KR20050064753A - An array plate for lcd and the fabrication method thereof - Google Patents

An array plate for lcd and the fabrication method thereof Download PDF

Info

Publication number
KR20050064753A
KR20050064753A KR1020030096343A KR20030096343A KR20050064753A KR 20050064753 A KR20050064753 A KR 20050064753A KR 1020030096343 A KR1020030096343 A KR 1020030096343A KR 20030096343 A KR20030096343 A KR 20030096343A KR 20050064753 A KR20050064753 A KR 20050064753A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrode
pixel
liquid crystal
crystal display
display device
Prior art date
Application number
KR1020030096343A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
백흠일
Original Assignee
엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지.필립스 엘시디 주식회사 filed Critical 엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority to KR1020030096343A priority Critical patent/KR20050064753A/en
Publication of KR20050064753A publication Critical patent/KR20050064753A/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136259Repairing; Defects

Abstract

본 발명은 화상 표시장치에 관한 것으로 특히, 불량 화소를 리페어(repair)하는 액정 표시 장치용 어레이 기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image display device, and more particularly, to an array substrate for a liquid crystal display device for repairing defective pixels and a manufacturing method thereof.

본 발명에 따르면, 액정 표시 장치를 제조시에 동일 컬러의 서브 픽셀과 리던던시(redundancy) 전극 구조를 공유시킴으로써 암점 불량 발생시에 레이저 웰딩(laser welding)에 의해 화질을 개선할 수 있으며, 불량 화소를 리페어(repair)하여 제품 불량을 줄이고 신뢰도를 높일 수 있다.According to the present invention, when the liquid crystal display is manufactured, the redundancy electrode structure is shared with the sub-pixels of the same color, so that image quality can be improved by laser welding when dark spot defects occur, and the defective pixels are repaired. Repair can reduce product defects and increase reliability.

Description

액정 표시 장치용 어레이 기판 및 그 제조 방법{An array plate for LCD and the fabrication method thereof}An array substrate for a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same

본 발명은 화상 표시장치에 관한 것으로 특히, 불량 화소를 리페어(repair)하는 액정 표시 장치용 어레이 기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image display device, and more particularly, to an array substrate for a liquid crystal display device for repairing defective pixels and a manufacturing method thereof.

최근, 전자산업의 발달과 함께 TV 브라운관 등에 제한적으로 사용되었던 디스플레이 장치가 개인용 컴퓨터, 노트북, 무선 단말기, 자동차 계기판, 전광판 등에 까지 확대 사용되고, 정보통신 기술의 발달과 함께 대용량의 화상정보를 전송할 수 있게 됨에 따라 이를 처리하여 구현할 수 있는 차세대 디스플레이 장치의 중요성이 커지고 있다.Recently, with the development of the electronics industry, display devices, which have been limitedly used for TV CRTs, have been widely used in personal computers, notebooks, wireless terminals, automobile dashboards, electronic displays, etc. As a result, the importance of the next generation display device that can process and implement this is increasing.

이와 같은 차세대 디스플레이 장치는 경박단소, 고휘도, 대화면, 저소비전력 및 저가격화를 실현할 수 있어야 하는데, 이에 부응하여 근래에는 LCD(Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electro Luminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display)등 여러 가지 평판 표시 장치가 연구되어 왔고, 그 중 하나로 최근에 액정 표시 장치(LCD)가 주목을 받고 있다.Such next-generation display devices should be able to realize light and small size, high brightness, large screen, low power consumption and low price. And various flat panel display devices such as a vacuum fluorescent display (VFD) have been studied, and one of them has recently attracted attention.

상기 액정 표시 장치는 해상도가 다른 평판 표시 장치보다 뛰어나고, 동화상을 구현할 때 그 품질이 브라운관에 비할 만큼 응답 속도가 빠른 특성을 나타내고 있다.The liquid crystal display device is superior in resolution to other flat panel display devices, and exhibits characteristics such that the response speed is faster than that of a CRT when a moving image is realized.

또한, 상기 액정 표시 장치는 고휘도, 고콘트라스트, 저소비전력성 등이 우수한 특성을 가지므로 데스크탑 컴퓨터 모니터, 노트북 컴퓨터 모니터, TV 수상기, 차량 탑재용 TV 수상기, 네비게이션 등 광범위한 분야에서 활용되고 있다.In addition, the liquid crystal display device has excellent characteristics such as high brightness, high contrast, low power consumption, and so is used in a wide range of fields such as a desktop computer monitor, a notebook computer monitor, a TV receiver, a vehicle-mounted TV receiver, and navigation.

일반적으로 액정 표시 장치는 일측에 전극이 각각 형성되어 있는 두 기판을, 두 전극이 형성되어 있는 면이 마주 대하도록 배치하고 두 기판 사이에 액정 물질을 주입한 다음, 두 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장에 의해 액정 분자를 움직이게 함으로써, 이에 따라 달라지는 빛의 투과율에 의해 화상을 표현하는 장치이다.In general, a liquid crystal display device is formed by arranging two substrates having electrodes formed on one side thereof so that the surfaces on which the two electrodes are formed face each other, injecting a liquid crystal material between the two substrates, and then applying voltage to the two electrodes. By moving the liquid crystal molecules by the electric field is a device that represents the image by the transmittance of light that varies accordingly.

이와 같은 액정 표시 장치는, 화상을 표시하는 액정 패널과 상기 액정 패널에 구동신호를 인가하기 위한 구동부로 크게 구분될 수 있으며, 상기 액정 패널은 일정 공간을 가지고 합착된 제 1, 제 2 기판과, 상기 두 기판 사이에 주입된 액정층으로 구성된다.Such a liquid crystal display device may be broadly divided into a liquid crystal panel displaying an image and a driving unit for applying a driving signal to the liquid crystal panel, wherein the liquid crystal panel includes first and second substrates bonded to each other with a predetermined space; It consists of a liquid crystal layer injected between the two substrates.

통상 상기 액정 패널은 두 개의 유리 기판 또는 투명한 플라스틱 기판 사이에 액정을 채운 구조로 되어 있다. 이 액정에 전압을 인가할 수 있도록 기판에는 투명 전극(공통 전극, 화소 전극)이 형성되어 있다. 이 투명 전극은 상기 액정에 전압을 가하여 온/오프(on/off)를 제어하는 역할을 한다. Usually, the liquid crystal panel has a structure in which a liquid crystal is filled between two glass substrates or a transparent plastic substrate. A transparent electrode (common electrode, pixel electrode) is formed on the substrate so that voltage can be applied to the liquid crystal. The transparent electrode serves to control the on / off by applying a voltage to the liquid crystal.

즉, 액정 표시 장치의 광 투과량은 상기 투명 전극에 인가되는 전압에 의해 제어되고, 광 셔터(shutter) 효과에 의해 문자/화상을 표시하게 된다. That is, the light transmission amount of the liquid crystal display device is controlled by the voltage applied to the transparent electrode, and displays characters / images by the optical shutter effect.

이러한 액정 표시 장치 중에서도, 각 화소(pixel)별로 전압의 온/오프를 조절할 수 있는 스위칭 소자가 구비된 액티브 매트릭스형 액정표시장치가 해상도 및 동영상 구현능력이 뛰어나 가장 주목받고 있다. Among such liquid crystal display devices, an active matrix liquid crystal display device having a switching element capable of controlling voltage on / off for each pixel is attracting the most attention due to its excellent resolution and ability to implement video.

도 1은 일반적인 액정 표시 장치의 일부영역에 대한 입체도로서, 액정이 구동되는 영역으로 정의되는 액티브 영역을 중심으로 도시하였다. FIG. 1 is a three-dimensional view of a portion of a general liquid crystal display, and is shown centering on an active region defined as a region in which a liquid crystal is driven.

도시한 바와 같이, 서로 일정간격 이격되어 상부 및 하부 기판(110, 130)이 대향하고 있고, 이 상부 및 하부 기판(110, 130) 사이에는 액정층(150)이 개재되어 있다. As shown, the upper and lower substrates 110 and 130 are spaced apart from each other by a predetermined distance, and the liquid crystal layer 150 is interposed between the upper and lower substrates 110 and 130.

상기 하부 기판(130) 상부에는 다수 개의 게이트 및 데이터 배선(132, 134)이 서로 교차되어 있고, 이 게이트 및 데이터 배선(132, 134)이 교차되는 지점에 박막트랜지스터(T)가 형성되어 있으며, 게이트 및 데이터 배선(132, 134)이 교차되는 영역으로 정의되는 화소 영역(P)에는 박막트랜지스터(T)와 연결된 화소 전극(146)이 형성되어 있다. A plurality of gates and data lines 132 and 134 cross each other on the lower substrate 130, and a thin film transistor T is formed at a point where the gates and data lines 132 and 134 cross each other. The pixel electrode 146 connected to the thin film transistor T is formed in the pixel area P defined as an area where the gate and the data lines 132 and 134 intersect.

도면으로 제시하지는 않았지만, 박막트랜지스터(T)는 게이트 전압을 인가받는 게이트 전극과, 데이터 전압을 인가받는 소스 및 드레인 전극과, 게이트 전압과 데이터 전압 차에 의해 전압의 온/오프를 조절하는 채널(ch ; channel)로 구성된다. Although not shown in the drawing, the thin film transistor T includes a gate electrode to which a gate voltage is applied, a source and drain electrode to which a data voltage is applied, and a channel for controlling voltage on / off by a difference between the gate voltage and the data voltage ( ch; channel).

그리고, 상부 기판(110) 하부에는 컬러필터층(112), 공통 전극(116)이 차례대로 형성되어 있다. In addition, the color filter layer 112 and the common electrode 116 are sequentially formed below the upper substrate 110.

도면으로 상세히 도시하지 않았지만, 컬러필터층(112)은 특정한 파장대의 빛만을 투과시키는 컬러필터와, 컬러필터의 경계부에 위치하여 액정의 배열이 제어되지 않는 영역상의 빛을 차단하는 블랙매트릭스로 구성된다. Although not shown in detail in the drawing, the color filter layer 112 includes a color filter for transmitting only light of a specific wavelength band and a black matrix positioned at a boundary of the color filter to block light on an area where the arrangement of liquid crystals is not controlled.

그리고, 상부 및 하부 기판(110, 130)의 각 외부면에는 편광축과 평행한 빛만을 투과시키는 상부 및 하부 편광판(152, 154)이 위치하고, 하부 편광판(154) 하부에는 별도의 광원인 백라이트(back light)가 배치되어 있다. In addition, upper and lower polarizers 152 and 154 are disposed on each outer surface of the upper and lower substrates 110 and 130 to transmit only light parallel to the polarization axis, and a backlight is provided under the lower polarizer 154 as a separate light source. light) is placed.

이러한 액정표시장치는 스위칭 소자 및 화소 전극을 형성하는 어레이 기판 제조 공정과 컬러필터 및 공통 전극을 형성하는 컬러필터 기판 제조 공정을 거친 기판을 이용하여, 이 두 기판 사이에 액정을 개재하는 액정셀 공정을 거쳐 완성된다. The liquid crystal display device uses a substrate that has undergone an array substrate manufacturing process for forming a switching element and a pixel electrode and a color filter substrate manufacturing process for forming a color filter and a common electrode, and a liquid crystal cell process that interposes liquid crystal between the two substrates. Completed through

상기 액정셀 공정은 어레이 공정이나 컬러필터 공정에 비해 상대적으로 반복되는 공정이 거의 없는 것이 특징이라고 할 수 있다. 전체 공정은 액정 분자의 배향을 위한 배향막 형성공정과 셀 갭(cell gap) 형성공정, 셀 절단(cutting) 공정, 액정주입 공정으로 크게 나눌 수 있고, 이러한 공정을 거친 액정셀은 품질검사를 통해 선별된 액정패널의 외측에 각각 편광판을 부착한 후, 구동회로를 연결하면 액정 표시 장치가 완성된다.The liquid crystal cell process may be characterized in that the process is relatively little compared to the array process or the color filter process. The whole process can be largely divided into an alignment layer forming process for forming the liquid crystal molecules, a cell gap forming process, a cell cutting process, and a liquid crystal injection process. After attaching the polarizing plates to the outside of the liquid crystal panel, the liquid crystal display device is completed by connecting the driving circuits.

이러한 액정 표시 장치는 노멀리 블랙 모드(Normally black Mode)의 액정이 사용될 경우, 박막 트랜지스터(T)에서 소스 전극과 드레인 전극 사이의 채널(channel)에 흠결이 발생하면 전압이 화소 전극에 인가되지 않으므로 이 화소셀은 암점으로 나타나게 된다. In the liquid crystal display, when a liquid crystal in a normally black mode is used, if a defect occurs in a channel between the source electrode and the drain electrode in the thin film transistor T, a voltage is not applied to the pixel electrode. This pixel cell appears as a dark spot.

즉, 드레인 전극과 소스 전극이 오픈된 불량 화소셀은 실제 원하는 데이터가 입력되지 못하므로 액정 표시 장치는 완전한 색의 구현이 불가능해져 화질이 불량해지는 문제점이 있다.That is, since the bad pixel cell in which the drain electrode and the source electrode are opened cannot actually input desired data, the liquid crystal display cannot implement full color and thus has poor quality.

본 발명은 액정 표시 장치를 제조시에 동일 컬러의 서브 픽셀과 리던던시(redundancy) 전극 구조를 공유시킴으로써 암점 불량 발생시에 화질을 개선할 수 있는 액정 표시 장치용 어레이 기판 및 그 제조 방법을 제공하는 데 목적이 있다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an array substrate for a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, which are capable of improving image quality when dark spot defects are generated by sharing a redundancy electrode structure with subpixels of the same color in manufacturing a liquid crystal display device. There is this.

상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정 표시 장치용 어레이 기판은, 동일한 컬러의 제 1, 2 서브 픽셀(sub-pixel)이 정의된 기판과; 상기 서브 픽셀의 일측에 제 1 방향으로 구성된 다수의 게이트 배선과 이와 교차하여 제 2 방향으로 구성된 다수의 데이터 배선과; 상기 서브 픽셀 내에서 게이트 전극과 액티브층과 소스 전극과 드레인 전극을 포함하는 박막트랜지스터와; 상기 드레인 전극과 연결되는 화소 전극과; 상기 화소 전극과 연결되는 스토리지 전극과; 상기 제 1 서브 픽셀의 드레인 전극과 제 2 서브 픽셀의 스토리지 전극과 절연막을 사이에 두고 각각 소정 영역 중첩되는 리던던시(redundancy) 전극을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, an array substrate for a liquid crystal display according to the present invention comprises: a substrate in which first and second sub-pixels of the same color are defined; A plurality of gate lines arranged in a first direction on one side of the sub pixel and a plurality of data lines arranged in a second direction crossing the gate lines; A thin film transistor including a gate electrode, an active layer, a source electrode, and a drain electrode in the subpixel; A pixel electrode connected to the drain electrode; A storage electrode connected to the pixel electrode; And a redundancy electrode overlapping a predetermined region with the drain electrode of the first subpixel, the storage electrode of the second subpixel, and the insulating layer interposed therebetween.

상기 화소 전극과 엇갈리게 구성되며 제 1 방향으로 형성되는 공통 전극을 더 구비하는 것을 특징으로 한다.The display device may further include a common electrode configured to cross the pixel electrode and formed in the first direction.

상기 화소 전극을 이루는 물질은 투명 도전성 물질인 것을 특징으로 한다.The material constituting the pixel electrode is characterized in that the transparent conductive material.

상기 투명 도전성 물질은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), ITZO(indium tin zinc oxide) 중에서 선택되어진 어느 한 물질인 것을 특징으로 한다. The transparent conductive material is any one material selected from indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), and indium tin zinc oxide (ITZO).

상기 리던던시 전극은 화소 전극과 동일한 물질인 것을 특징으로 한다.The redundancy electrode is made of the same material as the pixel electrode.

상기 리던던시 전극은 레이저 웰딩(laser welding)에 의해서 제 1 서브 픽셀의 화소 전극과 제 2 서브 픽셀의 스토리지 전극이 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 한다.The redundancy electrode is characterized in that the pixel electrode of the first sub-pixel and the storage electrode of the second sub-pixel are electrically connected by laser welding.

또한, 상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정 표시 장치용 어레이 기판의 제조 방법은, 동일한 컬러의 제 1, 2 서브 픽셀(sub-pixel)이 정의되는 기판을 준비하는 단계와; 상기 서브 픽셀 내에서 게이트 배선에서 연장되는 게이트 전극과, 상기 게이트 전극 상에 제 1 절연막을 사이에 두고 액티브층 및 오믹콘택층을 형성하는 단계와; 상기 액티브층 상에 데이터 배선에서 연장되는 소스 전극과, 이와 소정 간격 이격하는 드레인 전극과, 스토리지 전극을 형성하는 단계와; 상기 드레인 전극과 연결되는 화소 전극을 형성하는 단계와; 상기 제 1 서브 픽셀의 드레인 전극과 제 2 서브 픽셀의 스토리지 전극과 제 2 절연막을 사이에 두고 각각 소정 영역 중첩되는 리던던시(redundancy) 전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.In addition, to achieve the above object, a method of manufacturing an array substrate for a liquid crystal display device according to the present invention comprises the steps of preparing a substrate in which the first sub-pixel of the same color is defined; Forming an active layer and an ohmic contact layer in the subpixel with a gate electrode extending from a gate wiring and a first insulating layer interposed therebetween; Forming a source electrode extending from the data line, a drain electrode spaced apart from the predetermined gap, and a storage electrode on the active layer; Forming a pixel electrode connected to the drain electrode; And forming a redundancy electrode overlapping a predetermined region with the drain electrode of the first sub pixel, the storage electrode of the second sub pixel, and the second insulating layer interposed therebetween.

상기 리던던시 전극은 화소 전극 형성시에 동일한 물질로 형성되는 것을 특징으로 한다.The redundancy electrode is formed of the same material when the pixel electrode is formed.

상기 리던던시 전극은 제 1 서브 픽셀의 화소 전극과 제 2 서브 픽셀의 스토리지 전극과 중첩되는 영역을 레이저 웰딩(laser welding)하여 전기적으로 연결하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The redundancy electrode may further include electrically connecting a region overlapping the pixel electrode of the first subpixel and the storage electrode of the second subpixel by laser welding.

상기 화소 전극과 엇갈리게 구성되는 공통 전극을 더 구비하는 것을 특징으로 한다.The display device may further include a common electrode configured to cross the pixel electrode.

이하, 첨부한 도면을 참조로 하여 본 발명에 따른 액정 표시 장치에 대해서 구체적으로 설명한다.Hereinafter, a liquid crystal display according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 일 실시예로서, 횡전계방식 액정 표시 장치의 어레이 기판의 개략적인 평면도이며, 동일한 컬러의 서브 픽셀(sub-pixel)(P1, P2)이 서로 이웃하게 형성되어 있다.2 is a schematic plan view of an array substrate of a transverse electric field type liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, in which sub-pixels P 1 and P 2 of the same color are formed adjacent to each other. have.

도 2에 도시된 바와 같이, 횡전계 방식 액정 표시 장치용 어레이 기판은 소정간격 이격되어 평행하게 일 방향으로 구성된 다수의 게이트 배선(208)과, 상기 게이트 배선(208)에 근접하여 평행하게 일 방향으로 구성된 공통 배선(231)과, 상기 두 배선과 교차하며 특히 게이트 배선(208)과는 화소 영역(P1, P2)을 정의하는 데이터 배선(210)이 구성된다.As shown in FIG. 2, an array substrate for a transverse electric field type liquid crystal display device includes a plurality of gate lines 208 configured in one direction in parallel with a predetermined interval and one direction in parallel with the gate lines 208. The common wiring 231 is configured to intersect the two wirings, and in particular, the data wiring 210 is defined between the gate wiring 208 and the pixel regions P 1 and P 2 .

이때, 상기 게이트 배선(208)과 데이터 배선(210)은 Al, Cu, Ta, Ti, Mo, Mo 합금(alloy), Al 합금 등의 금속을 증착한 후 패터닝하여 형성한다.In this case, the gate wiring 208 and the data wiring 210 are formed by depositing and patterning a metal such as Al, Cu, Ta, Ti, Mo, Mo alloy, Al alloy, and the like.

상기 게이트 배선(208)과 데이터 배선(210)의 교차지점에는 게이트 전극(209)과 반도체층(215)과 소스 전극(216)및 드레인 전극(217)을 포함하는 박막트랜지스터(TFT)가 구성되며, 상기 소스 전극(216)은 상기 데이터 배선(210)과 연결되고, 상기 게이트 전극(209)은 상기 게이트 배선(208)과 연결된다.A thin film transistor (TFT) including a gate electrode 209, a semiconductor layer 215, a source electrode 216, and a drain electrode 217 is formed at an intersection point of the gate wiring 208 and the data wiring 210. The source electrode 216 is connected to the data line 210 and the gate electrode 209 is connected to the gate line 208.

상기 화소영역의 상부에는 상기 드레인 전극(217)과 연결되는 화소 전극(214)과, 상기 화소 전극(214)과 평행하게 구성되고 상기 공통 배선(231)과 연결되는 공통 전극(213)이 구성된다.A pixel electrode 214 connected to the drain electrode 217 and a common electrode 213 connected in parallel with the pixel electrode 214 and connected to the common wiring 231 are formed on the pixel region. .

상기 화소 전극(214)은 상기 드레인 전극(217)과 드레인 콘택홀(233)을 통하여 드레인 전극(217)과 전기적으로 접속되어 서로 소정간격 이격된 다수의 수직부(214b)와, 상기 수직부(214b)를 하나로 연결하는 수평부(214a)로 구성된다.The pixel electrode 214 is electrically connected to the drain electrode 217 through the drain electrode 217 and the drain contact hole 233 to be spaced apart from each other by a plurality of vertical portions 214b and the vertical portion ( It is composed of a horizontal portion (214a) connecting the 214b.

상기 공통 전극(213)은 상기 공통 배선(231)에서 아래로 수직하게 연장되고, 상기 화소 전극(214)의 수직부(214b)와 엇갈려 구성되는 다수의 수직부(213b)와, 상기 각 수직부(213b)를 하나로 연결하는 수평부(213a)로 구성된다. The common electrode 213 extends vertically downward from the common wiring 231, and includes a plurality of vertical portions 213b interposed with the vertical portions 214b of the pixel electrode 214, and the vertical portions 213b. It consists of a horizontal part 213a which connects 213b to one.

이때, 상기 공통 전극(213)의 수직부(213b)와 화소 전극(214)의 수직부(214b)는 지그재그(zigzag) 형상으로 구성되어 서로 엇갈려 구성되어 있다.At this time, the vertical portion 213b of the common electrode 213 and the vertical portion 214b of the pixel electrode 214 are configured in a zigzag shape and are alternately formed.

상기 공통 배선 상에는 게이트 절연막을 사이에 두고 스토리지 전극이 형성되어 있으며, 상기 스토리지 전극은 화소 전극과 연결되어 스토리지 캐패시터를 형성한다.A storage electrode is formed on the common line with a gate insulating layer interposed therebetween, and the storage electrode is connected to the pixel electrode to form a storage capacitor.

그리고, 화소 전극 물질로 이루어진 리던던시(redundancy) 전극이 동일한 컬러 서브 픽셀(P1, P2) 사이의 게이트 배선 상부에서 오버랩하며 연결되어 있다.In addition, a redundancy electrode made of a pixel electrode material is overlapped and connected over the gate wiring between the same color subpixels P 1 and P 2 .

이때, 상기 리던던시 전극은 이웃하는 상, 하부 서브 픽셀(P1, P2)에서 상부 픽셀(P1)의 드레인 전극과 하부 픽셀(P2)의 스토리지 전극과 소정 영역 오버랩되어 있다.In this case, the redundancy electrode may overlap the storage electrode and a predetermined area in the neighboring upper and lower subpixels (P 1, P 2) the upper pixel (P 1) the drain electrode and the lower pixel (P 2) in which.

따라서, 상기와 같은 구조를 가지는 액정 표시 장치에서 박막 트랜지스터 불량에 의해 암점이 발생한 경우 불량이 발생한 화소에 형성되어 있는 리던던시 전극의 양 끝단을 레이저 웰딩(laser welding) 처리하면 상기 리던던시 전극에 의해서 불량 화소가 인접한 정상 박막 트랜지스터의 신호를 인가하여 같이 충전됨으로써 암점 불량에 의한 화상의 왜곡을 최소화 할 수 있게 된다.Therefore, in the liquid crystal display having the structure described above, when a dark spot occurs due to a defect in the thin film transistor, when the both ends of the redundancy electrode formed on the defective pixel are laser welded, the redundancy electrode causes the defective pixel. Is charged by applying signals from adjacent normal thin film transistors, thereby minimizing distortion of an image due to a dark spot defect.

도 3은 도 2에서 Ⅰ-Ⅰ'로 절단한 단면을 보여주는 도면이고, 도 4는 도 3의 횡전계방식 액정 표시 장치에서 화소가 리페어된 어레이 기판을 보여주는 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating an array substrate in which pixels are repaired in the transverse electric field type liquid crystal display of FIG. 3.

상기 도 3과 도 4는 기본적으로 동일한 구성이므로, 반복되는 구조에 대해서는 설명 및 부호 설명을 생략한다.3 and 4 are basically the same configuration, the description and reference numerals will be omitted for the repeated structure.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 횡전계방식 액정 표시 장치용 어레이 기판은 기판(200) 상에 금속을 증착한 후 패터닝하여 복수개의 게이트 배선(208)과, 상기 게이트 배선(208)에서 분기되어 박막 트랜지스터 위치에 게이트 전극(209)이 형성된다.As shown in FIG. 3, the array substrate for a transverse electric field type liquid crystal display device according to the present invention is formed by depositing a metal on the substrate 200 and patterning the plurality of gate wirings 208 and the gate wirings 208. Branched at, the gate electrode 209 is formed at the thin film transistor position.

그리고, 상기 게이트 배선(208)에 평행하도록 공통 배선(231)과 상기 공통 배선(231)에서 아래로 수직하게 형성되는 공통 전극(213)을 형성한다.In addition, the common wire 231 and the common electrode 213 are formed vertically downward from the common wire 231 so as to be parallel to the gate wire 208.

다음으로, 상기 게이트 전극(209)을 포함한 전면에 게이트 절연막(220)을 형성하고, 상기 게이트 절연막(220) 상부에 액티브층(215a)과 오믹콘택층(215b)을 이루는 반도체층(215)이 형성된다.Next, the gate insulating layer 220 is formed on the entire surface including the gate electrode 209, and the semiconductor layer 215 forming the active layer 215a and the ohmic contact layer 215b is formed on the gate insulating layer 220. Is formed.

그리고, 상기 게이트 절연막(220) 상부에 상기 게이트 배선(208)과 매트릭스 구조를 이루도록 데이터 배선(210)을 형성한다.The data line 210 is formed on the gate insulating layer 220 to form a matrix structure with the gate line 208.

이 때, 상기 데이터 배선(210) 형성시, 박막 트랜지스터의 소스 전극, 드레인 전극(216, 217)을 동시에 형성한다.At this time, when the data line 210 is formed, the source electrode and the drain electrode 216 and 217 of the thin film transistor are simultaneously formed.

그리고, 상기 공통 배선(231) 상에 스토리지 전극(265)을 형성한다.The storage electrode 265 is formed on the common wiring 231.

이어서, 상기와 같이 형성된 기판(200) 상의 전면에 보호막(228)을 형성시킨다.Subsequently, a protective film 228 is formed on the entire surface of the substrate 200 formed as described above.

상기 보호막(228)은 벤조사이클로부텐과 아크릴계 수지를 포함하는 유기 절연 물질 이나 질화 실리콘(SiNX) 또는 산화 실리콘(SiO2)과 같은 무기 절연 물질 그룹 중에서 선택되어진 하나를 증착하여 형성할 수 있다.The passivation layer 228 may be formed by depositing an organic insulating material including benzocyclobutene and an acrylic resin or one selected from a group of inorganic insulating materials such as silicon nitride (SiN X ) or silicon oxide (SiO 2 ).

이후, 상기 드레인 전극(217)과 드레인 콘택홀(233)에서 전기적으로 연결되며 상기 데이터 배선(210)에 평행하도록 화소 전극(214)을 형성한다.Thereafter, the pixel electrode 214 is formed to be electrically connected to the drain electrode 217 and the drain contact hole 233 and parallel to the data line 210.

또한, 상기 화소 전극(214)은 스토리지 콘택홀(266)에서 스토리지 전극(265)과 전기적으로 연결되어 스토리지 캐패시터를 형성한다.In addition, the pixel electrode 214 is electrically connected to the storage electrode 265 in the storage contact hole 266 to form a storage capacitor.

이때, 상기 화소 전극(214) 형성시에 동일한 물질로 리던던시(redundancy) 전극(275) 구조를 더 형성하는데, 동일한 컬러를 가지는 이웃하는 서브 픽셀(P1, P2)을 한 쌍으로 하여 상기 리던던시 전극(275)을 공유한다.In this case, a redundancy electrode 275 structure is further formed of the same material when the pixel electrode 214 is formed, and the redundancy is made by pairing neighboring subpixels P 1 and P 2 having the same color. The electrode 275 is shared.

여기서, 상기 리던던시 전극(275)은 동일한 컬러의 서브 픽셀(P1, P2) 사이의 게이트 배선(208)을 중첩하며 형성되며, 일단은 상부 서브 픽셀(P1)의 드레인 전극(217)과 소정 영역 오버랩되며, 다른 일단은 하부 서브 픽셀(P2)의 스토리지 전극(265)과 소정 영역 오버랩된다.Here, the redundancy electrode 275 is formed by overlapping the gate wiring 208 between subpixels P 1 and P 2 of the same color, one end of which is connected to the drain electrode 217 of the upper sub pixel P 1 . The predetermined area overlaps, and the other end overlaps with the storage electrode 265 of the lower subpixel P 2 .

따라서, 도 4에 도시된 바와 같이, 액정 구동시에 불량 화소가 발생될 경우, 상기 드레인 전극(217)과 상기 스토리지 전극(265)에 오버랩된 리던던시 전극(275)의 양 끝단에 레이저 웰딩(laser welding)을 실시함으로써, 상기 드레인 전극(217)과 리던던시 전극(275)이 오버랩된 부분과 상기 스토리지 전극(265)과 리던던시 전극(275)이 오버랩된 각 부분의 보호막(228)을 뚫어 전기적으로 연결시킴으로써 상기 상부 서브 픽셀(P1)과 하부 서브 픽셀(P2)의 신호를 공유할 수 있다.Therefore, as shown in FIG. 4, when a bad pixel is generated during driving of the liquid crystal, laser welding is performed at both ends of the redundancy electrode 275 overlapping the drain electrode 217 and the storage electrode 265. By connecting the drain electrode 217 and the redundancy electrode 275 overlapping with each other, and through the protective film 228 of each portion overlapping the storage electrode 265 and the redundancy electrode 275, Signals of the upper subpixel P 1 and the lower subpixel P 2 may be shared.

즉, 하부 서브 픽셀(P2)에서 불량이 발생할 경우, 구동 회로로부터 인가되는 영상신호가 상부 서브 픽셀(P1)의 드레인 전극(217)으로부터 리던던시 전극(275)을 통해서 스토리지 전극(265)으로 인가되고, 상기 스토리지 전극(265)을 통해서 하부 서브 픽셀(P2)의 화소 전극(214)으로 전달되어 화소가 리페어(repair)된다.That is, when a failure occurs in the lower sub pixel P 2 , an image signal applied from the driving circuit is transferred from the drain electrode 217 of the upper sub pixel P 1 to the storage electrode 265 through the redundancy electrode 275. The pixel is repaired by being applied to the pixel electrode 214 of the lower sub-pixel P 2 through the storage electrode 265.

상기에서는 횡전계방식 액정 표시 장치를 실시예로 들어 구체적으로 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 노멀리 블랙(normally black) 모드의 액정 표시 장치에서의 암점 화소 리페어 방법에 관한 것이다.In the above, the transverse electric field type liquid crystal display device is described in detail by way of examples. However, the present invention is not limited thereto, and the present invention relates to a dark spot pixel repair method in a liquid crystal display device in a normally black mode.

이상 전술한 바와 같이, 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 액정 표시 장치용 어레이 기판 및 제조 방법은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.As described above, the present invention has been described in detail through specific embodiments, which are intended to specifically describe the present invention, and the array substrate and manufacturing method for a liquid crystal display device according to the present invention are not limited thereto. It is apparent that modifications and improvements are possible by one of ordinary skill in the art within the technical idea.

본 발명은 액정 표시 장치에서 채널 불량에 의한 화소의 암점 불량을 동일한 컬러의 이웃 화소와 리던던시(redundancy) 전극 구조를 공유시킴으로써 레이저 웰딩(laser welding)에 의해 화소를 리페어(repair)하여 제품 불량을 줄이고 신뢰도를 높일 뿐만 아니라 제품 수율을 향상시키는 효과가 있다. According to the present invention, a dark spot defect of a pixel due to a channel defect is shared with a neighboring pixel of the same color in a liquid crystal display to repair a pixel by laser welding, thereby reducing product defects. Not only does it increase reliability, but it also improves product yield.

도 1은 일반적인 액정 표시 장치의 일부영역에 대한 개략적인 입체도.1 is a schematic stereoscopic view of a partial region of a general liquid crystal display.

도 2는 본 발명에 따른 일 실시예로서, 횡전계방식 액정 표시 장치의 어레이 기판의 개략적인 평면도.2 is a schematic plan view of an array substrate of a transverse electric field type liquid crystal display device as one embodiment according to the present invention;

도 3은 도 2에서 Ⅰ-Ⅰ'로 절단한 단면을 보여주는 도면. 3 is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 2.

도 4는 도 3의 횡전계방식 액정 표시 장치에서 화소가 리페어된 어레이 기판을 보여주는 단면도.4 is a cross-sectional view illustrating an array substrate in which pixels are repaired in the transverse electric field type liquid crystal display of FIG. 3.

<도면의 주요부분에 대한 부호 설명><Description of Signs of Major Parts of Drawings>

200 : 기판 208 : 게이트 배선200: substrate 208: gate wiring

209 : 게이트 전극 210 : 데이터 배선209: gate electrode 210: data wiring

213 : 공통 전극 214 : 화소 전극 213: common electrode 214: pixel electrode

215 : 반도체층 215a : 액티브층215: semiconductor layer 215a: active layer

215b : 오믹콘택층 216 : 소스전극 215b: ohmic contact layer 216: source electrode

217 : 드레인 전극 220 : 게이트 절연막 217: drain electrode 220: gate insulating film

231 : 공통 배선 233 : 드레인 콘택홀231: common wiring 233: drain contact hole

228 : 보호막 265 : 스토리지 전극 228 protective film 265 storage electrode

266 : 스토리지 콘택홀 275 : 리던던시 전극266: storage contact hole 275: redundancy electrode

Claims (10)

동일한 컬러의 제 1, 2 서브 픽셀(sub-pixel)이 정의된 기판과;A substrate in which first and second sub-pixels of the same color are defined; 상기 서브 픽셀의 일측에 제 1 방향으로 구성된 다수의 게이트 배선과 이와 교차하여 제 2 방향으로 구성된 다수의 데이터 배선과;A plurality of gate lines arranged in a first direction on one side of the sub pixel and a plurality of data lines arranged in a second direction crossing the gate lines; 상기 서브 픽셀 내에서 게이트 전극과 액티브층과 소스 전극과 드레인 전극을 포함하는 박막트랜지스터와;A thin film transistor including a gate electrode, an active layer, a source electrode, and a drain electrode in the subpixel; 상기 드레인 전극과 연결되는 화소 전극과;A pixel electrode connected to the drain electrode; 상기 화소 전극과 연결되는 스토리지 전극과;A storage electrode connected to the pixel electrode; 상기 제 1 서브 픽셀의 드레인 전극과 제 2 서브 픽셀의 스토리지 전극과 절연막을 사이에 두고 각각 소정 영역 중첩되는 리던던시(redundancy) 전극을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 어레이 기판.And a redundancy electrode overlapping a predetermined region with the drain electrode of the first subpixel, the storage electrode of the second subpixel, and an insulating layer interposed therebetween. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 화소 전극과 엇갈리게 구성되며 제 1 방향으로 형성되는 공통 전극을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 어레이 기판.And a common electrode configured to cross the pixel electrode and formed in a first direction. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 화소 전극을 이루는 물질은 투명 도전성 물질인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 어레이 기판. The material of the pixel electrode is a transparent conductive material, the array substrate for a liquid crystal display device. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투명 도전성 물질은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), ITZO(indium tin zinc oxide) 중에서 선택되어진 어느 한 물질인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 어레이 기판. The transparent conductive material is any one material selected from indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), and indium tin zinc oxide (ITZO). 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 리던던시 전극은 화소 전극과 동일한 물질인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 어레이 기판.The redundancy electrode is an array substrate for a liquid crystal display device, characterized in that the same material as the pixel electrode. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 리던던시 전극은 레이저 웰딩(laser welding)에 의해서 제 1 서브 픽셀의 화소 전극과 제 2 서브 픽셀의 스토리지 전극이 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 어레이 기판.The redundancy electrode is an array substrate for a liquid crystal display device, characterized in that the pixel electrode of the first sub-pixel and the storage electrode of the second sub-pixel are electrically connected by laser welding. 동일한 컬러의 제 1, 2 서브 픽셀(sub-pixel)이 정의되는 기판을 준비하는 단계와;Preparing a substrate in which first and second sub-pixels of the same color are defined; 상기 서브 픽셀 내에서 게이트 배선에서 연장되는 게이트 전극과, 상기 게이트 전극 상에 제 1 절연막을 사이에 두고 액티브층 및 오믹콘택층을 형성하는 단계와; Forming an active layer and an ohmic contact layer on the gate electrode with a gate electrode extending from the gate wiring in the sub-pixel, and a first insulating layer interposed therebetween; 상기 액티브층 상에 데이터 배선에서 연장되는 소스 전극과, 이와 소정 간격 이격하는 드레인 전극과, 스토리지 전극을 형성하는 단계와;Forming a source electrode extending from the data line, a drain electrode spaced apart from the predetermined gap, and a storage electrode on the active layer; 상기 드레인 전극과 연결되는 화소 전극을 형성하는 단계와;Forming a pixel electrode connected to the drain electrode; 상기 제 1 서브 픽셀의 드레인 전극과 제 2 서브 픽셀의 스토리지 전극과 제 2 절연막을 사이에 두고 각각 소정 영역 중첩되는 리던던시(redundancy) 전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 어레이 기판의 제조 방법.And forming a redundancy electrode overlapping a predetermined region with the drain electrode of the first subpixel, the storage electrode of the second subpixel, and the second insulating layer interposed therebetween. Method of manufacturing an array substrate. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 리던던시 전극은 화소 전극 형성시에 동일한 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 어레이 기판의 제조 방법.The redundancy electrode is formed of the same material when the pixel electrode is formed, the manufacturing method of the array substrate for a liquid crystal display device. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 리던던시 전극은 제 1 서브 픽셀의 화소 전극과 제 2 서브 픽셀의 스토리지 전극과 중첩되는 영역을 레이저 웰딩(laser welding)하여 전기적으로 연결하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 어레이 기판의 제조 방법.The redundancy electrode further comprises electrically connecting a region overlapping the pixel electrode of the first subpixel and the storage electrode of the second subpixel by laser welding. Method of preparation. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 화소 전극과 엇갈리게 구성되는 공통 전극을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 어레이 기판의 제조 방법. A method of manufacturing an array substrate for a liquid crystal display device, further comprising a common electrode that is alternated with the pixel electrode.
KR1020030096343A 2003-12-24 2003-12-24 An array plate for lcd and the fabrication method thereof KR20050064753A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030096343A KR20050064753A (en) 2003-12-24 2003-12-24 An array plate for lcd and the fabrication method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030096343A KR20050064753A (en) 2003-12-24 2003-12-24 An array plate for lcd and the fabrication method thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20050064753A true KR20050064753A (en) 2005-06-29

Family

ID=37256313

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030096343A KR20050064753A (en) 2003-12-24 2003-12-24 An array plate for lcd and the fabrication method thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20050064753A (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100947273B1 (en) * 2006-12-29 2010-03-11 엘지디스플레이 주식회사 Array substrate for In-plane switching mode liquid crystal display device
KR101224455B1 (en) * 2005-12-26 2013-01-22 엘지디스플레이 주식회사 In-plane switching mode liquid crystal display and method for repairing the same
KR101246788B1 (en) * 2006-12-29 2013-03-26 엘지디스플레이 주식회사 An array substrate of Liquid Crystal Display Device and the method for fabricating thereof
KR101255311B1 (en) * 2006-06-29 2013-04-15 엘지디스플레이 주식회사 Flat Panel Display and Method of Controlling Picture Quality thereof
KR101340602B1 (en) * 2006-12-29 2013-12-11 엘지디스플레이 주식회사 An array substrate of In-Plane Switching Mode Liquid Crystal Display Device and the method for fabricating thereof
CN106773370A (en) * 2016-12-27 2017-05-31 深圳市华星光电技术有限公司 Array base palte and liquid crystal display panel
US11616115B2 (en) 2020-05-26 2023-03-28 Samsung Display Co., Ltd. Display device

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101224455B1 (en) * 2005-12-26 2013-01-22 엘지디스플레이 주식회사 In-plane switching mode liquid crystal display and method for repairing the same
KR101255311B1 (en) * 2006-06-29 2013-04-15 엘지디스플레이 주식회사 Flat Panel Display and Method of Controlling Picture Quality thereof
KR101246788B1 (en) * 2006-12-29 2013-03-26 엘지디스플레이 주식회사 An array substrate of Liquid Crystal Display Device and the method for fabricating thereof
US8154021B2 (en) 2006-12-29 2012-04-10 Lg Display Co., Ltd. Array substrate for liquid crystal display device and method of fabricating the same
TWI382221B (en) * 2006-12-29 2013-01-11 Lg Display Co Ltd Array substrate for liquid crystal display device and method of fabricating the same
US7924357B2 (en) 2006-12-29 2011-04-12 Lg Display Co., Ltd. Array substrate for liquid crystal display device and method of fabricating the same
KR100947273B1 (en) * 2006-12-29 2010-03-11 엘지디스플레이 주식회사 Array substrate for In-plane switching mode liquid crystal display device
US8416359B2 (en) 2006-12-29 2013-04-09 Lg Display Co., Ltd. Array substrate for liquid crystal display device and method of fabricating the same
US7787068B2 (en) 2006-12-29 2010-08-31 Lg. Display Co., Ltd. Array substrate for liquid crystal display device and method of fabricating the same
KR101340602B1 (en) * 2006-12-29 2013-12-11 엘지디스플레이 주식회사 An array substrate of In-Plane Switching Mode Liquid Crystal Display Device and the method for fabricating thereof
CN106773370A (en) * 2016-12-27 2017-05-31 深圳市华星光电技术有限公司 Array base palte and liquid crystal display panel
CN106773370B (en) * 2016-12-27 2020-03-27 深圳市华星光电技术有限公司 Liquid crystal display panel
US11616115B2 (en) 2020-05-26 2023-03-28 Samsung Display Co., Ltd. Display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7113243B2 (en) In-plane switching mode liquid crystal display device comprising common electrodes and pixel electrodes on both substrates and method of manufacturing the same
JP3014291B2 (en) Liquid crystal display panel, liquid crystal display device, and method of manufacturing liquid crystal display panel
US8964153B2 (en) In-plane switching mode liquid crystal display device and fabricating method thereof
US7580022B2 (en) In-plane switching mode liquid crystal display device and method of fabricating the same
US8493523B2 (en) Liquid crystal display with two sub-pixel regions and a storage capacitor
JPH0736058A (en) Active matrix type liquid crystal display device
WO2010131552A1 (en) Liquid crystal display device
US20110090417A1 (en) Liquid crystal display with improved side visibility and fabrication method thereof
US7388640B2 (en) In-plane switching mode liquid crystal device with the common electrode auxiliary line not generating an electric field for driving liquid crystal in the sub-pixel regions
US8432501B2 (en) Liquid crystal display with improved side visibility
KR20040050624A (en) In plane switching mode liquid crystal display device having improved aperture ratio
KR20050064753A (en) An array plate for lcd and the fabrication method thereof
KR20040061447A (en) In-Plane Liquid Crystal Display Device and the Method for Manufacturing the same
KR20080086119A (en) Repair method for liquid crystal display device
KR100469341B1 (en) In-plane switching mode liquid crystal display device and method for manufacturing the same
KR101087353B1 (en) array plate and the fabrication method for In-Plane-Switching mode LCD
KR101318247B1 (en) Liquid crystal display device and method for manufacturing of the same
KR101398641B1 (en) Liquid crystal display
KR20040025472A (en) In plane switching mode liquid crystal display device
KR101166578B1 (en) In plane switching mode liquid crystal display device and fabrication method thereof
KR100918651B1 (en) Liquid Crystal Display Device in In-Plane Switching mode and method for Manufacturing the same
KR101378055B1 (en) Liquid crystal display device
KR100885844B1 (en) Liquid crystal display device and method of fabricating thereof
KR101023362B1 (en) Liquid Crystal Display and the fabrication method
KR101023718B1 (en) Liquid Crystal Display Device and method for fabricating the same

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid