KR101042425B1 - 유리 기판의 양면 형상 측정 장치 및 유리 기판의 양면 형상 측정 방법 - Google Patents

유리 기판의 양면 형상 측정 장치 및 유리 기판의 양면 형상 측정 방법 Download PDF

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야스유끼 기따
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Abstract

유리 기판의 양면 형상 측정 장치이며, 측정 장치 본체는 금속제 베드 상의 일단부에 대략 수직 상태로 배치한 종형 정반의 기준 평면과, 그곳에 대략 평행하게 피측정 기판을 보유 지지하는 보유 지지 기구와, 변위계 주사 컬럼을 갖는다. 상기 변위계 주사 컬럼은 제1(제2) 변위계를 탑재하는 제1 에어 슬라이드, 제3 변위계를 탑재하는 제2 에어 슬라이드를 구비하고, 한 쌍의 V홈에 따라 수평축 방향으로 이동한다. 또한, 제1(제2) 에어 슬라이드가 수직축 방향으로 이동한다. 상기 제1(제2) 변위계의 주사에 의해 피측정 기판의 판면의 일면의 표면 형상을 측정하고, 동시에 상기 제3 변위계의 주사에 의해 상기 판면의 다른 면의 표면 형상을 측정한다.
양면 형상 측정 장치, 기준 평면, 변위계 주사 컬럼, 에어 슬라이드, 베드

Description

유리 기판의 양면 형상 측정 장치 및 유리 기판의 양면 형상 측정 방법{APPARATUS AND METHODS FOR MEASURING SHAPE OF BOTH SIDES OF A GLASS PLATE}
도1은 본 발명에 관한 유리 기판의 양면 형상 측정 장치의 전체 구성을 도시하는 구성도.
도2는 도1에 도시한 유리 기판의 양면 형상 측정 장치의 변위계 주사부를 도시하는 사시도.
도3은 도2에 도시한 에어 슬라이드의 확대 사시도.
도4는 피측정 기판의 양면 형상을 측정하는 주요부를 도시하는 구성도.
도5는 피측정 기판의 양면 형상 측정 및 판 두께 측정을 도시하는 모식도.
도6은 피측정 기판의 양면 형상 측정에 있어서의 변위계의 주사면 측정을 도시하는 모식도.
도7은 피측정 기판의 양면 형상을 측정하는 주요부를 도시하는 다른 구성도.
도8a 및 도8b는 포토마스크에 노광한 경우의 광로를 설명하기 위한 모식도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 : 측정 장치 본체
2 : 베드
3 : 종형 정반
4 : 기준 평면
5 : 보유 지지 기구
6 : 보유 지지 부재
6a : 측 기둥
6b : 가로대
7a, 7b : 지지 부재
8 : 파지 기구
9 : 변위계 주사 컬럼
10 : V홈
11 : 테이블
12, 13 : 에어 슬라이드
14, 18 : 안내 레일
15, 19 : 볼 나사
16 : 고정판
17, 20 : 슬라이더
23, 24, 25 : 변위계
27 : 케이블
28 : 컴퓨터
29 : 디스플레이
30 : 프린터
[문헌 1] 일본 특허 공개 평3-90805호 공보
[문헌 2] 일본 특허 공개 제2000-55641호 공보
본 발명은 기판의 양면 형상이 중요한 요소가 되는 피측정 기판, 예를 들어 대형 액정용 석영 유리제의 포토마스크 등의 유리 기판의 표면 및 이면의 양면 형상을 고밀도로 측정할 수 있는 유리 기판의 양면 형상 측정 장치 및 유리 기판의 양면 형상 측정 방법에 관한 것이다.
예를 들어, 액정 디스플레이 기판의 TFT(박막 트랜지스터) 어레이의 제조에 있어서는, 포토마스크 표면에 형성된 차광막으로 이루어지는 마스크 패턴이 포토리소그래피 기술에 의해 노광 투영되어 머더 유리 상에 패턴 전사된다. 그리고, 이 포토리소그래피 기술과 이른바 가공 기술에 의해 상기 머더 유리 상에 TFT 어레이가 형성된다. 마찬가지로, 액정 디스플레이 기판의 컬러 필터도 염료 함침법이라 불리워지는 리소그래피를 이용한 방법에 의해 제조된다. TFT 어레이측 및 컬러 필터측 중 어떠한 제조에 있어서도 대형의 포토마스크가 필요하다. 그리고, 정밀도가 좋은 패턴 전사를 실시하기 위해, 이들 대형 포토마스크의 재료는 선팽창 계수가 작은 합성 석영 유리가 주로 이용된다.
상기 액정 디스플레이 기판을 제조하기 위한 머더 유리는 점점 대형화가 도모되고, 이에 수반하여 상기 석영 유리제 포토마스크의 대형화가 한층 더 요구되고 있다. 그리고, 현재는 1500 mm × 1500 mm 치수 이상이 되는 대형 포토마스크가 사용되도록 되어 왔다. 여기서, 이 대형 포토마스크의 판 두께는 10 mm 내지 20 mm가 된다.
상기 대형화하는 포토마스크에서는, 포토마스크 전면에 걸쳐 상기 마스크 패턴이 형성되는 표면의 평탄도가 중요한 요소가 된다. 그리고, 포토마스크의 각각에 있어서 그 표면의 평탄도를 측정하고, 규격 범위 내의 것을 선택하는 엄중한 품질 관리가 필수가 된다. 그래서, 상기 대형 포토마스크의 표면의 평탄도를 측정하는 장치로서, 지금까지 다양한 것이 제안되었다(예를 들어, 일본 특허 공개 평3-90805호 공보, 일본 특허 공개 제2000-55641호 공보). 그리고, 그 일부는 이미 실용적으로 공급되어 상기 대형 포토마스크와 같은 피측정 기판의 평탄도의 관리에 이용되고 있다.
한편, 상기 액정 모니터 기판은 VGA로부터 SVGA, XGA, SXGA, UXGA, QXGA로 고해상도가 점점 진행하고 있다. 또한, 저온 폴리 실리콘을 이용하여 상기 TFT를 형성하는 동시에, 디스플레이의 화소와는 달리 머더 유리의 외주부에 드라이버용 IC를 형성하는 방법이 실용화되고 있다. 그리고, 이들에 수반하여, TFT 어레이측의 패턴 전사의 정밀도, 특히 상기 패턴의 노광 투영에 있어서의 중합 정밀도의 향상이 점점 요구되도록 되고 있다.
상기 포토리소그래피에 있어서의 패턴 전사의 고정밀도화는, 포토마스크 전면에 걸친 상기 포토마스크 표면의 평탄도와 함께, 그 대향하는 포토마스크면(포토 마스크의 이면이라 함)의 평탄도의 엄중한 품질 관리를 필요로 하고 있다. 이에 대해, 도8a 및 도8b를 참조하여 설명한다. 여기서, 도8a는 포토마스크(101)의 표면(102)이 볼록 형상이 되고, 이면(103) 형상이 비교적으로 평탄해지는 경우이다. 도8b는 포토마스크(101)의 표면(102) 형상이 비교적으로 평탄하고, 이면(103)이 오목 형상이 되는 경우이다.
도8a에 도시한 바와 같이, 포토마스크(101) 표면에 볼록 형상이 있으면, 포토마스크(101)의 이면(103)측으로부터 입사하는 실선의 노광광(104)은 그 표면(102)의 볼록 형상에 의해 절곡을 일으켜 머더 유리(105) 표면의 감광막(도시하지 않음)을 노광한다. 이 노광광(104)의 절곡로 인해, 패턴 전사에 있어서 전사 위치에 어긋남이 생기게 된다. 여기서, 도면 중의 점선은 상기 볼록 형상이 없어 광이 직진하는 이상적인 광로를 나타내고 있다. 그래서, 상술한 바와 같이 포토마스크 표면의 평탄도를 높여 이상적인 광로에 근접시키도록 하고, 상기 TFT 어레이측의 패턴 전사의 정밀도를 향상시키고 있다.
또한, 도8b의 경우에 있어서도 그 정도는 작지만 도8a의 경우와 동일한 것이 발생된다. 도8b에 도시한 바와 같이, 노광광(104)이 오목 형상을 갖는 이면(103)측으로부터 입사하면, 그 광로는 그곳에서 절곡하여 표면(102)에 도달한다. 그리고, 표면(102)에 있어서 상기 절곡의 정도가 경감되어 머더 유리(105) 표면의 감광막(도시하지 않음)을 노광한다. 이로 인해, 이 경우에 있어서도 상기 패턴 전사의 전사 위치의 어긋남은 도8a의 경우에 비해 작지만 발생되어 버린다.
그리고, 상술한 액정 모니터의 고해상도, 혹은 드라이버용 IC의 혼재에 의해 상기 패턴 전사의 고정밀도화가 필요해지면, 포토마스크 이면의 요철 형상에 의한 패턴 전사의 위치 어긋남이 문제로서 현저화되어 간다. 이로 인해, 이상 광로에 근접해지도록 포토마스크 이면의 평탄도를 높이는 것이 요구되고, 그 평탄도의 엄중한 품질 관리가 필요해지고 있다.
그러나, 상기 대형 액정용 포토마스크의 표면의 형상 및 이면의 형상을 동시에 고정밀도로 측정할 수 있는 양면 형상 측정 장치, 혹은 그 양면 형상 혹은 양면의 평탄도를 간편하게 게다가 고정밀도로 측정하는 방법은 아직 개발되어 있지 않다.
본 발명은 상술한 사정에 비추어 이루어진 것으로, 상기 액정용 포토마스크에 한정되지 않고 기판의 양면 형상이 중요한 요소가 되는 피측정 기판에 있어서, 그 표면 및 이면의 양면 형상을 고정밀도로 측정할 수 있는 유리 기판의 양면 형상 측정 장치 및 유리 기판의 양면 형상 측정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 관한 유리 기판의 양면 형상 측정 장치는 정반의 기준 평면이 거의 수직 상태가 되도록 배치된 정반과, 피측정 기판의 판면이 상기 기준 평면에 대략 평행해지도록 피측정 기판을 보유 지지하는 보유 지지 기구와, 상기 정반의 기준 평면과, 상기 보유 지지 기구에 의해 보유 지지된 상기 피측정 기판의 판면의 일면과의 사이에 배치되고, 수직면 내에 있어서 주사 가능하며 상기 주사와 함께 상기 정반의 기준 평면과의 거리를 측정하는 제1 변위계 및 상기 피측정 기판의 판면의 일면과의 거리를 측정하는 제2 변위계와, 상기 판면의 일면에 대향하는 다른 면측에 배치되고, 수직면 내에 있어서 상기 제1 변위계 및 상기 제2 변위계와 비동기로 주사 가능하며 상기 주사와 함께 상기 판면의 다른 면과의 거리를 측정하는 제3 변위계와, 상기 각 변위계에 의한 측정 결과를 기초로 하여 피측정 기판의 표면 형상을 연산하는 연산 수단을 갖는 구성으로 되어 있다.
상기 발명에 있어서, 상기 기준 평면에 있어서의 수직축 방향으로 이동 가능한 제1 Y축 이동 기구에 상기 제1 변위계와 상기 제2 변위계가 탑재되고, 상기 제1 Y축 이동 기구와는 독립적으로 상기 기준 평면에 있어서의 수직축 방향으로 이동 가능한 제2 Y축 이동 기구에 상기 제3 변위계가 탑재되고, 상기 제1 Y축 이동 기구와 상기 제2 Y축 이동 기구가 상기 기준 평면에 있어서의 수평축 방향으로 이동 가능한 X축 이동 기구에 탑재되어 있다.
상기 구성으로 함으로써 상기 X축 이동 기구 및 2개의 Y축 이동 기구의 이동 운동에 있어서 매우 높은 직선성과 높은 위치 결정 정밀도가 얻어지게 된다. 이에 수반하여, 상기 제1 변위계, 제2 변위계 및 제3 변위계는 정반의 기준 평면에 대해 고밀도로 정확한 주사가 가능해진다. 그리고, 상기 기준 평면을 기준면으로 하여 피측정 기판의 일면 및 다른 면의 양면 형상을 동시에 게다가 고정밀도로 측정하는 것이 가능해진다.
본 발명의 적합한 일형태에서는, 상기 제1 Y축 이동 기구 및 상기 제2 Y축 이동 기구는 볼 나사 및 이에 결합한 슬라이드에 의해 구성되고, 상기 X축 이동 기구는 V-V 구름 안내 혹은 V-V 미끄럼 안내에 의해 구성된다. 상기 슬라이드로서 는, 에어 슬라이드를 채용하는 것이 볼 나사에 의한 위치 결정시의 진동에 의한 정밀도의 열화를 방지할 수 있다.
또한, 본 발명의 적합한 일형태에서는 상기 제1 변위계, 제2 변위계 및 제3 변위계는 비접촉 레이저 변위계에 의해 구성된다.
그리고, 본 발명의 유리 기판의 양면 형상 측정 방법은 정반의 기준 평면을 대략 수직 상태가 되도록 배치하고, 피측정 기판의 판면이 상기 기준 평면에 거의 평행해지도록 상기 피측정 기판을 지지하는 동시에, 상기 기준 평면에 대향하여 배치된 제1 변위계 및 상기 피측정 기판의 판면의 일면측에 대향하여 배치된 제2 변위계를 상기 기준 평면과 상기 피측정 기판의 판면의 일면측과의 사이의 수직면 내에 있어서 주사하고, 상기 판면의 일면과 상기 기준 평면과의 거리를 계측하고, 동시에 상기 판면의 일면에 대향하는 다른 면측에 대향하여 배치된 제3 변위계를 주사하고, 상기 판면의 다른 면과 상기 기준 평면과의 거리를 계측하고, 상기 피측정 기판의 일면 및 다른 면의 표면 형상을 측정하는 구성을 갖고 있다.
상기 유리 기판의 양면 형상 측정 방법의 발명에 있어서, 미리 상기 제2 변위계와 상기 제3 변위계와의 사이에 소정의 판 두께를 갖는 기준 블록을 배치하고, 상기 제1 변위계와 제2 변위계에 의해 상기 기준 블록의 일면과 상기 정반의 기준 평면과의 거리(A1+A2+Lo)를 계측하고, 상기 제3 변위계에 의해 상기 기준 블록의 다른 면과의 거리(A3)를 계측하고, 상기 제3 변위계와 상기 정반의 기준 평면과의 거리(Ao)를 계측하는 구성을 갖는다.
상기 구성으로 함으로써 대형 액정용 포토마스크와 같은 대형의 피측정 기판의 양면 형상을 간편하고 게다가 단시간에 있어서 고정밀도로 측정하는 것이 가능해진다. 또한, 상기 피측정 기판의 일면 및 다른 면의 양면의 평탄도를 고정밀도로 구할 수 있다.
본 발명의 적합한 일형태에서는, 상기 제1 변위계와 제2 변위계 및 상기 제3 변위계를 동기하여 주사한다.
또한, 유리 기판의 양면 형상 측정 방법의 발명에 있어서 상기 제1 변위계와 제2 변위계에 의해 상기 피측정 기판의 판면의 일면과 상기 기준 평면과의 거리를 계측하는 것과, 상기 제3 변위계에 의해 상기 판면의 다른 면과 상기 기준 평면과의 거리를 계측함으로써 상기 피측정 기판의 형상을 간편하게 측정할 수 있다.
본 발명에 의해, 유리 기판의 양면 형상이 중요한 요소가 되는 피측정 기판에 있어서, 그 표면 및 이면의 양면 형상을 고정밀도로 측정할 수 있다. 그리고, 유리 기판의 양면의 평탄도를 간편하게 게다가 단시간에 측정할 수 있다.
본 발명의 적합한 실시 형태에 대해 도1 내지 도7을 참조하여 설명한다. 도1은 유리 기판의 양면 형상 측정 장치의 전체 구성도이다. 그리고, 도2는 피측정 기판의 양면 형상을 측정하는 변위계의 주사부를 도시하는 사시도이다.
도1에 도시한 바와 같이, 측정 장치 본체(1)는 금속제 베드(2) 상의 일단부에 종형 정반(3)이 배치되어 있다. 이 종형 정반(3)으로서는 주물에 의해 구성하는 것이 적합하다. 그리고, 이 종형 정반(3)의 수직면은 마찰 가공 혹은 랩 가공되고 그 표면이 니켈 도금되어 기준 평면(4)이 형성되어 있다. 이와 같이 하여, 기준 평면(4)은 그 표면 거칠기가 400 nm 이하의 대략 0에 가까운 고정밀도의 평면 형상으로 되어 있다. 상기 종형 정반(3)은, 그 밖에 금속, 세라믹스 혹은 석정반이라 불리워지는 예를 들어 그라나이트 등, 고정밀도의 평탄 가공이 가능한 재질을 이용할 수 있다.
상기 베드(2) 상에 있어서의 종형 정반(3)의 전방에는 종횡의 길이가 예를 들어 1500 mm × 1500 mm 정도 이하이고, 판 두께가 15 mm 정도인 대형 액정용 석영 유리제 포토마스크 등의 피측정 기판(P)을 보유 지지하는 보유 지지 기구(5)가 배치되어 있다. 이 보유 지지 기구(5)는 금속제 혹은 세라믹스제의 보유 지지 부재(6)를 갖고 있다. 이 보유 지지 부재(6)의 한 쌍의 측 기둥(6a)의 사이에는, 각각 모터(6c)에 의해 구동되고 상하 이동 가능하게 가로로 걸쳐진 가로대(6b)가 구비되어 있고, 이 가로대(6b)의 상하 이동에 의해 피측정 기판(P)의 사이즈에 맞추어 지지 조정할 수 있도록 되어 있다.
또한, 보유 지지 부재(6)의 하부의 길이 방향으로 이격되어 배치된 한 쌍의 하부 지지 부재(7a)와, 보유 지지 부재(6)의 상부의 가로대(6b)의 길이 방향의 대략 중앙부에 배치된 상부 지지 부재(7b)를 구비하고 있다.
이들 지지 부재(7a, 7b)에는 피측정 기판(P)을 고정하기 위한 파지 기구(8)가 구비되어 있다. 이 파지 기구(8)가 서보 모터에 의해 구동되고, 상기 종형 정반(3)의 기준 평면(4)에 수직 방향으로 이동 가능하게 되어 있어 서보 모터를 구동함으로써 피측정 기판(P)의 판면을 정밀도 좋게 수직으로 배치할 수 있다.
상기 한 쌍의 하부 지지 부재(7a)의 이격 거리는 자동 혹은 수동으로 조정할 수 있도록 되어 있다.
그리고, 베드(2) 상에 있어서, 종형 정반(3)의 기준 평면(4)에 있어서의 X축 방향(수평 축방향)으로 이동하는 구조의 변위계 주사 컬럼(9)(X축 이동 기구)이 배치되어 있다. 이 변위계 주사 컬럼(9)은, 베드(2)의 상면에 설치한 한 쌍의 V홈(10)에 따라 직선 운동하는 V-V 구름 안내에 의해, 도2에 기재한 X축 방향으로 고정밀도로 이동할 수 있도록 되어 있다.
여기서, V-V 구름 안내에 있어서의 진직도는 높고, 베드(2) 상면에 있어서의 수평 축방향 2300 mm의 스트로크에서 2 ㎛ 이하가 된다. 또한, 그 위치 결정 정밀도는 0.1 ㎛ 이하의 고정밀도가 된다.
도2에 도시한 바와 같이, 상기 변위계 주사 컬럼(9)에는 큰 중량이 되는 예를 들어 금속제 테이블(11) 상에 제1 에어 슬라이드(12)(제1 Y축 이동 기구)와 제2 에어 슬라이드(13)(제2 Y축 이동 기구)가 수직 상태로 설치되어 있다. 여기서, 제1 에어 슬라이드(12)는 테이블(11) 상에 대략 수직으로 설치된 안내 레일(14)과 볼 나사(15)를 갖고, 그 상부에 있어서 고정판(16)에 보유 지지되어 있다. 그리고, 제1 에어 슬라이드(12)의 제1 슬라이더(17)는 테이블(11)에 내장된 모터 구동의 볼 나사(15)에 의해 안내 레일(14)에 따라 상기 기준 평면(4)에 있어서의 Y축 방향(수직축 방향)으로 고정밀도로 이동하도록 되어 있다.
마찬가지로 하여, 제2 에어 슬라이드(13)는 테이블(11) 상에 수직으로 설치되어 다른 안내 레일(18)과 볼 나사(19)를 갖고, 그 상부에 있어서 고정판(16)에 보유 지지되어 있다. 그리고, 제2 에어 슬라이드(13)의 제2 슬라이더(20)는 테이 블(11)에 내장된 모터 구동의 볼 나사(19)에 의해 안내 레일(18)에 따라 상기 기준 평면(4)에 있어서의 Y축 방향으로 고정밀도로 이동하도록 되어 있다. 상기 안내 레일(14, 18) 및 제1 슬라이더(17) 및 제2 슬라이더(20)의 재질은 경량이고 강성률이 높은 예를 들어 알루미늄 또는 세라믹스이면 적합하다.
여기서, 도3에 도시한 바와 같이 제1(제2) 슬라이더[17(20)]는 볼 나사[15(19)] 각각의 너트(21)에 일체가 되도록 설치되어 있다. 이로 인해, 테이블(11)에 내장된 모터 구동에 의한 볼 나사(15)의 회전 운동에 수반하여 Y축 방향으로 이동한다.
그리고, 도2에 도시한 바와 같이 예를 들어 알루미늄 혹은 세라믹스로 이루어지는 한 쌍의 지지 기둥(22)이 상기 테이블(11)과 고정판(16) 사이에 수직으로 설치되어 있다. 이 한 쌍의 지지 기둥(22)은, 변위계 주사 컬럼(9)을 보강하는 것이며 그 변형을 방지하는 기능을 갖는다.
이상과 같이 하여, 상기 에어 슬라이드 안내에 있어서의 진직도는 매우 높아져, 수직축 방향 1600 mm의 스트로크에서 2 ㎛ 이하가 된다. 또한, 그 위치 결정 정밀도는 0.1 ㎛ 이하의 고정밀도가 된다.
그리고, 도2에 도시한 바와 같이 제1 슬라이더(17)는 그곳에 고정하여 설치된 제1 변위계(23) 및 제2 변위계(24)를 구비하고 있다. 마찬가지로, 제2 슬라이더(20)는 그곳에 고정하여 설치된 제3 변위계(25)를 구비하고 있다. 여기서, 상기 제1 변위계(23), 제2 변위계(24) 및 제3 변위계(25)는, 예를 들어 레이저를 구비한 비접촉 레이저 변위계에 의해 구성되면 적합하다.
상기 변위계 주사 컬럼(9)은, 상술한 바와 같은 일체의 구조체로 형성되므로 비교적 큰 중량이 되고, 그 자중에 의해 그 X축 방향의 이동이 원활해져 이동 속도 불균일이 크게 저감되어 위치 결정 정밀도가 향상되게 된다.
또한, 도1에 도시한 바와 같이 제어부(26)가 측정 장치 본체(1)의 바닥부에 배치되어 있다. 이 제어부(26)로부터의 지령 신호에 의해, 상술한 바와 같은 V-V 구름 안내에 의한 변위계 주사 컬럼(9)의 X축 구동 기구, 에어 슬라이드 안내에 의한 제1 슬라이더(17)의 Y축 구동 기구 및 제2 슬라이더(20)의 Y축 구동 기구가 각각 소정의 시퀀스에 따라서 구동하도록 제어된다. 여기서, 상기 X축 구동 기구 및 상기 2개의 Y축 구동 기구의 구동부는 스테핑 모터, DC 서보 모터 혹은 AC 서보 모터 등을 갖고 있다.
또한, 도1에 도시한 바와 같이 측정 장치 본체(1)에 인접하여 케이블(27)에 의해 접속된 컴퓨터(28)가 배치되어 있고, 상기 제어부(26)에 지령을 부여하여 상기 X축 구동 기구 및 Y축 구동 기구를 제어한다. 그리고, 후술하는 상기 변위계의 주사로부터 얻어진 다양한 거리 데이터를 기초로 하여 피측정 기판(P)의 양면의 평탄도 혹은 기판의 판 두께를 연산하고, 디스플레이(29) 또는 프린터(30)로부터 그 결과 등을 출력하도록 구성되어 있다.
다음에, 상술한 유리 기판의 양면 형상 측정 장치의 주요한 조작 및 동작에 대해 설명한다. 도1에 있어서, 피측정 기판(P)으로서 예를 들어 높이 1650 mm(H), 폭 1850 mm(W), 판 두께 15 mm의 합성 석영 유리 기판을 보유 지지 기구(5)에 장착한다. 여기서, 피측정 기판(P)은 그 하단부 모서리를 하부 지지 부재(7a)의 파지 기구(8)의 소정의 위치 고정에 얹고, 그 상단부 모서리를 상부 지지 부재(7b)에 있어서의 소정의 위치 고정에 접촉시켜 대략 수직이 되도록 기대어 세울 수 있다. 그리고, 제어부(26)로부터의 지령을 기초로 하는 서보 모터 구동에 의해 상기 가로대(6b)를 수직 하강시키고, 하부 지지 부재(7a)의 2점과 상부 지지 부재(7b)의 1점에 의해 피측정 기판(P)은 보유 지지 부재(6)에 고정 보유 지지된다.
그리고, 지지 부재(7a, 7b)에 배치된 파지 기구(8)를 종형 정반(3)의 기준 평면(4)에 수직 방향으로 이동시킴으로써, 피측정 기판(P)은 종형 정반(3)의 기준 평면(4)과 마찬가지로 대략 수직 상태가 되고, 상기 기준 평면(4)과 거의 평행해지도록 배치된다.
그리고, 도1에 도시한 바와 같이 상술한 변위계 주사 컬럼(9)은 그 제1 에어 슬라이드(12)와 제2 에어 슬라이드(13) 사이에 상기 보유 지지 기구(5)를 사이에 둔 상태에서, 한 쌍의 V홈(10)에 따라 X축 방향(수평축 방향)으로 일정 속도로 직선 운동한다. 또한, 그와 함께 제1 슬라이더(17) 및 제2 슬라이더(20)를 각각 안내 레일(14, 18)에 따라 Y축 방향(수직축 방향)으로 일정 속도로 직선 운동시킨다. 또한, 제1 슬라이더(17) 및 제2 슬라이더(20)는 서로 독립적으로 직선 운동해도 좋고, 동기한 직선 운동이 되도록 해도 좋다.
여기서, 상기 X축 방향 및 Y축 방향의 이동 제어는 컴퓨터(28)에 의해 입력된 프로그램을 기초로 한 제어부(26)로부터의 지령 신호를 통해 변위계 주사 컬럼(9)의 X축 구동 기구, 제1 슬라이더(17)의 Y축 구동 기구 및 제2 슬라이더(20)의 Y축 구동 기구를 제어함으로써 행해진다. 그리고, 이 X축 방향 및 Y축 방향에 의 해 구성되는 대략 수직면 내에 있어서 주사 이동하는 상기 제1 슬라이더(17) 및 제2 슬라이더(20)에 설치한 제1 변위계(23), 제2 변위계(24) 및 제3 변위계(25)에 의한 후술하는 종형 정반(3)의 기준 평면(4)으로부터의 거리의 계측을 통해, 피측정 기판(P) 전면에 걸쳐 그 양면에 있어서의 표면 형상 및 판 두께의 변화를 측정한다.
상기 실시 형태에 있어서의 유리 기판의 양면 형상 측정 장치의 구성에 있어서는, 측정 장치 본체(1)는 예를 들어 견고한 금속제 베드(2) 상의 일단부에 대략 수직 상태로 배치한 종형 정반(3)의 기준 평면(4)과, 그곳에 대략 평행하게 피측정 기판(P)을 보유 지지하는 보유 지지 기구(5)와, 변위계 주사 컬럼(9)을 갖고 있다. 여기서, 변위계 주사 컬럼(9)은 제1 변위계(23)와 제2 변위계(24)가 탑재된 제1 에어 슬라이드(17), 제3 변위계가 탑재된 제2 에어 슬라이드(20) 및 한 쌍의 지지 기둥(22)이 일체 구조가 되도록 구비하고 있고, 상기 베드(2) 상에 있어서 한 쌍의 V홈(10)에 따라 상기 기준 평면(4)에 있어서의 수평축 방향으로 이동할 수 있도록 되어 있다. 또한, 변위계 주사 컬럼(9) 상에 있어서 제1 에어 슬라이드(17) 및 제2 에어 슬라이드(20)는 상기 기준 평면(4)에 있어서의 수직축 방향으로 이동하도록 되어 있다.
이로 인해, 변위계 주사 컬럼(9)의 수평축 방향의 직선 운동에 있어서 매우 높은 진직도와 위치 결정 정밀도가 얻어지게 된다. 마찬가지로, 제1 에어 슬라이드(17) 및 제2 에어 슬라이드(20)의 수직축 방향의 직선 운동에 있어서 매우 높은 진직도와 높은 위치 결정 정밀도가 얻어지게 된다.
그리고, 이에 수반하여 상기 제1 에어 슬라이드(17)에 탑재한 제1 변위계(23)와 제2 변위계(24) 및 제2 에어 슬라이드(20)에 탑재한 제3 변위계(25)는 상기 기준 평면(4)에 대해 고밀도로 정확한 주사가 가능해진다.
그리고, 제1 변위계(23)와 제2 변위계(24)에 의해 상기 종형 정반(3)의 기준 평면(4)을 기준면으로 하여 피측정 기판(P)의 판면의 일면의 표면 형상을 정밀하게 측정할 수 있다. 동시에, 제3 변위계(25)에 의해 상기 기준 평면(4)을 기준면으로 하여 피측정 기판(P)의 판면의 다른 면의 표면 형상을 정밀하게 측정할 수 있다. 그리고, 이들 표면 형상의 측정 정밀도는 1 ㎛ 이하가 된다.
이들로부터, 예를 들어 대형 액정용 포토마스크와 같은 피측정 기판(P)의 양면 형상을 측정하는 경우에 있어서 매우 고밀도의 측정이 가능해진다.
다음에, 본 발명의 유리 기판의 양면 형상 측정 방법에 대해 도4 내지 도7을 참조하여 설명한다. 여기서, 도1 및 도2에서 설명한 것과 동일 또는 유사한 부분에는 공통 부호를 붙이고 있다.
도4는 예를 들어 상술한 제1 슬라이더(17)에 서로 일체적으로 설치된 한 쌍의 제1 변위계(23)와 제2 변위계(24) 및 제2 슬라이더(20)에 설치된 제3 변위계(25)에 의해, 판면이 대략 수직 상태로 설정된 피측정 기판(P)의 양면의 표면 형상을 측정하는 실시 형태의 주요부를 도시하고 있다. 여기서, 제1 변위계(23)는 비접촉 레이저 변위계이고, 이것은 제1 슬라이더(17)에 있어서 종형 정반(3)에 대향하고, 종형 정반(3)의 기준 평면(4)과의 거리(L1)를 측정하도록 이루어져 있다. 또한, 제2 변위계(24)도 비접촉 레이저 변위계이고, 제1 슬라이더(17)에 있어서 피측정 기판(P)의 제1 판면(S1)(예를 들어, 표면)에 대향하고, 피측정 기판(P)의 제1 판면(S1)과의 거리(L2)를 측정하도록 이루어져 있다. 그리고, 제3 변위계(25)는 비접촉 레이저 변위계이고, 제2 슬라이더(20)에 있어서 피측정 기판(P)의 제2 판면(S2)(예를 들어, 이면)에 대향하고, 피측정 기판(P)의 제2 판면(S2)과의 거리(L3)를 측정하도록 이루어져 있다.
그리고, 제1 변위계(23) 및 제2 변위계(24)를 기준 평면(4)에 있어서의 수평축 방향 및 수직축 방향에 의해 구성되는 부분의 대략 수직면 내를 주사하고, 피측정 기판(P)의 제1 판면(S1)의 각 부분에 있어서의 상기 거리(L1 및 L2)를 계측해 간다. 동시에, 제3 변위계(25)를 상기 제1 변위계(23) 및 제2 변위계(24)에 동기하여 주사하고, 피측정 기판(P)의 제2 판면(S2)의 각 부분에 있어서의 상기 거리(L3)를 계측한다. 여기서, 제2 변위계(24)로부터 출사하는 레이저광의 광축과 제3 변위계(25)로부터 출사하는 레이저광의 광축이 동일해지도록 배치되어 있는 것으로 한다. 그리고, 피측정 기판(P)의 각 부분에 있어서의 상기 거리 데이터는 컴퓨터(28)에 있어서 축적된다.
도4에 있어서, 제1 및 제2 변위계(23, 24)는 모두 제1 슬라이더(17)에 일체적으로 탑재되어 있고, 따라서 상기 변위계 사이의 거리(Lo)는 일정해진다. 이로 인해, 도4에 도시한 상태에 있어서 종형 정반(3)의 기준 평면(4)과 피측정 기판(P) 의 제1 판면(S1)의 각 부분과의 거리를 R1이라 하면, 거리(R1)는 R1=Lo+L1+L2의 계산에 의해 구할 수 있다. 이와 같이 하여, 도5에 도시한 바와 같이 종형 정반(3)의 기준 평면(4)을 기준면으로 하여 거리(R1)를 계측/산출하고, 이 거리(R1) 데이터는 컴퓨터(28)에 축적한다. 그리고, 후술하는 방법에 의해 피측정 기판(P)의 제1 판면(S1)의 평탄도를 평가한다.
도4에 있어서, 종형 정반(3)의 기준 평면(4)으로부터 제3 변위계(25)까지의 거리(Ao)는 기판의 양면 측정 장치의 기계 구조에 의해 정해진다. 이로 인해, 이 거리(Ao)를 처음에 전면에 걸쳐 일단 계측해 두면, 그 이후의 기판의 양면 측정에 있어서는 상기 거리(Ao)치를 그대로 사용할 수 있다. 거리(Ao)를 계측하기 위해서는, 도6에 도시한 바와 같이 두께(D)의 기준 블록(M)을 제2 변위계(24)와 제3 변위계(25) 사이에 고정하여 설치한다. 그리고, 기준 평면(4)과 제1 변위계(23)의 거리(A1), 기준 블록(M)의 제1면과 제2 변위계(24)의 거리(A2), 기준 블록(M)의 제1 면에 대향한 제2면과 제3 변위계(25)의 거리(A3)를 계측한다. 이와 같이 하여, 상기 종형 정반(3)의 기준 평면(4)으로부터 제3 변위계(25)까지의 거리(Ao)는 Ao=A1+A2+A3+Lo+D의 계산에 의해 구해진다. 이 거리(Ao)는, 제1 변위계(23)와 제2 변위계(24) 및 제3 변위계(25)를 기준 평면(4)의 수평축 방향 및 수직축 방향으로 주사함으로써, 기준 평면(4)을 기준면으로 하는 제3 변위계의 주사면을 형성하고, 도 5에 도시한 바와 같은 가상 기준면(SP)을 구성하게 된다.
그리고, 상기 거리(Ao) 데이터 및 거리(L3) 데이터로부터 도5에 도시한 바와 같이 R2=Ao-L3으로서, 종형 정반(3)의 기준 평면(4)을 기준면으로 한 거리(R2)의 계측/산출을 하고, 이 거리(R2) 데이터는 컴퓨터(28)에 축적된다. 그리고, 후술하는 방법에 의해 피측정 기판(P)의 제2 판면(S2)의 평탄도를 평가한다.
또한, 도5에 있어서 피측정 기판(P)의 판 두께(t)는 t=Ao-L3-R1=R2-R1의 계산에 의해 구할 수 있다. 그리고, 피측정 기판(P)에 있어서의 판 두께(t)의 분포를 산출하고, 판 두께(t)의 데이터는 컴퓨터(28)에 축적한다.
도4에서 설명한 기판의 양면 형상 측정 방법은, 제1 변위계(23) 및 제2 변위계(24)와 제3 변위계(25)의 주사를 동기시키는 것이었다. 이 양면 형상 측정에서는, 도7에 도시한 바와 같이 제3 변위계(25)의 주사를 제1 변위계(23) 및 제2 변위계(24)의 주사와 비동기로 행해도 좋다. 이 경우, 제1 변위계(23) 및 제2 변위계(24)의 주사와 거리 계측에 의해, 도5에 도시한 바와 같이 피측정 기판(P)의 제1 판면(S1)의 종형 정반(3)의 기준 평면(4)으로부터의 거리(R1)의 분포를 구한다.
마찬가지로 하여, 제3 변위계(25)의 주사와 거리 계측에 의해 도5에 도시한 바와 같이 피측정 기판(P)의 제2 판면(S1)의 종형 정반(3)의 기준 평면(4)으로부터의 거리(R2)의 분포를 구한다.
도7의 경우에는, 제2 변위계(24)로부터의 레이저광 혹은 제3 변위계(25)로부 터의 레이저광이 피측정 기판(P)을 투과하여, 광간섭에 의한 거리 측정의 정밀도의 저하를 간편하게 방지할 수 있다.
다음에, 피측정 기판(P)의 평탄도의 평가 방법에 대해 도5를 참조하여 설명한다. 그 간편한 제1 방법은 도5에 도시한 판 두께(t)의 피측정 기판(P) 내에서의 분포 데이터로부터 최대치와 최소치를 추출하고, 그 차를 평탄도로 하는 것이다. 그리고, 미리 정한 소정의 차를 기준 평탄도로 하여, 피측정 기판(P)의 평탄도의 평가를 행한다. 또한, 이러한 평탄도는 예를 들어 각 피측정 기판(P)의 측정 직후에, 상기 디스플레이(29) 및 또는 프린터(30)로부터 출력된다. 이 제1 방법에서는, 피처리 기판(P)의 수직 상태 혹은 종형 정반(3) 기준 평면(4)과의 배치 관계에 영향을 미치기 어려운 평탄도가 얻어진다.
그리고, 제2 방법은 이하와 같은 것이다. 피측정 기판(P)은 보유 지지 기구(5)에 의해 대략 수직 상태로 유지되지만, 그 판면은 종형 정반(3)의 기준 평면(4)과는 반드시 평행 상태로는 되지 않는 경우가 많다. 제2 방법은 이러한 상황을 고려한 것이다.
상기 컴퓨터(28)는 이러한 상태에 있어서 측정된 각 부분의 거리(L1, L2, L3)를 기초로 하여 산출한 거리(R1 및 R2)에 의해 피측정 기판(P)의 평탄도를 구하는 연산 처리를 실행한다. 이 경우, 피측정 기판(P)의 평탄도를 구하는 연산 처리로서는 몇 개의 수법이 있지만, 간이적인 수법으로서 다음과 같은 것이 있다.
즉, 각 부분의 거리(R1)[혹은, 거리(R2)] 중 피측정 기판(P)의 대각 2점 측 정치를 기준으로 하여, 이 때의 최대치와 최소치의 차를 제1 판면(S1)[혹은 제2 판면(S2)]의 평탄도로 하는 것이다.
구체적으로는, (1) 제1 대각 2점에 있어서의 상기 거리(R1)가 기준 평면에 대해 같은 거리가 되도록 각 부분에 있어서의 거리 데이터(R1)를 보정한다. (2) 다른 한 쪽의 제2 대각 2점에 있어서의 상기 거리(R1)가 기준 평면에 대해 같은 거리가 되도록 상기 (1)에서 보정한 거리 데이터(R1)를 재보정한다. (3) 이상과 같이 하여 보정된 각 거리 데이터(R1)의 최대치와 최소치의 차를 제1 판면(S1)의 평탄도로 한다.
그리고, 거리 데이터(R2)에 관해서도 상기 거리 데이터(R1)와 완전히 동일한 연산 처리를 실시하여 보정하고, 그 보정된 최대치와 최소치의 차를 제2 평면(S2)의 평탄도로 한다.
그리고, 제1 판면(S1) 및 제2 판면(S2)에 대해 각각 미리 정한 소정의 차를 기준 평탄도로 하여, 피측정 기판(P)의 평탄도의 평가를 행한다. 또한, 이러한 연산 처리에 의해 구한 평탄도는, 예를 들어 각 피측정 기판(P)의 측정 직후에 상기 디스플레이(29) 및 또는 프린터(30)로부터 출력한다.
상기 유리 기판의 양면 형상 측정 방법에 의해, 대형 액정용 포토마스크와 같은 대형의 피측정 기판의 양면 형상을 간편하게 게다가 단시간에 있어서 고정밀도로 측정하는 것이 가능해진다. 그리고, 상기 피측정 기판의 평탄도를 고정밀도로 구할 수 있게 된다.
본 발명은 상기 실시 형태에 한정되는 것은 아니며, 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 다양한 변형을 채용할 수 있다. 예를 들어, 베드(2) 상에 있어서 종형 정반(3)의 기준 평면(4)에 있어서의 수평축 방향으로 이동하는 구조의 변위계 주사 컬럼(9)은 V-V 미끄럼 안내에 의해 이동할 수 있는 구성으로 되어 있어도 좋다.
또한, 테이블(11) 상에 설치되는 제1 에어 슬라이드(12)와 제2 에어 슬라이드(13)는 리니어 모터에 의해 수직축 방향으로 이동할 수 있는 구성으로 되어 있어도 좋다.
그리고, 본 발명은 피처리 기판(P)으로서 상기 액정용 석영 유리제 포토마스크 이외에도, 기판의 양면 형상이 중요한 요소가 되는 피측정 기판에는 동일하게 적용할 수 있는 것이다. 예를 들어, 피처리 기판으로서 반도체 웨이퍼의 양면 형상 측정에 있어서도 효과적으로 적용할 수 있다.
또한, 상기 변위계로서는 그 밖에 에어 스케일 센서 방식, 와전류 방식 혹은 정전 용량 방식 등도 알려져 있고, 이들은 피측정 기판을 구성하는 물질에 따라서 적절하게 선택할 수 있다.
본 발명에 따르면, 상기 액정용 포토마스크에 한정되지 않고 기판의 양면 형상이 중요한 요소가 되는 피측정 기판에 있어서, 그 표면 및 이면의 양면 형상을 고정밀도로 측정할 수 있는 유리 기판의 양면 형상 측정 장치 및 유리 기판의 양면 형상 측정 방법을 제공할 수 있다.

Claims (16)

  1. 정반(3)의 기준 평면(4)이 수직 상태가 되도록 배치된 정반(3)과,
    피측정 기판(P)의 판면이 상기 기준 평면(4)에 평행해지도록 피측정 기판(P)을 보유 지지하는 보유 지지 기구(5)와,
    상기 정반(3)의 기준 평면(4)과, 상기 보유 지지 기구(5)에 의해 보유 지지된 상기 피측정 기판(P)의 판면의 일면과의 사이에 배치되고, 수직면 내에 있어서 주사 가능하고 상기 주사와 함께 상기 정반(3)의 기준 평면(4)과의 거리를 측정하는 제1 변위계(23) 및 상기 피측정 기판(P)의 판면의 일면과의 거리를 측정하는 제2 변위계(24)와,
    상기 판면의 일면에 대향하는 다른 면측에 배치되고, 수직면 내에 있어서 상기 제1 변위계(23) 및 상기 제2 변위계(24)와 비동기로 주사 가능하고 상기 주사와 함께 상기 판면의 다른 면과의 거리를 측정하는 제3 변위계(25)와,
    상기 각 변위계에 의한 측정 결과를 기초로 하여 피측정 기판(P)의 표면 형상을 연산하는 연산 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 양면 형상 측정 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 기준 평면(4)에 있어서의 수직축 방향으로 이동 가능한 제1 Y축 이동 기구(12)에 상기 제1 변위계(23)와 상기 제2 변위계(24)가 탑재되고,
    상기 제1 Y축 이동 기구(12)와는 독립적으로 상기 기준 평면(4)에 있어서의 수직축 방향으로 이동 가능한 제2 Y축 이동 기구(13)에 상기 제3 변위계(25)가 탑재되고,
    상기 제1 Y축 이동 기구(12)와 상기 제2 Y축 이동 기구(13)가 상기 기준 평면(4)에 있어서의 수평축 방향으로 이동 가능한 X축 이동 기구(9)에 탑재되어 있는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 양면 형상 측정 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제1 Y축 이동 기구(12) 및 상기 제2 Y축 이동 기구(13)가 볼 나사 및 이에 결합한 슬라이드에 의해 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 양면 형상 측정 장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 X축 이동 기구(9)가 V-V 구름 안내 혹은 V-V 미끄럼 안내에 의해 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 양면 형상 측정 장치.
  5. 제3항에 있어서, 상기 X축 이동 기구(9)가 V-V 구름 안내 혹은 V-V 미끄럼 안내에 의해 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 양면 형상 측정 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 제1 변위계(23), 제2 변위계(24) 및 제3 변위계(25)가 비접촉 레이저 변위계인 것을 특징으로 하는 유리 기판의 양면 형상 측정 장치.
  7. 제2항에 있어서, 상기 제1 변위계(23), 제2 변위계(24) 및 제3 변위계(25)가 비접촉 레이저 변위계인 것을 특징으로 하는 유리 기판의 양면 형상 측정 장치.
  8. 제3항에 있어서, 상기 제1 변위계(23), 제2 변위계(24) 및 제3 변위계(25)가 비접촉 레이저 변위계인 것을 특징으로 하는 유리 기판의 양면 형상 측정 장치.
  9. 제4항에 있어서, 상기 제1 변위계(23), 제2 변위계(24) 및 제3 변위계(25)가 비접촉 레이저 변위계인 것을 특징으로 하는 유리 기판의 양면 형상 측정 장치.
  10. 제5항에 있어서, 상기 제1 변위계(23), 제2 변위계(24) 및 제3 변위계(25)가 비접촉 레이저 변위계인 것을 특징으로 하는 유리 기판의 양면 형상 측정 장치.
  11. 정반(3)의 기준 평면(4)을 수직 상태가 되도록 배치하고,
    피측정 기판(P)의 판면이 상기 기준 평면(4)에 평행해지도록 상기 피측정 기판(P)을 지지하는 동시에,
    상기 기준 평면(4)에 대향하여 배치된 제1 변위계(23) 및 상기 피측정 기판(P)의 판면의 일면측에 대향하여 배치된 제2 변위계(24)를 상기 기준 평면(4)과 상기 피측정 기판(P)의 판면의 일면측과의 사이의 수직면 내에 있어서 주사하고, 상기 판면의 일면과 상기 기준 평면(4)과의 거리를 계측하고, 동시에 상기 판면의 일면에 대향하는 다른 면측에 대향하여 배치되고 상기 제1 변위계(23) 및 상기 제2 변위계(24)와 비동기로 주사 가능한 제3 변위계(25)를 주사하고, 상기 판면의 다른 면과 상기 기준 평면(4)과의 거리를 계측하고, 상기 피측정 기판(P)의 일면 및 다른 면의 표면 형상을 측정하는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 양면 형상 측정 방법.
  12. 제11항에 있어서, 미리 상기 제2 변위계(24)와 상기 제3 변위계(25)와의 사이에 소정의 판 두께를 갖는 기준 블록(M)을 배치하고, 상기 제1 변위계(23)와 제2 변위계(24)에 의해 상기 기준 블록(M)의 일면과 상기 정반(3)의 기준 평면(4)과의 거리(A1+A2+Lo)를 계측하고, 상기 제3 변위계(25)에 의해 상기 기준 블록(M)의 다른 면과의 거리(A3)를 계측하고, 상기 제3 변위계(25)와 상기 정반(3)의 기준 평면(4)과의 거리(Ao)를 계측하는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 양면 형상 측정 방법.
  13. 제11항에 있어서, 상기 제1 변위계(23)와 제2 변위계(24) 및 상기 제3 변위계(25)를 동기하여 주사하는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 양면 형상 측정 방법.
  14. 제12항에 있어서, 상기 제1 변위계(23)와 제2 변위계(24) 및 상기 제3 변위계(25)를 동기하여 주사하는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 양면 형상 측정 방법.
  15. 제13항에 있어서, 상기 제1 변위계(23)와 제2 변위계(24)에 의해 상기 피측정 기판(P)의 판면의 일면과 상기 기준 평면(4)과의 거리를 계측하고 상기 제3 변위계(25)에 의해 상기 판면의 다른 면과 상기 기준 평면(4)과의 거리를 계측함으로써, 상기 피측정 기판(P)의 판 두께를 측정하는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 양면 형상 측정 방법.
  16. 제14항에 있어서, 상기 제1 변위계(23)와 제2 변위계(24)에 의해 상기 피측정 기판(P)의 판면의 일면과 상기 기준 평면(4)과의 거리를 계측하고 상기 제3 변위계(25)에 의해 상기 판면의 다른 면과 상기 기준 평면(4)과의 거리를 계측함으로써, 상기 피측정 기판(P)의 판 두께를 측정하는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 양면 형상 측정 방법.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000055641A (ja) * 1998-08-10 2000-02-25 Toshiba Ceramics Co Ltd 基板表面の平坦度測定装置
JP2003022834A (ja) * 2001-07-09 2003-01-24 Honda Motor Co Ltd 燃料電池用セパレータの形状測定方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000055641A (ja) * 1998-08-10 2000-02-25 Toshiba Ceramics Co Ltd 基板表面の平坦度測定装置
JP2003022834A (ja) * 2001-07-09 2003-01-24 Honda Motor Co Ltd 燃料電池用セパレータの形状測定方法

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