KR101024744B1 - Photosensitive resin composition for volume phase hologram recording and optical information recording medium using same - Google Patents

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Abstract

투명성, 감도, 저경화 수축률, 투명성이 우수한 체적 위상형 홀로그램 기록재료, 체적 위상형 홀로그램 기록매체 및 체적 위상형 홀로그램에 관한 것이다. 이 체적 위상형 홀로그램 기록용 감광성 수지 조성물은, 디비닐 방향족 화합물의 구조단위와 모노비닐 방향족 화합물의 구조단위를 갖는 저분자량의 용제 가용성 방향족 공중합체(A), 가용성 방향족 공중합체(A)와 공중합 가능한 광라디칼 중합성 화합물(B) 및 광중합 개시제(C)를 필수성분으로서 포함하며, 또한, 고분자 결합제(D) 및 가소제(E)의 1종 이상을 포함하여 이루어지는 감광성 수지 조성물로서, 가용성 방향족 공중합체(A)를 5∼60중량% 포함한다.A volume phase hologram recording material, a volume phase hologram recording medium, and a volume phase hologram having excellent transparency, sensitivity, low curing shrinkage ratio, and transparency. The photosensitive resin composition for volume phase hologram recording is copolymerized with a low molecular weight solvent soluble aromatic copolymer (A) and a soluble aromatic copolymer (A) having a structural unit of a divinyl aromatic compound and a structural unit of a monovinyl aromatic compound. A photosoluble resin composition comprising a photoradical polymerizable compound (B) and a photopolymerization initiator (C) as an essential component, and containing at least one of a polymer binder (D) and a plasticizer (E). 5 to 60% by weight of coalescing (A) is included.

가용성 방향족 공중합체, 광라디칼 중합성 화합물, 광중합 개시제, 고분자 결합제, 가소제Soluble aromatic copolymer, optical radical polymerizable compound, photopolymerization initiator, polymer binder, plasticizer

Description

체적 위상형 홀로그램 기록용 감광성 수지 조성물 및 그것을 사용한 광정보기록매체{PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR VOLUME PHASE HOLOGRAM RECORDING AND OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM USING SAME}PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR VOLUME PHASE HOLOGRAM RECORDING AND OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM USING SAME}

본 발명은 활성 에너지선(가시광 레이저나 자외선, 전자선 등)에 의해 신속하게 광경화하고, 회절효율, 해상력 등의 홀로그램 특성이 양호하며, 또한, 투명성, 내열성 등이 우수한 후막 형성 가능한 체적 위상형 홀로그램의 재료로서 매우 적합한 체적 위상형 홀로그램 기록용 감광성 수지 조성물 및 이것을 사용한 광정보기록매체에 관한 것이다.According to the present invention, a volume phase hologram capable of forming a thick film by photocuring rapidly by an active energy ray (visible light laser, ultraviolet ray, electron beam, etc.), having good hologram characteristics such as diffraction efficiency and resolution, and excellent transparency and heat resistance A photosensitive resin composition for volume phase hologram recording, which is very suitable as a material of the present invention, and an optical information recording medium using the same.

종래, 홀로그램은 주로 입체화상 표시분야·시큐리티(security) 분야에서 사용되어 왔다. 그 홀로그램 재료로서는, 예전부터는 은염 감광재료나 중크롬산 젤라틴 등의 현상을 필요로 하는 습식형 재료가 주로 사용되어 왔으나, 그 후는, 현상처리를 필요로 하지 않는 기록 후의 내환경성·내광성이 우수한 건식의 광중합형 홀로그램 기록재료가 주류가 되어 왔다. 광중합형 홀로그램 기록재료의 기록 메커니즘은, 은염 감광재료나 중크롬산 젤라틴 등과는 달리, 일반적으로 다음과 같이 생각되고 있다. 다시 말하면, 코히어런스(coherence)성(가간섭성)이 우수한 빛의 간섭으로 이루어지는 간섭무늬가 기록재료에 조사되면, 빛의 명부(明部)(광강도가 강한 영역), 암부(暗部)(광강도가 약한 영역)에 각각 중합성이 다른 물질이 확산 이동하여, 광중합의 진행과 함께 굴절률 변조 구조가 형성됨으로써 홀로그램이 기록된다. 광중합형 홀로그램 기록재료의 중합형태로서는, 1)라디칼 중합형, 2)양이온 중합형, 3)라디칼/양이온 중합 병용형이 있다. 광라디칼 중합형의 재료가 일반적인데, 감도는 높지만, 그 중합형태에 기인하는 수축이 수%로 크다고 하는 결점이 있다. 현재, 광중합형 홀로그램 기록재료 중에서 유일하게 시판되고 있는 감광성 수지 조성물은, 미국 듀퐁사의 옴니덱스(OMNIDEX)뿐이다.Conventionally, holograms have been mainly used in the field of stereoscopic image display and security. As the hologram material, a wet type material which requires a development such as silver salt photosensitive material or dichromate gelatin has been mainly used, but since then, it is a dry type having excellent environmental resistance and light resistance after recording that does not require development treatment. Photopolymerization hologram recording materials have become mainstream. Unlike the silver salt photosensitive material, the dichromate gelatin, etc., the recording mechanism of a photopolymerization hologram recording material is generally considered as follows. In other words, when an interference pattern made of light interference having excellent coherence (coherence) is irradiated onto the recording material, the light (a strong light intensity area) and the dark part of the light are exposed. A substance having different polymerizability is diffused and moved in the (light intensity region), and a hologram is recorded by forming a refractive index modulation structure with the progress of photopolymerization. Examples of the polymerization form of the photopolymerization hologram recording material include 1) radical polymerization type, 2) cationic polymerization type, and 3) radical / cationic polymerization combination type. Although a photoradical polymerization type material is common, the sensitivity is high, but there is a drawback that the shrinkage due to the polymerization type is several percent. At present, the only photosensitive resin composition commercially available among photopolymerization hologram recording materials is OMNIDEX manufactured by DuPont, USA.

최근, 유비쿼터스 정보화 사회의 실현을 향한 대처 중에서, 광중합형 홀로그램 기록재료를 홀로그래픽·데이터 스토리지에 사용하려고 하는 연구가 세계 중에서 다시 활발해져서, 여러 가지 광중합형 홀로그램 기록재료가 제안되게 되었다. 이것은, 1990년대 중반부터 미국에 있어서 시작한 국가 프로젝트 HDSS(Holographic Date Storage System: 1995∼1999), PRISM(Photorefractive Information Storage Materials: 1994∼1998)이 추진되는 가운데, 레이저광원이나 공간 광변조기 등의 기술이 비약적으로 진보한 것이 크게 기여하고 있다. 종래의 CD, DVD 등의 광디스크에의 기록은, 레이저광을 렌즈로 집광하여 기록재료면에 데이터를 bit by bit로 기록하는 방식을 취하고 있다. 이 집광 스폿의 크기로 결정되는 데이터 기억용량은 그 이론적 한계가 이미 와 있어, 더욱더 기억용량의 증대를 위해서는 새로운 기술이 요망되고 있다. 그 하나의 후보로서 최근 주목받고 있는 것이 홀로그래피이다.In recent years, in order to realize the ubiquitous information society, researches on using photopolymerization hologram recording materials for holographic data storage have been revived in the world, and various photopolymerization hologram recording materials have been proposed. This is due to the development of national projects such as HDSS (Holographic Date Storage System: 1995-1999) and PRISM (Photorefractive Information Storage Materials: 1994-1998), which began in the United States from the mid-1990s. The leap forward makes a great contribution. Conventional recording on an optical disc such as a CD or a DVD takes a method of condensing a laser beam with a lens to record data bit by bit on a recording material surface. The theoretical limit of the data storage capacity determined by the size of the condensed spot has already reached its limit, and new techniques are required to further increase the storage capacity. One of the candidates is holography.

홀로그래픽·데이터 스토리지는, CD, DVD와 같은 면내 기록이 아니라 체적 기록이 가능하며, 취급하는 데이터도 페이지 데이터를 사용하기 때문에, 지금까지 의 CD나 DVD와는 비교가 안 되는 대량의 데이터의 기록이 가능하다. 현재, 1TB(테라바이트)의 기록이 가능한 WORM(Write Once Read Many: 추기)형 홀로그램 광디스크의 실용화를 향해서, 각 연구기관에 있어서 재료개발 및 기록 기술개발이 활발히 행해지고 있다. 홀로그래픽·데이터 스토리지용 재료의 기본적인 설계의 사고방식은, 전술한 입체 화상기록이나 시큐리티 용도의 광중합형 홀로그램 기록재료와 동일하다. 그러나, 홀로그래픽·데이터 스토리지 용도에 사용하는 경우에 있어서는, 특히 사용하는 광원에 대한 감도나 경화 수축률에 대한 재료에의 요구가 극히 엄격하다. 이 홀로그래픽·데이터 스토리지용 감광성 수지 조성물의 대표적인 예로서는, 미국 폴라로이드사를 이어받은 미국 에이프릴리스(Aprilis)사의 것과, 미국 루센트·테크놀로지사를 이어받은 미국 인페이스(InPhase)사의 것을 들 수 있다.Holographic data storage can record in volume rather than in-plane recording such as CD and DVD, and the data to be handled uses page data, so recording of large amounts of data incomparable with conventional CDs and DVDs It is possible. At present, for the practical use of WORM (write once read many) recordable hologram optical discs capable of recording 1 TB (terabytes), materials development and recording technology development are actively performed in each research institute. The way of thinking about the basic design of the holographic data storage material is the same as that of the above-mentioned photopolymerization hologram recording material for stereoscopic image recording and security. However, when used for holographic data storage applications, the demands on the material for the sensitivity and hardening shrinkage of the light source to be used are particularly severe. As a typical example of this photosensitive resin composition for holographic data storage, the American Aprilis which inherited the American Polaroid company, and the American InPhase company which inherited the American Lucent Technology company are mentioned.

우선, 미국 에이프릴리스사에서는, 예를 들면 특허문헌 1, 2에 기재되어 있는 바와 같이, 옥시란(oxirane), 옥세탄환(oxetane rings)을 갖는 CROP(Cationic Ring-Opening Polymerization: 양이온 개환 중합) 모노머를 사용하고, 프레광조사(pre-photoirradiation)를 함으로써, 중합 수축률을 억제한 재료가 개시되어 있다. 그러나, 양이온 중합은, 라디칼 중합과 같은 산소 저해는 적지만, 장파장 영역에서의 감도가 약간 뒤떨어진다고 하는 문제가 있다. 한편, 미국 인페이스사에 있어서는, 예를 들면 특허문헌 3, 4 혹은 5에 기재되어 있는 바와 같이, 시클로헥센옥시드와 팽창제(디페닐푸란카르복실산염(diphenylfuran carboxylate))를 병용함으로써, 중합 수축이 1% 이하로 극히 작은 재료가 개시되어 있다. 그러나, 여기에서도, 양이온 개환 중합성 모노머를 사용하고, 그것을 기록 전 혹은 후에 전면 노광 함으로써 경화 수축은 억제되고 있으나, 감도 향상에 대한 제안이 이루어져 있지 않다. 홀로그래픽·데이터 스토리지의 실용화를 향해서, 더욱더 광감도의 향상과 경화 수축률의 저감, 내열성의 향상이 요망되고 있다.First, US Aprilis, for example, as described in Patent Documents 1 and 2, CROP (Cationic Ring-Opening Polymerization) monomers having oxirane and oxetane rings The material which suppressed the polymerization shrinkage rate by using pre-photoirradiation is disclosed. However, cationic polymerization has a problem that the oxygen inhibition such as radical polymerization is small, but the sensitivity in the long wavelength region is slightly inferior. On the other hand, in U.S. Inface Co., for example, as described in Patent Documents 3, 4 or 5, polymerization shrinkage is achieved by using a cyclohexene oxide and an expanding agent (diphenylfuran carboxylate) in combination. An extremely small material of less than 1% is disclosed. However, here too, curing shrinkage is suppressed by using a cationic ring-opening polymerizable monomer and exposing the whole surface before or after recording, but there is no proposal for improving the sensitivity. For the practical use of holographic data storage, further improvement in light sensitivity, reduction in curing shrinkage rate, and improvement in heat resistance are desired.

특허문헌 1: 미국 특허 제5,759,721호 명세서Patent Document 1: US Patent No. 5,759,721

특허문헌 2: 미국 특허 제6,784,300호 명세서Patent Document 2: US Patent No. 6,784,300

특허문헌 3: 미국 특허 제3,993,485호 명세서Patent Document 3: US Patent No. 3,993,485

특허문헌 4: 미국 특허 제6,124,076호 명세서Patent Document 4: US Patent No. 6,124,076

특허문헌 5: 일본국 특허공개 2000-086914호 공보Patent Document 5: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-086914

특허문헌 6: 일본국 특허공개 평5-94014호 공보Patent Document 6: Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 5-94014

특허문헌 7: 일본국 특허공개 평9-106242호 공보Patent Document 7: Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-106242

특허문헌 8: 일본국 특허공개 2004-123873호 공보Patent Document 8: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-123873

특허문헌 6, 7에는, 라디칼 중합성의 에틸렌계 모노머, 광중합 개시제와 에폭시 수지를 배합한 홀로그램용의 감광성 수지 조성물이 기재되어 있다. 이 조성물에서는, 레이저에 의한 홀로그램 노광시에 간섭무늬의 밝은 부분부터 라디칼 중합성의 에틸렌계 모노머가 우선적으로 중합하여, 밝은 부분으로 에틸렌계 모노머가 이동하는 현상을 이용해서 홀로그램를 형성하고 있다. 또한, 에폭시 수지는 그 후 경화된다. 특허문헌 8에는, 디비닐 방향족 화합물의 구조단위와 모노비닐 방향족 화합물의 구조단위를 갖는 가용성 방향족 공중합체 방향족 공중합체가 기재되어 있으나, 홀로그램 용도에 대해서 알려주는 것은 없다. Patent documents 6 and 7 describe the photosensitive resin composition for holograms which mix | blended a radically polymerizable ethylene monomer, a photoinitiator, and an epoxy resin. In this composition, the hologram is formed using the phenomenon in which the radically polymerizable ethylene-based monomer preferentially polymerizes from the bright portion of the interference fringe during the holographic exposure by laser, and the ethylene-based monomer moves to the bright portion. In addition, the epoxy resin is then cured. Patent Document 8 describes a soluble aromatic copolymer aromatic copolymer having a structural unit of a divinyl aromatic compound and a structural unit of a monovinyl aromatic compound, but does not disclose the use of holograms.

체적 위상형 홀로그램이 기록 가능한 감광성 수지 조성물로서, 지금까지 수많은 재료계에 대해서 검토가 이루어져 개시되어 왔으나, 광감도와 경화 수축률의 양방을 동시에 만족할 수 있는 감광성 수지 조성물은 지금까지 없었다. 홀로그래픽·데이터 스토리지용으로서 체적 위상형 홀로그램 기록용 수지 조성물을 사용하는 경우에는, 특히 광감도와 저경화 수축률의 2가지에 관해서는 높은 레벨이 요구된다.As a photosensitive resin composition which can record a volume phase hologram, many material systems have been examined and disclosed until now, but there has been no photosensitive resin composition which can satisfy both light sensitivity and cure shrinkage at the same time. When using the resin composition for volume phase hologram recording for holographic data storage, high level is calculated | required especially regarding two things, a light sensitivity and a low hardening shrinkage rate.

본 발명은, 상기 실정을 감안하여 달성한 것으로, 체적 위상형 홀로그램에 요구되는, 회절효율, 해상력, 투명성, 내열성 등이 양호하고, 특히 광감도가 우수한 체적 위상형 홀로그램 기록용 수지 조성물, 및 상기 조성물로부터 얻어지는 광정보기록매체를 제공하는 데 있다. 물론, 본 발명에 의해 얻어지는 홀로그램은, 홀로그래픽·데이터 스토리지용 이외의 용도, 예를 들면, 회절격자, 간섭 필터, 렌즈, 헤드업 디스플레이 등 홀로그램을 사용함으로써 그 유용성이 발휘되는 용도에 사용할 수 있다. The present invention has been accomplished in view of the above circumstances, and has a good diffraction efficiency, resolution, transparency, heat resistance, and the like, which is required for a volume phase hologram, and in particular, a resin composition for volume phase hologram recording excellent in light sensitivity, and the composition. It is to provide an optical information recording medium obtained from. Of course, the hologram obtained by the present invention can be used in applications other than for holographic data storage, for example, in applications in which usefulness is exhibited by using holograms such as diffraction gratings, interference filters, lenses, head-up displays, and the like. .

본 발명자들은 상기 과제에 대하여 예의 검토한 결과, 가용성 다관능 비닐 방향족 공중합체와 이것과 공중합 가능한 광라디칼 중합성 화합물을 조성물 중에 배합함으로써, 감광성을 더욱 높임과 동시에, 경화 후의 수축을 보다 억제할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining the said subject, the present inventors mix | blend a soluble polyfunctional vinyl aromatic copolymer and the optical radically polymerizable compound copolymerizable with this in a composition, and can further improve photosensitive property and can suppress the shrinkage after hardening more. It has been found that the present invention has been completed.

본 발명은, 디비닐 방향족 화합물의 구조단위와 모노비닐 방향족 화합물의 구조단위를 가지며, 하기식(a1)로 표시되는 구조단위를 10몰% 이상 함유하는 가용성 방향족 공중합체(A), 가용성 방향족 공중합체(A)와 공중합 가능한 광라디칼 중합성 화합물(B) 및 광중합 개시제(C)와, 고분자 결합제(D) 및/또는 가소제(E)를 포함하여 이루어지는 감광성 수지 조성물로서, 가용성 방향족 공중합체(A)를 5∼60중량% 포함하는 것을 특징으로 하는 체적 위상형 홀로그램 기록용 감광성 수지 조성물이다.The present invention is a soluble aromatic copolymer (A) having a structural unit of a divinyl aromatic compound and a structural unit of a monovinyl aromatic compound and containing 10 mol% or more of the structural unit represented by the following formula (a1), and a soluble aromatic air A soluble aromatic copolymer (A) as a photosensitive resin composition comprising an optical radical polymerizable compound (B) and a photopolymerization initiator (C) copolymerizable with the copolymer (A) and a polymer binder (D) and / or a plasticizer (E). 5 to 60% by weight of the photosensitive resin composition for volume phase hologram recording.

Figure 112007072128797-pct00001
Figure 112007072128797-pct00001

(식 중, R1은 탄소수 6∼30의 방향족 탄화수소기를 나타낸다.)(In formula, R <1> represents a C6-C30 aromatic hydrocarbon group.)

또한, 본 발명은, 상기의 감광성 수지 조성물로 이루어지는 기록층이, 1개의 지지체상에 또는 2개의 지지체 사이에 형성되어 이루어지는 체적 위상형 홀로그램 기록용 광정보기록매체이다. 또한, 본 발명은 상기의 광정보기록매체에 코히어런트성이 우수한 에너지선으로부터 형성되는 간섭무늬를 기록해서 얻어지는 체적 위상형 홀로그램이다. 또한, 본 발명은, 상기의 기록매체에 코히어런트성이 우수한 에너지선으로부터 형성되는 간섭무늬를 노광 기록하는 것을 특징으로 하는 체적 위상형 홀로그램의 제조방법이다.The present invention is also an optical information recording medium for volume phase hologram recording in which a recording layer made of the photosensitive resin composition is formed on one support or between two supports. Furthermore, the present invention is a volume phase hologram obtained by recording an interference fringe formed from an energy ray having excellent coherent property on the optical information recording medium. Further, the present invention is a method for producing a volume phase hologram, characterized in that the recording medium is subjected to exposure recording of an interference fringe formed from an energy ray having excellent coherent properties.

본 발명의 감광성 수지 조성물은, 코히어런스성이 우수한 빛의 간섭으로 이루어지는 간섭무늬를 굴절률이 다른 줄무늬로서 기록하는 데 사용되는 체적 위상형 홀로그램 기록용 수지 조성물이며, 가용성 방향족 공중합체(A), 광라디칼 중합성 화합물(B) 및 광중합 개시제(C)를 필수성분으로서 포함하고, 또한 고분자 결합제(D) 또는 가소제(E) 또는 양자를 필수성분으로서 포함한다.The photosensitive resin composition of this invention is a resin composition for volume phase hologram recording used for recording the interference pattern which consists of interference of the light excellent in coherence as a stripe with a different refractive index, and is a soluble aromatic copolymer (A), An optical radically polymerizable compound (B) and a photoinitiator (C) are included as an essential component, and a polymeric binder (D), a plasticizer (E), or both are included as an essential component.

우선, 가용성 방향족 공중합체(A)에 대해서 설명한다.First, a soluble aromatic copolymer (A) is demonstrated.

가용성 방향족 공중합체(A)는, 디비닐 방향족 화합물과 모노비닐 방향족 화합물을 공중합시켜서 얻어지며, 상기 식(a1)로 표시되는 측쇄에 반응성 비닐기를 함유하는 구조단위를 10몰% 이상 갖는다. 식(a1)로 표시되는 구조단위는, 모노머로서의 디비닐 방향족 화합물로부터 유래한다. 유리하게는, 식(a1)로 표시되는 구조단위를 1분자 중에 평균 3 이상 갖는다. 그리고, 가용성 방향족 공중합체(A)는, 특허문헌 8 등에 기재된 공지 화합물이며, 거기에 기재된 방법에 의해 매우 적합하게 제조된다.A soluble aromatic copolymer (A) is obtained by copolymerizing a divinyl aromatic compound and a monovinyl aromatic compound, and has 10 mol% or more of the structural unit containing a reactive vinyl group in the side chain represented by said formula (a1). The structural unit represented by formula (a1) is derived from the divinyl aromatic compound as a monomer. Advantageously, the structural unit represented by formula (a1) has an average of 3 or more in one molecule. And a soluble aromatic copolymer (A) is a well-known compound described in patent document 8 etc., and is manufactured suitably by the method described there.

디비닐 방향족 화합물로서는, 예를 들면, m-디비닐벤젠, p-디비닐벤젠, 1,2-디이소프로페닐벤젠, 1,3-디이소프로페닐벤젠, 1,4-디이소프로페닐벤젠, 1,3-디비닐나프탈렌, 1,8-디비닐나프탈렌, 1,4-디비닐나프탈렌, 1,5-디비닐나프탈렌, 2,3-디비닐나프탈렌, 2,7-디비닐나프탈렌, 2,6-디비닐나프탈렌, 4,4'-디비닐비페닐, 4,3'-디비닐비페닐, 4,2'-디비닐비페닐, 3,2'-디비닐비페닐, 3,3'-디비닐비페닐, 2,2'-디비닐비페닐, 2,4-디비닐비페닐, 1,2-디비닐-3,4-디메틸벤젠, 1,3-디비닐-4,5,8-트리부틸나프탈렌, 2,2'-디비닐-4-에틸-4'-프로필비페닐 등을 사용할 수 있으나, 이들에 제한되는 것은 아니다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 사용할 수 있다.Examples of the divinyl aromatic compound include m-divinylbenzene, p-divinylbenzene, 1,2-diisopropenylbenzene, 1,3-diisopropenylbenzene, and 1,4-diisopropenyl Benzene, 1,3-divinylnaphthalene, 1,8-divinylnaphthalene, 1,4-divinylnaphthalene, 1,5-divinylnaphthalene, 2,3-divinylnaphthalene, 2,7-divinylnaphthalene, 2,6-divinylnaphthalene, 4,4'-divinylbiphenyl, 4,3'-divinylbiphenyl, 4,2'-divinylbiphenyl, 3,2'-divinylbiphenyl, 3, 3'-divinylbiphenyl, 2,2'-divinylbiphenyl, 2,4-divinylbiphenyl, 1,2-divinyl-3,4-dimethylbenzene, 1,3-divinyl-4, 5,8-tributylnaphthalene, 2,2'-divinyl-4-ethyl-4'-propylbiphenyl, and the like can be used, but is not limited thereto. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

디비닐 방향족 화합물의 매우 바람직한 구체예로서는, 비용 및 얻어진 폴리머의 내열성의 점에서, 디비닐벤젠(m- 및 p- 이성체의 양방), 디비닐비페닐(각 이성체를 포함한다) 및 디비닐나프탈렌(각 이성체를 포함한다)이 있다. 보다 바람직하게는, 디비닐벤젠(m- 및 p- 이성체의 양방), 디비닐비페닐(각 이성체를 포함한다)이다. 특히, 디비닐벤젠(m- 및 p- 이성체의 양방)이 가장 바람직하게 사용된다.As a very preferred specific example of the divinyl aromatic compound, divinylbenzene (both m- and p-isomers), divinylbiphenyl (including each isomer) and divinyl naphthalene (in terms of cost and heat resistance of the obtained polymer) Each isomer is included). More preferably, they are divinylbenzene (both m- and p-isomers), and divinyl biphenyl (including each isomer). In particular, divinylbenzene (both m- and p- isomers) is most preferably used.

모노비닐 방향족 화합물로서는, 스티렌, 비닐나프탈렌, 비닐비페닐 등 외에, 이들의 유도체가 있다. 유도체로서는, 방향족환에 알킬기, 알콕시기, 할로겐, 페닐기 등의 치환기가 치환한 화합물 외에, 비닐기의 α위 또는 β위에 상기 치환기가 치환한 화합물이 있다. 그 외에, 인덴(indene), 아세나프틸렌(acenaphthylene) 등의 방향족 올레핀 및 그 유도체도 모노비닐 방향족 화합물로서 사용할 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 사용할 수 있다.As a monovinyl aromatic compound, besides styrene, vinyl naphthalene, vinyl biphenyl, etc., these derivatives are mentioned. As a derivative, in addition to the compound which substituted by substituents, such as an alkyl group, an alkoxy group, a halogen, and a phenyl group, in the aromatic ring, the compound which the said substituent substituted in the (alpha) position or (beta) position of a vinyl group is mentioned. In addition, aromatic olefins such as indene and acenaphthylene and derivatives thereof can also be used as the monovinyl aromatic compound. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

스티렌 유도체로서는 예를 들면, 메틸스티렌, 에틸스티렌, 프로필스티렌, 부틸스티렌, 펜틸스티렌, 헥실스티렌, 시클로헥실스티렌, 에톡시스티렌, 프로폭시스티렌, 부톡시스티렌, 펜톡시스티렌(pentoxy styrene), 헥속시스티렌(hexoxy styrene), 시클로헥속시스티렌(cyclohexoxy styrene), 페녹시스티렌 등을 사용할 수 있다. 이들의 치환기는 비닐기에 대하여, o, m 또는 p위에 치환할 수 있으며, 측쇄를 가질 수 있는 경우는, 직쇄 또는 측쇄형상의 알킬기 또는 알콕시기일 수 있다.As the styrene derivative, for example, methyl styrene, ethyl styrene, propyl styrene, butyl styrene, pentyl styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, ethoxy styrene, propoxy styrene, butoxy styrene, pentoxy styrene, hex Hexoxy styrene, cyclohexoxy styrene, phenoxy styrene and the like can be used. These substituents may be substituted on o, m or p with respect to the vinyl group, and in the case of having a side chain, may be a linear or branched alkyl or alkoxy group.

인덴 또는 그 유도체로서는 예를 들면, 인덴, 탄소수 1∼6의 알킬 치환 인덴, 탄소수 1∼6의 알콕시 치환 인덴 등을 사용할 수 있다. 아세나프틸렌 또는 그 유도체로서는 예를 들면, 아세나프틸렌, 탄소수 1∼6의 알킬 치환 아세나프틸렌, 페닐 치환 아세나프틸렌, 염소, 브롬 등의 할로겐 치환 아세나프틸렌 등을 들 수 있다.As indene or its derivative, indene, a C1-C6 alkyl substituted indene, a C1-C6 alkoxy substituted indene, etc. can be used, for example. Examples of acenaphthylene or derivatives thereof include acenaphthylene, alkyl substituted acenaphthylene having 1 to 6 carbon atoms, halogen substituted acenaphthylene such as phenyl substituted acenaphthylene, chlorine, and bromine.

모노비닐 방향족 화합물은 이들에 제한되는 것은 아니다. 이들의 모노비닐 방향족 화합물 중에서, 중합시에 공중합체의 골격 중에 있어서의, 인단구조(indan structure)의 생성량이 크다고 하는 점에서, 핵(核)알킬 치환 방향족 비닐 화합물, α-알킬 치환 방향족 비닐 화합물이 바람직하다. 매우 바람직한 구조예로서는, 비용 및 얻어진 폴리머의 내열성의 점에서 에틸비닐벤젠(m- 및 p- 이성체의 양방), 에틸비닐비페닐(각 이성체를 포함한다) 및 에틸비닐나프탈렌(각 이성체를 포함한다)이 있다.Monovinyl aromatic compounds are not limited to these. Among these monovinyl aromatic compounds, since the amount of generation of indan structures in the skeleton of the copolymer during polymerization is large, a nucleoalkyl substituted aromatic vinyl compound and an α-alkyl substituted aromatic vinyl compound This is preferred. Very preferred structural examples include ethylvinylbenzene (both m- and p-isomers), ethylvinylbiphenyl (including each isomer) and ethylvinylnaphthalene (including each isomer) in terms of cost and heat resistance of the polymer obtained. There is this.

가용성 방향족 공중합체(A)는, 상기와 같은 디비닐 방향족 화합물과 모노비닐 방향족 화합물을 공중합시켜서 얻어지지만, 필요에 따라 다른 모노머를 사용해도 좋다. 이러한 다른 모노머로서는, 트리비닐 방향족 화합물이나 부타디엔, 이소프렌 등의 디엔 화합물, 알킬비닐에테르, 이소부텐, 디이소부틸렌 등을 들 수 있다. 이들의 다른 모노머는 전 모노머의 30몰% 미만의 범위 내에서 사용된다. 또한, 디비닐 방향족 화합물은 전 모노머의 20몰% 이상, 바람직하게는 40∼80몰%가 되도록 사용되며, 모노비닐 방향족 화합물은 전 모노머의 10몰% 이상, 바람직하게는 20∼60몰%가 되도록 사용된다.The soluble aromatic copolymer (A) is obtained by copolymerizing the divinyl aromatic compound and the monovinyl aromatic compound as described above, but other monomers may be used as necessary. As such another monomer, a trivinyl aromatic compound, diene compounds, such as butadiene and isoprene, alkyl vinyl ether, isobutene, diisobutylene, etc. are mentioned. These other monomers are used within the range of less than 30 mol% of all monomers. In addition, the divinyl aromatic compound is used to be 20 mol% or more, preferably 40 to 80 mol% of all monomers, and the monovinyl aromatic compound is 10 mol% or more, preferably 20 to 60 mol% of all monomers. Is used.

가용성 방향족 공중합체(A)를 제조하기 위한 중합방법은, 특허문헌 8에 기재된 방법을 바람직한 예로서 들 수 있다. 예를 들면, 다음과 같은 방법이다.As a polymerization method for producing a soluble aromatic copolymer (A), the method of patent document 8 can be mentioned as a preferable example. For example,

유기용매 중, 루이스산 촉매 및 하기 일반식(1)Lewis acid catalyst and the following general formula (1) in an organic solvent

Figure 112007072128797-pct00002
Figure 112007072128797-pct00002

(식 중, R1은 수소원자 또는 탄소수 1∼6의 1가의 탄화수소기를 나타내고, R2는 p가의 방향족 탄화수소기 또는 지방족 탄화수소기를 나타내며, Z는 할로겐 원자, 탄소수 1∼6의 알콕실기 또는 아실옥실기를 나타내며, p는 1∼6의 정수를 나타낸다. 1분자 중에, 복수의 R1 및 Z가 있는 경우, 각각은 동일해도, 달라도 좋다)로 표시되는 개시제에 의해, 디비닐 방향족 화합물(a)을 20∼100몰% 함유해서 이루어지는 단량체 성분을 20∼120℃의 온도에서 양이온 중합시킨다.(In formula, R <1> represents a hydrogen atom or a C1-C6 monovalent hydrocarbon group, R <2> represents a p-valent aromatic hydrocarbon group or an aliphatic hydrocarbon group, Z is a halogen atom, a C1-C6 alkoxyl group, or an acyl jade. The actual group is represented, and p represents an integer of 1 to 6. When there are a plurality of R 1 and Z in one molecule, each may be the same or different), and the divinyl aromatic compound (a) The monomer component containing 20-100 mol% is cationicly polymerized at the temperature of 20-120 degreeC.

유기용매로서는, 유전율이 2∼15인 1종 이상의 유기용매가 바람직하며, 4급 암모늄염, 탄소수 3 이상의 에테르계 화합물, 탄소수 3 이상의 티오에테르계 화합물 및 탄소수 2 이상의 술폭시드계 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 도너(donor) 성분을 존재시키는 것도 바람직하다. 유기용매로서는 양이온 중합을 본질적으로 저해하지 않는 화합물이면, 특별히 제약 없이 사용할 수 있으며, 유전율이 2∼15의 범위 내가 되도록 단독 또는 2종 이상을 조합해서 중합용매로서 사용하는 것이 좋다. 유기용매로서는, 염화메틸, 디클로로메탄, n-프로필클로라이드, n-부틸클로라이드, 클로로메탄, 트리클로로메탄, 테트라클로로메탄, 클로로에탄, 디클로로에탄, 트리클로로에탄, 테트라클로로에탄, 클로로에틸렌, 디클로로에틸렌, 클로로벤젠, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 트리클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 프로필벤젠, 부틸벤젠 등의 방향족 탄화수소; 에탄, 프로판, 부탄, 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸 등의 직쇄식 지방족 탄화수소류; 2-메틸프로판, 2-메틸부탄, 2,3,3-트리메틸펜탄, 2,2,5-트리메틸헥산 등의 분기식 지방족 탄화수소류; 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 에틸시클로헥산 등의 환식(環式) 지방족 탄화수소류; 석유 유분(留分)을 수첨(水添) 정제한 파라핀유 등을 들 수 있다. 이 중에서, 디클로로에탄, 톨루엔, 크실렌, 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 2-메틸프로판, 2-메틸부탄, 메틸시클로헥산 및 에틸시클로헥산이 바람직하다. 중합성, 용해성의 밸런스와 입수의 용이함의 관점에서 디클로로에탄, 톨루엔, 크실렌, n-헥산, 시클로헥산, 헵탄, 메틸시클로헥산 및 에틸시클로헥산이 더욱 바람직하다. 유기용매의 사용량은, 얻어지는 중합체 용액의 점도나 제열(除熱)의 용이함을 고려해서, 통상, 중합체의 농도가 1∼50wt%, 바람직하게는 5∼35wt%가 되도록 결정된다. 유전율이 2 미만이면 중합활성이 낮아지므로 바람직하지 않고, 유전율이 15를 넘으면 중합시에 겔화가 일어나기 쉬워지므로 바람직하지 않다. 또한, 중합은 일반식(1)로 표시되는 개시제를, 개시제 1몰에 대하여, 루이스산 촉매를 0.001∼100몰, 바람직하게는 0.3∼50배몰, 도너 성분을 0.001∼10몰의 범위에서 사용하고, 가용성 방향족 공중합체를 용해하는 유기용매 중에서 중합시키는 것도 바람직하다.As the organic solvent, at least one organic solvent having a dielectric constant of 2 to 15 is preferable, and is selected from the group consisting of quaternary ammonium salts, C 3 or more ether compounds, C 3 or more thioether compounds, and C 2 or more sulfoxide compounds It is also desirable to have a donor component to be present. As an organic solvent, as long as it is a compound which does not substantially inhibit cationic polymerization, it can be used without restriction | limiting especially, It is good to use it as a polymerization solvent individually or in combination of 2 or more types so that dielectric constant may be in the range of 2-15. Examples of the organic solvent include methyl chloride, dichloromethane, n-propyl chloride, n-butyl chloride, chloromethane, trichloromethane, tetrachloromethane, chloroethane, dichloroethane, trichloroethane, tetrachloroethane, chloroethylene and dichloroethylene Halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, chlorobenzene, dichlorobenzene and trichlorobenzene; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, propylbenzene, and butylbenzene; Linear aliphatic hydrocarbons such as ethane, propane, butane, pentane, hexane, heptane, octane, nonane and decane; Branched aliphatic hydrocarbons such as 2-methylpropane, 2-methylbutane, 2,3,3-trimethylpentane and 2,2,5-trimethylhexane; Cyclic aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane and ethylcyclohexane; And paraffin oil obtained by hydrogenation of petroleum oil. Of these, dichloroethane, toluene, xylene, pentane, hexane, heptane, octane, 2-methylpropane, 2-methylbutane, methylcyclohexane and ethylcyclohexane are preferable. Dichloroethane, toluene, xylene, n-hexane, cyclohexane, heptane, methylcyclohexane and ethylcyclohexane are more preferable from the viewpoint of the balance of polymerizability, solubility and the availability. The amount of the organic solvent used is usually determined so that the concentration of the polymer is 1 to 50 wt%, preferably 5 to 35 wt% in consideration of the viscosity of the polymer solution obtained and ease of heat removal. If the dielectric constant is less than 2, the polymerization activity is lowered. This is not preferable. In the polymerization, the initiator represented by the general formula (1) is used in an amount of 0.001 to 100 mol, preferably 0.3 to 50 times mol, and a donor component in a range of 0.001 to 10 mol, with respect to 1 mol of the initiator. It is also preferable to polymerize in the organic solvent which melt | dissolves a soluble aromatic copolymer.

중합촉매로서 사용되는 루이스산 촉매의 구체예를 나타내면, 브롬화붕소(Ⅲ), 염화붕소(Ⅲ), 브롬화알루미늄(Ⅲ), 플루오르화알루미늄(Ⅲ), 염화알루미늄(Ⅲ), 요오드화알루미늄(Ⅲ), 브롬화갈륨(Ⅲ), 염화갈륨(Ⅲ), 브롬화인듐(Ⅲ), 염화인듐(Ⅲ), 플루오르화인듐(Ⅲ), 요오드화인듐(Ⅲ), 브롬화탈륨(Ⅲ), 플루오르화탈륨(Ⅲ), 브롬화규소(Ⅳ), 염화규소(Ⅳ), 플루오르화규소(Ⅳ), 요오드화규소(Ⅳ), 브롬화게르마늄(Ⅳ), 염화게르마늄(Ⅳ), 요오드화게르마늄(Ⅳ), 브롬화주석(Ⅳ), 염화주석(Ⅳ), 플루오르화주석(Ⅳ), 요오드화주석(Ⅳ), 플루오르화납(Ⅳ), 브롬화안티몬(Ⅲ), 염화안티몬(Ⅲ), 염화안티몬(Ⅴ), 플루오르화안티몬(Ⅲ), 플루오르화안티몬(Ⅴ), 요오드화안티몬(Ⅲ), 브롬화비스무트(Ⅲ), 염화비스무트(Ⅲ), 플루오르화비스무트(Ⅲ), 요오드화비스무트(Ⅲ), 염화티탄(Ⅳ), 브롬화티탄(Ⅳ), BF3·OEt2, 염화텅스텐(Ⅵ), 염화바나듐(Ⅴ), 염화철(Ⅲ), 브롬화아연(Ⅱ) 등의 금속 할로겐화물; Et2AlCl, EtAlCl2 등의 유기 금속 할로겐화물 등을 들 수 있다. 상기의 촉매는, 특별히 제한되는 것은 아니며, 단독 또는 2종 이상을 조합해서 사용할 수 있다. 상기의 촉매 중에서 브롬화붕소(Ⅲ), 염화붕소(Ⅲ), 염화주석(Ⅳ), 브롬화주석(Ⅳ), 염화주석(Ⅳ), 플루오르화주석(Ⅳ), 요오드화주석(Ⅳ), 염화안티몬(Ⅴ)이 분기구조의 제어, 및 중합활성의 점에서 바람직하다. 보다 바람직하게는 염화붕소(Ⅲ), 염화주석(Ⅳ)이며, 특히 바람직하게는 염화주석(Ⅳ)이다.Specific examples of Lewis acid catalysts used as polymerization catalysts include boron bromide (III), boron chloride (III), aluminum bromide (III), aluminum fluoride (III), aluminum chloride (III), and aluminum iodide (III). Gallium bromide (III), gallium chloride (III), indium bromide (III), indium chloride (III), indium fluoride (III), indium iodide (III), thallium bromide (III), thallium fluoride (III) , Silicon bromide (IV), silicon chloride (IV), silicon fluoride (IV), silicon iodide (IV), germanium bromide (IV), germanium chloride (IV), germanium iodide (IV), tin bromide (IV), Tin chloride (IV), tin fluoride (IV), tin iodide (IV), lead fluoride (IV), antimony bromide (III), antimony chloride (III), antimony chloride (V), antimony fluoride (III), Antimony fluoride (V), antimony iodide (III), bismuth bromide (III), bismuth chloride (III), bismuth fluoride (III), bismuth iodide (III), Metal halides such as titanium chloride (IV), titanium bromide (IV), BF 3 · OEt 2 , tungsten chloride (VI), vanadium (V), iron chloride (III), and zinc (II) bromide; And organometallic halides such as Et 2 AlCl and EtAlCl 2 . The said catalyst is not specifically limited, It can use individually or in combination of 2 or more types. Among the catalysts described above, boron bromide (III), boron chloride (III), tin chloride (IV), tin bromide (IV), tin chloride (IV), tin fluoride (IV), tin iodide (IV), and antimony chloride (IV) V) is preferable in view of control of the branch structure and polymerization activity. More preferably, it is boron chloride (III) and tin chloride (IV), Especially preferably, it is tin chloride (IV).

일반식(1)로 표시되는 개시제로서는, (1-클로르(chlor)-1-메틸에틸)벤젠, 1,4-비스(1-클로르-1-메틸에틸)벤젠, 1,3-비스(1-클로르-1-메틸에틸)벤젠, 1,3,5-트리스(1-클로르-1-메틸에틸)벤젠, 1,3-비스(1-클로르-1-메틸에틸)-5-(tert-부틸)벤젠, 1-클로로에틸벤젠, 1-브로모에틸벤젠 등의 화합물을 들 수 있다. 바람직한 것은, 비스(1-클로르-1-메틸에틸)벤젠, 1-클로로에틸벤젠 및 1-브로모에틸벤젠이다.As an initiator represented by General formula (1), it is (1-chloro- (methyl)) benzene, 1, 4-bis (1-chloro- 1-methylethyl) benzene, 1, 3-bis (1). -Chloro-1-methylethyl) benzene, 1,3,5-tris (1-chloro-1-methylethyl) benzene, 1,3-bis (1-chloro-1-methylethyl) -5- (tert- And compounds such as butyl) benzene, 1-chloroethylbenzene, and 1-bromoethylbenzene. Preferred are bis (1-chlor-1-methylethyl) benzene, 1-chloroethylbenzene and 1-bromoethylbenzene.

가용성 방향족 공중합체(A)를 제조하기 위한 중합은 20∼100℃의 온도 범위에서 행한다. 20℃ 미만에서 중합반응을 행하면, 생성한 공중합체의 내열성이 낮아지므로 바람직하지 않고, 또한 100℃를 넘으면, 반응속도가 너무 크기 때문에, 반응의 제어가 어려우며, 가교에 의한 불용성의 겔의 생성이 일어나기 쉬워지므로 바람직하지 않다. 중합 반응 정지 후, 공중합체를 회수하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 스팀 스트리핑법(steam-stripping method), 빈용매(貧溶媒; poor solvent)에서의 석출 등의 통상 사용되는 방법을 사용하면 된다.The polymerization for producing the soluble aromatic copolymer (A) is performed at a temperature in the range of 20 to 100 ° C. If the polymerization reaction is carried out at less than 20 ° C, the heat resistance of the resulting copolymer becomes low, which is undesirable, and if it exceeds 100 ° C, since the reaction rate is too high, it is difficult to control the reaction and formation of an insoluble gel by crosslinking is difficult. It is not preferable because it becomes easy to occur. The method for recovering the copolymer after the completion of the polymerization reaction is not particularly limited. For example, a method commonly used such as a steam stripping method or precipitation in a poor solvent may be employed. You can use

가용성 방향족 중합체(A)는, 하기식(a2)Soluble aromatic polymer (A) is a following formula (a2)

Figure 112007072128797-pct00003
Figure 112007072128797-pct00003

(식 중, R4는 탄소수 6∼30의 방향족 탄화수소기를 나타낸다.)로 표시되는 모노비닐 방향족 화합물 유래의 구조단위를 갖는 것이 바람직하고, 식(a1)로 표시되는 구조단위와 식(a2)로 표시되는 구조단위의 존재 몰비 (a1)/[(a1)+(a2)]가 0.1 이상이다. 바람직하게는 0.3 이상이며, 특히 바람직하게는 0.5 이상이다. 0.1 미만이면 기록한 홀로그램이 시간과 함께 소실된다.(In formula, R <4> represents a C6-C30 aromatic hydrocarbon group.) It is preferable to have a structural unit derived from the monovinyl aromatic compound represented by The present molar ratio (a1) / [(a1) + (a2)] of the structural unit to be displayed is 0.1 or more. Preferably it is 0.3 or more, Especially preferably, it is 0.5 or more. If less than 0.1, the recorded hologram is lost with time.

또한, 가용성 방향족 중합체(A)는 그 주쇄 골격 중에 하기 일반식(2)In addition, the soluble aromatic polymer (A) has the following general formula (2) in the main chain skeleton thereof.

Figure 112007072128797-pct00004
Figure 112007072128797-pct00004

(단, Y는 포화 혹은 불포화의 지방족 탄화수소기 또는 방향족 탄화수소기 또는 벤젠환에 축합한 방향족환 혹은 치환 방향족환을 나타내고, n은 0∼4의 정수이다.)로 표시되는 인단구조단위를 0∼20몰% 갖는 것이 바람직하다. 인단구조는 상기의 제조방법에 의해 공중합체(A)를 제조할 때, 특정의 용매, 촉매, 온도 등의 제조조건하에서 제조를 행함으로써, 성장 폴리머쇄 말단의 활성점이 디비닐 방향족 화합물 및 모노비닐 방향족 화합물 유래의 구조단위의 방향족환을 공격함으로써 생성하는 것이다. 인단구조는 모든 단량체의 구조단위에 대하여 0.01몰% 이상 존재하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.1몰% 이상이며, 더욱 바람직하게는 1몰% 이상이다. 특히 바람직하게는 3몰% 이상이다. 가장 바람직하게는 5몰% 이상이다. 본 발명의 다관능 비닐 방향족 공중합체의 주쇄 골격 중에 상기 인단구조가 존재하지 않으면, 내열성과 용제에의 가용성이 부족하므로 바람직하지 않다.(N is an aromatic ring or a substituted aromatic ring condensed to a saturated or unsaturated aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group or a benzene ring, and n is an integer of 0 to 4). It is preferable to have 20 mol%. When the indole structure is prepared by the above production method, the copolymer (A) is produced under a specific solvent, catalyst, temperature, or other production conditions, whereby the active point at the end of the growth polymer chain is divinyl aromatic compound and monovinyl. It produces | generates by attacking the aromatic ring of the structural unit derived from an aromatic compound. It is preferable that the indane structure is present at 0.01 mol% or more with respect to the structural units of all monomers. More preferably, it is 0.1 mol% or more, More preferably, it is 1 mol% or more. Especially preferably, it is 3 mol% or more. Most preferably, it is 5 mol% or more. If the indane structure does not exist in the main chain skeleton of the polyfunctional vinyl aromatic copolymer of the present invention, heat resistance and solubility in a solvent are insufficient, which is not preferable.

가용성 방향족 공중합체(A)의 수평균 분자량(겔 침투 크로마토그래피를 사용해서 얻어지는 표준 폴리스티렌 환산에 의한다. 이하, Mn이라고 한다)은 400∼30000이 바람직하다. 보다 바람직하게는 400∼10000, 더욱 바람직하게는 500∼5000이다. Mn이 400 미만이면 공중합체(A)의 점도가 너무 낮기 때문에, 가공성이 좋지 않으므로 바람직하지 않다. 또한, Mn이 30000 이상이면, 홀로그램 기록시의 신속한 물질 이동이 저해되므로 바람직하지 않다.The number average molecular weight (based on standard polystyrene conversion obtained by using gel permeation chromatography. Hereinafter, referred to as Mn) of the soluble aromatic copolymer (A) is preferably 400 to 30000. More preferably, it is 400-10000, More preferably, it is 500-5000. When Mn is less than 400, since the viscosity of copolymer (A) is too low, since workability is not good, it is not preferable. In addition, when Mn is 30000 or more, it is not preferable because rapid mass movement during hologram recording is inhibited.

또한, 가용성 방향족 공중합체(A) 분자량 분포(Mw/Mn)의 값은 10 이하인 것이 좋다. Mw/Mn이 10을 넘으면, 가용성 다관능 비닐 방향족 공중합체의 가공특성의 악화, 겔의 발생이라고 하는 문제점을 발생시키므로 바람직하지 않다.In addition, the value of the soluble aromatic copolymer (A) molecular weight distribution (Mw / Mn) is preferably 10 or less. If Mw / Mn is more than 10, it is not preferable because it causes problems such as deterioration of processing characteristics of the soluble polyfunctional vinyl aromatic copolymer and generation of gel.

가용성 방향족 공중합체(A)는, 불포화 결합을 갖는 식(a1)로 표시되는 구조 단위를 갖기 때문에 중합성을 갖는다. 그리고, 톨루엔, 크실렌, 테트라히드로푸란, 디클로로에탄 또는 클로로포름에 가용이기 때문에, 조성물로서 특정 부분을 중합시켰을 때 농도 구배(勾配)를 해소하도록 이동하는 것이 가능하다.Since the soluble aromatic copolymer (A) has a structural unit represented by the formula (a1) having an unsaturated bond, it has polymerizability. And since it is soluble in toluene, xylene, tetrahydrofuran, dichloroethane or chloroform, it is possible to shift so as to resolve the concentration gradient when polymerizing a specific portion as a composition.

다음으로, 광라디칼 중합성 화합물(B)에 대해서 설명한다.Next, an optical radically polymerizable compound (B) is demonstrated.

본 발명에 사용하는 광라디칼 중합성 화합물(B)은, 가용성 방향족 공중합체(A) 및 후술하는 고분자 결합제(D) 또는 가소제(E)와 상용성이 좋은 것이며 라디칼 중합 개시제로부터 발생하는 활성 라디칼종에 의해 중합하는 것이 좋다. 유리하게는, 분자 내에 (메타)아크릴로일기, 비닐기, 알릴기 등의 중합 가능한 관능기를 적어도 1개 갖는 모노머를 매우 적합하게 사용할 수 있다. 광라디칼 중합성 화합물(B)은 중합성이나 굴절률이 다른 2종 이상의 광라디칼 중합성 화합물을 사용해도 좋다.The radical photopolymerizable compound (B) used in the present invention has good compatibility with the soluble aromatic copolymer (A) and the polymer binder (D) or plasticizer (E) described later, and is an active radical species generated from a radical polymerization initiator. It is good to superpose | polymerize by. Advantageously, the monomer which has at least one polymerizable functional group, such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, an allyl group, can be used suitably in a molecule | numerator. As an optical radically polymerizable compound (B), you may use 2 or more types of optical radically polymerizable compounds from which polymeric property and refractive index differ.

빛이 조사되었을 때, 먼저 (간섭광의 명부에 있어서) 중합하는 성분은, 주로 광라디칼 중합성 화합물(B)과 가용성 방향족 공중합체(A)이다. 이때 생성한 경화물은, 가용성 방향족 공중합체(A)의 중합물과, 광라디칼 중합성 화합물(B)과 가용성 방향족 공중합체(A)와의 공중합물이 주성분으로 되어 있다고 추정된다. 단, 가용성 방향족 공중합체(A)가 존재하지 않는 계(系), 혹은, 반응성 비닐기를 갖지 않는 방향족 올리고머를 가용성 방향족 공중합체(A) 대신에 사용한 계에서는, 일순간 기록은 가능하지만, 그 후 잠시 방치하면 점차로 기록이 소거해 버리기 때문에, 가용성 방향족 공중합체(A)는 광라디칼 중합성 화합물(B)과 반응해서, 기록을 고정화하는 역할을 수행하고 있다고 생각된다. 따라서, 굴절률 차는 다음의 성분 사이에서 일어난다고 생각된다. 1)고분자 결합제(D), 가소제(E) 또는 양자를 사용하는 경우는, 명부는 가용성 방향족 공중합체(A)와 광라디칼 중합성 화합물(B)의 경화물이 농축되고(경화물 농축상(濃縮相)), 암부는 고분자 결합제(D), 가소제(E) 또는 양자가 농축되어(비경화물 농축상), 굴절률 차가 발생한다. 2)광라디칼 중합성 화합물(B)을 2종 이상 사용하고, 명부에서 반응하는 것에 비하여 반응성이 뒤떨어지는 광라디칼 중합성 화합물(B2)을 사용하는 경우는, 암부는 광라디칼 중합성 화합물(B2)의 중합체와, 고분자 결합제(D), 가소제(E) 또는 양자가 농축되어(암경화물(暗硬化物; dark cured material) 및 비경화물 농축상), 굴절률 차가 발생한다. 그러므로, 1)의 경우는, 경화물 농축상과 비경화물 농축상은 굴절률이 일정값 이상 다를 필요가 있다. 2)의 경우는, 경화물 농축상과 암경화물 및 비경화물 농축상은 굴절률이 일정값 이상 다를 필요가 있다. 굴절률의 조정은, 광라디칼 중합성 화합물(B), 고분자 결합제(D), 가소제(E)의 종류나 양을 선택함으로써 이루어진다.When light is irradiated, the component to superpose | polymerize first (in the list of interference light) is a radical photopolymerizable compound (B) and a soluble aromatic copolymer (A) mainly. The hardened | cured material produced at this time is estimated that the polymer of a soluble aromatic copolymer (A) and the copolymer of an optical radically polymerizable compound (B) and a soluble aromatic copolymer (A) are a main component. However, in the system in which the soluble aromatic copolymer (A) does not exist or in which the aromatic oligomer having no reactive vinyl group is used in place of the soluble aromatic copolymer (A), recording can be performed for a while, but after a while Since the recording is gradually erased when it is left, the soluble aromatic copolymer (A) is considered to play a role of fixing the recording by reacting with the radical photopolymerizable compound (B). Therefore, it is considered that the difference in refractive index occurs between the following components. 1) When a polymer binder (D), a plasticizer (E), or both are used, the rosin is hardened | cured material of a soluble aromatic copolymer (A) and a radical photopolymerizable compound (B) being concentrated (hardened concentrated phase ( ), The dark portion concentrates the polymer binder (D), the plasticizer (E), or both (non-cured concentrated phase), and a difference in refractive index occurs. 2) When using 2 or more types of radical photopolymerizable compounds (B) and using the radical photopolymerizable compound (B2) which is inferior in reactivity compared with reacting in a roster, a dark part is a radical photopolymerizable compound (B2). ), The polymer binder (D), the plasticizer (E) or both are concentrated (dark cured material and non-hardened concentrate phase), whereby a difference in refractive index occurs. Therefore, in the case of 1), the refractive index of the hardened | cured material concentrated phase and the non-hardened concentrated phase needs to differ by more than a fixed value. In the case of 2), the refractive index of the hardened | cured material concentrated phase, the dark hardened | cured material, and the nonhardened concentrated phase needs to differ by more than a fixed value. The refractive index is adjusted by selecting the type and amount of the radical polymerizable compound (B), the polymer binder (D), and the plasticizer (E).

광라디칼 중합성 화합물(B)의 예로서, 메틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 에틸카르비톨(메타)아크릴레이트페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 노닐페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 트리브로모벤질(메타)아크릴레이트, 아크릴로일몰포린 등의 일관능 (메타)아크릴레이트류; (메타)아크릴옥시프로필트리스(메톡시)실란 등의 규소 함유 (메타)아크릴레이트류; 비스페놀 F, 비스페놀 A, 수소화 비스페놀 A 등의 비스페놀 화합물 알킬렌옥사이드 부가물의 디(메타)아크릴레이트류; 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 디트리메틸올테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 등의 다관능 (메타)아크릴레이트; 에틸렌글리콜디글리시딜에테르-에폭시(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르-에폭시디(메타)아크릴레이트, 페놀글리시딜에테르-에폭시(메타)아크릴레이트, 레졸신디글리시딜에테르-에폭시(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 디글리시딜에테르-에폭시디(메타)아크릴레이트, 비스(4-히드록시페닐)술피드디글리시딜에테르-에폭시(메타)아크릴레이트, 페놀노볼락형 에폭시 수지-(메타)아크릴레이트, 크레졸노볼락형 에폭시 수지-(메타)아크릴레이트, 비스페놀(예를 들면, 비스페놀 A, 비스페놀 F 등)형 에폭시 수지-(메타)아크릴레이트, 비페놀(예를 들면, 3,3',5,5'-테트라메틸비페놀 등)형 에폭시 수지-(메타)아크릴레이트, 트리스(2,3-에폭시프로필)이소시아누레이트-(메타)아크릴레이트 등, 각종 공지의 에폭시 화합물과 (메타)아크릴산과의 반응물인 에폭시(메타)아크릴레이트류; N,N-디메틸아크릴아미드, N,N-디에틸아크릴아미드 등의 아크릴아미드류; 비닐벤젠, 디비닐벤젠, 비닐나프탈렌, 비닐비페닐, 아세나프틸렌, 스티렌, p-클로로스티렌, N-비닐카르바졸, N-비닐피롤리돈, N-비닐카프로락탐 등의 일관능의 비닐 화합물류; 디알릴리덴펜타에리스톨, 디알릴프탈레이트, 디알릴이소프탈레이트, 에틸렌글리콜디알릴카보네이트, 트리멜리트산트리알릴에스테르, 트리알릴(이소)시아누레이트 등의 알릴기 함유 화합물류; 혹은, 우레탄(메타)아크릴레이트류, 폴리우레탄(메타)아크릴레이트류, 티오우레탄아크릴레이트류, 폴리티오우레탄아크릴레이트류, 에스테르아크릴레이트류, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트류, 폴리에테르(메타)아크릴레이트류, 함유황(메타)아크릴레이트류, 함유황 다관능 (메타)아크릴레이트류 등의 공지의 각종 중합성 모노머 혹은 이들의 올리고머, 그 외, 각종 광중합성 올리고머 등을 들 수 있다. 상기 중, 광경화성이 비교적 양호한 (메타)아크릴레이트계 모노머가 바람직하다. 특히, 적어도 이관능 이상의 (메타)아크릴레이트를 포함하는 (메타)아크릴레이트의 조합에 있어서 홀로그램 기록성이 양호해진다.As an example of an optical radically polymerizable compound (B), methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) Acrylate phenoxyethyl (meth) acrylate, nonylphenoxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tribromobenzyl (meth) acrylate, Monofunctional (meth) acrylates such as acryloylmorpholine; Silicon-containing (meth) acrylates such as (meth) acryloxypropyltris (methoxy) silane; Di (meth) acrylates of bisphenol compound alkylene oxide adducts such as bisphenol F, bisphenol A and hydrogenated bisphenol A; Multifunctional (meth) acrylates, such as trimethylol propane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylol tetraacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate Rate; Ethylene glycol diglycidyl ether-epoxy (meth) acrylate, propylene glycol diglycidyl ether-epoxy dimethyl (meth) acrylate, phenol glycidyl ether-epoxy (meth) acrylate, resorcin diglycidyl ether Epoxy (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether-epoxydi (meth) acrylate, bis (4-hydroxyphenyl) sulfide diglycidyl ether-epoxy (meth) acrylate, phenol novolak Type epoxy resin-(meth) acrylate, cresol novolak-type epoxy resin-(meth) acrylate, bisphenol (for example, bisphenol A, bisphenol F, etc.) type epoxy resin-(meth) acrylate, biphenol (example For example, 3,3 ', 5,5'- tetramethyl biphenol etc.) type epoxy resin-(meth) acrylate, tris (2, 3- epoxypropyl) isocyanurate-(meth) acrylate, etc., Reaction of various known epoxy compounds with (meth) acrylic acid Epoxy (meth) acrylates which are water; Acrylamides such as N, N-dimethylacrylamide and N, N-diethylacrylamide; Vinyl compound of consistent performance such as vinylbenzene, divinylbenzene, vinylnaphthalene, vinylbiphenyl, acenaphthylene, styrene, p-chlorostyrene, N-vinylcarbazole, N-vinylpyrrolidone and N-vinyl caprolactam logistics; Allyl-group containing compounds, such as diallylden pentaerythritol, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, ethylene glycol diallyl carbonate, trimellitic acid triallyl ester, and triallyl (iso) cyanurate; Or urethane (meth) acrylates, polyurethane (meth) acrylates, thiourethane acrylates, polythiourethane acrylates, ester acrylates, polyester (meth) acrylates, polyether (meth) ) Well-known various polymerizable monomers, such as an acrylate, containing sulfur (meth) acrylate, and containing sulfur polyfunctional (meth) acrylate, these oligomers, other various photopolymerizable oligomers, etc. are mentioned. Among these, the (meth) acrylate type monomer with favorable photocurability is preferable. In particular, the hologram recordability becomes favorable in the combination of the (meth) acrylate containing the (meth) acrylate more than bifunctional.

광라디칼 중합성 화합물(B)은, 조성물에 배합되어 빛이 조사됨으로써 중합 경화하지만, 일부는 가용성 방향족 공중합체(A)와 공중합해서 경화한다.Although an optical radically polymerizable compound (B) is mix | blended with a composition and irradiated with light, it superposes | polymerizes and hardens, but some copolymerizes and hardens | cures with a soluble aromatic copolymer (A).

다음으로, 광중합 개시제계(C)에 대해서 설명한다.Next, a photoinitiator system (C) is demonstrated.

광중합 개시제계(C)로서는, He-Ne레이저(633nm), Ar레이저(515, 488nm), YAG레이저(532nm), He-Cd레이저(442nm), 혹은 청색 DPSS레이저(405nm) 등의 가시광 레이저광을 흡수해서 라디칼을 발생하고, 그 활성 라디칼종이 본 발명의 필수성분인 가용성 방향족 공중합체(A) 및 광라디칼 중합성 화합물(B)을 중합시키는 개시제계이면 된다. 또한, 각 레이저광 파장에 있어서의 감도를 더욱 높일 목적으로, 색소 증감제를 첨가할 수 있다.As the photopolymerization initiator system (C), visible light laser light such as He-Ne laser (633 nm), Ar laser (515, 488 nm), YAG laser (532 nm), He-Cd laser (442 nm), or blue DPSS laser (405 nm) The radical radical may be absorbed to generate a radical, and the active radical species may be an initiator system which polymerizes the soluble aromatic copolymer (A) and the radical photopolymerizable compound (B) which are essential components of the present invention. Moreover, a dye sensitizer can be added for the purpose of further improving the sensitivity in each laser beam wavelength.

광중합 개시제로서는, 예를 들면, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 벤조페논, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 1-(4-히드록시에톡시)-페닐-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-몰포리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰포리노페닐)-부타논-1, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸-펜틸포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드, 비스(η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)페닐)티타늄, 4,4-비스디메틸아미노벤조페논, 메틸벤조이소포르메이트(methylbenzoisoformate), 벤질디메틸케탈, 벤조일안식향산, 4-디메틸아미노안식향산에틸, 2-클로로티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤, 캄포퀴논(camphorquinone), 벤질, 4,4'-디에틸아미노벤조페논 등을 들 수 있다. 광라디칼 중합 개시제의 시판품으로서는, 예를 들면 Irgacure184, 369, 500, 651, 819, 907, 784, 2959, Darocurl116, 1173(이상, 치바 스페셜티 케미컬즈(주) 제품) 등을 들 수 있다.As a photoinitiator, For example, 2, 2- diethoxy acetophenone, 2, 2- diethoxy-2-phenyl acetophenone, benzophenone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2- Methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin isopropyl ether, 1-hydroxycyclohexyl- Phenyl-ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane- 1-one, 1- (4-hydroxyethoxy) -phenyl-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl)- 2-morpholinopropane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide , Bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphineoxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis (η5-2,4-cyclo Pentadien-1-yl) -r (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) phenyl) titanium, 4,4-bisdimethylaminobenzophenone, methylbenzoisoformate, benzyldimethyl ketal, benzoyl benzoic acid, 4-dimethylamino benzoate, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, camphorquinone, benzyl, 4, 4'- diethylamino benzophenone etc. are mentioned. As a commercial item of an optical radical polymerization initiator, Irgacure184, 369, 500, 651, 819, 907, 784, 2959, Darocurl116, 1173 (above, Chiba Specialty Chemicals Co., Ltd.), etc. are mentioned, for example.

또한, 상기 광중합 개시제와 병용하는 형태로 열중합 개시제를 사용해도 좋다. 병용하는 열중합 개시제로서는, 예를 들면, 2,2'-아조비스(2-메틸부틸로니트릴(methylbutyronitrile)), 2,2'-아조비스이소부틸로니트릴, 2,2'-아조비스이소발레로니트릴(azobisisovaleronitrile), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 메틸에틸케톤퍼옥사이드, 메틸이소부틸케톤퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드, 2,4-디클로로벤조일퍼옥사이드 등을 들 수 있다.Moreover, you may use a thermal polymerization initiator in the form used together with the said photoinitiator. As a thermal polymerization initiator to use together, 2,2'- azobis (2-methylbutylonitrile), 2,2'- azobisisobutylonitrile, 2,2'- azobisiso Valeronitrile (azobisisovaleronitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), methylethylketone peroxide, methyliso Butyl ketone peroxide, benzoyl peroxide, 2, 4- dichloro benzoyl peroxide, etc. are mentioned.

이들 개시제의 첨가량은, 개시제의 종류, 배합하는 화합물의 종류 및 조성비에 따라 다르므로 일률적으로는 결정할 수 없으나, 감광 수지 조성물 전량에 대하여 0.05∼30중량%의 범위가 바람직하다. 특히 바람직하게는 0.1∼8중량%의 범위이다. 0.05중량% 미만이면 경화성이 뒤떨어지고, 미반응물이 남으며, 기록 안정성 불량이 된다. 또한, 30중량%를 넘으면 중합도가 낮아지고, 경화물이 너무 유연해지며, 경우에 따라서는 투명성이 저하하므로, 바람직하지 않다. 0.1∼8중량%의 경우, 경화성이 특히 양호하며, 홀로그램 특성이 양호한 감광 수지 조성물을 제공할 수 있다.Since the addition amount of these initiators changes with kinds of initiator, the kind of compound to mix | blend, and composition ratio, it cannot determine uniformly, but the range of 0.05-30 weight% is preferable with respect to the photosensitive resin composition whole quantity. Especially preferably, it is the range of 0.1-8 weight%. If it is less than 0.05% by weight, the curability is inferior, an unreacted substance remains, and the recording stability is poor. Moreover, when it exceeds 30 weight%, since a polymerization degree will become low, hardened | cured material will become too flexible, and transparency may fall in some cases, and it is unpreferable. In the case of 0.1 to 8 weight%, sclerosis | hardenability is especially favorable and the photosensitive resin composition with favorable hologram characteristics can be provided.

색소 증감제를 사용하는 경우, 색소 증감제로서는, 가시영역의 빛에 흡수를 나타내는 것이면 되고, (티오)크산텐계 색소, 시아닌계 색소, 멜로시아닌계 색소, 스쿠알륨(squarium)계 색소, 티오피릴륨염(thiopyrylium salt)계 색소, 퀴놀린계 색소, (베이스)스티릴계 색소, (케토)쿠마린계 색소, 로다시아닌(rhodacyanine)계색소, 포르피린계 색소, 옥사진계 색소 등의 공지의 화합물을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 2 이상을 조합해서 사용해도 좋다.When using a dye sensitizer, what is necessary is just to exhibit absorption to the light of a visible region as a dye sensitizer, and it is a (thio) xanthene type pigment | dye, a cyanine pigment | dye, a merocyanine pigment | dye, squallium pigment | dye, tea Known compounds such as thiopyrylium salt pigments, quinoline pigments, (base) styryl pigments, (keto) coumarin pigments, rhodacyanine pigments, porphyrin pigments, and oxazine pigments Can be mentioned. These may be used independently or may be used in combination of 2 or more.

본 발명에 있어서, 예를 들면 후막에도 대응할 수 있는 성막성(成膜性)이나 막 강도의 향상, 혹은 홀로그램 기록 후의 내환경성을 높이는 등의 목적으로 고분자 결합제(D)를 사용할 수 있다. 이 목적으로 사용되는 고분자 결합제(D)로서 바람직하게는, 투명성이 높은 것, 가용성 방향족 공중합체(A)와의 상용성이 높은 것이 좋다. 예를 들면, 폴리스티렌 및 그 유도체, 메틸메타크릴레이트-스티렌 공중합체(MS수지), 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체(AS, SAN수지), 폴리(4-메틸펜텐-1)(TPX수지), 폴리시클로올레핀(COP수지), 폴리디에틸렌글리콜비스알릴카보네이트(EGAC수지), 폴리티오우레탄(PTU수지), 폴리메틸비닐에테르(PMVE수지), 폴리술폰수지, 폴리초산비닐, 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈, 아세틸셀룰로오스 등을 들 수 있다. 고분자 결합제(D)는, 그 측쇄 또는 주쇄에 양이온 중합성기 등의 반응성기를 갖고 있어도 좋다. 이들은 1종류 이상을 배합할 수 있다.In the present invention, the polymer binder (D) can be used, for example, for the purpose of improving film-forming properties and film strength that can also be applied to thick films, or to increase the environmental resistance after hologram recording. As the polymer binder (D) used for this purpose, preferably, one having high transparency and one having high compatibility with the soluble aromatic copolymer (A) is preferable. For example, polystyrene and its derivatives, methyl methacrylate-styrene copolymer (MS resin), styrene-acrylonitrile copolymer (AS, SAN resin), poly (4-methylpentene-1) (TPX resin), Polycycloolefin (COP resin), polydiethylene glycol bisallylcarbonate (EGAC resin), polythiourethane (PTU resin), polymethyl vinyl ether (PMVE resin), polysulfone resin, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, poly Vinylpyrrolidone, acetyl cellulose, and the like. The polymer binder (D) may have a reactive group such as a cationically polymerizable group in the side chain or the main chain thereof. These can mix | blend one or more types.

본 발명에 있어서, 가용성 방향족 공중합체(A), 광라디칼 중합성 화합물(B)의 물질 이동, 혹은 감광성 수지 조성물의 상용성을 향상시키는 화합물로서, 가소제(E)를 사용할 수 있다. 가소제(E)로서는, 방향족 공중합체(A) 및 광라디칼 중합성 화합물(B)과 상용성이 높은 것, 또한, 기록시의 물질 이동을 용이하게 하는 액상의 것이 매우 바람직하게 선택된다. 예를 들면, 디메틸세바케이트, 디에틸세바케이트, 디부틸세바케이트, 비스(2-에틸헥실)세바케이트 등의 세바신산에스테르류; 디메틸아디페이트, 디에틸아디페이트, 디부틸아디페이트, 비스(2-에틸헥실)아디페이트 등의 아디핀산에스테르류; 디메틸프탈레이트, 디에틸프탈레이트, 디부틸프탈레이트, 비스(2-에틸헥실)프탈레이트, 디이소데실프탈레이트 등의 프탈산에스테르류; 트리메틸포스페이트, 트리에틸포스페이트, 트리부틸포스페이트, (2-에틸헥실)포스페이트, 트리페닐포스페이트, 크레실디페닐포스페이트, 트리크레실포스페이트 등의 정인산에스테르류; 등의 공지의 가소제(E)를 사용할 수 있다. 이들은 1종류 이상으로 사용할 수 있다.In this invention, a plasticizer (E) can be used as a compound which improves the mass transfer of the soluble aromatic copolymer (A), the radical photopolymerizable compound (B), or the compatibility of the photosensitive resin composition. As the plasticizer (E), one having high compatibility with the aromatic copolymer (A) and the radical photopolymerizable compound (B) and a liquid phase that facilitates material movement during recording is very preferably selected. For example, sebacic acid esters, such as dimethyl sebacate, diethyl sebacate, dibutyl sebacate, and bis (2-ethylhexyl) sebacate; Adipic acid esters such as dimethyl adipate, diethyl adipate, dibutyl adipate and bis (2-ethylhexyl) adipate; Phthalic acid esters such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, bis (2-ethylhexyl) phthalate and diisodecyl phthalate; Phosphoric acid esters such as trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tributyl phosphate, (2-ethylhexyl) phosphate, triphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate and tricresyl phosphate; Known plasticizers (E) such as these can be used. These can be used by one or more types.

또한, 필요에 따라, 열중합금지제, 연쇄이동제, 산화방지제, 실란커플링제, 도면개량제(塗面改良劑), 표면조정제, 가소제, 소포제, 계면활성제, 착색제, 보존안정제, 자외선흡수제, 증점제 그 외의 공지의 첨가제(F)를 첨가할 수도 있다.In addition, if necessary, a thermal polymerization inhibitor, a chain transfer agent, an antioxidant, a silane coupling agent, a drawing improving agent, a surface conditioner, a plasticizer, an antifoaming agent, a surfactant, a colorant, a storage stabilizer, a ultraviolet absorber, a thickener and the like A well-known additive (F) can also be added.

본 발명에 있어서의 수지 조성물이 고체인 경우나, 고점도로 도공이 어려운 경우에는, 수지 조성물을 용해 혹은 분산하기 위해서 용제(G)를 사용할 수 있다. 예를 들면, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 초산에틸, 초산부틸 등의 에스테르류; 톨루엔, 크실렌 등의 석유계 용제; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 셀로솔브류; 에탄올, 메탄올, 이소프로판올, 부탄올 등의 알코올류; 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 에테르류; 디클로로메탄, 클로로포름 등의 할로겐화 탄화수소를 들 수 있다. 용제는, 수지 고형성분 100중량부당 200중량부 이하의 배합이 바람직하며, 100중량부 이하가 더욱 바람직하다. 또한, 뒤의 건조공정의 효율을 올리기 위해서, 그 비점은 100℃ 이하인 것이 바람직하다. 또한, 용제(G)는 수지 조성물을 용해 혹은 분산하기 위한 성분이며, 본 발명에 있어서의 수지 조성물의 구성성분이 아니어서, 각 성분의 함유량의 계산에 있어서는 제외된다.In the case where the resin composition in the present invention is a solid or when coating with high viscosity is difficult, a solvent (G) can be used to dissolve or disperse the resin composition. For example, ketones, such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; Esters such as ethyl acetate and butyl acetate; Petroleum solvents such as toluene and xylene; Cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and butyl cellosolve; Alcohols such as ethanol, methanol, isopropanol and butanol; Ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; Halogenated hydrocarbons, such as dichloromethane and chloroform, are mentioned. The solvent is preferably 200 parts by weight or less, more preferably 100 parts by weight or less per 100 parts by weight of the resin solid component. Moreover, in order to raise the efficiency of a later drying process, it is preferable that the boiling point is 100 degrees C or less. In addition, a solvent (G) is a component for melt | dissolving or disperse | distributing a resin composition, and is not a component of the resin composition in this invention, and is excluded in calculation of content of each component.

또한, 본 발명의 조성물에서 필수성분으로서 사용하는 성분은 (A)∼(C)와, (D) 또는 (E)이지만, (D) 및 (E)의 양자를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 상기성분 및 다른 성분(F) 등, 및 용제(G)의 설명에 있어서, 이들은 예시한 것에 한정되는 것은 아니다.In addition, although the component used as an essential component in the composition of this invention is (A)-(C) and (D) or (E), it is preferable to use both (D) and (E). In addition, in description of the said component, another component (F), etc., and a solvent (G), these are not limited to what was illustrated.

<홀로그램 기록재료의 조성>Composition of Hologram Recording Material

본 발명의 체적 위상형 홀로그램 기록용 감광성 수지 조성물은, 조성물 전 중량(용제를 제외한다)에 대하여, 각 성분을 다음의 비율로 배합하는 것이 바람직하다.It is preferable that the photosensitive resin composition for volume phase hologram recording of this invention mix | blends each component with the following ratio with respect to the composition total weight (excluding a solvent).

가용성 방향족 공중합체(A)를 5∼60중량%, 바람직하게는 10∼40중량%5 to 60% by weight, preferably 10 to 40% by weight of the soluble aromatic copolymer (A)

광라디칼 중합성 화합물(B)을 5∼50중량%, 바람직하게는 10∼40중량%5-50% by weight of the radical photopolymerizable compound (B), preferably 10-40% by weight

광중합 개시제(C)를 0.05∼30중량%, 바람직하게는 1∼10중량%(색소 증감제를 배합하는 경우는 색소 증감제를 0.01∼10중량%이며, 광중합 개시제와의 합계량이 30중량%를 넘지 않는다)0.05-30 weight% of photoinitiators (C), Preferably 1-10 weight% (When mix | blending a dye sensitizer, it is 0.01-10 weight% and a total amount with a photoinitiator is 30 weight% Not exceed)

고분자 결합제(D)를 0∼50중량%, 바람직하게는 10∼40중량%0-50% by weight of polymer binder (D), preferably 10-40% by weight

가소제(E)를 0∼40중량%, 바람직하게는 10∼35중량%0 to 40% by weight of plasticizer (E), preferably 10 to 35% by weight

고분자 결합제(D)와 가소제(E)의 합계: 20∼80중량%, 바람직하게는 30∼70중량%Total of polymeric binder (D) and plasticizer (E): 20 to 80% by weight, preferably 30 to 70% by weight

<홀로그램 기록용 매체의 제작><Production of hologram recording medium>

본 발명의 감광성 수지 조성물로부터 홀로그램 기록용 매체의 제작은, 액상으로 한 감광성 수지 조성물을 스핀코터, 롤코터, 바코터 등의 공지의 도공수단을 사용해서, 유리판이나 폴리카보네이트판, 폴리메틸메타크릴레이트판, 폴리에스테르 필름 등의 기재(基材)상에 건조 막 두께 1∼1000㎛가 되도록 도포하고, 필요에 따라 건조공정을 거쳐 홀로그램 기록용 매체를 제작하는 방법이 적합하다. 이때, 감광성 수지 조성물층상에는 산소 차단막으로서 보호층을 형성해도 좋다. 보호층에는, 예를 들면 상기의 기판과 동등한 것, 혹은 폴리올레핀, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알코올 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 필름이나 유리 등을 사용할 수 있다. 또한, 감광액을 도포할 때에는, 필요에 따라 적당한 용제로 희석해도 좋으나, 그 경우에는 기판상에 도포한 후에, 건조를 요한다.The production of a hologram recording medium from the photosensitive resin composition of the present invention uses a known coating means such as a spin coater, a roll coater, a bar coater, or the like to form a liquid photosensitive resin composition, using a glass plate, a polycarbonate plate, or a polymethylmethacryl The method of apply | coating so that it may become a dry film thickness of 1-1000 micrometers on base materials, such as a rate plate and a polyester film, and if necessary, passes through a drying process and produces the hologram recording medium. At this time, you may form a protective layer as an oxygen barrier film on the photosensitive resin composition layer. As the protective layer, for example, a film or glass such as a polyolefin, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol or polyethylene terephthalate can be used. Moreover, when apply | coating a photosensitive liquid, you may dilute with a suitable solvent as needed, but in that case, after apply | coating on a board | substrate, drying is required.

<홀로그램 기록용 광원·기록방법><Light source and recording method for hologram recording>

전술과 같이 제작된 기록층은, 종래부터 알려져 있는 방법에 의해 간섭노광을 행하여 체적 위상형 홀로그램을 형성할 수 있다. 예를 들면, 레이저광이나 코히어런스성(가간섭성)이 우수한 빛(예를 들면, 파장 300∼1200nm의 빛)에 의한 통상의 홀로그래피 노광장치에 의한 2광속(光束) 간섭무늬 노광에 의해 그 내부에 간섭무늬가 기록된다. 이 단계에서, 기록된 간섭무늬에 의한 회절광이 얻어지며, 홀로그램으로 할 수 있다. 본 발명의 홀로그램 기록재료에 적합한 광원으로서는, He-Ne레이저(633nm), Ar레이저(515, 488nm), YAG레이저(532nm), He-Cd레이저(442nm), 혹은 청색 DPSS레이저(405nm) 등을 이용할 수 있다. 또한, 상기 레이저 등에 의한 홀로그램 기록 후에, 크세논 램프, 수은 램프, 메탈할라이드 램프 등에 의한 자외선(UV) 전면 조사, 혹은 60℃ 정도의 열을 광기록용 조성물막에 가함으로써, 미반응인 채로 남아 있는 일부 라디칼 중합성 화합물의 중합, 물질 이동에 따른 상분리(相分離)가 촉진되며, 보다 홀로그램 특성이 우수한 홀로그램이 얻어진다.The recording layer produced as described above can be subjected to interference exposure by a conventionally known method to form a volume phase hologram. For example, by two-beam interference fringe exposure by a conventional holographic exposure apparatus by laser light or light excellent in coherence (coherence) (for example, light having a wavelength of 300 to 1200 nm). An interference fringe is recorded therein. In this step, diffracted light by the recorded interference fringe is obtained, and it can be made into a hologram. Suitable light sources for the hologram recording material of the present invention include He-Ne laser (633 nm), Ar laser (515, 488 nm), YAG laser (532 nm), He-Cd laser (442 nm), blue DPSS laser (405 nm), and the like. It is available. In addition, after hologram recording by the laser or the like, unreacted ultraviolet rays are irradiated by a xenon lamp, a mercury lamp, a metal halide lamp or the like, or heat of about 60 ° C. is applied to the optical recording composition film, thereby remaining unreacted. Phase separation due to polymerization of some radically polymerizable compounds and mass transfer is promoted, and a hologram having better hologram characteristics is obtained.

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실 시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시예 중에서 사용하는 기호는 다음과 같다.Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to these Examples. In addition, the symbol used in an Example is as follows.

DVB: 디비닐벤젠DVB: divinylbenzene

DVB570: DVB와 에틸비닐벤젠의 성분비가 57:43인 혼합 모노머,(신닛테츠 가가쿠사 제품)DVB570: Mixed monomer having a component ratio of DVB and ethyl vinyl benzene of 57:43 (manufactured by Shinnitetsu Chemical Co., Ltd.)

S2EG: 비스(2-메타크릴로일티오에틸)술파이드(스미토모 세이카사 제품),S2EG: bis (2-methacryloylthioethyl) sulfide (manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd.),

TCP: 트리크레실포스페이트,(신닛폰 리카사 제품)TCP: tricresyl phosphate, (new Nippon Rika Corporation)

MS-200: 메틸메타크릴레이트-스티렌(20:80) 공중합 폴리머,MS-200: methyl methacrylate-styrene (20:80) copolymer polymer,

MS-600: 메틸메타크릴레이트-스티렌(60:40) 공중합 폴리머.MS-600: Methyl methacrylate-styrene (60:40) copolymer polymer.

또한, 본 실시예에 있어서의 홀로그램 및 감광성 수지 조성물의 평가는, 이하의 방법으로 행하였다.In addition, evaluation of the hologram and the photosensitive resin composition in this Example was performed with the following method.

<홀로그램의 평가><Evaluation of Hologram>

*회절효율의 평가* Evaluation of diffraction efficiency

투과형 홀로그램의 회절효율은, 직선 편광형 He-Ne레이저(632.8nm)에 의한 회절광을 광파워미터(optical power meter)로 판독한 값을 사용해서, 다음식에 의해 산출하였다.The diffraction efficiency of the transmission hologram was calculated by the following equation using a value obtained by reading a diffracted light by a linearly polarized He-Ne laser (632.8 nm) with an optical power meter.

회절효율(%)=(회절광 강도/입사광 강도)×100Diffraction efficiency (%) = (diffraction light intensity / incident light intensity) x 100

*내환경성의 평가* Evaluation of environmental resistance

기록 1개월 후(60℃에서 보관)의 회절효율, 투명성의 변화(○: 변화 없음, △: 약간 변화, ×: 변화 있음)Change of diffraction efficiency and transparency 1 month after storage (storage at 60 ° C) (○: no change, △: slight change, ×: change)

*감광성 수지 조성물의 체적 수축률* Volume shrinkage rate of photosensitive resin composition

감광성 수지 조성물의 경화 수축률은, 경화 전후의 수지 조성물의 밀도를 측정함으로써, 다음식으로 산출할 수 있다. 또한, 광원에는 스폿 UV 조사장치를 사용하고, 50㎛의 두께의 샘플에 대하여, 6mV/㎠의 UV를 공기하에서 조사하였다.The cure shrinkage rate of the photosensitive resin composition can be calculated by the following formula by measuring the density of the resin composition before and after curing. In addition, the spot UV irradiation apparatus was used for the light source, and UV of 6 mV / cm <2> was irradiated under air with respect to the 50-micrometer-thick sample.

경화 수축률(%)=(1-액 밀도/필름 밀도)×100Curing Shrinkage (%) = (1-Liquid Density / Film Density) × 100

합성예 1Synthesis Example 1

디비닐벤젠 1.75몰(258.9ml), 에틸비닐벤젠 1.30몰(186.3ml), 1-클로로에틸벤젠(289.1mmol)의 톨루엔 용액(톨루엔 1806ml, 모노머 농도: 1.31mol/ml, 유전율: 2.38) 2282ml를 3000ml의 플라스크 내에 투입해서 30℃로 가열하였다. 또한, 12.64mmol의 SnCl4의 톨루엔 용액(농도: 0.584mmol/ml) 21.7ml를 첨가하여, 4시간 반응시켰다. 중합반응을 질소로 버블링을 행한 소량의 메탄올로 정지시킨 후, 실온에서 반응 혼합액을 대량의 메탄올에 투입하고, 가용성 방향족 공중합체를 석출시켰다. 얻어진 공중합체를 메탄올로 세정하고, 여과 분리, 건조, 칭량해서, 가용성 방향족 공중합체 171.62g(수율: 42.9wt%)을 얻었다. 중합활성은 3.39(g 폴리머/mmol Sn·hr)였다. 얻어진 공중합체의 Mw는 6930, Mn은 1990, Mw/Mn은 3.48이었다.2282 ml of toluene solution (toluene 1806 ml, monomer concentration: 1.31 mol / ml, dielectric constant: 2.38) of 1.75 mol (258.9 ml) of divinylbenzene, 1.30 mol (186.3 ml) of ethylvinylbenzene, and 1-chloroethylbenzene (289.1 mmol) It was put into a 3000 ml flask and heated at 30 degreeC. Further, 21.7 ml of a 12.64 mmol toluene solution of SnCl 4 (concentration: 0.584 mmol / ml) was added and reacted for 4 hours. After stopping the polymerization reaction with a small amount of methanol bubbled with nitrogen, the reaction mixture was poured into a large amount of methanol at room temperature to precipitate a soluble aromatic copolymer. The obtained copolymer was washed with methanol, filtered off, dried and weighed to obtain 171.62 g (yield: 42.9 wt%) of soluble aromatic copolymer. The polymerization activity was 3.39 (g polymer / mmol Sn · hr). Mw of the obtained copolymer was 6930, Mn was 1990, and Mw / Mn was 3.48.

합성예 2Synthesis Example 2

디비닐벤젠 1.51몰(223.4ml), 에틸비닐벤젠 0.71몰(123.2ml), 1-클로로에틸벤젠(364.2mmol)의 디클로로에탄 용액(농도: 0.73mmol/ml) 5.5ml 및 디클로로에탄(유전율: 10.3) 3500ml를 5000ml의 플라스크 내에 투입하고, 70℃에서 50.11mmol의 SnCl4의 디클로로에탄 용액(농도: 0.074mmol/ml) 63.3ml를 첨가하여, 3시간 반응시켰다. 중합반응을 질소로 버블링을 행한 소량의 메탄올로 정지시킨 후, 실온에서 반응 혼합액을 대량의 메탄올에 투입하여, 가용성 방향족 중합체를 석출시켰다. 얻어진 공중합체를 메탄올로 세정하고, 여과 분리, 건조, 칭량해서, 가용성 방향족 공중합체 178.91g(수율: 61.3wt%)을 얻었다. 중합활성은 8.54(g 폴리머/mmol Sn·hr)였다. 얻어진 공중합체의 Mw는 49700, Mn은 9730, Mw/Mn은 5.1이었다.1.51 mol (223.4 ml) of divinylbenzene, 0.71 mol (123.2 ml) of ethylvinylbenzene, 5.5 ml of dichloroethane solution (concentration: 0.73 mmol / ml) of 1-chloroethylbenzene (364.2 mmol) and dichloroethane (dielectric constant: 10.3 ) 3500 ml was added into a 5000 ml flask, and 63.3 ml of a 50.11 mmol dichloroethane solution of SnCl 4 (concentration: 0.074 mmol / ml) was added at 70 ° C., and reacted for 3 hours. After stopping the polymerization reaction with a small amount of methanol bubbled with nitrogen, the reaction mixture was poured into a large amount of methanol at room temperature to precipitate a soluble aromatic polymer. The obtained copolymer was washed with methanol, filtered off, dried and weighed to obtain 178.91 g (yield: 61.3 wt%) of soluble aromatic copolymer. The polymerization activity was 8.54 (g polymer / mmol Sn · hr). Mw of the obtained copolymer was 49700, Mn was 9730, and Mw / Mn was 5.1.

실시예 1Example 1

하기와 같은 성분을 배합해서, 체적 위상형 홀로그램 기록용 감광성 수지 조성물 용액을 제작하였다.The following component was mix | blended and the photosensitive resin composition solution for volume phase hologram recording was produced.

디클로로메탄: 50g에 합성예 1에서 얻은 공중합체: 10g, TCP: 15g, MS-200: 20g, S2EG: 15g, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(Irgacure184, 치바 스페셜티 케미컬즈(주) 제품): 0.1g, 3-에틸-5-[(3-에틸-2(3H)-벤조티아졸리리덴(benzothiazolylidene))에틸리덴]-2-티옥소-4-옥사졸리디논(NK-1473, (주)하야시바라 세이부츠 가가쿠 겐쿠쇼 제품): 0.01g을 용해해서 감광액을 얻었다.Dichloromethane: 50 g of copolymer obtained in Synthesis Example 1: 10 g, TCP: 15 g, MS-200: 20 g, S2EG: 15 g, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (Irgacure184, manufactured by Chiba Specialty Chemicals Co., Ltd.): 0.1 g, 3-ethyl-5-[(3-ethyl-2 (3H) -benzothiazolylidene) ethylidene] -2-thioxo-4-oxazolidinone (NK-1473, Inc.) Hayashibara Seibutsu Kagaku Genkusho): 0.01 g was dissolved to obtain a photosensitive liquid.

이것을 50mm×50mm, 두께 0.5mm의 유리기판의 한쪽 면에, 건조 막 두께 50㎛가 되도록 바코터를 사용해서 도포하고, 50℃로 설정한 질소 분위기의 이너트 오븐(inert oven) 내에서 1시간 건조해서 체적 위상형 홀로그램 기록용 감광판을 제작하였다. 이것에 보호막으로서, 38㎛의 PET필름을 라미네이트하여, 광정보기록매체로 하였다.This is applied to one surface of a glass substrate having a thickness of 50 mm x 50 mm and a thickness of 0.5 mm using a bar coater so as to have a dry film thickness of 50 µm, and in an inert oven of nitrogen atmosphere set at 50 ° C for 1 hour. It dried and the photosensitive plate for volume phase hologram recording was produced. As a protective film, a 38 µm PET film was laminated thereon to form an optical information recording medium.

얻어진 기록매체에 아르곤 이온 레이저의 514.5nm광에 의한 2광속 간섭노광법을 사용해서, 공간 주파수 약 1000개/mm의 간섭무늬로 하고, 이것을 PET측으로부터 입사해서 체적 위상형 홀로그램을 기록하였다. 투과형 홀로그램의 노광은, 감광판상에서의 1개의 광강도를 1mW/㎠로 하고, 10초∼100초간, 노광량 10∼100mJ/㎠에서 행하였다. 얻어진 체적 위상형 홀로그램은 노광량 13mJ/㎠에서 회절효율 82%였다. 또한, 수지 조성물의 경화 수축률은 0.5%였다.Using the two-beam interference exposure method by 514.5 nm light of the argon ion laser, the obtained recording medium was made into the interference fringe of about 1000 spaces / mm, and this was incident from the PET side, and the volume phase hologram was recorded. Exposure of the transmissive hologram was carried out at an exposure dose of 10 to 100 mJ / cm 2 for 10 seconds to 100 seconds, with one light intensity on the photosensitive plate being 1 mW / cm 2. The obtained volume phase hologram had a diffraction efficiency of 82% at an exposure dose of 13 mJ / cm 2. In addition, the cure shrinkage rate of the resin composition was 0.5%.

실시예 2∼6 및 비교예 1∼3Examples 2-6 and Comparative Examples 1-3

배합 조성을 표 1에 나타내는 대로 한 것 외에는 실시예 1과 동일하게 해서, 감광성 수지 조성물 용액을 제작하고, 이것으로부터 광정보기록매체를 얻으며, 홀로그램을 기록하고, 평가를 행하였다. 조성 및 평가결과를 표 1에 정리하였다. 표 1 중, DVB 올리고머(Mn=2000)는 합성예 1에서 얻은 공중합체를 나타내고, DVB 올리고머(Mn=10000)는 합성예 2에서 얻은 공중합체를 나타낸다.A photosensitive resin composition solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compounding composition was as shown in Table 1, an optical information recording medium was obtained, a hologram was recorded, and evaluation was performed. The composition and evaluation results are summarized in Table 1. In Table 1, DVB oligomer (Mn = 2000) shows the copolymer obtained by the synthesis example 1, and DVB oligomer (Mn = 10000) shows the copolymer obtained by the synthesis example 2.

Figure 112007072128797-pct00005
Figure 112007072128797-pct00005

본 발명에 의하면, 감광성 수지 조성물에 가용성 다관능 비닐 방향족 공중합체를 사용함으로써, 투명성은 물론, 감도, 저경화 수축률, 투명성이 우수한 체적 위상형 홀로그램 기록재료, 체적 위상형 홀로그램 기록매체, 및, 체적 위상형 홀로그램을 제공할 수 있다.According to the present invention, by using the soluble polyfunctional vinyl aromatic copolymer in the photosensitive resin composition, the volume phase hologram recording material, the volume phase hologram recording medium, and the volume which are excellent in transparency as well as sensitivity, low curing shrinkage rate and transparency. It is possible to provide a phased hologram.

Claims (5)

디비닐 방향족 화합물의 구조단위와 모노비닐 방향족 화합물의 구조단위를 가지며, 하기식(a1)로 표시되는 구조단위를 10몰% 이상 함유하는 가용성 방향족 공중합체(A); 가용성 방향족 공중합체(A)와 공중합 가능한 광라디칼 중합성 화합물(B); 광중합 개시제(C); 및, 고분자 결합제(D) 및 가소제(E) 중 1종 이상;을 포함해서 이루어지는 감광성 수지 조성물로서, 가용성 방향족 공중합체(A)를 5∼60중량% 포함하는 것을 특징으로 하는 체적 위상형 홀로그램 기록용 감광성 수지 조성물.A soluble aromatic copolymer (A) having a structural unit of a divinyl aromatic compound and a structural unit of a monovinyl aromatic compound and containing 10 mol% or more of the structural unit represented by the following formula (a1); An optical radical polymerizable compound (B) copolymerizable with a soluble aromatic copolymer (A); Photopolymerization initiator (C); And at least one of a polymer binder (D) and a plasticizer (E). The photosensitive resin composition comprising 5 to 60% by weight of a soluble aromatic copolymer (A). Photosensitive resin composition for.
Figure 112011003099658-pct00006
Figure 112011003099658-pct00006
(단, R1은 탄소수 6∼30의 방향족 탄화수소기를 나타낸다.) (However, R 1 represents an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms.)
제1항에 있어서, 가용성 방향족 공중합체(A)의 수평균 분자량이 400∼30000인 것을 특징으로 하는 체적 위상형 홀로그램 기록용 감광성 수지 조성물.The photosensitive resin composition for volume phase hologram recording according to claim 1, wherein the number average molecular weight of the soluble aromatic copolymer (A) is 400 to 30000. 제1항 또는 제2항에 기재된 감광성 수지 조성물로 이루어지는 기록층이, 1개의 지지체상에 또는 2개의 지지체 사이에 형성되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 체적 위상형 홀로그램 기록용 광정보기록매체.An optical information recording medium for volume phase hologram recording, wherein the recording layer made of the photosensitive resin composition according to claim 1 is formed on one support or between two supports. 제3항에 기재된 광정보기록매체에 코히어런트성이 우수한 에너지선으로부터 형성되는 간섭무늬를 기록해서 얻어지는 것을 특징으로 하는 체적 위상형 홀로그램.A volume phase hologram obtained by recording an interference fringe formed from an energy ray having excellent coherent property on the optical information recording medium according to claim 3. 제3항에 기재된 기록매체에 코히어런트성이 우수한 에너지선으로부터 형성되는 간섭무늬를 노광 기록하는 것을 특징으로 하는 체적 위상형 홀로그램의 제조방법.A method of manufacturing a volume phase hologram, wherein an interference fringe formed from an energy ray having excellent coherent properties is subjected to exposure recording on a recording medium according to claim 3.
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