JPH06175563A - Hologram recording material and production of volume phase type hologram by using the recording material - Google Patents

Hologram recording material and production of volume phase type hologram by using the recording material

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JPH06175563A
JPH06175563A JP35072992A JP35072992A JPH06175563A JP H06175563 A JPH06175563 A JP H06175563A JP 35072992 A JP35072992 A JP 35072992A JP 35072992 A JP35072992 A JP 35072992A JP H06175563 A JPH06175563 A JP H06175563A
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JP
Japan
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group
hologram
recording material
meth
vinyl monomers
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JP35072992A
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Japanese (ja)
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Yasumasa Toba
泰正 鳥羽
Takeo Yamaguchi
岳男 山口
Madoka Yasuike
円 安池
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Toyo Ink Mfg Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To provide a process for production of a hologram recording material exhibiting excellent photosensitivity and a volume phase type hologram formed by using the recording material. CONSTITUTION:This hologram material consists of a combination of a high- polymer compd. which is a single polymer of a vinyl monomer or a copolymer of 2 components of vinyl monomers (A), a compd. having at least 1 pieces of polymerizable ethylenic unsatd. bonds (B), a pyrilium salt or thiopyrilium salt deriv. (C) and sulfonium org. boron complex (D). This process for production of the volume phase type hologram consists in subjecting this hologram masterial and the hologram recording material to hologram exposing, then applying light and (or) heat thereto. As a result, the volume phase type hologram having a high sensitivity and chemical stability and having a high resolution, high diffraction efficiency and high transparency is easily produced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、化学的安定性や耐環境
特性に優れ、広い波長領域に渡って高い感度特性を持
ち、且つ解像度、回折効率及び透明性に優れたホログラ
ム記録材料及びそれを用いた簡便な体積位相型ホログラ
ムの製造方法に関するものである。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a hologram recording material having excellent chemical stability and environmental resistance, high sensitivity over a wide wavelength range, and excellent resolution, diffraction efficiency and transparency. The present invention relates to a simple method for producing a volume phase hologram using a.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ホログラム記録用材料として、漂
白処理銀塩および重クロム酸ゼラチン系の感光材料が一
般に使用されてきた。しかし、これを用いたホログラム
材料は、ともに煩雑な湿式現像処理を必要とし、さらに
解像度または耐環境特性、例えば耐湿性、耐候性に劣る
という問題点を有していた。
2. Description of the Related Art Conventionally, bleached silver salt and dichromated gelatin type photosensitive materials have been generally used as hologram recording materials. However, the hologram material using this material has a problem that it requires complicated wet development processing and is inferior in resolution or environment resistance characteristics such as humidity resistance and weather resistance.

【0003】この様な問題点を解決すべく、フォトポリ
マーを用いたホログラム記録材料が提案されている。例
えば特公昭62−22152号公報においては、2個以
上のエチレン性不飽和結合を有する多官能単量体、非架
橋性の重合体および開始剤との組み合わせを特徴とする
ホログラム記録材料が開示されている。当該公知技術に
従えば、回折効率、解像度及び耐環境特性などの点にお
いて優れたホログラムを製造することができるが、感度
特性および感光波長領域特性に劣る、あるいはホログラ
ムの製造において湿式処理工程を採用しているなどの製
造上の煩雑性、また、溶媒浸漬操作時に生じる空隙やひ
び割れに起因する現像むらや、白化による透明性の低下
などの問題が生じるなどの欠点を有していた。また、使
用される重合体が非架橋性であるために、硬化膜の強度
に劣るという欠点があった。
In order to solve such a problem, a hologram recording material using a photopolymer has been proposed. For example, Japanese Patent Publication No. 62-22152 discloses a hologram recording material characterized by a combination of a polyfunctional monomer having two or more ethylenically unsaturated bonds, a non-crosslinkable polymer and an initiator. ing. According to the known technique, it is possible to manufacture a hologram that is excellent in terms of diffraction efficiency, resolution, environment resistance, etc., but it is inferior in sensitivity characteristics and photosensitive wavelength region characteristics, or a wet treatment process is adopted in hologram manufacturing. However, there are drawbacks such as complications in production such as the occurrence of defects, uneven development caused by voids and cracks generated during the solvent immersion operation, and deterioration of transparency due to whitening. Further, since the polymer used is non-crosslinkable, the strength of the cured film is inferior.

【0004】一方、ホログラムの製造工程において複雑
なあるいは煩雑な湿式処理工程を必要としない、唯一の
処理工程として干渉露光のみでホログラムを製造するこ
とが可能なフォトポリマーを使ったホログラム記録材料
(および)あるいはその製造法が開示されている。例え
ば、特開平2−3081号公報あるいは特開平2−30
82号公報においては、ポリマーあるいはモノマーのど
ちらか一方が芳香環あるいはハロゲン原子を含む置換基
を有することを特徴とする熱可塑性ポリマーと液体エチ
レン性モノマー、及び光開始剤から構成されるホログラ
ム記録用光重合性組成物及び屈折率画像用エレメントが
開示されている。この公知技術に従えば、高回折効率、
高解像度、耐環境特性及び透明性に優れたホログラムが
製造されることが、SPIE「Practical H
olography IV」,第1212巻,30頁(1
990年)及び「Journal of Imagin
gScience」,第35巻,19頁及び25頁(1
991年)にて実証されている。しかしながら、該ホロ
グラム記録材料のArイオンレーザーに対する感度特性
は、数10mJ/cm2 オーダーであり、ホログラムの
複製において露光時間を短縮するため、感度特性をより
一層向上させることが望まれた。
On the other hand, a hologram recording material using a photopolymer (and a hologram recording material using a photopolymer capable of producing a hologram only by interference exposure as the only processing step, which does not require a complicated or complicated wet processing step in the hologram production step (and ) Or its manufacturing method is disclosed. For example, JP-A-2-3081 or JP-A-2-30
No. 82, for hologram recording comprising a thermoplastic polymer characterized in that either the polymer or the monomer has a substituent containing an aromatic ring or a halogen atom, a liquid ethylenic monomer, and a photoinitiator. Photopolymerizable compositions and refractive index imaging elements are disclosed. According to this known technique, high diffraction efficiency,
The fact that holograms with high resolution, environmental resistance, and transparency are manufactured is characterized by the fact that SPIE “Practical H
olography IV ", Vol. 1212, p. 30 (1
990) and "Journal of Image
gScience, "Vol. 35, pp. 19 and 25 (1
991). However, the sensitivity characteristic of the hologram recording material to Ar ion laser is on the order of several tens of mJ / cm 2 , and it is desired to further improve the sensitivity characteristic in order to shorten the exposure time in hologram replication.

【0005】また、特開平2−51188号公報におい
ては、屈折率に差がある分子内に1個以上の重合性炭素
−炭素二重結合を有する化合物の複数からなるホログラ
ム用組成物が開示されてる。この公知技術に従えば、煩
雑な処理工程を必要としない高解像度及び高回折効率の
ホログラムが製造されるが、分子内に1個以上の重合性
炭素−炭素二重結合を有する化合物の一つとして、ガラ
ス転移温度の低いウレタンアクリレートを使用している
ため、ホログラムの耐熱特性において劣るという欠点を
有していた。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-51188 discloses a hologram composition comprising a plurality of compounds having one or more polymerizable carbon-carbon double bond in a molecule having different refractive indexes. It's According to this known technique, a hologram with high resolution and high diffraction efficiency which does not require complicated processing steps can be produced, but one of the compounds having one or more polymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule is produced. As a result, since urethane acrylate having a low glass transition temperature is used, it has a drawback that the heat resistance of the hologram is inferior.

【0006】さらに、特開平3−36582号公報及び
特開平3−249785号公報においては、屈折率と重
合性の違うアリルモノマーとアクリルモノマーとを組み
合わせることを特徴とするホログラム記録材料が開示さ
れている。この公知技術に従えば、高い回折効率の体積
位相型ホログラムが製造可能であることは、「ホログラ
フィック・ディスプレイ研究会会報」,第10巻,第1
号,3頁(1990年)にて実証されている。しかしな
がら、該公知技術においては、流動性を有するモノマー
を主成分として使用しているため、ホログラム露光前に
加熱処理をするなどの感光膜の流動性を抑制するための
処理を予め行う必要があり、操作が煩雑になったり、膜
厚の制御が難しいなどの欠点を有していた。
Further, Japanese Patent Laid-Open Nos. 3-36582 and 3-249785 disclose hologram recording materials which are characterized by combining an allyl monomer and an acrylic monomer having different refractive indexes and polymerizable properties. There is. According to this known technique, it is possible to manufacture a volume phase hologram with high diffraction efficiency, "Holographic Display Research Group Bulletin", Vol. 10, No. 1.
Issue, page 3 (1990). However, in the known technique, since a monomer having fluidity is used as a main component, it is necessary to previously perform a treatment for suppressing fluidity of the photosensitive film such as heat treatment before hologram exposure. However, it has drawbacks such as complicated operation and difficulty in controlling the film thickness.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、耐環境特性
に優れ、また広い波長領域に渡って高感度、且つ解像
度、回折効率及び透明性において優れた特性を持つホロ
グラム記録材料及びそれを用いた体積位相型ホログラム
の簡便な製造方法を提供するものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention provides a hologram recording material having excellent environmental resistance properties, high sensitivity over a wide wavelength range, and excellent resolution, diffraction efficiency and transparency, and a hologram recording material using the same. The present invention provides a simple method for producing a volume phase hologram.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、以上の諸
点を考慮し、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、
本発明に至ったものである。
Means for Solving the Problems In consideration of the above points, the present inventors have made earnest studies to achieve the above object, and as a result,
The present invention has been achieved.

【0009】すなわち、第一の発明は、ビニルモノマー
の単一重合体または2成分以上のビニルモノマーの共重
合体である高分子化合物(A)、重合可能なエチレン性
不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合物(B)、
ピリリウム塩またはチオピリリウム塩誘導体(C)及び
スルホニウム有機ホウ素錯体(D)の組み合わせを含む
ことを特徴とするホログラム記録材料である。第二の発
明は、ビニルモノマーの単一重合体または2成分以上の
ビニルモノマーの共重合体である高分子化合物(A)
が、架橋可能な(メタ)アクリロイル基を有することを
特徴とする第一発明記載のホログラム記録材料である。
第三の発明は、ビニルモノマーの単一重合体または2成
分以上のビニルモノマーの共重合体である高分子化合物
(A)の屈折率と、重合可能なエチレン性不飽和結合を
少なくとも1個以上有する化合物(B)の屈折率との屈
折率差が0.005以上であることを特徴とする第一発
明記載のホログラム記録材料である。第四の発明は、ビ
ニルモノマーの単一重合体または2成分以上のビニルモ
ノマーの共重合体である高分子化合物(A)、重合可能
なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化
合物(B)、ピリリウム塩またはチオピリリウム塩誘導
体(C)およびスルホニウム有機ホウ素錯体(D)の組
合せを含むことを特徴とするホログラム記録材料を用い
てホログラムを作成するに当たって、該ホログラム記録
材料をホログラム露光したのち、光および(または)熱
を加えることを特徴とする体積位相型ホログラムの製造
方法である。
That is, the first invention is a polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more vinyl monomers, and at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond. A compound (B) having
A hologram recording material comprising a combination of a pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative (C) and a sulfonium organic boron complex (D). The second invention is a polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of vinyl monomers of two or more components.
Is a cross-linkable (meth) acryloyl group, which is the hologram recording material according to the first invention.
A third invention has a refractive index of a polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of vinyl monomers of two or more components, and at least one polymerizable ethylenically unsaturated bond. The hologram recording material according to the first invention is characterized in that the refractive index difference from the refractive index of the compound (B) is 0.005 or more. A fourth invention is a polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more vinyl monomers, and a compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond. In producing a hologram using a hologram recording material, the hologram recording material is exposed to light, and the hologram recording material is exposed to light. And / or heat is applied to the volume phase hologram.

【0010】以下、詳細にわたって本発明を説明する。The present invention will be described in detail below.

【0011】先ず、本発明で使用されるビニルモノマー
の単一重合体または2成分以上のビニルモノマーの共重
合体である高分子化合物(A)を例示する。この様なビ
ニルモノマーの重合体としては、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、t
ert−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル、ノニル、ドデシル、2−メチルブ
チル、3−メチルブチル、2−エチルブチル、1,3−
ジメチルブチル、2−エチルヘキシル、2−メチルペン
チル、シクロヘキシル、アダマンチル、イソボルニル、
ジシクロペンタニル、テトラヒドロフルフリールなどの
鎖状、分枝状及び環状アルキルの(メタ)アクリル酸エ
ステルモノマーの重合体、2−ヒドロキシエチル、2−
ヒドロキシプロピル、4−ヒドロキシブチル、グリセロ
ール、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル、2−
(メタ)アクリロイルオキシエチル−2’−ヒドロキシ
プロピルフタレートなどの水酸基を有する(メタ)アク
リル酸エステルモノマーの重合体、フェニル、4−メト
キシカルボニルフェニル、4−エトキシカルボニルフェ
ニル、4−ブトキシカルボニルフェニル、4−tert
−ブチルフェニル、ベンジル、4−フェニルエチル、4
−フェノキシジエチレングルコール、4−フェノキシテ
トラエチレングリコール、4−フェノキシヘキサエチレ
ングリコール、4−ビフェニリルなどの芳香環を含有す
る(メタ)アクリル酸エステルモノマーの重合体、グリ
シジル(メタ)アクリレートなどのエポキシ基を含有す
る(メタ)アクリル酸エステルモノマーの重合体、フェ
ロセニルメチル、フェロセニルエチルなどの鉄原子を含
有する(メタ)アクリル酸エステルモノマーの重合体、
トリフルオロエチル、テトラフルオロプロピル、ヘプタ
デカフルオロデシル、オクタフルオロペンチル、2,3
−ジブロモプロピルなどのハロゲン原子を含有する(メ
タ)アクリル酸エステルの重合体、トリメトキシシリル
プロピルなどのアルコキシシラン基を含有する(メタ)
アクリル酸エステルの重合体、N,N−ジメチルアミノ
エチル、N,N−ジエチルアミノエチル、t−ブチルア
ミノエチルなどのアミノ基を含有する(メタ)アクリル
酸エステルモノマーの重合体、(メタ)アクリル酸、イ
タコン酸、マレイン酸、p−ビニル安息香酸、2−(メ
タ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−(メタ)
アクリロイルオキシエチルフタル酸、2−(メタ)アク
リロイルオキシプロピルフタル酸、2−(メタ)アクリ
ロイルオキシプロピルテトラヒドロフタル酸、2−(メ
タ)アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロフタル酸
などのカルボキシル基を含有するビニルモノマーの重合
体、エチレンオキサイド変性リン酸(メタ)アクリレー
トなどのリン酸基含有(メタ)アクリル酸エステルモノ
マーの重合体、アクリルアミド、N−ブチルアクリルア
ミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、アクリロニト
リル、スチレン、4−ヒドロキシスチレン、4−ヒドロ
キシメチルスチレン、4−ブロモスチレン、クロロメチ
ルスチレン、パーフルオロスチレン、α−メチルスチレ
ン、ビニルトルエン、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビ
ニリデン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾ
ール、ビニルピリジン、ビニルピロリジン、ビニルブチ
ラール、ビニルアセタールなどのビニルモノマーの重合
体が挙げられ、またこれらの2成分以上の共重合体が挙
げられる。
First, a polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more components of vinyl monomers used in the present invention is exemplified. Polymers of such vinyl monomers include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, t
ert-butyl, pentyl, neopentyl, hexyl,
Heptyl, octyl, nonyl, dodecyl, 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, 2-ethylbutyl, 1,3-
Dimethylbutyl, 2-ethylhexyl, 2-methylpentyl, cyclohexyl, adamantyl, isobornyl,
Polymers of chain, branched and cyclic alkyl (meth) acrylic acid ester monomers such as dicyclopentanyl and tetrahydrofurfuryl, 2-hydroxyethyl, 2-
Hydroxypropyl, 4-hydroxybutyl, glycerol, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl, 2-
Polymers of (meth) acrylic acid ester monomer having a hydroxyl group such as (meth) acryloyloxyethyl-2′-hydroxypropyl phthalate, phenyl, 4-methoxycarbonylphenyl, 4-ethoxycarbonylphenyl, 4-butoxycarbonylphenyl, 4 -Tert
-Butylphenyl, benzyl, 4-phenylethyl, 4
-Polymer of (meth) acrylic acid ester monomer containing aromatic ring such as phenoxydiethylene glycol, 4-phenoxytetraethylene glycol, 4-phenoxyhexaethylene glycol, 4-biphenylyl, epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate A polymer of a (meth) acrylic acid ester monomer containing, a polymer of a (meth) acrylic acid ester monomer containing an iron atom such as ferrocenylmethyl and ferrocenylethyl,
Trifluoroethyl, tetrafluoropropyl, heptadecafluorodecyl, octafluoropentyl, 2,3
-A polymer of a (meth) acrylic acid ester containing a halogen atom such as dibromopropyl, or an alkoxysilane group such as trimethoxysilylpropyl (meth)
Polymer of acrylic ester, polymer of (meth) acrylic ester monomer containing amino group such as N, N-dimethylaminoethyl, N, N-diethylaminoethyl, t-butylaminoethyl, (meth) acrylic acid , Itaconic acid, maleic acid, p-vinylbenzoic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylsuccinic acid, 2- (meth)
Vinyl monomers containing a carboxyl group such as acryloyloxyethyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyl tetrahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyl hexahydrophthalic acid Polymer of a phosphoric acid group-containing (meth) acrylic acid ester monomer such as ethylene oxide-modified phosphoric acid (meth) acrylate, acrylamide, N-butylacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, acrylonitrile, styrene, 4- Hydroxystyrene, 4-hydroxymethylstyrene, 4-bromostyrene, chloromethylstyrene, perfluorostyrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, vinyl acetate, vinyl chloride, vinylidene chloride, N-bi Rupiroridon, N- vinyl carbazole, vinyl pyridine, vinyl pyrrolidine, vinyl butyral, polymers of vinyl monomers such as vinyl acetal and the like, also two or more components of the copolymer thereof.

【0012】次に、本発明において使用されるビニルモ
ノマーの単一重合体または2成分以上のビニルモノマー
の共重合体で架橋可能な(メタ)アクリロイル基を有す
る高分子化合物としては、前記ビニルモノマーの重合体
の内、水酸基、カルボキシル基、リン酸基、クロロメチ
ル基あるいはエポキシ基などの官能基を有するビニルモ
ノマーを単位として含む高分子化合物に、(メタ)アク
リロイル基を導入することによって得られる。この様な
反応性高分子は、例えば、機能性高分子シリーズ「反応
性高分子」,岩倉義男,栗田恵輔著,講談社サイエンテ
ィフィク(1977年)、あるいは機能性シリーズ「感
光性高分子」,永末元太郎,乾英夫著,講談社サイエン
ティフィク(1977年)に記載されている方法にて合
成することができる。
Next, as the polymer compound having a (meth) acryloyl group which is crosslinkable with a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more components of vinyl monomers used in the present invention, the above-mentioned vinyl monomers can be used. It can be obtained by introducing a (meth) acryloyl group into a polymer compound containing, as a unit, a vinyl monomer having a functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a chloromethyl group or an epoxy group among the polymers. Such reactive polymers include, for example, functional polymer series "reactive polymer", Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita, Kodansha Scientific (1977), or functional series "photosensitive polymer", It can be synthesized by the method described by Gentaro Nagasue and Hideo Inui, Kodansha Scientific (1977).

【0013】本発明で使用の重合性エチレン性不飽和結
合を少なくとも1個以上有する化合物(B)としては、
単官能または多官能ビニルモノマーの他にオリゴマーを
含むものであり、さらに高分子量化合物であってもよ
い。次にこれらの化合物を例示する。
The compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond used in the present invention is
It contains an oligomer in addition to a monofunctional or polyfunctional vinyl monomer, and may be a high molecular weight compound. Next, these compounds will be exemplified.

【0014】(メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイ
ン酸などの不飽和酸化合物、メチル(メタ)アクリレー
ト、エチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メ
タ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート
などの(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合物、テ
トラヒドロフリル(メタ)アクリレート、グリシジル
(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、
ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、モルホリ
ノエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミ
ド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、2−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、N−ビニルカルバゾー
ル等のビニルモノマー、さらには、脂肪族ポリヒドロキ
シ化合物、例えば、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、テトラエチレング
リコール、ネオペンチルグリコール、1,3−プロパン
ジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタン
ジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,10−デカ
ンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリ
トール、ジペンタエリスリトール、ネオペンチルグリコ
ール、ソルビトール、マンニトールなどのジあるいはポ
リ(メタ)アクリルエステル類、トリフルオロエチル
(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メ
タ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メタ)ア
クリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレ
ート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレート
などのフッ素原子含有(メタ)アクリレート化合物、
2,3−ジブロモプロピル(メタ)アクリレート、トリ
ブロモフェノールトリエチレンオキシド(メタ)アクリ
レート、p−ブロモフェノキシエチル(メタ)アクレー
ト、テトラブロモビスフェノールAエチ(プロピ)レン
オキシド変性ジ(メタ)アクリレートなどの臭素原子含
有(メタ)アクリレート化合物、フェニル(メタ)アク
リレート、4−メトキシカルボニルフェニル(メタ)ア
クリレート、4−エトキシカルボニルフェニル(メタ)
アクリレート、4−ブトキシカルボニルフェニル(メ
タ)アクリレート、4−tert−ブチルフェニル(メ
タ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、4
−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、4−フェニ
ルエチル(メタ)アクリレート、4−フェノキシジエチ
レングルコール(メタ)アクリレート、4−フェノキシ
テトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、4−
フェノキシヘキサエチレングリコール(メタ)アクリレ
ート、4−ビフェニリル(メタ)アクリレート、フタル
酸エピクロルヒドリン変性ジ(メタ)アクリレートなど
の芳香環を含有する(メタ)アクリレート化合物、芳香
族ポリヒドロキシ化合物、例えば、ヒドロキノン、レゾ
ルシン、カテコール、ピロガロール等のジあるいはポリ
(メタ)アクリレート化合物、イソシアヌル酸のエチ
(プロピ)レンオキシド変性(メタ)アクリレート、ビ
スフェノールAエチ(プロピ)レンオキシド変性ジ(メ
タ)アクリレート、(メタ)アクリル化エポシキ樹脂、
フェロセニルメチル(メタ)アクリレート、フェロセニ
ルエチル(メタ)アクリレート、亜鉛ジ(メタ)アクリ
レートなどの重金属原子含有(メタ)アクリレート化合
物などが挙げられる。
Unsaturated acid compounds such as (meth) acrylic acid, itaconic acid and maleic acid, (meth) acrylic compounds such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate. Acid alkyl ester compound, tetrahydrofuryl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate,
Vinyl monomers such as dimethylaminoethyl (meth) acrylate, morpholinoethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, N-vinylcarbazole, and aliphatic poly Hydroxy compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, neopentyl glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, Di- or poly (meth) acryl such as 1,10-decanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, neopentyl glycol, sorbitol, mannitol, etc. Fluorine atom-containing (meta) such as esters, trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, hexafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) acrylate ) Acrylate compounds,
Bromine atom such as 2,3-dibromopropyl (meth) acrylate, tribromophenoltriethylene oxide (meth) acrylate, p-bromophenoxyethyl (meth) acrylate, tetrabromobisphenol A ethi (propyrene) oxide-modified di (meth) acrylate Containing (meth) acrylate compound, phenyl (meth) acrylate, 4-methoxycarbonylphenyl (meth) acrylate, 4-ethoxycarbonylphenyl (meth)
Acrylate, 4-butoxycarbonylphenyl (meth) acrylate, 4-tert-butylphenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 4
-Phenoxyethyl (meth) acrylate, 4-phenylethyl (meth) acrylate, 4-phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, 4-phenoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, 4-
Aromatic ring-containing (meth) acrylate compounds such as phenoxyhexaethylene glycol (meth) acrylate, 4-biphenylyl (meth) acrylate, epichlorohydrin phthalate-modified di (meth) acrylate, aromatic polyhydroxy compounds such as hydroquinone, resorcin , Catechol, pyrogallol, and other di- or poly (meth) acrylate compounds, isocyanuric acid eth (propylene) oxide-modified (meth) acrylate, bisphenol A eth (propylene) oxide-modified di (meth) acrylate, (meth) acrylated epoxy resin ,
Examples thereof include heavy metal atom-containing (meth) acrylate compounds such as ferrocenylmethyl (meth) acrylate, ferrocenylethyl (meth) acrylate, and zinc di (meth) acrylate.

【0015】本発明で使用のピリリウム塩またはチオピ
リリウム塩誘導体(C)は、一般式(1)
The pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative (C) used in the present invention has the general formula (1)

【0016】一般式(1)General formula (1)

【化1】 [Chemical 1]

【0017】(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R
5 は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置換基
を有しても良いアルキル基、置換基を有しても良いハロ
アルキル基、置換基を有しても良いエチレニル基、置換
基を有しても良いスチリル基、置換基を有しても良いア
ルコキシ基、置換基を有しても良いアリール基、ニトロ
基、置換基を有しても良いアミノ基、ヒドロキシ基、置
換基を有していも良い複素環基より選ばれる基を示す。
1 とR2 、R2 とR3 、R3 とR4 、R4 とR5 は、
それぞれ一体となって、芳香環または複素環を形成して
も良い。また、Yは酸素原子または硫黄原子を示し、X
は、ハロゲン、BF4 、PF6 、AsF6 、ClO4
SbF6 、CF3 SO3 、CH3 SO3 、またはCH3
6 4 SO3を示す。)で表される。
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R
5 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group which may have a substituent, a haloalkyl group which may have a substituent, an ethylenyl group which may have a substituent, or a substituent. A styryl group, an alkoxy group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a nitro group, an amino group which may have a substituent, a hydroxy group, which has a substituent A group selected from the most suitable heterocyclic groups is shown.
R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 4 and R 5 are
They may be combined together to form an aromatic ring or a heterocycle. Y represents an oxygen atom or a sulfur atom, and X
Is halogen, BF 4 , PF 6 , AsF 6 , ClO 4 ,
SbF 6 , CF 3 SO 3 , CH 3 SO 3 , or CH 3
Shows the C 6 H 4 SO 3. ).

【0018】一般式(1)で示される具体的な化合物と
しては、2,4,6−トリフェニルピリリウム、2,
4,6−トリス(4−メトキシフェニル)ピリリウム、
2,4,6−トリス(4−ブトキシフェニル)ピリリウ
ム、2,4,6−トリス(4−ジメチルアミノフェニ
ル)ピリリウム、2,6−ジフェニル−4−(4−メト
キシフェニル)ピリリウム、4−(4−ブトキシフェニ
ル)−2,6−ジフェニルピリリウム、2,6−ビス
(4−メトキシフェニル)−4−フェニルピリリウム、
4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2,6−ジフェ
ニルピリリウム、4−(2,4−ジクロロフェニル)−
2,6−ジフェニルピリリウム、2,6−ジフェニル−
4−(4−エチルフェニル)ピリリウム、2,6−ビス
(4−ブトキシフェニル)−4−(4−メトキシフェニ
ル)ピリリウム、2−(4−エトキシフェニル)−4,
6−ジフェニルピリリウム、2−(β,β−ビス(4−
ジメチルアミノフェニル)ビニレン)−4,6−ジフェ
ニルピリリウム、2−(4−ジメチルアミノスチリル)
−4,6−ジフェニルピリリウム、2−(3,4−ジエ
トキシスチリル)−4,6−ジフェニルピリリウム、2
−(4−ジメチルアミノ−β−エチルスチリル)−4,
6−ジフェニルピリリウム、4,6−ビス(4−ブチル
フェニル)−2−(4−ニトロフェニル)ピリリウム、
2,6−ビス(4−メトキシフェニル)−4−メチルピ
リリウム、4,6−ビス(4−ジメチルアミノフェニル
−β−メトキシスチリル)−2−ヒドロキシピリリウ
ム、4−(4−メトキシフェニル)−2−ニトロ−6−
フェニルピリリウム、4,6−ビス(4−ジメチルアミ
ノスチリル)−2−ニトロピリリウム、4,6−ビス
(4−ブトキシスチリル)−2−アミノピリリウム、2
−メトキシ−4−ナフチル−6−スチリルピリリウム、
2,4,6−トリフェニルチオピリリウム、2,4,6
−トリス(4−メトキシフェニル)チオピリリウム、
2,4,6−トリス(4−ブトキシフェニル)チオピリ
リウム、2,4,6−トリス(4−ジメチルアミノフェ
ニル)チオピリリウム、2,6−ジフェニル−4−(4
−メトキシフェニル)チオピリリウム、4−(4−ブト
キシフェニル)−2,6−ジフェニルチオピリリウム、
2,6−ビス(4−メトキシフェニル)−4−フェニル
チオピリリウム、4−(4−ジメチルアミノフェニル)
−2,6−ジフェニルチオピリリウム、4−(2,4−
ジクロロフェニル)−2,6−ジフェニルチオピリリウ
ム、2,6−ジフェニル−4−(4−エチルフェニル)
チオピリリウム、2,6−ビス(4−ブトキシフェニ
ル)−4−(4−メトキシフェニル)チオピリリウム、
2−(4−エトキシフェニル)−4,6−ジフェニルチ
オピリリウム、2−(β,β−ビス(4−ジメチルアミ
ノフェニル)ビニレン)−4,6−ジフェニルチオピリ
リウム、2−(4−ジメチルアミノスチリル)−4,6
−ジフェニルチオピリリウム、2−(3,4−ジエトキ
シスチリル)−4,6−ジフェニルチオピリリウム、2
−(4−ジメチルアミノ−β−エチルスチリル)−4,
6−ジフェニルチオピリリウム、4,6−ビス(4−ブ
チルフェニル)−2−(4−ニトロフェニル)チオピリ
リウム、2,6−ビス(4−メトキシフェニル)−4−
メチルチオピリリウム、4,6−ビス(4−ジメチルア
ミノフェニル−β−メトキシスチリル)−2−ヒドロキ
シチオピリリウム、4−(4−メトキシフェニル)−2
−ニトロ−6−フェニルチオピリリウム、4,6−ビス
(4−ジメチルアミノスチリル)−2−ニトロチオピリ
リウム、4,6−ビス(4−ブトキシスチリル)−2−
アミノチオピリリウム、2−メトキシ−4−ナフチル−
6−スチリルチオピリリウムなどの塩素塩、臭素塩、ヨ
ウ素塩、テトラフルオロボレート塩、過塩素酸塩、ヘキ
サフルオロアンチモネート塩、ヘキサフルオロホスフェ
ート塩、ヘキサフルオロアルセネート塩などの他、「ケ
ミッシュ・ベリヒテ(Chem.Ber.)」、第23
09頁〜2320頁(1959年)記載、あるいは、
「ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー
(J.Org.Chem.)」第36巻、第600頁〜
602頁(1971年)記載の化合物を例示することが
できる。
Specific compounds represented by the general formula (1) include 2,4,6-triphenylpyrylium, 2,
4,6-tris (4-methoxyphenyl) pyrylium,
2,4,6-Tris (4-butoxyphenyl) pyrylium, 2,4,6-tris (4-dimethylaminophenyl) pyrylium, 2,6-diphenyl-4- (4-methoxyphenyl) pyrylium, 4- ( 4-butoxyphenyl) -2,6-diphenylpyrylium, 2,6-bis (4-methoxyphenyl) -4-phenylpyrylium,
4- (4-dimethylaminophenyl) -2,6-diphenylpyrylium, 4- (2,4-dichlorophenyl)-
2,6-diphenylpyrylium, 2,6-diphenyl-
4- (4-ethylphenyl) pyrylium, 2,6-bis (4-butoxyphenyl) -4- (4-methoxyphenyl) pyrylium, 2- (4-ethoxyphenyl) -4,
6-diphenylpyrylium, 2- (β, β-bis (4-
Dimethylaminophenyl) vinylene) -4,6-diphenylpyrylium, 2- (4-dimethylaminostyryl)
-4,6-diphenylpyrylium, 2- (3,4-diethoxystyryl) -4,6-diphenylpyrylium, 2
-(4-dimethylamino-β-ethylstyryl) -4,
6-diphenylpyrylium, 4,6-bis (4-butylphenyl) -2- (4-nitrophenyl) pyrylium,
2,6-bis (4-methoxyphenyl) -4-methylpyrylium, 4,6-bis (4-dimethylaminophenyl-β-methoxystyryl) -2-hydroxypyrylium, 4- (4-methoxyphenyl) -2-Nitro-6-
Phenylpyrylium, 4,6-bis (4-dimethylaminostyryl) -2-nitropyrylium, 4,6-bis (4-butoxystyryl) -2-aminopyrylium, 2
-Methoxy-4-naphthyl-6-styrylpyrylium,
2,4,6-triphenylthiopyrylium, 2,4,6
-Tris (4-methoxyphenyl) thiopyrylium,
2,4,6-Tris (4-butoxyphenyl) thiopyrylium, 2,4,6-tris (4-dimethylaminophenyl) thiopyrylium, 2,6-diphenyl-4- (4
-Methoxyphenyl) thiopyrylium, 4- (4-butoxyphenyl) -2,6-diphenylthiopyrylium,
2,6-bis (4-methoxyphenyl) -4-phenylthiopyrylium, 4- (4-dimethylaminophenyl)
-2,6-diphenylthiopyrylium, 4- (2,4-
Dichlorophenyl) -2,6-diphenylthiopyrylium, 2,6-diphenyl-4- (4-ethylphenyl)
Thiopyrylium, 2,6-bis (4-butoxyphenyl) -4- (4-methoxyphenyl) thiopyrylium,
2- (4-ethoxyphenyl) -4,6-diphenylthiopyrylium, 2- (β, β-bis (4-dimethylaminophenyl) vinylene) -4,6-diphenylthiopyrylium, 2- (4- Dimethylaminostyryl) -4,6
-Diphenylthiopyrylium, 2- (3,4-diethoxystyryl) -4,6-diphenylthiopyrylium, 2
-(4-dimethylamino-β-ethylstyryl) -4,
6-diphenylthiopyrylium, 4,6-bis (4-butylphenyl) -2- (4-nitrophenyl) thiopyrylium, 2,6-bis (4-methoxyphenyl) -4-
Methylthiopyrylium, 4,6-bis (4-dimethylaminophenyl-β-methoxystyryl) -2-hydroxythiopyrylium, 4- (4-methoxyphenyl) -2
-Nitro-6-phenylthiopyrylium, 4,6-bis (4-dimethylaminostyryl) -2-nitrothiopyrylium, 4,6-bis (4-butoxystyryl) -2-
Aminothiopyrylium, 2-methoxy-4-naphthyl-
In addition to chlorine salts such as 6-styrylthiopyrylium, bromine salts, iodine salts, tetrafluoroborate salts, perchlorates, hexafluoroantimonate salts, hexafluorophosphate salts, hexafluoroarsenate salts, etc. Chem. Ber. ”, No. 23
09 to 2320 (1959), or
"Journal of Organic Chemistry", Vol. 36, page 600-
The compounds described on page 602 (1971) can be exemplified.

【0019】次に、本発明で使用のスルホニウム有機ホ
ウ素錯体(D)は、一般式(2)
Next, the sulfonium organic boron complex (D) used in the present invention is represented by the general formula (2)

【0020】一般式(2)General formula (2)

【化2】 (式中R6 、R7 およびR8 はそれぞれ独立に、置換基
を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリ
ール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を
有してもよいアルキレン基、置換基を有してもよい脂環
基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有し
てもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアル
キルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置
換基を有してもよいアミノ基より選ばれる基を、R9
酸素原子もしくは孤立電子対を、R10、R11、R12およ
びR13はそれぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキ
ル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有し
てもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニ
ル基より選ばれる基を示し、R6 、R7 およびR8 はそ
の2個以上の基が結合している環状構造であってもよ
く、R6 、R7 およびR8 の二つ以上が同時に置換基を
有してもよいアリール基となることはなく、R10
11、R12およびR13全てが同時に置換基を有してもよ
いアリール基となることはない。)で表されるスルホニ
ウム有機ホウ素錯体またはオキソスルホニウム有機ホウ
素錯体から選ばれるスルホニウム有機ホウ素錯体を示
す。一般式(2)で表されるスルホニウム有機ホウ素錯
体は、特願平4−56831号にて記載の方法に従い合
成することができる。
[Chemical 2] (In the formula, R 6 , R 7 and R 8 are each independently an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, a substituent An alkylene group which may have a group, an alicyclic group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, and a substituent A group selected from an optionally substituted alkylthio group, an optionally substituted arylthio group, and an optionally substituted amino group, R 9 is an oxygen atom or a lone electron pair, R 10 , R 11 , R 12 and R 13 are each independently an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, or a substituent which may have a substituent. It represents a group selected from an alkynyl group, R 6, R 7 and R 8 are two or more groups of binding To well be a cyclic structure, it never becomes also an aryl group having two or more simultaneously substituents R 6, R 7 and R 8, R 10,
Not all R 11 , R 12 and R 13 are aryl groups which may have a substituent at the same time. ) Represents a sulfonium organoboron complex selected from a sulfonium organoboron complex or an oxosulfonium organoboron complex. The sulfonium organic boron complex represented by the general formula (2) can be synthesized according to the method described in Japanese Patent Application No. 4-56831.

【0021】一般式(2)におけるスルホニウムまたは
オキソスルホニウムカチオン上の置換基R6 、R7 およ
びR8 において、置換基を有してもよいアルキル基とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、te
rt−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、アリル
基、ベンジル基、アセトニル基、フェナシル基、サリチ
ル基、アニシル基、シアノメチル基、クロロメチル基、
ブロモメチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキ
シカルボニルメチル基、メンチル基、ピナニル基等が、
置換基を有してもよいアリール基としては、フェニル
基、p−トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、p−メトキシフェニル基、ビフェニリル基、ナフチ
ル基、アンスリル基、フェナントリル基、p−シアノフ
ェニル基、2,4−ビス(トリフルオロメチル)フェニ
ル基、p−フルオロフェニル基、p−クロロフェニル
基、p−ジメチルアミノフェニル基、p−フェニルチオ
フェニル基等が、置換基を有してもよいアルケニル基と
しては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル
基、3,3−ジシアノ−1−プロペニル基等が、置換基
を有してもよい脂環基としては、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、1−シ
クロヘキセニル基等が、置換基を有してもよいアルコキ
シル基としてはメトキシ基、tert−ブトキシ基、ベ
ンジルオキシ基等が、置換基を有してもよいアリールオ
キシ基としては、フェノキシ基、p−トリルオキシ基、
p−フルオロフェノキシ基、p−ニトロフェノキシ基等
が、置換基を有してもよいアルキルチオ基としては、メ
チルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等が、置換基
を有してもよいアリールチオ基としては、フェニルチオ
基、p−トリルチオ基、p−シアノフェニルチオ基等
が、置換基を有してもよいアミノ基としては、アミノ
基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、シクロヘキシ
ルアミノ基、アニリノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基
等が挙げられ、さらにR6 、R7 およびR8 はその2個
以上の基が結合している環状構造であってもよく、例え
ば、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1,4−ジ
クロロテトラメチレン基等の置換基を有してもよいアル
キレン基、エチレンジオキシ基、ジエチレンジオキシ
基、アジポイル基、エチレンジチオ基等が挙げられるが
本発明はこれらに限定されるものではない。
In the substituents R 6 , R 7 and R 8 on the sulfonium or oxosulfonium cation in the general formula (2), the alkyl group which may have a substituent is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, te
rt-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, allyl group, benzyl group, acetonyl group, phenacyl group, salicyl group, anisyl group, cyanomethyl group, chloromethyl group,
Bromomethyl group, methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, menthyl group, pinanyl group, etc.
Examples of the aryl group which may have a substituent include a phenyl group, p-tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, p-methoxyphenyl group, biphenylyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group, p- Cyanophenyl group, 2,4-bis (trifluoromethyl) phenyl group, p-fluorophenyl group, p-chlorophenyl group, p-dimethylaminophenyl group, p-phenylthiophenyl group, etc. have a substituent As the alkenyl group which may also be a vinyl group, a 1-propenyl group, a 1-butenyl group, a 3,3-dicyano-1-propenyl group, or the like, an alicyclic group which may have a substituent is a cyclopentyl group, A cyclohexyl group, a norbornyl group, a bornyl group, a 1-cyclohexenyl group and the like are methoxy as an alkoxyl group which may have a substituent. , Tert- butoxy group, a benzyloxy group, the aryloxy group which may have a substituent, a phenoxy group, p- tolyloxy group,
P-fluorophenoxy group, p-nitrophenoxy group and the like are alkylthio groups which may have a substituent, methylthio group, ethylthio group, butylthio group and the like are arylthio groups which may have a substituent. , Phenylthio group, p-tolylthio group, p-cyanophenylthio group and the like, the amino group which may have a substituent is, for example, amino group, methylamino group, dimethylamino group, cyclohexylamino group, anilino group, piperidino group. Group, morpholino group and the like, and R 6 , R 7 and R 8 may have a cyclic structure in which two or more groups are bonded, and examples thereof include a tetramethylene group, a pentamethylene group, 1, Alkylene group which may have a substituent such as 4-dichlorotetramethylene group, ethylenedioxy group, diethylenedioxy group, adipoyl group and ethyle The present invention is not limited to these.

【0022】また、一般式(2)における有機ホウ素ア
ニオン上の置換基R10、R11、R12およびR13におい
て、置換基を有してもよいアルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、オクタデシル基、アリル基、ベンジル
基等が、置換基を有してもよいアリール基としては、フ
ェニル基、p−トリル基、キシリル基、メシチル基、ク
メニル基、p−メトキシフェニル基、ナフチル基、2,
4−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、p−フル
オロフェニル基、p−クロロフェニル基、p−ブロモフ
ェニル基等が、置換基を有してもよいアルケニル基とし
ては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基等
が、置換基を有してもよいアルキニル基としては、エテ
ニル基、2−tert−ブチルエテニル基、2−フェニ
ルエテニル基等が挙げられるが本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
In the substituents R 10 , R 11 , R 12 and R 13 on the organic boron anion in the general formula (2), the alkyl group which may have a substituent is a methyl group, an ethyl group, Propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, allyl group, benzyl group, etc. Examples of the aryl group which may have a phenyl group, p-tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, p-methoxyphenyl group, naphthyl group, 2,
4-bis (trifluoromethyl) phenyl group, p-fluorophenyl group, p-chlorophenyl group, p-bromophenyl group and the like, the alkenyl group which may have a substituent is a vinyl group or 1-propenyl group. Examples of the alkynyl group that may have a substituent include a 1-butenyl group and the like, but include an ethenyl group, a 2-tert-butylethenyl group, a 2-phenylethenyl group, and the like, but the present invention is not limited thereto. Not a thing.

【0023】一般式(2)において特に好ましい構造と
しては、R6 、R7 およびR8 のうち少なくとも1つ
が、置換基を有してもよいアリル基、置換基を有しても
よいベンジル基、置換基を有しても良いビニル基、もし
くは置換基を有してもよいフェナシル基のいずれかであ
り、R10が置換基を有してもよいアルキル基であり、R
11、R12およびR13が置換基を有してもよいアリール基
である構造である。
In the general formula (2), as a particularly preferred structure, at least one of R 6 , R 7 and R 8 is an allyl group which may have a substituent or a benzyl group which may have a substituent. , A vinyl group which may have a substituent, or a phenacyl group which may have a substituent, and R 10 is an alkyl group which may have a substituent;
A structure in which 11 , R 12 and R 13 are aryl groups which may have a substituent.

【0024】この理由として、一般式(2)で示される
スルホニウム有機ホウ素錯体が、ピリリウム塩またはチ
オピリリウム塩誘導体(C)によって効果的に光増感分
解されることが要求されるが、R6 、R7 およびR8
内、少なくとも一つに、置換基を有してもよいアリル
基、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有して
もよいビニル基、もしくは置換基を有してもよいフェナ
シル基を導入することによって、一般式(2)で示され
る重合開始剤の電子受容性が高まり、且つ、これらの基
が優先的且つ効率的にスルホニウムまたはオキソスルホ
ニウムカチオンから分解する性質を帯びることによっ
て、フリーラジカルの発生効率が高まると考えられ、そ
の結果感度の向上を図ることが可能となるからである。
[0024] The reason, sulfonium organic boron complex represented by the general formula (2) is, but effectively is required to be degraded photosensitized by pyrylium salt or thiopyrylium salt derivatives (C), R 6, At least one of R 7 and R 8 is an aryl group which may have a substituent, a benzyl group which may have a substituent, a vinyl group which may have a substituent, or a substituent. By introducing the phenacyl group which may be contained, the electron accepting property of the polymerization initiator represented by the general formula (2) is enhanced, and these groups are preferentially and efficiently decomposed from the sulfonium or oxosulfonium cation. This is because it is considered that the efficiency of generating free radicals is increased by imparting such a property, and as a result, the sensitivity can be improved.

【0025】具体的な化合物(a)ないし(g)を次に
示す。
Specific compounds (a) to (g) are shown below.

【0026】化合物(a)Compound (a)

【化3】 [Chemical 3]

【0027】化合物(b)Compound (b)

【化4】 [Chemical 4]

【0028】化合物(c)Compound (c)

【化5】 [Chemical 5]

【0029】化合物(d)Compound (d)

【化6】 [Chemical 6]

【0030】化合物(e)Compound (e)

【化7】 [Chemical 7]

【0031】化合物(f)Compound (f)

【化8】 [Chemical 8]

【0032】化合物(g)Compound (g)

【化9】 [Chemical 9]

【0033】本発明で使用のホログラム記録用感光材料
は、ビニルモノマーの単一重合体または2成分以上のビ
ニルモノマーの共重合体である高分子化合物(A)、重
合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有
する化合物(B)、およびピリリウム塩またはチオピリ
リウム塩誘導体(C)とスルホニウム有機ホウ素錯体
(D)からなる光重合開始剤を、任意の濃度で適当な溶
媒中に溶解させ、得られた溶液をガラス板等の基板上に
皮膜状に塗布して得ることができるが、ビニルモノマー
の単一重合体または2成分以上のビニルモノマーの共重
合体である高分子化合物(A)の屈折率と、重合可能な
エチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合
物(B)の屈折率との屈折率差が0.005以上である
ことが好ましく、さらに屈折率差が0.02以上である
ことがより好ましい。上記各成分の配合比に特定の制限
はないが、照射用レーザー光の透過率が1%以上となる
ようにピリリウム塩またはチオピリリウム塩誘導体
(C)の濃度を調製することが好ましい。さらに必要に
応じて、各種添加剤、例えば可塑剤、連鎖移動剤、酸化
防止剤、熱重合禁止剤、レベリング剤等を添加してもよ
い。
The hologram recording light-sensitive material used in the present invention comprises a polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more vinyl monomers, and a polymerizable ethylenically unsaturated bond. A compound (B) having at least one compound, and a photopolymerization initiator comprising a pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative (C) and a sulfonium organic boron complex (D) are dissolved in a suitable solvent at an arbitrary concentration to obtain a Can be obtained by coating the above solution on a substrate such as a glass plate in a film form, and the refractive index of the polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of vinyl monomers of two or more components. And the refractive index difference between the compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond and the refractive index is 0.005 or more, Refractive index difference is more preferably at least 0.02. There is no particular limitation on the blending ratio of the above components, but it is preferable to adjust the concentration of the pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative (C) so that the transmittance of the laser light for irradiation is 1% or more. Further, if necessary, various additives such as a plasticizer, a chain transfer agent, an antioxidant, a thermal polymerization inhibitor, a leveling agent, etc. may be added.

【0034】ビニルモノマーの単一重合体または2成分
以上のビニルモノマーの共重合体である高分子化合物
(A)の全感光材料中に占める量は、高回折効率を有す
るホログラム記録を行なうためには、10〜90重量
%、好ましくは、30〜70重量%である。重合可能な
エチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合
物(B)の使用量は、支持体であるビニルモノマーの単
一重合体または2成分以上のビニルモノマーの共重合体
である高分子化合物(A)100重量部に対し10〜2
00重量部、好ましくは40〜150重量部である。上
記範囲を逸脱すると高い回折効率の維持および感度特性
の向上が困難となるので好ましくない。
The amount of the polymer compound (A), which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of vinyl monomers of two or more components, in the entire light-sensitive material is required to perform hologram recording having high diffraction efficiency. 10 to 90% by weight, preferably 30 to 70% by weight. The amount of the compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond used is a polymer compound which is a homopolymer of a vinyl monomer as a support or a copolymer of two or more vinyl monomers ( A) 10-2 for 100 parts by weight
00 parts by weight, preferably 40 to 150 parts by weight. If it deviates from the above range, it becomes difficult to maintain high diffraction efficiency and improve sensitivity characteristics, which is not preferable.

【0035】本発明で使用の光重合開始剤のうち、一般
式(1)のピリリウム塩またはチオピリリウム塩誘導体
(C)は、ビニルモノマーの単一重合体または2成分以
上のビニルモノマーの共重合体である高分子化合物
(A)100重量部に対し、0.1〜30重量部、好ま
しくは、0.5〜15重量部の範囲で使用される。使用
量は感光層膜厚と該膜厚の光学密度によって制限を受け
る。即ち、光学密度が2を越さない範囲で使用すること
が好ましい。またスルホニウム有機ホウ素錯体(D)
は、ビニルモノマーの単一重合体または2成分以上のビ
ニルモノマーの共重合体である高分子化合物(A)10
0重量部に対し、0.1〜20重量部、好ましくは1〜
15重量部の範囲で使用される。
Among the photopolymerization initiators used in the present invention, the pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative (C) of the general formula (1) is a homopolymer of a vinyl monomer or a copolymer of two or more vinyl monomers. It is used in an amount of 0.1 to 30 parts by weight, preferably 0.5 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymer compound (A). The amount used is limited by the film thickness of the photosensitive layer and the optical density of the film thickness. That is, it is preferably used in a range where the optical density does not exceed 2. In addition, sulfonium organic boron complex (D)
Is a high molecular compound (A) 10 which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more vinyl monomers.
0.1 to 20 parts by weight, preferably 1 to 0 parts by weight
Used in the range of 15 parts by weight.

【0036】上記のような組成比のホログラム記録感光
材料を適当な溶媒に溶解させた感光液をスピンコータ
ー、ロールコーター、ナイフコーターまたはバーコータ
ーなどを用いることによって、直接ガラス板、プラスチ
ックフィルムなどの基材上に感光膜を形成する。さら
に、その上に、酸素遮断のための保護層を形成してもよ
い。保護層は、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、ポリビニルアルコールまたはポリエチ
レンテレフタレートなどのプラスチック製のフィルムま
たは板を貼合わせるか、前記ポリマーの溶液を塗工して
もよい。また、ガラス板を貼合わせてもよい。また、保
護層と感光膜の間(および)または、基材と感光膜の間
に、気密性を高めるために粘着剤または液状物質を存在
させてもよい。
By using a spin coater, a roll coater, a knife coater, a bar coater, or the like, a photosensitive solution prepared by dissolving the hologram recording photosensitive material having the above composition ratio in an appropriate solvent is directly applied to a glass plate, a plastic film, or the like. A photosensitive film is formed on the base material. Further, a protective layer for blocking oxygen may be formed thereon. The protective layer may be formed by laminating a film or plate made of a plastic such as polyolefin, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol or polyethylene terephthalate, or applying a solution of the polymer. Alternatively, a glass plate may be attached. Further, an adhesive or a liquid substance may be present between the protective layer and the photosensitive film (and / or) or between the substrate and the photosensitive film in order to enhance airtightness.

【0037】以上にようにして得られたホログラム記録
感光材料によって形成された感光板またはフィルムは、
振動の影響を受けないようホルダーに固定したのち、H
e−Cdレーザー、Arイオンレーザー、He−Neレ
ーザー、Krイオンレーザー、ルビーレーザーなどの可
視光レーザーを照射し体積位相型ホログラム記録を行な
う。図1に光学系の一例を示す。
The photosensitive plate or film formed of the hologram recording photosensitive material obtained as described above is
After fixing to the holder so that it is not affected by vibration, H
Volume phase hologram recording is performed by irradiating a visible light laser such as an e-Cd laser, an Ar ion laser, a He-Ne laser, a Kr ion laser, and a ruby laser. FIG. 1 shows an example of the optical system.

【0038】ホログラム記録された感光板またはフィル
ムは、未露光部分または露光量の少ない部分の定着のた
め、光および(または)熱を加えることを必要とする。
光は、可視光レーザーの他、カーボンアーク、高圧水銀
灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ラン
プ、タングステンランプなどの可視光および(または)
紫外光を用いる。熱は、40℃から160℃の間で加熱
するのが好ましい。ホログラム記録された感光板または
フィルムに、光と熱を同時に加えても、光と熱を別々に
加えてもよい。また、光および(または)熱を加える前
後に、保護膜を剥離する操作をおこなってもよい。
A hologram-recorded photosensitive plate or film requires application of light and / or heat for fixing an unexposed portion or an exposed portion.
In addition to visible light laser, light is visible light such as carbon arc, high pressure mercury lamp, xenon lamp, metal halide lamp, fluorescent lamp, tungsten lamp and / or
Use ultraviolet light. The heat is preferably between 40 ° C and 160 ° C. Light and heat may be applied simultaneously to the hologram-recorded photosensitive plate or film, or light and heat may be applied separately. Further, an operation of peeling the protective film may be performed before and after applying light and / or heat.

【作用】本発明で使用のホログラム記録材料は、ビニル
モノマーの単一重合体または2成分以上のビニルモノマ
ーの共重合体である高分子化合物(A)、重合可能なエ
チレン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合物
(B)、ピリリウム塩またはチオピリリウム塩誘導体
(C)とスルホニウム有機ホウ素錯体(D)との組合せ
を含むことを特徴とする。
The hologram recording material used in the present invention comprises a polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more vinyl monomers, and at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond. It is characterized in that it contains a combination of a compound (B), a pyrylium salt or a thiopyrylium salt derivative (C) and an sulfonium organoboron complex (D) each having an individual compound.

【0039】ホログラム記録において、該光重合性のホ
ログラム記録材料にレーザー光を照射すると、該レーザ
ー照射部位中干渉作用の強い部位においては、重合可能
なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化
合物(B)の重合反応が生じ、その際に、干渉作用の弱
い部位にある重合可能なエチレン性不飽和結合を少なく
とも1個以上有する化合物(B)は、該レーザー光の干
渉作用の強い部位へ拡散し重合する。従って、該レーザ
ー光の干渉作用の強い部位では、干渉作用の弱い部位に
比べ密度が向上し、その結果両部位間に屈折率差が生じ
ホログラムが記録される。この時、ビニルモノマーの単
一重合体または2成分以上のビニルモノマーの共重合体
である高分子化合物(A)の屈折率と、重合可能なエチ
レン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合物
(B)の屈折率との屈折率差が0.005以上である場
合、該レーザー光の干渉作用の強い部位と弱い部位の屈
折率差が大きくなり、回折効率の高い体積位相型ホログ
ラムが製造されたものと推量される。さらにホログラム
記録後、光および(または)熱による後処理工程を加え
ることにより未反応であった重合可能なエチレン性不飽
和結合を少なくとも1個以上有する化合物(B)の重合
が促進され、化学的に安定な且つ経時変化のないホログ
ラムが製造される。この時、ビニルモノマーの単一重合
体または2成分以上のビニルモノマーの共重合体である
高分子化合物(A)が、架橋可能な(メタ)アクリロイ
ル基を有する場合においては、(A)と(B)との間で
架橋反応が生じ、さらに化学的に安定な且つ経時変化の
ないホログラムが製造される。また、この後処理工程、
特に光照射によって、着色成分として残存していたピリ
リウム塩またはチオピリリウム塩誘導体(C)が効果的
に消色され、ホログラムの透明性を向上させることにな
る。
In the hologram recording, when the photopolymerizable hologram recording material is irradiated with laser light, a compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated bond is present in a site having a strong interference action in the laser irradiation site. The polymerization reaction of (B) occurs, and at that time, the compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond at a site having a weak interference action is transferred to a site having a strong interference action of the laser beam. Diffuses and polymerizes. Therefore, in the portion where the interference effect of the laser light is strong, the density is improved as compared with the portion where the interference effect is weak, and as a result, a difference in refractive index occurs between the two portions and a hologram is recorded. At this time, the refractive index of the polymer compound (A), which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more vinyl monomers, and a compound having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond (B When the refractive index difference with the refractive index of (1) is 0.005 or more, the refractive index difference between the site where the laser light has a strong interference action and the site where the laser light has a strong interference action becomes large, and a volume phase hologram with high diffraction efficiency was manufactured. Conjectured to be. Further, after the hologram recording, a post-treatment step with light and / or heat is added to accelerate the polymerization of the unreacted compound (B) having at least one polymerizable ethylenically unsaturated bond, and to chemically react. A hologram that is stable and does not change with time is manufactured. At this time, when the polymer compound (A), which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more components of vinyl monomers, has a crosslinkable (meth) acryloyl group, (A) and (B 2), a cross-linking reaction takes place between the above-mentioned) and a chemically stable hologram that does not change with time. Also, this post-treatment step,
In particular, the light irradiation effectively erases the color of the pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative (C) remaining as a coloring component, and improves the transparency of the hologram.

【0040】[0040]

【実施例】以下実施例に基づき、本発明をより詳細に説
明する。以下の各例において、部は特に断わりのない限
り重量部を表わす。 実施例1〜10 ポリメタクリル酸メチル(PMMA)を100重量部、
フェノキシエチルアクリレート(POEA)を90部、
一般式(1)で表されるピリリウム塩またはチオピリリ
ウム塩誘導体を2部、スルホニウム有機ホウ素錯体(化
合物(a) )を5部、ジオキサンを900部からなる感
光液を100×125×3mmのガラス板上に、感光液
乾燥後の膜厚が7μmとなるように3ミルアプリケータ
ーを用いて塗布し、ホログラム記録用感光板を作成し
た。さらに、3ミルアプリケーターでポリビニルアルコ
ールの5重量%水溶液を塗布した。この感光板に、図1
に示すホログラム作成用光学系を用いて二光束干渉によ
るホログラム露光を行った。その際、実施例1ないし5
ではArイオンレーザーの488nm光を用い、実施例
6および7ではArイオンレーザーの514nm光を用
い、実施例8ないし10ではHe−Neレーザーの63
3nm光を用いた。ホログラム露光を実施した後、更に
二光束の一方を遮断してホログラム露光と同じ露光時間
に晒し、その後120℃オーブンに1時間おいた。
The present invention will be described in more detail based on the following examples. In the following examples, parts represent parts by weight unless otherwise specified. Examples 1 to 10 100 parts by weight of polymethylmethacrylate (PMMA),
90 parts of phenoxyethyl acrylate (POEA),
A 100 × 125 × 3 mm glass plate containing a photosensitive solution containing 2 parts of a pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative represented by the general formula (1), 5 parts of a sulfonium organoboron complex (compound (a)) and 900 parts of dioxane. A 3 mil applicator was applied on the top of the photosensitive solution so that the film thickness after drying the photosensitive solution would be 7 μm to prepare a hologram recording photosensitive plate. Further, a 5 wt% aqueous solution of polyvinyl alcohol was applied with a 3 mil applicator. On this photosensitive plate,
Holographic exposure was performed by two-beam interference using the hologram creating optical system shown in FIG. At that time, Examples 1 to 5
488 nm light of Ar ion laser is used in Examples, 514 nm light of Ar ion laser is used in Examples 6 and 7, and 63 of He-Ne laser is used in Examples 8 to 10.
3 nm light was used. After performing the hologram exposure, one of the two light fluxes was further blocked and the hologram was exposed to the same exposure time as the hologram exposure, and then placed in an oven at 120 ° C. for 1 hour.

【0041】回折効率は、日本分光工業(株)製ART
25C型分光光度計で測定した。該装置は、幅3mmの
スリットを有したフォトマルチメータを、試料を中心に
した半径20cmの円周上に設置できる。幅0.3mm
の単色光を試料に45度の角度で入射し、試料からの回
折光を検出した。正反射光以外で最も大きな値と、試料
を置かず直接入射光を受光したときの値との比を回折効
率とした。表1に、最大回折効率を与える露光エネルギ
ー量、回折効率、プレイバック波長、及び保存安定性試
験結果を表1に示した。
Diffraction efficiency is measured by ART manufactured by JASCO Corporation
It was measured with a 25C type spectrophotometer. In this device, a photomultimeter having a slit with a width of 3 mm can be installed on the circumference of a 20 cm radius centered on the sample. Width 0.3 mm
The monochromatic light of was incident on the sample at an angle of 45 degrees and the diffracted light from the sample was detected. The diffraction efficiency was defined as the ratio between the maximum value other than the specular reflection light and the value when the incident light was received directly without placing the sample. Table 1 shows the exposure energy amount that gives the maximum diffraction efficiency, the diffraction efficiency, the playback wavelength, and the storage stability test results.

【0042】実施例11〜16 実施例1におけるスルホニウム有機ホウ素錯体(化合物
(a))を、スルホニウム有機ホウ素錯体(化合物
(b))ないし(化合物(g))に替えた他は、実施例
1と同様の方法で操作した時の、感度特性、回折効率、
プレイバック波長及び保存安定性試験結果を表2に示し
た。
Examples 11 to 16 Example 1 except that the sulfonium organoboron complex (compound (a)) in Example 1 was replaced with a sulfonium organoboron complex (compound (b)) to (compound (g)). Sensitivity characteristics, diffraction efficiency,
Table 2 shows the playback wavelength and the storage stability test results.

【0043】実施例17 実施例1における重合可能なモノマーを、テトラブロモ
ビスフェノールAエチレンオキシド変性ジメタクリレー
トに替えた他は、実施例1と同様の方法で操作した時
の、感度特性、回折効率、プレイバック波長及び保存安
定性試験結果を表3に示した。
Example 17 Sensitivity characteristics, diffraction efficiency, and play when operating in the same manner as in Example 1 except that the polymerizable monomer in Example 1 was replaced with tetrabromobisphenol A ethylene oxide-modified dimethacrylate. The back wavelength and the storage stability test results are shown in Table 3.

【0044】実施例18 実施例1における重合可能なモノマーを、N−ビニルカ
ルバゾールに替えた他は、実施例1と同様の方法で操作
した時の、感度特性、回折効率、プレイバック波長及び
保存安定性試験結果を表3に示した。
Example 18 Sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength and storage when operating in the same manner as in Example 1 except that the polymerizable monomer in Example 1 was replaced with N-vinylcarbazole. The stability test results are shown in Table 3.

【0045】実施例19 実施例1における重合可能なモノマーを、トリブロモフ
ェノールトリエチレンオキシド変性アクリレートに替え
た他は、実施例1と同様の方法で操作した時の、感度特
性、回折効率、プレイバック波長及び保存安定性試験結
果を表3に示した。
Example 19 Sensitivity characteristics, diffraction efficiency, and playback when operated in the same manner as in Example 1 except that the polymerizable monomer in Example 1 was replaced with tribromophenoltriethylene oxide modified acrylate. The wavelength and storage stability test results are shown in Table 3.

【0046】実施例20 実施例1における重合可能なモノマーを、フェロセニル
エチルメタクリレートに替えた他は、実施例1と同様の
方法で操作した時の、感度特性、回折効率、プレイバッ
ク波長及び保存安定性試験結果を表3に示した。
Example 20 Sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength, and playback wavelength when operated in the same manner as in Example 1 except that the polymerizable monomer in Example 1 was replaced with ferrocenylethyl methacrylate. The storage stability test results are shown in Table 3.

【0047】実施例21 実施例19におけるPMMAを、ポリ(イソボルニルメ
タクリレート)に替えた他は、実施例19と同様の方法
で操作した時の、感度特性、回折効率、プレイバック波
長及び保存安定性試験結果を表3に示した。
Example 21 Sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength and storage when operated in the same manner as in Example 19 except that PMMA in Example 19 was replaced with poly (isobornyl methacrylate). The stability test results are shown in Table 3.

【0048】実施例22 実施例19におけるPMMAを、ポリ(ビニルブチラー
ル)に替えた他は、実施例19と同様の方法で操作した
時の、感度特性、回折効率、プレイバック波長及び保存
安定性試験結果を表3に示した。
Example 22 Sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength and storage stability when operated in the same manner as in Example 19 except that PMMA in Example 19 was changed to poly (vinyl butyral). The test results are shown in Table 3.

【0049】実施例23 実施例19におけるPMMAを、ポリ(ビニルアセテー
ト)に替えた他は、実施例19と同様の方法で操作した
時の、感度特性、回折効率、プレイバック波長及び保存
安定性試験結果を表3に示した。
Example 23 Sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength and storage stability when operated in the same manner as in Example 19 except that PMMA in Example 19 was changed to poly (vinyl acetate). The test results are shown in Table 3.

【0050】実施例24 実施例19におけるPMMAを、メチルメタクリレート
とクロロメチルスチレンとのモル比で8対2の共重合体
にアクリル酸カリウムをジメチルホルムアミド中、酸素
存在化、60℃で反応させアクリロリル基を導入した高
分子化合物(化合物h)に替えた他は、実施例19と同
様の方法で操作した時の、感度特性、回折効率、プレイ
バック波長及び保存安定性試験結果を表3に示した。
Example 24 The PMMA of Example 19 was reacted with a copolymer of methyl methacrylate and chloromethylstyrene in a molar ratio of 8: 2 and potassium acrylate in dimethylformamide in the presence of oxygen at 60 ° C. to give acrylolyl. Table 3 shows the sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength, and storage stability test results when operated in the same manner as in Example 19 except that the polymer compound (compound h) into which a group was introduced was used. It was

【0051】化合物(h)Compound (h)

【化10】 [Chemical 10]

【0052】実施例25 実施例19におけるPMMAを、メチルメタクリレート
とグリシジルメタクリレートとのモル比で8対2の共重
合体に、ジメチルアニリンを触媒としてアクリル酸をト
ルエン中、酸素存在化、60℃で反応させ、アクリロリ
ル基を導入した高分子化合物(化合物(i))に替えた
他は、実施例19と同様の方法で操作した時の、感度特
性、回折効率、プレイバック波長及び保存安定性試験結
果を表3に示した。
Example 25 The PMMA of Example 19 was added to a copolymer of methyl methacrylate and glycidyl methacrylate in a molar ratio of 8: 2, acrylic acid was added to toluene in the presence of oxygen at 60 ° C. using dimethylaniline as a catalyst. Sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength and storage stability test when operated in the same manner as in Example 19, except that the polymer compound (compound (i)) introduced with an acrylolyl group was reacted. The results are shown in Table 3.

【0053】化合物(i)Compound (i)

【化11】 [Chemical 11]

【0054】実施例26 実施例19におけるPMMAを、メチルメタクリレート
と2−ヒドロキシエチルメタクリレートとのモル比で8
対2の共重合体に、アクリル酸クロライドをジメチルホ
ルムアミド中、酸素存在化、室温で反応させ、アクリロ
リル基を導入した高分子化合物(化合物(j))に替え
た他は、実施例19と同様の方法で操作した時の、感度
特性、回折効率、プレイバック波長及び保存安定性試験
結果を表3に示した。
Example 26 The PMMA obtained in Example 19 was used in a molar ratio of methyl methacrylate to 2-hydroxyethyl methacrylate of 8%.
Same as Example 19 except that the copolymer of Pair 2 was reacted with acrylic acid chloride in dimethylformamide in the presence of oxygen and at room temperature to replace the polymer compound (compound (j)) into which an acryloyl group was introduced. Table 3 shows the sensitivity characteristics, the diffraction efficiency, the playback wavelength, and the storage stability test results when operated by the above method.

【0055】化合物(j)Compound (j)

【化12】 [Chemical 12]

【0056】実施例27 実施例19におけるPMMAをポリ(p−ブロモフェニ
ルメタクリレート)に、トリブロモフェノールトリエチ
レンオキサイド変性ジアクリレートをトリフルオロエチ
ルアクリレートに替えた他は、実施例19と同様の方法
で操作した時の、感度特性、回折効率、プレイバック波
長及び保存安定性試験結果を表3に示した。
Example 27 The same procedure as in Example 19 was carried out except that PMMA in Example 19 was changed to poly (p-bromophenyl methacrylate) and tribromophenoltriethylene oxide modified diacrylate was changed to trifluoroethyl acrylate. Table 3 shows the sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength, and storage stability test results when operated.

【0057】実施例28 実施例27におけるポリ(p−ブロモフェニルメタクリ
レート)をポリ(スチレン)に替えた他は、実施例27
と同様の方法で操作した時の、感度特性、回折効率、プ
レイバック波長及び保存安定性試験結果を表3に示し
た。
Example 28 Example 27 except that the poly (p-bromophenyl methacrylate) in Example 27 was replaced with poly (styrene).
Table 3 shows the sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength, and storage stability test results when operated in the same manner as in.

【0058】実施例29 実施例19におけるPMMAをポリ(α−ナフチルスチ
レン)に、トリブロモフェノールトリエチレンオキサイ
ド変性ジアクリレートをペンタエリスリトールトリアク
リレート替えた他は、実施例19と同様の方法で操作し
た時の、感度特性、回折効率、プレイバック波長及び保
存安定性試験結果を表3に示した。
Example 29 The same operation as in Example 19 was carried out except that PMMA in Example 19 was replaced with poly (α-naphthylstyrene) and tribromophenoltriethylene oxide-modified diacrylate was replaced with pentaerythritol triacrylate. Table 3 shows the sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength, and storage stability test results at the time.

【0059】実施例30 実施例27におけるポリ(p−ブロモフェニルメタクリ
レート)を、スチレンと無水マレイン酸とのモル比で9
対1の共重合体に、2−ヒドロキシエチルアクリレート
をトルエン中、ジメチルアニリンを触媒に用い、酸素存
在化、60℃で反応させ、アクリロリル基を導入した高
分子化合物(化合物(k))に替えた他は、実施例27
と同様の方法で操作した時の、感度特性、回折効率、プ
レイバック波長及び保存安定性試験結果を表3に示し
た。
Example 30 The poly (p-bromophenyl methacrylate) of Example 27 was added in a molar ratio of styrene to maleic anhydride of 9
Using 2-hydroxyethyl acrylate in toluene and dimethylaniline as a catalyst, the copolymer of Pair 1 was reacted in the presence of oxygen and at 60 ° C. to be a polymer compound (compound (k)) having an acryloyl group introduced. Other than Example 27,
Table 3 shows the sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength, and storage stability test results when operated in the same manner as in.

【0060】化合物(k)Compound (k)

【化13】 [Chemical 13]

【0061】[0061]

【表1】 [Table 1]

【0062】保存性1は、25℃、60RH保存下にお
ける耐久性を示す。保存性2は、90℃保存下における
耐久性を示す。
Storability 1 indicates durability under storage at 25 ° C. and 60 RH. Storability 2 indicates durability under storage at 90 ° C.

【0063】[0063]

【表2】 [Table 2]

【0064】保存性1は、25℃、60RH保存下にお
ける耐久性を示す。保存性2は、90℃保存下における
耐久性を示す。
Storability 1 indicates durability under storage at 25 ° C. and 60 RH. Storability 2 indicates durability under storage at 90 ° C.

【0065】[0065]

【表3】 [Table 3]

【0066】保存性1は、25℃、60RH保存下にお
ける耐久性を示す。保存性2は、90℃保存下における
耐久性を示す。
Storability 1 indicates durability under storage at 25 ° C. and 60 RH. Storability 2 indicates durability under storage at 90 ° C.

【0067】[0067]

【発明の効果】本発明に依り、高感度で、化学的に安定
であり、かつ高解像度、高回折効率、高透明性を有する
体積位相型ホログラムを簡便に製造することが可能とな
る。
According to the present invention, it is possible to easily manufacture a volume phase hologram which is highly sensitive, chemically stable, has high resolution, high diffraction efficiency and high transparency.

【0068】[0068]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【0069】図1は、ホログラム作成用二光束露光装置
のブロック図を示す。
FIG. 1 is a block diagram of a two-beam exposure apparatus for hologram production.

【0070】[0070]

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:レーザー発振装置 2:ミラー 3:レンズ 4:スペイシャルフィルター 5:ガラス板 6:感光膜 1: Laser oscillator 2: Mirror 3: Lens 4: Spatial filter 5: Glass plate 6: Photosensitive film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/038 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display area G03F 7/038

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ビニルモノマーの単一重合体または2成
分以上のビニルモノマーの共重合体である高分子化合物
(A)、重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも
1個以上有する化合物(B)、ピリリウム塩またはチオ
ピリリウム塩誘導体(C)及びスルホニウム有機ホウ素
錯体(D)の組み合わせを含むことを特徴とするホログ
ラム記録材料。
1. A polymer compound (A) which is a homopolymer of a vinyl monomer or a copolymer of two or more vinyl monomers, a compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond, A hologram recording material comprising a combination of a pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative (C) and a sulfonium organic boron complex (D).
【請求項2】 ビニルモノマーの単一重合体または2成
分以上のビニルモノマーの共重合体である高分子化合物
(A)が、架橋可能な(メタ)アクリロイル基を有する
ことを特徴とする請求項1記載のホログラム記録材料。
2. The polymer compound (A), which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of vinyl monomers of two or more components, has a crosslinkable (meth) acryloyl group. The hologram recording material described.
【請求項3】 ビニルモノマーの単一重合体または2成
分以上のビニルモノマーの共重合体である高分子化合物
(A)の屈折率と、重合可能なエチレン性不飽和結合を
少なくとも1個以上有する化合物(B)の屈折率との屈
折率差が0.005以上であることを特徴とする請求項
1記載のホログラム記録材料。
3. A compound having a refractive index of a polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of vinyl monomers of two or more components, and at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond. The hologram recording material according to claim 1, wherein the refractive index difference from the refractive index of (B) is 0.005 or more.
【請求項4】 ビニルモノマーの単一重合体または2成
分以上のビニルモノマーの共重合体である高分子化合物
(A)、重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも
1個以上有する化合物(B)、ピリリウム塩またはチオ
ピリリウム塩誘導体(C)及びスルホニウム有機ホウ素
錯体(D)の組み合わせを含むことを特徴とする請求項
1ないし3いずれか記載のホログラム記録材料を用いて
ホログラムを製造するにあたって、該記録材料をホログ
ラム露光したのち、光および(または)熱を加えること
を特徴とする体積位相型ホログラムの製造方法。
4. A polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of vinyl monomers of two or more components, a compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond, A hologram recording material for producing a hologram using the hologram recording material according to any one of claims 1 to 3, comprising a combination of a pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative (C) and a sulfonium organoboron complex (D). A method for producing a volume phase hologram, which comprises subjecting a hologram to a hologram exposure and then applying light and / or heat.
JP35072992A 1992-12-04 1992-12-04 Hologram recording material and production of volume phase type hologram by using the recording material Pending JPH06175563A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0775706A2 (en) 1995-11-24 1997-05-28 Ciba SC Holding AG Borates photoinitiators from polyboranes

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