KR100981648B1 - Testing apparatus of electron semiconductor by hand - Google Patents
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Abstract
본 발명은 수동식 반도체 웨이어 검사장치에 관한 것으로서, 좀더 상세하게는 반도체 웨이퍼를 고정 안착하는 고정대(5)를 전후, 좌우, 상하 이동 조절하면서 프로브(8)의 탐침부(9)에 의해 웨이퍼상의 각 칩을 검사하되, 상기 고정대(5)가 장착되는 상,하부작동대(10)를 렉기어(12)(22)와 회동조절되는 피니언(11)(21)에 의해 전후, 좌우로 이동작동케 구비하고, 또한 상기 고정대(5) 상부로 프로브(8)가 설치되는 검사대(30)를 양측 하단의 나사축(41)(42)과 나사축이 나사결합된 지지바(45)구조에 의해 동시에 나사결합 회전으로 승하강 이동 조절하도록 구성하므로; 반도체 웨이퍼 위치를 수동으로 간편하고 미세하게 이동조절하면서 프로브에 의해 검사하여 작업의 편리성 및 효율성이 우수하게 제공되도록 하는데 그 특징이 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a passive semiconductor wafer inspection apparatus, and more particularly, a probe portion (9) of a probe (8) of a probe (8) on a wafer (5) can be used to adjust the mounting table (5) fixedly seating a semiconductor wafer. Each chip is inspected, and the upper and lower operating tables 10 on which the fixing table 5 is mounted are moved back and forth, left and right by pinions 11 and 21 that are pivotally adjusted with the rack gears 12 and 22. And a test bar 30 on which the probe 8 is installed above the fixing table 5 by means of a support bar 45 in which screw shafts 41 and 42 and screw shafts are screwed on both lower ends. At the same time it is configured to adjust the lifting movement by screwing rotation; It is characterized by inspecting by a probe while manually and precisely adjusting the semiconductor wafer position to provide excellent convenience and efficiency of operation.
반도체, 웨이퍼, 수동식, 검사, 프로브, 전기적 특성, EDS Semiconductor, Wafer, Passive, Inspect, Probe, Electrical Properties, EDS
Description
도 1은 본 발명의 측면도.1 is a side view of the present invention.
도 2는 본 발명의 평면도.2 is a plan view of the present invention.
도 3은 도 1의 요부 확대 단면도.3 is an enlarged cross-sectional view of the main portion of FIG.
도 4는 본 발명 캠 작동부의 작동관계를 보여주는 개념도.4 is a conceptual diagram showing an operation relationship of the cam operating unit of the present invention.
**도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명**** Description of the symbols for the main parts of the drawings **
5: 고정대 7: 현미경부5: holder 7: microscope
8: 프로브 10: 상부 작동대8: probe 10: upper platform
11,21: 피니언 12,22: 렉기어11,21: Pinion 12,22: Legge
15,25: 레일 20: 하부 작동대15,25: rail 20: lower operating platform
30: 검사대 31: 개구공30: inspection table 31: opening hole
41,42: 나사축 45: 지지바41, 42: screw shaft 45: support bar
46: 나사공 47: 스톱핀46: screw hole 47: stop pin
50: 안내관 51: 안내공50: guide 51: guide
본 발명은 반도체 웨이퍼(Wafer)를 구성하는 각 칩의 전기적 특성을 검사, 분석하여 양품, 불량을 판정하는 반도체 웨이퍼 검사장치에 관한 것으로서, 특히 웨이퍼 고정대를 수동식으로 간편하게 전후, 좌우 및 상부 프로브 검사대를 상하로 이동 조절하면서 검사하는 수동식 반도체 웨이어 검사장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a semiconductor wafer inspection apparatus for determining good quality and defects by inspecting and analyzing electrical characteristics of each chip constituting a semiconductor wafer. In particular, the front and rear, left and right upper and upper probe inspection benches can be manually and conveniently It relates to a passive semiconductor wafer inspection apparatus for inspecting while moving up and down.
일반적으로 반도체는 웨이퍼(Wafer) 상에 패턴(pattern)을 형성시키는 패브리케이션(Fabrication)공정과, 패턴이 형성된 웨이퍼를 각각의 칩(Chip)으로 조립하는 어셈블리(Assembly)공정을 통해 제조한다.In general, a semiconductor is manufactured through a fabrication process of forming a pattern on a wafer and an assembly process of assembling the wafer on which the pattern is formed into each chip.
그리고 패브리케이션공정과 어셈블리공정 사이에는 웨이퍼를 구성하고 있는 각각의 칩의 전기적 특성을 검사하는 이디에스(Electrical Die Sorting:이하 'EDS' 라 한다)공정을 수행하게 된다.In addition, between the fabrication process and the assembly process, an electronic die sorting process (hereinafter, referred to as 'EDS') is performed to inspect electrical characteristics of each chip constituting the wafer.
이러한 EDS공정은 웨이퍼를 구성하고 있는 각 칩의 불량 여부를 검사하기 위한 것으로서, 이는 프로브의 탐침부가 각 칩의 패턴(전극패드)에 전기적 신호를 인가시켜 인가된 전기적 신호로부터 체크되는 신호에 의해 불량 여부를 판단하는 검사장치를 주로 이용한다.This EDS process is to check whether each chip constituting the wafer is defective, which is caused by a signal that is checked from the applied electrical signal by applying an electrical signal to the pattern (electrode pad) of each probe. Mainly use the inspection device to determine whether or not.
이러한 EDS공정에서 각 칩의 검사 결과가 양품으로 판정되면, 반도체 웨이퍼는 패키징 등의 후공정에 의해서 완성품으로서 제작된다.If the inspection result of each chip is judged as good in such an EDS process, the semiconductor wafer is manufactured as a finished product by a post process such as packaging.
한편, 상기한 종래의 검사장치는 반도체 웨이퍼가 고정 안착된 고정대를 전 후, 좌우로 이동 조절함과 상부의 프로브 검사대를 상하로 이동 조절하면서 프로브의 니들이 각 칩의 패턴을 검사하게 되는데, 최근의 반도체는 고집적화와 동시에 극소형화로 발전하는 추세이므로 상기와 같이 프로브의 니들이 각 칩의 패턴을 검사하도록 이동조절하는 작동이 매우 불편함은 물론 그에 따른 장치가 전체적으로 비대해 간편하게 사용하기 곤란한 문제점이 있었다.On the other hand, the conventional inspection device before and after the fixed mounting of the fixed mounting semiconductor wafer, and the left and right to adjust the movement of the probe inspection table to move up and down, and the probe needle to examine the pattern of each chip. Since semiconductors tend to be highly integrated and miniaturized at the same time, the operation of moving and adjusting the needle of the probe to check the pattern of each chip as described above is very inconvenient, and there is a problem that the device is large and therefore difficult to use.
본 발명은 상기한 종래 기술이 갖는 제반 문제점을 해결하고자 안출된 것으로서, 웨이퍼가 고정 안착된 고정대를 현미경을 통해 관찰하며 미세조정하되, 수동으로 웨이퍼 고정대를 전후, 좌우 이동조절함과 상부 프로브 검사대를 상하로 이동 조절하면서 작업의 편리성 및 효율성을 극대화하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, while fine-tuning the wafer is fixed to the fixed seat is observed through a microscope, the front and rear, left and right to adjust the wafer guide manually and the upper probe inspection table The purpose is to maximize the convenience and efficiency of work while moving up and down.
상기한 본 발명의 목적은,The object of the present invention described above,
반도체 웨이퍼를 고정 안착하는 고정대를 전후, 좌우, 상하 이동 조절하면서 프로브의 탐침부에 의해 웨이퍼상의 각 칩을 검사하는 것에 있어서,In inspecting each chip on the wafer by the probe section of the probe while adjusting the fixing seat for fixing the semiconductor wafer back and forth, left and right, and up and down,
상기 베이스 상부 중앙에 고정대가 장착되는 상부작동대와 하부작동대를 전후, 좌우로 이동작동케 적층 구비하되, The upper operating base and the lower operating base, which is mounted on the center of the upper base of the base, are provided to be moved to move back and forth, left and right,
상기 상,하부 작동대는 일 측면에 설치된 피니언과 치합되는 렉기어를 설치하여 상기 피니언을 회전작동하는 것에 의해 상기 상하부 작동대를 레일을 따라 좌우, 전후 이동 조절하고,The upper and lower operating tables to adjust the upper and lower operating tables left and right, front and rear movement along the rail by installing a rake gear that is engaged with the pinion installed on one side, by rotating the pinion,
상기 고정대 상부로 프로브가 설치되는 검사대를 상하로 이동작동케 구비하 되, 상기 검사대 양측 하단의 나사축이 동시에 회전작동케 축설되어 그 하부가 지지바의 내부 나사공에 나사결합되어 동시에 나사결합 회전하면서 검사대를 승하강 이동 조절하는 것에 의해 달성된다.It is provided with a test stand to move the probe up and down to the upper portion of the fixing table, the screw shafts on both sides of the lower side of the test stand is arranged to rotate at the same time, the lower portion is screwed into the internal threaded hole of the support bar at the same time screw rotation By adjusting the lifting and lowering movement of the inspection table.
이하, 상기한 본 발명의 목적을 달성하기 위한 바람직한 실시 예를 살펴보기로 한다.Hereinafter, a preferred embodiment for achieving the above object of the present invention will be described.
본 발명의 수동식 반도체 웨이어 검사장치는 도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 베이스(2) 상부에서 반도체 웨이퍼를 고정 안착하는 고정대(5)를 전후, 좌우, 상하 이동 조절하면서 현미경부((7))로 관찰하며 프로브(8)의 탐침부(9)에 의해 반도체 웨이퍼상의 각 칩을 검사하는 것에 있어서,1 to 4, the passive semiconductor wafer inspection apparatus of the present invention is a microscope unit (( 7)) to inspect each chip on the semiconductor wafer by the
상기 베이스(2) 상부 중앙에 고정대(5)가 장착되는 상부작동대(10)와 하부작동대(20)를 전후, 좌우로 이동작동케 적층 구비하되, The upper operating table 10 and the lower operating table 20, which is mounted on the upper center of the
상기 상부 작동대(10)는 일 측면에 피니언(11)과 치합되는 렉기어(12)를 설치하여 상기 피니언을 회전작동하는 것에 의해 레일(15)을 따라 좌우 이동 조절하고,The upper operating table 10 adjusts the left and right movement along the
상기 하부 작동대(20)는 일 측면에 피니언(21)과 치합되는 렉기어(22)를 설치하여 상기 피니언을 회전작동하는 것에 의해 레일(25)을 따라 전후 이동 조절하며,The lower operation table 20 is installed on the side of the
상기 고정대(5) 상부로 중앙의 개구공(31) 측면에 프로브(8)가 설치되는 검사대(30)를 상하로 이동작동케 구비하되, 상기 검사대 양측 하단에는 벨트(43)로 상호 감합된 풀리(41')(42')가 상호 축설된 나사축(41)(42)이 회전가능케 축설되어 그 하부가 지지바(45)의 내부 내사공(46)에 나사결합되어 일측 나사축(41)을 회전작동하는 것에 의해 나사축(41)(42)이 동시에 회전하면서 검사대(30)를 승하강 이동 조절하도록 이루어진다.The
이때, 상기 지지바(45)는 외주연 상하로 일정 길이의 안내공(51)을 형성하는 안내관(50)내부에 삽입하여 그 직경 방향으로 돌출된 스톱핀(47)이 상기 안내관(50)의 안내공(51)에 의해 일정 길이로 승하강 제한되도록 구성하되,At this time, the
상기 지지바(45)의 하단은 일측에 회동손잡이(56)를 갖는 회동축(55)상의 캠작동부(57)하단에 밀착 설치되어 상기 회동축의 회동작동에 의해 승하강 작동하도록 구성된다.The lower end of the
그리고, 상기 검사대(30)의 양측 하단에는 가이드봉(61)과 가이더(62)에 의해 일정한 승하강 작동을 제공하게 구성된다.Then, the lower side of both sides of the inspection table 30 is configured to provide a constant lifting operation by the
또한, 상기 현미경부(7)도 작동손잡이(7a)(7b)의 조작에 의해 현미경을 전후, 좌우로 미세 조절이 가능하게 구성된다.Moreover, the said microscope part 7 is also comprised so that fine adjustment to back, front, and left and right of a microscope by operation of
미설명부호로서, H1, H2, H3는 작동손잡이를 각각 나타내는 것이다.As reference numerals, H1, H2, and H3 represent operating handles, respectively.
다음은 상기와 같이 구성되는 본 발명의 작동 및 작용에 대해 살펴보기로 한다.Hereinafter, the operation and operation of the present invention will be described.
본 발명은 일반적으로 반도체는 웨이퍼(Wafer) 상에 패턴(pattern)을 형성시키는 패브리케이션(Fabrication)공정을 마친 후에 웨이퍼를 구성하는 각 칩의 전기적 특성을 검사하는 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION In general, a semiconductor device inspects electrical characteristics of each chip constituting a wafer after a fabrication process of forming a pattern on the wafer.
먼저, 반도체 웨이퍼를 고정대(5)위에 고정 안착시킨다.First, the semiconductor wafer is fixedly seated on the
이는 상기 진공흡입 방법에 의해 웨이퍼를 고정한다.This fixes the wafer by the vacuum suction method.
이 상태에서 상기 고정대(5)를 검사대(30)의 중앙 개구공(31)으로 상승 및 전후, 좌우 이동조절하면서 웨이퍼상의 각 칩의 패턴에 현미경부(7)로 미세하게 관찰하며 프로브(8)의 탐침부(9)가 전기적 신호를 인가시켜 인가된 전기적 신호로 부터 체크되는 신호에 의해 불량여부를 검사하고, 불량인 것은 마커(미도시)로 체크하므로 제거하게 되는 것이다.In this state, the fixing table 5 is finely observed with the microscope section 7 on the pattern of each chip on the wafer while being moved up and down, left and right, and moved to the
상기 고정대(5)의 이동조절은, 우선 회동손잡이(56)를 파지한 상태로 회동축(55)을 회동시킨다.The movement adjustment of the
이때 상기 회동축(55)상의 캠작동부(57)가 지지바(45)를 지지한 상태에서 지지 해제하면서 지지바(45)가 하강한다.At this time, the
이때 상기 지지바(45)는 그 외측의 스톱핀(47)이 안내관(50)의 안내공(51)에 안내되는 길이 만큼 하강 제어된다.At this time, the
상기와 같이 지지바(45)가 하강되면, 이 하강된 길이 만큼 검사대(30)가 하강한다.When the
이와 같이 상기 회동축(56)과 캠작동부(57)에 의한 하강 제어는 단번에 많은 높낮이를 승하강 조절한다.As described above, the lowering control by the rotating
이와 같이 하강조절된 상태에서 다시 하강 정도를 미세 조절하게 된다.As such, the degree of descent is again finely adjusted in the adjusted state.
이는 상기 작동손잡이(H3)를 파지하여 회동하는 것에 의해 일측 나사축(41)을 회동시키고, 이때 상기 나사축(41)상의 풀리(41')와 타측 나사축(42)상의 풀리(42')가 벨트(43)로 상호 연결되어 연동하면서 타측 나사축(42)도 회동하게 된 다.This rotates one side of the
이와 같이 나사축(41)(42)의 회동은 상기 지지바(45)의 나사공(46)에서 나사결합조절되면서 미세하게 하강 정도를 조절하게 되는 것이다.As such, the rotation of the screw shafts (41) (42) is to adjust the degree of finely while being screwed in the
이와 같이하여 검사대(30)를 하강 조절하는 작업이 완료되면, 상기 웨이퍼 고정대(5)를 전후, 좌우 이동조절하게 되는 것이다.In this way, when the work for adjusting the lowering of the inspection table 30 is completed, the
이는 상기 작동손잡이(H1)를 파지하여 피니언(11)을 회동시키는 것에 의해 상부 작동대(10) 일 측면에 설치된 렉기어(12)가 레일(15)을 따라 좌우 이동하면서 조절되는 것이다.This is controlled by holding the operating handle (H1) by rotating the pinion (11) while moving the left and
그리고, 상기 작동손잡이(H2)를파지하여 피니언(21)을 회동시키는 것에 의해 하부 작동대(20) 일 측면에 설치된 렉기어(22)가 레일(25)을 따라 전후 이동하면서 조절되는 것이다.And, by holding the operation handle (H2) by rotating the pinion (21) is to adjust the
이와 같이하여 상기 반도체 웨이퍼상의 각 칩이 프로브(8)의 탐침부(9)에 정확히 위치시켜 전술한 바와 같은 검사 작업을 행하게 되는 것이다.In this way, each chip on the semiconductor wafer is accurately positioned in the
한편, 본 발명에서 상기 전후, 좌우 조절작동을 먼저 행한 후 상하 조절작동을 행할 수 있으며 이러한 작동순서는 작업의 편리성에 따라 그 선후가 바뀔 수 있음은 물론이다.On the other hand, in the present invention, the front and rear, left and right adjustment operation may be performed first, and then up and down adjustment operation may be performed, and the operation order may be changed according to the convenience of the operation.
이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명의 검사장치는 웨이퍼가 고정 안착된 고정대를 현미경을 통해 관찰하며 미세조정하되, 웨이퍼 고정대를 레크와 피니언에 의해 전후, 좌우로 이동 조절함은 물론 나사축의 나사결합 회동 및 캠작동부의 캠 작동으로 승하강 조절하면서 수동으로 간편하게 이동조절하면서 작업의 편리성 및 효율성이 우수하게 제공되는 효과를 갖는 것이다. As described above, the inspection apparatus of the present invention observes the microstructure of the fixing fixture on which the wafer is fixed and fixed, and adjusts the wafer fixing mechanism back and forth, left and right by the rack and pinion, as well as screw rotation of the screw shaft. The cam operation has the effect that the convenience and efficiency of the operation is excellently provided while manually adjusting the movement of the cam operation while moving up and down.
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2006
- 2006-02-23 KR KR1020060017789A patent/KR100981648B1/en active IP Right Grant
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