KR101027900B1 - Color Filter Array Substrate And Fabricating Method Thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 R,G,B 칼라필터가 적층되어 형성된 블랙매트릭스에 의해 발생되는 단차를 줄임과 아울러 공정 수를 줄일 수 있는 칼라필터 어레이 기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a color filter array substrate and a method of manufacturing the same, which can reduce the number of steps and reduce the step caused by the black matrix formed by stacking R, G and B color filters.

본 발명에 따른 칼라필터 어레이 기판은 기판의 화소영역 별로 형성된 칼라필터들과; 상기 화소영역들 사이의 광차단영역에 적어도 어느 하나가 상기 화소영역과 다른 두께를 가지는 칼라필터들이 적층되어 형성된 블랙매트릭스를 구비하는 것을 특징으로 한다.
The color filter array substrate according to the present invention includes color filters formed for each pixel region of the substrate; At least one of the light blocking areas between the pixel areas may have a black matrix formed by stacking color filters having a different thickness from that of the pixel area.

Description

칼라필터 어레이 기판 및 그 제조방법{Color Filter Array Substrate And Fabricating Method Thereof} Color filter array substrate and its manufacturing method {Color Filter Array Substrate And Fabricating Method Thereof}             

도 1은 종래의 액정표시패널을 나타내는 사시도이다.1 is a perspective view illustrating a conventional liquid crystal display panel.

도 2는 R,G,B 칼라층으로 이루어진 블랙매트릭스를 가지는 칼라필터 어레이 기판을 나타내는 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing a color filter array substrate having a black matrix composed of R, G, and B color layers.

도 3은 도 2에 도시된 R,G,B 칼라층의 투과도를 나타내는 그래프이다.3 is a graph showing the transmittance of the R, G, B color layer shown in FIG.

도 4는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 칼라필터 어레이 기판을 나타내는 평면도이다.4 is a plan view illustrating a color filter array substrate according to a first embodiment of the present invention.

도 5는 도 4에서 선 Ⅴ-Ⅴ'를 따라 절취한 칼라필터 어레이 기판을 나타내는 단면도이다.FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating the color filter array substrate taken along the line VV ′ in FIG. 4.

도 6은 도 4 및 도 5에 도시된 돌출부가 스페이서로 이용된 경우를 나타내는 단면도이다.6 is a cross-sectional view illustrating a case in which the protrusions illustrated in FIGS. 4 and 5 are used as spacers.

도 7은 도 4 및 도 5에 도시된 돌출부가 보조스페이서로 이용된 경우를 나타내는 단면도이다.7 is a cross-sectional view illustrating a case in which the protrusions illustrated in FIGS. 4 and 5 are used as auxiliary spacers.

도 8은 도 4 및 도 5에 도시된 돌출부가 광차단층으로 이용된 경우를 나타내는 단면도이다. 8 is a cross-sectional view illustrating a case in which the protrusions illustrated in FIGS. 4 and 5 are used as the light blocking layer.                 

도 9a 내지 도 9f는 도 5에 도시된 칼라필터 어레이 기판의 제조방법을 나타내는 단면도이다.9A to 9F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the color filter array substrate illustrated in FIG. 5.

도 10은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 칼라필터 어레이 기판을 나타내는 단면도이다.10 is a cross-sectional view illustrating a color filter array substrate according to a second embodiment of the present invention.

도 11a 내지 도 11f는 도 10에 도시된 칼라필터 어레이 기판의 제조방법을 나타내는 단면도이다.
11A to 11F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the color filter array substrate illustrated in FIG. 10.

〈도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〉Description of the Related Art

1,21 : 기판 2,104 : 블랙매트릭스1,21: Substrate 2,104: Black Matrix

4,102 : 칼라필터 6 : 공통전극4,102 color filter 6 common electrode

8 : 액정 10,150 : 칼라필터 어레이 기판8: liquid crystal 10,150: color filter array substrate

12 : 게이트라인 14 : 화소전극12 gate line 14 pixel electrode

16 : 박막트랜지스터 18 : 데이터라인16: thin film transistor 18: data line

20,160 : 박막트랜지스터 어레이 기판 30 : 평탄화층20,160 thin film transistor array substrate 30 planarization layer

106 : 돌출부 170 : 박막트랜지스터
106: protrusion 170: thin film transistor

본 발명은 칼라필터 어레이 기판에 관한 것으로, 특히 R,G,B 칼라필터가 적 층되어 형성된 블랙매트릭스에 의해 발생되는 단차를 줄임과 아울러 공정 수를 줄일 수 있는 칼라필터 어레이 기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter array substrate, and more particularly, to a color filter array substrate and a method of manufacturing the same, which reduce the number of steps and reduce the step caused by the black matrix formed by laminating the R, G and B color filters. It is about.

통상, 액정표시소자(Liquid Crystal Display; LCD)는 전계를 이용하여 액정의 광투과율을 조절함으로써 화상이 표시된다. 이를 위하여, 액정표시소자는 액정셀들이 매트릭스 형태로 배열되어진 액정표시패널과, 이 액정표시패널을 구동하기 위한 구동회로를 구비하게 된다. 액정표시패널에는 액정셀들 각각에 전계를 인가하기 위한 화소전극들과 기준전극, 즉 공통전극이 마련되게 된다. 통상, 화소전극은 하부기판 상에 액정셀별로 형성되는 반면 공통전극은 상부기판의 전면에 일체화되어 형성된다. 화소전극들 각각은 스위칭소자로 사용되는 박막트랜지스터(Thin Film Transistor : 이하 "TFT"라 함)에 접속된다. 화소전극은 TFT를 통해 공급되는 데이터신호에 따라 공통전극과 함께 액정셀이 구동된다.In general, a liquid crystal display (LCD) displays an image by adjusting the light transmittance of the liquid crystal using an electric field. To this end, the liquid crystal display device includes a liquid crystal display panel in which liquid crystal cells are arranged in a matrix, and a driving circuit for driving the liquid crystal display panel. The liquid crystal display panel is provided with pixel electrodes and a reference electrode, that is, a common electrode, for applying an electric field to each of the liquid crystal cells. In general, the pixel electrode is formed for each liquid crystal cell on the lower substrate, while the common electrode is integrally formed on the front surface of the upper substrate. Each of the pixel electrodes is connected to a thin film transistor (hereinafter referred to as "TFT") used as a switching element. The liquid crystal cell is driven along with the common electrode in accordance with the data signal supplied through the TFT.

도 1을 참조하면, 종래의 액정표시패널은 액정(8)을 사이에 두고 합착된 칼라필터 어레이 기판(10)과 박막트랜지스터 어레이 기판(20)을 구비한다. Referring to FIG. 1, a conventional liquid crystal display panel includes a color filter array substrate 10 and a thin film transistor array substrate 20 bonded together with a liquid crystal 8 interposed therebetween.

액정(8)은 자신에게 인가된 전계에 응답하여 회전됨으로써 박막트랜지스터 어레이 기판(20)을 경유하여 입사되는 빛의 투과량을 조절하게 된다. The liquid crystal 8 is rotated in response to an electric field applied to the liquid crystal 8 to adjust the amount of light transmitted through the thin film transistor array substrate 20.

박막트랜지스터 어레이 기판(20)은 하부기판(21)의 전면에 게이트절연막을 사이에 두고 절연되는 데이터라인(18)과 게이트라인(12)이 상호 교차되도록 형성되며, 그 교차부에 TFT(16)가 형성된다. TFT(16)는 게이트라인(12)에 접속된 게이트전극, 데이터라인(18)에 접속된 소스전극, 화소전극(14)에 접속된 드레인전극, 소스전극 및 드레인전극 사이의 채널부를 형성하는 활성층 및 오믹접촉층을 포함한 다. 이러한 TFT(16)는 게이트라인(12)으로부터의 게이트신호에 응답하여 데이터라인(18)으로부터의 데이터신호를 선택적으로 화소전극(14)에 공급한다. The thin film transistor array substrate 20 is formed such that the data line 18 and the gate line 12 are insulated from each other with the gate insulating film interposed therebetween on the front side of the lower substrate 21, and the TFT 16 is disposed at the intersection thereof. Is formed. The TFT 16 has an active layer forming a channel portion between the gate electrode connected to the gate line 12, the source electrode connected to the data line 18, the drain electrode connected to the pixel electrode 14, the source electrode and the drain electrode. And an ohmic contact layer. The TFT 16 selectively supplies the data signal from the data line 18 to the pixel electrode 14 in response to the gate signal from the gate line 12.

화소전극(14)은 데이터라인(18)과 게이트라인(12)에 의해 분할된 셀 영역에 위치하며 광투과율이 높은 투명전도성물질로 이루어진다. 이 화소전극(14)은 드레인전극을 경유하여 공급되는 데이터신호에 의해 공통전극(6)과 전위차를 발생시키게 된다. 이 전위차에 의해 하부기판(21)과 상부기판(1) 사이에 위치하는 액정(8)은 유전율이방성에 의해 회전하게 된다. 이에 따라, 광원으로부터 화소전극(14)을 경유하여 공급되는 광이 상부기판(1) 쪽으로 투과된다. The pixel electrode 14 is positioned in a cell region divided by the data line 18 and the gate line 12 and is made of a transparent conductive material having high light transmittance. The pixel electrode 14 generates a potential difference from the common electrode 6 by the data signal supplied via the drain electrode. Due to this potential difference, the liquid crystal 8 located between the lower substrate 21 and the upper substrate 1 is rotated by the dielectric anisotropy. Accordingly, light supplied from the light source via the pixel electrode 14 is transmitted toward the upper substrate 1.

칼라필터 어레이 기판(10)은 상부기판(1)의 배면 상에 형성되는 칼라필터(4) 및 공통전극(6)을 구비한다. 칼라필터(4)는 적(R), 녹(G) 및 청(B) 색의 칼라필터층이 스트라이프(Stripe) 형태로 배치되어 특정 파장대역의 빛을 투과시킴으로써 칼라표시를 가능하게 한다. 인접한 색의 칼라필터(4)들 사이에는 블랙 매트릭스(2)가 형성되어 인접한 셀로부터 입사되는 빛을 흡수함으로써 콘트라스트의 저하를 방지하게 된다. The color filter array substrate 10 includes a color filter 4 and a common electrode 6 formed on the rear surface of the upper substrate 1. The color filter 4 is a color filter layer of red (R), green (G) and blue (B) color is arranged in the form of a stripe to transmit the light of a specific wavelength band to enable color display. A black matrix 2 is formed between the color filters 4 of adjacent colors to absorb the light incident from the adjacent cells, thereby preventing the lowering of the contrast.

종래 블랙매트릭스(2)를 형성하기 위해서는 별도의 마스크공정이 추가로 필요하다. 이에 따라, 제조비용이 높아져 생산성이 저하되는 문제점이 있다.In order to form the conventional black matrix 2, an additional mask process is additionally required. Accordingly, there is a problem in that the manufacturing cost is high and the productivity is lowered.

이를 해결하기 위해, 도 2에 도시된 바와 같이 블랙매트릭스영역에 R,G,B 칼라필터(4)와 동시에 형성되는 R 칼라층(2a), G 칼라층(2b), B 칼라층(2b)이 순차적으로 적층되어 블랙매트릭스(2) 역할을 하게 된다. 이 경우, 도 3에 도시된 바와 같이 R,G,B 칼라층(2a,2b,2c)의 광투과 파장대역이 다르기 때문에 R,G,B 칼라층 (2a,2b,2c)을 순차적으로 적층한 경우 전 파장대에서 모든 광을 차단할 수 있다. 예를 들어, B 칼라층(2a)을 투과하는 파장대역을 가지는 광은 R,G 칼라층(2b,2c)에 의해 차단된다. 이와 같이, 블랙매트릭스 역할을 하는 R,G,B 칼라층(2a,2b,2c)에 의해 별도의 블랙매트릭스를 형성하지 않아도 마스크공정수가 종래보다 줄어들어 제조비용 절감 및 생산성을 향상시킬 수 있다.To solve this problem, as shown in FIG. 2, the R color layer 2a, the G color layer 2b, and the B color layer 2b formed at the same time as the R, G, and B color filters 4 in the black matrix region. These are sequentially stacked to serve as a black matrix (2). In this case, since the light transmission wavelength bands of the R, G and B color layers 2a, 2b and 2c are different as shown in FIG. 3, the R, G and B color layers 2a, 2b and 2c are sequentially stacked. In one case, all light can be blocked at all wavelengths. For example, light having a wavelength band passing through the B color layer 2a is blocked by the R and G color layers 2b and 2c. As such, even without forming a separate black matrix by the R, G, and B color layers 2a, 2b, and 2c, which act as a black matrix, the number of mask processes is reduced than before, thereby reducing manufacturing cost and improving productivity.

그러나, 블랙매트릭스영역에 위치하는 R,G,B 칼라층(2a,2b,2c) 각각의 두께는 화소영역에 위치하는 R,G,B 칼라필터(4)의 두께와 동일하다. 이 경우, 블랙매트릭스영역에 위치하는 R,G,B 칼라층(2a,2b,2c) 전체 두께는 화소영역에 위치하는 칼라필터 두께의 적어도 2배 이상이다. 이로 인해, 화소영역과 블랙매트릭스영역 간의 단차가 발생된다. 이 단차로 인해 배향공정이 제대로 되지 않아 빛샘이 발생되거나 얼룩이 발생된다. 이를 방지하기 위해, 칼라필터(4) 및 블랙매트릭스(2)가 형성된 기판(1) 상에 평탄화층(30)이 형성된다. 이 평탄화층(30)은 칼라 필터(4)와 블랙매트릭스(2)의 단차를 보상하여 평탄한 표면을 제공한다. 그러나, 이 평탄화층(30)을 형성하기 위한 별도의 공정이 추가로 필요로 하는 문제점이 있다.
However, the thickness of each of the R, G, and B color layers 2a, 2b, and 2c located in the black matrix area is the same as the thickness of the R, G, and B color filters 4 located in the pixel area. In this case, the total thickness of the R, G, and B color layers 2a, 2b, and 2c located in the black matrix region is at least twice as large as the thickness of the color filter located in the pixel region. As a result, a step is generated between the pixel region and the black matrix region. Due to this step, the alignment process may not be performed properly, resulting in light leakage or staining. In order to prevent this, the planarization layer 30 is formed on the substrate 1 on which the color filter 4 and the black matrix 2 are formed. This planarization layer 30 compensates for the step difference between the color filter 4 and the black matrix 2 to provide a flat surface. However, there is a problem that a separate process for forming the planarization layer 30 is additionally required.

따라서, 본 발명의 목적은 R,G,B 칼라필터가 적층되어 형성된 블랙매트릭스에 의해 발생되는 단차를 줄임과 아울러 공정 수를 줄일 수 있는 칼라필터 어레이 기판 및 그 제조방법을 제공하는데 있다.
Accordingly, an object of the present invention is to provide a color filter array substrate and a method of manufacturing the same, which can reduce the number of steps and reduce the step caused by the black matrix formed by stacking R, G, and B color filters.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 칼라필터 어레이 기판은 기판의 화소영역 별로 형성된 칼라필터들과; 상기 화소영역들 사이의 광차단영역에 적어도 어느 하나가 상기 화소영역과 다른 두께를 가지는 칼라필터들이 적층되어 형성된 블랙매트릭스를 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the color filter array substrate according to the present invention includes a color filter formed for each pixel area of the substrate; At least one of the light blocking areas between the pixel areas may have a black matrix formed by stacking color filters having a different thickness from that of the pixel area.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 칼라필터 어레이 기판의 제조방법은 화소영역, 그 화소영역들 사이에 위치하는 광차단영역을 가지는 기판을 마련하는 단계와; 상기 화소영역 별로 상기 기판 상에 칼라필터들을 형성함과 동시에 상기 광차단영역에 적어도 어느 하나가 상기 화소영역과 다른 두께를 가지는 칼라필터들을 적층하여 블랙매트릭스를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a method of manufacturing a color filter array substrate according to the present invention includes the steps of providing a substrate having a pixel region, the light blocking region located between the pixel regions; And forming a black matrix by stacking color filters having a thickness different from that of the pixel region at the same time as forming color filters on the substrate for each pixel region. .

상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부한 도면들을 참조한 실시 예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and features of the present invention in addition to the above objects will be apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

이하, 도 4 내지 도 11f를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 through 11F.

도 4 및 도 5는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 칼라필터 어레이 기판을 나타내는 평면도 및 단면도이다.4 and 5 are a plan view and a cross-sectional view showing a color filter array substrate according to a first embodiment of the present invention.

도 4 및 도 5에 도시된 칼라필터 어레이 기판은 상부기판(101)의 화소영역 상에 형성되는 R,G,B 칼라필터(102) 및 화소영역을 제외한 광차단영역 상에 형성되는 블랙매트릭스(104)와, 광차단영역에 블랙매트릭스(104)보다 높거나 더욱 검게 형성되는 돌출부(106)를 구비한다. The color filter array substrate illustrated in FIGS. 4 and 5 includes R, G and B color filters 102 formed on the pixel region of the upper substrate 101 and a black matrix formed on the light blocking region except for the pixel region. 104 and a protrusion 106 formed in the light blocking region higher or blacker than the black matrix 104.                     

R, G, B 칼라 필터(102)는 화소 영역별로 구분되도록 도트형태로 상부기판(101) 상에 형성되거나 인접한 화소영역과 서로 연결되도록 스트라이프형태로 상부기판(101) 상에 형성된다.The R, G, and B color filters 102 are formed on the upper substrate 101 in a dot form so as to be divided into pixel regions, or formed on the upper substrate 101 in a stripe form so as to be connected to adjacent pixel regions.

블랙매트릭스(104)는 화소영역을 제외한 광차단영역 상에 제1 내지 제3 칼라층(104a,104b,104c)이 순차적으로 적층되어 형성된다. 제1 내지 제3 칼라층(104a,104b,104c)은 각각 R,G,B 칼라필터(102)와 동일물질로 동시에 형성된다. 이 때, 제1 내지 제3 칼라층(104a,104b,104c) 중 적어도 어느 하나는 화소영역에 위치하는 R,G,B 칼라필터(102)보다 두께가 낮게 형성된다. 이 블랙매트릭스(104)는 박막트랜지스터 어레이 기판의 화소전극을 제외한 영역, 즉 게이트라인, 데이터라인 및 박막트랜지스터 중 적어도 어느 하나와 중첩되게 상부기판(101) 상에 스트라이프형태 또는 매트릭스형태로 형성된다. 이로 인해 블랙매트릭스(104)는 다수의 화소영역들로 나눔과 아울러 인접 셀간의 광간섭을 방지하는 역할을 하게 된다. The black matrix 104 is formed by sequentially stacking the first to third color layers 104a, 104b and 104c on the light blocking region except for the pixel region. The first to third color layers 104a, 104b and 104c are simultaneously formed of the same material as the R, G and B color filters 102, respectively. In this case, at least one of the first to third color layers 104a, 104b, and 104c is formed to have a lower thickness than the R, G, and B color filters 102 positioned in the pixel region. The black matrix 104 is formed in the form of a stripe or a matrix on the upper substrate 101 so as to overlap at least one of a region except a pixel electrode of the thin film transistor array substrate, that is, a gate line, a data line, and a thin film transistor. As a result, the black matrix 104 divides into a plurality of pixel regions and prevents optical interference between adjacent cells.

돌출부(106)는 R,G,B 칼라필터(102) 각각과 동일물질로 동시에 형성되는 제1 내지 제3 칼라층(106a,106b,106c)이 순차적으로 적층되어 형성된다. 제1 내지 제3 칼라층(106a,106b,106c)은 각각 R,G,B 칼라필터(102)와 동일물질로 동일높이로 형성된다. 이 돌출부(106)는 도 6에 도시된 바와 같이 칼라필터 어레이 기판(150)과 박막트랜지스터 어레이 기판(160) 사이의 상대적으로 낮은 셀갭을 유지하기 위한 스페이서로 이용된다. 또는 도 7에 도시된 바와 같이 상대적으로 높은 셀갭을 유지하기 위해 별도로 마련된 스페이서(140)와 중첩되도록 형성되어 제2 스페이서로 이용된다. 또는 도 8에 도시된 바와 같이 박막트랜지스터(170)의 채널부가 외부광에 의해 활성화되어 누설전류가 발생되는 것을 방지하기 위해 블랙매트릭스(104)보다 더욱 검게 형성된다. 한편, 도 6 내지 도 8에 도시된 박막트랜지스터 어레이 기판(160)은 제2 기판(201) 상에 형성되는 박막트랜지스터(170)와, 그 박막트랜지스터(170)와 접속된 화소전극(222)을 구비한다. 박막트랜지스터(170)는 게이트전극(206), 소스전극(208), 화소전극(222)에 접속된 드레인전극(210), 게이트절연막(212)을 사이에 두고 게이트전극(206)과 중첩되며 소스전극(208) 및 드레인전극(210) 사이의 채널부를 형성하는 활성층(214) 및 오믹접촉층(216)을 포함한다.
상기 돌출부(106)는 상기 제 2 기판(201)의 박막트랜지스터(170)와 대응되는 영역에 형성될 수 있다. The protrusions 106 are formed by sequentially stacking first to third color layers 106a, 106b, and 106c formed of the same material as each of the R, G, and B color filters 102. The first to third color layers 106a, 106b, and 106c are formed of the same material as the R, G, and B color filters 102, respectively, and have the same height. As shown in FIG. 6, the protrusion 106 is used as a spacer for maintaining a relatively low cell gap between the color filter array substrate 150 and the thin film transistor array substrate 160. Alternatively, as shown in FIG. 7, the second spacer may be formed to overlap the spacer 140 separately provided to maintain a relatively high cell gap. Alternatively, as shown in FIG. 8, the channel portion of the thin film transistor 170 is more black than the black matrix 104 to prevent the leakage current from being activated by external light. 6 to 8, the thin film transistor array substrate 160 includes a thin film transistor 170 formed on the second substrate 201 and a pixel electrode 222 connected to the thin film transistor 170. Equipped. The thin film transistor 170 overlaps the gate electrode 206 with the gate electrode 206, the source electrode 208, the drain electrode 210 connected to the pixel electrode 222, and the gate insulating film 212 interposed therebetween. An active layer 214 and an ohmic contact layer 216 forming a channel portion between the electrode 208 and the drain electrode 210 are included.
The protrusion 106 may be formed in a region corresponding to the thin film transistor 170 of the second substrate 201.

이와 같이, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 칼라필터 어레이 기판은 적어도 어느 하나가 칼라필터보다 낮은 두께를 가지는 제1 내지 제3 칼라층으로 이루어진 블랙매트릭스를 구비한다. 이 블랙매트릭스는 도 2에 도시된 칼라층으로 이루어진 블랙매트릭스보다 두께가 줄어들어 블랙매트릭스와 칼라필터 간의 단차가 줄어든다. 블랙매트릭스와 칼라필터 간의 줄어든 단차에 의해 배향얼룩발생과 빛샘현상을 줄일 수 있다. 또한, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 칼라필터 어레이 기판은 별도의 평탄화층이 불필요하므로 공정수를 줄일 수 있다. 또한, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 칼라필터 어레이 기판은 블랙매트릭스, 스페이서 및 광차단층을 칼라필터와 동일물질로 그들과 동시에 형성하므로 공정수를 줄일 수 있어 생산성이 향상된다.As such, the color filter array substrate according to the first embodiment of the present invention includes a black matrix including at least one of the first to third color layers having a lower thickness than the color filter. This black matrix is reduced in thickness than the black matrix composed of the color layers shown in FIG. 2, thereby reducing the step between the black matrix and the color filter. The reduced step between the black matrix and the color filter reduces the occurrence of alignment spots and light leakage. In addition, the color filter array substrate according to the first embodiment of the present invention can reduce the number of processes because a separate planarization layer is unnecessary. In addition, the color filter array substrate according to the first embodiment of the present invention forms the black matrix, the spacer, and the light blocking layer at the same time with the same material as the color filter, thereby reducing the number of processes and improving productivity.

도 9a 내지 도 9f는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 칼라 필터 어레이 기판의 제조방법을 나타내는 단면도이다. 여기서, 제조방법에 이용되는 마스크는 부분 노광 마스크, 예를 들어 반투과마스크 또는 회절 마스크가 이용된다. 본 발명에서는 반투과마스크를 이용한 제조방법을 예로 들어 설명하기로 한다.9A to 9F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a color filter array substrate according to a first embodiment of the present invention. Here, as the mask used in the manufacturing method, a partial exposure mask, for example, a transflective mask or a diffraction mask is used. In the present invention, a manufacturing method using a transflective mask will be described as an example.

먼저, 도 9a에 도시된 바와 같이 상부기판(101) 상에 청색 안료가 분산된 포토레지스트막(258)이 도포된다. 그런 다음, 제1 반투과마스크(250)가 상부기판(101) 상부에 정렬된다. 제1 반투과마스크(250)는 투명한 재질인 마스크 기판(252)과, 마스크 기판(252)의 차단 영역(S2)에 형성된 차단부(254)와, 마스크 기판(252)의 부분 노광 영역(S3)에 형성된 반투과부(256)를 구비한다. 여기서, 마스크 기판(252)이 노출된 영역은 노광 영역(S1)이 된다. 이러한 제1 반투과 마스크(250)를 이용하여 청색 안료가 분산된 포토레지스트막(258)을 노광한 후 현상한다. 이에 따라, 도 9b에 도시된 바와 같이 제1 반투과 마스크(250)의 차단부(254)에 대응하는 제1 높이(d1)를 갖는 B 칼라필터(102)와 제1 높이(d1)를 갖는 돌출부의 제1 칼라층(106a)이 형성되고, 반투과부(256)에 대응하는 제1 높이(d1)보다 낮은 제2 높이(d2)를 갖는 블랙매트릭스의 제1 칼라층(104a)이 형성된다. First, as shown in FIG. 9A, a photoresist film 258 having a blue pigment dispersed thereon is coated on the upper substrate 101. Then, the first semi-permeable mask 250 is aligned on the upper substrate 101. The first semi-permeable mask 250 is a mask substrate 252 which is a transparent material, a blocking portion 254 formed in the blocking region S2 of the mask substrate 252, and a partial exposure region S3 of the mask substrate 252. It has a transflective portion 256 formed in). Here, the region where the mask substrate 252 is exposed becomes the exposure region S1. The photoresist film 258 in which the blue pigment is dispersed is exposed using the first transflective mask 250 and then developed. Accordingly, as shown in FIG. 9B, the B color filter 102 having the first height d1 corresponding to the blocking portion 254 of the first transflective mask 250 and the first height d1 are provided. The first color layer 106a of the protrusion is formed, and the first color layer 104a of the black matrix having a second height d2 lower than the first height d1 corresponding to the transflective portion 256 is formed. .

B 칼라 필터(102)와 돌출부의 제1 칼라층(106a) 및 블랙매트릭스의 제1 칼라층(104a)이 형성된 상부기판(101) 상에 도 9c에 도시된 바와 같이 적색 안료가 포함된 포토레지스트막(268)이 도포된다. 그런 다음, 제2 반투과마스크(260)가 상부기판(101) 상부에 정렬된다. 제2 반투과마스크(260)는 투명한 재질인 마스크 기판(262)과, 마스크 기판(262)의 차단 영역(S2)에 형성된 차단부(264)와, 마스크 기판(262)의 부분 노광 영역(S3)에 형성된 반투과부(266)를 구비한다. 여기서, 마스크 기판(262)이 노출된 영역은 노광 영역(S1)이 된다. 이러한 제2 반투과 마스크(260)를 이용하여 적색 안료가 분산된 포토레지스트막(268)을 노광한 후 현상함으 로써 도 9d에 도시된 바와 같이 제2 반투과 마스크(260)의 차단부(264)에 대응하여 제3 높이(d3)를 갖는 R 칼라필터(102)와 제3 높이(d3)를 갖는 돌출부의 제2 칼라층(106b)이 형성되고, 반투과부(266)에 대응하여 제3 높이(d3)보다 낮은 제4 높이(d4)를 갖는 블랙매트릭스의 제2 칼라층(104b)이 형성된다. A photoresist containing a red pigment on the upper substrate 101 on which the B color filter 102, the first color layer 106a of the protrusion and the first color layer 104a of the black matrix are formed, as shown in FIG. 9C. Membrane 268 is applied. Then, the second semi-permeable mask 260 is aligned above the upper substrate 101. The second transflective mask 260 is a mask substrate 262 made of a transparent material, a blocking portion 264 formed in the blocking region S2 of the mask substrate 262, and a partial exposure region S3 of the mask substrate 262. And a transflective portion 266 formed at Here, the region where the mask substrate 262 is exposed becomes the exposure region S1. By using the second semi-transmissive mask 260 to expose the photoresist film 268 in which the red pigment is dispersed, the block 264 of the second semi-permeable mask 260 is exposed as shown in FIG. 9D. R color filter 102 having a third height d3 and a second color layer 106b of the protrusion having a third height d3 are formed in correspondence to the third and second transmissive portions 266. A second color layer 104b of black matrix having a fourth height d4 lower than the height d3 is formed.

R 칼라 필터(102)와 돌기부의 제2 칼라층(106b) 및 블랙매트릭스의 제2 칼라층(104b)이 형성된 상부기판(101) 상에 도 9e에 도시된 바와 같이 녹색 안료가 분산된 포토레지스트막(278)이 도포된다. 그런 다음, 제3 반투과마스크(270)가 상부기판(101) 상부에 정렬된다. 제3 반투과마스크(270)는 투명한 재질인 마스크 기판(272)과, 마스크 기판(272)의 차단 영역(S2)에 형성된 차단부(274)와, 마스크 기판(272)의 부분 노광 영역(S3)에 형성된 반투과부(276)를 구비한다. 여기서, 마스크 기판(272)이 노출된 영역은 노광 영역(S1)이 된다. 이러한 제3 반투과 마스크(270)를 이용하여 녹색 안료가 분산된 포토레지스트막(278)을 노광한 후 현상함으로써 도 9f에 도시된 바와 같이 제3 반투과 마스크(270)의 차단부(274)에 대응하여 제5 높이(d5)를 갖는 G 칼라필터(102)와 제5 높이(d5)를 갖는 돌출부의 제3 칼라층(106c)이 형성되고, 반투과부(276)에 대응하여 제5 높이(d5)보다 낮은 제6 높이(d6)를 갖는 블랙매트릭스의 제3 칼라층(104c)이 형성된다. A photoresist in which green pigment is dispersed, as shown in FIG. 9E, on the upper substrate 101 on which the R color filter 102, the second color layer 106b of the protrusion, and the second color layer 104b of the black matrix are formed. Membrane 278 is applied. Then, the third transflective mask 270 is aligned on the upper substrate 101. The third semi-transmissive mask 270 is a mask substrate 272 which is a transparent material, a blocking portion 274 formed in the blocking region S2 of the mask substrate 272, and a partial exposure region S3 of the mask substrate 272. And a semi-transmissive portion 276 formed thereon. Here, the region where the mask substrate 272 is exposed becomes the exposure region S1. By exposing and developing the photoresist film 278 in which the green pigment is dispersed using the third transflective mask 270, the blocking portion 274 of the third transflective mask 270 as shown in FIG. 9F. In response to the G color filter 102 having a fifth height d5 and the third color layer 106c of the protrusion having the fifth height d5, a fifth height corresponding to the transflective portion 276 is formed. A third color layer 104c of a black matrix having a sixth height d6 lower than d5 is formed.

도 10은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 칼라필터 어레이 기판을 나타내는 단면도이다.10 is a cross-sectional view illustrating a color filter array substrate according to a second embodiment of the present invention.

도 10에 도시된 칼라필터 어레이 기판은 도 5에 도시된 칼라필터 어레이 기판과 비교하여 잉크젯 분사방식으로 형성되는 스페이서(146)와, 스페이서(146)와 중첩되는 영역에 홈(144)을 가지도록 형성되는 돌출부(106)를 추가로 구비하는 것을 제외하고는 동일한 구성요소를 구비한다. The color filter array substrate shown in FIG. 10 has a spacer 146 formed by inkjet ejection compared with the color filter array substrate shown in FIG. 5, and a groove 144 in an area overlapping the spacer 146. It has the same components except that it further has a protrusion 106 formed.

돌출부(106)는 잉크젯 스페이서가 형성될 광차단영역에 형성된다. 이 돌출부(106)는 블랙매트릭스(104)보다 높이가 높도록 형성된다. 이를 위해, 돌출부(106)의 제1 내지 제3 칼라층(106a,106b,106c) 각각의 두께는 화소영역에 위치하는 R,G,B 칼라필터(104)와 두께가 동일하도록 형성된다.The protrusion 106 is formed in the light blocking region where the inkjet spacer is to be formed. The protrusion 106 is formed to have a height higher than that of the black matrix 104. To this end, the thickness of each of the first to third color layers 106a, 106b, and 106c of the protrusion 106 is formed to be the same as that of the R, G, and B color filters 104 positioned in the pixel area.

이러한 돌출부(106)의 제1 내지 제3 칼라층(106a,106b,106c) 각각은 서로 중첩되는 제1 내지 제3 홈(144a,144b,144c)을 가지도록 형성된다. 이 때, 제1 홈(144a)과 대응되는 돌출부의 제1 칼라층(106a)의 두께는 블랙매트릭스의 제1 칼라층(104a)의 두께와 동일하며, 제2 홈(144b)과 대응되는 돌출부의 제2 칼라층(106b)의 두께는 블랙매트릭스의 제2 칼라층(104b)의 두께와 동일하며, 제3 홈(144c)과 대응되는 돌출부의 제3 칼라층(106c)의 두께는 블랙매트릭스의 제3 칼라층(104c)의 두께와 동일한다.Each of the first to third color layers 106a, 106b and 106c of the protrusion 106 is formed to have first to third grooves 144a, 144b and 144c overlapping each other. At this time, the thickness of the first color layer 106a of the protrusion corresponding to the first groove 144a is the same as the thickness of the first color layer 104a of the black matrix, and the protrusion corresponding to the second groove 144b. The thickness of the second color layer 106b of the black matrix is the same as the thickness of the second color layer 104b of the black matrix, and the thickness of the third color layer 106c of the protrusion corresponding to the third groove 144c is the black matrix. Is equal to the thickness of the third color layer 104c.

스페이서(146)는 제1 내지 제3 홈(144a,144b,144c)에 의해 마련된 공간에 잉크젯분사방식으로 스페이서물질이 충전되어 형성된다. 이 경우, 잉크젯분사방식으로 형성되는 스페이서(146)는 돌출부(106)의 높이보다 높게 형성된다. The spacer 146 is formed by filling a spacer material by inkjet injection into a space provided by the first to third grooves 144a, 144b, and 144c. In this case, the spacer 146 formed by the inkjet injection method is formed higher than the height of the protrusion 106.

도 11a 내지 도 11f는 도 10에 도시된 칼라필터 어레이 기판의 제조방법을 나타내는 단면도이다. 여기서, 제조방법에 이용되는 마스크는 부분 노광 마스크, 예를 들어 반투과마스크 또는 회절 마스크가 이용된다. 본 발명에서는 반투과마스크를 이용한 제조방법을 예로 들어 설명하기로 한다. 11A to 11F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the color filter array substrate illustrated in FIG. 10. Here, as the mask used in the manufacturing method, a partial exposure mask, for example, a transflective mask or a diffraction mask is used. In the present invention, a manufacturing method using a transflective mask will be described as an example.                     

먼저, 도 11a에 도시된 바와 같이 상부기판(101) 상에 청색 안료가 분산된 포토레지스트막(188)이 도포된다. 그런 다음, 제1 반투과마스크(180)가 상부기판(101) 상부에 정렬된다. 제1 반투과마스크(180)는 투명한 재질인 마스크 기판(182)과, 마스크 기판(182)의 차단 영역(S2)에 형성된 차단부(184)와, 마스크 기판(182)의 부분 노광 영역(S3)에 형성된 반투과부(186)를 구비한다. 여기서, 마스크 기판(182)이 노출된 영역은 노광 영역(S1)이 된다. 이러한 제1 반투과 마스크(180)를 이용하여 청색 안료가 분산된 포토레지스트막(188)을 노광한 후 현상한다. 이에 따라, 도 11b에 도시된 바와 같이 제1 반투과 마스크(180)의 차단부(184)에 대응하여 B 칼라필터(102) 및 돌출부의 제1 칼라층(106a)이 형성되고, 반투과부(186)에 대응하여 B 칼라필터보다 높이가 낮은 블랙매트릭스의 제1 칼라층(104a), 돌출부의 제1 칼라층의 제1 홈(144a)이 형성된다.First, as shown in FIG. 11A, a photoresist film 188 having a blue pigment dispersed thereon is coated on the upper substrate 101. Then, the first semi-permeable mask 180 is aligned on the upper substrate 101. The first semi-permeable mask 180 is a mask substrate 182 which is a transparent material, a blocking portion 184 formed in the blocking region S2 of the mask substrate 182, and a partial exposure region S3 of the mask substrate 182. It has a transflective portion 186 formed in the). Here, the region where the mask substrate 182 is exposed becomes the exposure region S1. The photoresist film 188 in which the blue pigment is dispersed is exposed using the first transflective mask 180 and then developed. Accordingly, as shown in FIG. 11B, the B color filter 102 and the first color layer 106a of the protrusion are formed to correspond to the blocking portion 184 of the first semi-transmissive mask 180, and the semi-transmissive portion ( Corresponding to 186, the first color layer 104a of the black matrix having a lower height than the B color filter and the first groove 144a of the first color layer of the protrusion are formed.

도 11c에 도시된 바와 같이 상부기판(101) 상에 적색 안료가 분산된 포토레지스트막(198)이 도포된다. 그런 다음, 제2 반투과마스크(190)가 상부기판(101) 상부에 정렬된다. 제2 반투과마스크(190)는 투명한 재질인 마스크 기판(192)과, 마스크 기판(192)의 차단 영역(S2)에 형성된 차단부(194)와, 마스크 기판(192)의 부분 노광 영역(S3)에 형성된 반투과부(196)를 구비한다. 여기서, 마스크 기판(192)이 노출된 영역은 노광 영역(S1)이 된다. 이러한 제2 반투과 마스크(190)를 이용하여 적색 안료가 분산된 포토레지스트막(198)을 노광한 후 현상한다. 이에 따라, 도 11d에 도시된 바와 같이 제2 반투과 마스크(190)의 차단부(194)에 대응하여 R 칼라필터(102) 및 돌출부의 제2 칼라층(106b)이 형성되고, 반투과부(196)에 대응하여 R 칼라필터보다 높이가 낮은 블랙매트릭스의 제2 칼라층(104b) 및 돌출부의 제2 칼라층의 제2 홈(144b)이 형성된다.As shown in FIG. 11C, a photoresist film 198 having a red pigment dispersed thereon is coated on the upper substrate 101. Then, the second semi-permeable mask 190 is aligned on the upper substrate 101. The second semi-permeable mask 190 is a mask substrate 192 which is a transparent material, a blocking portion 194 formed in the blocking region S2 of the mask substrate 192, and a partial exposure region S3 of the mask substrate 192. It has a transflective portion 196 formed in the). Here, the region where the mask substrate 192 is exposed becomes the exposure region S1. The second semi-transmissive mask 190 is used to expose the photoresist film 198 in which the red pigment is dispersed and then develop. Accordingly, as shown in FIG. 11D, the R color filter 102 and the second color layer 106b of the protrusion are formed to correspond to the blocking portion 194 of the second semi-transmissive mask 190, and the semi-transmissive portion ( 196, a second color layer 104b of a black matrix having a height lower than that of the R color filter and a second groove 144b of the second color layer of the protrusion are formed.

도 11e에 도시된 바와 같이 상부기판(101) 상에 녹색 안료가 분산된 포토레지스트막(178)이 도포된다. 그런 다음, 제3 반투과마스크(171)가 상부기판(101) 상부에 정렬된다. 제3 반투과마스크(171)는 투명한 재질인 마스크 기판(172)과, 마스크 기판(172)의 차단 영역(S2)에 형성된 차단부(174)와, 마스크 기판(172)의 부분 노광 영역(S3)에 형성된 반투과부(176)를 구비한다. 여기서, 마스크 기판(172)이 노출된 영역은 노광 영역(S1)이 된다. 이러한 제3 반투과 마스크(171)를 이용하여 녹색 안료가 분산된 포토레지스트막(178)을 노광한 후 현상한다. 이에 따라, 도 11f에 도시된 바와 같이 제3 반투과 마스크(171)의 차단부(174)에 대응하여 G 칼라필터(102) 및 돌출부의 제3 칼라층(106c)이 형성되고, 반투과부(176)에 대응하여 G 칼라필터보다 높이가 낮은 블랙매트릭스의 제3 칼라층(104c) 및 돌출부의 제3 칼라층의 제3 홈(144c)이 형성된다.As shown in FIG. 11E, a photoresist film 178 having a green pigment dispersed thereon is coated on the upper substrate 101. Then, the third semi-permeable mask 171 is aligned on the upper substrate 101. The third transflective mask 171 includes a mask substrate 172 which is a transparent material, a blocking portion 174 formed in the blocking region S2 of the mask substrate 172, and a partial exposure region S3 of the mask substrate 172. It has a transflective portion 176 formed in). Here, the region where the mask substrate 172 is exposed becomes the exposure region S1. The third semi-transmissive mask 171 is used to expose the photoresist film 178 having the green pigment dispersed therein, and then developed. Accordingly, as shown in FIG. 11F, the G color filter 102 and the third color layer 106c of the protrusion are formed to correspond to the blocking part 174 of the third transflective mask 171, and the semi-transmissive part ( In response to 176, a third color layer 104c of the black matrix having a lower height than the G color filter and a third groove 144c of the third color layer of the protrusion are formed.

이와 같이, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 칼라필터 어레이 기판은 적어도 어느 하나가 칼라필터보다 낮은 두께를 가지는 제1 내지 제3 칼라층으로 이루어진 블랙매트릭스를 구비하고, 홈을 사이에 두고 이격된 돌출부와, 돌출부의 홈에 잉크젯분사방식으로 충전된 스페이서를 구비한다. 이에 따라, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 칼라필터 어레이 기판은 블랙매트릭스와 칼라필터 간의 줄어든 단차에 의해 배향얼룩발생과 빛샘현상을 줄일 수 있다. 또한, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 칼라필터 어레이 기판은 별도의 평탄화층이 불필요하므로 공정수를 줄일 수 있 다. 또한, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 칼라필터 어레이 기판은 돌출부 사이의 홈에 잉크젯 분사방식으로 스페이서를 형성함으로써 돌출부 이상의 높이를 갖는 스페이서를 형성할 수 있다.As described above, the color filter array substrate according to the second embodiment of the present invention includes at least one of the black matrices composed of the first to third color layers having a lower thickness than the color filter, and is spaced apart from each other with a groove interposed therebetween. The protrusions and the spacers filled with the ink jet injection method in the grooves of the protrusions are provided. Accordingly, the color filter array substrate according to the second embodiment of the present invention can reduce the occurrence of alignment spots and light leakage due to the reduced step between the black matrix and the color filter. In addition, the color filter array substrate according to the second embodiment of the present invention can reduce the number of processes because a separate planarization layer is unnecessary. In addition, the color filter array substrate according to the second embodiment of the present invention may form a spacer having a height greater than or equal to a protrusion by forming a spacer in a groove between the protrusions by inkjet injection.

한편, 본 발명에 따른 칼라필터 어레이 기판은 화소전극과 공통전극이 서로 다른 기판 상에 위치하는 수직 전계 인가형 또는 화소전극과 공통전극이 동일 기판에 위치하는 수평 전계 인가형 액정표시패널에 적용된다.
Meanwhile, the color filter array substrate according to the present invention is applied to a vertical field applying type in which the pixel electrode and the common electrode are located on different substrates, or a horizontal field applying liquid crystal display panel in which the pixel electrode and the common electrode are located on the same substrate. .

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 칼라필터 어레이 기판 및 그 제조방법은 적어도 어느 하나가 칼라필터보다 낮은 두께를 가지는 제1 내지 제3 칼라층으로 이루어진 블랙매트릭스를 구비한다. 블랙매트릭스와 칼라필터 간의 줄어든 단차에 의해 배향얼룩발생과 빛샘현상을 줄일 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 칼라필터 어레이 기판은 별도의 평탄화층이 불필요하고, 블랙매트릭스, 스페이서 및 광차단층을 칼라필터와 동일물질로 그들과 동시에 형성하므로 전체 공정수를 줄일 수 있어 생산성이 향상된다.As described above, the color filter array substrate and the manufacturing method thereof according to the present invention includes a black matrix composed of first to third color layers having at least one thickness lower than that of the color filter. The reduced step between the black matrix and the color filter reduces the occurrence of alignment spots and light leakage. In addition, the color filter array substrate according to the present invention does not require a separate planarization layer, and simultaneously forms the black matrix, the spacer, and the light blocking layer with the same material as the color filter, thereby reducing the total number of processes and improving productivity.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다. Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be defined by the claims.

Claims (13)

화소 영역과 광차단영역으로 구분되는 제 1 기판의 화소 영역에 형성된 적, 녹 및 청색 칼라필터들과;Red, green, and blue color filters formed in the pixel area of the first substrate, which are divided into a pixel area and a light blocking area; 상기 광차단영역에 적어도 어느 하나가 상기 화소 영역과 다른 두께를 가지는 칼라필터들이 적층되어 형성된 블랙매트릭스를 구비하고,At least one black matrix formed by stacking color filters having a thickness different from that of the pixel region in the light blocking region; 상기 블랙매트릭스 형성 영역 중 합착되는 제 2 기판의 박막 트랜지스터 형성 영역과 대응되는 영역에 돌출부가 형성되고,A protrusion is formed in a region corresponding to the thin film transistor forming region of the second substrate to be bonded among the black matrix forming regions. 상기 돌출부는 화소 영역에 형성된 적, 녹 및 청색 칼라필터들과 동일한 두께로 칼라필터들이 적층 형성되어 있고, 상기 돌출부 상에는 스페이서가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 칼라필터 어레이 기판.And the protrusions are stacked with color filters having the same thickness as the red, green, and blue color filters formed in the pixel area, and spacers are formed on the protrusions. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 스페이서가 형성되는 돌출부 영역에는 홈이 형성되어 상기 스페이서가 홈을 포함한 돌출부 상에 형성된 것을 특징으로 하는 칼라필터 어레이 기판.And a groove is formed in the protrusion area where the spacer is formed, and the spacer is formed on the protrusion including the groove. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 돌출부 영역에 형성된 홈은 상기 제 2 기판 상에 형성된 박막 트랜지스터와 대응되는 영역에 형성된 것을 특징으로 하는 칼라필터 어레이 기판.And a groove formed in the protrusion area is formed in an area corresponding to the thin film transistor formed on the second substrate. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 돌출부에 적층되는 각각의 컬러필터들의 두께와 화소 영역에 형성되는 각각의 컬러필터의 두께는 동일하고, 상기 블랙매트릭스를 형성하기 위해 다른 두께로 적층되는 각각의 칼라필터들의 두께는 화소 영역에 형성되는 칼라필터의 두께보다 작은 것을 특징으로 하는 칼라필터 어레이 기판.The thickness of each color filter stacked in the protrusion and the thickness of each color filter formed in the pixel area are the same, and the thickness of each color filter stacked in a different thickness to form the black matrix is formed in the pixel area. Color filter array substrate, characterized in that less than the thickness of the color filter. 삭제delete 삭제delete 화소 영역과 광차단영역으로 구분되는 제 1 기판을 제공하는 단계;Providing a first substrate divided into a pixel region and a light blocking region; 상기 화소 영역 별로 상기 제 1 기판 상에 칼라필터들을 형성함과 동시에 상기 광차단영역에 적어도 어느 하나가 상기 화소영역과 다른 두께를 가지는 칼라필터들을 적층하여 블랙매트릭스를 형성하는 단계를 포함하고,Forming a black matrix by stacking color filters having a thickness different from that of the pixel region at the same time as forming color filters on the first substrate for each pixel region; 상기 블랙매트릭스 형성시 합착되는 제 2 기판의 박막 트랜지스터 형성 영역과 대응되는 영역에 돌출부를 형성하고,A protrusion is formed in a region corresponding to the thin film transistor forming region of the second substrate to be bonded when the black matrix is formed. 상기 돌출부는 화소 영역에 형성된 적, 녹 및 청색 칼라필터들과 동일한 두께로 칼라필터들이 적층 형성되고,The protrusion may be formed by stacking color filters having the same thickness as the red, green, and blue color filters formed in the pixel area. 상기 돌출부 상에는 스페이서를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 칼라필터 어레이 기판의 제조방법.And forming a spacer on the protruding portion. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 돌출부에 적층되는 각각의 컬러필터들의 두께와 화소 영역에 형성되는 각각의 컬러필터의 두께는 동일하고, 상기 블랙매트릭스를 형성하기 위해 다른 두께로 적층되는 각각의 칼라필터들의 두께는 화소 영역에 형성되는 칼라필터의 두께보다 작은 것을 특징으로 하는 칼라필터 어레이 기판의 제조방법.The thickness of each color filter stacked in the protrusion and the thickness of each color filter formed in the pixel area are the same, and the thickness of each color filter stacked in a different thickness to form the black matrix is formed in the pixel area. A method of manufacturing a color filter array substrate, characterized in that less than the thickness of the color filter. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 스페이서가 형성되는 돌출부 영역에는 홈이 형성되어 상기 스페이서가 홈을 포함한 돌출부 상에 형성된 것을 특징으로 하는 칼라필터 어레이 기판의 제조방법.And a groove is formed in the protrusion region where the spacer is formed, and the spacer is formed on the protrusion including the groove. 제 9 항에 있어서, The method of claim 9, 상기 돌출부 영역에 형성된 홈은 칼라필터 어레이 기판 형성 후 합착되는 제 2 기판의 박막 트랜지스터와 대응되는 영역에 형성된 것을 특징으로 하는 칼라필터 어레이 기판 제조방법.The groove formed in the protrusion area is formed in a region corresponding to the thin film transistor of the second substrate bonded to the color filter array substrate after the formation. 제 10 항에 있어서, 11. The method of claim 10, 상기 스페이서는 잉크젯 분사방식에 의해 형성하는 것을 특징으로 하는 칼라필터 어레이 기판의 제조방법.The spacer is a method of manufacturing a color filter array substrate, characterized in that formed by the inkjet injection method. 삭제delete 삭제delete
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