KR101055891B1 - Texturing Method of Glass Substrate for Solar Cell - Google Patents

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Abstract

태양전지용 글래스 기판의 텍스처링 방법이 제공된다. 본 발명에 따른 태양전지용 글래스 기판의 텍스처링 방법은 글래스 기판(100) 상에 마스크층이 형성되어 있지 않은 상태에서 글래스 기판(100)을 습식 식각하여 글래스 기판(100) 상에 요철부를 형성하는 것을 특징으로 하며, (a) 글래스 기판(100)을 준비하는 단계; 및 (b) 글래스 기판(100)의 표면에 노즐(111)을 통하여 글래스 기판(100)을 식각할 수 있는 식각액(121)을 분사하는 단계를 포함한다.A texturing method of a glass substrate for a solar cell is provided. The texturing method of the solar cell glass substrate according to the present invention is characterized in that the glass substrate 100 by wet etching in the state that the mask layer is not formed on the glass substrate 100 to form an uneven portion on the glass substrate 100. (A) preparing a glass substrate 100; And (b) spraying an etching solution 121 capable of etching the glass substrate 100 through the nozzle 111 on the surface of the glass substrate 100.

태양전지, 텍스처링, 습식 식각, 노즐 Solar cells, texturing, wet etching, nozzles

Description

태양전지용 글래스 기판의 텍스처링 방법{A Texturing Method For Glass Substrate Of Solar Cell}Texturing Method for Glass Substrate Of Solar Cell

본 발명은 태양전지에 관한 것이다. 보다 상세하게는 태양전지용 글래스 기판의 표면을 습식 식각하여 태양전지용 글래스 기판의 표면에 요철이 형성되도록 하는 태양전지용 글래스 기판의 텍스처링 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a solar cell. More specifically, the present invention relates to a method of texturing a glass substrate for solar cells, wherein the surface of the glass substrate for solar cells is wet-etched so that irregularities are formed on the surface of the glass substrate for the solar cells.

태양전지는 외부에서 들어온 빛에 의해 태양전지의 반도체 내부에서 전자와 정공의 쌍이 생성되고, 이러한 전자와 정공의 쌍에서 pn 접합에서 발생한 전기장에 의해 전자는 n형 반도체로 이동하고 정공은 p형 반도체로 이동함으로써 전력을 생산한다.The solar cell generates electron and hole pairs inside the semiconductor of the solar cell by the light from the outside, and electrons move to the n-type semiconductor and holes move to the p-type semiconductor by the electric field generated at the pn junction. Produce power by moving to.

태양광을 전기 에너지로 변환시킬 수 있는 태양전지의 전력 생산 성능은 일반적으로 광 에너지가 전기 에너지로 변환되는 광전 변환 효율을 측정한다.The power generation performance of solar cells that can convert sunlight into electrical energy generally measures the photoelectric conversion efficiency at which light energy is converted into electrical energy.

한편, 태양전지로 입사된 태양광의 일부는 태양전지를 구성하는 다양한 층간의 경계에서 반사됨으로써 태양전지의 전력 생산에 기여할 수 없게 되어 태양전지의 효율을 떨어드린다. 따라서, 태양전지의 효율을 향상시키기 위해서는 상술한 바와 같은 태양광의 반사 양을 가급적 줄여야 한다.On the other hand, a portion of the sunlight incident to the solar cell is reflected at the boundary between the various layers constituting the solar cell can not contribute to the power production of the solar cell, thereby reducing the efficiency of the solar cell. Therefore, in order to improve the efficiency of the solar cell, the amount of reflection of sunlight as described above should be reduced as much as possible.

이를 위하여, 태양전지에서는 텍스쳐링(texturing) 공정이 널리 쓰이고 있다. 텍스쳐링 공정이란 태양전지를 구성하는 기판이나 다양한 층의 표면을 거칠게 만드는 것, 즉 기판이나 다양한 층의 표면에 요철 형상의 패턴을 형성하는 것을 말한다. 예를 들어, 태양전지용 글래스 기판의 표면이 거칠어지면 표면에서 한번 반사된 빛이 재반사되어 입사된 빛의 반사율을 감소시킴으로써 광 포획량이 증가되어 태양전지의 광전 변환 효율을 향상시킬 수 있다.To this end, texturing processes are widely used in solar cells. The texturing process is to roughen the surface of the substrate or various layers constituting the solar cell, that is, to form an uneven pattern on the surface of the substrate or the various layers. For example, when the surface of the glass substrate for a solar cell is roughened, the light reflected once from the surface is re-reflected to reduce the reflectance of the incident light, thereby increasing the amount of light trapped, thereby improving the photoelectric conversion efficiency of the solar cell.

최근 사용되는 있는 텍스처링 방법으로는 플라즈마 식각법, 스크라이빙(scribing)법, 샌드 블라스트법(sand blast) 등이 알려져 있다.As texturing methods that are used recently, plasma etching, scribing, sand blast and the like are known.

플라즈마 식각법은 기판 상에 포토레지스트 또는 실리콘 산화막과 같은 마스크 레이어를 형성한 후 플라즈마로 기판을 식각하여 기판 상에 요철 패턴을 형성하는 방법으로서 공정 시간이 오래 걸리며 고가의 진공 장비가 필요하기 때문에 공정 단가가 높다는 문제점이 있었다.Plasma etching is a method of forming a concave-convex pattern on a substrate by forming a mask layer such as a photoresist or a silicon oxide film on the substrate and then etching the substrate by plasma, which requires a long process time and requires expensive vacuum equipment. There was a problem that the unit price is high.

또한, 스크라이빙법은 기판 표면을 기계적으로 절삭하여 V형 홈을 형성한 후 상기 홈을 화학적으로 식각하여 기판 상에 요철 패턴을 형성하는 방법으로서 이 역시 공정 시간이 오래 걸리는 문제점이 있었다.In addition, the scribing method is a method of mechanically cutting the surface of a substrate to form a V-shaped groove and then chemically etching the groove to form an uneven pattern on the substrate, which also takes a long process time.

또한, 샌드 블라스트법은 글래스 기판의 표면을 모래 등을 물리적으로 충돌시켜서 기판 상에 요철 패턴을 형성하는 방법으로서 기판이 오염되거나 기판에 크랙이 발생하는 등 텍스쳐링 과정에서 기판이 손상되는 문제점이 있었다.In addition, the sand blasting method is a method of forming an uneven pattern on the substrate by physically colliding the surface of the glass substrate with sand or the like, and there is a problem that the substrate is damaged during the texturing process such as contamination of the substrate or cracking of the substrate.

이에 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 공정 방식이 간단하고 공정 시간이 단축되며 공정 단가가 저렴한 태양전지용 글래스 기판의 텍스처링 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a texturing method of a glass substrate for a solar cell, the process method of which is simple, a short process time, and a low process cost.

상술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 태양전지용 글래스 기판의 텍스처링 방법은 글래스 기판 상에 마스크층이 형성되어 있지 않은 상태에서 상기 글래스 기판을 습식 식각하여 상기 글래스 기판 상에 요철부를 형성하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the method of texturing a glass substrate for a solar cell according to the present invention is to form an uneven portion on the glass substrate by wet etching the glass substrate in the state that the mask layer is not formed on the glass substrate. It features.

그리고, 상술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 태양전지용 글래스 기판의 텍스쳐링 방법은 (a) 글래스 기판을 준비하는 단계; 및 (b) 상기 글래스 기판의 표면에 노즐을 통하여 상기 글래스 기판을 식각할 수 있는 식각액을 분사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.And, in order to achieve the above object, the texturing method of the glass substrate for a solar cell according to the present invention comprises the steps of (a) preparing a glass substrate; And (b) injecting an etchant capable of etching the glass substrate through a nozzle on a surface of the glass substrate.

상기 식각액에 의하여 상기 글래스 기판이 식각되어 상기 글래스 기판 상에 요철부가 형성될 수 있다.The glass substrate may be etched by the etchant to form an uneven portion on the glass substrate.

상기 (b) 단계에서 상기 글래스 기판 상에는 마스크층이 형성되어 있지 않을 수 있다.In step (b), a mask layer may not be formed on the glass substrate.

상기 글래스 기판이 수직으로 세워진 상태에서 상기 식각액을 분사할 수 있다.The etchant may be injected while the glass substrate is vertically placed.

상기 노즐은 스트레이트형 노즐일 수 있다.The nozzle may be a straight nozzle.

상기 스트레이트형 노즐은 복수개가 1 열 또는 1 행의 형태로 배열될 수 있다.The plurality of straight nozzles may be arranged in the form of one column or one row.

상기 스트레이트형 노즐은 복수개가 매트릭스 형태로 배열될 수 있다.The plurality of straight nozzles may be arranged in a matrix form.

상기 노즐은 슬릿형 노즐일 수 있다.The nozzle may be a slit nozzle.

상기 (b) 단계에서 상기 글래스 기판은 상기 노즐의 일측 방향으로 이동할 수 있다.In the step (b), the glass substrate may move in one direction of the nozzle.

상기 (b) 단계에서 상기 글래스 기판과 상기 노즐 중의 적어도 하나에 진동을 인가할 수 있다.In step (b), vibration may be applied to at least one of the glass substrate and the nozzle.

상기 식각액은 불산, 황산, 질산 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The etchant may include at least one of hydrofluoric acid, sulfuric acid, and nitric acid.

상기 (b) 단계에서 상기 식각액의 종류, 상기 식각액의 농도, 상기 식각액의 온도, 상기 식각액의 분사 압력, 상기 식각액의 분사 시간 중 적어도 하나를 조절하여 상기 글래스 기판을 식각할 수 있다.In step (b), the glass substrate may be etched by adjusting at least one of a type of the etchant, a concentration of the etchant, a temperature of the etchant, an injection pressure of the etchant, and an injection time of the etchant.

상기 (b) 단계에서 상기 글래스 기판의 제1 표면에는 제1 노즐을 통하여 상기 글래스 기판의 제1 표면을 식각할 수 있는 제1 식각액을 분사하고, 상기 글래스 기판의 제2 표면에는 제2 노즐을 통하여 상기 글래스 기판의 제2 표면을 식각할 수 있는 제2 식각액을 분사할 수 있다.In the step (b), a first etching liquid capable of etching the first surface of the glass substrate is sprayed onto the first surface of the glass substrate, and a second nozzle is applied to the second surface of the glass substrate. The second etching liquid capable of etching the second surface of the glass substrate may be sprayed through.

상기 제1 식각액과 상기 제2 식각액은 식각액의 종류, 식각액의 농도, 식각액의 온도, 식각액의 분사 압력, 식각액의 분사 시간 중 적어도 하나가 다르게 조절될 수 있다.At least one of the type of etchant, the concentration of the etchant, the temperature of the etchant, the spray pressure of the etchant, and the spray time of the etchant may be differently controlled between the first etchant and the second etchant.

본 발명에 따르면, 태양전지용 글래스 기판의 표면을 습식 식각하여 태양전지용 글래스 기판의 표면에 소정의 요철 패턴을 형성함으로써 방식이 간단하고 공정 시간이 단축되며 공정 단가가 저렴하게 태양전지용 글래스 기판을 텍스쳐링 할 수 있는 효과를 갖는다.According to the present invention, by wet etching the surface of the glass substrate for the solar cell to form a predetermined concave-convex pattern on the surface of the glass substrate for the solar cell, the method is simple, the process time is shortened, and the process cost is low, the glass substrate for the solar cell can be processed at low cost Has the effect.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현 될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일 또는 유사한 기능을 지칭한다. DETAILED DESCRIPTION The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings that show, by way of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different but need not be mutually exclusive. For example, certain shapes, structures, and characteristics described herein may be embodied in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention with respect to one embodiment. It is also to be understood that the position or arrangement of the individual components within each disclosed embodiment may be varied without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description, therefore, is not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is defined only by the appended claims, along with the full range of equivalents to which such claims are entitled. Like reference numerals in the drawings refer to the same or similar functions throughout the several aspects.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구성을 상세하게 설명하도록 한다.Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 본 발명에 따른 태양전지용 글래스 기판의 텍스처링 방법은 글래스 기판 상에 마스크층이 형성되어 있지 않은 상태에서 상기 글래스 기판을 습식 식각하여 상기 글래스 기판 상에 요철부를 형성하는 것을 특징으로 한다. 즉, 본 발명은 요철부의 원 패턴이 형성되어 있는 마스크층의 개재 없이 글래스 기판의 표면을 글래스 기판을 습식 식각할 수 있는 식각액으로 글래스 기판의 표면을 식각하여 글래스 기판 상에 요철부를 형성함으로써 글래스 기판을 텍스쳐링 하는 것을 특징으로 한다.First, the method of texturing a glass substrate for a solar cell according to the present invention is characterized by forming an uneven portion on the glass substrate by wet etching the glass substrate in a state where a mask layer is not formed on the glass substrate. That is, the present invention provides a glass substrate by forming an uneven portion on the glass substrate by etching the surface of the glass substrate with an etching solution capable of wet etching the glass substrate on the surface of the glass substrate without intervening the mask layer on which the circular pattern of the uneven portion is formed. It characterized in that the texturing.

도 1a는 본 발명의 제1 실시예에 따른 태양전지용 글래스 기판의 텍스처링 방법의 구성을 나타내는 도면이다.1A is a diagram illustrating a configuration of a texturing method of a glass substrate for a solar cell according to a first embodiment of the present invention.

도 1a를 참조하면, 본 실시예에 따른 텍스쳐링 방법은 글래스 기판(100)의 표면에 복수개의 스트레이트형 노즐(111)을 통하여 글래스 기판(100)을 식각할 수 있는 식각액(121)을 분사하는 단계를 포함한다.Referring to FIG. 1A, in the texturing method according to the present embodiment, spraying the etching liquid 121 capable of etching the glass substrate 100 through a plurality of straight nozzles 111 on the surface of the glass substrate 100. It includes.

글래스 기판(100)은 통상적인 태양전지 제조시 채용할 수 있는 어떠한 글래스 기판이라도 포함할 수 있으며, 예를 들어, 일반 글래스, 저철분 글래스, 강화 글래스 등을 포함할 수 있다.The glass substrate 100 may include any glass substrate that may be employed in manufacturing a conventional solar cell, and may include, for example, general glass, low iron glass, and tempered glass.

스트레이트형 노즐(111)은 소정의 액체를 분사할 수 있는 형태의 노즐이면 특별하게 제한되지는 않으나 본 발명에서 노즐을 통하여 분사되는 액체가 글래스 기판을 식각할 수 있는 식각액이므로 스트레이트형 노즐(111)은 상기 식각액에 노출되어도 손상되지 않는 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.The straight nozzle 111 is not particularly limited as long as it is a nozzle capable of spraying a predetermined liquid, but in the present invention, since the liquid sprayed through the nozzle is an etchant capable of etching the glass substrate, the straight nozzle 111 is used. Silver is preferably made of a material that is not damaged even when exposed to the etchant.

한편, 도 1a를 참조하면, 본 실시예에서는 글래스 기판(100)을 수직으로 세 운 상태(즉 텍스쳐링 면이 지면에 대하여 수직인 상태)에서 텍스쳐링 공정을 수행하는 것으로 도시되어 있지만 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 필요에 따라서는 글래스 기판(100)을 수평으로 누인 상태(즉 텍스쳐링 면이 지면에 대하여 수평인 상태)에서 텍스쳐링 공정을 수행할 수도 있다.Meanwhile, referring to FIG. 1A, in this embodiment, the glass substrate 100 is vertically placed (that is, the texturing surface is perpendicular to the ground). However, the present invention is not limited thereto. Alternatively, if necessary, the texturing process may be performed in a state in which the glass substrate 100 is horizontally pressed (that is, the texturing surface is horizontal to the ground).

또한, 도 1a를 참조하면, 본 실시예에서는 복수개의 스트레이트형 노즐(111)을 이용하여 텍스쳐링 공정을 수행하는 것으로 도시되어 있지만 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 필요에 따라서는 단일 노즐을 사용하여 텍스쳐링 공정을 수행할 수도 있다. 다만 단일 노즐을 사용하는 경우에는 텍스쳐링 공정 수행시 글래스 기판에 대하여 노즐을 스캐닝 하는 방식 등을 이용하여 텍스쳐링 공정의 생산성 제고를 도모할 수 있다.In addition, referring to FIG. 1A, although the texturing process is illustrated using a plurality of straight nozzles 111 in the present embodiment, the texturing process may be performed using a single nozzle, although not necessarily limited thereto. It can also be done. However, when a single nozzle is used, the productivity of the texturing process can be improved by using a method such as scanning a nozzle on a glass substrate when the texturing process is performed.

또한, 도 1a를 참조하면, 본 실시예에서는 복수개의 스트레이트형 노즐(111)을 매트릭스 형태로 배열하여 텍스쳐링 공정을 수행하는 것으로 도시되어 있지만 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 필요에 따라서는 복수개의 노즐(111)을 1 열 또는 1 행의 형태로 배열하여 텍스쳐링 공정을 수행할 수도 있다. 다만 1 열 또는 1 행의 형태로 배열된 노즐을 사용하는 경우에는 텍스쳐링 공정 수행시 글래스 기판에 대하여 노즐을 스캐닝 하는 방식 등을 이용하여 텍스쳐링 공정의 생산성 제고를 도모할 수 있다.In addition, referring to FIG. 1A, although the texturing process is illustrated by arranging the plurality of straight nozzles 111 in a matrix form, the present invention is not necessarily limited thereto, and the plurality of nozzles 111 may be necessary. ) May be arranged in one column or one row to perform the texturing process. However, in the case of using the nozzles arranged in the form of one column or one row, the productivity of the texturing process may be improved by using a method of scanning the nozzles with respect to the glass substrate when the texturing process is performed.

한편, 도 1a에는 도시되어 있지 않지만, 글래스 기판(100)의 표면에 노즐(111)을 통하여 식각액(121)을 분사하는 과정 중에 글래스 기판(100)은 노즐(121)의 일측 방향으로 이동할 수 있다. 이는 텍스쳐링 공정의 생산성 향상을 위하여 텍스쳐링 공정 중에 노즐(111)에 대하여 글래스 기판(100)을 이동시킴으로써 복수개의 글래스 기판(100)에 대하여 연속적으로 텍스쳐링 공정을 수행할 수 있도록 하기 위함이다.Although not shown in FIG. 1A, the glass substrate 100 may move in one direction of the nozzle 121 during the process of spraying the etching liquid 121 on the surface of the glass substrate 100 through the nozzle 111. . This is to allow the texturing process to be continuously performed on the plurality of glass substrates 100 by moving the glass substrate 100 with respect to the nozzle 111 during the texturing process to improve the productivity of the texturing process.

또한, 도 1a에는 도시되어 있지 않지만, 글래스 기판(100)의 표면에 노즐(111)을 통하여 식각액(121)을 분사하는 과정 중에 글래스 기판(100)과 노즐(111) 중의 적어도 하나에 진동을 인가할 수 있다. 이는 텍스쳐링 공정의 균일도 향상을 위하여 텍스쳐링 공정 중에 글래스 기판(100) 및/또는 노즐(111)에 진동을 인가함으로써 글래스 기판(100)은 노즐(111)에 대하여 전후로 오실레이션(oscillation)하고, 및/또는 노즐(111)은 글래스 기판(100)에 대하여 상하로 오실레이션 하도록 하기 위함이다.In addition, although not shown in FIG. 1A, vibration is applied to at least one of the glass substrate 100 and the nozzle 111 during the process of spraying the etching liquid 121 through the nozzle 111 on the surface of the glass substrate 100. can do. This is because the glass substrate 100 oscillates back and forth with respect to the nozzle 111 by applying vibration to the glass substrate 100 and / or the nozzle 111 during the texturing process to improve the uniformity of the texturing process, and / Alternatively, the nozzle 111 may oscillate up and down with respect to the glass substrate 100.

식각액(121)은, 예를 들어, 일반 글래스, 저철분 글래스, 강화 글래스 등을 포함하는 글래스 기판(100)을 식각할 수 있는 불산, 황산, 질산 중 적어도 하나를 포함할 수 있지만 반드시 이에 한정되지는 않는다.The etchant 121 may include, but is not limited to, at least one of hydrofluoric acid, sulfuric acid, and nitric acid, which may etch the glass substrate 100 including, for example, general glass, low iron glass, and tempered glass. Does not.

또한, 글래스 기판(100)의 표면에 식각액(121)을 분사하는 과정에서 식각액(121)의 종류, 식각액(121)의 농도, 식각액(121)의 온도, 식각액(121)의 분사 압력, 식각액(121)의 분사 시간 중 적어도 하나를 조절하여 글래스 기판(100)의 식각 정도, 즉 텍스쳐링 정도를 조절할 수 있다.Further, in the process of spraying the etchant 121 on the surface of the glass substrate 100, the type of etchant 121, the concentration of the etchant 121, the temperature of the etchant 121, the injection pressure of the etchant 121, the etchant ( An etching degree, that is, a texturing degree of the glass substrate 100 may be adjusted by adjusting at least one of the injection times of 121.

도 1b는 본 발명의 제2 실시예에 따른 태양전지용 글래스 기판의 텍스처링 방법의 구성을 나타내는 도면이다.FIG. 1B is a diagram illustrating a configuration of a texturing method of a glass substrate for a solar cell according to a second embodiment of the present invention.

도 1b를 참조하면, 본 실시예에 따른 텍스쳐링 방법은 글래스 기판(100)의 양 표면에 복수개의 스트레이트형 노즐(112, 113)을 통하여 글래스 기판(100)을 식각할 수 있는 식각액(122, 123)을 분사하는 단계를 포함한다.Referring to FIG. 1B, in the texturing method according to the present embodiment, the etching liquids 122 and 123 capable of etching the glass substrate 100 through a plurality of straight nozzles 112 and 113 on both surfaces of the glass substrate 100. Spraying).

도시한 바와 같이, 도 1b의 제2 실시예에 따른 방법은 도 1a의 제1 실시예에 따른 방법과 비교할 때 글래스 기판(100)의 양 표면을 동시에 식각하여 텍스쳐링 공정을 수행하는 점을 제외하고는 특별한 차이점이 없다는 것을 알 수 있다. 이에 이하의 제2 실시예에 대한 설명은 상기 제1 실시예와의 차이점에 대해서만 하기로 한다.As shown in FIG. 1B, the method according to the second embodiment of FIG. 1B is performed by simultaneously etching both surfaces of the glass substrate 100 to perform a texturing process as compared with the method according to the first embodiment of FIG. 1A. You can see that there is no particular difference. Therefore, the following description of the second embodiment will only be described with respect to differences from the first embodiment.

도 1b를 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 텍스처링 방법은 제1 스트레이트형 노즐(112)과 제2 스트레이트형 노즐(113)을 통하여 글래스 기판(100)의 양 표면에 각각 제1 식각액(122)과 제2 식각액(123)을 분사함으로써 글래스 기판(100)의 양면에 대하여 동시에 텍스쳐링 공정을 수행하는 것을 특징으로 한다. 이는 태양전지의 응용 분야에 따라서는 글래스 기판의 양면을 텍스쳐링 해야 하는 경우에 있는데 이러한 경우에 본 실시예의 방법을 채용하면 글래스 기판의 양면을 효율적으로 텍스쳐링 할 수 있게 된다.Referring to FIG. 1B, in the texturing method according to the second embodiment of the present invention, first etching liquids are formed on both surfaces of the glass substrate 100 through the first straight nozzle 112 and the second straight nozzle 113, respectively. The texturing process may be simultaneously performed on both surfaces of the glass substrate 100 by spraying the 122 and the second etchant 123. This is a case where the two surfaces of the glass substrate should be textured according to the application field of the solar cell. In this case, if the method of the present embodiment is adopted, the two surfaces of the glass substrate can be efficiently textured.

이때 글래스 기판(100)의 전면에는 제1 스트레이트형 노즐(112)을 통하여 글래스 기판(100)의 전면을 식각할 수 있는 제1 식각액(122)을 분사하고, 글래스 기판(100)의 후면에는 제2 스트레이트형 노즐(113)을 통하여 글래스 기판의 후면을 식각할 수 있는 제2 식각액(123)을 분사할 수 있다.At this time, the first etching liquid 122 that can etch the entire surface of the glass substrate 100 through the first straight nozzle 112 is sprayed on the front surface of the glass substrate 100, the first on the rear surface of the glass substrate 100 The second etchant 123 capable of etching the rear surface of the glass substrate may be injected through the two straight nozzles 113.

또한, 이때 제1 식각액(122)과 제2 식각액(123)은 식각액의 종류, 식각액의 농도, 식각액의 온도, 식각액의 분사 압력, 식각액의 분사 시간 중 적어도 하나가 다르게 조절될 수 있으며, 그 결과 글래스 기판(100)의 양면의 텍스쳐링 정도를 다르게 조절할 수 있다.In addition, at this time, the first etchant 122 and the second etchant 123 may be differently controlled at least one of the type of etchant, the concentration of the etchant, the temperature of the etchant, the injection pressure of the etchant, the injection time of the etchant, and as a result The texturing degree of both surfaces of the glass substrate 100 may be adjusted differently.

한편, 도 1b를 참조하면, 본 실시예에서는 글래스 기판(100)을 동시에 텍스쳐링 하기 위하여 글래스 기판(100)의 양측에 제1 및 제2 스트레이트형 노즐(112, 113)을 설치하여 텍스쳐링 공정을 수행하는 것으로 도시되어 있지만 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 필요에 따라서는 도 1a에서와 같이 글래스 기판(100)의 전면 측에만 스트레이트형 노즐(111)을 설치하고 글래스 기판(100)의 전면에 대하여 식각액(121)을 분사하여 텍스쳐링 공정을 수행하고, 글래스 기판(100)의 후면은 글래스 기판(100)의 전면에 대하여 식각액(121)을 분사하는 과정에서 발생하는 식각액(120)의 증기(fume)에 의하여 텍스쳐링 공정을 수행함으로써 글래스 기판(100)의 양면에 대하여 동시에 텍스쳐링 공정을 수행할 수도 있다.Meanwhile, referring to FIG. 1B, in the present embodiment, the texturing process is performed by installing the first and second straight nozzles 112 and 113 on both sides of the glass substrate 100 to simultaneously texture the glass substrate 100. Although shown as being, but not necessarily limited thereto. That is, if necessary, as shown in FIG. 1A, the straight nozzle 111 is installed only on the front side of the glass substrate 100, and the etching liquid 121 is sprayed on the front surface of the glass substrate 100 to perform the texturing process. The rear surface of the glass substrate 100 may perform a texturing process using a vapor of the etching liquid 120 generated in the process of spraying the etching liquid 121 on the front surface of the glass substrate 100. The texturing process may be performed simultaneously on both sides of.

도 2a는 본 발명의 제3 실시예에 따른 태양전지용 글래스 기판의 텍스쳐링 방법의 구성을 나타내는 도면이다.2A is a diagram illustrating a configuration of a texturing method of a glass substrate for a solar cell according to a third embodiment of the present invention.

도 2a를 참조하면, 본 실시예에 따른 텍스쳐링 방법은 글래스 기판(100)의 표면에 슬릿형 노즐(114)을 통하여 글래스 기판(100)을 식각할 수 있는 식각액(124)을 분사하는 단계를 포함한다.Referring to FIG. 2A, the texturing method according to the present embodiment includes spraying an etchant 124 capable of etching the glass substrate 100 through the slit nozzle 114 on the surface of the glass substrate 100. do.

도시한 바와 같이, 도 2a의 제3 실시예에 따른 방법은 도 1a의 제1 실시예에 따른 방법과 비교할 때 복수개의 스트레이트형 노즐(111) 대신에 단일개의 슬릿형 노즐(114)을 사용하여 글래스 기판(100)에 대하여 텍스쳐링 공정을 수행하는 점을 제외하고는 특별한 차이점이 없다는 것을 알 수 있다. 이에 이하의 제3 실시예에 대한 설명은 생략하기로 한다.As shown, the method according to the third embodiment of FIG. 2A uses a single slit nozzle 114 instead of a plurality of straight nozzles 111 when compared to the method according to the first embodiment of FIG. 1A. It can be seen that there is no particular difference except that the texturing process is performed on the glass substrate 100. Therefore, a description of the following third embodiment will be omitted.

도 2b는 본 발명의 제4 실시예에 따른 태양전지용 글래스 기판의 텍스처링 방법의 구성을 나타내는 도면이다.2B is a diagram illustrating a configuration of a texturing method of a glass substrate for a solar cell according to a fourth embodiment of the present invention.

도 2b를 참조하면, 본 실시예에 따른 텍스쳐링 방법은 글래스 기판(100)의 양 표면에 슬릿형 노즐(115, 116)을 통하여 글래스 기판(100)을 식각할 수 있는 식각액(125, 126)을 분사하는 단계를 포함한다.Referring to FIG. 2B, in the texturing method according to the present embodiment, the etching liquids 125 and 126 may etch the glass substrate 100 through the slit nozzles 115 and 116 on both surfaces of the glass substrate 100. Spraying.

도시한 바와 같이, 도 2b의 제4 실시예에 따른 방법은 도 2a의 제3 실시예에 따른 방법과 비교할 때 글래스 기판(100)의 양 표면을 동시에 식각하여 텍스쳐링 공정을 수행하는 점을 제외하고는 특별한 차이점이 없다는 것을 알 수 있다. 이에 이하의 제4 실시예에 대한 설명은 상기 제3 실시예와의 차이점에 대해서만 하기로 한다.As shown in FIG. 2B, the method according to the fourth embodiment of FIG. 2B has a texture process performed by simultaneously etching both surfaces of the glass substrate 100 as compared with the method according to the third embodiment of FIG. 2A. You can see that there is no particular difference. Therefore, the following description of the fourth embodiment will only be described with respect to differences from the third embodiment.

도 2b를 참조하면, 본 발명의 제4 실시예에 따른 텍스처링 방법은 제1 슬릿형 노즐(115)과 제2 슬릿형 노즐(116)을 통하여 글래스 기판(100)의 양 표면에 각각 제1 식각액(125)과 제2 식각액(126)을 분사함으로써 글래스 기판(100)의 양면에 대하여 동시에 텍스쳐링 공정을 수행하는 것을 특징으로 한다. Referring to FIG. 2B, in the texturing method according to the fourth embodiment of the present invention, first etching liquids are formed on both surfaces of the glass substrate 100 through the first slit nozzle 115 and the second slit nozzle 116, respectively. By spraying the 125 and the second etchant 126, the texturing process may be simultaneously performed on both surfaces of the glass substrate 100.

도 3은 본 발명에 따라 텍스쳐링된 태양전지용 글래스 기판의 표면을 촬영한 SEM 사진이다.3 is a SEM photograph of the surface of the glass substrate for a solar cell textured in accordance with the present invention.

도 3의 SEM 사진은 글래스 기판의 표면에 스트레이트형 노즐을 통하여 상온에서 황산과 질산을 혼합한 식각액을 20분간 분사한 후에 글래스 기판의 표면을 촬영한 것이다.The SEM photograph of FIG. 3 is a surface of the glass substrate after spraying an etching liquid mixed with sulfuric acid and nitric acid at room temperature for 20 minutes through a straight nozzle on the surface of the glass substrate.

도시한 바와 같이, 태양전지용 글래스 기판의 표면에 요철부가 형성되어 텍스쳐링된 글래스 기판을 얻을 수 있음을 알 수 있다.As shown, it can be seen that the concave-convex portion is formed on the surface of the glass substrate for solar cells to obtain a textured glass substrate.

이와 같이 본 발명에 따른 태양전지용 글래스 기판의 텍스처링 방법은 글래스 기판 상에 마스크층이 형성되어 있지 않은 상태에서 글래스 기판을 습식 식각하여 글래스 기판 상에 요철부를 형성하는 것을 특징으로 함으로써, 방식이 간단하고 공정 시간이 단축되며 공정 단가가 저렴한 이점이 있다.As described above, the method for texturing a glass substrate for a solar cell according to the present invention is characterized by forming an uneven portion on the glass substrate by wet etching the glass substrate while the mask layer is not formed on the glass substrate. The process time is shortened and the process cost is low.

본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken in conjunction with the present invention. Variations and changes are possible. Such modifications and variations are intended to fall within the scope of the invention and the appended claims.

도 1a는 본 발명의 제1 실시예에 따른 태양전지용 글래스 기판의 텍스처링 방법의 구성을 나타내는 도면이다.1A is a diagram illustrating a configuration of a texturing method of a glass substrate for a solar cell according to a first embodiment of the present invention.

도 1b는 본 발명의 제2 실시예에 따른 태양전지용 글래스 기판의 텍스처링 방법의 구성을 나타내는 도면이다.FIG. 1B is a diagram illustrating a configuration of a texturing method of a glass substrate for a solar cell according to a second embodiment of the present invention.

도 2a는 본 발명의 제3 실시예에 따른 태양전지용 글래스 기판의 텍스처링 방법의 구성을 나타내는 도면이다.2A is a diagram illustrating a configuration of a texturing method of a glass substrate for a solar cell according to a third embodiment of the present invention.

도 2b는 본 발명의 제4 실시예에 따른 태양전지용 글래스 기판의 텍스처링 방법의 구성을 나타내는 도면이다.2B is a diagram illustrating a configuration of a texturing method of a glass substrate for a solar cell according to a fourth embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명에 따라 텍스쳐링된 태양전지용 글래스 기판의 표면을 촬영한 SEM 사진이다.3 is a SEM photograph of the surface of the glass substrate for a solar cell textured in accordance with the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명> <Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100: 태양전지용 글래스 기판100: glass substrate for solar cell

111, 112, 113: 스트레이트형 노즐111, 112, 113: Straight nozzle

114, 115, 116: 슬릿형 노즐114, 115, 116: slit nozzle

121, 122, 123, 124, 125, 126: 식각액121, 122, 123, 124, 125, 126: etchant

Claims (15)

삭제delete (a) 글래스 기판을 준비하는 단계; 및(a) preparing a glass substrate; And (b) 상기 글래스 기판의 표면에 노즐을 통하여 상기 글래스 기판을 식각할 수 있는 식각액을 분사하는 단계(b) spraying an etchant capable of etching the glass substrate through a nozzle on a surface of the glass substrate; 를 포함하며,Including; 상기 식각액에 의하여 상기 글래스 기판이 식각되어 상기 글래스 기판 상에 요철부가 형성되며,The glass substrate is etched by the etchant to form an uneven portion on the glass substrate, 상기 (b) 단계에서 상기 글래스 기판의 제1 표면에는 제1 노즐을 통하여 상기 글래스 기판의 제1 표면을 식각할 수 있는 제1 식각액을 분사하고, 상기 글래스 기판의 제2 표면에는 제2 노즐을 통하여 상기 글래스 기판의 제2 표면을 식각할 수 있는 제2 식각액을 분사하는 것을 특징으로 하는 태양전지용 글래스 기판의 텍스처링 방법.In the step (b), a first etching liquid capable of etching the first surface of the glass substrate is sprayed onto the first surface of the glass substrate, and a second nozzle is applied to the second surface of the glass substrate. The method of texturing a glass substrate for a solar cell, characterized in that for spraying a second etching liquid capable of etching the second surface of the glass substrate through. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 식각액은 불산, 황산, 질산 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지용 글래스 기판의 텍스쳐링 방법.The etching solution is a texturing method of a glass substrate for a solar cell, characterized in that containing at least one of hydrofluoric acid, sulfuric acid, nitric acid. 삭제delete 삭제delete 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제1 식각액과 상기 제2 식각액은 식각액의 종류, 식각액의 농도, 식각액의 온도, 식각액의 분사 압력, 식각액의 분사 시간 중 적어도 하나가 다르게 조절되는 것을 특징으로 하는 태양전지용 글래스 기판의 텍스쳐링 방법.The first etchant and the second etchant is a texturing method of the glass substrate for a solar cell, characterized in that at least one of the type of etchant, the concentration of the etchant, the temperature of the etchant, the injection pressure of the etchant, the injection time of the etchant is differently controlled.
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