KR101009670B1 - Equipment for Inspection - Google Patents

Equipment for Inspection Download PDF

Info

Publication number
KR101009670B1
KR101009670B1 KR1020040021623A KR20040021623A KR101009670B1 KR 101009670 B1 KR101009670 B1 KR 101009670B1 KR 1020040021623 A KR1020040021623 A KR 1020040021623A KR 20040021623 A KR20040021623 A KR 20040021623A KR 101009670 B1 KR101009670 B1 KR 101009670B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
liquid crystal
head
substrate
head support
stage
Prior art date
Application number
KR1020040021623A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20050096423A (en
Inventor
이종철
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020040021623A priority Critical patent/KR101009670B1/en
Publication of KR20050096423A publication Critical patent/KR20050096423A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101009670B1 publication Critical patent/KR101009670B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1306Details
    • G02F1/1309Repairing; Testing
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods

Abstract

본 발명은 기판에 소정 공정을 진행한 후, 기판의 상태를 검사하는 검사 장비에 관한 것으로, 석정반으로 이루어진 스테이지와, 석정반으로 이루어지며, 상기 스테이지 양측에 위치한 좌우 지지대와, 석정반으로 이루어지며, 상기 좌우 지지대를 가로질러 위치하며, 상기 좌우 지지대를 지나가는 헤드 지지대 및 최초 동작시 상기 헤드 지지대의 정중앙에 위치하고, 상기 스테이지에 유입된 기판의 소정 부위를 검사 또는 리페어(repair)하며, 상기 헤드 지지대에 구비된 레일을 지나가는 헤드를 포함하여 이루어짐을 특징으로 한다.The present invention relates to a test equipment for inspecting the state of the substrate after a predetermined process on the substrate, and comprises a stage made of a stone panel, a stone panel, made of a left and right supports located on both sides of the stage, and a stone panel And positioned across the left and right supports, located at the center of the head support passing through the left and right supports, and at the initial operation of the head support, and inspecting or repairing a predetermined portion of the substrate introduced into the stage. It characterized in that it comprises a head passing through the rail provided in the support.

검사 장비, 갠트리 시스템(gantry system), 헤드(head), 스테이지, 석정반Inspection equipment, gantry system, head, stage, stone platform

Description

검사 장비{Equipment for Inspection}Inspection Equipment

도 1은 일반적인 액정 표시 장치를 나타낸 분해사시도1 is an exploded perspective view showing a general liquid crystal display device

도 2는 일반적인 액정 표시 장치의 TFT 기판의 형성 공정을 나타낸 흐름도2 is a flowchart illustrating a process of forming a TFT substrate of a general liquid crystal display device;

도 3은 일반적인 액정 표시 장치의 칼라 필터 기판의 형성 공정을 나타낸 흐름도 3 is a flowchart illustrating a process of forming a color filter substrate of a general liquid crystal display device.

도 4는 액정 주입형 액정 표시 장치의 제조 방법의 흐름도4 is a flowchart of a method of manufacturing a liquid crystal injection type liquid crystal display device.

도 5는 액정 적하형 액정 표시 장치의 제조 방법의 흐름도5 is a flowchart of a manufacturing method of a liquid crystal drop type liquid crystal display device.

도 6은 종래의 검사 장비를 나타낸 사시도6 is a perspective view showing a conventional inspection equipment

도 7은 도 6의 평면도7 is a plan view of FIG.

도 8은 본 발명의 검사 장비를 나타낸 사시도8 is a perspective view showing the inspection equipment of the present invention

도 9는 도 8의 평면도9 is a top view of FIG. 8

*도면의 주요 부분에 대한 부호 설명*Description of the Related Art [0002]

100 : 검사 장비 101a, 101b : 좌, 우 지지대100: inspection equipment 101a, 101b: left, right support

102a, 102b : 제 1, 제 2 레일 103 : 헤드(head)102a and 102b: first and second rails 103: head

104 : 헤드 지지부 105 : 제 3 레일104: head support portion 105: third rail

106a, 106b : 좌, 우 접합부 110 : 스테이지106a, 106b: left and right junctions 110: stage

본 발명은 표시 장치에 관한 것으로 특히, 기판에 소정 공정을 진행한 후, 기판의 상태를 검사하는 검사 장비에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device, and more particularly, to inspection equipment for inspecting a state of a substrate after performing a predetermined process on the substrate.

정보화 사회가 발전함에 따라 표시 장치에 대한 요구도 다양한 형태로 점증하고 있으며, 이에 부응하여 근래에는 LCD(Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electro Luminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등 여러 가지 평판 표시 장치가 연구되어 왔고, 일부는 이미 여러 장비에서 표시 장치로 활용되고 있다.As the information society develops, the demand for display devices is increasing in various forms, and in recent years, liquid crystal display devices (LCDs), plasma display panels (PDPs), electro luminescent displays (ELD), and vacuum fluorescent (VFD) Various flat panel display devices such as displays have been studied, and some of them are already used as display devices in various devices.

그 중에, 현재 화질이 우수하고 경량, 박형, 저소비 전력의 특징 및 장점으로 인하여 이동형 화상 표시 장치의 용도로 CRT(Cathode Ray Tube)를 대체하면서 LCD가 가장 많이 사용되고 있으며, 노트북 컴퓨터의 모니터와 같은 이동형의 용도 이외에도 방송 신호를 수신하여 디스플레이하는 텔레비젼 및 컴퓨터의 모니터 등으로 다양하게 개발되고 있다.Among them, LCD is the most widely used as the substitute for CRT (Cathode Ray Tube) for mobile image display device because of its excellent image quality, light weight, thinness, and low power consumption. In addition to the use of the present invention has been developed in various ways such as a television and a computer monitor for receiving and displaying broadcast signals.

이와 같은 액정 표시 장치가 일반적인 화면 표시 장치로서 다양한 부분에 사용되기 위해서는 경량, 박형, 저 소비 전력의 특징을 유지하면서도 고정세, 고휘도, 대면적 등 고품위 화상을 얼마나 구현할 수 있는가에 관건이 걸려 있다고 할 수 있다.In order to use such a liquid crystal display as a general screen display device in various parts, it is a matter of how high quality images such as high definition, high brightness and large area can be realized while maintaining the characteristics of light weight, thinness and low power consumption. Can be.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래의 액정 표시 장치 및 이의 검사 장비에 대하여 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, a conventional liquid crystal display and an inspection apparatus thereof will be described with reference to the accompanying drawings.                         

도 1은 일반적인 액정 표시 장치를 나타낸 분해사시도이다.1 is an exploded perspective view showing a general liquid crystal display.

일반적인 액정표시장치는, 도 1과 같이, 일정 공간을 갖고 합착된 제 1 기판(1) 및 제 2 기판(2)과, 상기 제 1 기판(1)과 제 2 기판(2) 사이에 주입된 액정층(3)으로 구성되어 있다.A general liquid crystal display device, as shown in FIG. 1, is injected between a first substrate 1 and a second substrate 2 bonded to each other with a predetermined space, and between the first substrate 1 and the second substrate 2. It consists of the liquid crystal layer 3.

보다 구체적으로 설명하면, 상기 제 1 기판(1)에는 화소 영역(P)을 정의하기 위하여 일정한 간격을 갖고 일방향으로 복수개의 게이트 라인(4)과, 상기 게이트 라인(4)에 수직한 방향으로 일정한 간격을 갖고 복수개의 데이터 라인(5)이 배열된다. 그리고, 상기 각 화소 영역(P)에는 화소 전극(6)이 형성되고, 상기 각 게이트 라인(4)과 데이터 라인(5)이 교차하는 부분에 박막 트랜지스터(T)가 형성되어 상기 박막트랜지스터가 상기 게이트 라인(4)의 신호에 응답하여 상기 데이터 라인(5)의 데이터 신호를 상기 각 화소 전극(6)에 인가한다.In more detail, the first substrate 1 may have a plurality of gate lines 4 in one direction and constant in a direction perpendicular to the gate lines 4 at regular intervals to define the pixel region P. FIG. A plurality of data lines 5 are arranged at intervals. In addition, a pixel electrode 6 is formed in each pixel region P, and a thin film transistor T is formed at a portion where the gate line 4 and the data line 5 cross each other, so that the thin film transistor is formed. The data signal of the data line 5 is applied to each pixel electrode 6 in response to the signal of the gate line 4.

그리고, 상기 제 2 기판(2)에는 상기 화소 영역(P)을 제외한 부분의 빛을 차단하기 위한 블랙 매트릭스층(7)이 형성되고, 상기 각 화소 영역에 대응되는 부분에는 색상을 표현하기 위한 R, G, B 칼라 필터층(8)이 형성되고, 상기 칼라 필터층(8) 위에는 화상을 구현하기 위한 공통 전극(9)이 형성되어 있다.In addition, a black matrix layer 7 is formed on the second substrate 2 to block light in portions other than the pixel region P, and portions R corresponding to the respective pixel regions are formed to express colors. , G, B color filter layers 8 are formed, and a common electrode 9 for realizing an image is formed on the color filter layers 8.

상기와 같은 액정 표시 장치는 상기 화소 전극(6)과 공통 전극(9) 사이의 전계에 의해 상기 제 1, 제 2 기판(1, 2) 사이에 형성된 액정층(3)이 배향되고, 상기 액정층(3)의 배향 정도에 따라 액정층(3)을 투과하는 빛의 양을 조절하여 화상을 표현할 수 있다.In the liquid crystal display as described above, the liquid crystal layer 3 formed between the first and second substrates 1 and 2 is aligned by an electric field between the pixel electrode 6 and the common electrode 9, and the liquid crystal is aligned. According to the degree of alignment of the layer 3, the amount of light passing through the liquid crystal layer 3 may be adjusted to express an image.

이하, 일반적인 액정 표시 장치의 제조방법을 자세히 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, a manufacturing method of a general liquid crystal display device will be described in detail.                         

도 2는 일반적인 액정 표시 장치의 TFT 기판의 형성 공정을 나타낸 흐름도이다.2 is a flowchart illustrating a process of forming a TFT substrate of a general liquid crystal display device.

도 2와 일반적인 액정 표시 장치의 TFT 기판의 형성 공정은 먼저, 제 1 기판 (도 1의 1 참조)상에 금속 물질을 증착하고 이를 선택적으로 제거하여 게이트 라인(4) 및 상기 게이트 라인(4)에서 돌출된 게이트 전극을 형성한다(S1).In the process of forming a TFT substrate of FIG. 2 and a general liquid crystal display, first, a metal material is deposited on a first substrate (see 1 in FIG. 1) and selectively removed to form a gate line 4 and the gate line 4. A gate electrode protruding from is formed (S1).

이어, 상기 게이트 라인(4) 및 게이트 전극을 포함한 게이트 절연막(미도시)을 상기 제 1 기판(1)의 전면에 증착한다(S2).Subsequently, a gate insulating film (not shown) including the gate line 4 and the gate electrode is deposited on the entire surface of the first substrate 1 (S2).

이어, 상기 게이트 절연막 상에 비정질 실리콘층, n+층을 전면 증착하고 이를 선택적으로 제거하여, 반도체층(미도시)을 형성한다(S2).Subsequently, an amorphous silicon layer and an n + layer are entirely deposited on the gate insulating layer and selectively removed to form a semiconductor layer (not shown) (S2).

이어, 상기 반도체층을 포함한 제 1 기판(1) 전면에 금속 물질을 증착하고, 이를 선택적으로 제거하여 데이터 라인(5)과, 상기 데이터 라인에서 돌출된 소오스 전극 및 상기 소오스 전극과 소정 간격 이격된 드레인 전극을 형성한다(S3).Subsequently, a metal material is deposited on the entire surface of the first substrate 1 including the semiconductor layer, and selectively removed, thereby spaced apart from the data line 5, the source electrode protruding from the data line, and the source electrode. A drain electrode is formed (S3).

이어, 상기 데이터 라인(5) 등을 포함한 제 1 기판(1) 전면에 보호막을 증착하고, 상기 보호막을 선택적으로 제거하여 상기 드레인 전극이 소정 부분 노출되는 콘택 홀을 형성한다(S4).Subsequently, a protective film is deposited on the entire surface of the first substrate 1 including the data line 5 and the like, and the protective film is selectively removed to form a contact hole in which the drain electrode is partially exposed (S4).

이어, 상기 콘택 홀을 매립하며, 상기 보호막 전면에 투명 전극을 증착하고, 이를 선택적으로 제거하여 화소 전극을 형성한다(S5).Subsequently, the contact hole is filled, and a transparent electrode is deposited on the entire surface of the passivation layer and then selectively removed to form a pixel electrode (S5).

도 2와 같은 공정 순서로 형성된 TFT 기판에 대향된 칼라 필터 기판은 다음의 순서로 제조된다.The color filter substrate opposed to the TFT substrate formed in the process sequence as shown in FIG. 2 is manufactured in the following order.

도 3은 일반적인 액정 표시 장치의 칼라 필터 기판의 형성 공정을 나타낸 흐 름도이다.3 is a flowchart illustrating a process of forming a color filter substrate of a general liquid crystal display.

도 3과 같이, 상기 제 2 기판(2) 상에 블랙 매트릭스 물질을 증착하고, 이를 선택적으로 제거하여 상기 제 1 기판(1)의 게이트 라인(4) 및 데이터 라인, 박막 트랜지스터(T) 부위에 대응하도록 블랙 매트릭스층(7)을 형성한다(S6).As shown in FIG. 3, a black matrix material is deposited on the second substrate 2 and selectively removed to remove the black matrix material on the gate line 4, the data line, and the thin film transistor T of the first substrate 1. The black matrix layer 7 is formed to correspond (S6).

이어, 상기 게이트 라인(4)과 데이터 라인(5)으로 정의되는 각 화소 영역에 대응되도록 R, G, B 칼라 필터층(8)을 차례로 형성한다(S7).Subsequently, R, G, and B color filter layers 8 are sequentially formed so as to correspond to the pixel areas defined by the gate line 4 and the data line 5 (S7).

이어, 상기 블랙 매트릭스층(7) 및 칼라 필터층(8)을 포함한 제 2 기판 전면에 공통 전극을 형성한다(S8).Next, a common electrode is formed on the entire surface of the second substrate including the black matrix layer 7 and the color filter layer 8 (S8).

이와 같이, 상기 TFT 기판과 칼라 필터 기판의 어레이 공정을 완료한다.Thus, the array process of the said TFT substrate and a color filter substrate is completed.

액정표시장치는 크게 어레이 공정, 셀 공정, 모듈 공정 등으로 구분된다.Liquid crystal displays are largely classified into an array process, a cell process, a module process, and the like.

어레이 공정은, 도 2 및 도 3에 기하여 설명한 바와 같이, 진행한다.The array process proceeds as described with reference to FIGS. 2 and 3.

한편, 일반적인 액정 표시 장치의 셀 공정은 제 1, 제 2 기판 사이에 액정층을 형성하는 방법에 따라 액정 주입 방식과 액정 적하 방식으로 구분할 수 있다.Meanwhile, a cell process of a general liquid crystal display device may be classified into a liquid crystal injection method and a liquid crystal drop method according to a method of forming a liquid crystal layer between the first and second substrates.

도 4는 액정 주입형 액정 표시 장치의 제조 방법의 흐름도이다.4 is a flowchart of a manufacturing method of a liquid crystal injection type liquid crystal display device.

도 4와 같이, 액정 주입형 액정 표시 장치의 제조 방법은 먼저, 도 2 및 도 3과 같이, 어레이 공정을 진행한다. 즉, 제 1 기판(1)에 게이트 라인(4) 및 데이터 라인(5)과, 화소 전극(6)과, 박막 트랜지스터(T)를 구비한 TFT 어레이를 형성하고, 도 3과 같이, 제 2 기판(2)에 블랙 매트릭스층(7)과, 칼라 필터층(8)과, 공통 전극(8) 등을 구비한 칼라 필터 어레이를 형성한다.As shown in FIG. 4, in the method of manufacturing the liquid crystal injection type liquid crystal display, first, as shown in FIGS. 2 and 3, an array process is performed. That is, a TFT array including a gate line 4 and a data line 5, a pixel electrode 6, and a thin film transistor T is formed on the first substrate 1, and as shown in FIG. The color filter array provided with the black matrix layer 7, the color filter layer 8, the common electrode 8, etc. in the board | substrate 2 is formed.

이 때, 상기 어레이 공정은 하나의 기판에 하나의 액정 패널을 형성하는 것 이 아니라, 하나의 대형 유리 기판에 액정 패널을 다수개 설계하여 각 액정 패널 영역에 각각 TFT 어레이 및 칼라 필터 어레이를 형성한다. In this case, the array process does not form one liquid crystal panel on one substrate, but designs a plurality of liquid crystal panels on one large glass substrate to form a TFT array and a color filter array in each liquid crystal panel region. .

이와 같이 TFT 어레이가 형성된 TFT 기판과 칼라 필터 어레이가 형성된 칼라 필터 기판은 셀 공정 라인으로 이동된다. In this way, the TFT substrate on which the TFT array is formed and the color filter substrate on which the color filter array is formed are moved to the cell processing line.

이어, 상기 TFT 기판과 칼라 필터 기판상에 배향 물질을 도포하고 액정분자가 균일한 방향성을 갖도록 하기 위한 배향 공정(러빙 공정)을 각각 진행한다(S10). Subsequently, an alignment process is applied to the TFT substrate and the color filter substrate, and an alignment process (rubbing process) is performed to make the liquid crystal molecules have uniform orientation (S10).

여기서, 상기 배향 공정(S10)은 배향막 도포 전 세정, 배향막 인쇄, 배향막 소성, 배향막 검사, 러빙 공정 순으로 진행된다. Here, the alignment step (S10) proceeds in order of cleaning before the alignment film coating, alignment film printing, alignment film firing, alignment film inspection, rubbing process.

이어, 상기 TFT 기판 및 칼라 필터 기판을 각각 세정한다(S20). Subsequently, the TFT substrate and the color filter substrate are cleaned, respectively (S20).

그리고, 상기 TFT 기판 또는 칼라 필터 기판 상에 셀 갭(Cell Gap)을 일정하게 유지하기 위한 볼 스페이서(Ball spacer)를 산포하고(S30), 상기 각 액정 패널 영역의 외곽부에 두 기판을 합착하기 위한 실 패턴(seal pattern)을 형성한다(S40). 이 때, 실 패턴은 액정을 주입하기 위한 액정 주입구 패턴을 갖도록 형성된다. Further, a ball spacer is disposed on the TFT substrate or the color filter substrate to maintain a constant cell gap (S30), and the two substrates are bonded to the outer portion of each liquid crystal panel region. Form a seal pattern (seal pattern) for (S40). At this time, the seal pattern is formed to have a liquid crystal injection hole pattern for injecting liquid crystal.

여기서, 볼 스페이서는 플라스틱 볼(plastic ball)이나 탄성체 플라스틱 미립자로 형성된 것이다.Here, the ball spacer is formed of plastic balls or elastic plastic fine particles.

상기 실 패턴이 대향되도록 TFT 기판과 칼라 필터 기판을 마부보도록 하여 두 기판을 합착하고 상기 실 패턴을 경화시킨다(S50).The TFT substrate and the color filter substrate face each other so that the seal patterns face each other, thereby bonding the two substrates and curing the seal patterns (S50).

그 후, 상기 합착 및 경화된 TFT 기판 및 칼라 필터 기판을 각 단위 액정 패 널 영역 별로 절단하고 가공하여(S60)하여 일정 사이즈의 단위 액정 패널을 제작한다. Thereafter, the bonded and cured TFT substrate and the color filter substrate are cut and processed for each unit liquid crystal panel region (S60) to produce a unit liquid crystal panel having a predetermined size.

이후, 각각의 단위 액정 패널의 액정 주입구를 통해 액정을 주입하고, 주입 완료 후 상기 액정 주입구를 봉지(S70)하여 액정층을 형성한다. 그리고, 각 단위 액정 패널의 외관 및 전기적 불량의 검사(S80)를 진행함으로써 액정 표시 장치를 제작하게 된다. Thereafter, the liquid crystal is injected through the liquid crystal injection hole of each unit liquid crystal panel, and after completion of the injection, the liquid crystal injection hole is sealed (S70) to form a liquid crystal layer. Then, the liquid crystal display device is manufactured by performing the inspection (S80) of the appearance and electrical defect of each unit liquid crystal panel.

여기서, 상기 액정주입공정을 간략히 살펴보면 다음과 같다.Here, the liquid crystal injection process will be briefly described as follows.

먼저, 주입하고자 하는 액정 물질이 담겨져 있는 용기와 액정을 주입할 액정 패널을 챔버(Chamber) 내부에 위치시키고, 상기 챔버의 압력을 진공 상태로 유지함으로써 액정 물질 속이나 용기 안벽에 붙어 있는 수분을 제거하고 기포를 탈포함과 동시에 상기 액정 패널의 내부 공간을 진공 상태로 만든다.First, the container containing the liquid crystal material to be injected and the liquid crystal panel to inject the liquid crystal are placed in the chamber, and the pressure in the chamber is maintained in a vacuum state to remove moisture from the liquid crystal material or the inner wall of the container. Then, bubbles are de-included and the inner space of the liquid crystal panel is vacuumed.

그리고, 원하는 진공 상태에서 상기 액정 패널의 액정 주입구를 액정 물질이 담아져 있는 용기에 담그거나 접촉시킨 다음, 상기 챔버 내부의 압력을 진공 상태로부터 대기압 상태로 만들어 상기 액정 패널 내부의 압력과 챔버의 압력 차이에 의해 액정 주입구를 통해 액정 물질이 상기 액정 패널 내부로 주입되도록 한다.The liquid crystal injection hole of the liquid crystal panel is immersed in or contacted with a container containing a liquid crystal material in a desired vacuum state, and then the pressure inside the chamber is changed from a vacuum state to an atmospheric pressure state, and the pressure inside the liquid crystal panel and the pressure of the chamber. By the difference, the liquid crystal material is injected into the liquid crystal panel through the liquid crystal injection hole.

이러한 액정 주입 방식의 액정표시장치 제조 방법에 있어서는 다음과 같은 문제점이 있었다.The manufacturing method of the liquid crystal display of the liquid crystal injection method has the following problems.

첫째, 단위 패널로 컷팅한 후, 두 기판 사이를 진공 상태로 유지하여 액정 주입구를 액정액에 담가 액정을 주입하므로 액정 주입에 많은 시간이 소요되므로 생산성이 저하된다. First, after cutting into a unit panel, the liquid crystal injection hole is immersed in the liquid crystal liquid by maintaining the vacuum state between the two substrates, so that the liquid crystal injection takes a lot of time, the productivity is reduced.                         

둘째, 대면적의 액정표시장치를 제조할 경우, 액정 주입식으로 액정을 주입하면 패널내에 액정이 완전히 주입되지 않아 불량의 원인이 된다.Second, in the case of manufacturing a large-area liquid crystal display device, when the liquid crystal is injected by the liquid crystal injection method, the liquid crystal is not completely injected into the panel, which causes a defect.

셋째, 상기와 같이 공정이 복잡하고 시간이 많이 소요되므로 여러개의 액정 주입 장비가 요구되어 많은 공간을 요구하게 된다. Third, since the process is complicated and time-consuming as described above, several liquid crystal injection equipment is required, which requires a lot of space.

따라서, 이러한 액정 주입 방식의 문제점을 극복하기 위해 두 기판 중 하나의 기판에 액정을 적하시킨 후, 두 기판을 합착시키는 액정 적하형 액정 표시 장치의 제조 방법이 개발되었다.Accordingly, in order to overcome the problems of the liquid crystal injection method, a method of manufacturing a liquid crystal drop type liquid crystal display device in which a liquid crystal is dropped on one of two substrates and then the two substrates are bonded to each other has been developed.

도 5는 액정 적하형 액정 표시 장치의 제조 방법의 흐름도이다.5 is a flowchart of a method of manufacturing a liquid crystal drop type liquid crystal display device.

즉, 액정 적하 방식의 액정표시장치 제조 방법은, 두 기판을 합착하기 전에, 두 기판 중 어느 하나의 기판에 적당량의 액정을 적하한 후, 두 기판을 합착하는 방법이다.That is, the liquid crystal display device manufacturing method of the liquid crystal dropping method is a method of dropping an appropriate amount of liquid crystal onto any one of the two substrates before bonding the two substrates, and then joining the two substrates together.

따라서, 액정 주입 방식과 같이 셀갭을 유지하기 위해 볼 스페이서를 사용하게 되면, 적하된 액정이 퍼질 때 상기 볼 스페이서가 액정 퍼짐 방향으로 이동되어 스페이서가 한쪽으로 몰리게 되므로 정확한 셀갭 유지가 불가능하게 된다.Therefore, when the ball spacer is used to maintain the cell gap as in the liquid crystal injection method, when the dropped liquid crystal spreads, the ball spacer is moved in the liquid crystal spreading direction and the spacer is pushed to one side, thereby making it impossible to maintain the accurate cell gap.

그러므로, 액정 적하 방식에서는 볼 스페이서를 사용하지 않고 스페이서가 기판에 고정되는 고정 스페이서(컬럼 스페이서(column spacer) 또는 패턴드 스페이서(patterned spacer))를 사용해야 한다.Therefore, in the liquid crystal dropping method, a fixed spacer (column spacer or patterned spacer) in which the spacer is fixed to the substrate should be used without using the ball spacer.

즉, 도 5와 같이, 어레이 공정에서, 칼라 필터 기판에 블랙 매트릭스층 및 칼라 필터층 및 공통 전극을 형성하고, 상기 공통 전극위에 감광성 수지를 형성하고 선택적으로 제거하여 상기 블랙 매트릭스층상에 컬럼 스페이서를 형성한다. That is, as shown in FIG. 5, in the array process, a black matrix layer, a color filter layer, and a common electrode are formed on a color filter substrate, and a photosensitive resin is formed on the common electrode and selectively removed to form column spacers on the black matrix layer. do.                         

그리고, 상기 컬럼 스페이서를 포함한 TFT 기판 및 칼라 필터 기판 전면에 배향막을 도포하고 상기 배향막을 러빙 처리한다.Then, an alignment film is applied to the entire TFT substrate including the column spacer and the color filter substrate, and the alignment film is rubbed.

이와 같이, 배향 공정이 완료된 TFT 기판과 컬러필터 기판을 각각 세정(S101)한 다음, 상기 TFT 기판과 칼라 필터 기판 중 하나의 기판 상의 일정 영역에 액정을 적하하고(S102), 나머지 기판의 각 액정 패널 영역의 외곽부에 디스펜싱 장치를 이용하여 실 패턴을 형성한다(S103).As described above, the TFT substrate and the color filter substrate on which the alignment process is completed are cleaned (S101), and then, a liquid crystal is dropped into a predetermined region on one of the TFT substrate and the color filter substrate (S102), and each liquid crystal of the remaining substrates. A seal pattern is formed at an outer portion of the panel region by using a dispensing apparatus (S103).

이 때, 상기 두 기판 중 하나의 기판에 액정도 적하하고 실 패턴도 형성하여도 된다.At this time, the liquid crystal may also be dropped on one of the two substrates and a seal pattern may be formed.

그리고 상기 액정이 적하되지 않은 기판을 반전(뒤집어서 마주보게 함)시키고(S104), 상기 TFT 기판과 컬러필터 기판을 압력하여 합착하고 상기 실 패턴을 경화시킨다(S105).Then, the substrate on which the liquid crystal is not dropped is inverted (inverted to face each other) (S104), the TFT substrate and the color filter substrate are pressed together, and the seal pattern is cured (S105).

이어, 단위 액정 패널별로 상기 합착된 기판을 절단 및 가공한다(S106).Subsequently, the bonded substrate is cut and processed for each unit liquid crystal panel (S106).

그리고 상기 가공된 단위 액정 패널의 외관 및 전기적 불량의 검사(S107)를 진행함으로써 액정표시소자를 제작하게 된다. The liquid crystal display device is manufactured by inspecting the appearance and electrical defect of the processed unit liquid crystal panel (S107).

앞서 설명한 바와 같이, 대면적으로 액정 표시 장치가 발전할수록, 그 제조 공정의 용이로 액정 적하 방식을 주로 이용하며, 또한, 이 경우 볼 스페이서로는 균일한 산포가 어려워 소정 위치에 스페이서를 고정시키는 컬럼 스페이서를 주로 이용하고 있다.As described above, as the liquid crystal display device develops in a large area, the liquid crystal dropping method is mainly used for the ease of the manufacturing process, and in this case, it is difficult to uniformly distribute the ball spacer, so that the column is fixed at a predetermined position. The spacer is mainly used.

한편, 이와 같이, 제조하는 액정 표시 장치의 제조 공정 사이사이에는, 각 공정을 진행한 후, 기판의 상태를 검사하기 위해 검사 장치를 구비하고, 이를 통해 기판 내의 불량을 감지하여야 한다.As described above, after each step is performed between the manufacturing processes of the liquid crystal display device to be manufactured, an inspection apparatus is provided to inspect the state of the substrate, and thus a defect in the substrate should be detected.

도 6은 종래의 검사 장비를 나타낸 사시도이며, 도 7은 도 6의 평면도이다.6 is a perspective view showing a conventional inspection equipment, Figure 7 is a plan view of FIG.

도 6 및 도 7과 같이, 종래의 검사 장비(20)는 스테이지(30)와, 상기 스테이지(20) 양측에 위치한 좌우 지지대(21a, 21b)와, 상기 좌우 지지대(21a, 21b)에 소정 간격 이격되어 상기 스테이지(30) 상에 형성된 제 1, 제 2 레일(22a, 22b)과, 상기 좌우 지지대(21a, 21b)에 가로지르는 방향으로 위치하며, 상기 좌우 지지대(21a, 21b) 사이를 지나가는 헤드 지지대(24)와, 상기 헤드 지지대(24)와 상기 좌우 지지대(21a, 21b)를 연결하는 접합부(26a, 26b) 및 최초 동작시 상기 헤드 지지대(24)의 X축 원점에 위치하고, 상기 스테이지(30)에 유입된 기판의 소정 부위를 검사 또는 리페어(repair)하며, 상기 헤드 지지대에 구비된 제 3 레일(25)을 지나가는 헤드(23)를 포함하여 이루어진다.As shown in FIGS. 6 and 7, the inspection apparatus 20 according to the related art has a predetermined distance between the stage 30, the left and right supporters 21a and 21b positioned at both sides of the stage 20, and the left and right supporters 21a and 21b. The first and second rails 22a and 22b formed on the stage 30 are spaced apart from each other and positioned in a direction crossing the left and right supporters 21a and 21b and pass between the left and right supporters 21a and 21b. Located at the X-axis origin of the head support 24, the joints (26a, 26b) connecting the head support 24 and the left and right support (21a, 21b) and the head support (24) during the initial operation, the stage It includes a head 23 for inspecting or repairing a predetermined portion of the substrate introduced into the 30 and passing through the third rail 25 provided in the head support.

여기서, 상기 스테이지(30) 및 좌우 지지대(21a, 21b)는 석정반으로 이루어지며, 상기 헤드 지지대(24)는 알루미늄(Al) 성분으로 이루어진다.Here, the stage 30 and the left and right supporters 21a and 21b are made of a stone plate, and the head support 24 is made of aluminum (Al).

그리고, 상기 헤드에는 CCD, 레이저, 광 센서 중 어느 하나를 구비하여, 상기 스테이지(30) 내에 유입된 기판(미도시)을 상기 헤드 지지대(24)를 상기 좌우 접합부(26a, 26b)를 통해 스테이지(30)의 제 1, 제 2 레일(22a, 22b) 상에서 Y축 방향으로 이동시키거나, 또는 상기 헤드 지지대(24) 내의 제 3 레일(25) 상에서 헤드(23)를 X축 방향으로 이동시켜, 기판의 소정 부위를 스캐닝하여 검사하거나 리페어 한다. 이 때, 검사(inspection)가 필요할 때는 상기 헤드(23) 내에 CCD(Charge Coupled Device)나 광 센서 등의 촬상 장치를 이용하여 검사하며, 리페어(repair) 가 필요할 때는 레이저 또는 별도의 리페어 수단을 구비하여 리페어를 수행한다.The head includes one of a CCD, a laser, and an optical sensor, and a substrate (not shown) introduced into the stage 30 is staged through the head support 24 through the left and right junctions 26a and 26b. By moving in the Y-axis direction on the first and second rails 22a and 22b of the 30 or by moving the head 23 in the X-axis direction on the third rail 25 in the head support 24. Then, a predetermined portion of the substrate is scanned and inspected or repaired. In this case, when inspection is required, the head 23 is inspected using an imaging device such as a charge coupled device (CCD) or an optical sensor, and when a repair is required, a laser or a separate repair means is provided. To perform the repair.

여기에서, 상기 제 1, 제 2 레일(22a, 22b)을 지나는 헤드 지지대(25) 및 상기 제 3 레일(25)을 지나는 헤드(23)는 일정한 속도로 이동된다.Here, the head support 25 passing through the first and second rails 22a and 22b and the head 23 passing through the third rail 25 are moved at a constant speed.

이러한 종래의 검사 장비(20)의 구동은 다음과 같이 이루어진다.The driving of the conventional inspection equipment 20 is performed as follows.

종래의 검사 장비(20) 내의 스테이지(30)에 기판이 유입되면, 상기 스테이지(30)가 상기 기판을 진공으로 잡아주고, 상기 기판 상의 소정 부위에 헤드(23)가 대응되도록, 상기 헤드 지지대(24)를 상기 좌우 접합부(26a, 26b)를 통해 스테이지(30)의 제 1, 제 2 레일(22a, 22b) 상에서 Y축 방향으로 이동시키거나, 또는 상기 헤드 지지대(24) 내의 제 3 레일(25) 상에서 헤드(23)를 X축 방향으로 이동시켜, 기판의 소정 부위를 스캐닝하여 검사하거나 리페어하도록 한다.When the substrate is introduced into the stage 30 in the conventional inspection equipment 20, the stage 30 causes the substrate to be vacuumed and the head support 23 corresponds to a predetermined portion on the substrate. 24 is moved in the Y-axis direction on the first and second rails 22a and 22b of the stage 30 through the left and right junctions 26a and 26b, or a third rail in the head support 24 ( 25, the head 23 is moved in the X-axis direction so that a predetermined portion of the substrate is scanned and inspected or repaired.

도 6 및 도 7에서 소개된 검사 장비를, 그 형상이 양측의 두 지지대 사이를 헤드 지지대가 지나는 다리 형태라 하여, 갠트리 시스템(gantry system)이라 하며, 이러한 갠트리 시스템은 레일(rail) 형태의 리니어 가이드와 모터(motor, 미도시)를 구비하여 형성된다. 이 때, 모터는 스테이지 외측에 구비되며, 일정 속도로 헤드 지지대 또는 헤드가 이동되도록 조절하는 기능을 한다.The inspection equipment introduced in FIGS. 6 and 7 is called a gantry system, whose shape is the form of a bridge through which the head support passes between two supports on both sides, and this gantry system is a rail linear. It is formed with a guide and a motor (not shown). At this time, the motor is provided outside the stage, and functions to adjust the head support or the head to move at a constant speed.

상술한 바와 같이, 이러한 종래의 검사 장비(20)는 헤드 지지대(24) 상의 헤드(23)가 X축의 "0"점 위치에 위치하여 동작되었다.As described above, this conventional inspection equipment 20 was operated with the head 23 on the head support 24 positioned at the "0" point position on the X axis.

이러한 검사 동작으로 헤드(23) 또는 헤드 지지대(24)가 이동시, 상기 헤드 지지대(24)의 일측에 무거운 헤드(23)가 위치하여, 상기 헤드 지지대(24)가 휘는 현상이 발생하여, 정밀 제어 및 속도 향상에 한계가 많았다. When the head 23 or the head support 24 is moved by such an inspection operation, the heavy head 23 is positioned on one side of the head support 24, and the head support 24 is bent, which causes precise control. And there was a limit in speed improvement.                         

특히, 기판이 소규모일 때는 헤드 지지대(24)의 길이가 얼마 되지 않아 문제가 크게 발생하지 않았지만, 기판이 대면화할수록 헤드 지지대(24)의 길이가 상대적으로 더 길게 되었고, 또한, 상기 헤드 지지대(24)에서 긴 거리에 걸쳐 무거운 헤드(23)를 지탱하기 때문에, 알루미늄 재질의 헤드 지지대(24)의 휨 현상은 더욱 심화되었다.In particular, when the substrate is small, the length of the head support 24 does not occur much because the length of the head support 24 is small, but as the substrate becomes larger, the length of the head support 24 becomes relatively longer, and the head support ( Since the heavy head 23 is supported over a long distance at 24, the bending phenomenon of the head support 24 made of aluminum is further intensified.

상기와 같은 종래의 검사 장비는 다음과 같은 문제점이 있다.The conventional inspection equipment as described above has the following problems.

첫째, 종래의 검사 장비는 무거운 헤드를 알루미늄 재질의 헤드 지지대가 지지하고 있어, 휨 현상이 발생하였다. 특히, 대면적화되는 추세에 있어, 헤드 지지대의 길이가 상대적으로 길어지고 있어, 이러한 휨 현상은 심화되었다.First, in the conventional inspection equipment, a heavy head is supported by an aluminum head support, so that warpage occurs. In particular, in the trend toward larger areas, the length of the head support is relatively longer, and this warping phenomenon is intensified.

둘째, 검사 또는 리페어 공정에서 헤드 또는 헤드 지지대의 이동 속도가 검사 또는 리페어 공정에 걸리는 시간을 좌우하는 데, 실제 휨 현상이 발생된 헤드 지지대로 인해 공정 시간이 저하되었고, 또한, 공정 정밀도가 떨어졌다.Second, in the inspection or repair process, the moving speed of the head or the head support depends on the time taken for the inspection or repair process, and the processing time is reduced due to the head support where the actual bending occurs, and the process precision is also decreased. .

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로 기판에 소정 공정을 진행한 후, 기판의 상태를 검사하는 검사 장비를 제공하는 데, 그 목적이 있다.The present invention has been made in order to solve the above problems, and after that, the object of the present invention is to provide inspection equipment for inspecting the state of the substrate after a predetermined process.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 검사 장비는 석정반으로 이루어진 스테이지와, 석정반으로 이루어지며, 상기 스테이지 양측에 위치한 좌우 지지대와, 석정반으로 이루어지며, 상기 좌우 지지대를 가로질러 위치하며, 상기 좌우 지지대를 지나가는 헤드 지지대 및 최초 동작시 상기 헤드 지지대의 정중앙에 위치하고, 상기 스테이지에 유입된 기판의 소정 부위를 검사 또는 리페어(repair)하며, 상기 헤드 지지대에 구비된 레일을 지나가는 헤드를 포함하여 이루어짐에 그 특징이 있다.The inspection equipment of the present invention for achieving the above object is made of a stage made of a stone panel, a stone panel, made of left and right supports located on both sides of the stage, and a stone panel, located across the left and right supports And a head support passing through the left and right supports and a head positioned at the center of the head support during initial operation, inspecting or repairing a predetermined portion of the substrate introduced into the stage, and passing the rail provided in the head support. There is a characteristic in that it is made.

상기 헤드에는 CCD, 레이저, 광 센서 중 어느 하나를 구비한다.The head is provided with any one of a CCD, a laser, and an optical sensor.

상기 헤드 지지대 및 상기 헤드는 일정한 속도로 이동된다.The head support and the head are moved at a constant speed.

상기 스테이지에는 상기 좌우 지지대에 소정 간격 이격된 부위에 상기 헤드 지지대의 형성 방향에 수직인 방향으로 상기 헤드 지지대를 이동시키는 레일이 더 구비된다.The stage is further provided with a rail for moving the head support in a direction perpendicular to the direction in which the head support is formed at portions spaced apart from the left and right supports at predetermined intervals.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 검사 장비를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the inspection equipment of the present invention with reference to the accompanying drawings in detail as follows.

도 8은 본 발명의 검사 장비를 나타낸 사시도이며, 도 9는 도 8의 평면도이다.8 is a perspective view showing the inspection equipment of the present invention, Figure 9 is a plan view of FIG.

도 8 및 도 9와 같이, 본 발명의 검사 장비(100)는 스테이지(110)와, 상기 스테이지(110) 양측에 위치한 좌우 지지대(101a, 101b)와, 상기 좌우 지지대(101a, 101b)에 소정 간격 이격되어 상기 스테이지(110) 상에 형성된 제 1, 제 2 레일(102a, 102b)과, 상기 좌우 지지대(101a, 101b)에 가로지르는 방향으로 위치하며, 상기 좌우 지지대(101a, 101b) 사이를 지나가는 헤드 지지대(104)와, 상기 헤드 지지대(104)와 상기 좌우 지지대(101a, 101b)를 연결하는 접합부(106a, 106b) 및 최초 동작시 상기 헤드 지지대(104)의 X축 중앙에 위치하고, 상기 스테이지(110)에 유입된 기판의 소정 부위를 검사 또는 리페어(repair)하며, 상기 헤드 지지대(104)에 구비된 제 3 레일(105)을 지나가는 헤드(103)를 포함하여 이루어진다.8 and 9, the inspection equipment 100 of the present invention is predetermined to the stage 110, the left and right supports 101a, 101b located on both sides of the stage 110, and the left and right supports 101a, 101b. The first and second rails 102a and 102b formed on the stage 110 and spaced apart from each other are positioned in a direction crossing the left and right supporters 101a and 101b, and between the left and right supporters 101a and 101b. It is located in the center of the X-axis of the head support 104 passing through, the joints (106a, 106b) connecting the head support 104 and the left and right support (101a, 101b) and the head support 104 during the first operation, It includes a head 103 for inspecting or repairing a predetermined portion of the substrate introduced into the stage 110 and passing through the third rail 105 provided in the head support 104.

여기서, 상기 스테이지(110) 및 좌우 지지대(101a, 101b)는 석정반으로 이루어지며, 상기 헤드 지지대(104)도 이와 동일한 석정반으로 이루어진다. 이는 상기 헤드(103)를 상기 헤드 지지대(104)의 중심에 위치시킬 때, 휘는 현상을 방지하기 위함이고, 이 때, 상기 헤드 지지대(104)는 상기 접합부(106a, 106b)를 통해 상기 좌우 지지대(101a, 101b)에 연결되어 있다.Here, the stage 110 and the left and right supports (101a, 101b) is made of a stone plate, the head support 104 is also made of the same stone plate. This is to prevent the bending when the head 103 is located in the center of the head support 104, wherein the head support 104 is the left and right support through the junction (106a, 106b) It is connected to (101a, 101b).

그리고, 상기 헤드 지지대(104)에 구비된 헤드(103)는 중심에 위치하는데, 이러한 구성을 취함으로써, 원점에 헤드가 위치하였을 때보다 검사가 필요한 기판(미도시)의 부위를 보다 빠르게 찾을 수 있다.And, the head 103 provided in the head support 104 is located in the center, by taking this configuration, it is possible to find a portion of the substrate (not shown) that requires inspection faster than when the head is located at the origin. have.

여기서, 상기 접합부(106, 106b)는 상기 제 1, 제 2 레일(102a, 102b)에 대응되는 부분에 자석 성분을 구비하여 형성한다.In this case, the junction parts 106 and 106b are formed by providing a magnetic component at portions corresponding to the first and second rails 102a and 102b.

그리고, 상기 헤드(103)에는 CCD, 레이저, 광 센서 중 어느 하나를 구비하여, 상기 스테이지(110) 내에 유입된 기판(미도시)을 상기 헤드 지지대(104)를 상기 좌우 접합부(106a, 106b)를 통해 스테이지(110)의 제 1, 제 2 레일(102a, 102b) 상에서 Y축 방향으로 이동시키거나, 또는 상기 헤드 지지대(104) 내의 제 3 레일(105) 상에서 헤드(103)를 좌 또는 우의 X축 방향으로 이동시켜, 기판의 소정 부위를 스캐닝하여 검사하거나 리페어 한다. 이 때, 검사(inspection)가 필요할 때는 상기 헤드(103) 내에 CCD(Charge Coupled Device)나 광 센서 등의 촬상 장치를 이용하여 검사하며, 리페어(repair)가 필요할 때는 레이저 또는 별도의 리페어 수단을 구비하여 리페어를 수행한다.The head 103 is provided with any one of a CCD, a laser, and an optical sensor, and the head support 104 is connected to the left and right junctions 106a and 106b for a substrate (not shown) introduced into the stage 110. To move in the Y-axis direction on the first and second rails 102a and 102b of the stage 110 or to move the head 103 left or right on the third rail 105 in the head support 104. By moving in the X-axis direction, a predetermined portion of the substrate is scanned and inspected or repaired. In this case, when inspection is required, the head 103 is inspected using an imaging device such as a charge coupled device (CCD) or an optical sensor, and when a repair is required, a laser or a separate repair means is provided. To perform the repair.

여기에서, 상기 제 1, 제 2 레일(102a, 102b)을 지나는 헤드 지지대(105) 및 상기 제 3 레일(105)을 지나는 헤드(103)는 일정한 속도로 이동된다.Here, the head support 105 passing through the first and second rails 102a and 102b and the head 103 passing through the third rail 105 are moved at a constant speed.

이러한 본 발명의 검사 장비(100)의 구동은 다음과 같이 이루어진다.The driving of the inspection equipment 100 of the present invention is made as follows.

본 발명의 검사 장비(100) 내의 스테이지(110)에 기판이 유입되면, 상기 스테이지(110)가 상기 기판을 진공으로 잡아주고, 상기 기판 상의 소정 부위에 헤드(103)가 대응되도록, 상기 헤드 지지대(104)를 상기 좌우 접합부(106a, 106b)를 통해 스테이지(110)의 제 1, 제 2 레일(102a, 102b) 상에서 Y축 방향으로 이동시키거나, 또는 상기 헤드 지지대(104) 내의 제 3 레일(105) 상에서 헤드(103)를 좌 또는 우의 X축 방향으로 이동시켜, 기판의 소정 부위를 스캐닝하여 검사하거나 리페어하도록 한다.When the substrate is introduced into the stage 110 in the inspection equipment 100 of the present invention, the stage 110 to hold the substrate in a vacuum, so that the head 103 corresponds to a predetermined portion on the substrate, the head support Move the 104 in the Y-axis direction on the first and second rails 102a, 102b of the stage 110 through the left and right junctions 106a, 106b, or the third rail in the head support 104; The head 103 is moved on the left or right in the X-axis direction on the 105 so as to scan or inspect a predetermined portion of the substrate.

본 발명의 검사 장비(100)는 헤드 지지대(104) 상의 헤드(103)가 X축의 중심에 위치하여 초기 동작이 시작된다. 또한, 상기 헤드 지지대(104)를 스테이지(110)와 동일 재질의 석정반으로 구성된다.In the inspection equipment 100 of the present invention, the head 103 on the head support 104 is positioned at the center of the X axis, and the initial operation is started. In addition, the head support 104 is composed of a stone plate of the same material as the stage (110).

이러한 본 발명의 검사 장비를 이용한 검사 동작으로 헤드(103) 또는 헤드 지지대(104)가 이동시, 상기 헤드 지지대(104)의 중심에 무거운 헤드(103)가 위치하여도, 상기 헤드 지지대(104)를 경도가 높은 석정반으로 구성하여 휘는 현상을 방지하였고, 상기 휨 현상 방지로, 검사시의 정밀한 제어가 가능하였고, 속도를 향상시킬 수 있다. When the head 103 or the head support 104 moves in the inspection operation using the inspection equipment of the present invention, even if the heavy head 103 is located in the center of the head support 104, the head support 104 is It is composed of a high-grade stone plate to prevent the warpage phenomenon, by preventing the warpage phenomenon, precise control at the time of inspection was possible, it is possible to improve the speed.                     

이와 같이, 상기 헤드(103)의 위치를 X축 중심, 즉, 헤드 지지대(104)의 중심에 위치시킨 이유는, 상기 헤드 지지대(104)의 중심에 헤드(103)가 위치하였을 때, 검사가 필요한 영역으로 최적 거리를 갖고 상기 헤드(103)가 대응되어 이동할 수 있기 때문이다. 또한, 헤드(103)가 한 쪽에 치우쳐서 동작하게 되면 헤드의 무게가 적거나, 스테이지 자체 크기가 작을 때는 큰 문제가 되지 않으나, 기판이 점점 대면적화되어 사이즈가 커짐에 따라 상대적으로 헤드 지지대(104)가 길어져 휘는 정도가 커지고 휨에 의한 기능의 저하가 많이 발생할 소지가 있기 때문에 이를 개선하기 위함이다. As such, the reason why the position of the head 103 is located at the center of the X axis, that is, the center of the head support 104 is that when the head 103 is positioned at the center of the head support 104, the inspection is performed. This is because the head 103 can move correspondingly with an optimum distance to a required area. In addition, if the head 103 is moved to one side, the head support 104 is relatively large as the weight of the head is small or the stage itself is small, but the size of the substrate becomes larger and larger. This is to improve this because there is a possibility that the degree of bending becomes longer and the deterioration of the function due to bending occurs a lot.

또한, 상기 헤드 지지부의 재질을 기존 알루미늄(Al)의 형에서 석정반 재질로 변경함으로써 헤드 무게에 의한 휨 현상을 최소화할 수 있다. 즉, 알루미늄은 일정 무게 이상의 헤드를 지지할 때, 휨이 발생할 가능성이 높다. 그러나, 본 발명의 검사 장치와 같이, 헤드 지지대(104)를 석정반을 사용할 때, 석정반 자체의 휨에 대한 성능이 우수함으로 구동시 휨이나 기타 속도 저하 등의 문제가 발생할 가능성이 줄어든다. In addition, by changing the material of the head support portion from the shape of the existing aluminum (Al) to the stone plate material, it is possible to minimize the warpage phenomenon by the weight of the head. That is, when aluminum supports the head more than a certain weight, there is a high possibility of warpage. However, as with the inspection apparatus of the present invention, when the head support 104 is used as a stone plate, the performance of the stone plate itself is excellent in bending, and thus the possibility of problems such as bending or other speed decrease during driving is reduced.

상기와 같은 본 발명의 검사 장비는 다음과 같은 효과가 있다.The inspection equipment of the present invention as described above has the following effects.

본 발명의 검사 장비는 헤드 지지대를 석정반으로 구성하고, 헤드를 X축 방향의 정 중앙에 위치하게 함으로써, 고속 동작시의 헤드의 치우침에 의한 속도 저하 및 휨을 방지하고 이로 인해 고속 동작을 보장할 수 있게 되었다.The inspection equipment of the present invention comprises a head support with a stone plate, and by positioning the head in the center of the X-axis direction, it is possible to prevent the speed decrease and warpage caused by the head bias during high speed operation, thereby ensuring a high speed operation It became possible.

Claims (4)

석정반으로 이루어진 스테이지;A stage composed of stone tablets; 석정반으로 이루어지며, 상기 스테이지 양측에 위치한 좌우 지지대;A left and right support made of a stone platform and positioned on both sides of the stage; 석정반으로 이루어지며, 상기 좌우 지지대를 가로질러 위치하며, 상기 좌우 지지대를 지나가는 헤드 지지대; A head support which is made of stone tablets and is located across the left and right supports and passes through the left and right supports; 최초 동작시 상기 헤드 지지대의 정중앙에 위치하고, 상기 스테이지에 유입된 기판의 소정 부위를 검사 또는 리페어(repair)하며, 상기 헤드 지지대에 구비된 제 1 레일을 지나가는 헤드; 및A head positioned at the center of the head support during initial operation, inspecting or repairing a predetermined portion of the substrate introduced into the stage, and passing the first rail provided in the head support; And 상기 헤드 지지대의 형성 방향에 수직인 방향으로 상기 헤드 지지대를 이동시키는 제 2 레일를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 검사 장비.And a second rail for moving the head support in a direction perpendicular to the direction in which the head support is formed. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 헤드에는 CCD, 레이저, 광 센서 중 어느 하나를 구비한 것을 특징으로 하는 검사 장비.The head is equipped with any one of a CCD, a laser, an optical sensor. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 헤드 지지대 및 상기 헤드는 일정한 속도로 이동되는 것을 특징으로 하는 검사 장비.And the head support and the head are moved at a constant speed. 삭제delete
KR1020040021623A 2004-03-30 2004-03-30 Equipment for Inspection KR101009670B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040021623A KR101009670B1 (en) 2004-03-30 2004-03-30 Equipment for Inspection

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040021623A KR101009670B1 (en) 2004-03-30 2004-03-30 Equipment for Inspection

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050096423A KR20050096423A (en) 2005-10-06
KR101009670B1 true KR101009670B1 (en) 2011-01-19

Family

ID=37276502

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040021623A KR101009670B1 (en) 2004-03-30 2004-03-30 Equipment for Inspection

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101009670B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102789075B (en) * 2012-07-26 2015-03-11 北京京东方光电科技有限公司 Lighting jig for detecting liquid crystal panels

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0980409A (en) * 1995-09-13 1997-03-28 Hitachi Ltd Substrates inspecting apparatus and its inspection system
KR20000061800A (en) * 1999-03-31 2000-10-25 구자홍 A manufacturing method of photo-resist's pattern using of laser
JP2001267798A (en) * 2000-03-17 2001-09-28 Murata Mfg Co Ltd Component mounting device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0980409A (en) * 1995-09-13 1997-03-28 Hitachi Ltd Substrates inspecting apparatus and its inspection system
KR20000061800A (en) * 1999-03-31 2000-10-25 구자홍 A manufacturing method of photo-resist's pattern using of laser
JP2001267798A (en) * 2000-03-17 2001-09-28 Murata Mfg Co Ltd Component mounting device

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050096423A (en) 2005-10-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7180566B2 (en) Liquid crystal display device and repairing method thereof
KR100785147B1 (en) Method of manufacturing liquid crystal display device
US7259802B2 (en) Liquid crystal panel, apparatus for inspecting the same, and method of fabricating liquid crystal display thereof
KR101117982B1 (en) Liquid Crystal Display Device And Method For Repairing Bright Spot Of The Same
US7679708B2 (en) Ring-shaped seal for LCD and method formed of first and second different material sealing members with respective first and second connecting portions each having respective first and second abutting parts that are continuous with the sealing members
KR101232136B1 (en) Method of repair an Liquid Crystal Cell, method of manufacturing Liquid Crystal Display Device using the same, and Liquid Crystal Display repaired using the same
KR100424905B1 (en) Stand-by plate, liquid crystal display device and liquid crystal display device manufacturing method using this substrate
US7022199B2 (en) Method for fabricating LCD
US8325320B2 (en) Method for repairing LCD device and LCD device with using the same method
JP4537983B2 (en) Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
US8111369B2 (en) Method for manufacturing a liquid crystal display device
KR100557498B1 (en) Liquid crystal display device and fabrication method thereof
KR101726624B1 (en) Substrate for liquid crystal display device
KR101009670B1 (en) Equipment for Inspection
KR20080048737A (en) Method for forming seal pattern, liquid crystal display using the same, and method for manufacturing liquid crystal display using the same
US20050280768A1 (en) Method for manufacturing liquid crystal display device
KR101074393B1 (en) Liquid Crystal Display Device
KR101245018B1 (en) Method of fabricating liquid crystal display panel
KR20040011671A (en) Liquid Crystal Display Device
KR101222966B1 (en) Method for manufacturing liquid crystal display device
KR100685934B1 (en) Method for Manufacturing Liquid Crystal Display Device
KR100617041B1 (en) Liquid Crystal Display Device
KR20030048655A (en) Lcd device haning a support type spacer
KR100710173B1 (en) Liquid Crystal Display Device and method of Manufacturing the same
KR20050087460A (en) Liquid crystal display device and method for manufacturing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131227

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150109

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151228

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161214

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171218

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181226

Year of fee payment: 9