KR20050087460A - Liquid crystal display device and method for manufacturing the same - Google Patents

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김진호
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Abstract

본 발명은 중력 불량과 터치 얼룩을 방지할 수 있는 액정표시장치에 관한 것으로, 서로 마주보는 제 1 기판 및 제 2 기판과, 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성되는 볼 스페이서가 믹싱된 칼럼 스페이서와, 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성된 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device capable of preventing gravity defects and touch unevenness. A column spacer in which a ball spacer formed between a first substrate and a second substrate facing each other and the first and second substrates are mixed. And a liquid crystal layer formed between the first and second substrates.

Description

액정 표시 장치 및 제조 방법{Liquid Crystal Display Device and method for manufacturing the same}Liquid crystal display device and method for manufacturing the same

본 발명은 액정 표시 장치에 관한 것으로 특히, 터치 얼룩과 중력 불량을 방지할 수 있는 액정 표시 장치 및 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display, and more particularly, to a liquid crystal display and a manufacturing method capable of preventing uneven touch and gravity failure.

정보화 사회가 발전함에 따라 표시 장치에 대한 요구도 다양한 형태로 점증하고 있으며, 이에 부응하여 근래에는 LCD(Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electro Luminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등 여러 가지 평판 표시 장치가 연구되어 왔고, 일부는 이미 여러 장비에서 표시 장치로 활용되고 있다.As the information society develops, the demand for display devices is increasing in various forms, and in recent years, liquid crystal display devices (LCDs), plasma display panels (PDPs), electro luminescent displays (ELD), and vacuum fluorescent (VFD) Various flat panel display devices such as displays have been studied, and some of them are already used as display devices in various devices.

그 중에, 현재 화질이 우수하고 경량, 박형, 저소비 전력의 특징 및 장점으로 인하여 이동형 화상 표시 장치의 용도로 CRT(Cathode Ray Tube)를 대체하면서 LCD가 가장 많이 사용되고 있으며, 노트북 컴퓨터의 모니터와 같은 이동형의 용도 이외에도 방송 신호를 수신하여 디스플레이하는 텔레비젼 및 컴퓨터의 모니터 등으로 다양하게 개발되고 있다.Among them, LCD is the most widely used as the substitute for CRT (Cathode Ray Tube) for mobile image display device because of its excellent image quality, light weight, thinness, and low power consumption. In addition to the use of the present invention has been developed in various ways such as a television and a computer monitor for receiving and displaying broadcast signals.

이와 같은 액정 표시 장치가 일반적인 화면 표시 장치로서 다양한 부분에 사용되기 위해서는 경량, 박형, 저 소비 전력의 특징을 유지하면서도 고정세, 고휘도, 대면적 등 고품위 화상을 얼마나 구현할 수 있는가에 관건이 걸려 있다고 할 수 있다.In order to use such a liquid crystal display as a general screen display device in various parts, it is a matter of how high quality images such as high definition, high brightness and large area can be realized while maintaining the characteristics of light weight, thinness and low power consumption. Can be.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래의 액정표시장치와, 액정표시장치의 셀 갭(cell gap)을 유지하는 스페이서에 대하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a conventional liquid crystal display device and a spacer holding a cell gap of the liquid crystal display device will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 일반적인 액정 표시 장치를 나타낸 분해사시도이다.1 is an exploded perspective view showing a general liquid crystal display.

액정표시장치는, 도 1과 같이, 일정 공간을 갖고 합착된 제 1 기판(1) 및 제 2 기판(2)과, 상기 제 1 기판(1)과 제 2 기판(2) 사이에 주입된 액정층(3)으로 구성되어 있다.As shown in FIG. 1, a liquid crystal display device includes a liquid crystal injected between a first substrate 1 and a second substrate 2 bonded to each other with a predetermined space, and between the first substrate 1 and the second substrate 2. It consists of layer (3).

보다 구체적으로 설명하면, 상기 제 1 기판(1)에는 화소 영역(P)을 정의하기 위하여 일정한 간격을 갖고 일방향으로 복수개의 게이트 라인(4)과, 상기 게이트 라인(4)에 수직한 방향으로 일정한 간격을 갖고 복수개의 데이터 라인(5)이 배열된다. 그리고, 상기 각 화소 영역(P)에는 화소 전극(6)이 형성되고, 상기 각 게이트 라인(4)과 데이터 라인(5)이 교차하는 부분에 박막 트랜지스터(T)가 형성되어 상기 박막트랜지스터가 상기 게이트 라인에 신호에 따라 상기 데이터 라인의 데이터 신호를 상기 각 화소 전극에 인가한다.In more detail, the first substrate 1 may have a plurality of gate lines 4 in one direction and constant in a direction perpendicular to the gate lines 4 at regular intervals to define the pixel region P. FIG. A plurality of data lines 5 are arranged at intervals. In addition, a pixel electrode 6 is formed in each pixel region P, and a thin film transistor T is formed at a portion where each of the gate lines 4 and the data lines 5 intersect with each other so that the thin film transistors are formed. The data signal of the data line is applied to each pixel electrode according to the signal of the gate line.

그리고, 상기 제 2 기판(2)에는 상기 화소 영역(P)을 제외한 부분의 빛을 차단하기 위한 블랙 매트릭스층(7)이 형성되고, 상기 각 화소 영역에 대응되는 부분에는 색상을 표현하기 위한 R,G,B 칼라 필터층(8)이 형성되고, 상기 칼라 필터층(8)위에는 화상을 구현하기 위한 공통 전극(9)이 형성되어 있다.In addition, a black matrix layer 7 is formed on the second substrate 2 to block light in portions other than the pixel region P, and portions R corresponding to the respective pixel regions are formed to express colors. A, G, B color filter layer 8 is formed, and a common electrode 9 for realizing an image is formed on the color filter layer 8.

상기와 같은 액정 표시 장치는 상기 화소 전극(6)과 공통 전극(9) 사이의 전계에 의해 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성된 액정층(3)이 배향되고, 상기 액정층(3)의 배향 정도에 따라 액정층(3)을 투과하는 빛의 양을 조절하여 화상을 표현할 수 있다.In the liquid crystal display as described above, the liquid crystal layer 3 formed between the first and second substrates is aligned by an electric field between the pixel electrode 6 and the common electrode 9, and the liquid crystal layer 3 of the liquid crystal layer 3 is aligned. The amount of light passing through the liquid crystal layer 3 can be adjusted according to the degree of alignment to express the image.

이와 같은 액정표시장치를 TN 모드 액정표시장치라 하며, 상기 TN 모드 액정표시장치는 시야각이 좁다는 단점을 가지고 있고 이러한 TN 모드의 단점을 극복하기 위한 IPS 모드 액정표시장치가 개발되었다.Such a liquid crystal display device is referred to as a TN mode liquid crystal display device. The TN mode liquid crystal display device has a disadvantage of having a narrow viewing angle, and an IPS mode liquid crystal display device has been developed to overcome the disadvantages of the TN mode.

상기 IPS 모드 액정표시장치는 제 1 기판의 화소 영역에 화소 전극과 공통 전극을 일정한 거리를 갖고 서로 평행하게 형성하여 상기 화소 전극과 공통 전극 사이에 횡 전계(수평 전계)가 발생하도록 하고 상기 횡 전계에 의해 액정층이 배향되도록 한 것이다.In the IPS mode liquid crystal display, a pixel electrode and a common electrode are formed parallel to each other at a predetermined distance in a pixel area of the first substrate so that a lateral electric field (horizontal electric field) is generated between the pixel electrode and the common electrode and the lateral electric field is generated. This is to align the liquid crystal layer.

이하, 종래의 IPS 모드의 액정 표시 장치의 제조방법을 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the manufacturing method of the liquid crystal display of the conventional IPS mode will be described.

일반적인 액정 표시 장치의 제조 방법은 제 1, 제 2 기판 사이에 액정층을 형성하는 방법에 따라 액정 주입 방식 제조 방법과 액정 적하 방식 제조 방법으로 구분할 수 있다.The manufacturing method of a general liquid crystal display device can be classified into a liquid crystal injection method manufacturing method and a liquid crystal drop method manufacturing method according to the method of forming a liquid crystal layer between the first and second substrates.

먼저, 액정 주입 방식의 액정표시장치 제조 방법을 설명하면 다음과 같다.First, the manufacturing method of the liquid crystal display device of the liquid crystal injection method is as follows.

도 2는 일반적인 액정 주입 방식의 액정표시장치의 제조방법의 흐름도이다.2 is a flowchart of a method of manufacturing a liquid crystal display device of a general liquid crystal injection method.

액정표시장치는 크게 어레이 공정, 셀 공정, 모듈 공정 등으로 구분된다.Liquid crystal displays are largely classified into an array process, a cell process, a module process, and the like.

어레이 공정은, 상술한 바와 같이, 상기 TFT 기판에 서로 수직하는 방향으로 형성된 게이트 라인 및 데이터 라인과, 상기 게이트 라인에 평행하게 형성된 공통 라인과, 상기 게이트 라인과 데이터 라인이 교차되는 부분에 형성된 박막트랜지스터와, 상기 공통 라인으로부터 화소 영역으로 연장되는 공통 전극들과, 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극에 연결되고 상기 공통 전극들 사이에 상기 공통 전극과 평행하게 형성된 화소 전극 등을 구비한 TFT 어레이를 형성하고, 칼라 필터 기판에 블랙매트릭스층, 칼라 필터층 및 오버 코트층 등을 구비한 칼라 필터 어레이를 형성하는 공정이다. In the array process, as described above, a thin film formed at a portion where the gate line and the data line formed in the direction perpendicular to each other on the TFT substrate, the common line formed parallel to the gate line, and the gate line and the data line cross each other. Forming a TFT array including a transistor, common electrodes extending from the common line to a pixel region, and a pixel electrode connected to the drain electrode of the thin film transistor and formed in parallel with the common electrode between the common electrodes; And a color filter array including a black matrix layer, a color filter layer, an overcoat layer and the like on a color filter substrate.

이 때, 상기 어레이 공정은 하나의 기판에 하나의 액정 패널을 형성하는 것이 아니라, 하나의 대형 유리 기판에 액정 패널을 다수개 설계하여 각 액정 패널 영역에 각각 TFT 어레이 및 칼라 필터 어레이를 형성한다. In this case, the array process does not form one liquid crystal panel on one substrate, but designs a plurality of liquid crystal panels on one large glass substrate to form a TFT array and a color filter array in each liquid crystal panel region.

이와 같이 TFT 어레이가 형성된 TFT 기판과 칼라 필터 어레이가 형성된 칼라 필터 기판은 셀 공정 라인으로 이동된다. In this way, the TFT substrate on which the TFT array is formed and the color filter substrate on which the color filter array is formed are moved to the cell processing line.

이어, 상기 TFT 기판과 칼라 필터 기판상에 배향 물질을 도포하고 액정분자가 균일한 방향성을 갖도록 하기 위한 배향 공정(러빙 공정)(S10)을 각각 진행한다. Subsequently, an alignment process (rubbing process) S10 is applied to apply the alignment material on the TFT substrate and the color filter substrate and to make the liquid crystal molecules have uniform orientation.

여기서, 상기 배향 공정(S10)은 배향막 도포 전 세정, 배향막 인쇄, 배향막 소성, 배향막 검사, 러빙 공정 순으로 진행된다. Here, the alignment step (S10) proceeds in order of cleaning before the alignment film coating, alignment film printing, alignment film firing, alignment film inspection, rubbing process.

이어, 상기 TFT 기판 및 칼라 필터 기판을 각각 세정(S20)한다. Subsequently, the TFT substrate and the color filter substrate are cleaned (S20), respectively.

그리고, 상기 TFT 기판 또는 칼라 필터 기판 상에 셀 갭(Cell Gap)을 일정하게 유지하기 위한 볼 스페이서(Ball spacer)를 산포(S30)하고, 상기 각 액정 패널 영역의 외곽부에 두 기판을 합착하기 위한 실 패턴(seal pattern)을 형성한다(S40). 이 때, 실 패턴은 액정을 주입하기 위한 액정 주입구 패턴을 갖도록 형성된다. Further, a ball spacer for maintaining a cell gap is uniformly distributed on the TFT substrate or the color filter substrate (S30), and the two substrates are bonded to the outer portion of each liquid crystal panel region. Form a seal pattern (seal pattern) for (S40). At this time, the seal pattern is formed to have a liquid crystal injection hole pattern for injecting liquid crystal.

여기서, 볼 스페이서는 플라스틱 볼(plastic ball)이나 탄성체 플라스틱 미립자로 형성된 것이다.Here, the ball spacer is formed of plastic balls or elastic plastic fine particles.

상기 실 패턴이 사이에 위치되게 상기 TFT 기판과 칼라 필터 기판을 마주보도록 하여 두 기판을 합착하고 상기 실 패턴을 경화시킨다(S50).The two substrates are bonded together to face the TFT substrate and the color filter substrate such that the seal pattern is disposed therebetween, and the seal pattern is cured (S50).

그 후, 상기 합착 및 경화된 TFT 기판 및 칼라 필터 기판을 각 단위 액정 패널 영역 별로 절단하고 가공하여(S60)하여 일정 사이즈의 단위 액정 패널을 제작한다. Thereafter, the bonded and cured TFT substrate and the color filter substrate are cut and processed for each unit liquid crystal panel region (S60) to produce a unit liquid crystal panel having a predetermined size.

이후, 각각의 단위 액정 패널의 액정 주입구를 통해 액정을 주입하고, 주입 완료 후 상기 액정 주입구를 봉지(S70)하여 액정층을 형성한다. 그리고, 각 단위 액정 패널의 외관 및 전기적 불량 검사(S80)를 진행함으로써 액정 표시 장치를 제작하게 된다. Thereafter, the liquid crystal is injected through the liquid crystal injection hole of each unit liquid crystal panel, and after completion of the injection, the liquid crystal injection hole is sealed (S70) to form a liquid crystal layer. The liquid crystal display device is manufactured by performing external appearance and electrical defect inspection (S80) of each unit liquid crystal panel.

여기서, 상기 액정주입공정을 간략히 살펴보면 다음과 같다.Here, the liquid crystal injection process will be briefly described as follows.

먼저, 주입하고자 하는 액정 물질이 담겨져 있는 용기와 액정을 주입할 액정 패널을 챔버(Chamber) 내부에 위치시키고, 상기 챔버의 압력을 진공 상태로 유지함으로써 액정 물질 속이나 용기 안벽에 붙어 있는 수분을 제거하고 기포를 탈포함과 동시에 상기 액정 패널의 내부 공간을 진공 상태로 만든다.First, the container containing the liquid crystal material to be injected and the liquid crystal panel to inject the liquid crystal are placed in the chamber, and the pressure in the chamber is maintained in a vacuum state to remove moisture from the liquid crystal material or the inner wall of the container. Then, bubbles are de-included and the inner space of the liquid crystal panel is vacuumed.

그리고, 원하는 진공 상태에서 상기 액정 패널의 액정 주입구를 액정 물질이 담아져 있는 용기에 담그거나 접촉시킨 다음, 상기 챔버 내부의 압력을 진공 상태로부터 대기압 상태로 만들어 상기 액정 패널 내부의 압력과 챔버의 압력 차이에 의해 액정 주입구를 통해 액정 물질이 상기 액정 패널 내부로 주입되도록 한다.The liquid crystal injection hole of the liquid crystal panel is immersed in or contacted with a container containing a liquid crystal material in a desired vacuum state, and then the pressure inside the chamber is changed from a vacuum state to an atmospheric pressure state, and the pressure inside the liquid crystal panel and the pressure of the chamber. By the difference, the liquid crystal material is injected into the liquid crystal panel through the liquid crystal injection hole.

이러한 액정 주입 방식의 액정표시장치 제조 방법에 있어서는 다음과 같은 문제점이 있었다.The manufacturing method of the liquid crystal display of the liquid crystal injection method has the following problems.

첫째, 단위 패널로 컷팅한 후, 두 기판 사이를 진공 상태로 유지하여 액정 주입구를 액정액에 담가 액정을 주입하므로 액정 주입에 많은 시간이 소요되므로 생산성이 저하된다.First, after cutting into a unit panel, the liquid crystal injection hole is immersed in the liquid crystal liquid by maintaining the vacuum state between the two substrates, so that the liquid crystal injection takes a lot of time, the productivity is reduced.

둘째, 대면적의 액정표시장치를 제조할 경우, 액정 주입식으로 액정을 주입하면 패널내에 액정이 완전히 주입되지 않아 불량의 원인이 된다.Second, in the case of manufacturing a large-area liquid crystal display device, when the liquid crystal is injected by the liquid crystal injection method, the liquid crystal is not completely injected into the panel, which causes a defect.

셋째, 상기와 같이 공정이 복잡하고 시간이 많이 소요되므로 여러개의 액정 주입 장비가 요구되어 많은 공간을 요구하게 된다. Third, since the process is complicated and time-consuming as described above, several liquid crystal injection equipment is required, which requires a lot of space.

따라서, 이러한 액정 주입 방식의 문제점을 극복하기 위해 두 기판 중 하나의 기판에 액정을 적하시킨 후, 두 기판을 합착시키는 액정 적하형 액정 표시 장치의 제조 방법이 개발되었다.Accordingly, in order to overcome the problems of the liquid crystal injection method, a method of manufacturing a liquid crystal drop type liquid crystal display device in which a liquid crystal is dropped on one of two substrates and then the two substrates are bonded to each other has been developed.

도 3은 액정 적하형 액정 표시 장치의 제조 방법의 흐름도이다.3 is a flowchart of a method of manufacturing a liquid crystal drop type liquid crystal display device.

즉, 액정 적하 방식의 액정표시장치 제조 방법은, 두 기판을 합착하기 전에, 두 기판 중 어느 하나의 기판에 적당량의 액정을 적하한 후, 두 기판을 합착하는 방법이다.That is, the liquid crystal display device manufacturing method of the liquid crystal dropping method is a method of dropping an appropriate amount of liquid crystal onto any one of the two substrates before bonding the two substrates, and then joining the two substrates together.

따라서, 액정 주입 방식과 같이 셀갭을 유지하기 위해 볼 스페이서를 사용하게 되면, 적하된 액정이 퍼질 때 상기 볼 스페이서가 액정 퍼짐 방향으로 이동되어 스페이서가 한쪽으로 몰리게 되므로 정확한 셀갭 유지가 불가능하게 된다.Therefore, when the ball spacer is used to maintain the cell gap as in the liquid crystal injection method, when the dropped liquid crystal spreads, the ball spacer is moved in the liquid crystal spreading direction and the spacer is pushed to one side, thereby making it impossible to maintain the accurate cell gap.

그러므로, 액정 적하 방식에서는 볼 스페이서를 사용하지 않고 스페이서가 기판에 고정되는 고정 스페이서(칼럼 스페이서(column spacer) 또는 패턴드 스페이서(patterned spacer))를 사용해야 한다.Therefore, the liquid crystal dropping method should use a fixed spacer (column spacer or patterned spacer) in which the spacer is fixed to the substrate without using the ball spacer.

즉, 도 3과 같이, 어레이 공정에서, 칼라 필터 기판에 블랙매트릭스층, 칼라 필터층 및 오버 코트층을 형성하고, 상기 오버코트층위에 감광성 수지를 형성하고 선택적으로 제거하여 상기 블랙 매트릭스층 상측의 오버 코트층위에 칼럼 스페이서를 형성한다. 물론 상기 칼럼 스페이서 형성은 포토 공정 또는 잉크젯(ink-jet) 공정에 의해 형성할 수 있다. That is, as shown in FIG. 3, in the array process, a black matrix layer, a color filter layer, and an overcoat layer are formed on the color filter substrate, and a photosensitive resin is formed on the overcoat layer and selectively removed to overcoat the black matrix layer. Form column spacers on the layers. Of course, the column spacer may be formed by a photo process or an ink-jet process.

그리고, 상기 칼럼 스페이서를 포함한 TFT 기판 및 칼라 필터 기판 전면에 배향막을 도포하고 상기 배향막을 러빙 처리한다.Then, an alignment film is applied to the entire TFT substrate including the column spacer and the color filter substrate, and the alignment film is rubbed.

이와 같이, 배향 공정이 완료된 TFT 기판과 컬러필터 기판을 각각 세정(S101)한 다음, 상기 TFT 기판과 칼라 필터 기판 중 하나의 기판 상의 일정 영역에 액정을 적하하고(S102), 나머지 기판의 각 액정 패널 영역의 외곽부에 디스펜싱 장치를 이용하여 실 패턴을 형성한다(S103).As described above, the TFT substrate and the color filter substrate on which the alignment process is completed are cleaned (S101), and then, a liquid crystal is dropped into a predetermined region on one of the TFT substrate and the color filter substrate (S102), and each liquid crystal of the remaining substrates. A seal pattern is formed at an outer portion of the panel region by using a dispensing apparatus (S103).

이 때, 상기 두 기판 중 하나의 기판에 액정도 적하하고 실 패턴도 형성하여도 된다.At this time, the liquid crystal may also be dropped on one of the two substrates and a seal pattern may be formed.

그리고 상기 액정이 적하되지 않은 기판을 반전(뒤집어서 마주보게 함)시키고(S104), 상기 TFT 기판과 컬러필터 기판을 압력하여 합착하고 상기 실 패턴을 경화 시킨다(S105).Then, the substrate on which the liquid crystal is not dropped is inverted (inverted to face each other) (S104), the TFT substrate and the color filter substrate are pressed together, and the seal pattern is cured (S105).

이어, 단위 액정 패널별로 상기 합착된 기판을 절단 및 가공한다(S106).Subsequently, the bonded substrate is cut and processed for each unit liquid crystal panel (S106).

그리고 상기 가공된 단위 액정 패널의 외관 및 전기적 불량 검사(S107)를 진행함으로써 액정표시소자를 제작하게 된다. In addition, the liquid crystal display device may be manufactured by performing the external appearance and electrical defect inspection (S107) of the processed unit liquid crystal panel.

이와 같은 종래의 칼럼 스페이서 형성 방법을 설명하면 다음과 같다.This conventional method of forming a column spacer is as follows.

도 4a 내지 4d는 종래의 칼럼 스페이서 공정 단면도이다.4A-4D are cross-sectional views of a conventional column spacer process.

도 4a와 같이, 칼라 필터 기판(2)에 빛을 차광할 수 있는 금속 또는 블렉 레진을 증착하고 화소 영역에 해당되는 부분을 선택적으로 제거하여 블랙 매트릭스층(7)을 형성한다. 그리고, 안료가 착색된 수지를 증착하고 화소 영역에만 남도록 패터닝하는 과정을 반복하여 각 화소 영역에 R, G, B 칼라 필터층(8)을 형성하고, 상기 칼라 필터층(8)을 포함한 기판 전면에 오버 코트(Over coat)층(11)을 형성한다. 여기서, 상기 액정표시장치가 IPS 모드인 경우는 오버 코트층을 형성하지만, TN 모드인 경우는 오버 코트층 대신에 공통 전극을 형성한다.As shown in FIG. 4A, a black matrix layer 7 is formed by depositing a metal or a block resin capable of blocking light on the color filter substrate 2 and selectively removing a portion corresponding to the pixel region. Then, the process of depositing the pigment-colored resin and patterning so that it remains only in the pixel region is performed to form R, G, and B color filter layers 8 in each pixel region, and over the entire substrate including the color filter layer 8. An over coat layer 11 is formed. In the case of the IPS mode, the overcoat layer is formed, but in the TN mode, the common electrode is formed instead of the overcoat layer.

도 4b와 같이, 상기 오버 코트층(11)위에 칼럼 스페이서용 네거티브 감광성 수지(12)를 증착한다.As shown in FIG. 4B, a negative photosensitive resin 12 for column spacers is deposited on the overcoat layer 11.

도 4c와 같이, 포토 마스크(13)를 이용한 노광 공정으로 상기 블랙 매트릭스층 상의 감광성 수지(12)에 선택적으로 빛을 조사하여 감광성 수지(12)를 응고시킨다. As shown in FIG. 4C, the photosensitive resin 12 on the black matrix layer is selectively irradiated with light to coagulate the photosensitive resin 12 by an exposure process using the photomask 13.

도 4d와 같이, 상기 빛이 조사된 부분은 남아 있고 빛이 조사되지 않는 부분이 제거되도록 현상하여 칼럼 스페이서(20)를 형성한다.As shown in FIG. 4D, the light irradiated portion remains and the non-light irradiated portion is developed to form a column spacer 20.

이와 같이 칼럼 스페이서가 형성된 칼라 필터 기판과, 상술한 바와 같이 박막트랜지스터 어레이가 형성된 TFT 기판에 배향막(도면에는 도시되지 않음)을 증착하여 러빙 공정을 진행한 다음 두 기판을 합착하게 된다. As described above, an alignment film (not shown) is deposited on the color filter substrate having the column spacer and the TFT substrate on which the thin film transistor array is formed, thereby performing a rubbing process, and then bonding the two substrates together.

도 5는 칼럼 스페이서가 형성된 종래의 액정표시장치를 나타낸 개략 단면도이다. 5 is a schematic cross-sectional view of a conventional liquid crystal display device in which column spacers are formed.

도 5와 같이, 도시된 액정 표시 장치에는 칼라 필터 기판(2) 상에 칼럼 스페이서(20)가 형성되고, TFT 기판에 액정을 적하하여 형성한 것이다.As shown in FIG. 5, the column spacer 20 is formed on the color filter substrate 2 in the illustrated liquid crystal display device, and the liquid crystal is dropped and formed on the TFT substrate.

상기에서 알 수 있는 바와 같이, 상기 칼럼 스페이서는 칼라 필터 기판에 고정되어 있고, TFT 기판에 접촉된다. 그리고 상기 TFT 기판에 접촉되는 칼럼 스페이서의 면은 완전 구(球) 형상이 아니고 평탄한 면을 갖게 된다.As can be seen from above, the column spacer is fixed to the color filter substrate and in contact with the TFT substrate. The surface of the column spacer in contact with the TFT substrate is not completely spherical but has a flat surface.

따라서, 액정 주입 방식으로 제조되는 액정표시장치에서는 구 형상의 볼 스페이서를 사용하고 스페이서가 기판에 고정되지 않기 때문에 화면상에 외부적 충격(눌림, 문지름 등)을 가해도 액정의 복원력이 좋기 때문에 얼룩이 발생하지 않는다.Therefore, the liquid crystal display device manufactured by the liquid crystal injection method uses a spherical ball spacer and the spacer is not fixed to the substrate. Does not occur.

그러나, 칼럼 스페이서를 사용한 액정표시장치에 있어서는 다음과 같은 문제점이 있었다. However, the liquid crystal display device using the column spacer has the following problems.

첫째, 칼럼 스페이서는 한쪽 기판에는 고정되고 다른 기판과 접촉되는 면이 구 형상이 아니므로, 칼럼 스페이서는 상기 볼 스페이서에 비해 기판에 접촉되는 면적이 넓어 기판과 마찰력이 크다. 따라서, 칼럼 스페이서가 형성된 액정표시장치의 화면을 문지를 경우, 한참 동안 얼룩이 발생하게 된다.First, since the column spacer is fixed to one substrate and the surface in contact with the other substrate is not spherical, the column spacer has a larger area of contact with the substrate than the ball spacer and thus has a large friction force with the substrate. Therefore, when the screen of the liquid crystal display on which the column spacer is formed is rubbed, staining occurs for a long time.

도 6a 및 도 6b는 터치 얼룩이 일어나는 부위의 모습을 나타낸 평면도 및 단면도이다.6A and 6B are plan and cross-sectional views showing a state where a touch spot occurs.

도 6a와 같이, 액정 패널(10)을 소정 방향으로 손가락으로 터치한 상태에서 훑어 지나가게 되면, 도 6b와 같이, 액정 패널의 상부 기판은 손가락이 지나간 방향으로 소정 간격 쉬프트하게 된다. As shown in FIG. 6A, when the liquid crystal panel 10 is swung past while being touched by a finger in a predetermined direction, as shown in FIG. 6B, the upper substrate of the liquid crystal panel is shifted by a predetermined interval in the direction where the finger passes.

이 때, 원기둥 형상의 칼럼 스페이서가 상하부 기판에 닿아있으며, 이 접촉 면적이 커, 칼럼 스페이서와 대향 기판 사이에 발생하는 마찰력이 크기 때문에, 칼럼 스페이서들 사이의 액정은 원 상태로 쉽게 되돌아오지 못하고 남아있어, 계속적으로 불투명하게 보이는 얼룩이 관찰된다. 또한, 소정 방향으로 손가락이 지나갔을 때, 도 6b와 같이, 마지막 접촉 부위에 액정이 모이게 되고, 이 부위가 불룩 튀어나온 형상이 만들어진다. 이 경우, 상기 액정이 모여 불룩 튀어난 부위는, 칼럼 스페이서의 높이로 정의되는 타 부위의 셀 갭(h2)보다 셀 갭(h1)이 높아져 액정의 배열이 불균일해져 빛이 새게 된다. 따라서 휘도가 불균일해지는 문제점이 발생한다.At this time, the columnar columnar spacers are in contact with the upper and lower substrates, and the contact area is large and the friction force generated between the column spacers and the opposing substrate is large, so that the liquid crystal between the column spacers does not easily return to the original state. As a result, stains appearing to be opaque continuously are observed. In addition, when a finger passes in a predetermined direction, as shown in Fig. 6B, the liquid crystals are collected at the last contact portion, and a shape in which the portion is bulged is formed. In this case, the areas where the liquid crystals gather and protrude bulge have a higher cell gap h1 than the cell gap h2 of other sites defined by the height of the column spacer, resulting in uneven alignment of the liquid crystals, resulting in light leakage. Therefore, there arises a problem of uneven brightness.

둘째, 상술한 터치 얼룩은 적하되는 액정 량을 늘리면 해결될 수 있으나, 터치 얼룩이 해소되는 반면 상대적으로 중력 불량이라는 또 다른 문제를 초래하게 된다. 즉, 액정표시장치는 모니터, 노트 북, TV 등의 표시장치에 이용된 것으로, 사용 시에 패널이 수직으로 서 있는 상태가 많다. 이 때 중력 방향으로 액정이 쏠리게 된다.Second, the above-described touch stain can be solved by increasing the amount of liquid crystal dropped, but while the touch stain is eliminated, it causes another problem of relatively poor gravity. That is, the liquid crystal display device is used for a display device such as a monitor, a notebook, a TV, and the like, and in many cases, the panel is vertically standing. At this time, the liquid crystal is concentrated in the direction of gravity.

셋째, 상기 칼럼 스페이서는 유연성이 없기 때문에 셀갭의 균일성이 떨어진다. Third, since the column spacer is inflexible, the uniformity of the cell gap is poor.

이와 같은 문제점들을 IPS 모드에서 더욱 심하게 나타난다.These problems are more severe in IPS mode.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 칼럼 스페이서용 감광성 수지에 볼 스페이서를 믹싱하고, 믹싱된 감광성 수지를 증착하고 선택적으로 제거하여 칼럼 스페이서를 형성하여 칼럼 스페이서의 유연성을 높여 중력 불량을 햐결하고 칼럼 스페이서와 기판의 마찰력을 최소화 하여 터치 얼룩의 문제점을 해결할 수 있는 액정표시장치 및 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, by mixing the ball spacer in the photosensitive resin for the column spacer, depositing and selectively removing the mixed photosensitive resin to form a column spacer to increase the flexibility of the column spacer to gravity It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display and a manufacturing method which can solve the problem of touch unevenness by eliminating defects and minimizing friction between the column spacer and the substrate.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 액정 표시 장치는, 서로 마주보는 제 1 기판 및 제 2 기판; 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성되는 볼 스페이서가 믹싱된 칼럼 스페이서; 그리고 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성됨에 그 특징이 있다.A liquid crystal display of the present invention for achieving the above object, the first substrate and the second substrate facing each other; A column spacer in which ball spacers formed between the first and second substrates are mixed; The liquid crystal layer is formed between the first and second substrates.

여기서, 상기 볼 스페이서는 셀갭의 1/2에 해당되는 지름을 갖음에 특징이 있다.Here, the ball spacer is characterized in that it has a diameter corresponding to 1/2 of the cell gap.

상기 칼럼 스페이서가 포함된 제 1 기판 또는 상기 제 2 기판 표면에 형성되는 적어도 하나의 배향막을 더 포함함에 특징이 있다.And at least one alignment layer formed on a surface of the first substrate or the second substrate including the column spacer.

또한, 본 발명에 따른 액정표시장치는, 서로 마주보는 제 1, 제 2 기판; 상기 제 1 기판에 형성되는 블랙매트릭스층 및 오버 코트층; 상기 오버 코트층상에 형성되는 볼 스페이서가 믹싱된 칼럼 스페이서; 화소 영역을 정의하기 위하여 상기 제 2 기판에 서로 교차하여 형성된 게이트 라인 및 데이터 라인; 상기 게이트 라인에 평행한 방향으로 형성되어 상기 화소 영역으로 상기 데이터 라인에 평행한 방향으로 복수개의 공통 전극이 돌출된 공통 라인; 반도체층 및 소오스/드레인 전극을 구비하여 상기 게이트 라인과 데이터 라인이 교차하는 부분에 형성된 박막트랜지스터; 상기 드레인 전극에 콘택홀을 갖도록 제 2 기판에 형성된 보호막; 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극에 연결되어 상기 보호막위의 화소 영역에 상기 공통 전극과 일정 간격 이격되어 공통 전극에 평행하게 형성되는 화소 전극; 그리고 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성되는 액정층을 구비하여 구성됨에 또 다른 특징이 있다.In addition, the liquid crystal display device according to the present invention, the first and second substrates facing each other; A black matrix layer and an overcoat layer formed on the first substrate; A column spacer mixed with a ball spacer formed on the overcoat layer; A gate line and a data line intersecting each other on the second substrate to define a pixel area; A common line formed in a direction parallel to the gate line and protruding a plurality of common electrodes in a direction parallel to the data line in the pixel area; A thin film transistor having a semiconductor layer and a source / drain electrode formed at an intersection portion of the gate line and the data line; A protective film formed on the second substrate to have a contact hole in the drain electrode; A pixel electrode connected to the drain electrode of the thin film transistor, the pixel electrode being spaced apart from the common electrode at a predetermined interval in the pixel area on the passivation layer so as to be parallel to the common electrode; In addition, the liquid crystal layer is formed between the first and second substrates.

또한, 본 발명에 따른 액정표시장치는, 서로 마주보는 제 1, 제 2 기판; 상기 제 1 기판에 형성되는 블랙매트릭스층 및 공통 전극; 상기 공통 전극상에 형성되는 볼 스페이서가 믹싱된 칼럼 스페이서; 화소 영역을 정의하기 위하여 상기 제 2 기판에 서로 교차하여 형성된 게이트 라인 및 데이터 라인; 반도체층 및 소오스/드레인 전극을 구비하여 상기 게이트 라인과 데이터 라인이 교차하는 부분에 형성된 박막트랜지스터; 상기 드레인 전극에 콘택홀을 갖도록 제 2 기판에 형성된 보호막; 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극에 연결되어 상기 보호막위의 화소 영역에 형성되는 화소 전극; 그리고 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성되는 액정층을 구비하여 구성됨에 따른 특징이 있다.In addition, the liquid crystal display device according to the present invention, the first and second substrates facing each other; A black matrix layer and a common electrode formed on the first substrate; A column spacer in which ball spacers formed on the common electrode are mixed; A gate line and a data line intersecting each other on the second substrate to define a pixel area; A thin film transistor having a semiconductor layer and a source / drain electrode formed at an intersection portion of the gate line and the data line; A protective film formed on the second substrate to have a contact hole in the drain electrode; A pixel electrode connected to the drain electrode of the thin film transistor and formed in the pixel area on the passivation layer; And a liquid crystal layer formed between the first and second substrates.

한편, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조 방법은, 볼 스페이서와 감광성 수지를 믹싱하는 단계; 제 1 기판에 상기 볼 스페이서가 믹싱된 감광성 수지를 도포하고 선택적으로 제거하여 칼럼 스페이서를 형성하는 단계; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판에 액정을 적하하는 단계; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판에 실 패턴을 형성하는 단계; 그리고 상기 칼럼 스페이서에 의해 셀갭이 유지되도록 상기 제 1, 제 2 기판을 합착하는 단계를 포함하여 이루어짐에 그 특징이 있다.On the other hand, the manufacturing method of the liquid crystal display device according to the present invention for achieving the above object comprises the steps of mixing the ball spacer and the photosensitive resin; Coating and selectively removing the photosensitive resin mixed with the ball spacers on the first substrate to form column spacers; Dropping liquid crystal onto the first substrate or the second substrate; Forming a seal pattern on the first substrate or the second substrate; And bonding the first and second substrates so that the cell gap is maintained by the column spacer.

또한, 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조 방법은, 볼 스페이서와 감광성 수지를 믹싱하는 단계; 제 1 기판에 블랙매트릭스층, 칼라 필터층 및 오버 코트층을 형성하는 단계; 상기 오버 코트층상에 상기 볼 스페이서가 믹싱된 감광성 수지를 도포하고 선택적으로 제거하여 칼럼 스페이서를 형성하는 단계; 제 2 기판에 게이트 전극을 갖는 복수개의 게이트 라인 및 공통 전극을 갖는 공통 라인을 형성하는 단계; 상기 게이트 라인 및 공통 라인을 포함한 제 2 기판 전면에 게이트 절연막을 형성하는 단계; 상기 게이트 전극 상측의 게이트 절연막위에 반도체층을 형성하는 단계; 화소 영역을 정의하기 위해 상기 게이트 라인에 수직한 방향으로 데이터 라인, 상기 반도체층 양측에 소오스/드레인 전극을 형성하는 단계; 상기 드레인 전극에 콘택홀을 갖도록 제 2 기판 전면에 보호막을 형성하는 단계; 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극에 연결되고 상기 공통 전극에 평행하게 상기 보호막위의 화소 영역에 화소 전극을 형성하는 단계; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판에 액정을 적하하는 단계; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판에 실 패턴을 형성하는 단계; 그리고 상기 칼럼 스페이서에 의해 셀갭이 유지되도록 상기 제 1, 제 2 기판을 합착하는 단계를 포함하여 이루어짐에 또 다른 특징이 있다.In addition, the manufacturing method of the liquid crystal display device according to the present invention comprises the steps of mixing the ball spacer and the photosensitive resin; Forming a black matrix layer, a color filter layer, and an overcoat layer on the first substrate; Coating and selectively removing the photosensitive resin mixed with the ball spacers on the overcoat layer to form column spacers; Forming a plurality of gate lines having gate electrodes and a common line having common electrodes on the second substrate; Forming a gate insulating film on an entire surface of the second substrate including the gate line and the common line; Forming a semiconductor layer on the gate insulating film above the gate electrode; Forming a data line and source / drain electrodes on both sides of the semiconductor layer in a direction perpendicular to the gate line to define a pixel area; Forming a protective film on the entire surface of the second substrate to have contact holes in the drain electrode; Forming a pixel electrode in a pixel area on the passivation layer and connected to the drain electrode of the thin film transistor in parallel with the common electrode; Dropping liquid crystal onto the first substrate or the second substrate; Forming a seal pattern on the first substrate or the second substrate; And bonding the first and second substrates so that the cell gap is maintained by the column spacers.

또한, 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조 방법은, 볼 스페이서와 감광성 수지를 믹싱하는 단계; 제 1 기판에 블랙매트릭스층, 칼라 필터층 및 공통 전극을 형성하는 단계; 상기 공통 전극상에 상기 볼 스페이서가 믹싱된 감광성 수지를 도포하고 선택적으로 제거하여 칼럼 스페이서를 형성하는 단계; 제 2 기판에 게이트 전극을 갖는 게이트 라인을 형성하는 단계; 상기 게이트 라인을 포함한 제 2 기판 전면에 게이트 절연막을 형성하는 단계; 상기 게이트 전극 상측의 게이트 절연막위에 반도체층을 형성하는 단계; 화소 영역을 정의하기 위해 상기 게이트 라인에 수직한 방향으로 데이터 라인, 상기 반도체층 양측에 소오스/드레인 전극을 형성하는 단계; 상기 드레인 전극에 콘택홀을 갖도록 제 2 기판 전면에 보호막을 형성하는 단계; 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극에 연결되도록 상기 보호막위의 화소 영역에 화소 전극을 형성하는 단계; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판에 액정을 적하하는 단계; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판에 실 패턴을 형성하는 단계; 그리고 상기 칼럼 스페이서에 의해 셀갭이 유지되도록 상기 제 1, 제 2 기판을 합착하는 단계를 포함하여 이루어짐에 또 다른 특징이 있다.In addition, the manufacturing method of the liquid crystal display device according to the present invention comprises the steps of mixing the ball spacer and the photosensitive resin; Forming a black matrix layer, a color filter layer, and a common electrode on the first substrate; Forming a column spacer by applying and selectively removing the photosensitive resin mixed with the ball spacer on the common electrode; Forming a gate line having a gate electrode on the second substrate; Forming a gate insulating film on an entire surface of the second substrate including the gate line; Forming a semiconductor layer on the gate insulating film above the gate electrode; Forming a data line and source / drain electrodes on both sides of the semiconductor layer in a direction perpendicular to the gate line to define a pixel area; Forming a protective film on the entire surface of the second substrate to have contact holes in the drain electrode; Forming a pixel electrode in the pixel area on the passivation layer so as to be connected to the drain electrode of the thin film transistor; Dropping liquid crystal onto the first substrate or the second substrate; Forming a seal pattern on the first substrate or the second substrate; And bonding the first and second substrates so that the cell gap is maintained by the column spacers.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 액정 표시 장치 및 제조 방법을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a liquid crystal display and a manufacturing method of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 7a 내지 7d는 본 발명의 실시예에 따른 칼럼 스페이서의 공정 설명도이다.7A to 7D are explanatory views of a process of column spacers according to embodiments of the present invention.

먼저, 도 7a와 같이, 칼럼 스페이서를 형성하기 위한 감광성 수지(24)와 볼 스페이서(25)를 믹싱한다. First, as shown in FIG. 7A, the photosensitive resin 24 and the ball spacers 25 for forming the column spacers are mixed.

이 때, 액정표시장치의 모드 별로 셀갭을 다르게 하므로, 상기 볼 스페이서(25)는 액정표시장치의 셀갭의 1/2 이하에 해당되는 지름을 갖는 볼 스페이서를 이용하고 상기 감광성 수지는 네가티브형 감광성 수지를 이용함이 바람직하다.In this case, since the cell gap is changed for each mode of the liquid crystal display device, the ball spacer 25 uses a ball spacer having a diameter corresponding to 1/2 or less of the cell gap of the liquid crystal display device, and the photosensitive resin is a negative photosensitive resin. It is preferred to use.

그리고 이와 같이 볼 스페이서(25)가 믹싱된 감광성 수지(24)를 칼라 필터 기판에 도포하고 노광 및 현상하여 칼럼 스페이서를 형성한다.Then, the photosensitive resin 24 mixed with the ball spacers 25 is coated on the color filter substrate, and exposed and developed to form a column spacer.

즉, 도 7b와 같이, 유리 기판(60)에 빛을 차광할 수 있는 금속 또는 블렉 레진을 증착하고 화소 영역에 해당되는 부분을 선택적으로 제거하여 블랙 매트릭스층(21)을 형성한다. 그리고, 안료가 착색된 수지를 증착하고 화소 영역에만 남도록 패터닝하는 과정을 반복하여 각 화소 영역에 R, G, B 칼라 필터층(22)을 형성하고, 상기 칼라 필터층(22)을 포함한 기판 전면에 오버 코트(Over coat)층(23)을 형성한다. 여기서, 상기 액정표시장치가 IPS 모드인 경우는 오버 코트층을 형성하지만, TN 모드인 경우는 오버 코트층 대신에 공통 전극을 형성한다.That is, as illustrated in FIG. 7B, a black matrix layer 21 is formed by depositing a metal or a block resin that can block light on the glass substrate 60 and selectively removing a portion corresponding to the pixel region. Then, the process of depositing the pigment-colored resin and patterning so that it remains only in the pixel region to form R, G, B color filter layers 22 in each pixel region, and over the entire substrate including the color filter layer 22 An over coat layer 23 is formed. In the case of the IPS mode, the overcoat layer is formed, but in the TN mode, the common electrode is formed instead of the overcoat layer.

그리고, 상기 오버 코트층(23)위에 상기 볼 스페이서(25)가 믹싱된 감광성 수지(24)를 증착한다.Then, the photosensitive resin 24 on which the ball spacers 25 are mixed is deposited on the overcoat layer 23.

도 7c와 같이, 포토 마스크(26)를 이용한 노광 공정으로 상기 블랙 매트릭스층 상의 볼 스페이서(25)가 믹싱된 감광성 수지(24)에 선택적으로 빛을 조사하여 감광성 수지(24)를 응고시킨다. As shown in FIG. 7C, light is selectively irradiated onto the photosensitive resin 24 mixed with the ball spacers 25 on the black matrix layer in the exposure process using the photomask 26 to solidify the photosensitive resin 24.

도 7d와 같이, 상기 빛이 조사된 부분의 감광성 수지(24)는 남아 있고 빛이 조사되지 않는 부분의 감광성 수지(24)는 제거되도록 현상하여 칼럼 스페이서(27)를 형성한다.As shown in FIG. 7D, the photosensitive resin 24 of the portion to which light is irradiated remains and the photosensitive resin 24 of the portion to which light is not irradiated is developed to form a column spacer 27.

이와 같이 볼 스페이서가 믹싱된 감광성 수지를 이용하여 칼럼 스페이서가 형성된 칼라 필터 기판과, 종래 기술에서 언급한 바와 같이 박막트랜지스터 어레이가 형성된 TFT 기판에 배향막(도면에는 도시되지 않음)을 증착하여 러빙 공정을 진행한 다음 두 기판을 합착하게 된다.As described above, a rubbing process is performed by depositing an alignment layer (not shown) on a color filter substrate on which a column spacer is formed and a TFT substrate on which a thin film transistor array is formed, as described in the prior art. The two substrates are then bonded together.

이와 같은 본 발명에 따른 볼 스페이서가 믹싱된 칼럼 스페이서는 TN 모드 또는 IPS 모드의 액정표시장치 모두에 적용할 수 있다.The column spacer mixed with the ball spacer according to the present invention can be applied to both the liquid crystal display device of the TN mode or IPS mode.

따라서, 볼 스페이서가 믹싱된 감광성 수지로 칼럼 스페이서가 형성되어 완성된 액정표시장치의 구성을 설명하면 다음과 같다.Therefore, the structure of the liquid crystal display device in which the column spacer is formed of the photosensitive resin mixed with the ball spacer is described as follows.

도 8은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 IPS 모드 액정 표시 장치의 평면도이고, 도 9는 도 8의 Ⅱ~Ⅱ' 선상의 구조 단면도이다.FIG. 8 is a plan view of an IPS mode liquid crystal display device according to a first exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line II-II 'of FIG. 8.

본 발명의 제 1 실시예는 IPS 모드의 액정표시장치에서 볼 스페이서가 믹싱된 감광성 수지로 칼럼 스페이서를 형성한 것이다. 즉, IPS 모드의 액정표시장치는 셀갭이 약 3∼4㎛이므로, IPS 모드의 액정표시장치에서 볼 스페이서가 믹싱된 감광성 수지로 칼럼 스페이서를 형성할 경우, 지름이 셀갭의 1/2 이하인 2㎛ 이하의 볼 스페이서를 이용한다.In the first embodiment of the present invention, a column spacer is formed of a photosensitive resin mixed with a ball spacer in a liquid crystal display of IPS mode. That is, since the cell gap of the liquid crystal display of the IPS mode is about 3 to 4 μm, when the column spacer is formed of a photosensitive resin mixed with a ball spacer in the liquid crystal display of the IPS mode, 2 μm of a diameter of 1/2 or less of the cell gap is used. The following ball spacers are used.

도 8 및 도 9와 같이, 일정 공간을 갖고 합착된 칼라 필터 기판(100) 및 TFT 기판(200)과, 상기 칼라 필터 기판(100)과 TFT 기판(200) 사이에 주입된 액정층(55)으로 구성되어 있다.8 and 9, the color filter substrate 100 and the TFT substrate 200 bonded to each other with a predetermined space and the liquid crystal layer 55 injected between the color filter substrate 100 and the TFT substrate 200. It consists of.

보다 구체적으로 설명하면, 상기 칼라 필터 기판(100)은 유리 기판(60) 상에 화소 영역을 제외한 부분(게이트 라인 및 데이터 라인 영역, 박막 트랜지스터 영역)의 빛을 차단하기 위한 블랙 매트릭스층(21)이 형성되고, 상기 각 화소 영역에 대응되어 부분에 색상을 표현하기 위한 R, G, B 칼라 필터층(22)이 형성되며, 상기 블랙 매트릭스층(21)과 칼라 필터층(22) 상부 전면에 오버 코트층(23)이 형성된다. 그리고, 상기 블랙매트릭스층(21) 상측의 상기 오버 코트층(23)의 소정 부분에 볼 스페이서가 믹싱된 감광성 수지로 칼럼 스페이서(27)가 형성된다.More specifically, the color filter substrate 100 may include a black matrix layer 21 for blocking light of portions (gate lines and data line regions and thin film transistor regions) except for pixel regions on the glass substrate 60. Are formed, and R, G, and B color filter layers 22 are formed to correspond to the pixel areas to express colors in portions, and overcoats are formed on the entire upper surface of the black matrix layer 21 and the color filter layers 22. Layer 23 is formed. The column spacer 27 is formed of a photosensitive resin in which a ball spacer is mixed in a predetermined portion of the overcoat layer 23 on the black matrix layer 21.

그리고, TFT 기판(200)은, 유리기판(70) 상에 수직으로 교차하여 화소 영역을 정의하는 복수개의 게이트 라인(41) 및 데이터 라인(42)이 형성되고, 상기 게이트 라인에 평행한 방향으로 공통 라인(47)이 형성되고, 상기 공통 라인(47)에서 각 화소 영역으로 돌출되어 일정 간격을 갖고 공통 전극(47a)이 형성된다. 그리고, 상기 각 게이트 라인(41)과 데이터 라인(42)이 교차하는 부분에 소오스/드레인 전극(42a, 42b)을 구비한 박막 트랜지스터(TFT)가 형성되고, 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극에 연결되어 상기 각 화소 영역에는 상기 공통 전극(47a)과 평행하게 상기 공통 전극 사이에 화소 전극(43)들이 형성된다. 미 설명 부호는 반도체층(44)이다. In the TFT substrate 200, a plurality of gate lines 41 and data lines 42 are formed on the glass substrate 70 to vertically intersect to define a pixel region, and are in a direction parallel to the gate lines. The common line 47 is formed, and the common electrode 47a is formed at a predetermined interval by protruding from the common line 47 to each pixel area. Thin film transistors (TFTs) including source / drain electrodes 42a and 42b are formed at portions where the gate lines 41 and the data lines 42 cross each other, and are connected to drain electrodes of the thin film transistors. In each pixel area, pixel electrodes 43 are formed between the common electrodes in parallel with the common electrode 47a. Reference numeral not shown is the semiconductor layer 44.

상기에서, 상기 볼 스페이서가 믹싱된 칼럼 스페이서(27)는 블랙 매트릭스층 상에 형성되지만, 그중에 상기 TFT 기판(200)의 게이트 라인(41) 또는 데이터 라인(42)에 상응하는 위치에 형성된다. 도 8에서는 칼럼 스페이서(27)가 게이트 라인(41)위에 형성된 경우를 도시한 것이다.In the above, the column spacer 27 in which the ball spacers are mixed is formed on the black matrix layer, but is formed at a position corresponding to the gate line 41 or the data line 42 of the TFT substrate 200. 8 illustrates a case in which the column spacer 27 is formed on the gate line 41.

여기서, 상기 IPS 모드의 액정표시장치의 TFT 기판(200)의 제조 방법을 간단히 설명하면 다음과 같다.Here, the manufacturing method of the TFT substrate 200 of the liquid crystal display of the IPS mode will be briefly described as follows.

즉, 유리 기판(70)에 Mo, Al 또는 Cr 등과 같은 금속물질을 스퍼터링 방법으로 전면 증착하고 사진 식각 공정으로 상기 금속 물질을 패터닝하여 게이트 라인(41) 및 게이트 전극(41a)과 공통 라인(47) 및 공통 전극(47a)을 형성한다. That is, a metal material such as Mo, Al, or Cr is deposited on the glass substrate 70 by sputtering, and the metal material is patterned by a photolithography process to form the gate line 41 and the gate electrode 41a and the common line 47. ) And the common electrode 47a.

이어, 상기 게이트 라인(41) 및 공통 라인(47)을 포함한 유리 기판(70) 상에 SiNx 등의 절연물질을 전면 증착하여 게이트 절연막(45)을 형성하고, 상기 게이트 절연막(45) 상에 반도체층을 증착하고 패터닝하여 상기 게이트 전극(41a) 상측의 게이트 절연막(45)위에 반도체층(44)을 형성한다.Subsequently, an insulating material such as SiNx is deposited on the glass substrate 70 including the gate line 41 and the common line 47 to form a gate insulating film 45, and a semiconductor is formed on the gate insulating film 45. The layer is deposited and patterned to form a semiconductor layer 44 on the gate insulating film 45 above the gate electrode 41a.

여기서, 상기 반도체층(44)은 비정질 실리콘(amorphous silicon)층 또는 폴리 실리콘층 및 불순물이 고농도로 도핑된 실리콘층을 연속 증착한 다음, 상기 비정질 실리콘층(또는 폴리 실리콘층) 및 도핑된 실리콘층을 동시에 패터닝하여 형성한다.The semiconductor layer 44 may be formed by continuously depositing an amorphous silicon layer or a polysilicon layer and a silicon layer heavily doped with impurities, followed by the amorphous silicon layer (or polysilicon layer) and the doped silicon layer. Are formed by patterning at the same time.

그리고, Mo, Al 또는 Cr 등과 같은 금속물질을 스퍼터링 방법으로 전면 증착하고 사진 식각 공정으로 상기 금속 물질을 패터닝하여 상기 게이트 라인(41)에 수직한 방향으로 데이터 라인(42)을 형성하고 상기 반도체층(44) 양측에 소오스 전극(42a), 드레인 전극(42b)을 형성한다. 여기서, 상기 소오스 전극(42a)은 상기 데이터 라인(42)에서 돌출되어 형성된다. 소오스/드레인 전극 패터닝 공정에서, 상기 소오스 전극(42a)과 드레인 전극(42b) 사이의 도핑된 실리콘층은 제거된다. In addition, a metal material such as Mo, Al, or Cr is deposited on the entire surface by a sputtering method, and the metal material is patterned by a photolithography process to form a data line 42 in a direction perpendicular to the gate line 41. (44) Source electrodes 42a and drain electrodes 42b are formed on both sides. The source electrode 42a is formed to protrude from the data line 42. In the source / drain electrode patterning process, the doped silicon layer between the source electrode 42a and the drain electrode 42b is removed.

이어서, 상기 소오스 전극(42a) 및 드레인 전극(42b)을 포함한 기판 전면에 화학 기상 증착(chemical vapor deposition : CVD) 방식을 통해 SiNx 재질의 보호막(passivation film, 46)을 증착한다. 이러한 보호막(46)의 재료로는 주로 SiNx 등의 무기물질이 적용되었으며, 최근 액정 셀의 개구율을 향상시키기 위하여 BCB(BenzoCycloButene), SOG(Spin On Glass) 또는 Acryl 등의 유전율이 낮은 유기물질이 사용되고 있다.Subsequently, a passivation film 46 made of SiNx is deposited on the entire surface of the substrate including the source electrode 42a and the drain electrode 42b by chemical vapor deposition (CVD). An inorganic material such as SiNx is mainly used as a material of the protective film 46. In order to improve the opening ratio of a liquid crystal cell, an organic material having a low dielectric constant such as BCB (BenzoCycloButene), Spin On Glass (SOG), or Acryl is used. have.

그리고, 상기 드레인 전극(42b) 상의 보호막(46) 일부를 선택적으로 식각하여 드레인 전극(42b)의 일부를 노출시키는 콘택홀을 형성하고, 상기 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극(42b)에 전기적으로 연결되도록 상기 보호막(46)위에 투명 도전막을 스퍼터링하여 증착한 다음, 선택적으로 제거하여 상기 드레인 전극(42b)에 연결되고 상기 공통 전극(47a)과 평행하게 상기 공통 전극 사이 사이에 위치되도록 상기 화소 영역에 화소 전극(43)을 형성한다.A portion of the passivation layer 46 on the drain electrode 42b is selectively etched to form a contact hole exposing a portion of the drain electrode 42b and electrically connected to the drain electrode 42b through the contact hole. Sputtering and depositing a transparent conductive film on the passivation layer 46 so as to be selectively removed to be connected to the drain electrode 42b and positioned between the common electrode in parallel with the common electrode 47a. The pixel electrode 43 is formed.

상기에서는 칼라 필터 기판(100)에 칼럼 스페이서(27)를 형성함을 설명하였으나, 이에 한정되지 않고 TFT 기판에 칼럼 스페이서를 형성할 수 있다.In the above description, the column spacer 27 is formed on the color filter substrate 100. However, the present invention is not limited thereto, and the column spacer may be formed on the TFT substrate.

이와 같이 칼라 필터 기판(100)과 TFT 기판(200)이 제조되면, 도면에는 도시되지 않았지만, 상기 볼 스페이서가 믹싱된 칼럼 스페이서(27)가 형성된 칼라 필터 기판(100)과 TFT 기판(200)의 전면에 제 1, 제 2 배향막을 형성하고, 러빙(rubbing) 처리한다. 여기서, 러빙은 천을 균일한 압력과 속도로 배향막 표면과 마찰시킴으로써, 상기 배향막 표면의 고분자 사슬이 일정한 방향으로 정렬되도록 하여 액정의 초기 배향 방향을 결정하는 공정을 말한다.When the color filter substrate 100 and the TFT substrate 200 are manufactured as described above, although not shown in the drawing, the color filter substrate 100 and the TFT substrate 200 having the column spacers 27 mixed with the ball spacers are formed. First and second alignment films are formed on the entire surface, and rubbing is performed. Here, rubbing refers to a process of determining the initial alignment direction of the liquid crystal by rubbing the cloth with the surface of the alignment film at a uniform pressure and speed so that the polymer chains on the surface of the alignment film are aligned in a predetermined direction.

그리고, 상기 칼라 필터 기판(100) 또는 TFT 기판(200)의 표시영역 주변부에 실 패턴을 형성하고, 상기 칼라 필터 기판(100) 또는 TFT 기판(200)의 표시 영역 중앙부분에 액정을 적하하여 상기 두 기판을 합착한 후 상기 실 패턴을 경화시킨다.In addition, a seal pattern is formed around the display area of the color filter substrate 100 or the TFT substrate 200, and a liquid crystal is dropped on the central portion of the display area of the color filter substrate 100 or the TFT substrate 200. After the two substrates are bonded, the seal pattern is cured.

이와 같이 볼 스페이서가 믹싱된 칼럼 스페이서를 TN 모드의 액정표시장치에서도 적용할 수 있다.The column spacers in which the ball spacers are mixed in this way can be applied to the liquid crystal display of the TN mode.

도 10은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 TN 모드 액정표시장치의 평명도이고, 도 11은 도 10의 Ⅲ-Ⅲ' 선상의 단면도이다.FIG. 10 is a plan view of a TN mode liquid crystal display device according to a second exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 11 is a cross-sectional view taken along line III-III 'of FIG. 10.

본 발명의 제 2 실시예는 TN 모드의 액정표시장치에서 볼 스페이서가 믹싱된 감광성 수지로 칼럼 스페이서를 형성한 것이다. 즉, TN 모드의 액정표시장치는 셀갭이 약 5㎛ 이하이므로, TN 모드의 액정표시장치에서 볼 스페이서가 믹싱된 감광성 수지로 칼럼 스페이서를 형성할 경우, 지름이 셀갭의 1/2 이하인 2.5㎛ 이하의 볼 스페이서를 이용한다.According to a second exemplary embodiment of the present invention, a column spacer is formed of a photosensitive resin mixed with a ball spacer in a TN mode liquid crystal display device. That is, since the cell gap of the TN mode liquid crystal display device is about 5 μm or less, when the column spacer is formed of photosensitive resin mixed with ball spacers in the liquid crystal display device of the TN mode, the diameter is 2.5 μm or less that is 1/2 or less of the cell gap. Ball spacers are used.

도 10 및 도 11과 같이, 일정 공간을 갖고 합착된 칼라 필터 기판(100) 및 TFT 기판(200)과, 상기 칼라 필터 기판(100)과 TFT 기판(200) 사이에 주입된 액정층(55)으로 구성되어 있다.10 and 11, the color filter substrate 100 and the TFT substrate 200 bonded to each other with a predetermined space and the liquid crystal layer 55 injected between the color filter substrate 100 and the TFT substrate 200. It consists of.

보다 구체적으로 설명하면, 상기 칼라 필터 기판(100)은 유리 기판(60) 상에 화소 영역을 제외한 부분(게이트 라인 및 데이터 라인 영역, 박막 트랜지스터 영역)의 빛을 차단하기 위한 블랙 매트릭스층(21)이 형성되고, 상기 각 화소 영역에 대응되어 부분에 색상을 표현하기 위한 R, G, B 칼라 필터층(22)이 형성되며, 상기 블랙 매트릭스층(21)과 칼라 필터층(22) 상부 전면에 공통 전극(34)이 형성된다. 그리고, 상기 블랙매트릭스층(21) 상측의 상기 공통 전극(34)의 소정 부분에 볼 스페이서가 믹싱된 감광성 수지로 칼럼 스페이서(27)가 형성된다.More specifically, the color filter substrate 100 may include a black matrix layer 21 for blocking light of portions (gate lines and data line regions and thin film transistor regions) except for pixel regions on the glass substrate 60. Are formed, and R, G, and B color filter layers 22 are formed to correspond to each pixel area to express color in portions, and a common electrode is formed on the entire upper surface of the black matrix layer 21 and the color filter layer 22. 34 is formed. The column spacer 27 is formed of a photosensitive resin in which a ball spacer is mixed with a predetermined portion of the common electrode 34 on the black matrix layer 21.

그리고, TFT 기판(200)은, 유리기판(70) 상에 수직으로 교차하여 화소 영역을 정의하는 복수개의 게이트 라인(41) 및 데이터 라인(42)이 형성되고, 상기 각 게이트 라인(41)과 데이터 라인(42)이 교차하는 부분에 소오스/드레인 전극(42a, 42b)을 구비한 박막 트랜지스터(TFT)가 형성되고, 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극에 연결되어 상기 각 화소 영역에는 화소 전극(43)들이 형성된다. 미 설명 부호는 반도체층(44)이다. In the TFT substrate 200, a plurality of gate lines 41 and data lines 42 are formed on the glass substrate 70 to vertically cross each other to define pixel regions. A thin film transistor (TFT) having source / drain electrodes 42a and 42b is formed at an intersection portion of the data line 42, and is connected to a drain electrode of the thin film transistor so that each pixel area includes a pixel electrode 43. Are formed. Reference numeral not shown is the semiconductor layer 44.

상기에서, 상기 볼 스페이서가 믹싱된 칼럼 스페이서(27)는 블랙 매트릭스층 상에 형성되지만, 그중에 상기 TFT 기판(200)의 게이트 라인(41) 또는 데이터 라인(42)에 상응하는 위치에 형성된다. 도 10에서는 칼럼 스페이서(27)가 게이트 라인(41)위에 형성된 경우를 도시한 것이다.In the above, the column spacer 27 in which the ball spacers are mixed is formed on the black matrix layer, but is formed at a position corresponding to the gate line 41 or the data line 42 of the TFT substrate 200. In FIG. 10, the column spacer 27 is formed on the gate line 41.

여기서, 상기 TN 모드의 액정표시장치의 TFT 기판(200)의 제조 방법을 간단히 설명하면 다음과 같다.Here, the manufacturing method of the TFT substrate 200 of the liquid crystal display of the TN mode will be briefly described as follows.

상기 유리 기판(70) 상에 Mo, Al 또는 Cr 등과 같은 금속물질을 스퍼터링 방법으로 전면 증착한 다음 사진 식각 공정으로 상기 금속물질을 패터닝하여 복수개의 게이트 라인(41) 및 상기 게이트 라인(41)에서 돌출되는 형상으로 게이트 전극(41a)을 형성한다.After depositing a metal material such as Mo, Al or Cr on the glass substrate 70 by the sputtering method, and then patterning the metal material by a photolithography process in a plurality of gate lines 41 and the gate line 41 The gate electrode 41a is formed to protrude.

이어, 상기 게이트 라인(41)들을 포함한 유리 기판(70) 상에 SiNx 등의 절연물질을 전면 증착하여 게이트 절연막(45)을 형성하고, 상기 게이트 절연막(45) 상에 반도체층을 증착하고 패터닝하여 상기 게이트 전극(41a) 상측의 게이트 절연막(45)위에 반도체층(44)을 형성한다.Subsequently, an insulating material such as SiNx is deposited on the glass substrate 70 including the gate lines 41 to form a gate insulating layer 45, and a semiconductor layer is deposited and patterned on the gate insulating layer 45. The semiconductor layer 44 is formed on the gate insulating layer 45 on the gate electrode 41a.

여기서, 상기 반도체층(44)은 비정질 실리콘(amorphous silicon)층 및 인(P)이 고농도로 도핑된 실리콘층을 연속 증착한 다음 상기 비정질 실리콘층, 도핑된 실리콘층을 동시에 패터닝하여 형성한다.The semiconductor layer 44 is formed by continuously depositing an amorphous silicon layer and a silicon layer doped with phosphorus (P) at a high concentration, and then simultaneously patterning the amorphous silicon layer and the doped silicon layer.

그리고, Mo, Al 또는 Cr 등과 같은 금속물질을 스퍼터링 방법으로 전면 증착하고 사진 식각 공정으로 상기 금속 물질을 패터닝하여 상기 게이트 라인(41)에 수직한 방향으로 데이터 라인(42)을 형성하고 상기 반도체층(44) 양측에 소오스 전극(42a), 드레인 전극(42b)을 형성한다. 여기서, 상기 소오스 전극(42a)은 상기 데이터 라인(42)에서 돌출되어 형성된다. 소오스/드레인 전극 패터닝 공정에서, 상기 소오스 전극(42a)과 드레인 전극(42b) 사이의 도핑된 실리콘층은 제거된다.In addition, a metal material such as Mo, Al, or Cr is deposited on the entire surface by a sputtering method, and the metal material is patterned by a photolithography process to form a data line 42 in a direction perpendicular to the gate line 41. (44) Source electrodes 42a and drain electrodes 42b are formed on both sides. The source electrode 42a is formed to protrude from the data line 42. In the source / drain electrode patterning process, the doped silicon layer between the source electrode 42a and the drain electrode 42b is removed.

이어서, 상기 소오스 전극(42a) 및 드레인 전극(42b)을 포함한 기판 전면에 화학 기상 증착(chemical vapor deposition : CVD) 방식을 통해 SiNx 재질의 보호막(passivation film, 46)을 증착한다. 이러한 보호막(46)의 재료로는 주로 SiNx 등의 무기물질이 적용되었으며, 최근 액정 셀의 개구율을 향상시키기 위하여 BCB(BenzoCycloButene), SOG(Spin On Glass) 또는 Acryl 등의 유전율이 낮은 유기물질이 사용되고 있다.Subsequently, a passivation film 46 made of SiNx is deposited on the entire surface of the substrate including the source electrode 42a and the drain electrode 42b by chemical vapor deposition (CVD). An inorganic material such as SiNx is mainly used as a material of the protective film 46. In order to improve the opening ratio of a liquid crystal cell, an organic material having a low dielectric constant such as BCB (BenzoCycloButene), Spin On Glass (SOG), or Acryl is used. have.

그리고, 상기 드레인 전극(42b) 상의 보호막(46) 일부를 선택적으로 식각하여 드레인 전극(42b)의 일부를 노출시키는 콘택홀을 형성하고, 상기 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극(42b)에 전기적으로 연결되도록 상기 보호막(46)위에 투명 도전막을 스퍼터링하여 증착한 다음, 상기 화소 영역에만 남도록 선택적으로 제거하여 상기 화소 영역에 화소 전극(43)을 형성한다.A portion of the passivation layer 46 on the drain electrode 42b is selectively etched to form a contact hole exposing a portion of the drain electrode 42b and electrically connected to the drain electrode 42b through the contact hole. The transparent conductive film is sputtered and deposited on the passivation layer 46 as much as possible, and then selectively removed to remain only in the pixel region to form the pixel electrode 43 in the pixel region.

상기에서는 칼라 필터 기판(100)에 칼럼 스페이서(27)를 형성함을 설명하였으나, 이에 한정되지 않고 TFT 기판에 칼럼 스페이서를 형성할 수 있다.In the above description, the column spacer 27 is formed on the color filter substrate 100. However, the present invention is not limited thereto, and the column spacer may be formed on the TFT substrate.

이와 같이 칼라 필터 기판(100)과 TFT 기판(200)이 제조되면, 도면에는 도시되지 않았지만, 상기 볼 스페이서가 믹싱된 칼럼 스페이서(27)가 형성된 칼라 필터 기판(100)과 TFT 기판(200)의 전면에 제 1, 제 2 배향막을 형성하고, 러빙(rubbing) 처리한다. 여기서, 러빙은 천을 균일한 압력과 속도로 배향막 표면과 마찰시킴으로써, 상기 배향막 표면의 고분자 사슬이 일정한 방향으로 정렬되도록 하여 액정의 초기 배향 방향을 결정하는 공정을 말한다.When the color filter substrate 100 and the TFT substrate 200 are manufactured as described above, although not shown in the drawing, the color filter substrate 100 and the TFT substrate 200 having the column spacers 27 mixed with the ball spacers are formed. First and second alignment films are formed on the entire surface, and rubbing is performed. Here, rubbing refers to a process of determining the initial alignment direction of the liquid crystal by rubbing the cloth with the surface of the alignment film at a uniform pressure and speed so that the polymer chains on the surface of the alignment film are aligned in a predetermined direction.

그리고, 상기 칼라 필터 기판(100) 또는 TFT 기판(200)의 표시영역 주변부에 실 패턴을 형성하고, 상기 칼라 필터 기판(100) 또는 TFT 기판(200)의 표시 영역 중앙부분에 액정을 적하하여 상기 두 기판을 합착한 후 상기 실 패턴을 경화시킨다.In addition, a seal pattern is formed around the display area of the color filter substrate 100 or the TFT substrate 200, and a liquid crystal is dropped on the central portion of the display area of the color filter substrate 100 or the TFT substrate 200. After the two substrates are bonded, the seal pattern is cured.

상기와 같은 본 발명의 액정 표시 장치 및 제조 방법에 있어서는 다음과 같은 효과가 있다. In the liquid crystal display and the manufacturing method of the present invention as described above has the following effects.

즉, 볼 스페이서을 감광성 수지에 믹싱하여 증착한 다음 이를 패터닝하여 칼럼 스페이서를 형성하므로, 칼럼 스페이서의 응집력과 볼 스페이서의 탄력이 결합된 형태로 칼럼 스페이서가 형성된다.That is, since the ball spacers are mixed with the photosensitive resin and then deposited, the ball spacers are patterned to form the column spacers. Thus, the column spacers are formed in a form in which the cohesion force of the column spacers and the elasticity of the ball spacers are combined.

따라서, 볼 스페이서의 유연성으로 셀 내부의 압력이 외부 압력의 변화에 유여하게 반응하므로 중력 불량을 방지할 수 있다.Therefore, due to the flexibility of the ball spacer, the pressure inside the cell responds smoothly to the change in the external pressure, thereby preventing gravity failure.

또한, 상기 칼럼 스페이서와 대행되는 기판이 접촉된 부분의 칼럼 스페이서의 표면에 볼 스페이서가 형성되어 있으므로 상기 칼럼 스페이서와 대행되는 기판 사이의 마찰력이 종래에 비해 감소되므로 터치 불량을 개선할 수 있다.In addition, since the ball spacer is formed on the surface of the column spacer of the portion in contact with the substrate to be replaced with the column spacer, frictional force between the column spacer and the substrate to be reduced compared to the conventional can improve the touch failure.

따라서, 액정 패널 면을 소정 방향으로 문지르더라도 칼럼 스페이서와 대향되는 기판간의 마찰력이 낮아져서 액정의 복원이 빠르지 진행되므로 터치 얼룩을 방지할 수 있으며, 터치 얼룩으로 발생하는 휘도 불균일을 개선하여 감도가 좋은 액정 패널을 생산할 수 있다.Therefore, even if the surface of the liquid crystal panel is rubbed in a predetermined direction, the friction between the column spacer and the substrate facing the surface is lowered so that the restoration of the liquid crystal proceeds quickly, thereby preventing touch unevenness, and improving the luminance unevenness generated by the touch unevenness. Produce panels.

도 1은 일반적인 액정 표시 장치를 나타낸 분해사시도1 is an exploded perspective view showing a general liquid crystal display device

도 2는 액정 주입형 액정 표시 장치의 제조 방법의 흐름도2 is a flowchart of a manufacturing method of a liquid crystal injection type liquid crystal display device.

도 3은 액정 적하형 액정 표시 장치의 제조 방법의 흐름도3 is a flowchart of a manufacturing method of a liquid crystal drop type liquid crystal display device;

도 4a 내지 4d는 종래의 칼럼 스페이서의 제조 공정을 설명하기 위한 공정 단면도4A to 4D are cross-sectional views illustrating a process of manufacturing a conventional column spacer.

도 5는 종래의 칼럼 스페이서가 형성된 액정 표시 장치를 나타낸 개략 단면도5 is a schematic cross-sectional view showing a liquid crystal display device in which a conventional column spacer is formed.

도 6a 및 도 6b는 종래의 터치 얼룩이 일어나는 부위의 모습을 나타낸 평면도 및 단면도6a and 6b are a plan view and a cross-sectional view showing the appearance of the site where a conventional touch stain occurs;

도 7a 내지 7d는 본 발명에 따른 칼럼 스페이서의 제조 공정을 설명하기 위한 공정도7a to 7d is a process chart for explaining the manufacturing process of the column spacer according to the present invention

도 8은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 IPS 모드 액정 표시 장치의 평면도8 is a plan view of an IPS mode liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention.

도 9는 도 8의 Ⅱ~Ⅱ' 선상의 구조 단면도9 is a cross-sectional view taken along line II-II 'of FIG. 8;

도 10은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 TN 모드의 액정 표시 장치의 평면도10 is a plan view of a liquid crystal display of TN mode according to a second embodiment of the present invention.

도 11은 도 10의 Ⅲ-Ⅲ'선상의 단면도 FIG. 11 is a cross-sectional view taken along line III-III ′ of FIG. 10.

*도면의 주요 부분에 대한 부호 설명** Description of symbols on the main parts of the drawings *

21 ; 블랙 매트릭스층 22 : 칼라 필터층21; Black Matrix Layer 22: Color Filter Layer

23 : 오버 코트층 24 : 감광성 수지23: overcoat layer 24: photosensitive resin

25 : 볼 스페이서 26 : 포토 마스크25: ball spacer 26: photo mask

27 칼럼 스페이서 34 : 공통 전극27 column spacer 34 common electrode

41 : 게이트 라인 41a : 게이트 전극41: gate line 41a: gate electrode

42 : 데이터 라인 42a : 소오스 전극42: data line 42a: source electrode

42b : 드레인 전극 43 : 화소 전극42b: drain electrode 43: pixel electrode

44 : 반도체층 45 : 게이트 절연막44 semiconductor layer 45 gate insulating film

46 : 보호막 55 : 액정층 46: protective film 55: liquid crystal layer

60 : 유리 기판 100 : 칼라 필터 기판60: glass substrate 100: color filter substrate

200 : TFT 기판200: TFT substrate

Claims (19)

서로 마주보는 제 1 기판 및 제 2 기판;A first substrate and a second substrate facing each other; 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성되는 볼 스페이서가 믹싱된 칼럼 스페이서; 그리고A column spacer in which ball spacers formed between the first and second substrates are mixed; And 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 액정표시장치.And a liquid crystal layer formed between the first and second substrates. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 볼 스페이서는 상기 액정표시장치의 셀갭의 1/2이하인 지름을 갖음을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And the ball spacer has a diameter less than 1/2 of a cell gap of the liquid crystal display. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 칼럼 스페이서는 상기 제 1 기판에 고정되고 제 2 기판에 접촉됨을 특징으로 하는 액정표시장치.And the column spacer is fixed to the first substrate and in contact with the second substrate. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 칼럼 스페이서가 고정된 제 1 기판 또는 상기 제 2 기판 표면에 형성되는 적어도 하나의 배향막을 더 포함함을 특징으로 하는 액정표시장치. And at least one alignment layer formed on a surface of the first substrate or the second substrate on which the column spacer is fixed. 서로 마주보는 제 1, 제 2 기판;First and second substrates facing each other; 상기 제 1 기판에 형성되는 블랙매트릭스층 및 오버 코트층;A black matrix layer and an overcoat layer formed on the first substrate; 상기 오버 코트층상에 형성되는 볼 스페이서가 믹싱된 칼럼 스페이서;A column spacer mixed with a ball spacer formed on the overcoat layer; 화소 영역을 정의하기 위하여 상기 제 2 기판에 서로 교차하여 형성된 게이트 라인 및 데이터 라인;A gate line and a data line intersecting each other on the second substrate to define a pixel area; 상기 게이트 라인에 평행한 방향으로 형성되어 상기 화소 영역으로 상기 데이터 라인에 평행한 방향으로 복수개의 공통 전극이 돌출된 공통 라인; A common line formed in a direction parallel to the gate line and protruding a plurality of common electrodes in a direction parallel to the data line in the pixel area; 반도체층 및 소오스/드레인 전극을 구비하여 상기 게이트 라인과 데이터 라인이 교차하는 부분에 형성된 박막트랜지스터;A thin film transistor having a semiconductor layer and a source / drain electrode formed at an intersection portion of the gate line and the data line; 상기 드레인 전극에 콘택홀을 갖도록 제 2 기판에 형성된 보호막;A protective film formed on the second substrate to have a contact hole in the drain electrode; 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극에 연결되어 상기 보호막위의 화소 영역에 상기 공통 전극과 일정 간격 이격되어 공통 전극에 평행하게 형성되는 화소 전극; 그리고A pixel electrode connected to the drain electrode of the thin film transistor, the pixel electrode being spaced apart from the common electrode at a predetermined interval in the pixel area on the passivation layer so as to be parallel to the common electrode; And 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성되는 액정층을 구비하여 구성됨을 특징으로 하는 액정표시장치. And a liquid crystal layer formed between the first and second substrates. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 볼 스페이서의 크기는 볼 스페이서의 지름이 셀갭의 1/2 이하임을 특징으로 하는 액정 표시 장치.The size of the ball spacer is a liquid crystal display, characterized in that the diameter of the ball spacer is less than 1/2 of the cell gap. 제 5 항에 있어서, The method of claim 5, 상기 칼럼 스페이서가 형성된 제 1 기판 또는 화소 전극이 형성된 제 2 기판 표면에 형성되는 적어도 하나의 배향막을 더 포함함을 특징으로 하는 액정표시장치. And at least one alignment layer formed on a surface of the first substrate having the column spacer or the second substrate having the pixel electrode formed thereon. 서로 마주보는 제 1, 제 2 기판;First and second substrates facing each other; 상기 제 1 기판에 형성되는 블랙매트릭스층 및 공통 전극;A black matrix layer and a common electrode formed on the first substrate; 상기 공통 전극상에 형성되는 볼 스페이서가 믹싱된 칼럼 스페이서;A column spacer in which ball spacers formed on the common electrode are mixed; 화소 영역을 정의하기 위하여 상기 제 2 기판에 서로 교차하여 형성된 게이트 라인 및 데이터 라인;A gate line and a data line intersecting each other on the second substrate to define a pixel area; 반도체층 및 소오스/드레인 전극을 구비하여 상기 게이트 라인과 데이터 라인이 교차하는 부분에 형성된 박막트랜지스터;A thin film transistor having a semiconductor layer and a source / drain electrode formed at an intersection portion of the gate line and the data line; 상기 드레인 전극에 콘택홀을 갖도록 제 2 기판에 형성된 보호막;A protective film formed on the second substrate to have a contact hole in the drain electrode; 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극에 연결되어 상기 보호막위의 화소 영역에 형성되는 화소 전극; 그리고A pixel electrode connected to the drain electrode of the thin film transistor and formed in the pixel area on the passivation layer; And 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성되는 액정층을 구비하여 구성됨을 특징으로 하는 액정표시장치.And a liquid crystal layer formed between the first and second substrates. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 볼 스페이서의 크기는 볼 스페이서의 지름이 셀갭의 1/2 이하임을 특징으로 하는 액정 표시 장치. The size of the ball spacer is a liquid crystal display, characterized in that the diameter of the ball spacer is less than 1/2 of the cell gap. 제 8 항에 있어서, The method of claim 8, 상기 칼럼 스페이서가 형성된 제 1 기판 또는 화소 전극이 형성된 제 2 기판 표면에 형성되는 적어도 하나의 배향막을 더 포함함을 특징으로 하는 액정표시장치. And at least one alignment layer formed on a surface of the first substrate having the column spacer or the second substrate having the pixel electrode formed thereon. 볼 스페이서와 감광성 수지를 믹싱하는 단계;Mixing the ball spacer and the photosensitive resin; 제 1 기판에 상기 볼 스페이서가 믹싱된 감광성 수지를 도포하고 선택적으로 제거하여 칼럼 스페이서를 형성하는 단계;Coating and selectively removing the photosensitive resin mixed with the ball spacers on the first substrate to form column spacers; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판에 액정을 적하하는 단계;Dropping liquid crystal onto the first substrate or the second substrate; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판에 실 패턴을 형성하는 단계; 그리고Forming a seal pattern on the first substrate or the second substrate; And 상기 칼럼 스페이서에 의해 셀갭이 유지되도록 상기 제 1, 제 2 기판을 합착하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.And bonding the first and second substrates to maintain the cell gap by the column spacers. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 볼 스페이서의 크기는 볼 스페이서의 지름이 셀갭의 1/2 이하임을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.The size of the ball spacer is a manufacturing method of the liquid crystal display device, characterized in that the diameter of the ball spacer is less than 1/2 of the cell gap. 제 11 항에 있어서, The method of claim 11, 상기 칼럼 스페이서가 형성된 제 1 기판 또는 제 2 기판 표면에 적어도 하나의 배향막을 형성하는 단계를 더 포함함을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법. And forming at least one alignment layer on a surface of the first substrate or the second substrate on which the column spacer is formed. 볼 스페이서와 감광성 수지를 믹싱하는 단계;Mixing the ball spacer and the photosensitive resin; 제 1 기판에 블랙매트릭스층, 칼라 필터층 및 오버 코트층을 형성하는 단계;Forming a black matrix layer, a color filter layer, and an overcoat layer on the first substrate; 상기 오버 코트층상에 상기 볼 스페이서가 믹싱된 감광성 수지를 도포하고 선택적으로 제거하여 칼럼 스페이서를 형성하는 단계;Coating and selectively removing the photosensitive resin mixed with the ball spacers on the overcoat layer to form column spacers; 제 2 기판에 게이트 전극을 갖는 복수개의 게이트 라인 및 공통 전극을 갖는 공통 라인을 형성하는 단계;Forming a plurality of gate lines having gate electrodes and a common line having common electrodes on the second substrate; 상기 게이트 라인 및 공통 라인을 포함한 제 2 기판 전면에 게이트 절연막을 형성하는 단계;Forming a gate insulating film on an entire surface of the second substrate including the gate line and the common line; 상기 게이트 전극 상측의 게이트 절연막위에 반도체층을 형성하는 단계;Forming a semiconductor layer on the gate insulating film above the gate electrode; 화소 영역을 정의하기 위해 상기 게이트 라인에 수직한 방향으로 데이터 라인, 상기 반도체층 양측에 소오스/드레인 전극을 형성하는 단계;Forming a data line and source / drain electrodes on both sides of the semiconductor layer in a direction perpendicular to the gate line to define a pixel area; 상기 드레인 전극에 콘택홀을 갖도록 제 2 기판 전면에 보호막을 형성하는 단계;Forming a protective film on the entire surface of the second substrate to have contact holes in the drain electrode; 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극에 연결되고 상기 공통 전극에 평행하게 상기 보호막위의 화소 영역에 화소 전극을 형성하는 단계; Forming a pixel electrode in a pixel area on the passivation layer and connected to the drain electrode of the thin film transistor in parallel with the common electrode; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판에 액정을 적하하는 단계;Dropping liquid crystal onto the first substrate or the second substrate; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판에 실 패턴을 형성하는 단계; 그리고Forming a seal pattern on the first substrate or the second substrate; And 상기 칼럼 스페이서에 의해 셀갭이 유지되도록 상기 제 1, 제 2 기판을 합착하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.And bonding the first and second substrates to maintain the cell gap by the column spacers. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 볼 스페이서의 크기는 볼 스페이서의 지름이 셀갭의 1/2 이하임을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.The size of the ball spacer is a manufacturing method of the liquid crystal display device, characterized in that the diameter of the ball spacer is less than 1/2 of the cell gap. 제 14 항에 있어서, The method of claim 14, 상기 칼럼 스페이서가 형성된 제 1 기판 또는 화소 전극이 형성된 제 2 기판 표면에 적어도 하나의 배향막을 형성하는 단계를 더 포함함을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.And forming at least one alignment layer on a surface of the first substrate having the column spacer or the second substrate having the pixel electrode formed thereon. 볼 스페이서와 감광성 수지를 믹싱하는 단계;Mixing the ball spacer and the photosensitive resin; 제 1 기판에 블랙매트릭스층, 칼라 필터층 및 공통 전극을 형성하는 단계;Forming a black matrix layer, a color filter layer, and a common electrode on the first substrate; 상기 공통 전극상에 상기 볼 스페이서가 믹싱된 감광성 수지를 도포하고 선택적으로 제거하여 칼럼 스페이서를 형성하는 단계;Forming a column spacer by applying and selectively removing the photosensitive resin mixed with the ball spacer on the common electrode; 제 2 기판에 게이트 전극을 갖는 게이트 라인을 형성하는 단계;Forming a gate line having a gate electrode on the second substrate; 상기 게이트 라인을 포함한 제 2 기판 전면에 게이트 절연막을 형성하는 단계;Forming a gate insulating film on an entire surface of the second substrate including the gate line; 상기 게이트 전극 상측의 게이트 절연막위에 반도체층을 형성하는 단계;Forming a semiconductor layer on the gate insulating film above the gate electrode; 화소 영역을 정의하기 위해 상기 게이트 라인에 수직한 방향으로 데이터 라인, 상기 반도체층 양측에 소오스/드레인 전극을 형성하는 단계;Forming a data line and source / drain electrodes on both sides of the semiconductor layer in a direction perpendicular to the gate line to define a pixel area; 상기 드레인 전극에 콘택홀을 갖도록 제 2 기판 전면에 보호막을 형성하는 단계;Forming a protective film on the entire surface of the second substrate to have contact holes in the drain electrode; 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극에 연결되도록 상기 보호막위의 화소 영역에 화소 전극을 형성하는 단계; Forming a pixel electrode in the pixel area on the passivation layer so as to be connected to the drain electrode of the thin film transistor; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판에 액정을 적하하는 단계;Dropping liquid crystal onto the first substrate or the second substrate; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판에 실 패턴을 형성하는 단계; 그리고Forming a seal pattern on the first substrate or the second substrate; And 상기 칼럼 스페이서에 의해 셀갭이 유지되도록 상기 제 1, 제 2 기판을 합착하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.And bonding the first and second substrates to maintain the cell gap by the column spacers. 제 17 항에 있어서,The method of claim 17, 상기 볼 스페이서의 크기는 볼 스페이서의 지름이 셀갭의 1/2 이하임을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.The size of the ball spacer is a manufacturing method of the liquid crystal display device, characterized in that the diameter of the ball spacer is less than 1/2 of the cell gap. 제 17 항에 있어서, The method of claim 17, 상기 칼럼 스페이서가 형성된 제 1 기판 또는 화소 전극이 형성된 제 2 기판 표면에 적어도 하나의 배향막을 형성하는 단계를 더 포함함을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.And forming at least one alignment layer on a surface of the first substrate having the column spacer or the second substrate having the pixel electrode formed thereon.
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