KR101021473B1 - 웨이퍼 정렬-배면 검사장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 웨이퍼의 정렬을 위해 오리엔터 및 웨이퍼 척에 의해 웨이퍼가 회전되는 동안 웨이퍼 배면의 오염물질 검지가 가능하도록 웨이퍼 척과 이웃하여 웨이퍼 정렬 배면 검사장치를 구성함으로써, 공정챔버 투입전 오염된 웨이퍼의 검출 및 제거가 가능하도록 하여 오염된 웨이퍼의 투입으로 인해 프로세서 챔버와 웨이퍼의 소손 및 공정 진행의 차질을 미연에 방지함과 아울러, 웨이퍼 배면의 오염물질 검출과 정렬을 동시에 수행하도록 함으로써 공정의 신뢰도 및 생산성을 향상시키도록 한 웨이퍼 정렬 배면 검사장치에 관한 것으로, 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬 배면 검사장치는 웨이퍼의 회전시 상기 웨이퍼에 형성된 얼라인마크를 감지하여 상기 웨이퍼 정렬을 위한 위치정보를 작성하는 오리엔터; 상기 웨이퍼의 배면 중앙에 맞붙어 상기 웨이퍼를 고정하고, 상기 고정된 웨이퍼의 정렬을 위해 상기 위치정보에 따라 상기 웨이퍼를 회전시키는 웨이퍼 척; 및 상기 웨이퍼 척과 이웃하여 상기 웨이퍼의 배면에 배치되며, 정렬을 위한 상기 웨이퍼의 회전시 상기 웨이퍼 배면에 부착된 오염물질 부착여부를 감지하고, 상기 오염물질의 감지시 알람 또는 공정중지 명령을 생성하는 검사장치;를 포함하여 구성된다.

Description

웨이퍼 정렬-배면 검사장치{A Wafer Align AND Back Inspection Device}
본 발명은 웨이퍼의 정렬을 위해 오리엔터 및 웨이퍼 척에 의해 웨이퍼가 회전되는 동안 웨이퍼 배면의 오염물질 검지가 가능하도록 웨이퍼 척과 이웃하여 웨이퍼 정렬 배면 검사장치를 구성함으로써, 공정챔버 투입전 오염된 웨이퍼의 검출 및 제거가 가능하도록 하여 오염된 웨이퍼의 투입으로 인해 프로세서 챔버와 웨이퍼의 소손 및 공정 진행의 차질을 미연에 방지함과 아울러, 웨이퍼 배면의 오염물질 검출과 정렬을 동시에 수행하도록 함으로써 공정의 신뢰도 및 생산성을 향상시키도록 한 웨이퍼 정렬 배면 검사장치에 관한 것이다.
웨이퍼는 각종 반도체 소자를 제조하기 위해 사용된다. 이러한 웨이퍼는 클린룸(Clean Room) 환경 하에서 외부 오염물질과 격리되어 각종 공정에 투입된다.
도 1은 웨이퍼 제조 장치의 일례를 도시한 예시도이다.
도 1을 참조하면, 웨이퍼(미도시)는 매거진(또는 카트리지, 미도시)이라 불리우는 수납수단에 의해 다수가 하나의 그룹으로 공정장치에 이송되며, 이송장치(50)는 매거진으로부터 웨이퍼를 인출하여 로드록챔버(40)를 통해 웨이퍼 처리시스템(10)에 이송한다. 이를 위해, 웨이퍼는 포드로더(pod loader, 24)로부터 이송장치(또는 미니 인바이런먼트 : mini-environment, 50)에 투입되며, 이송장치(50)에 설치된 제2이송로봇(21)에 의해 로드록 챔버(40)로 이송된다. 이러한 웨이퍼 처리시스템(10)에는 웨이퍼(40)를 웨이퍼 처리 시스템(10)에 인입하기 전에 진공상태를 형성하고, 외부 오염물질과 격리를 위한 로드록 챔버(40)를 포함하여 구성된다. 로드록 챔버(40)에 로딩된 웨이퍼는 트랜스퍼 챔버(25)에 설치되는 이송로봇(20)에 의해 로드록 챔버(40)로부터 인출되고, 정렬을 위해 오리엔터(30)로 이송된다. 오리엔터(30)는 프로세스 챔버(10)로 웨이퍼를 이송하기 전에 웨이퍼의 플랫존을 정렬하는 역할을 하며, 정렬된 웨이퍼는 다시 이송로봇(20)에 의해 각 프로세서 챔버(10 : 10a 내지 10c)로 이송되어, 공정에 투입된다. 이러한 오리엔터(30)는 도시된 바와 같이 이송장치(50) 내에 설치되어, 포드로더(24)로부터 이송된 웨이퍼를 정렬하게 된다. 여기서, 오리엔터(30)는 도시된 바와 같이 이송장치(50) 내에 설치될 수도 있고, 프로세스챔버(10)와 이웃하여 설치될 수도 있으며, 도시된 바에 의해 본 발명을 한정하는 것은 아니다.
이러한 웨이퍼에는 프로세스 챔버(10) 내에서 각종 회로, 소자 등이 형성되고, 이와 같은 회로, 소자들은 매우 작고 정교하게 형성되게 된다. 때문에 웨이퍼의 처리과정은 외부 대기와도 완벽히 격리되어 진행되고, 이를 통해 청정환경, 즉 웨이퍼 처리에 있어 문제를 야기하는 오염물과 완벽히 격리되어 진행되게 된다.
때문에, 웨이퍼는 웨이퍼 처리 시스템(10)에 투입되기 전 여러 단계의 클린 공정을 거치게 되며, 이를 통해 웨이퍼 표면에 부착된 각종 오염물질이 제거되고, 여러가지 검사장비에 의해 검사를 수행하여 오염물의 부착여부를 검사하게 된다. 이후 오염물의 세정이 충분히 진행된 웨이퍼만이 웨이퍼 처리 시스템에 이송되어 공정을 진행하게 된다.
하지만, 이러한 과정에도 불구하고, 웨이퍼 처리 시스템(10) 내부에 로딩된 웨이퍼 상에 오염물질이 존재하는 경우가 빈번하게 발생하고 있다. 이러한 오염물질이 웨이퍼와 같이 웨이퍼 처리 시스템(10)에 투입되는 경우 공정 중의 웨이퍼 손상, 정전척(Electro Static Chuck, ESC)과 같은 공정장비의 손상, 알람 발생에 의한 공정 중지와 같은 문제를 야기하게 된다. 특히, 저압 환경의 프로세서 챔버에서는 오염물질에의 전계 집중으로 인한 방전이 발생하여 고가의 정전척 및 웨이퍼의 손상이 발생하는 문제점이 있다. 특히, 이러한 문제를 야기하는 오염물질의 경우 다양한 검사를 수행하는 웨이퍼의 전면에 발생하는 경우보다, 검사가 상대적으로 부족한 웨이퍼의 뒷면에 부착되는 경우가 빈번하다.
또한, 웨이퍼의 경우 이송장치(50)를 통해 웨이퍼 처리 시스템(10) 투입 직전에도 다양한 검사를 수행하기 때문에 검사 이후에 오염물질이 부착되는 경우 오염된 웨이퍼의 배제가 어려운 문제점이 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 웨이퍼의 정렬을 위해 오리엔터 및 웨이퍼 척에 의해 웨이퍼가 회전되는 동안 웨이퍼 배면의 오염물질 검지가 가능하도록 웨이퍼 척과 이웃하여 웨이퍼 정렬 배면 검사장치를 구성함으로써, 공정챔버 투입전 오염된 웨이퍼의 검출 및 제거가 가능하도록 하여 오염된 웨이퍼의 투입으로 인해 프로세서 챔버와 웨이퍼의 소손 및 공정 진행의 차질을 미연에 방지함과 아울러, 웨이퍼 배면의 오염물질 검출과 정렬을 동시에 수행하도록 함으로써 공정의 신뢰도 및 생산성을 향상시키도록 한 웨이퍼 정렬 배면 검사장치를 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬 배면 검사장치는 제조 공정에 투입되는 웨이퍼의 정렬 및 상기 웨이퍼 배면의 오염물질을 검출하기 위한 웨이퍼 정렬 배면 검사 장치에 있어서, 상기 웨이퍼의 회전시 상기 웨이퍼에 형성된 얼라인마크를 감지하여 상기 웨이퍼 정렬을 위한 위치정보를 작성하는 오리엔터; 상기 웨이퍼의 배면 중앙에 맞붙어 상기 웨이퍼를 고정하고, 상기 고정된 웨이퍼의 정렬을 위해 상기 위치정보에 따라 상기 웨이퍼를 회전시키는 웨이퍼 척; 및 상기 웨이퍼 척과 이웃하여 상기 웨이퍼의 배면에 배치되며, 정렬을 위한 상기 웨이퍼의 회전시 상기 웨이퍼 배면에 부착된 상기 오염물질 부착여부를 감지는 센서모듈을 구비하고, 상기 오염물질의 감지시 알람 또는 공정중지 명령을 생성하는 검사장치;를 포함하여 구성되고,
상기 센서모듈은 상기 웨이퍼의 중심과 가장자리의 한 점을 잇는 법선과 평행하게 배치되며,
삭제
상기 검사장치는 상기 센서모듈이 고정되는 센서 스테이지, 일단이 상기 센서 스테이지와 연결되는 스테이지 샤프트, 상기 스테이지 샤프트의 타단과 결합되고, 상기 웨이퍼가 상기 웨이퍼 척 상에 로딩되거나 언로딩되는 동안 상기 스테이지 샤프트 및 상기 센서 스테이지를 하강시키고, 상기 웨이퍼의 로딩 완료 후 상기 스테이지 샤프트 및 상기 센서 스테이지를 상승시키는 실린더, 상기 센서모듈로부터의 감지결과에 따라 상기 웨이퍼 배면의 상기 오염물질 부착여부를 판단하고, 상기 실린더의 구동을 제어하는 제어부를 더 포함하여 구성된다.
상기 검사장치는 상기 센서 스테이지, 상기 스테이지 샤프트의 상승 또는 하강을 감지하기 위한 승하강센서를 더 포함하여 구성된다.
상기 센서모듈은 상기 법선 방향으로 배열되고 상기 오염물질의 감지를 위한 복수의 오염물질 감지 센서와, 상기 센서모듈과 상기 웨이퍼 간의 거리를 측정하기 위한 거리감지센서를 포함하여 구성된다.
상기 오리엔터, 상기 웨이퍼 척 및 상기 검사장치 중 어느 하나 이상과 연결되며, 상기 오리엔터, 상기 웨이퍼 척 및 상기 검사장치로부터 발생된 전기신호를 상기 제어부에 전달하고, 상기 제어부로부터 발생된 제어신호를 상기 오리엔터, 상기 웨이퍼 척 및 상기 검사장치 중 어느 하나에 전달하는 인터페이스부를 더 포함하여 구성된다.
본 발명에 따른 웨이퍼 정렬 배면 검사장치는 웨이퍼의 정렬을 위해 오리엔터 및 웨이퍼 척에 의해 웨이퍼가 회전되는 동안 웨이퍼 배면의 오염물질 검지가 가능하도록 웨이퍼 척과 이웃하여 웨이퍼 정렬 배면 검사장치를 구성함으로써, 공정챔버 투입전 오염된 웨이퍼의 검출 및 제거가 가능하도록 하여 오염된 웨이퍼의 투입으로 인해 프로세서 챔버와 웨이퍼의 소손 및 공정 진행의 차질을 미연에 방지함과 아울러, 웨이퍼 배면의 오염물질 검출과 정렬을 동시에 수행하도록 함으로써 공정의 신뢰도 및 생산성을 향상시키는 것이 가능하다.
도 1은 웨이퍼 제조 장치의 일례를 도시한 예시도.
도 2는 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬 배면 검사장치를 도시한 측면 예시도.
도 3은 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬 배면 검사장치의 평면 예시도.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 설명하기로 한다. 첨부된 도면들에서 구성에 표기된 참조번호는 다른 도면에서도 동일한 구성을 표기할 때에 가능한 한 동일한 도면번호를 사용하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어 관련된 공지의 기능 또는 공지의 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략하기로 한다. 그리고 도면에 제시된 어떤 특징들은 설명의 용이함을 위해 확대 또는 축소 또는 단순화된 것이고, 도면 및 그 구성요소들이 반드시 적절한 비율로 도시되어 있지는 않다. 그러나 당업자라면 이러한 상세 사항들을 쉽게 이해할 것이다.
도 2는 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬 배면 검사장치를 도시한 측면 예시도이다. 또한, 도 3은 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬 배면 검사장치의 평면 예시도이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬 배면 검사장치(100)는 오리엔터(110), 웨이퍼 척(120), 검사장치(200)를 포함하여 구성되고, 검사장치(200)는 센서스테이지(221), 스테이지 샤프트(213), 실린더(215)를 포함하는 센서부(220) 및 인터페이스부(230)와 제어부(222)를 포함하여 구성된다.
오리엔터(110)는 웨이퍼(101)의 회전에 따라 웨이퍼(101)에 표시되는 얼라인 마크(102)의 위치를 감지하고, 이에 따라 얼라인마크(102)의 위치정보를 웨이퍼 정렬 배면 검사장치(100)에 제공함으로써, 웨이퍼(101)의 정렬이 이루어지게 한다. 이를 위해, 오리엔터(110)는 웨이퍼의 얼라인마크(102)를 인식하기 위한 이미지 센서 또는 레이저 센서 또는 카메라를 포함하여 구성된다. 오리엔터(110)에 의해 작성된 웨이퍼 정렬을 위한 위치정보는 인터페이스부(230)를 통해 제어부(222)에 전달되고, 제어부(222)는 위치정보에 따라 웨이퍼 척(120)의 회전을 제어하여 웨이퍼(101)의 정렬을 수행하게 된다. 여기서, 본 발명을 설명함에 있어 웨이퍼 척(120)의 제어를 제어부(222)에서 수행하는 것으로 가정하여 설명하기로 한다. 하지만, 이로써 본 발명을 한정하는 것은 아니며, 웨이퍼 척(120)의 제어는 별도의 제어시스템을 통해 제어될 수 있다.
웨이퍼 척(120)은 정렬 및 검사 대상 웨이퍼(101)의 거치 및 정렬을 위한 역할을 한다. 이 웨이퍼 척(120)은 웨이퍼(101)가 거치되는 척 스테이지(121), 척 스테이지(120)와 구동장치(미도시)를 연결하는 척 샤프트(122) 및 웨이퍼(101)를 척 스테이지(121)에 고정하기 위한 진공장치(미도시)를 포함하여 구성된다. 웨이퍼 척(120)의 척 스테이지(121)와 척 샤프트(122)는 내부에 통공이 형성되며, 통공은 진공장치와 연결되어 웨이퍼(101)를 척 스테이지(121)에 밀착시키게 된다. 아울러, 척스테이지(121)는 제어부(222)의 제어에 따라 회전하여 웨이퍼(101)를 정렬하게 된다.
검사장치(200)는 웨이퍼 척(120)과 이웃하여 웨이퍼(101)의 배면에 배치되며, 웨이퍼(101) 배면의 오염물질 존재 여부를 검지하고, 오염물질 검지 결과에 따라 공정의 속행 또는 중지를 위한 신호 또는 알람을 생성 및 출력한다. 검사장치(300)는 복수의 센서(211)가 나열된 센서모듈(210)이 웨이퍼(101)의 중심으로 부터 웨이퍼(101)의 가장자리를 향하는 법선방향으로 배열되도록 배치된다. 이러한 검사장치(200)는 웨이퍼(101)가 정렬을 위해 웨이퍼 척(120)에 의해 회전하는 동안 웨이퍼(101) 배면의 오염물질 존재 여부를 검지하게 된다.
이러한 검사장치(200)는 센서부(220), 인터페이스부(230) 및 제어부(222)를 포함하여 구성되며, 센서부(220)는 센서스테이지(221), 스테이지샤프트(213) 및 실린더(215)를 포함하여 구성된다.
센서부(220)는 웨이퍼(101) 배면에 웨이퍼 척(120)과 이웃하도록 설치되고, 웨이퍼(101) 배면과 일정한 거리를 유지하면서, 웨이퍼(101)가 정렬을 위해 웨이퍼 척(120)에 의해 회전하는 동안 웨이퍼(101) 배면의 오염물질 부착여부를 검지하게 되고, 검지결과를 인터페이스부(230)를 거쳐 제어부(222)에 전달하게 된다. 특히, 센서부(220)는 웨이퍼(101)의 로딩 및 언로딩시 웨이퍼(101) 및 이송로봇(미도시)의 손상을 방지하기 위해 웨이퍼(101) 면에 대해 수직인 방향으로 상승 또는 하강하여 웨이퍼(101)가 원활하게 로딩 및 언로딩 될 수 있는 환경을 마련한다. 이를 위해 센서부(220)는 센서모듈(210), 센서스테이지(221), 스테이지 샤프트(213), 실린더(215) 및 승하강센서(217, 219)를 포함하여 구성된다.
센서모듈(210)은 웨이퍼(101) 배면과 마주하여 웨이퍼(101) 배면의 오염물질을 검출하고, 이를 전기신호화 하여 인터페이스부(230)에 전달한다. 이를 위해 센서모듈(210)은 복수의 센서(211)를 포함하여 구성되며, 복수의 센서(211)가 일정한 배열에 의해 나열되어 구성된다. 이러한 센서모듈(210)은 센서스테이지(221)에 고정결합되며, 센서스테이지(221), 센서 샤프트(213) 및 실린더(215)에 의해 상승 및 하강하게 된다. 여기서, 센서모듈(210)에 배치되는 센서(211)들은 특정 파장의 광을 웨이퍼(101) 배면에 조사하는 발광부와 웨이퍼 배면에 의해 반사되는 광을 수광하는 수광부로 구성될 수 있다. 특히, 발광부로부터 방출되는 광의 파장은 단일 파장의 광일 수도 있으나, 센서(211)별로 서로 다른 파장을 가지도록 할 수도 있으나, 이로써 본 발명을 한정하는 것은 아니다. 또한, 센서모듈(210)에 배치되는 센서(211)는 카메라를 이용하여 구성될 수 있다. 센서(211)로써 카메라를 이용하는 경우, 카메라에 의해 웨이퍼 배면의 영상을 촬영하고 이를 영상처리하여 오염물질을 검출하는 것이 가능하다. 이를 위해, 카메라로 센서(211)를 구현하는 경우 영상처리를 위한 별도의 영상처리부가 센서부(220)에 포함되어 구성되거나, 제어부(222)가 영상처리를 수행하도록 하여 오염물질을 검출하게 된다. 카메라는 CCD(Chage Coupled Device) 카메라를 이용할 수 있으나, 이로써 본 발명을 한정하는 것은 아니다. 또한, 센서(211) 들의 배열을 법선과 평행하게 일렬로 배열되도록 할 수 있으나, 정교한 검지를 위해 복수의 센서(211)를 지그재그로 배열하는 것도 가능하다. 하지만, 이로써 본 발명을 한정하는 것은 아니다. 아울러, 이러한 센서모듈(210)에는 센서모듈(210)과 웨이퍼(101)가 적절한 거리를 유지하는지의 여부를 감지하기 위한 거리감지센서가 더 포함되어 구성될 수 있다. 이러한 경우 제어부(222)는 승하강센서(217, 219)와 거리감지센서의 측정결과를 모두 확인하여 센서모듈(210)이 정상 위치에서 고정되는지 판단하게 된다.
센서스테이지(221)는 센서모듈(210)을 고정하여, 센서모듈(210)과 스테이지샤프트(213)를 연결한다.
스테이지샤프트(213)는 센서스테이지(213) 및 센서모듈(210)을 지지하며, 실린더(215)의 기동에 따라 센서스테이지(213) 및 센서모듈(210)을 상승 또는 하강시킨다.
실린더(215)는 제어부(222)의 제어에 따라 기동하여 스테이지샤프트(213)를 웨이퍼(101) 면에 대해 수직인 방향으로 이동시킨다.
승하강센서(217, 219)는 센서부(220)의 상승 동작시 센서모듈(210)이 웨이퍼(101)와 일정한 간격을 유지하도록 하고, 하강시 적정한 높이의 하강을 수행하도록 스테이지 샤프트(213)의 상승 및 하강을 감지하고, 감지결과를 제어부(222)에 전달한다. 여기서, 승하강센서(217, 219)가 각각 제1센서(217)와 제2센서(219)로 구성된 예가 도시되어 있으나, 이는 일례일 뿐 이로써 본 발명을 한정하는 것은 아니며, 센서의 종류 및 측정 방식에 따라 센서의 수, 배치, 측정 대상은 상이해질 수 있다.
인터페이스부(230)는 센서모듈(210), 승하강센서(217, 219)를 포함하는 검사장치(220), 오리엔터(110) 및 웨이퍼척(120)와 연결되어 이들로부터 전달되는 검지결과 및 각종 신호를를 제어부(222)에서 처리가 가능한 형태의 신호로 변환하고, 변환된 신호를 제어부(222)에 전달하며, 제어부(220)에서 발생된 제어신호를 이들 구성에서 처리 가능한 형태로 변환하여 각 구성에 전달한다. 이를 위해 인터페이스부(230)는 제어부(222)에 의해 제어되거나, 제어부(222)와 정보 교환을 수행하는 구성 즉, 오리엔터, 웨이퍼 척(120)의 구동장치, 검사장치의 센서모듈(210), 승하강센서(217, 219), 실린더(215)와 연결된다. 이러한 인터페이스부(230)는 신호발생부와 제어부(222)의 신호 형태가 상이한 경우에 구성되며, 발생 신호의 형태에 따라 생략될 수도 있다.
제어부(222)는 센서모듈(210)로부터 전달되는 검지결과에 따라 웨이퍼(101) 배면의 오염물질 존재여부를 판단하고, 판단결과에 따라 공정의 유지 또는 알람을 출력한다. 제어부(222)는 센서모듈(210)로부터 전달되는 감지결과를 통해 웨이퍼(101) 배면에 오염물질이 존재하지 않는 경우 웨이퍼(101)의 공정이 지속되도록 웨이퍼 척 및 오리엔터를 구동시킨다. 반면에 제어부(222)는 센서모듈(210)로부터 전달되는 감지결과를 통해 웨이퍼(101) 배면에 오염물질이 존재한다고 판단되는 경우 정렬 및 웨이퍼의 이동을 중지하고, 오염물질의 발견을 사용자에게 알리게 되며, 이를 통해 오염물질이 부착된 웨이퍼(101)가 프로세스챔버(미도시)로 이송되는 것을 방지하게 된다. 아울러 제어부(222)는 웨이퍼(101)의 교체시 실린더(215)를 제어하여 센서부(220)가 하강 및 상승하도록 제어하며, 승하강센서(217, 219)의 감지결과에 따라 센서모듈(210)이 웨이퍼(101)와 일정한 간격을 유지하도록 제어하게 된다.
한편, 오염물질이 부착된 것으로 판단된 웨이퍼(101)는 사용자 또는 이송로봇에 의해 매거진에 재 수납되고, 하나의 매거진에 수납된 모든 웨이퍼가 클린공정으로 재이송되어, 오염물질을 제거한 후 다시 공정에 이용되게 된다.
이상에서 본 발명의 기술적 사상을 예시하기 위해 구체적인 실시 예로 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기와 같이 구체적인 실시 예와 동일한 구성 및 작용에만 국한되지 않고, 여러가지 변형이 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 한도 내에서 실시될 수 있다. 따라서, 그와 같은 변형도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 간주해야 하며, 본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의해 결정되어야 한다.
100 : 웨이퍼 정렬 배면 검사장치 101 : 웨이퍼
102 : 얼라인 마크 110 : 오리엔터
120 : 웨이퍼 척 121 : 척 스테이지
122 : 척 샤프트 200 : 검사장치
210 : 센서모듈 211 : 센서
220 : 센서부 221 : 센서스테이지
213 : 스테이지 샤프트 215 : 실린더
217, 219 : 승하강센서 230 : 인터페이스
222 : 제어부

Claims (6)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 제조 공정에 투입되는 웨이퍼의 정렬 및 상기 웨이퍼 배면의 오염물질을 검출하기 위한 웨이퍼 정렬 배면 검사 장치에 있어서,
    상기 웨이퍼의 회전시 상기 웨이퍼에 형성된 얼라인마크를 감지하여 상기 웨이퍼 정렬을 위한 위치정보를 작성하는 오리엔터;
    상기 웨이퍼의 배면 중앙에 맞붙어 상기 웨이퍼를 고정하고, 상기 고정된 웨이퍼의 정렬을 위해 상기 위치정보에 따라 상기 웨이퍼를 회전시키는 웨이퍼 척; 및
    상기 웨이퍼 척과 이웃하여 상기 웨이퍼의 배면에 배치되며, 정렬을 위한 상기 웨이퍼의 회전시 상기 웨이퍼 배면에 부착된 상기 오염물질 부착여부를 감지는 센서모듈을 구비하고, 상기 오염물질의 감지시 알람 또는 공정중지 명령을 생성하는 검사장치;를 포함하여 구성되고,
    상기 센서모듈은 상기 웨이퍼의 중심과 가장자리의 한 점을 잇는 법선과 평행하게 배치되며,
    상기 검사장치는
    상기 센서모듈이 고정되는 센서 스테이지,
    일단이 상기 센서 스테이지와 연결되는 스테이지 샤프트,
    상기 스테이지 샤프트의 타단과 결합되고, 상기 웨이퍼가 상기 웨이퍼 척 상에 로딩되거나 언로딩되는 동안 상기 스테이지 샤프트 및 상기 센서 스테이지를 하강시키고, 상기 웨이퍼의 로딩 완료 후 상기 스테이지 샤프트 및 상기 센서 스테이지를 상승시키는 실린더, 및
    상기 센서모듈로부터의 감지결과에 따라 상기 웨이퍼 배면의 상기 오염물질 부착여부를 판단하고, 상기 실린더의 구동을 제어하는 제어부를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬 배면 검사장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 검사장치는
    상기 센서 스테이지, 상기 스테이지 샤프트의 상승 또는 하강을 감지하기 위한 승하강센서를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬 배면 검사장치.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 센서모듈은
    상기 법선 방향으로 배열되고 상기 오염물질의 감지를 위한 복수의 오염물질 감지 센서와,
    상기 센서모듈과 상기 웨이퍼 간의 거리를 측정하기 위한 거리감지센서를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬 배면 검사장치.
  6. 제 3 항에 있어서,
    상기 오리엔터, 상기 웨이퍼 척 및 상기 검사장치 중 어느 하나 이상과 연결되며,
    상기 오리엔터, 상기 웨이퍼 척 및 상기 검사장치로부터 발생된 전기신호를 상기 제어부에 전달하고, 상기 제어부로부터 발생된 제어신호를 상기 오리엔터, 상기 웨이퍼 척 및 상기 검사장치 중 어느 하나에 전달하는 인터페이스부를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬 배면 검사장치.
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