제 2.5 중량%, 정제수 2.5 중량 %를 함유하는 광세척 조성물(200)을 채택해 본 발명의 건축물 외벽 무수 광세척 방법을 사 용하여 광세척 작업을 하게 한 후 5점 척도법으로 설문조사하여 평균치를 산출하였다.
<표 1>
광세척장치 무게(kg중) 스펀지 밀도(g/㎤) 스펀지 두께(cm) 작업 용이성(점)
실시예 1-1 1 0.5 7 4.4
실시예 1-2 2 0.5 7 4.0
실시예 1-3 3 0.5 7 3.3
실시예 1-4 4 0.5 7 2.8
실시예 1-5 5 0.5 7 1.9
<표 2>
광세척장치 무게(kg중) 스펀지 밀도(g/㎤) 스펀지 두께(cm) 작업 용이성(점)
실시예 1-6 1 0.05 7 3.0
실시예 1-7 1 0.1 7 4.0
실시예 1-8 1 0.3 7 4.3
실시예 1-9 1 0.5 7 4.4
실시예 1-10 1 0.7 7 3.6
<표 3>
광세척장치 무게(kg중) 스펀지 밀도(g/㎤) 스펀지 두께(cm) 작업 용이성(점)
실시예 1-11 1 0.5 1 3.8
실시예 1-12 1 0.5 4 4.3
실시예 1-13 1 0.5 7 4.4
실시예 1-14 1 0.5 10 4.2
실시예 1-15 1 0.5 13 3.7
<표 1> 내지 <표 3>에서와 같이 무수 광세척 장치(100)는 가볍고, 스펀지(140)의 밀도는 0.1 내지 0.5g/㎤이며, 스펀지(140)의 두께는 5 내지 10cm 정도일 때 작업 용이성이 높게 평가되었다.
실시예 2
평균 입경 100㎛의 먼지가 약 2mm의 두께로 덮여있는 높이 3m, 너비 3m의 알루미늄 복합판넬을 수평으로 위치시키고 스펀지(140) 바닥면과 건축물 외벽(300)에 묻혀 지게 되는 광세척 조성물(200) 중 유분을 함유한 수용성 왁스의 중량%를 변경해 가면서 마찰계수와 자국 제거에 걸리는 시간을 측정하였다. 마찰계수는 탄성계수를 알고 있는 용수철에 일정 질량의 스펀지(140)을 매달아 상기 알루미늄 복합판넬 위에서 밀어서 수축시킨 뒤 탄성력에 의해 이동하게 한 후 물체가 마찰력에 의해 정지되는 현상을 이용해 다음과 같은 식으로 계산하였다.
F = k*x ( k: 탄성계수, x: 용수철 길이의 변화량 )
F = u*N = u*m*g ( u: 마찰계수, N: 수직항력, m: 스펀지의 질량, g: 중력가속도 )
F = k*x = u*m*g
u = k*x / m*g
<표 4>
수용성 왁스의
중량%		 계면활성제의
중량%		 기타 성분의
중량% 		마찰계수 자국 제거 시간(분)
0 12 88 0.52 2.2
20 10 70 0.40 3.7
40 8 52 0.31 4.2
60 6 34 0.23 4.5
80 4 16 0.17 5.1
100 0 0 0.08 8.1
<표 4>에서와 같이 수용성 왁스의 중량%가 60 ~ 80 정도일 때 적절히 낮은 마찰계수를 나타내고 짧은 자국 제거 시간을 유지할 수 있었다.
비교예 1
관능평가 요원 10명을 선발하여 평균 입경 100㎛의 먼지가 약 2mm의 두께로 덮여있는 높이 3m, 너비 3m의 알루미늄 복합판넬 건물 외벽을 대상으로 당업계에서 일반적으로 사용되는 세정제 및 광택제로 물 세척 작업 후 광택작업을 실시하게 하 여 세척시간, 광택작업시간, 총 작업시간, 작업 충실도 및 물 사용량을 측정하였고, 작업 후 건물 외벽의 스크래치 발생 여부를 관찰하였다. 작업 충실도는 상기 관능평가 요원 10명에 대해 세척 및 광택의 만족도를 참고하여 5점 척도법으로 설문조사하여 평균치를 산출하였다.
비교예 2
비교예 1의 관능평가요원 및 건물 외벽을 대상으로 비교예 1의 세정제 및 광택제를 헝겊에만 묻힌 후 먼지를 치워내는 선행공정 없이 바로 광세척 작업을 실시하게 하여 총 작업시간, 작업 충실도 및 작업 후 건물 외벽의 스크래치 발생 여부를 관찰하였다. 작업 충실도의 산출방법은 비교예 1과 같다.
비교예 3
비교예 1의 관능평가요원 및 건물 외벽을 대상으로 원형 형상의 스펀지(140)를 구비한 오비탈 형식의 무수 광세척 장치(100)와 수용성 왁스 70 중량%, 폴리머 실란트 20 중량%, 계면활성제 5 중량%, 산 제제 2.5 중량%, 정제수 2.5 중량 %를 함유하는 광세척 조성물(200)을 채택해 본 발명의 건축물 외벽 무수 광세척 방법을 사용하여(광세척 조성물을 스펀지와 건물 외벽에 모두 묻힘) 광세척 작업을 하게 한 후 총 작업시간, 작업 충실도 및 물 사용량을 측정하였고, 작업 후 건물 외벽의 스크래치 발생 여부를 관찰하였다. 작업 충실도의 산출방법은 비교예 1과 같다.
<표 5>
항 목 비교예1 비교예2 비교예3
세척시간 28분 . .
광택작업시간 38분 . .
총 작업시간 66분 10분 15분
작업 충실도 4.30 3.53 4.28
물 사용량 36ℓ . 0ℓ
스크래치 발생 여부 스크래치 없음 스크래치 발생 스크래치 없음
<표 5>에서와 같이 본 발명을 사용한 경우 총 작업시간이 비교예 1의 경우보다 50분가량 짧았음에도 불구하고, 작업 충실도는 거의 동등하게 평가되었다. 또한, 비교예 1의 물 사용량이 36ℓ인 반면 본 발명에 따른 실시예에 의할 때 물이 사용되지 않았다. 한편, 비교예 2의 경우 본 발명을 사용한 경우보다 총 작업시간은 5분가량 짧았지만 작업 충실도가 낮게 평가되었고 특히, 작업에 의해 알루미늄 복합판넬로 된 건물의 외벽이 손상되는 중대한 결함이 나타났다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 건축물 외벽 무수 광세척 방법을 나타내는 공정도.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 건축물 외벽 무수 광세척 방법과 관련된 무수 광세척 장치 및 슬립현상을 나타내는 개략도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 사용되는 무수 광세척 장치를 나타내는 단면도.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 사용되는 무수 광세척 장치를 나타내는 단면도.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*
100 : 무수 광세척 장치 100a : 두드림 회전체
110 : 진동장치 111, 173 : 모터
120 : 진동부재 121 : 공간부
123 : 진동부재 하측의 통공 130 : 완충패드
131 : 완충패드의 통공 140 : 스펀지
141 : 스펀지의 중앙 통공 143 : 스펀지의 주변 통공
150 : 집진포 160 : 작동버튼
170 : 케이싱부 171 : 로우프
180 : 자국제거부 190 : 공급부
191 : 저장탱크 193 : 펌프
200 : 광세척 조성물 300 : 건축물 외벽
400 : 이물질

Claims (16)

  1. (a) 두드림 회전체, 상기 두드림 회전체의 바닥면에 부착된 스펀지, 상기 두드림 회전체의 측면에 일측단이 삽입설치됨으로써 건축물 외벽에 대한 광세척시 모이는 이물질을 포집하기 위한 집진포로 구성되며, 건축물 외벽에 대한 광세척시 상기 스펀지의 바닥면이 건축물 외벽에 접촉하여 두드림과 회전력을 동시에 구현할 수 있는 무수 광세척 장치와 광세척 조성물을 구비하는 단계;
    (b) 상기 무수 광세척 장치의 스펀지 바닥면 및 광세척 하고자 하는 건축물 외벽부 중 하나 이상 위에 상기 광세척 조성물을 묻히는 단계;
    (c) 상기 스펀지 바닥면에 광세척 조성물이 묻은 무수 광세척 장치를 가동 후 건축물 외벽에서 이동시켜 상기 광세척 조성물이 묻은 건축물 외벽부위에 상기 스펀지 바닥면이 건축물 외벽을 두드리면서 회전하도록 하여 광세척 하는 단계; 및
    (d) 상기 광세척 후 광세척과 관련한 건축물 외벽의 자국을 제거하는 단계를 포함하며,
    상기 무수 광세척 장치는,
    모터에 의한 진동에 의해 광세척 작업의 구동력을 제공하는 진동장치; 및
    상기 진동장치 하측에 설치되고, 내측에 이물질이 유입되는 공간부를 가지며, 하측에 상기 공간부와 통하는 다수의 통공이 형성되어 있는 진동부재를 더 포함하며,
    상기 스펀지는 상기 진동부재 바닥면 위에 배치되고 상기 진동부재 하측의 다수의 통공과 연결된 다수의 이물질흡입용 통공을 갖는 것을 특징으로 하는 건축물 외벽 무수 광세척 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 무수 광세척 장치는, 상기 진동부재와 상기 스펀지 사이에 배치되는 완충패드를 더 포함하고,
    상기 완충패드는 상기 진동부재 하측의 다수의 통공과 상기 스펀지의 다수의 이물질흡입용 통공에 각각 연결된 다수의 통공을 가지며,
    상기 진동부재에 상기 공간부의 내측으로 건축물 외벽에 대한 광세척시 모이는 이물질을 포집하기 위한 상기 집진포의 일측단이 삽입설치된 것을 특징으로 하는 건축물 외벽 무수 광세척 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 무수 광세척 장치의 완충패드 바닥면과 스펀지는 벨크로에 의해 분리 가능하도록 부착되는 것인 건축물 외벽 무수 광세척 방법.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 무수 광세척 장치는 동작시 상기 완충패드의 바닥면이 작은 원을 그리며 오비탈 형식으로 움직이는 것인 건축물 외벽 무수 광세척 방법.
  5. (a) 윗면에 로우프가 장착된 케이싱부, 상기 케이싱부의 전면 상부에 장착된 자국제거부, 상기 자국제거부의 하부에 바닥면이 전면을 향하도록 설치되고 모터에 의해 구동되는 두드림 회전체, 상기 두드림 회전체의 바닥면에 부착되고 중앙에 이물질 흡입을 위한 통공을 가진 스펀지, 상기 두드림 회전체의 측면에 일측단이 삽입설치된 집진포, 상기 두드림 회전체의 하부에 설치되고 저장탱크로부터 펌프에 의해 건축물 외벽에 광세척 조성물을 분사하는 공급부를 포함하는 무수 광세척 장치와 상기 저장탱크 내에 광세척 조성물을 구비하는 단계;
    (b) 상기 스펀지의 바닥면 및 광세척 하고자 하는 건축물 외벽부위 중 하나 이상 위에 상기 광세척 조성물을 묻히는 단계;
    (c) 상기 두드림 회전체를 가동 후 건축물의 옥상에 장착된 모터를 작동시켜 상기 로우프에 매달린 케이싱부가 건축물의 외벽을 따라 중력작용 방향으로 하강 이동하면서 상기 광세척 조성물이 분사된 건축물 외벽부위에 상기 스펀지 바닥면이 건축물 외벽을 두드리면서 회전하도록 하여 광세척 하는 단계; 및
    (d) 상기 광세척 후 광세척과 관련한 건축물 외벽의 자국을 상기 자국제거부에 의해 제거하는 단계를 포함하는 건축물 외벽 무수 광세척 방법.
  6. 삭제
  7. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 (b)단계는 스펀지의 바닥면에는 0.5 내지 1.5㎖의 광세척 조성물을 최초에 한번 만 분사하고, 광세척 하고자 하는 건축물 외벽부위에는 건축물 외벽 2000 내지 3000㎠ 면적당 0.5 내지 1.5㎖의 광세척 조성물을 한번 씩 분사하는 것인 건축물 외벽 무수 광세척 방법.
  8. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 (c)단계는 무수 광세척 장치를 건축물 외벽에서 초당 30 내지 70cm의 속도로 이동시키며 광세척 하는 것인 건축물 외벽 무수 광세척 방법.
  9. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광세척 조성물은 광택제 60 내지 80 중량%, 코팅제 12 내지 28 중량%, 세정제 4 내지 6 중량%, 산 제제 2 내지 3 중량%, 정제수 2 내지 3 중량%를 함유하는 것인 건축물 외벽 무수 광세척 방법.
  10. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광세척 조성물은 수용성 왁스 60 내지 80 중량%, 폴리머 실란트 12 내지 28 중량%, 계면활성제 4 내지 6 중량%, 산 제제 2 내지 3 중량%, 정제수 2 내지 3 중량 %를 함유하는 것인 건축물 외벽 무수 광세척 방법.
  11. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광세척 조성물은 25℃에서의 점도가 2 내지 4 cP인 것인 건축물 외벽 무수 광세척 방법.
  12. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광세척 조성물은 작업시 건축물 외벽과의 마찰계수를 0.3 이하로 유지하도록 하는 것인 건축물 외벽 무수 광세척 방법.
  13. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스펀지는 밀도가 0.1 내지 0.5g/㎤인 것인 건축물 외벽 무수 광세척 방법.
  14. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스펀지는 두께가 5 내지 10cm인 것인 건축물 외벽 무수 광세척 방법.
  15. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스펀지의 형상은 원형인 것인 건축물 외벽 무수 광세척 방법.
  16. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스펀지는 그 표면이 엠보싱 형상으로 이루어진 것인 건축물 외벽 무수 광세척 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR200414649Y1 (ko) * 2006-02-08 2006-04-21 라이프환경기계(주) 가스 광택기

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