KR101003046B1 - Flame retardant and phosphorous-modified hardener and use thereof - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A resin composition includes a phosphorous-modified flame retardant hardener with a UV shielding property, excellent flame resistance, adhesive property, and mechanical and chemical properties. CONSTITUTION: A resin composition comprises a phosphorous-modified flame retardant hardener with a UV shielding property selected from compounds represented by chemical formulas 7 - 8. The flame retardant hardener is included in the amount of 10-50 weight% based on 100 weight% resin composition. A UV shielding efficiency of the resin composition is 95% or more in UV region of 100 ~ 400 nm.

Description

UV 차폐 성능이 우수한 인 개질된 난연 경화제 및 그 용도{Flame retardant and phosphorous-modified hardener and use thereof}인 Flame retardant and phosphorous-modified hardener and use

본 발명은 UV 차폐 성능이 우수한 인 개질된 난연 경화제 및 그 용도에 관한 것으로, 보다 상세하게는 UV 차폐 성능이 우수하며, 동시에 난연성 및 내열특성을 가지는 인 개질된 난연 경화제 및 이를 이용한 그 용도에 관한 것이다.The present invention relates to a phosphorus modified flame retardant curing agent having excellent UV shielding performance and its use, and more particularly, to a phosphorus modified flame retardant curing agent having excellent UV shielding performance and at the same time having a flame retardancy and heat resistance characteristics and a use thereof will be.

현재 플라스틱의 용도가 전기기기, 수송기기, 건축재료 등의 각종 산업분야에서는 광범위하게 사용되고 있으나 대부분 탄소, 산소, 수소 등의 유기물질로 연소하기 쉬운 특성으로 인하여 화재 발생시 안전을 고려한 난연화에 대한 필요성이 지속적으로 증대되고 있다. 일반적으로 불이 발생하기 위해서는 연료, 산소, 에너지가 필수적으로 필요한데 이중 하나라도 조건을 만족시키지 못할 경우 화재는 발생할 수가 없다. 즉 플라스틱의 난연화하는 방법 중 하나는 화재 발생 3인자 중 하나 이상의 요인을 제거함으로써 구현할 수 있다. 난연 경화제는 연소하기 쉬운 성질을 가진 고분자 재료에 할로겐계, 인계, 질소계 혹은 금속산물 등의 난연성 부여 효과가 큰 화합물을 화학적 혹은 물리적으로 첨가함으로써 발화를 늦춰주고, 연소의 확대를 막아 주는 물질을 말한다. Currently, plastics are widely used in various industrial fields such as electrical equipment, transportation equipment, and building materials, but most of them need to be flame-retardant in consideration of safety in case of fire due to the characteristics of being easily burned with organic materials such as carbon, oxygen, and hydrogen. This is constantly increasing. Generally, fuel, oxygen and energy are necessary for a fire to occur. If any of these conditions are not met, a fire cannot occur. In other words, one method of flame retardant plastics can be implemented by eliminating one or more of the three factors that cause fire. Flame-retardant curing agents are chemically or physically added to a polymer material having a property of easy combustion, such as halogen-based, phosphorus-based, nitrogen-based, or metal products, to slow the ignition and prevent the expansion of combustion. Say.

난연 경화제는 종료별 용도별로 다양하게 나뉘어져 있는데 크게 반응형과 첨가형으로 나뉠수 있다. 반응형 난연 경화제는 분자 내에 관능기를 가지고 화학적 반응을 하는 타입으로 외부조건에 크게 영향을 받지 않고 난연 효과를 지속시키는 난연 경화제를 말하며 첨가형 난연 경화제는 플라스틱 내에 물리적으로 혼합, 첨가, 분산하여 난연효과를 얻는 것으로 주로 열가소성 플라스틱에 사용된다. Flame retardant curing agents are divided into various types according to the end use, and can be divided into reactive and additive types. Reactive flame-retardant curing agent is a type of chemical reaction with functional groups in the molecule and is a flame-retardant curing agent that lasts flame-retardant effect without being greatly influenced by external conditions.Additional flame-retardant curing agent is physically mixed, added, and dispersed in plastic to achieve flame retardant effect Obtained mainly used in thermoplastics.

현재까지 알려진 첨가형이나 또는 반응형 난연 경화제의 종류는 여러가지가 있는데, 첨가형 난연 경화제로서는 트리크레실 포스페이트, 크레실디페닐포스페이트, 트리페닐포스페이트, 트리부틸포스페이트, 트리스(브로모 클로로프로필)포스페이트, 트리스(디클로로프로필)포스페이트 등이 있으며, 반응형 난연 경화제로서는 브로모페놀을 비롯한 브로모 페닐알릴에테르, 비닐클로로아세테이트, 안티모니글리콜, 테트라브로모비스페놀에이 등이 이에 속한다. There are various types of additive or reactive flame retardants known to date, and the additive flame retardants include tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, triphenyl phosphate, tributyl phosphate, tris (bromo chloropropyl) phosphate and tris ( Dichloropropyl) phosphate and the like, and examples of the reactive flame retardant include bromo phenol, bromo phenyl allyl ether, vinyl chloroacetate, antimony glycol, tetrabromobisphenol A and the like.

반응형 난연 경화제는 기질(substrate)과 화학적으로 반응하는 것이므로 중합체 구조물에 영원히 혼합되나 첨가형 난연 경화제 시스템은 난연성을 발휘하는 물질과 중합체 기질과 화학적인 반응을 일으키는 것이 아니기 때문에 첨가되는 난연성 물질은 단순히 기질에 분산 또는 용해되어 종종 기질로부터 손실되는 경우가 많다.Reactive flame retardants are chemically reacted with the substrate and are therefore mixed forever in the polymer structure, but since additive flame retardant systems do not cause chemical reactions with flame retardant and polymeric substrates, the added flame retardant is simply a substrate. It is often dispersed or dissolved in and lost from the substrate.

한편, 고밀도 다중층 인쇄 회로판과 같은 전자 응용분야에서는 자동 광학검사(AOI)를 통한 라미네이트의 품질관리를 실시하였다. AOI는 전형적으로 450 nm 내지 약 650 nm 범위의 파장에서 자외선(UV) 흡광도를 측정함으로써 수행이 되는데 이를 위하여 자외선 차단 효과가 있는 원료를 사용하여 UV 차폐 특성을 부여 한다. 일반적으로 인쇄 회로기판 제조용 수지 조성물은 페놀계 화합물에 에폭시로써 Bisphenol-A Type Epoxy, 인 변성 Epoxy, Novolac Epoxy, Tetra-phenyl ethane Epoxy등이 사용되며 여기서 Tetra-phenyl ethane Epoxy는 UV 차폐 성능 부여를 위하여 사용되며, 더 우수한 UV 차폐 성능을 부여하기 위하여 형광 증백제등과 같은 물질을 첨가한다. 인쇄 회로기판 제조용 수지 조성물의 경화제는 열경화가 가능한 Type으로 통상 Dicy, DDS, DDM, 페놀노볼락, 크레졸노볼락, 비스페놀에이 노볼락 경화제가 사용되고 있다. 인쇄 회로기판 제조용 수지의 경우 우수한 난연 특성, 구리 혹은 알루미늄 혹은 폴리이미드 필림과 같은 기재에 우수한 접착력, 높은 유리전이 온도, 높은 치수 안정성, 저흡습 그리고 UV 차폐성능을 가지고 있어야 하지만 통상의 UV 차폐성능이 있는 원료들은 난연특성을 갖는 물질(할로겐계, 인, 질소 등등)을 함유하고 있지 않아 인쇄 회로 기판 제조용 수지의 난연 특성 및 물성이 떨어지는 단점을 가지고 있었다. On the other hand, in electronic applications such as high density multilayer printed circuit boards, quality control of laminates has been carried out through automatic optical inspection (AOI). AOI is typically performed by measuring ultraviolet (UV) absorbance at a wavelength in the range of 450 nm to about 650 nm, for which it provides UV shielding properties using raw materials with UV blocking effect. Generally, resin composition for manufacturing printed circuit board is bisphenol-A Type Epoxy, Phosphorus Modified Epoxy, Novolac Epoxy, Tetra-phenyl ethane Epoxy, etc. as epoxy to phenolic compounds, where Tetra-phenyl ethane Epoxy is used to give UV shielding performance. And a substance such as fluorescent brightener is added to give better UV shielding performance. The curing agent of the resin composition for manufacturing a printed circuit board is a type that can be thermally cured. Dicy, DDS, DDM, phenol novolak, cresol novolak, and bisphenol anovolak curing agents are generally used. Resin for manufacturing printed circuit board should have good flame retardant property, good adhesion to substrate such as copper or aluminum or polyimide film, high glass transition temperature, high dimensional stability, low moisture absorption and UV shielding performance, Since the raw materials do not contain materials having flame retardant properties (halogen-based, phosphorus, nitrogen, etc.), the fire retardant properties and physical properties of the resin for printed circuit board manufacturing are poor.

이에 페놀계 화합물을 포함하는 수지에 난연성을 부여하기 위하여 인계 화합물(비할로겐 계열)을 첨가하는 경우, 난연성은 향상될 수 있다. 하지만 반응형 난연제가 분자 내에 관능기를 가지고 화학적 반응을 하는 타입으로 외부조건에 크게 영향을 받지 않고 난연 효과를 나타내는 것에 비해, 첨가되는 난연성 물질은 단순히 기질에 분산 또는 용해되어 종종 기질로부터 손실되는 경우가 많고 또한 난연특성이 반응형에 비해 떨어지는 단점을 가지고 있다. 또한 첨가형 난연제의 경우 에폭시와의 경화반응시 반응에 참여하지 않음으로써 유리전이 온도가 감소하고, 열안정성이 떨어지며 특히 소재와의 접착특성이 현저히 떨어지는 등의 물리적 화학적 물성이 떨어지는 문제가 발생하는 단점을 가지고 있다.
In the case where a phosphorus compound (non-halogen series) is added in order to impart flame retardancy to a resin containing a phenolic compound, the flame retardancy may be improved. However, the reactive flame retardant is a type that reacts chemically with functional groups in the molecule, and has a flame retardant effect without being greatly influenced by external conditions, whereas the added flame retardant is simply dispersed or dissolved in the substrate and often lost from the substrate. In addition, the flame retardant properties are inferior to the reactive type. In addition, the addition flame retardant does not participate in the reaction during the curing reaction with epoxy, the glass transition temperature is reduced, the thermal stability is poor, in particular, the physical and chemical properties such as remarkably poor adhesion properties with the material occurs a disadvantage that occurs Have.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 첫번째 해결하려는 과제는 할로겐 화합물을 포함하지 않으면서도 UV차폐성능, 우수한 난연특성, 접착성, 기계 및 화학적 물성을 가지는 인 개질된 난연 경화제의 제조방법을 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, the first problem to be solved of the present invention is a modified flame retardant phosphorus having a UV shielding performance, excellent flame retardant properties, adhesion, mechanical and chemical properties without containing a halogen compound It is to provide a method for producing a curing agent.

본 발명의 두번째 해결하려는 과제는 UV차폐성능, 우수한 난연특성, 접착성, 기계 및 화학적 물성을 동시에 만족하는 신규한 인 개질된 난연 경화제를 포함하는 수지 조성물을 제공하는 것이다.The second problem to be solved of the present invention is to provide a resin composition comprising a novel phosphorus modified flame retardant curing agent that simultaneously satisfies UV shielding performance, excellent flame retardant properties, adhesion, mechanical and chemical properties.

본 발명의 세번째 해결하려는 과제는 본 발명의 수지 조성물을 포함하는 인쇄회로기판용 수지조성물 및 이를 포함하는 인쇄회로기판을 제공하는 것이다.A third object of the present invention is to provide a resin composition for a printed circuit board comprising the resin composition of the present invention and a printed circuit board including the same.

상술한 첫번째 과제를 달성하기 위하여 본 발명은 페놀계 화합물(1); 및 하기 화학식 1 ~ 2로 표시되는 화합물 중 어느 하나 이상의 인 개질된 페놀계 화합물(2)을 산 촉매하에서 알데하이드계 화합물과 노볼락 반응을 수행하여 난연경화제를 제조하는 단계를 포함하는 UV 차폐 성능이 우수한 인 개질된 난연 경화제 제조방법을 제공한다.In order to achieve the above-mentioned first object, the present invention provides a phenol compound (1); And UV shielding performance comprising the step of preparing a flame retardant by performing a novolak reaction with an aldehyde-based compound of any one or more phosphorus-modified phenolic compound (2) of the compound represented by the formula 1 to 2 under an acid catalyst It provides an excellent method for producing a phosphorus modified flame retardant curing agent.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112010037376393-pat00001

Figure 112010037376393-pat00001

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112010037376393-pat00002
Figure 112010037376393-pat00002

상기 화학식 1 ~ 2에서 R1은 각각 독립적으로

Figure 112010077597055-pat00003
,
Figure 112010077597055-pat00004
또는
Figure 112010077597055-pat00005
이고,
R2 및 R3는 각각 독립적으로 H, 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 또는 시아노이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬, 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알케닐, 치환 또는 비치환 C1 ~ C10의 알키닐, 또는 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 방향족 화합물, 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 아실, 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 헤테로 알킬이고, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이고;
X는 각각 독립적으로 H 이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬기로서, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이고;
Y는 각각 독립적으로 S 또는 SO2 이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬기로서, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이고;R 1 in Formulas 1 to 2 are each independently
Figure 112010077597055-pat00003
,
Figure 112010077597055-pat00004
or
Figure 112010077597055-pat00005
ego,
R 2 and R 3 are each independently H, alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, or cyano; or
Substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkenyl, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkynyl, or substituted or unsubstituted C 1 to C 10 aromatic compounds, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 acyl, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 heteroalkyl, the substitution being alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy , Thiol, and cyano;
Each X is independently H; or
Substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, wherein the substitution is by at least one of alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, and cyano;
Each Y is independently S or SO 2 ; or
Substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, wherein the substitution is by at least one of alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, and cyano;

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n은 각각 독립적으로 1 ~ 2의 정수이다.
n is independently an integer of 1-2.

본 발명의 바람직한 일실시예에 따르면, 상기 페놀계 화합물(1)은 하기 화학식 3 ~ 4로 표시되는 화합물 중 어느 하나 이상일 수 있다.According to a preferred embodiment of the present invention, the phenolic compound (1) may be any one or more of the compounds represented by the following formula (3).

[화학식 3](3)

Figure 112010037376393-pat00006

Figure 112010037376393-pat00006

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112010037376393-pat00007
Figure 112010037376393-pat00007

화학식 3 ~ 4에서 X는 각각 독립적으로 H 이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬기로서, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이고;
Y는 각각 독립적으로 S 또는 SO2 이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬기로서, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이다.
X in Formulas 3 to 4 are each independently H; or
Substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, wherein the substitution is by at least one of alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, and cyano;
Each Y is independently S or SO 2 ; or
As a substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, the substitution is by at least one of alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, and cyano.

삭제delete

본 발명의 바람직한 다른 일실시예에 따르면, 상기 페놀계 화합물(1)은 페놀, 크레졸, 에틸페놀, 브틸페놀, 옥틸페놀, 페닐 페놀, 쿠밀페놀, 메톡시 페놀, 에톡시 페놀, 비스페놀에이, 비스페놀에프, 비스페놀에이 및 비스페놀에이디로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상일 수 있다.According to another preferred embodiment of the present invention, the phenolic compound (1) is phenol, cresol, ethyl phenol, butyl phenol, octyl phenol, phenyl phenol, cumylphenol, methoxy phenol, ethoxy phenol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol A and bisphenol A may be any one or more selected from the group consisting of.

본 발명의 바람직한 또 다른 일실시예에 따르면, 상기 폐놀계 화합물(1) 및 화학식 1 ~ 2로 표시되는 인 개질된 페놀계 화합물(2)의 합에 대하여 상기 알데하이드계 화합물을 4:1 ~ 20 : 1의 몰비로 반응시킬 수 있다.According to another preferred embodiment of the present invention, the aldehyde compound is 4: 1 to 20 with respect to the sum of the phenolic compound (1) and the phosphorus-modified phenol compound (2) represented by Formulas 1 to 2 The reaction can be carried out at a molar ratio of 1 :.

본 발명의 바람직한 또 다른 일실시예에 따르면, 상기 인 개질된 페놀계 화합물은 상기 인 개질된 페놀계 화합물은 OH 1가 이상의 인 개질된 페놀체일 수 있다. 더욱 상세히 설명하면 인 개질된 페놀, 인 개질된 크레졸, 인 개질된 에틸페놀, 인 개질된 브틸페놀, 인 개질된 옥틸페놀, 인 개질된 페닐 페놀, 인 개질된 쿠밀페놀, 인 개질된 메톡시 페놀, 인 개질된 에톡시 페놀, 인 개질된 비스페놀에이, 인 개질된 비스페놀에프, 인 개질된 비스페놀에스 및 인 개질된 비스페놀에이디로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상일 수 있다.According to another preferred embodiment of the present invention, the phosphorus-modified phenolic compound is the phosphorus-modified phenolic compound may be a phosphorus-modified phenolic body of OH monovalent or more. More specifically, phosphorus modified phenol, phosphorus modified cresol, phosphorus modified ethylphenol, phosphorus modified bethylphenol, phosphorus modified octylphenol, phosphorus modified phenyl phenol, phosphorus modified cumylphenol, phosphorus modified methoxy phenol It may be at least one selected from the group consisting of phosphorus modified ethoxy phenol, phosphorus modified bisphenol A, phosphorus modified bisphenol F, phosphorus modified bisphenol A and phosphorus modified bisphenol A.

본 발명의 바람직한 또 다른 일실시예에 따르면, 상기 산촉매는 옥살산, p-톨루엔 술폰산, M-술폰산, 염산 수용액, 황산수용액, 질산수용액 및 인산수용액으로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상일 수 있다.According to another preferred embodiment of the present invention, the acid catalyst may be any one or more selected from the group consisting of oxalic acid, p-toluene sulfonic acid, M-sulfonic acid, aqueous hydrochloric acid, aqueous sulfuric acid solution, aqueous nitric acid solution and aqueous phosphoric acid solution.

본 발명의 바람직한 또 다른 일실시예에 따르면, 상기 알데하이드계 화합물은 하기 화힉식 5 ~ 6으로 표시되는 화합물 중 어느 하나 이상일 수 있다.According to another preferred embodiment of the present invention, the aldehyde-based compound may be any one or more of the compounds represented by the following formula 5-6.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure 112010037376393-pat00008
Figure 112010037376393-pat00008

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112010077597055-pat00009

X는 각각 독립적으로 H 이거나; 또는
Figure 112010077597055-pat00009

Each X is independently H; or

치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬기로서, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이다.As a substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, the substitution is by at least one of alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, and cyano.

본 발명의 바람직한 또 다른 일실시예에 따르면, 상기 제조방법을 통해 제조된 인 개질된 난연경화제는 하기 화학식 7 ~ 8로 표시되는 화합물 중 어느 하나 이상일 수 있다.According to another preferred embodiment of the present invention, the phosphorus-modified flame-retardant prepared by the above production method may be any one or more of the compounds represented by the following formula (7).

하기 화학식 7 ~ 8로 표시되는 화합물 중 어느 하나 이상의 UV 차폐 성능이 우수한 인 개질된 난연 경화제를 포함하는 수지 조성물.Resin composition comprising a phosphorus-modified flame-retardant curing agent excellent in UV shielding performance of any one or more of the compounds represented by the formula (7-8).

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112010037376393-pat00010
Figure 112010037376393-pat00010

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112010077597055-pat00011

화학식 7, 8에서 A는 각각 독립적으로
Figure 112010077597055-pat00072
,
Figure 112010077597055-pat00073
,
Figure 112010077597055-pat00074
또는
Figure 112010077597055-pat00075
로서, 상기 A 중 적어도 하나 이상이
Figure 112010077597055-pat00076
또는
Figure 112010077597055-pat00077
이고,
R1은 각각 독립적으로
Figure 112010077597055-pat00078
,
Figure 112010077597055-pat00079
또는
Figure 112010077597055-pat00080
이고,
R2 및 R3는 각각 독립적으로 H, 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 또는 시아노이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬, 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알케닐, 치환 또는 비치환 C1 ~ C10의 알키닐, 또는 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 방향족 화합물, 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 아실, 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 헤테로 알킬이고, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이고;
X는 각각 독립적으로 H 이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬기로서, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이고;
Y는 각각 독립적으로 S 또는 SO2 이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬기로서, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이고;
n은 각각 독립적으로 1 ~ 2의 정수; 및 m은 각각 독립적으로 A 부분이 공유결합하고 있는 탄소원자의 원자가를 충족시키는 0 내지 1 중 어느 하나의 정수이다.
본 발명의 바람직한 또 다른 일실시예에 따르면, 상기 UV 차폐 성능이 우수한 인 개질된 난연 경화제의 인 함량이 1 ~ 15%일 수 있다.
Figure 112010077597055-pat00011

In Formula 7, 8 each independently
Figure 112010077597055-pat00072
,
Figure 112010077597055-pat00073
,
Figure 112010077597055-pat00074
or
Figure 112010077597055-pat00075
At least one of A
Figure 112010077597055-pat00076
or
Figure 112010077597055-pat00077
ego,
R 1 is each independently
Figure 112010077597055-pat00078
,
Figure 112010077597055-pat00079
or
Figure 112010077597055-pat00080
ego,
R 2 and R 3 are each independently H, alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, or cyano; or
Substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkenyl, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkynyl, or substituted or unsubstituted C 1 to C 10 aromatic compounds, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 acyl, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 heteroalkyl, the substitution being alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy , Thiol, and cyano;
Each X is independently H; or
Substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, wherein the substitution is by at least one of alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, and cyano;
Each Y is independently S or SO 2 ; or
Substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, wherein the substitution is by at least one of alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, and cyano;
n is each independently an integer of 1 to 2; And m are each independently an integer of 0 to 1 satisfying the valence of the carbon atom to which the A moiety is covalently bonded.
According to another preferred embodiment of the present invention, the phosphorus content of the phosphorus modified flame retardant curing agent excellent in the UV shielding performance may be 1 to 15%.

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상기 두번째 과제를 해결하기 위하여, 상기 화학식 7 ~ 8로 표시되는 신규화합물 중 어느 하나 이상의 UV 차폐 성능이 우수한 인 개질된 난연 경화제를 포함하는 수지 조성물을 제공한다.In order to solve the second problem, it provides a resin composition comprising a phosphorus-modified flame retardant curing agent excellent in any one or more UV shielding performance of the novel compounds represented by the formula (7).

본 발명의 바람직한 일실시예에 따르면, 전체 수지조성물 100중량%에 대하여 상기 난연 경화제 10 ~ 50중량%일 수 있다.According to a preferred embodiment of the present invention, the flame retardant curing agent may be 10 to 50% by weight relative to 100% by weight of the total resin composition.

본 발명의 바람직한 또 다른 일실시예에 따르면, 상기 수지 조성물의 UV 차폐효율이 UV 영역인 100 ~ 400 nm에서 95% 이상일 수 있다.According to another preferred embodiment of the present invention, the UV shielding efficiency of the resin composition may be 95% or more in the UV region 100 ~ 400 nm.

상기 세번째 과제를 해결하기 위하여, 상술한 본 발명의 수지 조성물을 포함하는 인쇄회로기판용 수지조성물 및 이를 포함하는 인쇄회로기판을 제공한다.
In order to solve the third problem, it provides a resin composition for a printed circuit board comprising the resin composition of the present invention described above and a printed circuit board comprising the same.

본 발명의 제조방법을 통해 제조된 UV 차폐 성능을 가진 인 개질된 난연 경화제는 할로겐 화합물을 포함하지 않으면서도 UV차폐성능, 우수한 난연특성, 접착성, 기계 및 화학적 물성을 동시에 달성할 수 있다.Phosphorus-modified flame-retardant curing agent having a UV shielding performance prepared through the manufacturing method of the present invention can achieve UV shielding performance, excellent flame retardant properties, adhesion, mechanical and chemical properties without containing a halogen compound.

또한, 상술한 제조방법을 통해 제조된 인 개질된 난연 경화제는 폴리카보네이트, ABS, HIPS등 엔지니어링 플라스틱의 첨가제로서 우수한 난연, 내열특성 및 물리, 화학적 물성을 가지며, 에폭시 레진, 시아네이트 레진 및 아크릴 레이트 레진의 원료 및 에폭시 레진의 경화제로써의 사용이 가능하다. 이를 통해 EMC와 같은 고신뢰성 전기.전자 부품의 절연재료, 할로겐 프리 화합물로써 우수한 난연성 및 열적 안정성을 요구하는 PCB 기판 및 절연판 등 각종 복합재료, 접착제, 코팅제, 도료 등에 폭넓게 적용될 수 있다.
In addition, the phosphorus-modified flame-retardant curing agent prepared through the above-described manufacturing method has excellent flame retardancy, heat resistance and physical and chemical properties as an additive of engineering plastics such as polycarbonate, ABS, HIPS, epoxy resin, cyanate resin and acrylate It can be used as a raw material of resin and a curing agent of epoxy resin. Through this, it can be widely applied to various composite materials, adhesives, coatings, paints such as PCB boards and insulating plates which require excellent flame retardancy and thermal stability as insulation materials of halogen, high reliability electrical and electronic components such as EMC.

도 1 ~ 5는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따라 제조된 난연 경화제에 대한 UV차폐율 그래프이다.
도 6 ~ 7은 각각 비교예 1 ~ 2에 따라 제조된 난연 경화제에 대한 UV차폐율 그래프이다.
도 8은 OH.E.E.W 103 g/eq, 고형분 55%, 연화점 110℃인 Phenol Novolac Hardener에 대한 UV 차폐율 그래프이다.
1 to 5 is a UV shielding rate graph for a flame retardant curing agent prepared according to a preferred embodiment of the present invention.
6 to 7 are UV shielding rate graphs for flame retardant curing agents prepared according to Comparative Examples 1 and 2, respectively.
8 is a UV shielding rate graph for Phenol Novolac Hardener with OH.EEW 103 g / eq, solid content 55%, softening point 110 ℃.

이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

상술한 바와 같이, 할로겐 난연 경화제의 단점을 극복하기 위하여 종래에 개시된 비할로겐 계열의 난연 경화제의 경우 환경오염을 줄일 수 있다는 장점이 있으나, 할로겐 계열의 난연 경화제에 비하여 난연효과가 떨어질 뿐 아니라, 여러가지 물리적, 화학적 물성이 떨어지는 문제가 있었다 . 또한 인쇄 회로기판 제조용 수지의 경우 난연 특성 외에 UV 차폐성능을 요구하고 있는데 대부분의 UV 차폐용 원료들은 난연특성을 갖는 물질(할로겐계, 인, 질소 등등)을 함유하고 있지 않아 인쇄 회로 기판 제조용 수지의 난연 특성이 떨어지는 단점을 가지고 있었다. As described above, in order to overcome the disadvantages of the halogen flame-retardant curing agent, the non-halogen-based flame-retardant curing agent disclosed in the prior art has the advantage of reducing the environmental pollution, but not only the flame retardant effect is lowered compared to the halogen-based flame-retardant curing agent, There was a problem of poor physical and chemical properties. In addition, the resin for printed circuit board manufacturing requires UV shielding performance in addition to the flame retardant properties. Most of the raw materials for UV shielding do not contain materials having flame retardant properties (halogen-based, phosphorus, nitrogen, etc.). The flame retardant properties had a disadvantage.

이에 본 발명에서는 할로겐을 포함하지 않으면서도 종래의 비할로겐 계열의 난연 경화제에 비하여 난연효과 및 물성이 우수하면서도 UV 차폐 성능을 가지는 인 개질된 난연 경화제를 제공하며, 이를 통해 페놀계 화합물을 포함하는 수지에 난연성을 부여하기 위하여 인계 화합물(비할로겐 계열)을 첨가하는 경우, 난연성은 향상될 수 있다. 하지만 반응형 난연제가 분자 내에 관능기를 가지고 화학적 반응을 하는 타입으로 외부조건에 크게 영향을 받지 않고 난연 효과를 나타내는 것에 비해, 첨가되는 난연성 물질은 단순히 기질에 분산 또는 용해되어 종종 기질로부터 손실되는 경우가 많고 또한 난연특성이 반응형에 비해 떨어지는 단점을 가지고 있다. 또한 첨가형 난연제의 경우 에폭시와의 경화반응시 반응에 참여하지 않음으로써 유리전이 온도가 감소하고, 열안정성이 떨어지며 특히 소재와의 접착특성이 현저히 떨어지는 등의 물리적 화학적 물성이 떨어지는 문제를 해결하였다.
Accordingly, the present invention provides a phosphorus-modified flame-retardant curing agent having a UV shielding performance and excellent flame retardant effect and physical properties compared to the conventional non-halogen-based flame retardant without a halogen, through which a resin containing a phenolic compound When a phosphorus compound (non-halogen series) is added to impart flame retardancy to the flame retardant, flame retardancy may be improved. However, the reactive flame retardant is a type that reacts chemically with functional groups in the molecule, and has a flame retardant effect without being greatly influenced by external conditions, whereas the added flame retardant is simply dispersed or dissolved in the substrate and often lost from the substrate. In addition, the flame retardant properties are inferior to the reactive type. In addition, in the case of the additive-type flame retardant does not participate in the reaction during the curing reaction with epoxy, the glass transition temperature is reduced, the thermal stability is lowered, in particular, the physical and chemical properties such as significantly lower adhesion properties with the material solved the problem.

이에 본 발명은 페놀계 화합물(1) 및 하기 화학식 1 ~ 2로 표시되는 화합물 중 어느 하나 이상의 인 개질된 페놀계 화합물(2)을 산 촉매하에서 알데하이드계 화합물과 노볼락 반응을 수행하여 난연경화제를 제조하는 단계를 포함하는 UV 차폐 성능이 우수한 인 개질된 난연 경화제 제조방법을 제공하여 상술한 문제의 해결을 모색하였다.Accordingly, the present invention provides a flame retardant by performing a novolak reaction with an aldehyde-based compound of an phenol-based compound (1) and at least one phosphorus-modified phenolic compound (2) of the compounds represented by the following Chemical Formulas 1 to 2 under an acid catalyst. To provide a method for producing a phosphorus modified flame retardant curing agent having excellent UV shielding performance, including the step of preparing to seek to solve the above problems.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112010037376393-pat00019

Figure 112010037376393-pat00019

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112010077597055-pat00020

상기 화학식 1 ~ 2에서 R1은 각각 독립적으로
Figure 112010077597055-pat00081
,
Figure 112010077597055-pat00082
또는
Figure 112010077597055-pat00083
이고,
R2 및 R3는 각각 독립적으로 H, 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 또는 시아노이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬, 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알케닐, 치환 또는 비치환 C1 ~ C10의 알키닐, 또는 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 방향족 화합물, 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 아실, 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 헤테로 알킬이고, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이고;
X는 각각 독립적으로 H 이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬기로서, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이고;
Y는 각각 독립적으로 S 또는 SO2 이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬기로서, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이고;
Figure 112010077597055-pat00020

R 1 in Formulas 1 to 2 are each independently
Figure 112010077597055-pat00081
,
Figure 112010077597055-pat00082
or
Figure 112010077597055-pat00083
ego,
R 2 and R 3 are each independently H, alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, or cyano; or
Substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkenyl, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkynyl, or substituted or unsubstituted C 1 to C 10 aromatic compounds, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 acyl, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 heteroalkyl, the substitution being alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy , Thiol, and cyano;
Each X is independently H; or
Substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, wherein the substitution is by at least one of alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, and cyano;
Each Y is independently S or SO 2 ; or
Substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, wherein the substitution is by at least one of alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, and cyano;

n은 각각 독립적으로 1 ~ 2의 정수이다.
n is independently an integer of 1-2.

구체적으로, 상기 화학식 1 ~ 2로 표시되는 인개질된 페놀계 화합물(2)은 페놀계 화합물에 인계 화합물을 반응시켜 제조될 수 있으며, 바람직하게는 페놀, 크레졸, 에틸페놀, 브틸페놀, 옥틸페놀, 페닐 페놀, 쿠밀페놀, 메톡시 페놀, 에톡시 페놀, 나프톨, 비스페놀에이, 비스페놀에프, 비스페놀에스, 비스페놀에이디 및 바이페놀로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 페놀계 화합물을 인계 화합물과 반응시켜 제조할 수 있으며 바람직하게는 페놀계 화합물에 알데하이드계 화합물을 사용하여 알카리 촉매하에서 레졸화 반응을 시킨후 알코올계 용제 사용하여 알콕시화된 레졸화합물을 제조한뒤 인계 화합물을 반응시켜 탈알코올 반응을 통해 인 개질된 페놀계 화합물을 제조할수 있으나 이에 제한되지 않는다. Specifically, the phosphorus-modified phenolic compound (2) represented by Formulas 1 to 2 may be prepared by reacting a phenolic compound with a phenolic compound, preferably phenol, cresol, ethylphenol, butylphenol, octylphenol At least one phenolic compound selected from the group consisting of phenylphenol, cumylphenol, methoxyphenol, ethoxyphenol, naphthol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol A, bisphenol A, and biphenol is reacted with a phosphorus compound Preferably, the phenolic compound is reacted with an aldehyde compound using an aldehyde compound under an alkali catalyst to prepare an alkoxylated resol compound using an alcohol solvent, and then a phosphorus compound is reacted to remove the alcohol. Phosphorus-modified phenolic compounds may be prepared, but are not limited thereto.

이 때 사용될 수 있는 인계 화합물로는 3,4,5,6-디벤조-1,2-옥사포스판-2-옥사이드(3,4,5,6-Dibenzo-1,2-oxaphosphane-2-oxide) [이하 'DOPO'라 함] , 디메틸포스파이트( Dimethylphosphite) [이하 'DEP'라 칭함] 및 디페닐포스핀옥사이드(DiphenylphosphineOxide) [이하 'DPO'라 칭함]로 구성되는 군으로부터 선택되는 화합물이 사용하는 것이 UV 차폐 성능 및 난연효과 및 물성의 향상에 유리하다. Phosphorus compounds that can be used at this time include 3,4,5,6-dibenzo-1,2-oxaphosphane-2-oxide (3,4,5,6-Dibenzo-1,2-oxaphosphane-2- oxide) [hereafter referred to as 'DOPO'], dimethyl phosphite (hereinafter referred to as 'DEP') and diphenylphosphine oxide (hereinafter referred to as 'DPO') compound selected from the group consisting of This use is advantageous for improving UV shielding performance and flame retardant effect and physical properties.

이렇게 인개질된 페놀계 화합물(2)은 상기 화학식 1 ~ 2로 표시되는 화합물이면 제한없이 사용될 수 있지만, 바람직하게는 상기 화학식 1로 표시되는 페놀계 화합물로는 인 변성된 페놀, 인 변성된 크레졸이 사용가능하며, 상기 화학식 2으로 표시되는 페놀계 화합물로는 인 변성된 비스페놀에이, 인 변성된 비스페놀에프, 인 변성된 비스페놀 AD, 인 변성된 비스페놀에스 등이 사용가능하다.
The phosphorus-modified compound (2) may be used without limitation as long as it is a compound represented by Chemical Formulas 1 to 2 above. Preferably, the phenolic compound represented by Chemical Formula 1 may be phosphorus-modified phenol or phosphorus-modified cresol. As the phenolic compound represented by Formula 2, phosphorus-modified bisphenol A, phosphorus-modified bisphenol F, phosphorus-modified bisphenol AD, phosphorus-modified bisphenol S, and the like may be used.

본 발명의 바람직한 일실시예에 따르면, 상기 페놀계 화합물(1)은 하기 화학식 3 ~ 4로 표시되는 화합물 중 어느 하나 이상일 수 있다.According to a preferred embodiment of the present invention, the phenolic compound (1) may be any one or more of the compounds represented by the following formula (3).

[화학식 3](3)

Figure 112010037376393-pat00024

Figure 112010037376393-pat00024

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112010037376393-pat00025
Figure 112010037376393-pat00025

화학식 3 ~ 4에서 X는 각각 독립적으로 H 이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬기로서, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이고;
Y는 각각 독립적으로 S 또는 SO2 이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬기로서, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이다.
X in Formulas 3 to 4 are each independently H; or
Substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, wherein the substitution is by at least one of alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, and cyano;
Each Y is independently S or SO 2 ; or
As a substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, the substitution is by at least one of alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, and cyano.

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본 발명의 바람직한 다른 일실시예에 따르면, 상기 페놀계 화합물(1)은 페놀, 크레졸, 에틸페놀, 브틸페놀, 옥틸페놀, 페닐 페놀, 쿠밀페놀, 메톡시 페놀, 에톡시 페놀, 나프톨, 비스페놀에이, 비스페놀에프, 비스페놀에스 및 비스페놀에이디로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상일 수 있으며, 보다 바람직하게는 상기 화학식 3으로 표시되는 페놀계 화합물로서 페놀, 크레졸이 사용가능하며, 상기 화학식 4로 표시되는 페놀계 화합물로는 비스페놀에이, 비스페놀에프, 비스페놀AD, 비스페놀에스 등을 사용하는 것이 UV 차폐 효과 난연성 및 물성의 향상에 유리하다.
According to another preferred embodiment of the present invention, the phenolic compound (1) is phenol, cresol, ethyl phenol, butyl phenol, octyl phenol, phenyl phenol, cumylphenol, methoxy phenol, ethoxy phenol, naphthol, bisphenol It may be any one or more selected from the group consisting of bisphenol F, bisphenol A and bisphenol A, more preferably phenol, cresol can be used as the phenolic compound represented by the formula (3), represented by the formula (4) Use of bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, bisphenol A, etc. as the phenolic compound is advantageous for improving the UV shielding effect flame retardancy and physical properties.

한편, 본 발명에서는 페놀계 화합물(1)과 화학식 1 ~ 2 중 어느 하나 이상으로 표시되는 인 개질된 페놀계 화합물(2)을 모두 사용하여야 발명의 목적을 달성할 수 있다. 만일 인 개질된 페놀계 화합물(2)을 첨가하지 않고 페놀계 화합물(1)에 인계 화합물을 첨가하여 노볼락 반응을 수행하는 경우 UV 차폐 성능을 나타낼수는 있지만 화합물 자체에 난연특성을 나타내는 화합물을 함유하고 있지 않아 난연특성이 없는 문제가 발생할 수 있다. 다시 말해서 UV 차폐 성능을 요구하는 인쇄회로기판용 수지 조성물의 요구되는 물성인 난연성, 접착력, 높은 유리전이온도, 내열성 및 UV 차폐 성능을 부여하기 위하여 인쇄회로기판용 수지 조성물에는 에폭시 수지, UV 차폐성 에폭시 수지 , 인 변성 에폭시 수지 혹은 첨가형 인계 난연제, 노볼락 경화제를 사용한다. 하지만 난연성을 부여하기 위하여 사용되는 첨가형 인계 난연제의 경우 에폭시와의 경화반응시 반응에 참여하지 않음으로써 유리전이 온도가 감소하고, 열안정성이 떨어지며 특히 소재와의 접착특성이 현저히 떨어지는 등의 물리적 화학적 물성이 떨어지는 문제가 발생하는 단점을 가지고 있고 인 변성 에폭시 수지를 사용할 경우 경화물 자체의 경화밀도 감소로 인한 유리전이 온도 감소, 열안정성 감소 및 접착 특성이 떨어지는 단점을 가지고 있는 것은 물론 UV 차폐 성능이 없어 별도의 UV 차폐성 에폭시 수지를 첨가하여야 하는데 UV 차폐성 에폭시 수지는 난연특성을 나타내는 물질을 함유하고 있지 않아 결과적으로 인쇄회로기판용 수지 경화물의 인 함량이 떨어져 난연특성이 떨어지는 단점을 가지고 있다. 즉 UV 차폐 효과 및 난연 특성을 부여하기 위하여 두가지 이상의 물질을 첨가하여야 함으로써 제조공정비 상승으로 인한 가격 경쟁력이 떨어지는 단점을 가지고 있다.
Meanwhile, in the present invention, both of the phenolic compound (1) and the phosphorus-modified phenolic compound (2) represented by any one or more of Chemical Formulas 1 and 2 may be used to achieve the object of the present invention. If a novolak reaction is carried out by adding a phosphorus compound to the phenolic compound (1) without adding the phosphorus-modified phenolic compound (2), a compound having flame retardant properties may be present in the compound itself. It may not contain any flame retardant properties. In other words, in order to provide the flame retardancy, adhesion, high glass transition temperature, heat resistance, and UV shielding performance, which are required properties of a resin composition for a printed circuit board requiring UV shielding performance, an epoxy resin and a UV shielding epoxy are applied to the resin composition for a printed circuit board. Resin, phosphorus modified epoxy resin or additive phosphorus flame retardant and novolac curing agent are used. However, in case of addition type phosphorus-based flame retardant used to impart flame retardancy, physical and chemical properties such as glass transition temperature decreases, thermal stability is poor, especially adhesion property with material is poor because it does not participate in the reaction during curing with epoxy. The disadvantage of this dropping problem is that when using a modified epoxy resin, the glass transition temperature, thermal stability and adhesive properties are poor due to the reduced curing density of the cured product itself. A separate UV shielding epoxy resin should be added, but the UV shielding epoxy resin does not contain a material exhibiting flame retardant properties, and as a result, a phosphorus content of the cured resin for a printed circuit board is lowered, resulting in a lower flame retardant property. In other words, since two or more substances must be added to impart UV shielding effect and flame retardant properties, the price competitiveness is lowered due to an increase in manufacturing process cost.

또한, 페놀계 화합물(1)을 사용하지 않고 인 개질된 페놀계 화합물(2)만으로 산 촉매하에서 알데하이드계 화합물과 노볼락 반응을 수행하는 경우 인 개질된 페놀계의 상대적으로 큰 분자량으로 인하여 노볼락 반응시 반응물의 분자량이 급격히 커져 제품의 원활한 생산이 불가능하다는 문제가 발생할 수 있다. 또한 큰 분자량의 UV 차폐 난연 경화제를 사용하여 에폭시와의 경화반응을 시킬 경우 커다란 분자량의 가진 UV 차폐 난연 경화제로 인하여 경화반응시 입체 장애로 경화반응이 원활이 일어나지 못해 결과적으로 에폭시 및 경화제의 미반응 물질들이 남아 경화물의 유리전이 온도, 내연성 및 접착 등의 물성이 떨어지는 문제가 발생할 수 있다.
In addition, when novolak reaction is performed with an aldehyde-based compound under an acid catalyst using only a phosphorus-modified phenolic compound (2) without the use of a phenolic compound (1), During the reaction, the molecular weight of the reactant may increase rapidly, which may cause a problem that smooth production of the product is impossible. In addition, when the curing reaction with epoxy using a large molecular weight UV shielding flame retardant curing agent due to the large molecular weight UV shielding flame retardant hardening reaction does not occur smoothly due to steric hindrance during the curing reaction, and thus unreacted epoxy and curing agent Substances may remain, resulting in poor physical properties such as glass transition temperature, flame resistance and adhesion of the cured product.

본 발명에 사용될 수 있는 상기 알데하이드 화합물은 상기 페놀계 화합물 및 인 변성된 페놀계 화합물과 노볼락 반응시에 사용되는 것으로 UV 차폐 성능을 부여하기 위하여 1몰의 알데하이드 화합물에 4몰 이상의 페놀계 및 인 변성된 페놀계 화합물과 반응할 수 있는 것이면 제한 없이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 하기 화학식 5, 6으로 표시되는 알데하이드계 화합물을 사용할 수 있고, 보다 바람직하게는 글리옥살 , 테레프탈알데하이드 등을 사용할 수 있다. The aldehyde compound that can be used in the present invention is used in the novolak reaction with the phenolic compound and the phosphorus-modified phenolic compound to give UV shielding performance in order to impart UV shielding performance of at least 4 moles of phenolic and phosphorus As long as it can react with the modified phenolic compound, it can be used without limitation, and preferably, an aldehyde compound represented by the following Chemical Formulas 5 and 6 can be used, and more preferably glyoxal, terephthalaldehyde, or the like can be used. .

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure 112010037376393-pat00026
Figure 112010037376393-pat00026

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112010037376393-pat00027
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화학식 6에서 X는 각각 독립적으로 H 이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬기로서, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이다.
Each of X in Formula 6 is independently H; or
As a substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, the substitution is by at least one of alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, and cyano.

상기 산 촉매는 페놀계 화합물 및 인 변성된 페놀계 화합물과 알데하이드 화합물과의 노볼락화 반응에 사용되는 산 촉매이면 그 제한이 없으나, 바람직하게는 옥살산, PTSA, MSA, ESA, 황산, 질산, 염산, p-톨루엔 술폰산, M-술폰산, 염산 수용액, 황산수용액, 질산수용액 및 인산수용액을 비롯하여 이들 외에도 기존 상업적으로 구입할 수 있는 산 촉매를 사용할 수 있다.
The acid catalyst is not limited as long as it is an acid catalyst used for the novolac reaction of a phenol compound, a phosphorus-modified phenol compound, and an aldehyde compound, and preferably, oxalic acid, PTSA, MSA, ESA, sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid. In addition to these, p-toluene sulfonic acid, M-sulfonic acid, aqueous hydrochloric acid, aqueous sulfuric acid, aqueous nitric acid and phosphoric acid may be used, as well as existing commercially available acid catalysts.

본 발명의 한 특징에 따르면, 상기 화학식 3 ~ 4로 표시되는 화합물 중 어느 하나 이상의 페놀계 화합물(1)에 상기 화학식 1 ~ 2로 표시되는 화합물 중 어느 하나 이상의 인 개질된 페놀계 화합물(2)을 첨가하고 산 촉매하에서 알데하이드계 화합물과 노볼락 반응을 수행한다. 이 때 반응조건은 바람직하게는 페놀계 화합물(1)과 인 변성된 페놀계 화합물의 합(2)을 기준으로 알데하이드계 화합물과 4 : 1 ~ 20 : 1의 몰비로 반응시킬 수 있다. 만일 반응몰비가 상기 범위를 벗어나면 4몰 이하일 경우 페놀계 화합물과 알데하이드계 화합물의 급격한 반응으로 인하여 겔화가능성이 있는 문제가 발생할수 있고, 20몰 이상일 경우는 UV 차폐 인 변성 난연경화제의 안정적인 생산은 가능하나 필요 이상의 과량의 페놀계 화합물로 인하여 제품의 생산성이 현저히 떨어지는 문제가 발생할 수 있다.According to one feature of the invention, any one or more of the compounds represented by the formula (1) to the phenolic compound (1) of any one or more of the compounds represented by the formula (3) to (4) modified phenolic compound (2) Is added and the novolak reaction is carried out with an aldehyde compound under an acid catalyst. At this time, the reaction conditions may preferably be reacted with an aldehyde compound at a molar ratio of 4: 1 to 20: 1 based on the sum (2) of the phenolic compound (1) and the phosphorus-modified phenolic compound. If the reaction molar ratio is out of the range above 4 mol or less may cause gelation problems due to the rapid reaction of the phenolic compound and the aldehyde-based compound, if more than 20 mol, stable production of modified flame-retardant curing agent UV-shielding Although possible, excessive excess phenolic compounds may cause a problem that the productivity of the product is significantly reduced.

상기 노볼락 반응은 50 ~ 150 ℃ 바람직하게는 80 ~ 130℃에서 1시간 ~ 20시간 진행될 수 있다. 최종 UV 차폐 성능이 우수한 인 변성 난연 경화제의 인 함량은 상기 화학식 1 ~ 2의 인 변성 페놀계 화합물의 몰비에 따라 최종 화합물의 인 함량을 조절할 수 있는데 UV 차폐 성능이 우수한 인변성 난연 경화제의 인 함량은 1 ~ 15%, 바람직하게는 2 ~ 10%일 수 있다.만일 인 함량이 1% 미만이면 난연효과가 미미하고, 15%를 초과하면 화학구조상 변성이 불가능한 문제가 있다. 또한 통상적으로 UV 차폐 효과는 고밀도 다중층 인쇄 회로판과 같은 전자 응용분야에서는 자동 광학검사(AOI)를 통한 라미네이트의 품질관리를 실시하는데 유용하게 사용되는데 AOI는 전형적으로 450 nm 내지 약 650 nm 범위의 파장에서 자외선(UV) 흡광도를 측정함으로써 수행이 되는데 이는 UV-Vis meter를 통하여 측정이 가능하다. The novolak reaction may be performed at 50 to 150 ° C., preferably at 80 to 130 ° C., for 1 hour to 20 hours. The phosphorus content of the phosphorus modified flame retardant curing agent having excellent final UV shielding performance can be adjusted according to the molar ratio of the phosphorus modified phenolic compound of Chemical Formulas 1 to 2 above. Silver may be 1 to 15%, preferably 2 to 10%. If the phosphorus content is less than 1%, the flame retardant effect is insignificant, and if it exceeds 15%, there is a problem in that chemical modification is impossible. UV shielding effects are also typically used to perform quality control of laminates through automatic optical inspection (AOI) in electronic applications such as high density multilayer printed circuit boards. AOIs typically range in wavelength from 450 nm to about 650 nm. This is done by measuring the ultraviolet (UV) absorbance, which can be measured using a UV-Vis meter.

한편, 바람직하게는 상기 UV 차폐 성능이 우수한 인 변성 난연 경화제 화합물은 다소 과량의 페놀계 화합물과 인 변성 페놀계 화합물을 알데하이드 화합물과 산 촉매하에 노볼락화 반응을 통하여 얻을 수 있는데 과량의 페놀계 화합물 및/또는 인변성된 페놀계 화합물은 증류를 통하여 제거할 수 있다. 또한 본 발명에 노볼락화 반응을 위해 사용되는 산 촉매는 열에 의해 분리되는 옥살산 이외에는 알카리 화합물인 NaOH, KOH, NA2CO3 등의 수용액을 사용하여 중화 및 다수의 수세공정을 통하여 잔존 산 촉매를 제거하는 공정을 수행할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니며 다양한 방법을 통해 분리될 수 있다.
On the other hand, preferably, the phosphorus-modified flame-retardant curing agent compound having excellent UV shielding performance can be obtained through the novolac reaction of the phenolic compound and phosphorus-modified phenolic compound with an aldehyde compound and an acid catalyst rather than an excess of phenolic compound And / or phosphorylated phenolic compounds may be removed via distillation. In addition, the acid catalyst used for the novolak reaction in the present invention is an alkali compound NaOH, KOH, NA 2 CO 3 other than oxalic acid separated by heat Using an aqueous solution, such as may be performed to remove the residual acid catalyst through neutralization and a plurality of washing steps, but is not limited thereto, and may be separated through various methods.

본 발명의 바람직한 일실시예에 따르면, 상기 노볼락 반응을 통해 제조된 인 개질된 난연경화제는 하기 화학식 7 ~ 8로 표시되는 화합물 중 어느 하나 이상일 수 있다.According to a preferred embodiment of the present invention, the phosphorus-modified flame-retardant prepared through the novolak reaction may be any one or more of the compounds represented by the following formula (7).

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112010037376393-pat00028
Figure 112010037376393-pat00028

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112010077597055-pat00029

화학식 7, 8에서 A는 각각 독립적으로
Figure 112010077597055-pat00084
,
Figure 112010077597055-pat00085
,
Figure 112010077597055-pat00086
또는
Figure 112010077597055-pat00087
로서, 상기 A 중 적어도 하나 이상이
Figure 112010077597055-pat00088
또는
Figure 112010077597055-pat00089
이고,
R1은 각각 독립적으로
Figure 112010077597055-pat00090
,
Figure 112010077597055-pat00091
또는
Figure 112010077597055-pat00092
이고,
R2 및 R3는 각각 독립적으로 H, 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 또는 시아노이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬, 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알케닐, 치환 또는 비치환 C1 ~ C10의 알키닐, 또는 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 방향족 화합물, 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 아실, 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 헤테로 알킬이고, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이고;
X는 각각 독립적으로 H 이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬기로서, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이고;
Y는 각각 독립적으로 S 또는 SO2 이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬기로서, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이고;
n은 각각 독립적으로 1 ~ 2의 정수; 및
Figure 112010077597055-pat00029

In Formula 7, 8 each independently
Figure 112010077597055-pat00084
,
Figure 112010077597055-pat00085
,
Figure 112010077597055-pat00086
or
Figure 112010077597055-pat00087
At least one of A
Figure 112010077597055-pat00088
or
Figure 112010077597055-pat00089
ego,
R 1 is each independently
Figure 112010077597055-pat00090
,
Figure 112010077597055-pat00091
or
Figure 112010077597055-pat00092
ego,
R 2 and R 3 are each independently H, alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, or cyano; or
Substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkenyl, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkynyl, or substituted or unsubstituted C 1 to C 10 aromatic compounds, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 acyl, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 heteroalkyl, the substitution being alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy , Thiol, and cyano;
Each X is independently H; or
Substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, wherein the substitution is by at least one of alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, and cyano;
Each Y is independently S or SO 2 ; or
Substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, wherein the substitution is by at least one of alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, and cyano;
n is each independently an integer of 1 to 2; And

m은 각각 독립적으로 A 부분이 공유결합하고 있는 탄소원자의 원자가를 충족시키는 0 내지 1 중 어느 하나의 정수이다.m is each independently an integer of 0 to 1 satisfying the valence of the carbon atom to which the A moiety is covalently bonded.

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상기 두번째 과제를 해결하기 위하여, 상기 화학식 7 ~ 8로 표시되는 신규화합물 중 어느 하나 이상의 UV 차폐 성능이 우수한 인 개질된 난연 경화제를 포함하는 수지 조성물을 제공한다.In order to solve the second problem, it provides a resin composition comprising a phosphorus-modified flame retardant curing agent excellent in any one or more UV shielding performance of the novel compounds represented by the formula (7).

상술한 방법을 통해 제조된 본 발명의 UV 차폐 성능이 우수한 인 변성 난연 경화제는 기계적 물성 향상과 난연 성능 향상의 균형을 고려하여 수지 성분 100 중량%에 대하여 상기 난연 경화제를 0.1 ~ 50 중량%, 바람직게는 10 ~ 30 중량%를 첨가할 수 있다. 이 경우 경화제로서 우수한 난연, 내열특성 및 물리, 화학적 물성을 부여하기 위하여 , 에폭시 레진, 시아네이트 레진 및 아크릴 레이트 레진의 원료 및 에폭시 레진의 경화제로써의 사용이 가능하다. 이를 통해 고신뢰성 전기.전자 부품의 절연재료, 할로겐 프리 화합물로써 우수한 난연성 및 열적 안정성을 요구하는 PCB 기판 및 절연판 등 각종 복합재료, 접착제, 코팅제, 도료 등에 폭넓게 적용될 수 있다. 특히 고밀도 다중층 인쇄 회로판과 같은 전자 응용분야에서는 자동 광학검사(AOI)를 통한 라미네이트의 품질관리를 실시하는데 유용하게 사용될 수 있다.Phosphorus-modified flame-retardant curing agent excellent in UV shielding performance of the present invention prepared by the above-described method is 0.1 to 50% by weight of the flame-retardant curing agent with respect to 100% by weight of the resin component in consideration of the balance between mechanical properties and flame retardant performance improvement Crab can be added in an amount of 10 to 30% by weight. In this case, in order to impart excellent flame retardancy, heat resistance and physical and chemical properties as a curing agent, it can be used as a raw material of epoxy resins, cyanate resins and acrylate resins and as a curing agent of epoxy resins. Through this, it can be widely applied to various composite materials such as PCB boards and insulation plates, adhesives, coating agents, paints, etc. which require excellent flame retardancy and thermal stability as insulation materials and halogen-free compounds of high reliability electrical and electronic components. Particularly in electronic applications such as high density multilayer printed circuit boards, it can be usefully used for quality control of laminates through automatic optical inspection (AOI).

한편 본 발명의 바람직한 한 측면에 따르면 상기 난연 경화제를 포함하는 수지조성물은 통상의 에폭시류와 경화제류, 무기물류, 촉매류 등을 단독 또는 혼합하여 포함할 수 있다. 구체적으로 상기 첨가되는 에폭시류는 통상적으로 인쇄회로기판 등에 사용되는 수지조성물에 포함될 수 있는 것이면 제한없이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 비스페놀에이형 에폭시, 비스페놀에프형 에폭시, 비스페놀에이디형 에폭시, 비스페놀에스형 에폭시, 바이페놀형 에폭시, 페놀노볼락형 에폭시, 디시피디형 에폭시, 비스페놀에이노볼락형 에폭시, 비스페놀에프노볼락형 에폭시, 크레졸 노볼락형 에폭시, 비스페놀에스노볼락형 에폭시, 바이페놀노볼락형 에폭시, 자일록 노볼락형 에폭시, 디시피디 페놀 노볼락형 에폭시, 바이페놀 페닐 노볼락형 에폭시, 트리스 페닐 페놀 노볼락형 에폭시군으로부터 선택되는 어느 하나 이상일수 있다. Meanwhile, according to a preferred aspect of the present invention, the resin composition including the flame retardant curing agent may include a common epoxy or a curing agent, an inorganic material, a catalyst, or the like alone or in combination. Specifically, the added epoxy may be used without limitation as long as it can be included in a resin composition that is commonly used in printed circuit boards, preferably, bisphenol-A epoxy, bisphenol F-type epoxy, bisphenol A-D epoxy, bisphenol A-type epoxy , Biphenol type epoxy, phenol novolak type epoxy, dicipidi epoxy type, bisphenol e novolak type epoxy, bisphenol f novolak type epoxy, cresol novolak type epoxy, bisphenol esnovolak type epoxy, biphenol novolak type epoxy It may be any one or more selected from the group of xylol novolak-type epoxy, discipidiphenol phenol novolak-type epoxy, biphenol phenyl novolak-type epoxy, tris phenyl phenol novolak-type epoxy group.

본 발명에 바람직한 또 다른 실시예에 따르면, 수지 조성물을 구성하는 경화제류는 통상적으로 인쇄회로기판 등에 사용되는 수지조성물에 포함될 수 있는 것이면 제한없이 사용될 수 있으며, 페놀노볼락형 경화제, 크레졸노볼락형 경화제, 비스페놀에프 노볼락형 경화제, 비스페놀에이디 노볼락형 경화제, 비스페놀에스 노볼락형 경화제, 자일록 노볼락형 경화제 , 디시피디 페놀 노볼락형 경화제 , 바이페놀 페닐 노볼락형 경화제, 트리스 페닐 페놀 노볼락형 경화제 및 디시안디아마이드 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상을 사용할 수 있다.According to another preferred embodiment of the present invention, the curing agent constituting the resin composition can be used without limitation as long as it can be included in the resin composition that is commonly used in printed circuit boards, phenol novolak type curing agent, cresol novolak type Curing agent, bisphenol F novolak type hardener, bisphenol A novolak type hardener, bisphenol A novolak type hardener, xylox novolak type hardener, discipidiphenol phenol novolak type hardener, biphenol phenyl novolak type hardener, tris phenyl phenol no Any one or more selected from the group of volacic curing agents and dicyandiamide can be used.

본 발명에 바람직한 또 다른 실시예에 따르면, 수지 조성물에 포함되는 무기물류는 통상적으로 인쇄회로기판 등에 사용되는 수지조성물에 포함될 수 있는 것이면 제한없이 사용될 수 있으며, 수산화알루미늄, 실리카 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상일 수 있다.       According to another preferred embodiment of the present invention, the inorganic materials included in the resin composition can be used without limitation as long as it can be included in the resin composition used in a printed circuit board, etc., any one selected from the group of aluminum hydroxide, silica It may be abnormal.

본 발명에 바람직한 또 다른 실시예에 따르면, 수지 조성물을 구성하는 촉매류는 통상적으로 인쇄회로기판 등에 사용되는 수지조성물에 포함될 수 있는 것이면 제한없이 사용될 수 있으며, 구체적으로 이미다졸계 촉매로써 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-운데실이미다졸, 2-헵타데실이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 1-벤질-2-메틸이미다졸, 2-아미노에틸-2-메틸 이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐-4,5-디(시아노에틸 옥시 메틸)이미다졸 등을 단독 또는 혼합하여 상요할 수 있으나 이에 제한되지 않는다.According to another preferred embodiment of the present invention, the catalysts constituting the resin composition can be used without limitation as long as it can be included in the resin composition used for printed circuit boards, etc., specifically 2-methyl as an imidazole catalyst Imidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1 -Benzyl-2-methylimidazole, 2-aminoethyl-2-methyl imidazole, 1-cyanoethyl-2-phenyl-4,5-di (cyanoethyl oxy methyl) imidazole or the like alone or mixed May be used but is not limited thereto.

본 발명의 바람직한 또 다른 일실시예에 따르면, 상기 수지 조성물의 UV 차폐효율이 UV 영역인 100 ~ 400 nm에서 95% 이상일 수 있다.According to another preferred embodiment of the present invention, the UV shielding efficiency of the resin composition may be 95% or more in the UV region 100 ~ 400 nm.

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하기로 하지만, 하기 실시예가 본 발명의 범위를 제한하는 것은 아니며, 이는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것으로 해석되어야 할 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the following Examples are not intended to limit the scope of the present invention, which will be construed as to help the understanding of the present invention.

<제조예 1><Manufacture example 1>

페놀 94.11g(1mole)에 파라포름알데하이드 90.32(1.25mole), 물 30g 및 수산화나트륨 수용액 3.3g을 반응조에 투입하고 가열교반하면서 50℃의 온도에서 5시간 반응을 수행한후 물 41.5g 및 황산 0.1N 황산 1.67g을 사용하여 중화반응을 진행하고 이후 메탄올 255g을 투입한후 온도 70℃에서 5시간 반응을 진행한후 DOPO 207.36g을 투입한다. 이후 메탄올을 제거하면서 140℃의 온도에서 10시간 이상 반응을 진행한후 인 개질된 DOPO-Phenol을 제조하였다. Into a phenol 94.11 g (1 mole), paraformaldehyde 90.32 (1.25 mole), water 30 g, and sodium hydroxide aqueous solution 3.3 g were added to a reaction tank, and the mixture was heated and stirred for 5 hours at a temperature of 50 ° C., followed by water 41.5 g and sulfuric acid 0.1 Neutralization reaction was carried out using 1.67 g of N sulfuric acid, and then 255 g of methanol was added thereto, followed by reaction at 70 ° C. for 5 hours, and then DOPO 207.36 g was added thereto. After the reaction was carried out for 10 hours or more at a temperature of 140 ℃ removing methanol to prepare a phosphorus-modified DOPO-Phenol.

이하 DOPO-비스페놀에이, DPO-페놀도 상기의 방법을 사용하여 제조하였다.
Hereinafter, DOPO-bisphenol-A and DPO-phenol were also prepared using the above method.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

페놀 564.66 g (6 mole), DOPO-Phenol 323.11 g (1 mole)을 반응조에 투입하고 가열 교반하면서 온도 90℃에서 DOPO-Phenol을 용해를 시킨후 산촉매 옥살산 8.87g 을 3회에 걸쳐 투입하여 반응을 진행하였다. 이후 Glyoxal (40% 수용액) 145g (1 mole)을 5회에 걸쳐 분할 투입을 반응을 진행하였다. 이후 온도 90℃에서 6 시간 반응을 진행 한후 산촉매인 옥살산의 분해를 위하여 150℃에서 1시간 추가 반응을 진행하였다. 미반응 페놀을 제거하기 위하여 200℃에서 진공하에서 페놀 회수 공정을 진행 한 후 인 함량 5.68 %인 UV 차폐 성능이 우수한 인개질된 난연 경화제 화합물 517 g 을 수득하였다. (FT-IR 결과 : Phenol-like hydroxy group : 3300㎝-1, P=O : 1200㎝-1 / 1280㎝-1 , P-C-O(Aromatic) : 972 ㎝-1 , P-C(Aromatic) 1424 ㎝-1 ) Phenol 564.66 g (6 mole) and DOPO-Phenol 323.11 g (1 mole) were added to the reactor, and DOPO-Phenol was dissolved at 90 ° C while heating and stirring. Then, 8.87 g of an acid catalyst oxalic acid was added three times. Proceeded. Thereafter, 145 g (1 mole) of Glyoxal (40% aqueous solution) was divided into five portions. Thereafter, the reaction was performed at a temperature of 90 ° C. for 6 hours, and then further reaction was performed at 150 ° C. for 1 hour to decompose an acid catalyst, oxalic acid. At 200 ° C to remove unreacted phenol After the phenol recovery process under vacuum, 517 g of a phosphorus modified flame retardant compound having excellent UV shielding performance with a phosphorus content of 5.68% was obtained. (FT-IR results: Phenol-like hydroxy group: 3300㎝ -1, P = O: 1200㎝ -1 / 1280㎝ -1, PCO (Aromatic): 972 ㎝ -1, 1424 ㎝ -1 PC (Aromatic))

경화제 화합물의 UV 차폐 물성을 평가 하고자 UV-Vis meter를 사용하여 측정 하고 그 결과를 하기 도 1에 도시하였다.
In order to evaluate the UV shielding properties of the curing agent compound was measured using a UV-Vis meter and the results are shown in Figure 1 below.

<실시예 2><Example 2>

페놀 564.66 g (6 mole), DOPO-Phenol (P=9.59%) 646.21 g (2 mole)을 반응조에 투입하고 가열 교반하면서 온도 90℃에서 DOPO-Phenol을 용해를 시킨후 산촉매 옥살산 12.1g 을 3회에 걸쳐 투입하였다. 이후 Glyoxal (40% 수용액) 145g (1 mole)을 5회에 걸쳐 분할 투입을 반응을 진행하였다. 이후 온도 90℃에서 6 시간 반응을 진행 한후 산촉매인 옥살산의 분해를 위하여 150℃에서 1시간 추가 반응을 진행 한후 미반응 페놀을 제거하기 위하여 200℃에서 페놀 회수 공정을 진행 한 후 인 함량 8.73 %인 UV 차폐 성능이 우수한 인개질된 난연 경화제 화합물 646 g 을 수득하였다. (FT-IR 결과 : Phenol-like hydroxy group : 3300㎝-1, P=O : 1200㎝-1 / 1280㎝-1 , P-C-O(Aromatic) : 972 ㎝-1 , P-C(Aromatic) 1424 ㎝-1 ) Phenol 564.66 g (6 mole) and DOPO-Phenol (P = 9.59%) 646.21 g (2 mole) were added to the reactor and dissolved DOPO-Phenol at a temperature of 90 ° C. under heating and stirring, followed by 12.1 g of acid catalyst oxalic acid three times. Injected over. Thereafter, 145 g (1 mole) of Glyoxal (40% aqueous solution) was divided into five portions. After the reaction for 6 hours at 90 ℃ temperature for 1 hour further reaction at 150 ℃ to decompose the acid catalyst oxalic acid and then proceed with the phenol recovery process at 200 ℃ to remove the unreacted phenol after phosphorus content of 8.73% 646 g of a modified modified flame retardant curing agent compound having excellent UV shielding performance was obtained. (FT-IR results: Phenol-like hydroxy group: 3300㎝ -1, P = O: 1200㎝ -1 / 1280㎝ -1, PCO (Aromatic): 972 ㎝ -1, 1424 ㎝ -1 PC (Aromatic))

경화제 화합물의 UV 차폐 물성을 평가 하고자 UV-Vis meter를 사용하여 측정 하고 그 결과를 하기 도 2에 도시하였다.
In order to evaluate the UV shielding properties of the curing agent compound was measured using a UV-Vis meter and the results are shown in Figure 2 below.

<실시예 3><Example 3>

페놀 564.66 g (6 mole), DOPO-비스페놀에이 (P=9.4%) 680 g (1 mole)을 반응조에 투입하고 가열 교반하면서 온도 90℃에서 DOPO-비스페놀에이 를 용해를 시킨후 산촉매 옥살산 12.44g 을 3회에 걸쳐 투입하였다. 이후 Glyoxal (40% 수용액) 145g (1 mole)을 5회에 걸쳐 분할 투입을 반응을 진행하였다. 이후 온도 90℃에서 6 시간 반응을 진행 한후 산촉매인 옥살산의 분해를 위하여 150℃에서 1시간 추가 반응을 진행 한후 미반응 페놀을 제거하기 위하여 200℃에서 페놀 회수 공정을 진행 한 후 인 함량 7.0 %인 UV 차폐 성능이 우수한 인개질된 난연 경화제 화합물 858 g 을 수득하였다. (FT-IR 결과 : Phenol-like hydroxy group : 3300㎝-1, P=O : 1200㎝-1 / 1280㎝-1 , P-C-O(Aromatic) : 972 ㎝-1 , P-C(Aromatic) 1424 ㎝-1 ) 564.66 g (6 moles) of phenol and 680 g (1 mole) of DOPO-bisphenol-A (P = 9.4%) were added to the reactor, and dissolved DOPO-bisphenol-A at 90 ° C while stirring under heating. It was injected three times. Thereafter, 145 g (1 mole) of Glyoxal (40% aqueous solution) was divided into five portions. After the reaction for 6 hours at a temperature of 90 ℃ and then further reaction for 1 hour at 150 ℃ to decompose the acid catalyst oxalic acid and then proceed with the phenol recovery process at 200 ℃ to remove the unreacted phenol after phosphorus content of 7.0% 858 g of a modified modified flame retardant curing agent compound having excellent UV shielding performance was obtained. (FT-IR results: Phenol-like hydroxy group: 3300㎝ -1, P = O: 1200㎝ -1 / 1280㎝ -1, PCO (Aromatic): 972 ㎝ -1, 1424 ㎝ -1 PC (Aromatic))

경화제 화합물의 UV 차폐 물성을 평가 하고자 UV-Vis meter를 사용하여 측정 하고 그 결과를 하기 도 3에 도시하였다.
In order to evaluate the UV shielding properties of the curing agent compound was measured using a UV-Vis meter and the results are shown in Figure 3 below.

<실시예 4><Example 4>

페놀 564.66 g (6 mole), DPO-Phenol (P=10%) 310 g (1 mole)을 반응조에 투입하고 가열 교반하면서 온도 90℃에서 DPO-Phenol을 용해를 시킨후 산촉매 옥살산 8.74g 을 3회에 걸쳐 투입하였다. 이후 Glyoxal (40% 수용액) 145g (1 mole)을 5회에 걸쳐 분할 투입을 반응을 진행하였다. 이후 온도 90℃에서 6 - 7 시간 반응을 진행 한후 산촉매인 옥살산의 분해를 위하여 150℃에서 1시간 추가 반응을 진행 한후 미반응 페놀을 제거하기 위하여 200℃에서 페놀 회수 공정을 진행한 후 인 함량 5.71 %인 UV 차폐 성능이 우수한 인개질된 난연 경화제 화합물 515 g 을 수득하였다. (FT-IR 결과 : Phenol-like hydroxy group : 3300㎝-1, P=O : 1200㎝-1 / 1280㎝-1 , P-C-O(Aromatic) : 972 ㎝-1 , P-C(Aromatic) 1424 ㎝-1 ) Phenol 564.66 g (6 mole) and DPO-Phenol (P = 10%) 310 g (1 mole) were added to the reactor and dissolved in DPO-Phenol at a temperature of 90 DEG C while heating and stirring. Injected over. Thereafter, 145 g (1 mole) of Glyoxal (40% aqueous solution) was divided into five portions. After the reaction for 6-7 hours at a temperature of 90 ℃ and then further reaction at 150 ℃ for 1 hour to decompose the acid catalyst oxalic acid and then proceed with a phenol recovery process at 200 ℃ to remove the unreacted phenol phosphorus content 5.71 515 g of a modified modified flame retardant curing agent compound having good UV shielding performance of% was obtained. (FT-IR results: Phenol-like hydroxy group: 3300㎝ -1, P = O: 1200㎝ -1 / 1280㎝ -1, PCO (Aromatic): 972 ㎝ -1, 1424 ㎝ -1 PC (Aromatic))

경화제 화합물의 UV 차폐 물성을 평가 하고자 UV-Vis meter를 사용하여 측정 하고 그 결과를 하기 도 4에 도시하였다.
In order to evaluate the UV shielding properties of the curing agent compound was measured using a UV-Vis meter and the results are shown in Figure 4 below.

<실시예 5><Example 5>

페놀 564.66 g (6 mole), DOPO-Phenol (P=9.59%) 323.11 g (1 mole)을 반응조에 투입하고 가열 교반하면서 온도 90℃에서 DOPO-Phenol을 용해를 시킨후 산촉매 옥살산 12.1g 을 3회에 걸쳐 투입하였다. 이후 P-Terephthalaldehyde 50% Soluion (Tolunen) 264g (1 mole)을 2시간에 걸쳐 분할 투입하여 반응을 진행하였다. 이후 온도 90℃에서 6 - 7 시간 반응을 진행 한후 산촉매인 옥살산의 분해를 위하여 150℃에서 1시간 추가 반응을 진행 한후 미반응 페놀을 제거하기 위하여 200℃에서 페놀 회수 공정을 진행 한 후 인 함량 4.9 %인 UV 차폐 성능이 우수한 인개질된 난연 경화제 화합물 568g 을 수득하였다. (FT-IR 결과 : Phenol-like hydroxy group : 3300㎝-1, P=O : 1200㎝-1 / 1280㎝-1 , P-C-O(Aromatic) : 972 ㎝-1 , P-C(Aromatic) 1424 ㎝-1 ) Phenol 564.66 g (6 mole) and DOPO-Phenol (P = 9.59%) 323.11 g (1 mole) were added to the reactor and dissolved DOPO-Phenol at a temperature of 90 ° C. while heating and stirring. Injected over. Thereafter, 264 g (1 mole) of P-Terephthalaldehyde 50% Soluion (Tolunen) was divided into 2 hours, and the reaction was performed. After the reaction for 6-7 hours at a temperature of 90 ℃ and then further reaction at 150 ℃ for 1 hour to decompose the acid catalyst oxalic acid, and then proceed with a phenol recovery process at 200 ℃ to remove the unreacted phenol phosphorus content 4.9 568 g of a modified flame retardant curing agent compound having good UV shielding performance of% was obtained. (FT-IR results: Phenol-like hydroxy group: 3300㎝ -1, P = O: 1200㎝ -1 / 1280㎝ -1, PCO (Aromatic): 972 ㎝ -1, 1424 ㎝ -1 PC (Aromatic))

경화제 화합물의 UV 차폐 물성을 평가 하고자 UV-Vis meter를 사용하여 측정 하고 그 결과를 하기 도 5에 도시하였다.
In order to evaluate the UV shielding properties of the curing agent compound was measured using a UV-Vis meter and the results are shown in Figure 5 below.

<비교예 1>Comparative Example 1

DOPO-Phenol을 대신하여 인계 화합물로써 트리페닐포스페이트(인함량 9.5%, C18O4PH15) 326g을 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 인 함량 4.36 %인 난연경화제 화합물 655g 을 수득하였다.655 g of a flame retardant compound having a phosphorus content of 4.36% in the same manner as in Example 1 except that 326 g of triphenylphosphate (phosphorus content of 9.5%, C 18 O 4 PH 15 ) was added as a phosphorus compound instead of DOPO-Phenol Obtained.

경화제 화합물의 UV 차폐 물성을 평가 하고자 UV-Vis meter를 사용하여 측정 하고 그 결과를 하기 도 6에 도시하였다.
In order to evaluate the UV shielding properties of the curing agent compound was measured using a UV-Vis meter and the results are shown in Figure 6 below.

<비교예 2>Comparative Example 2

Methyl Cellosolve와 DOPO-Phenol (P=9.59%) 323.11 g (1 mole)을 반응조에 투입하고 가열 교반하면서 온도 90℃에서 DOPO-Phenol을 용해를 시킨다. 이후 산촉매 옥살산 3.23 g 을 3회에 걸쳐 투입한 후 Glyoxal (40% 수용액) 36.25g 을 2시간에 걸쳐 분할 투입하여 반응을 진행한다. 이후 온도 90℃에서 10 시간 반응을 진행 한후 산촉매인 옥살산의 분해를 위하여 150℃에서 Methyl Cellosolve를 제거하면서 1시간 추가 반응을 진행 한후 Methyl Cellosolve를 제거한 후 인 함량 9.1 %인 UV 차폐 성능이 우수한 인개질된 난연 경화제 화합물 330 g 을 수득하였다. (FT-IR 결과 : Phenol-like hydroxy group : 3300㎝-1, P=O : 1200㎝-1 / 1280㎝-1 , P-C-O(Aromatic) : 972 ㎝-1 , P-C(Aromatic) 1424 ㎝-1 ) Methyl Cellosolve and DOPO-Phenol (P = 9.59%) 323.11 g (1 mole) were added to the reactor and dissolved DOPO-Phenol at a temperature of 90 ° C. while heating and stirring. Thereafter, 3.23 g of an acid catalyst oxalic acid were added three times, and 36.25 g of Glyoxal (40% aqueous solution) was divided and added over 2 hours to proceed with the reaction. After the reaction for 10 hours at 90 ℃ temperature to remove the acid catalyst oxalic acid to remove Methyl Cellosolve at 150 ℃ for 1 hour after the addition of Methyl Cellosolve after removal of the phosphorus content of 9.1% UV shielding performance is excellent 330 g of prepared flame retardant curing agent compound were obtained. (FT-IR results: Phenol-like hydroxy group: 3300㎝ -1, P = O: 1200㎝ -1 / 1280㎝ -1, PCO (Aromatic): 972 ㎝ -1, 1424 ㎝ -1 PC (Aromatic))

경화제 화합물의 UV 차폐 물성을 평가 하고자 UV-Vis meter를 사용하여 측정 하고 그 결과를 하기 도 7에 도시하였다.
In order to evaluate the UV shielding properties of the curing agent compound was measured using a UV-Vis meter and the results are shown in Figure 7 below.

한편, 도 8에는 OH E.E.W 103g/OH, 고형분 55%, 연화점 110℃인 Phenol Novolac Hardener의 UV Vis meter를 사용한 측정 결과를 도시하였다.
On the other hand, Figure 8 shows the measurement results using a UV Vis meter of Phenol Novolac Hardener OH EEW 103g / OH, 55% solids, 110 ℃ softening point.

<평가예><Evaluation Example>

상기 실시예 1 ~ 5 및 비교예 1 ~ 2를 통해 제조된 난연 경화제 화합물을 통상의 방법으로 하기 표 1과 같은 배합비로 배합하여 인쇄회로기판용 접착제를 제조하였다.Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 2 prepared by the flame-retardant compound prepared in a compounding ratio as shown in Table 1 in a conventional manner to prepare an adhesive for a printed circuit board.

또한 위 실시예 및 비교예에서 제조한 인 개질된 난연 경화제 화합물의 물성을 평가를 하기 위해 상기 표 1과 같이 배합을 실시하여 그 결과를 나타내었다.In addition, in order to evaluate the physical properties of the phosphorus-modified flame-retardant curing agent compounds prepared in the above Examples and Comparative Examples was performed as shown in Table 1 above to show the results.

구체적으로 하기 표 1에 도시한 배합비로 실시예, 비교예에서 제조된 수지를 배합하여 바니쉬를 제작한 후 글라스 섬유에 함침을 하여 프리프레그 작업을 실시하였다. 프리프레그(prepreg)는 175에서 5분간 진행하여 반경화상태로 한 후 8겹의 시편을 190에서 25kgf/cm2 압력으로 15분간 프레싱 한 후 다시 120분간 40kgf/cm2 압력을 가하여 프레싱했다. 이후 30분간 냉매로 냉각시켰다. Specifically, the resin was prepared in Examples and Comparative Examples at the mixing ratio shown in Table 1 to prepare a varnish, and then impregnated with glass fibers to perform a prepreg operation. Prepreg (prepreg) was pressed to proceed at 175 for 5 minutes by applying a semi-cured state 15 minutes after pressing the back 120 minutes 40kgf / cm 2 pressure to 25kgf / cm 2 pressure for specimens of 8-fold at 190 after a. After cooling for 30 minutes with a refrigerant.

(1) 난연성 시험은 UL-94 방법에 의해 실시하였다.(1) The flame retardancy test was performed by the UL-94 method.

구체적으로 시편은 5“×1/2”, 5개 시편을 사용하여 시편에 10초간 불꽃을 접촉한후 불꽃을 제거하고 시편에 불이 꺼지고 다시 10초간 접촉시킨후 불꽃을 다시 제거하는 방법으로 5개 시편의 1,2차 연소 시간의 총합을 계산하였다. (난연 등급은 1,2차 연소시간 총합이 50초 이내일 경우 V-0, 50초 이상 - 250초 이하일 경우 V-1)Specifically, the specimen is made by using 5 “× 1/2” and 5 specimens to contact the specimen for 10 seconds, and then remove the flame, turn off the light, and then contact it again for 10 seconds to remove the flame again. The sum of the first and second burn times of the open specimens was calculated. (Flame retardant rating is V-0 when the sum of 1st and 2nd combustion time is within 50 seconds, V-1 when more than 50 seconds-less than 250 seconds)

(2) 유리전이온도 측정 실험은 시차열분석기(DSC)를 이용하였다. (20/min)(2) Glass transition temperature measurement experiment was performed using differential thermal analyzer (DSC). (20 / min)

(3) 박리강도(Peel Strength) 는 GIS C-6471 방법에 의해 측정하였다.(3) Peel strength was measured by GIS C-6471 method.

(4) UV 차폐 평가는 SINCO S-3100 장비를 사용하여 측정하였다.     (4) UV shielding evaluation was measured using SINCO S-3100 equipment.

(5) 겔화시간은 겔타임기를 사용하여 170℃에서 측정하였다.      (5) The gelation time was measured at 170 ° C using a gel time machine.

(6) UV 차폐율은 상기 표에 도시한 배합비로 하여 UV-Vis meter를 사용하여 측정하였고 100 ~ 400nm에서 UV 차폐율 평균값을 표 1에 표시하였다.(6) The UV shielding rate was measured using a UV-Vis meter as the blending ratio shown in the above table, and the average UV shielding rate at 100 to 400 nm is shown in Table 1.

실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 실시예5Example 5 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 99.4 %99.4% 99.5%99.5% 99.6%99.6% 99.5%99.5% 99.3%99.3% 99.1%99.1% 67.5%67.5%

수지조성물 1
(실시예 1)
Resin composition 1
(Example 1)
수지조성물 2
(실시예2)
Resin composition 2
Example 2
수지조성물3
(실시예 3)
Resin composition 3
(Example 3)
YD-011M68YD-011M68 14.714.7 14.714.7 14.714.7 YDPN-638A80YDPN-638A80 112.5112.5 112.5112.5 112.5112.5 인변성 에폭시Modified epoxy 00 00 00 KDT-4400KDT-4400 00 00 00 난연경화제(실시예 1 ~ 비교예 2) (NV 60%)Flame Retardant (Example 1 ~ Comparative Example 2) (NV 60%) 131.3131.3 87.2687.26 114.5114.5 Phenol Novolac HardenerPhenol Novolac Hardener 00 53.5453.54 41.6341.63 DicyDicy 22 22 22 SilicaSilica 44.6944.69 45.4545.45 47.947.9 MCsMCs 44.6944.69 45.4545.45 47.947.9 2MI2MI 0.010.01 0.010.01 0.010.01 조성물 UV 차폐Composition UV shielding OKOK OKOK OKOK 난연등급/연소시간Flame retardant rating / burn time V-0(25s)V-0 (25s) V-0(23s)V-0 (23s) V-0(24s)V-0 (24 s) 인 함량Phosphorus content 2.0%2.0% 2.0%2.0% 2.0%2.0% Peel strengthPeel strength 1.41.4 1.31.3 1.41.4 170 겔화시간170 gel time 199s199 s 165s165 s 175s175 s 유리전이온도Glass transition temperature 155.4155.4 166.82166.82 173.2173.2

수지조성물 4
(실시예4)
Resin composition 4
Example 4
수지 조성물 5
(실시예 5)
Resin Composition 5
(Example 5)
비교수지조성물1
(비교예 1)
Comparative Resin Composition 1
(Comparative Example 1)
비교수지조성물2
(비교예 2)
Comparative Resin Composition 2
(Comparative Example 2)
YD-011M68YD-011M68 14.714.7 14.714.7 14.714.7 14.714.7 YDPN-638A80YDPN-638A80 112.5112.5 112.5112.5 112.5112.5 112.5112.5 인변성 에폭시Modified epoxy 00 00 00 00 KDT-4400KDT-4400 00 00 00 00 난연경화제(실시예 1 ~ 비교예 2) (NV 55%)Flame Retardant (Example 1 ~ Comparative Example 2) (NV 55%) 131.3131.3 189189 141.34141.34 81.3381.33 Phenol Novolac HardenerPhenol Novolac Hardener 00 00 00 56.7256.72 DicyDicy 22 22 22 22 SilicaSilica 44.6944.69 50.9850.98 46.246.2 4545 MCsMCs 44.6944.69 50.9850.98 46.246.2 4545 2MI2MI 0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01 조성물 UV 차폐Composition UV shielding OKOK OKOK OKOK OKOK 난연등급/연소시간Flame retardant rating / burn time V-0(21s)V-0 (21s) V-0(45s)V-0 (45s) V-1(55s)V-1 (55s) V-0(41s)V-0 (41s) 인 함량Phosphorus content 2.0%2.0% 2.0%2.0% 1.61.6 2.0%2.0% Peel strengthPeel strength 1.41.4 1.31.3 0.90.9 1.21.2 170 겔화시간170 gel time 205205 195195 210210 170170 유리전이온도Glass transition temperature 157.0157.0 155.0155.0 148.6148.6 150.5150.5

수지조성물3
(실시예 3)
Resin composition 3
(Example 3)
비교수지조성물3
Comparative Resin Composition 3
YD-011M68YD-011M68 14.714.7 00 YDPN-638A80YDPN-638A80 112.5112.5 00 인변성 에폭시Modified epoxy 00 135.71135.71 KDT-4400KDT-4400 00 7.147.14 난연경화제(실시예 1 ~ 비교예 2) (NV 60%)Flame Retardant (Example 1 ~ Comparative Example 2) (NV 60%) 114.5114.5 00 Phenol Novolac HardenerPhenol Novolac Hardener 41.6341.63 52.3552.35 DicyDicy 22 22 SilicaSilica 47.947.9 52.3552.35 MCsMCs 47.947.9 52.3552.35 2MI2MI 0.010.01 0.010.01 조성물 UV 차폐Composition UV shielding OKOK OKOK 난연성Flammability V-0V-0 V-0V-0 인 함량Phosphorus content 2.0%2.0% 2.0%2.0% Peel strengthPeel strength 1.41.4 1.01.0 170 겔화시간170 gel time 175s175 s 153153 유리전이온도Glass transition temperature 173.2173.2 125125

도 1~ 8은 본 발명에 의해 제조된 인 변성 난연 경화제 및 비교예의 UV 차폐성능을 나타내는 것으로 x축은 빛의 파장(wavelength)을 나타내고 y축은 빛의 투과율을 나타낸다. 도 1~8의 그래프에서 알수 있는것은 그 빛의 해당 파장대에서의 빛의 차폐효과를 알수 있다. 해당 파장대에서 투과율이 내는데 100에 가까울수록 차폐효과가 없고 0에 가까울수록 그 해당 파장때에서 차폐 효과가 우수하다는 것을 알수 있는데 본 발명에 의해 제조된 UV 차폐 성능이 우수한 인변성 경화제는 UV 영역인 10 - 390 nm에서의 UV 투과율이 0% 인것을 알수 있다. 1 to 8 show the UV shielding performance of the phosphorus-modified flame-retardant curing agent prepared in accordance with the present invention and the comparative example, the x-axis shows the wavelength of light and the y-axis shows the light transmittance. It can be seen from the graphs of FIGS. 1 to 8 that the shielding effect of light in the wavelength range of the light can be seen. It can be seen that the transmittance in the wavelength range is close to 100, and there is no shielding effect, and the closer to 0, the better the shielding effect at the wavelength. It can be seen that the UV transmittance at 390 nm is 0%.

상기 도 1 ~ 8 및 표 1에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 실시예 1 ~ 5의 난연경화제의 UV 차폐율은 비교예 1~2에 비해 UV 차폐 효과가 우수한 것을 알수 있다. 또한 표 2, 3에서 알수 있듯이 실시예 1~5의 난연경화제를 사용한 수지소성물 1~4는 UV 차폐 효과 및 반응형 타입의 난연제를 함유하고 있어 첨가형 난연제를 함유하고 있는 비교수지 조성물 1에 비해 접착력이 우수하고 유리전이 온도가 높으며 난연성이 우수하다는 것을 알수 있다. 1 to 8 and Table 1, it can be seen that the UV shielding rate of the flame retardant of Examples 1 to 5 of the present invention is superior to the UV shielding effect compared to Comparative Examples 1 and 2. In addition, as shown in Tables 2 and 3, resin plastics 1 to 4 using the flame retardant of Examples 1 to 5 contained UV-shielding effect and reactive type of flame retardant, compared to Comparative resin composition 1 containing additive flame retardant. It can be seen that the adhesion is excellent, the glass transition temperature is high, and the flame retardancy is excellent.

또한 상기 표 4에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 실시예를 이용한 수지를 사용할 경우 수지 자체적으로 난연특성을 나타내는 인과 UV 차폐 성능을 가지고 있어 수지 조성물 제조시 별도의 난연에폭시(인계 에폭시) 및 UV 차폐 성능을 가지는 에폭시 레진(KDT-4400, 국도화학주식회사)의 첨가 없이 그 성능이 발휘되는것을 알수 있다. 구체적으로 상기 표 4의 결과를 보듯이 난연 에폭시를 첨가할 경우 유리전이 온도 및 접착력이 현저히 감소하는것을 볼 수 있다.
In addition, as can be seen in Table 4, when using the resin using an embodiment of the present invention has a phosphorus and UV shielding performance exhibiting the flame retardant properties of the resin itself, separate flame retardant epoxy (phosphorus epoxy) and UV when preparing the resin composition It can be seen that the performance is exhibited without the addition of epoxy resin (KDT-4400, Kukdo Chemical Co., Ltd.) having shielding performance. Specifically, when the flame retardant epoxy is added as shown in the results of Table 4, it can be seen that the glass transition temperature and adhesion strength is significantly reduced.

본 발명의 제조방법을 통해 제조된 UV 차폐 성능이 우수한 인 개질된 난연 경화제 및 이를 포함하는 수지 조성물은 는 PCB 기판 및 절연판 등 각종 복합재료, 접착제, 코팅제, 도료에 폭넓게 적용될 수 있다.
Phosphorus-modified flame-retardant curing agent and a resin composition comprising the same excellent in the UV shielding performance produced by the manufacturing method of the present invention can be widely applied to various composite materials, such as PCB substrates and insulating plates, adhesives, coating agents, paints.

Claims (13)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 하기 화학식 7 ~ 8로 표시되는 화합물 중 어느 하나 이상의 UV 차폐 성능이 우수한 인 개질된 난연 경화제를 포함하는 수지 조성물.
[화학식 7]
Figure 112010077597055-pat00055

[화학식 8]
Figure 112010077597055-pat00056

화학식 7, 8에서 A는 각각 독립적으로
Figure 112010077597055-pat00057
,
Figure 112010077597055-pat00058
,
Figure 112010077597055-pat00093
또는
Figure 112010077597055-pat00094
로서, 상기 A 중 적어도 하나 이상이
Figure 112010077597055-pat00095
또는
Figure 112010077597055-pat00096
이고,
R1은 각각 독립적으로
Figure 112010077597055-pat00061
,
Figure 112010077597055-pat00062
또는
Figure 112010077597055-pat00063
이고,
R2 및 R3는 각각 독립적으로 H, 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 또는 시아노이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬, 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알케닐, 치환 또는 비치환 C1 ~ C10의 알키닐, 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 방향족 화합물, 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 아실 또는 치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 헤테로 알킬이고, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이고;

X는 각각 독립적으로 H 이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬기로서, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이고;

Y는 각각 독립적으로 S 또는 SO2 이거나; 또는
치환 또는 비치환된 C1 ~ C10의 알킬기로서, 상기 치환은 알콜, 알콕시, 에테르, 에스테르, 케톤, 카르복시, 히드록시, 티올, 및 시아노 중 어느 하나 이상에 의한 것이고;

n은 각각 독립적으로 1 ~ 2의 정수; 및
m은 각각 독립적으로 A 부분이 공유결합하고 있는 탄소원자의 원자가를 충족시키는 0 내지 1 중 어느 하나의 정수이다.
Resin composition comprising a phosphorus-modified flame-retardant curing agent excellent in UV shielding performance of any one or more of the compounds represented by the formula (7-8).
[Formula 7]
Figure 112010077597055-pat00055

[Chemical Formula 8]
Figure 112010077597055-pat00056

In Formula 7, 8 each independently
Figure 112010077597055-pat00057
,
Figure 112010077597055-pat00058
,
Figure 112010077597055-pat00093
or
Figure 112010077597055-pat00094
At least one of A
Figure 112010077597055-pat00095
or
Figure 112010077597055-pat00096
ego,
R 1 is each independently
Figure 112010077597055-pat00061
,
Figure 112010077597055-pat00062
or
Figure 112010077597055-pat00063
ego,
R 2 and R 3 are each independently H, alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, or cyano; or
Substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkenyl, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkynyl, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 Aromatic compounds, substituted or unsubstituted C 1 to C 10 acyl or substituted or unsubstituted C 1 to C 10 heteroalkyl, the substitution being alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, By at least one of thiol, and cyano;

Each X is independently H; or
Substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, wherein the substitution is by at least one of alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, and cyano;

Each Y is independently S or SO 2 ; or
Substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, wherein the substitution is by at least one of alcohol, alkoxy, ether, ester, ketone, carboxy, hydroxy, thiol, and cyano;

n is each independently an integer of 1 to 2; And
m is each independently an integer of 0 to 1 satisfying the valence of the carbon atom to which the A moiety is covalently bonded.
제9항에 있어서,
전체 수지조성물 100중량%에 대하여 상기 난연 경화제 10 ~ 50중량%인 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
10. The method of claim 9,
The resin composition, characterized in that 10 to 50% by weight of the flame-retardant curing agent relative to 100% by weight of the total resin composition.
제9항에 있어서,
상기 수지 조성물의 UV 차폐효율이 UV 영역인 100 ~ 400 nm에서 95% 이상인 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
10. The method of claim 9,
UV shielding efficiency of the resin composition is a resin composition, characterized in that more than 95% in the UV region 100 ~ 400 nm.
제9항 내지 제11항 중 어느 한 항의 수지 조성물을 포함하는 인쇄회로기판용 수지조성물.A resin composition for a printed circuit board comprising the resin composition of any one of claims 9 to 11. 제12항의 인쇄회로기판용 수지조성물을 포함하는 인쇄회로기판.
A printed circuit board comprising the resin composition of claim 12.
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