KR101025811B1 - Apparatus for cleaning a substrate - Google Patents

Apparatus for cleaning a substrate Download PDF

Info

Publication number
KR101025811B1
KR101025811B1 KR1020040096203A KR20040096203A KR101025811B1 KR 101025811 B1 KR101025811 B1 KR 101025811B1 KR 1020040096203 A KR1020040096203 A KR 1020040096203A KR 20040096203 A KR20040096203 A KR 20040096203A KR 101025811 B1 KR101025811 B1 KR 101025811B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
main body
rail
worktable
substrate
substrate cleaning
Prior art date
Application number
KR1020040096203A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20060057137A (en
Inventor
이재성
Original Assignee
주식회사 케이씨텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 케이씨텍 filed Critical 주식회사 케이씨텍
Priority to KR1020040096203A priority Critical patent/KR101025811B1/en
Publication of KR20060057137A publication Critical patent/KR20060057137A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101025811B1 publication Critical patent/KR101025811B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
    • B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
    • B23Q1/64—Movable or adjustable work or tool supports characterised by the purpose of the movement
    • B23Q1/66—Worktables interchangeably movable into operating positions
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1316—Methods for cleaning the liquid crystal cells, or components thereof, during manufacture: Materials therefor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명은 기판 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판 세정 공정을 수행하기 위한 유닛들을 내부에 구비한 본체; 상기 본체의 외부 길이방향을 따라 구비되는 적어도 하나의 레일; 및 상기 레일을 따라 상기 본체의 외부에서 수평 이동하되, 상기 레일로부터 분리가 가능한 작업테이블을 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명은 종래기술에 비해 장치의 이송이 훨씬 편리하고, 장치를 설치한 후에도 불필요한 설치공간을 현저히 감소시킬 수 있어서 공간 활용의 효용성을 높이는 우수한 효과가 있다.The present invention relates to a substrate cleaning apparatus, and more particularly, a main body having units therein for performing a substrate cleaning process; At least one rail provided along an outer longitudinal direction of the main body; And a worktable horizontally moved outside of the main body along the rails, the worktable being detachable from the rails. The present invention is much more convenient than the prior art transfer of the device, and even after installing the device can be significantly reduced unnecessary installation space has an excellent effect of increasing the efficiency of the space utilization.

기판세정장치,작업테이블,레일,구동용롤러,가이드용롤러.Substrate cleaning device, work table, rail, driving roller, guide roller.

Description

기판 세정 장치{Apparatus for cleaning a substrate}Apparatus for cleaning a substrate

도 1은 종래기술에 따른 기판 세정 장치의 실시예를 개략적으로 도시한 구성도이고,1 is a configuration diagram schematically showing an embodiment of a substrate cleaning apparatus according to the prior art,

도 2는 종래기술에 따른 기판 세정 장치의 다른 실시예를 개략적으로 도시한 구성도이고,Figure 2 is a schematic diagram showing another embodiment of a substrate cleaning apparatus according to the prior art,

도 3은 본 발명에 따른 기판 세정 장치를 개략적으로 도시한 구성도이고,3 is a schematic view showing a substrate cleaning apparatus according to the present invention;

도 4는 본 발명에 따른 기판 세정 장치에서 본체와 작업테이블의 결합구조에 대한 실시예를 도시한 구성도이며,Figure 4 is a block diagram showing an embodiment of the coupling structure of the body and the work table in the substrate cleaning apparatus according to the present invention,

도 5는 본 발명에 따른 기판 세정 장치에서 본체와 작업테이블의 결합구조에 대한 다른 실시예를 도시한 구성도이다.5 is a block diagram showing another embodiment of the coupling structure of the main body and the work table in the substrate cleaning apparatus according to the present invention.

-도면의 주요부분에 대한 부호의 설명-Explanation of symbols on the main parts of the drawing

10; 세정장치 11; 본체10; Cleaning device 11; main body

20,20'; 레일 21,21'; 레일 홈20,20 '; Rail 21, 21 '; Rail groove

30; 작업테이블 31,31'; 구동용 롤러30; Worktable 31,31 '; Driving roller

32,32'; 가이드용 롤러 33; 계단32,32 '; Guide rollers 33; stairs

34; 안전팬스 40; 롤러지지대34; Safety pan 40; Roller support

본 발명은 액정표시장치(Liquid Crystal Display: LCD) 또는 평판표시장치(Flat Panel Display : FPD) 등의 기판을 세정하기 위한 기판 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate cleaning apparatus for cleaning a substrate such as a liquid crystal display (LCD) or a flat panel display (FPD).

일반적으로, 액정 표시 장치 또는 평판 표시 장치 등의 기판을 제조하는 공정에는 기판의 표면에 기계적 또는 화학적 처리를 가하는 공정이 수반되며, 이에 따라 처리된 기판의 표면을 세정하는 공정이 또한 필요하다.In general, a process of manufacturing a substrate such as a liquid crystal display or a flat panel display involves a process of applying a mechanical or chemical treatment to the surface of the substrate, and thus a process of cleaning the surface of the treated substrate is also required.

이러한 세정 공정은 기판들이 기판 이송용 컨베이어를 따라 이송되는 동안 컨베이어의 상측에 설치된 린싱용 분사 유닛, 브러시 유닛, 세정용 분사 유닛, 초음파 유닛 등을 이용하여 기판에 대해 순수(純水, DI Water)와 같은 세정액을 분사하고, 브러시로 닦아내며, 초음파를 가하는 등의 작업을 통해 기판의 표면으로부터 이 물질을 제거하고, 에어 나이프(air knife)를 이용하여 기판의 표면을 건조시킨 다음 기판의 배출한다.This cleaning process uses DI water for the substrate by using a rinsing spray unit, a brush unit, a cleaning spray unit, an ultrasonic unit, etc. installed on the upper side of the conveyor while the substrates are transported along the substrate transport conveyor. This material is removed from the surface of the substrate by spraying a cleaning solution, wiping with a brush, applying ultrasonic waves, and the like, and then drying the surface of the substrate using an air knife, and then discharging the substrate. .

최근에는 액정표시장치(LCD) 또는 평판표시장치(FPD) 등이 점차 대형화됨에 따라 기판의 사이즈 또한 6세대 이상으로 증가하고 있는 추세이다. 이러한 이유로, 세정 장치의 사이즈도 자연스럽게 증가할 수 밖에 없었다.Recently, as liquid crystal display (LCD) or flat panel display (FPD) are gradually enlarged, the size of the substrate is also increasing to more than 6 generations. For this reason, the size of the cleaning device also had to increase naturally.

이렇게 세정 장치의 사이즈가 증가하면서 작업자는 장치셋팅 및 유지보수를 위해 장치에 오르기가 쉽지 않았다. 이 때문에 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 별도로 본체(1,1')에 작업자가 작업할 수 있는 발판(2,2')을 설치하게 되었다. This increase in the size of the cleaning device made it difficult for the operator to climb onto the device for device setting and maintenance. For this reason, as shown in FIG. 1 and FIG. 2, the footrests 2 and 2 'which an operator can work in the main body 1 and 1' are installed separately.                         

먼저, 도 1의 경우는 발판(2)이 본체(1)에 일체로 구비된 타입으로써, 6세대 세정장치의 일반적인 형태이다. 이 경우에는 기판이 대형화되면서 이송라인이 높아지고, 장치에 직접 작업자가 오르기 쉽지 않은 점을 보완하기 위해 본체(1)의 길이방향을 따라 양측에 각각 발판을 구비한 것이다.First, in the case of FIG. 1, the footrest 2 is a type provided integrally with the main body 1, and is a general form of the 6th generation washing apparatus. In this case, as the substrate is enlarged, the transfer line is increased, and the scaffolds are provided on both sides along the longitudinal direction of the main body 1 in order to compensate for the fact that it is not easy for the operator to climb directly to the apparatus.

하지만, 도 1에 도시된 기판 세정장치는 본체(1)의 양측에 발판(2)을 일체로 구비하므로써, 하중과 사이즈가 커서 운송이 상당히 어려우며, 불필요하게 설치공간도 많이 차지하게 되는 문제점이 있었다.However, the substrate cleaning apparatus shown in FIG. 1 has a problem in that since the board 2 is integrally provided on both sides of the main body 1, the load and the size are large, so that the transportation is very difficult and the installation space is unnecessarily occupied a lot. .

도 2의 경우는 별도의 발판(2')을 본체(1') 양측에 도킹(docking)시킬 수 있는 발판도킹 타입이다.2 is a scaffolding docking type capable of docking a separate scaffold 2 'on both sides of the main body 1'.

이 경우에는 발판(2')을 본체(1')로부터 이탈시켜 이송할 수 있기 때문에 도 1의 문제점인 운송 상의 문제점은 어느 정도 해결할 수는 있지만, 실질적으로 발판(2')을 본체(1')에 결합시 그 사이즈에는 변함이 없으므로, 공간 활용면에서는 도 1의 경우와 동일한 문제점이 있었다.In this case, since the footrest 2 'can be moved away from the main body 1', the transportation problem, which is the problem of FIG. 1, can be solved to some extent, but the footrest 2 'is substantially replaced by the main body 1'. Since the size does not change when combined with), there is the same problem as the case of Figure 1 in terms of space utilization.

본 발명은 상기와 같은 점들을 해결하기 위해 안출된 것으로, 이송이 편리하고 불필요한 설치공간을 감소시키는 기판 세정 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a substrate cleaning apparatus that is convenient to transport and reduce unnecessary installation space.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 형태에 따르면, 기판 세정 공정을 수행하기 위한 유닛들을 내부에 구비한 본체; 상기 본체의 외부 길이방향을 따라 구비되는 적어도 하나의 레일; 및 상기 레일을 따라 상기 본체의 외부에서 수평 이 동하되, 상기 레일로부터 분리가 가능한 작업테이블을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장치를 제공한다.According to an aspect of the present invention for achieving the above object, a main body having a unit therein for performing a substrate cleaning process; At least one rail provided along an outer longitudinal direction of the main body; And while moving horizontally from the outside of the body along the rail provides a cleaning device comprising a worktable that can be separated from the rail.

상기 작업테이블은 상기 레일을 따라 이동하기 위한 적어도 하나의 구동용 롤러를 가지는 것을 특징으로 하며, 상기 작업테이블은 수동 또는 자동으로 동작이 가능하되, 상기 작업테이블이 자동으로 동작할 경우에는 상기 구동용 롤러가 모터의 정역회전을 통해 회동하는 것을 특징으로 한다.The work table has at least one driving roller for moving along the rail, the work table is capable of operating manually or automatically, if the work table automatically operates for the drive The roller is characterized by rotating through the forward and reverse rotation of the motor.

상기 작업테이블은 상기 본체의 외부와 접촉 이동하기 위한 적어도 하나의 가이드용 롤러를 더 구비하는 것을 특징으로 한다. 그리고 상기 작업테이블은 작업자가 승하강하기 위한 계단과, 작업 위치로부터 작업자의 추락을 방지하는 안전팬스를 가지는 것을 특징으로 한다.The worktable further comprises at least one guide roller for moving in contact with the outside of the main body. And the work table is characterized in that the worker has a stairway for lifting and lowering, and a safety pan to prevent the fall of the worker from the working position.

도 3은 본 발명에 따른 기판 세정 장치를 개략적으로 도시한 구성도이고, 도 4는 본 발명에 따른 기판 세정 장치에서 본체와 작업테이블의 결합구조에 대한 실시예를 도시한 구성도이다.Figure 3 is a schematic view showing a substrate cleaning apparatus according to the present invention, Figure 4 is a block diagram showing an embodiment of the coupling structure of the body and the work table in the substrate cleaning apparatus according to the present invention.

도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 기판 세정 장치는 기판 세정 공정을 수행하기 위한 유닛들(미도시)을 내부에 구비한 본체(10)와, 상기 본체(10)의 외부 길이방향을 따라 구비되는 적어도 하나의 레일(20)과, 상기 레일(20)을 따라 상기 본체(11)의 외부에서 수평 이동하는 작업테이블(30)을 포함한다.3 and 4, the substrate cleaning apparatus according to the present invention includes a main body 10 having units (not shown) therein for performing a substrate cleaning process, and an exterior of the main body 10. At least one rail 20 provided along the longitudinal direction, and the work table 30 to move horizontally from the outside of the main body 11 along the rail 20.

상기 본체(11)는 세정장치(10)의 외관을 형성하는 것으로, 내부에 기판 세정 공정을 수행하기 위한 유닛들을 구비한다.The main body 11 forms an outer appearance of the cleaning device 10 and includes units for performing a substrate cleaning process therein.

본체(11)의 내부는 도면에 상세하게 도시되어 있지 않지만, 대략 본체(11)의 길이방향을 따라 길게 기판 이송용 컨베이어를 가지며, 이 기판 이송용 컨베이어를 따라 기판이 이송되는 동안 컨베이어의 상측에 설치된 린싱용 분사 유닛, 브러시 유닛, 세정용 분사 유닛, 초음파 유닛 등을 이용하여 기판에 대해 순수(純水, DI Water)와 같은 세정액을 분사하고 브러시로 닦아내며 초음파를 가하는 등의 작업을 통해 기판의 표면으로부터 이물질을 제거하고, 에어 나이프(air knife)를 이용하여 기판의 표면을 건조시킨 다음 기판을 배출하도록 구성된다.Although not shown in detail in the drawing, the inside of the main body 11 has a conveyor for transporting the substrate approximately along the longitudinal direction of the main body 11, and on the upper side of the conveyor while the substrate is transported along the substrate transporting conveyor. Substrate through spraying cleaning liquid like DI water, wiping with brush and applying ultrasonic wave to the substrate using installed rinsing spray unit, brush unit, cleaning spray unit, ultrasonic unit, etc. It is configured to remove foreign matter from the surface of and to dry the surface of the substrate using an air knife and then discharge the substrate.

실시예에서는, 본체(11)가 세정 공정별로 3개 정도의 섹션(section)으로 구획되어 있지만, 이 본체(11)는 공정에 따라 3개 이하 또는 3개 이상의 섹션으로 구획되어도 무방하다.In the embodiment, the main body 11 is divided into about three sections for each cleaning process, but the main body 11 may be divided into three or less or three or more sections depending on the process.

상기 레일(20)은 본체(11)의 외부 길이방향을 따라 적어도 하나가 구비된다.At least one rail 20 is provided along the outer longitudinal direction of the main body 11.

이 레일(20)은 본체(11)의 측면에 지면과 나란하도록 구비되는 것이 바람직하다. 아울러, 레일(20)이 구비되는 본체(11)의 측면은 레일(20)의 설치와 하기된 작업테이블(30)의 이동이 용이하도록 평탄하게 이루어지는 것이 바람직하다. 이 레일(20)은 하기된 구동용 롤러(31)가 안착되는 레일홈(21)을 가진다.The rail 20 is preferably provided on the side of the main body 11 to be parallel to the ground. In addition, the side of the main body 11 provided with the rail 20 is preferably made flat to facilitate the installation of the rail 20 and the movement of the work table 30 described below. The rail 20 has a rail groove 21 on which the driving roller 31 described below is seated.

도 5에 도시된 바와 같이, 레일(20')은 본체(11)의 측면으로 돌출 형성되어도 무방하다. 이러한 레일(20')은 도 4의 실시예와 마찬가지로 내부에 구동용 롤러(31')가 안착되는 레일홈(21')을 가진다.As shown in FIG. 5, the rail 20 ′ may protrude to the side of the main body 11. The rail 20 ′ has a rail groove 21 ′ in which the driving roller 31 ′ is mounted, similarly to the embodiment of FIG. 4.

상기 작업테이블(30)은 상기 레일(20)을 따라 상기 본체(11)의 외부에서 수평 이동하되, 상기 레일(20)로부터 분리가 가능한 것이다.The work table 30 moves horizontally from the outside of the main body 11 along the rail 20, but is detachable from the rail 20.

실시예에서, 작업테이블(30)은 상기 레일(20)을 따라 이동하기 위한 적어도 하나의 구동용 롤러(31)를 가진다. 이 구동용 롤러(31)는 대략 작업테이블(30)의 상부 또는 중앙부에 구비되고 상기 레일홈(21)을 따라 이동하게 된다. 도 5에 도시된 바와 같이, 구동용 롤러(31')는 하중 분산의 효과를 높이기 위해 중앙에 요(凹)부를 형성하여도 무방하다.In the embodiment, the worktable 30 has at least one driving roller 31 for moving along the rail 20. The driving roller 31 is provided in the upper or center portion of the work table 30 and moves along the rail groove 21. As shown in Fig. 5, the driving roller 31 'may have a concave portion in the center in order to enhance the effect of load distribution.

상기 작업테이블(30)은 구동용 롤러(31)를 상기 레일(20)의 레일홈(21)으로부터 이탈시켜 상기 본체(11)로부터 분리가 가능하다. 즉, 레일(20)의 양 끝단은 각각 개방되기 때문에 충분히 구동용 롤러(31)를 상기 레일(20)의 레일홈(21)으로부터 이탈시키는 것이 가능하다.The work table 30 may be separated from the main body 11 by separating the driving roller 31 from the rail groove 21 of the rail 20. That is, since both ends of the rail 20 are open, the driving roller 31 can be sufficiently separated from the rail groove 21 of the rail 20.

이와 같이, 작업테이블(30)이 본체(11)로부터 분리가 가능하므로써, 본 세정 장치(10)는 종래기술과 달리 손 쉽게 설치공간으로 이송시킬 수 있는 장점이 있다.Thus, since the worktable 30 can be separated from the main body 11, unlike the prior art, the cleaning device 10 has an advantage that it can be easily transported to the installation space.

그리고 본 세정장치(10)는 작업테이블(30)이 종래기술의 발판(도 1의 도면부호 2, 2')과 같이 본체의 길이방향을 따라 길게 구비되는 것이 아니라, 단순히 레일(20)을 따라 이동할 수 있는 셔틀형 구조이므로, 불필요한 작업 공간을 현저히 감소시키는 우수한 효과가 있다.In addition, the cleaning device 10 is not provided with the work table 30 in the longitudinal direction of the main body as shown in the footrest of the prior art (2, 2 'of FIG. 1), but simply along the rail 20 Because of the removable shuttle-type structure, there is an excellent effect of significantly reducing unnecessary work space.

이 작업테이블(30)은 상기 본체(11)의 외부와 접촉 이동하기 위한 적어도 하나의 가이드용 롤러(32)를 더 구비한다.The work table 30 further includes at least one guide roller 32 for moving in contact with the outside of the main body 11.

이 가이드용 롤러(32)는 본체(11)의 하부에 구비되어 구동용 롤러(31)로 이동하는 작업테이블(30)이 보다 안정적으로 이동하도록 조력한다. 하지만, 이 가이드용 롤러(32)는 작업테이블(30)의 바닥면에 구비되어 지면과 접촉하면서 구동하는 구조로 변경하여도 무방하다. 도 5에 도시된 바와 같이, 가이드 롤러(32')는 작업 테이블(30)의 외부로 돌출되고 본체(11)에 별도로 구비된 롤러지지대(40)를 따라 이동할 수도 있다. 이 롤러지지대(40)는 도 5에 도시된 바와 같이 레일(20')이 본체(11)로부터 돌출 형성되었을 때, 상기 작업테이블(30)의 상하 균형을 맞추는 역할과 더불어 가이드 롤러(32')와 접촉력을 높여서 가이드 롤러(32')의 구동력을 우수하게 하는 역할을 한다.This guide roller 32 is provided in the lower part of the main body 11, and assists the worktable 30 which moves to the driving roller 31 to move more stably. However, this guide roller 32 may be provided in the bottom surface of the worktable 30, and may be changed into the structure which drives while contacting the ground. As shown in FIG. 5, the guide roller 32 ′ may protrude out of the work table 30 and move along the roller support 40 separately provided in the main body 11. This roller support 40, as shown in Figure 5, when the rail 20 'is formed to protrude from the main body 11, in addition to the role of balancing the top and bottom of the work table 30 guide roller 32' By increasing the contact force with and serves to improve the driving force of the guide roller 32 '.

한편, 작업테이블(30)은 작업자가 승하강하기 위한 계단(33)과, 작업 위치로부터 작업자의 추락을 방지하는 안전팬스(34)를 가진다.On the other hand, the work table 30 has a staircase 33 for the worker to move up and down, and a safety pan 34 for preventing the worker from falling from the working position.

실시예에서, 계단(33)은 본체(11)의 측면을 기준으로 작업테이블(30)의 양측에 각각 구비되며, 안전팬스(34)는 작업 위치 즉, 작업테이블(30)의 최상면의 일측에 구비되어 작업자의 낙상사고 등을 방지한다.In an embodiment, the stairs 33 are provided on both sides of the work table 30 with respect to the side of the main body 11, and the safety pan 34 is located at the work position, that is, on one side of the top surface of the work table 30. It is provided to prevent the fall of the worker.

본 발명에 따른 세정 장치(10)의 작업테이블(30)은 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이 수동 또는 자동으로 동작이 가능하다.The worktable 30 of the cleaning apparatus 10 according to the present invention can be operated manually or automatically as shown in FIGS. 3 and 4.

먼저, 작업테이블(30)이 수동으로 동작할 경우에는, 상기 작업테이블(30)을 작업자가 직접 손으로 밀어서 작업하고자 하는 위치에 정지시키면 된다. 이 때, 구동용 롤러(31)는 작업자의 힘에 의해 레일(20)의 레일홈(21)을 따라 이동하거나 정지하고, 가이드용 롤러(32) 역시 작업자의 힘에 의해 본체(11)의 측면을 따라 이동하거나 정지한다.First, when the worktable 30 is operated manually, the worktable 30 may be pushed by the worker by hand and stopped at the position to be worked. At this time, the driving roller 31 moves or stops along the rail groove 21 of the rail 20 by the force of the operator, and the guide roller 32 is also the side of the main body 11 by the force of the operator. Move or stop along.

하지만, 작업테이블(30)이 자동으로 동작할 경우에는, 상기 구동용 롤러(31)가 모터(미도시)의 정역회전을 통해 회동하면서 레일(20)의 레일홈(21)을 따라 이동하게 된다. 상기 모터의 정역회전 및 정지동작의 제어는, 별도로 구비된 리모컨( 미도시)의 버튼을 조작하거나 작업테이블(30) 자체에 구비된 계기판(미도시)의 조작에 의해 가능하다.However, when the work table 30 automatically operates, the driving roller 31 moves along the rail groove 21 of the rail 20 while rotating through the forward and reverse rotation of a motor (not shown). . Control of the forward and reverse rotation of the motor is possible by operating a button of a remote controller (not shown) separately provided or by operating an instrument panel (not shown) provided in the work table 30 itself.

한편, 상술한 본 발명에 따른 작업테이블(30)은 기판의 세정처리에 적용될 뿐만 아니라 동일한 기술적 사상으로써 식각, 현상 또는 스트립(strip) 등을 포함한 액정 표시장치 또는 평판 표시장치의 기판에 대한 각종 처리장치에 적용될 수 있다.On the other hand, the work table 30 according to the present invention described above is not only applied to the cleaning process of the substrate, but also various processes for the substrate of the liquid crystal display or flat panel display including etching, developing or stripping, etc. as the same technical concept. It can be applied to the device.

본 발명에 따른 기판 세정 장치는, 본체의 외부에 레일을 구비하고, 이 레일을 따라 이동하되 레일로부터 분리가 가능한 작업테이블을 구비하므로써, 종래기술에 비해 장치의 이송이 훨씬 편리하고, 장치를 설치한 후에도 불필요한 설치공간을 현저히 감소시킬 수 있어서 공간 활용의 효용성을 높이는 우수한 효과가 있다.The substrate cleaning apparatus according to the present invention has a rail on the outside of the main body, and has a worktable which can move along the rail but can be separated from the rail. Even after the unnecessary installation space can be significantly reduced, there is an excellent effect of increasing the utility of space utilization.

Claims (5)

기판 세정 공정을 수행하기 위한 유닛들을 내부에 구비한 본체;A main body having units therein for performing a substrate cleaning process; 상기 본체의 외부 길이방향을 따라 구비되는 적어도 하나의 레일; 및At least one rail provided along an outer longitudinal direction of the main body; And 상기 레일을 따라 상기 본체의 외부에서 수평 이동하되, 상기 레일로부터 분리가 가능한 작업테이블을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.And a worktable horizontally moved outside the main body along the rails, the worktable being detachable from the rails. 제 1항에 있어서, 상기 작업테이블은 상기 레일을 따라 이동하기 위한 적어도 하나의 구동용 롤러를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.2. The substrate cleaning apparatus of claim 1, wherein the worktable has at least one driving roller for moving along the rail. 제 2항에 있어서, 상기 작업테이블은 수동 또는 자동으로 동작이 가능하되, 상기 작업테이블이 자동으로 동작할 경우에는 상기 구동용 롤러가 모터의 정역회전을 통해 회동하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.The substrate cleaning apparatus of claim 2, wherein the worktable can be manually or automatically operated, and the driving roller rotates through the forward and reverse rotation of the motor when the worktable is operated automatically. 제 1항에 있어서, 상기 작업테이블은 상기 본체의 외부와 접촉 이동하기 위한 적어도 하나의 가이드용 롤러를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.The substrate cleaning apparatus according to claim 1, wherein the work table further comprises at least one guide roller for contacting and moving with the outside of the main body. 제 1항에 있어서, 상기 작업테이블은 작업자가 승하강하기 위한 계단과, 작업 위치로부터 작업자의 추락을 방지하는 안전팬스를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.2. The substrate cleaning apparatus according to claim 1, wherein the work table has a stairway for the worker to move up and down and a safety pan to prevent the worker from falling from the work position.
KR1020040096203A 2004-11-23 2004-11-23 Apparatus for cleaning a substrate KR101025811B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040096203A KR101025811B1 (en) 2004-11-23 2004-11-23 Apparatus for cleaning a substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040096203A KR101025811B1 (en) 2004-11-23 2004-11-23 Apparatus for cleaning a substrate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060057137A KR20060057137A (en) 2006-05-26
KR101025811B1 true KR101025811B1 (en) 2011-04-04

Family

ID=37152612

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040096203A KR101025811B1 (en) 2004-11-23 2004-11-23 Apparatus for cleaning a substrate

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101025811B1 (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH092255A (en) * 1994-11-08 1997-01-07 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> Track travel device
JPH106158A (en) 1996-06-26 1998-01-13 Nippei Toyama Corp Machining device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH092255A (en) * 1994-11-08 1997-01-07 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> Track travel device
JPH106158A (en) 1996-06-26 1998-01-13 Nippei Toyama Corp Machining device

Also Published As

Publication number Publication date
KR20060057137A (en) 2006-05-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101270823B1 (en) Washing device
CN207805871U (en) A kind of Furniture panel Full-automatic paint spraying production line
KR101290270B1 (en) Automatic cleaner of building outer glass wall
CN210938638U (en) Anti-corrosion metal plate processing equipment
KR101025811B1 (en) Apparatus for cleaning a substrate
KR101090282B1 (en) Automatic washing apparatus of window glass
CN213196975U (en) Steel sheet surface anti-rust treatment device
CN211386018U (en) Cleaning device
CA2486232A1 (en) Cleaning unit for cleaning travel equipment, travel equipment with a cleaning unit and method for carrying out a cleaning sequence for cleaning the travel equipment
CN217342570U (en) Building safety net belt cleaning device
CN110213903B (en) PCB automatic purification packaging equipment
CN102665942B (en) Portable grouting-cleaning machine for clad walls
KR20120086537A (en) Cleaning apparatus for building outer wall cleaning
CN105883346B (en) Belt corridor cleaning and spraying device
CN2326358Y (en) Cleaner for large surface of object
CN112663983A (en) Wall scraping device for building construction
CN219273787U (en) Cleaning device for decorative plate
CN2413807Y (en) Outer curtain wall cleaner for high-rise building
CN218282803U (en) Dust-free glass drying device
CN211437133U (en) Double-sided oil removing device for metal door leaf
CN220145490U (en) Intelligent edging and cleaning production line for glass
CN214025029U (en) Multi-functional precast beam pedestal processing apparatus
CN220111750U (en) A pressure boost cleaning equipment for alumina plate production
CN204194387U (en) A kind of ceramic tile surface dust arrester
CN214109982U (en) Surface rust removing device for metal product processing

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131115

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141215

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160122

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170125

Year of fee payment: 7

LAPS Lapse due to unpaid annual fee