KR101023284B1 - Liquid Crystal Display device and the fabrication method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 액정 표시 장치는, 대향 배치되어 그 사이에 액정층이 형성된 제 1, 2 기판과, 상기 제 1 기판에 형성된 공통 전압 배선과, 상기 제 2 기판에 형성된 공통 전극과, 상기 제 1, 2 기판 사이의 가장 자리에 형성된 씰 패턴과, 상기 씰 패턴 외곽에서 상기 제 1, 2 기판을 전기적으로 연결하는 적어도 하나 이상의 은 도트(Ag dot)를 포함하여 형성되는 액정 표시 장치에서, 상기 제 1 기판에서 상기 씰 패턴 하에 다수의 은도트 패드 콘택홀이 형성된 것을 특징으로 한다.A liquid crystal display device according to the present invention includes first and second substrates that face each other and have a liquid crystal layer formed therebetween, common voltage wirings formed on the first substrate, common electrodes formed on the second substrate, and the first substrate. And a seal pattern formed at an edge between two substrates and at least one silver dot electrically connecting the first and second substrates to the outside of the seal pattern. A plurality of silver dot pad contact holes are formed on the substrate under the seal pattern.

따라서, 본 발명에 따른 액정 패널에서 은 도트를 통해 제 1, 2 기판을 전기적으로 연결하기 위한 상기 은도트 패드 콘택홀을 씰 패턴 하에 형성시킴으로써 제품 불량을 일으키는 전식 또는 부식 불량을 방지하여 제품의 품질과 신뢰성을 향상시키는 장점이 있다.Therefore, in the liquid crystal panel according to the present invention, the silver dot pad contact holes for electrically connecting the first and second substrates through the silver dots are formed under a seal pattern to prevent electrical or corrosion defects causing product defects. And there is an advantage to improve the reliability.

은 도트(Ag dot), 콘택홀, 전식, 부식, 씰 패턴Ag dot, contact hole, electroplating, corrosion, seal pattern

Description

액정 표시 장치 및 그 제조 방법{Liquid Crystal Display device and the fabrication method thereof}Liquid crystal display device and method for manufacturing same

도 1은 일반적인 액정 표시 장치용 액정 패널에 대한 개략적인 평면도.1 is a schematic plan view of a liquid crystal panel for a general liquid crystal display device;

도 2는 도 1의 'A' 부분을 확대한 도면으로서, 종래 액정 표시 장치용 액정 패널에서 일부분을 확대한 평면도.FIG. 2 is an enlarged view of a portion 'A' of FIG. 1 and is a plan view showing an enlarged portion of a liquid crystal panel for a conventional liquid crystal display. FIG.

도 3은 본 발명에 따른 액정 표시 장치용 액정 패널의 일부를 개략적으로 보여주는 평면도.3 is a plan view schematically showing a part of a liquid crystal panel for a liquid crystal display device according to the present invention;

도 4는 도 3에서 도시한 액정 패널을 B-B'로 단면하여 보여주는 단면도.FIG. 4 is a cross-sectional view of the liquid crystal panel shown in FIG. 3 taken along line B-B '.

<도면의 주요부분에 대한 부호 설명><Description of Signs of Major Parts of Drawings>

210 : 제 1 기판 212 : 공통 전압 배선210: first substrate 212: common voltage wiring

220 : 제 2 기판 222 : 게이트 전극220: second substrate 222: gate electrode

230 : 게이트 절연막 231 : 컬러 필터230: gate insulating film 231: color filter

241 : 액티브층 243 : 공통 전극241 active layer 243 common electrode

250 : 액정층 251, 252 : 오믹 콘택층250: liquid crystal layer 251, 252: ohmic contact layer

260 : 씰 패턴 261 : 소스 전극260: seal pattern 261: source electrode

262 : 드레인 전극 266 : 은 도트(Ag dot)262: drain electrode 266: silver dot (Ag dot)

270 : 보호층 271 : 드레인 콘택홀 270: protective layer 271: drain contact hole                 

281 : 화소 전극 288 : 도트 패드281 pixel electrode 288 dot pad

289 : 도트패드 콘택홀289 dot pad contact hole

본 발명은 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display device : LCD)에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device (LCD).

일반적으로, 화상 정보를 화면에 나타내는 디스플레이 장치들 중에서 브라운관 표시 장치(혹은 CRT:Cathode Ray Tube)가 지금까지 가장 많이 사용되어 왔는데, 이것은 표시 면적에 비해 부피가 크고 무겁기 때문에 사용하는데 많은 불편함이 따랐다. In general, CRT (or CRT: Cathode Ray Tube) has been the most used display device for displaying image information on the screen, which is inconvenient to use because it is bulky and heavy compared to the display area. .

그리고, 오늘날에는 전자산업의 발달과 함께 TV 브라운관 등에 제한적으로 사용되었던 디스플레이 장치가 개인용 컴퓨터, 노트북, 무선 단말기, 자동차 계기판, 전광판 등에 까지 확대 사용되고, 정보 통신 기술의 발달과 함께 대용량의 화상정보를 전송할 수 있게 됨에 따라 이를 처리하여 구현할 수 있는 차세대 디스플레이 장치의 중요성이 커지고 있다.In addition, with the development of the electronics industry, display devices, which have been limitedly used in TV CRTs, are widely used in personal computers, laptops, wireless terminals, automobile dashboards, electronic displays, and the like. As it becomes possible, the importance of next-generation display devices that can process and implement them is increasing.

이와 같은 차세대 디스플레이 장치는 경박단소, 고휘도, 대화면, 저소비 전력 및 저가격화를 실현할 수 있어야 하는데, 그 중 하나로 최근에 액정 표시 장치가 주목을 받고 있다.Such next-generation display devices should be able to realize light and small, high brightness, large screen, low power consumption, and low price, and one of them has recently attracted attention.

상기 액정 표시 장치는 표시 해상도가 다른 평판 표시 장치보다 뛰어나고, 동화상을 구현할 때 그 품질이 브라운관에 비할 만큼 응답 속도가 빠른 특성을 나타내고 있다.The liquid crystal display has superior display resolution than other flat panel display devices, and exhibits a response speed that is higher than that of a CRT when a moving image is realized.

액정 표시 장치의 구동원리는 액정의 광학적 이방성과 분극성질을 이용하는 것이다. 상기 액정은 구조가 가늘고 길기 때문에 분자의 배열에 방향성을 갖고 있으며, 인위적으로 액정에 전기장을 인가하여 분자배열의 방향을 제어할 수 있다. The driving principle of the liquid crystal display device is to use optical anisotropy and polarization of the liquid crystal. Since the liquid crystal is thin and long in structure, the liquid crystal has directivity in the arrangement of molecules, and the direction of the molecular arrangement can be controlled by artificially applying an electric field to the liquid crystal.

따라서, 액정의 분자배열 방향을 임의로 조절하면, 액정의 분자배열이 변하게 되고, 광학적 이방성에 의하여 상기 액정의 분자 배열 방향으로 빛이 굴절하여 화상정보를 표현할 수 있다.Therefore, if the molecular arrangement direction of the liquid crystal is arbitrarily adjusted, the molecular arrangement of the liquid crystal is changed, and light is refracted in the molecular arrangement direction of the liquid crystal due to optical anisotropy to express image information.

현재에는 박막트랜지스터(Thin Film Transistor ; TFT)와 상기 박막트랜지스터에 연결된 화소전극이 행렬방식으로 배열된 능동행렬 액정 표시장치(Active Matrix LCD : AM-LCD)가 해상도 및 동영상 구현능력이 우수하여 가장 주목받고 있다. Currently, an active matrix LCD (AM-LCD), in which a thin film transistor (TFT) and pixel electrodes connected to the thin film transistor are arranged in a matrix manner, is most noticeable because of its excellent resolution and video performance. I am getting it.

이러한 액정 표시 장치를 구성하는 기본적인 부품인 액정 패널의 구조를 살펴보면 다음과 같다.The structure of the liquid crystal panel, which is a basic component of the liquid crystal display, is as follows.

도 1은 일반적인 액정 표시 장치용 액정 패널에 대한 개략적인 평면도이다. 1 is a schematic plan view of a liquid crystal panel for a general liquid crystal display device.

도시한 바와 같이, 화상표시영역(Ⅰ)과 화상표시영역(Ⅰ)의 주변부를 이루는 화상비표시영역(Ⅱ)이 정의된 제 1, 2 기판(110, 130)이 서로 대향되게 배치되어 있고, 화상표시영역(Ⅰ)과 화상비표시영역(Ⅱ)의 경계부에는 제 1, 2 기판(110, 130)을 합착시키는 씰 패턴(140)이 형성되어 있고, 씰 패턴(140) 내에는 액정층(도시되지 않음)이 개재되어 있다. As shown, the first and second substrates 110 and 130 in which the image display area I and the image non-display area II forming the periphery of the image display area I are defined are arranged to face each other. A seal pattern 140 for joining the first and second substrates 110 and 130 is formed at the boundary between the image display area I and the non-image display area II, and the liquid crystal layer 140 is formed in the seal pattern 140. Not shown).                         

상기 액정층은 씰 패턴(140)의 일측에 구성된 액정 주입구(142)를 통해 주입되며, 주입 후에는 봉지용 씰에 의해 외부로 누출되는 것이 방지된다.The liquid crystal layer is injected through the liquid crystal injection hole 142 configured at one side of the seal pattern 140, and after injection, is prevented from leaking to the outside by the sealing seal.

상세히 도시되지는 않았으나, 상기 제 1 기판(110)의 화상표시영역(Ⅲ)에는 서로 교차되게 형성된 게이트 및 데이터 배선(도시되지 않음)이 다수 개 형성되어 있고, 게이트 및 데이터 배선이 교차되는 지점에는 박막트랜지스터가 형성되어 있고, 박막트랜지스터와 연결되어 화소 전극이 형성되어 있다.Although not shown in detail, a plurality of gates and data wires (not shown) formed to cross each other are formed in the image display area III of the first substrate 110, and at a point where the gates and data wires cross. A thin film transistor is formed, and the pixel electrode is formed by being connected to the thin film transistor.

그리고, 도면으로 제시하지는 않았지만, 제 2 기판(130)의 내부면에는 특정 파장대의 빛을 착색하는 적, 녹, 청 컬러필터와, 컬러필터의 컬러별 경계부 및 비화소 영역에 위치하여 빛샘 현상을 방지하는 블랙매트릭스와, 공통 전압이 인가되는 공통 전극이 포함된다.Although not shown in the drawing, the red, green, and blue color filters for coloring light of a specific wavelength band, and the light leakage phenomenon are disposed on the color boundaries and non-pixel areas of the color filter on the inner surface of the second substrate 130. Black matrix to prevent and a common electrode to which a common voltage is applied.

도 2는 도 1의 'A' 부분을 확대한 도면으로서, 종래 액정 표시 장치용 액정 패널에서 일부분을 확대한 평면도이다.FIG. 2 is an enlarged view of a portion 'A' of FIG. 1 and is a plan view of an enlarged portion of a liquid crystal panel for a conventional liquid crystal display.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 액정 패널은 화상표시영역(Ⅰ)과 화상표시영역(Ⅰ)의 주변부를 이루는 화상비표시영역(Ⅱ)이 정의된 제 1, 2 기판(110, 130)이 서로 대향되게 배치되어 있고, 상기 화상표시영역(Ⅰ)과 화상비표시영역(Ⅱ)의 경계부에는 제 1, 2 기판(110, 130)을 합착시키는 씰 패턴(140)이 형성되어 있고, 씰 패턴(140) 내에는 액정층(도시되지 않음)이 개재되어 있다.As shown in FIG. 2, the liquid crystal panel according to the present invention includes the first and second substrates 110, in which the image display area I and the image non-display area II forming the periphery of the image display area I are defined. 130 are disposed to face each other, and a seal pattern 140 for joining the first and second substrates 110 and 130 is formed at the boundary between the image display region I and the image non-display region II. The liquid crystal layer (not shown) is interposed in the seal pattern 140.

여기서, 상기 액정 패널의 화상비표시영역(Ⅱ)의 일부에는 제 1, 2 기판(110, 130)을 전기적으로 연결하는 은 도트(Ag dot)(166)가 형성된다.Here, an Ag dot 166 electrically connecting the first and second substrates 110 and 130 is formed in a part of the image non-display area II of the liquid crystal panel.

이때, Vcom 전압이 외부에서 인가되면, 제 1 기판(110)의 박막트랜지스터의 게이트 전극에 주사전압이 인가되어 상기 박막 트랜지스터가 도통(on)되고, 외부로부터 Vcom 전압을 인가받는 공통 전압 배선(112)은 제 1 기판(110)에 위치하고, 도트 패드(188)와 은 도트(166)를 통해서 상기 공통 전압 배선(112)에서 제 2 기판(130)에 형성되어 있는 공통 전극(도시되지 않음)으로 신호가 인가된다.At this time, when the Vcom voltage is applied from the outside, a scan voltage is applied to the gate electrode of the thin film transistor of the first substrate 110 so that the thin film transistor is turned on and the Vcom voltage is applied from the outside. ) Is a common electrode (not shown) formed on the first substrate 110 and formed on the second substrate 130 in the common voltage wiring 112 through the dot pad 188 and the silver dot 166. Signal is applied.

여기서, 상기 제 1 기판(110)에서 상기 은 도트(166)는 상기 공통 전압 배선 (112)과 화상비표시영역에 형성된 다수의 도트패드 콘택홀(189)을 통해서 연결되는데, 이때 형성된 도트패드 콘택홀(189)은 대기 중에 노출되어 습기나 이물 유입이 쉬워 전식이나 부식에 취약한 구조를 가진다.Here, the silver dot 166 in the first substrate 110 is connected through the common voltage wiring 112 and a plurality of dot pad contact holes 189 formed in the image non-display area. The hole 189 is exposed to the air, and is easily exposed to moisture or foreign matter, and thus has a structure vulnerable to corrosion or corrosion.

또한, 상기 도트패드 콘택홀(189)이 화상비표시영역에 형성되어 크랙(crack) 발생시에 공통 전압 배선(112)이 직접 대기에 노출될 수 있는 문제점이 있다.In addition, the dot pad contact hole 189 may be formed in the image non-display area so that the common voltage line 112 may be directly exposed to the atmosphere when a crack occurs.

본 발명은 액정 패널에서 은 도트를 통해 제 1, 2 기판을 전기적으로 연결하기 위한 상기 은도트 패드 콘택홀을 씰 패턴 하에 형성시킴으로써 제품 불량을 일으키는 전식 또는 부식 불량을 방지하는 액정 표시 장치 및 그 제조 방법을 제공하는 데 목적이 있다.The present invention provides a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof, which prevent the electrical or corrosion defects causing product defects by forming the silver dot pad contact holes for electrically connecting the first and second substrates through a silver dot in a liquid crystal panel under a seal pattern. The purpose is to provide a method.

상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정 표시 장치는, 대향 배치되어 그 사이에 액정층이 형성된 제 1, 2 기판과, 상기 제 1 기판에 형성된 공통 전압 배선과, 상기 제 2 기판에 형성된 공통 전극과, 상기 제 1, 2 기판 사이의 가장 자리에 형성된 씰 패턴과, 상기 씰 패턴 외곽에서 상기 제 1, 2 기판을 전기적 으로 연결하는 적어도 하나 이상의 은 도트(Ag dot)를 포함하여 형성되는 액정 표시 장치에서, 상기 제 1 기판에서 상기 씰 패턴 하에 다수의 은도트 패드 콘택홀이 형성된 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the liquid crystal display device according to the present invention includes: first and second substrates that are disposed to face each other, and a liquid crystal layer is formed therebetween, common voltage wirings formed on the first substrate, and the second substrate. A common electrode, a seal pattern formed at an edge between the first and second substrates, and at least one silver dot electrically connecting the first and second substrates to the outside of the seal pattern. In the liquid crystal display, a plurality of silver dot pad contact holes are formed on the first substrate under the seal pattern.

상기 제 1 기판에서 상기 은 도트와 접속되며 상기 은도트 패드 콘택홀을 통해서 공통 전압 배선과 연결되는 은도트 패드를 더 구비하는 것을 특징으로 한다.And a silver dot pad connected to the silver dot on the first substrate and connected to the common voltage line through the silver dot pad contact hole.

상기 제 1 기판에 종횡으로 배열되어 복수개의 화소 영역을 구성하는 게이트 배선 및 데이터 배선과 그 교차점에 박막트랜지스터를 구비하는 것을 특징으로 한다.A thin film transistor may be provided at the intersection of the gate line and the data line arranged vertically and horizontally on the first substrate to form a plurality of pixel regions.

또한, 상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은, 제 1 기판에 화상표시영역을 정의하도록 종횡으로 배열되어 복수개의 화소 영역을 구성하는 게이트 배선 및 데이터 배선과 그 교차점에 박막트랜지스터와, 상기 화상비표시영역에 외부 신호를 인가하는 공통 전압 배선을 형성하는 단계와; 상기 박막 트랜지스터가 형성된 제 1 기판 상에 절연막을 형성하고 상기 절연막에 공통 전압 배선을 노출하는 다수의 은도트 패드 콘택홀을 소정 위치에 형성하는 단계와; 상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결되는 화소 전극과 상기 은도트 패드 콘택홀 상에서 상기 화상비표시영역으로 형성되는 은도트 패드를 형성하는 단계와; 상기 화상표시영역의 외곽을 따라 상기 은도트 패드 콘택홀 상에 씰 패턴을 형성하는 단계와; 상기 화상비표시영역에 형성되어 있는 은도트 패드 상에 은 도트를 형성하는 단계와; 상기 제 1 기판과 상기 은 도트와 접촉하는 공통 전극이 형성된 제 2 기판을 합착하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. In addition, in order to achieve the above object, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention includes a gate wiring and a data wiring arranged vertically and horizontally so as to define an image display area on a first substrate and forming a plurality of pixel areas, and an intersection thereof. Forming a thin film transistor and a common voltage wiring to apply an external signal to the image non-display area; Forming an insulating film on a first substrate on which the thin film transistor is formed and forming a plurality of silver dot pad contact holes at a predetermined position to expose a common voltage wiring to the insulating film; Forming a pixel electrode electrically connected to the thin film transistor and a silver dot pad formed as the image non-display area on the silver dot pad contact hole; Forming a seal pattern on the silver dot pad contact hole along the periphery of the image display area; Forming a silver dot on the silver dot pad formed in the image non-display area; And bonding the first substrate and a second substrate having a common electrode in contact with the silver dot.                     

상기 화소 전극과 은도트 패드는 투명한 도전성 물질로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The pixel electrode and the silver dot pad may be made of a transparent conductive material.

상기 박막 트랜지스터는 기판 상에 형성된 게이트 전극과, 상기 게이트 전극을 덮는 게이트 절연막과, 상기 게이트 절연막 상에 형성된 액티브층과, 상기 액티브층 상에 형성된 층간 절연막과, 상기 액티브층과 층간 절연막을 관통하여 접속하고 소정 간격 이격하는 소스 및 드레인 전극을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.The thin film transistor penetrates through a gate electrode formed on a substrate, a gate insulating film covering the gate electrode, an active layer formed on the gate insulating film, an interlayer insulating film formed on the active layer, and the active layer and an interlayer insulating film. And source and drain electrodes connected to and spaced apart from each other by a predetermined interval.

이하, 첨부한 도면을 참조로 하여 본 발명의 구체적인 실시예에 대해서 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에 따른 액정 표시 장치용 액정 패널의 일부를 개략적으로 보여주는 평면도이고, 도 4는 도 3에서 도시한 액정 패널을 B-B'로 단면하여 보여주는 단면도이다.3 is a plan view schematically illustrating a part of a liquid crystal panel for a liquid crystal display according to the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view showing the liquid crystal panel shown in FIG.

도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 액정 패널은 화상표시영역(Ⅲ)과 화상표시영역(Ⅲ)의 주변부를 이루는 화상비표시영역(Ⅳ)이 정의된 제 1, 2 기판(210, 220)이 서로 대향되게 배치되어 있다.As shown in Figs. 3 and 4, the liquid crystal panel according to the present invention includes first and second substrates in which an image non-display area (IV) forming a peripheral portion of the image display area (III) and the image display area (III) is defined. 210 and 220 are arranged to face each other.

그리고, 상기 화상표시영역(Ⅲ)과 화상비표시영역(Ⅳ)경계부에는 제 1, 2 기판(110, 120)을 합착시키는 씰 패턴(260)이 형성되어 있다.A seal pattern 260 is formed at the boundary between the image display area III and the image non-display area IV to bond the first and second substrates 110 and 120 to each other.

또한, 상기 씰 패턴(260) 내에는 액정층(250)이 개재되어 있으며, 상기 액정은 상기 제 1 기판(210)의 화소 전극(281)과 제 2 기판(220)의 공통 전극(243) 사이에 주입되어 있고, 상기 화소 전극(281)과 공통 전극(243) 사이의 전압차에 의해 그 분자 배열이 변화되며, 이러한 분자 배열의 변화로 인해 액정 표시 장치가 구동되는 것이다.The liquid crystal layer 250 is interposed in the seal pattern 260, and the liquid crystal is disposed between the pixel electrode 281 of the first substrate 210 and the common electrode 243 of the second substrate 220. The molecular arrangement is injected into the substrate, and the molecular arrangement is changed by the voltage difference between the pixel electrode 281 and the common electrode 243. The liquid crystal display device is driven by the change in the molecular arrangement.

여기서, 상기 액정 패널의 화상비표시영역(Ⅳ)의 일부에는 제 1, 2 기판(210, 220)을 전기적으로 연결하는 은 도트(Ag dot)(266)가 형성된다.Here, an Ag dot 266 electrically connecting the first and second substrates 210 and 220 is formed in a part of the image non-display area IV of the liquid crystal panel.

상기 제 1 기판(210)의 공통 전압 배선(212)으로부터 인가되는 Vcom 신호가 도트패드(288)를 통해서 은 도트(266)로 인가되고, 상기 은 도트(266)에서 제 2 기판(220)의 공통 전극(243)으로 연결된다.The Vcom signal applied from the common voltage line 212 of the first substrate 210 is applied to the silver dot 266 through the dot pad 288, and the silver dot 266 of the second substrate 220 is applied. It is connected to the common electrode 243.

이때, 상기 제 1 기판(210)에는 도트 패드(288)와 공통 전압 배선(212)을 연결하기 위하여 보호층(270)과 게이트 절연막(230)을 관통하여 형성된 도트패드 콘택홀(289)이 있다.In this case, the first substrate 210 has a dot pad contact hole 289 formed through the passivation layer 270 and the gate insulating layer 230 to connect the dot pad 288 and the common voltage wiring 212. .

상기 도트패드 콘택홀(289)은 전식 및 부식을 방지하기 위하여 씰 패턴(260) 아래에 형성되며, 상기 도트패드 콘택홀(289)은 상기 씰 패턴(260)에 의해서 외부 노출이 방지된다.The dot pad contact hole 289 is formed under the seal pattern 260 to prevent corrosion and corrosion, and the dot pad contact hole 289 is prevented from being exposed to the outside by the seal pattern 260.

도 4를 참조하면, 투명한 제 1 기판(210) 위에 금속과 같은 도전 물질로 이루어진 게이트 전극(222)과 공통 전압 배선(212)이 형성되어 있고, 그 위에 실리콘 질화막(SiNx)이나 실리콘 산화막(SiO2)으로 이루어진 게이트 절연막(230)이 게이트 전극(222)을 덮고 있다. Referring to FIG. 4, a gate electrode 222 made of a conductive material such as a metal and a common voltage wiring 212 are formed on a transparent first substrate 210, and a silicon nitride film SiN x or a silicon oxide film is formed thereon. The gate insulating film 230 made of SiO 2 covers the gate electrode 222.

상기 게이트 전극(222) 상부의 게이트 절연막(230) 위에는 비정질 실리콘으로 이루어진 액티브층(241)이 형성되어 있으며, 그 위에 불순물이 도핑된 비정질 실리콘으로 이루어진 오믹 콘택층(251, 252)이 형성되어 있다.An active layer 241 made of amorphous silicon is formed on the gate insulating layer 230 on the gate electrode 222, and ohmic contact layers 251 and 252 made of amorphous silicon doped with impurities are formed thereon. .

상기 오믹 콘택층(251, 252) 상부에는 금속과 같은 도전 물질로 이루어진 소스 및 드레인 전극(261, 262)이 형성되어 있는데, 소스 및 드레인 전극(261, 262)은 게이트 전극(222)과 함께 박막 트랜지스터(T)를 이룬다.Source and drain electrodes 261 and 262 made of a conductive material such as metal are formed on the ohmic contact layers 251 and 252, and the source and drain electrodes 261 and 262 are formed together with the gate electrode 222. The transistor T is formed.

또한, 도시하지 않았지만, 상기 게이트 전극(222)은 게이트 배선과 연결되어 있고, 소스 전극(261)은 데이터 배선과 연결되어 있으며, 게이트 배선과 데이터 배선은 서로 직교하여 화소 영역을 정의한다.Although not illustrated, the gate electrode 222 is connected to the gate wiring, the source electrode 261 is connected to the data wiring, and the gate wiring and the data wiring are orthogonal to each other to define the pixel region.

이어서, 상기 소스 및 드레인 전극(261, 262) 위에는 실리콘 질화막이나 실리콘 산화막 또는 유기 절연막으로 이루어진 보호층(270)이 형성되어 있으며, 상기 보호층(270)은 드레인 전극(262)을 드러내는 드레인 콘택홀(271)을 가진다.Subsequently, a passivation layer 270 made of a silicon nitride film, a silicon oxide film, or an organic insulating layer is formed on the source and drain electrodes 261 and 262, and the passivation layer 270 is a drain contact hole exposing the drain electrode 262. Has 271.

그리고, 상기 드레인 콘택홀(271) 형성시에 상기 공통 전압 배선(212)을 드러내며 상기 보호층(270)과 게이트 절연막(230)을 관통하는 도트패드 콘택홀(289)을 형성한다.When the drain contact hole 271 is formed, a dot pad contact hole 289 is formed to expose the common voltage line 212 and penetrate the protective layer 270 and the gate insulating layer 230.

상기 보호층(270) 상부의 화소 영역에는 투명 도전 물질로 이루어진 화소 전극(281)이 형성되어 있고, 화소 전극(281)은 콘택홀(271)을 통해 드레인 전극(262)과 연결되어 있다.A pixel electrode 281 made of a transparent conductive material is formed in the pixel area above the passivation layer 270, and the pixel electrode 281 is connected to the drain electrode 262 through a contact hole 271.

또한, 상기 화소 전극(281) 물질을 이루는 투명 도전 물질로 상기 도트패드 콘택홀(289)을 포함하여 화상비표시영역(Ⅳ)의 소정 위치에 도트 패드(288)를 형성한다.In addition, the dot pad 288 is formed at a predetermined position of the image non-display area IV including the dot pad contact hole 289 made of a transparent conductive material constituting the pixel electrode 281.

상기 투명 도전 물질은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide) 등에서 선택된다.The transparent conductive material is selected from indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium tin zinc oxide (ITZO), and the like.

한편, 상기 제 1 기판(210) 상부에는 제 1 기판(210)과 일정 간격을 가지고 이격되어 있으며 투명한 제 2 기판(220)이 배치되어 있고, 제 2 기판(220)의 안쪽면에는 블랙 매트릭스(221)가 박막 트랜지스터(T)와 대응되는 위치에 형성되어 있다.On the other hand, the second substrate 220 is spaced apart from the first substrate 210 at a predetermined interval on the first substrate 210, and a transparent black substrate 220 is disposed on the inner surface of the second substrate 220. 221 is formed at a position corresponding to the thin film transistor T.

그리고, 도시하지 않았지만, 상기 블랙 매트릭스(221)는 화소 전극(281) 이외의 부분도 덮고 있다. Although not shown, the black matrix 221 also covers portions other than the pixel electrode 281.

상기 블랙 매트릭스(221) 하부에는 컬러 필터(231)가 형성되어 있는데, 컬러 필터(231)는 적(Red), 녹(Green), 청(Blue)의 색이 순차적으로 반복되어 있으며, 하나의 색이 하나의 화소 영역에 대응된다.A color filter 231 is formed below the black matrix 221. The color filter 231 has a color of red, green, and blue sequentially repeated. It corresponds to this one pixel area.

상기 컬러 필터(231) 하부에는 투명한 도전 물질로 이루어진 공통 전극(243)이 형성되어 있다. A common electrode 243 made of a transparent conductive material is formed under the color filter 231.

그리고, 상기 제 1, 2 기판(210, 220) 사이에는 액정층(250)이 주입되어 있다.The liquid crystal layer 250 is injected between the first and second substrates 210 and 220.

한편, 상기 제 1 기판(210)과 제 2 기판(220) 사이에는 액정 주입을 위한 갭을 형성하고 주입된 액정의 누설을 방지하는 씰 패턴(seal pattern)(260)이 형성되어 있다.Meanwhile, a seal pattern 260 is formed between the first substrate 210 and the second substrate 220 to form a gap for injecting liquid crystal and prevent leakage of the injected liquid crystal.

그리고, 상기 제 2 기판(220) 상에 외부 회로로부터 공급되는 공통 신호 Vcom을 공통 전압 배선(212)을 통해서 인가하기 위하여 은 도트(Ag dot)(266)를 구비하고 있으며, 이는 상기 제 1, 2 기판(210, 220)을 전기적으로 연결한다. In order to apply the common signal Vcom supplied from an external circuit on the second substrate 220 through the common voltage line 212, an Ag dot 266 is provided. 2 The substrates 210 and 220 are electrically connected.                     

따라서, 공통 전압(Vcom)이 외부에서 인가되면, 제 1 기판(210)의 박막 트랜지스터(T)의 게이트 전극(222)에 주사 전압이 인가되어 상기 박막트랜지스터가 도통(on)된다.Therefore, when the common voltage Vcom is applied from the outside, a scan voltage is applied to the gate electrode 222 of the thin film transistor T of the first substrate 210 to turn on the thin film transistor.

이 때, 상기 박막 트랜지스터의 소스 전극(261)에서 드레인 전극(262)으로 신호 전압이 흐르게 되어 상기 드레인 전극(262)에 연결되어 있는 화소 전극(281)에 상기 신호 전압이 인가된다. In this case, a signal voltage flows from the source electrode 261 of the thin film transistor to the drain electrode 262 so that the signal voltage is applied to the pixel electrode 281 connected to the drain electrode 262.

그러면, 상기 공통 전극(243)에 인가된 공통 전압과 상기 화소 전극(281)의 신호전압 차이에 의해 상기 제 2 기판(220)의 화소 전극(281)과 제 1 기판(210)의 공통 전극(243) 사이에 형성되는 액정층(250)에서 액정 분자의 배열이 변화됨으로써 상기 액정 표시 장치가 구동된다.Then, the common electrode of the pixel electrode 281 of the second substrate 220 and the first substrate 210 may be caused by the difference between the common voltage applied to the common electrode 243 and the signal voltage of the pixel electrode 281. The liquid crystal display is driven by changing the arrangement of liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 250 formed between the 243.

상기 언급한 바와 같이 외부로부터 공통 전압을 인가받는 공통 전압 배선(212)은 제 1 기판(210)에 위치하고, 상기 공통전극(243)은 제 2 기판(220)에 위치하고 있지만, 상기 공통 전압 배선(212) 위에 형성된 은 도트(Ag dot)(260)에 의해 상기 공통전극(243)은 상기 공통 전압 배선(212)에 연결되어 있다. As mentioned above, the common voltage line 212 receiving the common voltage from the outside is positioned on the first substrate 210, and the common electrode 243 is located on the second substrate 220. The common electrode 243 is connected to the common voltage line 212 by an Ag dot 260 formed on the 212.

따라서, 상기 은 도트(266)를 통해 상기 공통 전극(243)에 공통 전압이 인가된다.Therefore, a common voltage is applied to the common electrode 243 through the silver dot 266.

이와 같이 구성되는 상기 액정 패널을 제조하는 방법을 구체적으로 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a method of manufacturing the liquid crystal panel configured as described above will be described in detail.

먼저, 상기 제 1 기판(210)에 화상표시영역을 정의하도록 종횡으로 배열되어 복수개의 화소 영역을 구성하는 게이트 배선 및 데이터 배선과 그 교차점에 박막트 랜지스터(T)를 형성한다.First, a thin film transistor T is formed at an intersection thereof with a gate line and a data line arranged vertically and horizontally to define an image display area on the first substrate 210.

그리고, 상기 화상비표시영역에서 외부 신호를 인가하는 공통 전압 배선(212)을 형성한다.A common voltage wiring 212 for applying an external signal in the image non-display area is formed.

상기 박막 트랜지스터가 형성된 제 1 기판(210) 상에 절연막을 형성하고 상기 절연막에 공통 전압 배선(212)을 노출하는 다수의 은도트 패드 콘택홀(289)을 소정 위치에 형성한다.An insulating film is formed on the first substrate 210 on which the thin film transistor is formed, and a plurality of silver dot pad contact holes 289 exposing the common voltage line 212 are formed at a predetermined position.

이때, 상기 절연막은 실리콘 질화막, 실리콘 산화막 등으로 이루어지는 보호층(270)을 포함하여, 상기 박막 트랜지스터 형성시 게이트 전극(222) 상에 형성되는 게이트 절연막(230)을 포함한다.In this case, the insulating layer includes a protective layer 270 made of a silicon nitride layer, a silicon oxide layer, or the like, and includes a gate insulating layer 230 formed on the gate electrode 222 when the thin film transistor is formed.

그리고, 상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결되는 화소 전극(281)과 상기 은도트 패드 콘택홀(289) 상에서 상기 화상비표시영역으로 형성되는 은도트 패드(288)를 형성한다.The pixel electrode 281 electrically connected to the thin film transistor and the silver dot pad 288 formed as the image non-display area are formed on the silver dot pad contact hole 289.

이어서, 상기 화상표시영역의 외곽을 따라 상기 은도트 패드 콘택홀(289) 상에 씰 패턴(260)을 형성한다.Subsequently, a seal pattern 260 is formed on the silver dot pad contact hole 289 along the periphery of the image display area.

그리고, 상기 화상비표시영역에 형성되어 있는 은도트 패드(288) 상에 은 도트(266)를 형성하고, 최종적으로, 상기 제 1 기판(210)과 상기 은 도트(266)와 접촉하는 공통 전극(243)이 형성된 제 2 기판(220)을 합착한다.Then, a silver dot 266 is formed on the silver dot pad 288 formed in the image non-display area, and finally, a common electrode contacting the first substrate 210 and the silver dot 266. The second substrate 220 on which the 243 is formed is bonded.

이때, 상기 화소 전극(281)과 은도트 패드(288)는 투명한 도전성 물질로 이루어지는 것을 특징으로 한다.In this case, the pixel electrode 281 and the silver dot pad 288 are made of a transparent conductive material.

이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발 명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 액정 표시 장치 및 그 제조 방법은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.Although the present invention has been described in detail with reference to specific examples, this is for explaining the present invention in detail, and the liquid crystal display and the manufacturing method thereof according to the present invention are not limited thereto and within the technical spirit of the present invention. It is apparent that modifications and improvements are possible by those skilled in the art.

본 발명은 액정 패널에서 은 도트를 통해 제 1, 2 기판을 전기적으로 연결하기 위한 상기 도트패드 콘택홀을 씰 패턴 하에 형성시킴으로써 전식 또는 부식 불량을 방지하여 제품의 품질과 신뢰성을 향상시키는 효과가 있다.According to the present invention, the dot pad contact holes for electrically connecting the first and second substrates through the silver dots in the liquid crystal panel are formed under a seal pattern, thereby preventing electrical or corrosion failure, thereby improving product quality and reliability. .

Claims (6)

대향 배치되어 그 사이에 액정층이 형성된 제 1, 2 기판과, 상기 제 1 기판에 형성된 공통 전압 배선과, 상기 제 2 기판에 형성된 공통 전극과, 상기 제 1, 2 기판 사이의 가장 자리에 형성된 씰 패턴과, 상기 씰 패턴 외곽에서 상기 제 1, 2 기판을 전기적으로 연결하는 적어도 하나 이상의 은 도트(Ag dot)를 포함하여 형성되는 액정 표시 장치에서, First and second substrates disposed to face each other and having a liquid crystal layer interposed therebetween, common voltage wiring formed on the first substrate, common electrodes formed on the second substrate, and formed at edges between the first and second substrates. In a liquid crystal display device including a seal pattern and at least one silver dot electrically connecting the first and second substrates outside the seal pattern, 상기 제 1 기판에서 상기 씰 패턴 하에 다수의 은도트 패드 콘택홀이 형성되고, 상기 제2 기판에는 상기 씰 패턴의 내측으로 블랙 매트릭스가 형성된 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.A plurality of silver dot pad contact holes are formed in the first substrate under the seal pattern, and the second substrate has a black matrix formed inside the seal pattern. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 기판에서 상기 은 도트와 접속되며 상기 은도트 패드 콘택홀을 통해서 공통 전압 배선과 연결되는 은도트 패드를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And a silver dot pad connected to the silver dot on the first substrate and connected to a common voltage line through the silver dot pad contact hole. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 기판에 종횡으로 배열되어 복수개의 화소 영역을 구성하는 게이트 배선 및 데이터 배선과 그 교차점에 박막트랜지스터를 구비하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And a thin film transistor disposed at an intersection thereof with a gate line and a data line arranged vertically and horizontally on the first substrate to form a plurality of pixel regions. 제 1 기판에 화상표시영역을 정의하도록 종횡으로 배열되어 복수개의 화소 영역을 구성하는 게이트 배선 및 데이터 배선과 그 교차점에 박막트랜지스터와, 상기 화상표시영역 외각의 화상비표시영역에 외부 신호를 인가하는 공통 전압 배선을 형성하는 단계와;A gate line and data line arranged vertically and horizontally to define an image display area on the first substrate, and a thin film transistor at an intersection thereof, and an external signal applied to an image non-display area outside the image display area. Forming a common voltage wiring; 상기 박막 트랜지스터가 형성된 상기 제 1 기판 상에 절연막을 형성하고 상기 절연막에 공통 전압 배선을 노출하는 다수의 은도트 패드 콘택홀을 형성하는 단계와;Forming a plurality of silver dot pad contact holes for forming an insulating film on the first substrate on which the thin film transistor is formed and exposing a common voltage line to the insulating film; 상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결되는 화소 전극과 상기 은도트 패드 콘택홀 상에서 상기 화상비표시영역으로 형성되는 은도트 패드를 형성하는 단계와;Forming a pixel electrode electrically connected to the thin film transistor and a silver dot pad formed as the image non-display area on the silver dot pad contact hole; 상기 화상표시영역의 외곽을 따라 상기 은도트 패드 콘택홀 상에 씰 패턴을 형성하는 단계와;Forming a seal pattern on the silver dot pad contact hole along the periphery of the image display area; 상기 화상비표시영역에 형성되어 있는 은도트 패드 상에 은 도트를 형성하는 단계와;Forming a silver dot on the silver dot pad formed in the image non-display area; 상기 제 1 기판과 상기 은 도트와 접촉하는 공통 전극이 형성된 제 2 기판을 합착하는 단계를 포함하고,Bonding the first substrate to a second substrate having a common electrode in contact with the silver dot; 상기 제 2 기판에는 상기 씰 패턴의 내측으로 블랙 매트릭스가 형성된 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And a black matrix is formed on the second substrate to the inner side of the seal pattern. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 화소 전극과 은도트 패드는 투명한 도전성 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And the pixel electrode and the silver dot pad are made of a transparent conductive material. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 박막 트랜지스터는 기판 상에 형성된 게이트 전극과, 상기 게이트 전극을 덮는 게이트 절연막과, 상기 게이트 절연막 상에 형성된 액티브층과, 상기 액티브층 상에 형성된 층간 절연막과, 상기 액티브층과 층간 절연막을 관통하여 접속하고 소정 간격 이격하는 소스 및 드레인 전극을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.The thin film transistor penetrates through a gate electrode formed on a substrate, a gate insulating film covering the gate electrode, an active layer formed on the gate insulating film, an interlayer insulating film formed on the active layer, and the active layer and an interlayer insulating film. A method of manufacturing a liquid crystal display device comprising a source and a drain electrode connected to each other and spaced apart from each other by a predetermined interval.
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