KR100991540B1 - 반사투과형 액정표시장치 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반사투과형 액정표시장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 불량 개선 및 개구율을 확보할 수 있는 반사투과형 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 목적은, 화질 불량을 개선할 수 있고, 개구율 감소를 개선할 수 있는 반사투과형 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공한다.
본 발명은, 기판 상에 서로 직교하는 다수의 게이트 및 데이터 배선과, 게이트 배선에 분기한 게이트 전극과, 데이터 배선에 분기한 소스 전극 및 소스 전극과 일정 간격 이격된 드레인 전극과, 드레인 전극과 연결되는 투과 전극과, 투과모드시 빛이 통과하는 투과부홀의 단차부를 따라 형성된 반사판과, 투과 전극 상에 형성되며, 액정층을 배향하기 위한 배향막을 포함하고, 반사판은 상기 투과부홀을 중심으로 마주보는 끝단이 비대칭적으로 형성된 반사투과형 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공한다.
본 발명은, 반사판을 러빙되지 않는 영역에 대응하여 확장함으로써, 러빙되지 않는 영역에 의한 화질 불량의 문제를 개선할 수 있고, 종래에 비해 투과 모드시 개구율을 개선할 수 있게 된다.

Description

반사투과형 액정표시장치 및 그 제조방법{Transreflective type liquid crystal display device and manufactuirng method of the same}
도 1은 일반적인 반투과 액정표시장치의 개략 단면도.
도 2는 반사투과형 액정표시장치에 대해 러빙 공정을 진행하는 모습을 개략적으로 도시한 단면도.
도 3은 반사판이 투과영역과 중첩되도록 형성된 종래의 반사투과형 액정표시장치를 도시한 단면도.
도 4는 종래의 반사투과형 액정표시장치를 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 반사투과형 액정표시장치를 도시한 평면도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 반사투과형 액정표시장치에서 반사판과 투과 영역을 개략적으로 도시한 평면도.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 반사투과형 액정표시장치를 도시한 단면도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
200 : 반사투과형 액정표시장치 223 : 투과부홀
244 : 반사판
본 발명은 반사투과형 액정표시장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 불량 개선 및 개구율을 확보할 수 있는 반사투과형 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로, 액정표시장치는 어레이기판과 컬러필터기판을 일정 간격으로 서로 마주보도록 배치하고, 두 기판 사이에 액정을 주입한 후, 두 기판 상에 각각 형성된 전계 생성 전극에 전압을 인가하여 액정 내부에 생성되는 전기장에 의해 액정 분자를 구동함으로써, 그에 따라 달라지는 빛의 투과율을 조절하여 화상을 표현하는 장치이다.
그와 같은 액정표시장치는 사용하는 광원에 따라 투과형(transmission type)과 반사형(reflection type)으로 나뉠 수 있다.
투과형 액정표시장치는 액정 패널의 뒷면에 부착된 배면 광원인 백라이트(backlight)로부터 나오는 인위적인 빛을 액정에 입사시켜 액정의 배열에 따라 빛의 양을 조절하여 색을 표시하는 형태이고, 반사형 액정표시장치는 외부의 자연광이나 인조광을 반사시킴으로써, 액정의 배열에 따라 빛의 투과율을 조절하는 형태이다.
투과형 액정표시장치는 인위적인 배면 광원을 사용하므로 어두운 외부 환경에서도 밝은 화상을 구현할 수 있으나 전력 소비(power consumption)가 큰 단점이 있다. 반면에, 반사형 액정표시장치는 빛의 대부분을 외부의 자연광이나 인조 광원에 의존하므로 투과형 액정표시장치에 비해 전력 소비가 적지만 어두운 장소 등 외부 광원이 반사에 충분하지 못할 경우에 사용할 수 없다는 단점이 있다.
따라서, 반사 모드와 투과 모드를 필요한 상황에 따라 적절하게 선택하여 사용할 수 있는 장치로 반사 및 투과 겸용 액정표시장치인, 반사투과형 액정표시장치가 제안되었다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 반사투과형 액정표시장치에 대해 설명한다.
도 1은 일반적인 반사투과형 액정표시장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도시한 바와 같이, 하부기판(10) 상에는 실리콘 질화막(SiNx)이나 실리콘 산화막(SiO₂)으로 된 게이트 절연막(12)이 형성되어 있고, 게이트 절연막(12) 상에는 유기막으로 이루어진 제 1 보호막(14)이 형성되어 있다. 제 1 보호막(14) 상에는 반사판(44)이 형성되어 있고, 반사판(44) 상에는 제 2 보호막(18)이 형성되어 있다. 여기서, 반사판(22)은 알루미늄(Al)과 같이 저항이 작고 반사율이 큰 물질로 제조된다.
제 2 보호막(18) 상에는 투과 전극(46)이 형성되어 있고, 투과 전극(46)은 박막트랜지스터(미도시)와 전기적으로 연결되어 있다. 여기서, 투과 전극(46)은 인듐-틴-옥사이드(indium-tin-oxide : 이하 ITO라고 함.)나 인듐-징크-옥사이드(indium-zinc-oxide : 이하 IZO라고 함.)와 같이 빛의 투과율이 비교적 뛰어난 투명 도전성 금속 물질 중 하나로 이루어진다.
그리고, 공통 전극(50)과 투과 전극(46) 사이에는 액정층(60)이 주입되어 있다. 여기서, 액정층(60)은 기판에 대해 수평으로 배열하고, 양의 유전율 이방성을 가지는 것을 이용하여 전기장이 형성되었을 때 전기장의 방향과 나란하게 배열되도록 한다.
투과영역(E)에는 투과부홀(23)이 형성되어 있다. 투과영역(E)의 액정층의 두께(cell gap ; d2)는 반사영역(R)의 액정층의 두께(d1)보다 두껍게 형성되는데, 이는 투과 모드와 반사 모드에서 액정층(60)을 통과하는 빛의 위상차를 보상하기 위해서이다. 액정층(60)의 위상차(Δn·d)는 액정층(60)의 굴절율 이방성 값(anisotropy of refractive index)(Δn)과 두께(d)에 따라 달라지는데, 투과영역(E)의 액정층의 두께(d2)가 반사영역(R)의 액정층의 두께(d1)와 같은 값을 가지게 되면, 투과 모드시 빛의 휘도는 반사 모드시의 빛의 휘도보다 감소한다. 따라서, 투과영역(E)의 액정층의 두께(d2)가 반사영역(B)의 액정층 두께(d1)보다 두껍게 형성되도록 하는데, 특히 효율적으로는 두 배가 되도록 한다.
두 기판(10, 30)의 바깥쪽에는 하부 및 상부 위상차판(retardation film, 71, 72)이 각각 배치되어 있는데, 하부 및 상부 위상차판(71, 72)은 빛의 편광 상태를 바꾸는 기능을 한다.
하부 및 상부 위상차판(71, 72) 바깥쪽에는 하부 및 상부 편광판(81, 82)이 각각 배치되어 있는데, 상부 편광판(82)의 광 투과축은 하부 편광판(81)의 광 투과축에 대하여 90°의 각도를 가진다.
또한, 하부 편광판(81)의 바깥쪽 즉, 하부 편광판(81)의 아래에는 백라이트(90)가 배치되어 투과 모드의 광원으로 이용된다.
한편, 도시하지는 않았지만, 투과 전극(46) 상에는 액정층(50)을 배향하기 위한 배향막이 형성된다.
도 2는, 도 1에 도시한 반사투과형 액정표시장치에 대한 러빙(rubbing) 공정을 개략적으로 도시한 단면도이다.
도시한 바와 같이, 반사투과형 액정표시장치의 액정층(도 1의 60 참조)을 배향하기 위해 배향막(48)을 도포하고 러빙포(90)를 이용하여 러빙 공정을 진행하게 된다. 그런데, 러빙 공정시 투과 영역의 가장자리 영역(A)에서는 러빙이 진행되지 않게 된다. A 영역은 단차부 및 그 근방의 영역으로서 러빙포로 러빙을 진행하는 과정에서 러빙포(90)와 올바르게 접촉하지 않게 되어 러빙되지 않게 된다. 또한, 단차부에서는 반사-투과 모드에 적절한 셀 갭이 형성되지 않게 된다.
즉, 전술한 반사투과형 액정표시장치는 화상의 대비비(contrast ratio)가 감소 하는 등 화질이 저하되는 문제가 발생하게 된다.
도 3은 전술한 문제를 개선하기 위해, 반사판이 투과영역과 중첩되도록 형성된 종래의 반사투과형 액정표시장치를 도시하고 있다.
도시한 바와 같이, 반사판(144)은 투과 영역(E)과 일부 중첩되도록 형성됨으로써 화질 저하 문제를 해결하게 된다. 여기서, 반사판(144)은 투과 영역(E)에 대해 상하/좌우 대칭적으로 형성된다. 그런데, 그와 같이 상하/좌우 대칭적으로 형성된 반사판(44)은 투과 모드시 개구율을 감소시키게 된다.
도 4는, 도 3에 도시한 종래의 반사투과형 액정표시장치를 개략적으로 도시한 평면도이다.
도시한 바와 같이, 반사투과형 액정표시장치(100)에 대해 배향막(도 3의 148 참조)을 도포하고 화살표 방향으로 러빙 공정을 진행하게 되면, 투과 영역(E)은 러빙 공정시 러빙되는 제 1 영역(E1)과, 러빙 공정시 러빙되지 않는 제 2 영역(E2)으로 이루어진다. 여기서, 반사판(144)은 러빙 공정시 러빙되지 않는 제 2 영역(E2)과 중첩되도록 확장 형성되는데, 반사판(144)은 투과 영역(E)에 대해 상하/좌우 대칭을 갖도록 형성된다. 그로 인해, 투과 모드시 개구율이 감소하게 되는 것이다.
전술한 바와 같은 문제를 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 화질 불량을 개선할 수 있고, 개구율 감소를 개선할 수 있는 반사투과형 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공한다.
전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 기판 상에 서로 직교하는 다수의 게이트 배선 및 데이터 배선과; 상기 게이트 배선에서 분기한 게이트 전극과; 상기 데이터 배선에서 분기한 소스 전극 및, 상기 소스 전극과 일정 간격 이격된 드레인 전극과; 상기 드레인 전극과 연결되는 투과 전극과; 투과모드시 빛이 통과하는 투과부홀을 포함하는 네 변을 가진 투과영역을 정의하며, 상기 투과부홀의 단차부를 따라 형성된 반사판과; 상기 투과 전극 상에 형성되며, 액정층을 배향하기 위한 배향막을 포함하되, 상기 반사판은 상기 투과부홀을 중심으로 상기 투과영역의 네 변으로부터 각각 상기 투과영역의 내측으로 연장되는 네 끝단을 가지면서, 서로 이웃하는 두 변의 끝단의 길이는 같고, 서로 마주보는 두 변의 끝단의 길이는 서로 다른 반사투과형 액정표시장치를 제공한다.
이때, 상기 반사판은, 서로 마주보는 끝단 각각으로부터 인접한 상기 단차부까지의 거리가 각각 l1, l2의 값을 가지며, l2 > l1이며, l2 - l1 은 1.5 ㎛ 이상이다.
그리고, 상기 l2의 거리를 갖는 상기 반사판에 대응되는 상기 배향막은 배향되지 않으며, 상기 투과부홀의 액정층의 두께(d1)는 상기 투과부홀 주변의 액정층의 두께(d2)보다 두껍다.
또한, d1 = 2d2 이며, 상기 투과 전극은 투명 도전성 금속 물질로 이루어진다.
그리고, 상기 반사판은 불투명 도전성 금속 물질로 이루어지며, 상기 반사판과 상기 투과 전극 사이에 형성된 보호막을 더욱 포함한다.
또한, 본 발명은 서로 직교하는 게이트 및 데이터 배선과, 상기 게이트 배선에서 분기한 게이트 전극과, 상기 데이터 배선에서 분기한 소스 전극 및 상기 소스 전극에 일정 간격 이격된 드레인 전극과, 단차부를 갖는 투과부홀이 형성된 기판 상에 네 변을 갖는 투과영역으로 연장되어, 상기 단차부를 따라 반사판을 형성하는 단계와; 상기 반사판 상에 투과 전극을 형성하는 단계와; 상기 투과 전극 상에 배향막을 도포하고 배향하는 단계를 포함하고; 상기 배향막의 배향 방향에 따라, 상기 반사판은 상기 투과부홀을 중심으로 상기 투과영역의 네 변으로부터 각각 상기 투과영역의 내측으로 연장되는 네 끝단을 가지면서, 서로 이웃하는 두 변의 끝단의 길이는 같고, 서로 마주보는 두 변의 끝단의 길이는 서로 다른 반사투과형 액정표시장치 제조방법을 제공한다.
여기서, 상기 반사판은, 서로 마주보는 끝단 각각으로부터 인접한 상기 단차부까지의 거리가 각각 l1, l2의 값을 가지며, l2 > l1이 되도록 형성되고, 상기 배향막은 l2에서 l2에서 l1 방향에 대응되도록 배향 공정이 진행되며, l2 - l1 은 1.5 ㎛ 이상이다.
그리고, l2의 거리를 갖는 상기 반사판에 대응되는 상기 배향막은 배향 공정시 배향되지 않으며, 상기 투과부홀의 액정층의 두께(d1)는 상기 투과부홀 주변의 액정층의 두께(d2)보다 두껍게 형성된다.
이때, d1 = 2d2 이며, 상기 투과 전극은 투명 도전성 금속 물질로 이루어진다.
또한, 상기 반사판은 불투명 도전성 금속 물질로 이루어지며, 상기 반사판과 상기 투과 전극 사이에 보호막을 형성하는 단계를 더욱 포함한다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다.
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도 5는 반사투과형 액정표시장치를 도시한 평면도이다.
도시한 바와 같이, 기판(210) 상에 게이트 배선(240)과 데이터 배선(260)이 직교하여 위치하고 있으며, 상기 게이트 배선(240)과 데이터 배선(260)의 교차하는 부분에 스위칭(switching) 소자인 박막트랜지스터(T)가 위치한다.
박막트랜지스터(T)는 소스 및 드레인 전극(262, 263), 게이트 전극(232), 그리고 반도체층(238)으로 이루어진다. 소스 전극(262)은 데이터 배선(260)에서 일정 부분 분기되어 형성된다. 드레인 전극(263)은 소스 전극(262)과 일정 간격 이격되 어 있고, 소스 전극(262)에 전달된 화상 신호를 전달받게 된다.
반도체층(238)은 실리콘 물질로 이루어지는데, 사용되는 물질은 비정질 실리콘(amorphous silicon)이나 폴리 실리콘(poly silicon)이 사용될 수 있다.
화소 내에는 투과 전극(246)과 반사판(244)이 형성되어 있으며, 화소는 투과 영역(E)과 반사 영역(R)으로 나뉘어 진다.
투과 전극(246)은 드레인 컨택홀(287)을 통해 드레인 전극(263)과 연결되어 화상 신호를 인가받게 된다. 투과 전극(246)은 ITO, IZO와 같은 투명도전성 금속 물질로 이루어진다. 그리고, 반사판(244)은 내부에 투과부홀을 가지며 형성되는데, 투과부홀은 빛을 통과시키는 투과영역(E)으로 기능하게 된다. 반사판은(244) 알루미늄과 같이 반사효율이 우수한 불투명 도전성 금속물질로 이루어진다.
반사투과형 액정표시장치는 반사 모드시 반사판(244)을 통해 외부로부터 입사된 빛을 반사하며, 투과 모드시 투과영역(E)을 통해 배면광원으로부터 입사된 빛을 통과시키게 된다. 여기서, 반사 모드와 투과 모드에서 반사투과형 액정표시장치의 휘도를 향상시키기 위해, 투과 영역의 액정층의 두께는 반사 영역의 액정층의 두께에 비해 두껍게 형성되는데, 특히 투과 영역의 액정층의 두께가 반사 영역의 액정층의 두께의 2배가 되도록 형성되면 가장 효율적으로 반사투과형 액정표시장치의 휘도가 향상된다.
한편, 반사판(244)은 투과 전극(246)과 접촉하여 전기적 신호를 인가받거나, 플로우팅(floating)되어 전기적 신호가 인가되지 않을 수 있다. 그리고, 반사판(244)은 도시한 바와 같이 화소 단위로 형성되거나, 기판 전체에 형성될 수 있다.
전술한 바와 같은 반사투과형 액정표시장치는 후술되는 본 발명의 제 1, 2 실시예에 따라 화질 불량을 개선하고, 개구율을 확보할 수 있게 된다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 반사투과형 액정표시장치에서 반사판과 투과 영역을 도시한 평면도이고, 도 7은 본 발명의 실시예에 따른 반사투과형 액정표시장치를 도시한 단면도이다.
본 발명의 실시예에 따른 반사투과형 액정표시장치는, 투과영역으로 연장되어 있는 반사판 끝단의 길이가 투과부홀을 중심으로 비대칭적으로 형성되도록 한다. 즉, 러빙 공정시 배향막이 러빙되지 않는 부분에 플로우팅(floating)된 반사판을 확장하여 형성함으로써 불량 개선 및 개구율을 확보하게 된다.
도 6에 도시한 바와 같이, 반사투과형 액정표시장치(200)에 대해 배향막을 도포하고 화살표 방향으로 러빙 공정을 진행하게 되면, 투과 영역(E)은 러빙 공정시 러빙되는 제 1 영역(E1)과, 러빙 공정시 러빙되지 않는 제 2 영역(E2)으로 이루어진다. 여기서, 반사판(244)을, 러빙 공정시 러빙되지 않는 제 2 영역(E2)과 중첩되도록 확장 형성한다.
그와 같이 하면, 투과 영역(E) 중 러빙되지 않는 제 2 영역(E2)은 반사판(244)과 중첩되어, 배향되지 않은 액정층에 의한 화상 불량을 방지할 수 있고, 종래에 비해 일정 정도의 개구율을 확보할 수 있게 된다.
이하 도 6과 7을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 반사투과형 액정표시장 치를 형성하는 방법에 대해 설명한다.
도시한 바와 같이, 기판(210) 상에 질화 실리콘이나 산화 실리콘 등으로 이루어진 게이트 절연막(212)을 형성한다.
그 후에, 게이트 절연막(212) 상에 유기 절연물질로 이루어진 제 1 보호막(214)을 형성한다. 여기서, 제 1 보호막(214)을 게이트 절연막(212) 상에 도포하고 패터닝하여 투과부홀(223)을 형성한다.
제 1 보호막(214) 상에는 불투명 금속물질로 이루어진 반사판(244)을 형성한다. 반사판(244)은 불투명 금속물질을 증착한 후 패터닝하게 되는데, 투과영역(E) 중 제 1 영역(E1)에 대응되는 부분을 식각하여 제거하게 된다.
이때, 투과영역(E)으로 연장되어 있는 반사판(244)의 일 끝단의 길이는 투과영역(E)의 일끝단에서부터 제 1 영역(E1) 내에 위치하는 반사판(244)의 타끝단까지의 길이와 투과영역(E)의 타끝단에서부터 제 2 영역(E2)에 위치하는 반사판(244)의 끝단까지의 길이는 서로 다르게 형성되는 것을 특징으로 한다.
즉, 투과 영역(E)의 일끝단에서 제 1 영역(E1) 내에 위치하는 반사판(244)의 끝단까지의 거리를 l1, l1과 마주보는 투과 영역(E)의 타끝단에서 제 2 영역(E2) 내에 위치하는 반사판(244)의 끝단까지의 거리를 l2라고 하면, l1 < l2 의 관계가 형성되며 효과적으로는
l2 - l1 > 1.5 ㎛
의 값을 가지도록 반사판(244)을 형성한다. 여기서, l2는 종래의 값과 동일하게 형성된다.
반사판(244) 상에는 제 2 보호막(218)을 형성하고, 제 2 보호막(218) 상에 투과 전극(246)을 형성하게 된다. 한편, 투과 전극(246)은 박막트랜지스터(도 5의 T 참조)와 전기적으로 연결된다.
투과 전극(244) 상에는 액정 배향을 위해 배향막(248)을 도포하고, 러빙 공 정을 진행하게 된다. 러빙 공정은 도 6에 도시한 바와 같은 방향으로 진행한다. 배향막(248)은 폴리이미드와 같은 배향물질로 이루어지게 된다.
전술한 바와 같은 공정을 진행하게 되면, 본 발명의 실시예에 따른 반사투과형 액정표시장치를 제조할 수 있게 된다.
전술한 바와 같이, 본 발명은, 반사판을 러빙되지 않는 영역에 대응하여 확장함으로써, 러빙되지 않는 영역에 의한 화질 불량 문제를 개선할 수 있고, 종래에 비해 투과 모드시 개구율을 개선할 수 있게 된다.
전술한 바와 같이, 본 발명은, 반사판을 러빙되지 않는 영역에 대응하여 확장함으로써, 러빙되지 않는 영역에 의한 화질 불량의 문제를 개선할 수 있고, 종래에 비해 투과 모드시 개구율을 개선할 수 있게 된다.

Claims (18)

  1. 기판 상에 서로 직교하는 다수의 게이트 배선 및 데이터 배선과;
    상기 게이트 배선에서 분기한 게이트 전극과;
    상기 데이터 배선에서 분기한 소스 전극 및, 상기 소스 전극과 일정 간격 이격된 드레인 전극과;
    상기 드레인 전극과 연결되는 투과 전극과;
    투과모드시 빛이 통과하는 투과부홀을 포함하는 네 변을 가진 투과영역을 정의하며, 상기 투과부홀의 단차부를 따라 형성된 반사판과;
    상기 투과 전극 상에 형성되며, 액정층을 배향하기 위한 배향막을 포함하되,
    상기 반사판은 상기 투과부홀을 중심으로 상기 투과영역의 네 변으로부터 각각 상기 투과영역의 내측으로 연장되는 네 끝단을 가지면서, 서로 이웃하는 두 변의 끝단의 길이는 같고, 서로 마주보는 두 변의 끝단의 길이는 서로 다른 반사투과형 액정표시장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 반사판은, 서로 마주보는 끝단 각각으로부터 인접한 상기 단차부까지의 거리가 각각 l1, l2의 값을 가지며, l2 > l1인 반사투과형 액정표시장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    l2 - l1 은 1.5 ㎛ 이상인 반사투과형 액정표시장치.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 l2의 거리를 갖는 상기 반사판에 대응되는 상기 배향막은 배향되지 않은 반사투과형 액정표시장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 투과부홀의 액정층의 두께(d1)는 상기 투과부홀 주변의 액정층의 두께(d2)보다 두꺼운 반사투과형 액정표시장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    d1 = 2d2 인 반사투과형 액정표시장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 투과 전극은 투명 도전성 금속 물질로 이루어진 반사투과형 액정표시장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 반사판은 불투명 도전성 금속 물질로 이루어진 반사투과형 액정표시장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 반사판과 상기 투과 전극 사이에 형성된 보호막을 더욱 포함하는 반사투과형 액정표시장치.
  10. 서로 직교하는 게이트 및 데이터 배선과, 상기 게이트 배선에서 분기한 게이트 전극과, 상기 데이터 배선에서 분기한 소스 전극 및 상기 소스 전극에 일정 간격 이격된 드레인 전극과, 단차부를 갖는 투과부홀이 형성된 기판 상에 네 변을 갖는 투과영역으로 연장되어, 상기 단차부를 따라 반사판을 형성하는 단계와;
    상기 반사판 상에 투과 전극을 형성하는 단계와;
    상기 투과 전극 상에 배향막을 도포하고 배향하는 단계를 포함하고;
    상기 배향막의 배향 방향에 따라, 상기 반사판은 상기 투과부홀을 중심으로 상기 투과영역의 네 변으로부터 각각 상기 투과영역의 내측으로 연장되는 네 끝단을 가지면서, 서로 이웃하는 두 변의 끝단의 길이는 같고, 서로 마주보는 두 변의 끝단의 길이는 서로 다른 반사투과형 액정표시장치 제조방법.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 반사판은, 서로 마주보는 끝단 각각으로부터 인접한 상기 단차부까지의 거리가 각각 l1, l2의 값을 가지며, l2 > l1이 되도록 형성되고, 상기 배향막은 l2에서 l2에서 l1 방향에 대응되도록 배향 공정이 진행되는 반사투과형 액정표시장치 제조방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    l2 - l1 은 1.5 ㎛ 이상인 반사투과형 액정표시장치 제조방법.
  13. 제 11 항에 있어서,
    l2의 거리를 갖는 상기 반사판에 대응되는 상기 배향막은 배향 공정시 배향되지 않은 반사투과형 액정표시장치 제조방법.
  14. 제 10 항에 있어서,
    상기 투과부홀의 액정층의 두께(d1)는 상기 투과부홀 주변의 액정층의 두께(d2)보다 두껍게 형성되는 반사투과형 액정표시장치 제조방법.
  15. 제 14 항에 있어서,
    d1 = 2d2 인 반사투과형 액정표시장치 제조방법.
  16. 제 10 항에 있어서,
    상기 투과 전극은 투명 도전성 금속 물질로 이루어진 반사투과형 액정표시장치 제조방법.
  17. 제 10 항에 있어서,
    상기 반사판은 불투명 도전성 금속 물질로 이루어진 반사투과형 액정표시장치 제조방법.
  18. 제 10 항에 있어서,
    상기 반사판과 상기 투과 전극 사이에 보호막을 형성하는 단계를 더욱 포함하는 반사투과형 액정표시장치 제조방법.
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