KR100974652B1 - Polarization diffraction device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 편광성 회절 소자에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 미세복제방법에 의해 형성된 회절격자 상에 복굴절성 액정편광층을 형성하여 편광성 회절 소자를 제작함으로써 제작 공정이 간단하면서도 소자의 박막화가 가능하도록 하고 액정편광층의 두께를 조절하여 액정편광층에서의 광의 흡수를 감소시킴과 아울러 회절격자의 깊이 및 주기를 조절함으로써 광의 회절각도를 증가시켜 레이저광의 차단효율를 향상시킬 수 있도록 하는 편광성 회절 소자를 제공하기 위한 것이다.The present invention relates to a polarizing diffraction element, and more particularly, by forming a birefringent liquid crystal polarization layer on a diffraction grating formed by a microreplication method to fabricate a polarization diffraction element, the manufacturing process is simple, and the device can be thinned. The polarization diffraction element which reduces the absorption of light in the liquid crystal polarization layer by adjusting the thickness of the liquid crystal polarization layer and increases the diffraction angle of the light by adjusting the depth and period of the diffraction grating to improve the laser beam blocking efficiency It is to provide.

회절, 편광, 상광, 이상광, 광픽업 Diffraction, polarization, normal, abnormal light, optical pickup

Description

편광성 회절소자{Polarization diffraction device}Polarization diffraction device

본 발명은 편광성 회절소자에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 미세복제방법에 의해 형성된 회절격자 상에 복굴절성 액정편광층을 형성함으로써 제작되는 편광성 회절 소자에 관한 것이다. The present invention relates to a polarizing diffraction element, and more particularly to a polarizing diffraction element produced by forming a birefringent liquid crystal polarization layer on a diffraction grating formed by a microreplication method.

레이저광을 이용해서 CD 또는 DVD와 같은 광기록매체에 정보를 기록하거나 광기록매체에 기록된 정보를 읽어 들이는 광헤드장치에는 광기록매체에서 반사된 레이저광이 다시 광원으로 입사되어 광원의 발진상태가 불안정해지고 광원이 손상되는 것을 방지하기 위해 광 아이솔레이터(isolator)의 일종인 편광성 회절 소자가 사용된다.In an optical head device that records information on an optical recording medium such as a CD or a DVD or reads information recorded on the optical recording medium by using laser light, the laser light reflected from the optical recording medium is incident again to the light source and oscillation of the light source. In order to prevent the state from becoming unstable and damaging the light source, a polarizing diffraction element, which is a kind of optical isolator, is used.

편광성 회절 소자는 일방향으로 편광된 선편광의 광만을 선택적으로 회절시키는 광학소자를 의미하는데, 광헤드장치에서는 CD 또는 DVD와 같은 광기록매체에서 반사된 레이저광을 λ/4 위상지연판 등으로 편광을 조절하여 편광성 회절소자에 입사시켜 회절되도록 함으로써 레이저광이 광원으로 입사되는 것을 방지한다.The polarization diffraction element refers to an optical element that selectively diffracts only light of linearly polarized light polarized in one direction. In an optical head device, laser light reflected from an optical recording medium such as CD or DVD is polarized by a λ / 4 phase delay plate or the like. The laser beam is prevented from being incident on the light source by controlling the incident light to be diffracted by entering the polarizing diffraction element.

도 1은 종래의 편광성 회절 소자의 단면도이다. 도 1에 도시된 바와 같이 종래의 편광성 회절 소자(1)는 하부 기판(6), 레이저광을 회절시킬 수 있도록 하부 기판(6) 상에 형성된 돌출부(7) 및 하부 기판(6)과 대향하도록 배치되는 상부 기판(8)을 포함하며, 상부 기판(8)은 돌출부(7) 상에 도포된 접착층(10)에 의해 고정된다. 이때 하부 기판(6)의 상면에는 배향막(11)이 코팅되어 있다.1 is a cross-sectional view of a conventional polarizing diffraction element. As shown in FIG. 1, the conventional polarizing diffraction element 1 faces the lower substrate 6, the protrusions 7 formed on the lower substrate 6 and the lower substrate 6 so as to diffract laser light. And an upper substrate 8, which is arranged to be secured by an adhesive layer 10 applied on the protrusions 7. At this time, the alignment layer 11 is coated on the upper surface of the lower substrate 6.

하부 기판(6) 및 상부 기판(8)은 투광성 재질로 형성됨이 일반적이며, 돌출부(7)는 복굴절성을 갖는 액정으로 형성되는데 배향막(6)에 의해 액정들이 일방향으로 정렬되어 있어서 일방향으로 선편광된 광만을 선택적으로 투과시키게 된다.The lower substrate 6 and the upper substrate 8 are generally formed of a light-transmissive material, and the protrusions 7 are formed of a liquid crystal having birefringence. The liquid crystals are aligned in one direction by the alignment layer 6 so that the polarized light is linearly polarized in one direction. Only light is selectively transmitted.

도 2는 도 1의 편광성 회절 소자의 기능을 설명하기 위한 광헤드장치의 개략적인 구성도이다. 도 2에 도시된 바와 같이 편광성 회절 소자(1)는 광원(2)에서 출사되어 광기록매체(3)로 입사되는 입사광(4)은 회절시키지 않고 그대로 통과시키되, 광기록매체(3)에서 반사되어 되돌아오는 반사광(5)은 회절을 시킴으로써 반사광(5)이 광원(2)으로 다시 입사되는 것을 방지한다. FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an optical head device for explaining the function of the polarization diffraction element of FIG. 1. As shown in FIG. 2, the polarization diffraction element 1 passes through the incident light 4 emitted from the light source 2 and is incident on the optical recording medium 3 without diffraction, but in the optical recording medium 3. The reflected light 5 reflected and returned is diffracted to prevent the reflected light 5 from entering the light source 2 again.

도 3은 도 1의 구성을 갖는 편광성 회절 소자의 제작과정을 도시한 순서도이다. 도 3에 도시된 바와 같이 종래에는 우선 하부 기판(6) 상에 배향막(11)을 코팅하고, 코팅된 배향막(11) 상에 액정층(9)을 형성한 후(S01) 액정층(9)의 일부를 포토 리소그래피 공정 또는 Dry 에칭 공정을 통해 에칭함으로써 돌출부(7)를 형성한다(S02). 이후 돌출부(7)의 보호를 위해 접착층(10)을 도포(S03)한 후 상부 기판(8)을 배치하게 된다(S04).3 is a flowchart illustrating a manufacturing process of a polarization diffraction element having the configuration of FIG. As shown in FIG. 3, the alignment layer 11 is first coated on the lower substrate 6, and then the liquid crystal layer 9 is formed on the coated alignment layer 11 (S01). The protrusion 7 is formed by etching a portion of the photolithography process or a dry etching process (S02). After the application of the adhesive layer 10 for the protection of the protrusions (S03) (S04) to place the upper substrate (8) (S04).

그런데 이와 같은 종래의 편광성 회절 소자에서는 돌출부(7)의 보호를 위해 상부 기판(8)이 필수적으로 사용되는바 소자의 두께가 증가되며, 상부 기판(8)은 접착층(10)에 의해 고정되는바 제작 공정이 복잡해지는 문제점이 있었다. 또한 포토리소그래피 공정의 수행을 위해 고가의 장비가 필요하며, 에칭에 장시간이 소요되는 문제점이 있었다.However, in the conventional polarizing diffraction element, the upper substrate 8 is essentially used for the protection of the protrusions 7 and the thickness of the element is increased, and the upper substrate 8 is fixed by the adhesive layer 10. There was a problem that the bar manufacturing process is complicated. In addition, expensive equipment is required to perform the photolithography process, and a long time is required for etching.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 미세복제방법에 의해 형성된 회절격자 상에 복굴절성 액정편광층을 형성하여 편광성 회절 소자를 제작함으로써 제작 공정이 간단하면서도 소자의 박막화가 가능하도록 하고 액정편광층의 두께를 조절하여 액정편광층에서의 광의 흡수를 감소시킴과 아울러 회절격자의 깊이 및 주기를 조절함으로써 광의 회절각도를 증가시켜 레이저광의 차단효율을 향상시킬 수 있도록 하는 편광성 회절 소자를 제공하기 위한 것이다.The present invention is to solve the above problems, by forming a birefringent liquid crystal polarization layer on the diffraction grating formed by the micro-replication method to produce a polarizing diffraction element to simplify the manufacturing process and to make the device thinner The polarization diffraction element which reduces the absorption of light in the liquid crystal polarization layer by adjusting the thickness of the liquid crystal polarization layer and increases the diffraction angle of the light by adjusting the depth and period of the diffraction grating to improve the blocking efficiency of the laser light. It is to provide.

특히, 본 발명자들은 미세 복제기술을 이용해 회절격자를 제작한 후 회절격자 상에 액정편광층을 형성하되 종래와 달리 회절격자의 상면을 직접 러빙하여 배향처리를 함으로써 별도의 배향막을 사용하지 않고 액정을 배향할 수 있는 방법을 최초로 적용하였다. 따라서 폴리이미드막과 같은 배향막 코팅 공정을 제거함으로써 제작 공정을 간략화 할 수 있고, 재료비 절감 및 원가 절감 효과를 얻을 수 있는 방법을 제공하기 위한 것이다.In particular, the present inventors form a liquid crystal polarization layer on the diffraction grating after fabricating a diffraction grating using a fine replication technique, but unlike the prior art by directly rubbing the top surface of the diffraction grating to perform the alignment process without using a separate alignment film The method that can be oriented was first applied. Therefore, by removing the alignment film coating process, such as polyimide film, it is possible to simplify the manufacturing process, to provide a method that can reduce the material cost and cost reduction effect.

본 발명의 편광성 회절 소자는 교호적으로 형성된 오목부와 볼록부로 구성되는 회절격자를 가지는 투광성 기판; 및 상기 회절격자 상에 형성된 복굴절성 액정편광층;을 포함하는 편광성 회절 소자에 있어서, 상기 회절격자의 표면은 상기 액정편광층의 액정의 장축이 상기 회절격자의 길이 방향과 평행하게 배열될 수 있도 록 배향처리되어 있으며, 상기 오목부의 깊이는 0.5μm ~ 4μm인 것을 특징으로 한다.A polarizing diffraction element of the present invention comprises: a translucent substrate having a diffraction grating composed of alternately formed concave portions and convex portions; And a birefringent liquid crystal polarization layer formed on the diffraction grating, wherein the surface of the diffraction grating may be arranged such that the long axis of the liquid crystal of the liquid crystal polarization layer is parallel to the longitudinal direction of the diffraction grating. It is oriented so that the depth of the recess is characterized in that 0.5 μm to 4 μm .

또한 본 발명의 편광성 회절 소자는 교호적으로 형성된 오목부와 볼록부로 구성되는 회절격자를 가지는 투광성 기판; 상기 회절격자 상에 형성된 배향막; 및 상기 배향막 상에 형성된 복굴절성 액정편광층;을 포함하는 편광성 회절 소자에 있어서, 상기 배향막은 상기 액정편광층의 액정의 장축이 상기 회절격자의 길이 방향과 평행하게 배열될 수 있도록 배향처리되어 있으며, 상기 오목부의 깊이는 0.5μm ~ 4μm인 것을 특징으로 할 수도 있다.In addition, the polarizing diffraction element of the present invention comprises: a translucent substrate having a diffraction grating composed of alternately formed concave portions and convex portions; An alignment film formed on the diffraction grating; And a birefringent liquid crystal polarization layer formed on the alignment layer, wherein the alignment layer is aligned so that the long axis of the liquid crystal of the liquid crystal polarization layer is arranged in parallel with the longitudinal direction of the diffraction grating. And, the depth of the recess may be characterized in that 0.5μm ~ 4μm.

상기 액정편광층의 상광굴절률과 상기 투광성 기판의 굴절률의 차이는 0.012 이하이며, 상기 액정편광층의 이상광굴절률과 상기 투광성 기판의 굴절률의 차이는 0.08 ~ 0.3인 것이 바람직하다.The difference between the refractive index of the liquid crystal polarizing layer and the refractive index of the light transmissive substrate is 0.012 or less, and the difference between the abnormal light refractive index of the liquid crystal polarizing layer and the refractive index of the light transmissive substrate is 0.08 to 0.3.

상기 액정편광층의 이상광굴절률과 상기 투광성 기판의 굴절률의 차이는 0.012 이하이며, 상기 액정편광층의 상광굴절률과 상기 투광성 기판의 굴절률의 차이는 0.08 ~ 0.3인 것이 바람직하다.The difference between the refractive index of the abnormal light refractive index of the liquid crystal polarizing layer and the light transmissive substrate is 0.012 or less, and the difference between the refractive index of the normal light refractive index of the liquid crystal polarizing layer and the light transmissive substrate is 0.08 to 0.3.

상기 투광성 기판은 글래스 기판 및 상기 글래스 기판 상에 배치되며 상기 회절격자가 형성된 등방성 재질의 고분자레진층으로 구성되며, 상기 글래스 기판의 열팽창계수(TG), 고분자레진층의 열팽창계수(TR) 및 액정편광층의 열팽창계수(TLC)는 TR > TLC > TG의 관계를 갖는 것이 바람직하다.The light transmissive substrate is composed of a glass substrate and a polymer resin layer of an isotropic material having the diffraction grating formed on the glass substrate, the coefficient of thermal expansion (T G ) of the glass substrate, the coefficient of thermal expansion (T R ) of the polymer resin layer And the coefficient of thermal expansion (T LC ) of the liquid crystal polarization layer is T R > T LC > It is preferable to have a relationship of T G.

본 발명의 편광성 회절 소자에 의하면, 미세복제방법에 의해 형성된 회절격자 상에 복굴절성 액정편광층을 형성하게 되므로 종래와는 달리 상부기판 및 접착제층이 필요하지 않게 되어 제작 공정이 간단해지고 소자의 박막화를 이룰 수 있게 된다. 또한 회절격자 상에 액정편광층을 형성하되 종래와 달리 회절격자의 상면을 직접 러빙하여 배향처리를 함으로써 별도의 배향막을 사용하지 않고 액정을 배향할 수 있게 되므로 제작 공정을 간략화 할 수 있고, 재료비 절감 및 원가 절감 효과를 얻을 수 있다.According to the polarizing diffraction element of the present invention, since the birefringent liquid crystal polarization layer is formed on the diffraction grating formed by the microreplication method, the upper substrate and the adhesive layer are not required unlike in the prior art, thereby simplifying the manufacturing process and Thinning can be achieved. In addition, the liquid crystal polarization layer is formed on the diffraction grating, but unlike the conventional method, by directly rubbing the top surface of the diffraction grating, the liquid crystal can be aligned without using an additional alignment layer, thereby simplifying the manufacturing process and reducing material costs. And cost reduction effect can be obtained.

이하 도면을 참조하여 본 발명에 대하여 보다 상세히 설명하도록 한다. 도 4 및 도 5는 본 발명에 따른 편광성 회절 소자(21)의 단면도이다. 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 편광성 회절 소자(21)는 회절격자(25)가 형성되어 있는 투광성 기판(22), 투광성 기판(22) 상에 형성되는 배향막(23), 배향막(23) 상에 형성되는 복굴절성의 액정편광층(24)을 포함한다. 도면부호 26은 광투과성을 향상시키기 위한 AR코팅층을 의미한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. 4 and 5 are cross-sectional views of the polarizing diffraction element 21 according to the present invention. As shown in FIGS. 4 and 5, the polarization diffraction element 21 according to the present invention includes a light transmissive substrate 22 having a diffraction grating 25 formed thereon and an alignment film 23 formed on the light transmissive substrate 22. And the birefringent liquid crystal polarizing layer 24 formed on the alignment film 23. Reference numeral 26 denotes an AR coating layer for improving light transmittance.

투광성 기판(22)은 상면에 광을 회절시키기 위한 회절격자(25)가 형성되어 있는 것으로서 글래스와 같은 투광성 재질로 이루어져 있다. 회절격자(25)는 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 교호적으로 형성된 오목부와 볼록부로 구성되는데, 미세복제방법에 의해 형성되는 것이 바람직하다.The light transmissive substrate 22 is formed with a diffraction grating 25 for diffracting light on the upper surface and is made of a light transmissive material such as glass. The diffraction grating 25 is composed of concave portions and convex portions formed alternately as shown in Figs. 4 and 5, and is preferably formed by a microreplication method.

도 6의 그래프는 회절격자(25)의 높이, 즉 오목부의 깊이(d1)에 따른 회절 특성의 균일도를 측정한 결과이다. 회절격자(25)에서는 오목부와 볼록부를 교호적으로 형성하는 제작과정의 어려움으로 인하여 위치에 따라 광의 회절 정도에 차이가 발생할 수 있는데, 이와 같은 회절 정도의 차이는 광의 투과율을 통해 파악할 수 있다. 따라서 본 발명자들은 수학식 1의 형태로 회절 특성의 균일도를 정의하고 회절격자(25)의 깊이에 따른 균일도를 파악하였다. 이때, 최대투과율과 최소투과율은 광의 투과율이 최대인 지점과 최소인 지점에서의 광투과율을 의미한다.6 is a result of measuring the uniformity of diffraction characteristics according to the height of the diffraction grating 25, that is, the depth d1 of the recess. The diffraction grating 25 may have a difference in the degree of diffraction of light depending on the location due to the difficulty in manufacturing the recesses and the convex parts alternately, and the difference in the degree of diffraction may be determined through the light transmittance. Therefore, the present inventors defined the uniformity of the diffraction characteristics in the form of Equation 1 and grasped the uniformity according to the depth of the diffraction grating 25. In this case, the maximum transmittance and the minimum transmittance mean light transmittances at the point where the light transmittance is maximum and at the point where the light transmittance is maximum.

Figure 112008034445990-pat00001
Figure 112008034445990-pat00001

도 6의 그래프에 나타난 바와 같이 회절격자(25)의 깊이가 0.5 ~ 4 μm인 경우에는 97% 이상의 균일도를 보였으나, 회절격자(25)의 깊이가 4μm을 초과하게 되면 균일도가 급격히 감소하기 시작하는 것을 알 수 있다. 따라서 회절격자(25)의 양산성을 확보하기 위해서는 회절격자(25)의 깊이는 0.5 ~ 4 μm인 것이 바람직하 다.As shown in the graph of FIG. 6, when the depth of the diffraction grating 25 is 0.5 to 4 μm , the uniformity was 97% or more. However, when the depth of the diffraction grating 25 exceeds 4 μm , the uniformity is rapidly increased. It can be seen that it begins to decrease. Therefore, in order to ensure mass productivity of the diffraction grating 25, the depth of the diffraction grating 25 is preferably 0.5 ~ 4 μm .

투광성 기판(22)은 도 4에 도시된 바와 같이 단일의 투광성 부재로 형성됨이 일반적이나, 도 5에 도시된 바와 같이 글래스 재질의 기판(30) 상에 등방성 재질의 고분자레진층(31)을 적층하는 방식으로 형성될 수도 있다. 고분자레진층(31)은 UV 경화성 레진 또는 열 경화성 레진 등으로 형성됨이 일반적이다. The light transmissive substrate 22 is generally formed of a single light transmissive member as shown in FIG. 4, but the polymer resin layer 31 of isotropic material is laminated on the glass substrate 30 as shown in FIG. 5. It may be formed in a way. The polymer resin layer 31 is generally formed of UV curable resin or thermosetting resin.

이때 글래스 기판(30)의 열팽창계수(TG), 고분자레진층(31)의 열팽창계수(TR) 및 이후에서 설명될 액정편광층(24)의 열팽창계수(TLC)는 TR > TLC > TG의 관계를 갖도록 함으로써 소자의 동작 및 주변 환경에 의해 발생하는 열에 의해 적층 구조에서 발생될 수 있는 열적 변형을 최소화하는 것이 바람직하다.In this case, the thermal expansion coefficient T G of the glass substrate 30, the thermal expansion coefficient T R of the polymer resin layer 31, and the thermal expansion coefficient T LC of the liquid crystal polarization layer 24 to be described later are T R. > T LC > By having a relationship of T G , it is desirable to minimize thermal deformations that may occur in the laminate structure by heat generated by the operation of the device and the surrounding environment.

회절격자(25)의 표면에는 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 폴리 이미드(polyimid) 등으로 이루어진 배향막(23)이 형성되는데, 배향막(23)은 액정편광층(24)에 포함된 액정들을 일정 방향으로 정렬시킬 수 있도록 배향처리된다. 배향처리는 러빙롤 등을 사용하여 배향막(23)을 러빙하는 방식으로 이루어지는 것이 일반적이다. 이때 본 발명에서는 러빙방향이 회절격자(25)의 길이 방향과 평행이 되도록 함으로써 액정들의 장축이 회절격자(25)의 길이 방향과 평행한 방향으로 정렬될 수 있도록 하여 균일한 배향막(23) 형성을 이룰 수 있도록 한다.On the surface of the diffraction grating 25, an alignment film 23 made of polyimide or the like is formed on the surface of the diffraction grating 25. The alignment film 23 is a liquid crystal contained in the liquid crystal polarization layer 24. Oriented to align them in a certain direction. The alignment treatment is generally performed by rubbing the alignment film 23 using a rubbing roll or the like. In this case, the rubbing direction is parallel to the longitudinal direction of the diffraction grating 25 so that the long axes of the liquid crystals can be aligned in a direction parallel to the longitudinal direction of the diffraction grating 25 to form a uniform alignment layer 23. Make it happen.

액정편광층(24)의 액정들의 정렬은 도 4의 실시예와 같이 배향처리된 배향막(23)에 의해 이루어질 수도 있으나, 배향막(23)을 사용하지 않고 회절격자(25)의 표면을 직접 배향처리하는 방법으로 이루어질 수도 있다. 도 7 및 도 8은 배향 막(23)을 사용하지 않고 배향처리가 된 회절격자(25) 상에 직접 액정편광층(24)이 형성된 상태를 도시한 것이다. 이와 같이 배향막(23)을 사용하지 않고 회절격자(25)의 상면에 배향처리를 하게 되면 제작 공정이 간소화 및 제작 비용의 감소를 이룰 수 있고, 장치의 두께를 줄일 수 있게 된다.Alignment of the liquid crystals of the liquid crystal polarization layer 24 may be made by the alignment film 23 oriented as in the embodiment of FIG. 4, but the surface of the diffraction grating 25 is directly aligned without using the alignment film 23. It can also be done in a way. 7 and 8 illustrate a state in which the liquid crystal polarization layer 24 is directly formed on the diffraction grating 25 subjected to the alignment treatment without using the alignment film 23. As such, when the alignment process is performed on the top surface of the diffraction grating 25 without using the alignment layer 23, the fabrication process may be simplified and the fabrication cost may be reduced, and the thickness of the apparatus may be reduced.

이하에서는 설명의 편의상 투광성 기판(22) 상에 배향막(23)을 형성하고 배향막(23)에 배향처리를 한 경우를 기준으로 설명하도록 하지만 이는 배향막(23)을 사용하지 않고 직접 회절격자(25)의 표면에 배향처리를 경우도 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Hereinafter, for convenience of description, a case where the alignment layer 23 is formed on the light transmissive substrate 22 and the alignment treatment is performed on the alignment layer 23 will be described based on the case where the diffraction grating 25 is not directly used without the alignment layer 23. It should be understood that the case also includes an orientation treatment on the surface of the substrate.

배향처리된 배향막(23) 또는 회절격자(25) 상에 액체 상태의 액정을 도포하면 액정들의 장축은 회절격자(25)의 길이 방향과 평행한 방향으로 정렬된다. 따라서 액정편광층(24)은 일방향으로 편광된 광에 대해서는 상광굴절률(no)을 가지며 상기 일방향과 직각을 이루는 방향으로 편광된 광에 대해서는 이상광굴절률(ne)을 갖는다.When the liquid crystal in the liquid state is applied onto the alignment-oriented alignment film 23 or the diffraction grating 25, the long axes of the liquid crystals are aligned in a direction parallel to the longitudinal direction of the diffraction grating 25. Therefore, the liquid crystal polarization layer 24 has an image refractive index no for light polarized in one direction and an abnormal light refractive index ne for light polarized in a direction perpendicular to the one direction.

예를 들어, 광이 Z축을 따라 진행하는 경우 액정편광층(24)이 X축 방향으로 편광된 광에 대해서 상광 굴절률을 갖는다면, Y축 방향으로 편광된 광에 대해서는 이상광굴절률을 갖게 된다. 만일 Y축 방향으로 편광된 광에 대해서 액정편광층(24)이 상광 굴절률을 갖는 경우라면 X축 방향으로 편광된 광에 대해서는 이상광굴절률을 갖게 된다. 이때 이상광굴절률은 상광굴절률보다 큰 값을 갖는 것이 바람직하다.For example, when the light travels along the Z-axis, if the liquid crystal polarization layer 24 has an ordinary light refractive index with respect to the light polarized in the X-axis direction, the light polarization has an abnormal light refractive index with respect to the light polarized in the Y-axis direction. If the liquid crystal polarization layer 24 has an ordinary refractive index with respect to the light polarized in the Y-axis direction, it has an abnormal light refractive index with respect to the light polarized in the X-axis direction. At this time, the abnormal light refractive index preferably has a larger value than the normal light refractive index.

이하에서는 상기와 같은 구성을 갖는 편광성 회절 소자(21)에서의 회절 과정을 설명하도록 한다. Hereinafter, the diffraction process of the polarization diffraction element 21 having the above configuration will be described.

이때 설명의 편의상 액정편광층(24)이 상광굴절률을 갖게 되는 방향으로 편광된 광을 ‘보통광선’이라 하며, 이상광굴절률을 갖게 되는 방향으로 편광된 광을 ‘이상광선’이라고 한다. At this time, the light polarized in the direction in which the liquid crystal polarization layer 24 has an ordinary refractive index is called "normal light", and the light polarized in the direction in which the liquid crystal polarization layer 24 has an abnormal light refractive index is called "ideal light".

또한 광원에서 출사되어 투광성 기판(22)을 통해 입사되는 광은 입사광(40)으로 호칭하며, 입사광(40)과는 반대로 액정편광층(24)을 통해 입사되는 광은 반사광(41)으로 호칭하도록 한다. 이때 반사광(41)은 편광성 회절 소자(21)를 투과한 입사광(40)이 CD 또는 DVD 등의 광기록매체에서 반사된 후 되돌아오는 것으로서, 광경로상에 위치한 다양한 광학필름을 거치면서 편광의 방향이 입사광(40)과는 직각을 이루도록 조절된 광을 의미한다.In addition, light emitted from the light source and incident through the light transmissive substrate 22 is referred to as incident light 40, and light incident through the liquid crystal polarization layer 24 as opposed to incident light 40 is referred to as reflected light 41. do. At this time, the reflected light 41 is returned after the incident light 40 transmitted through the polarization diffraction element 21 is reflected from an optical recording medium such as a CD or a DVD. The light is adjusted to have a direction perpendicular to the incident light 40.

본 발명은 일방향으로 편광된 선편광의 입사광(40)은 회절을 시키지 않고 그대로 통과를 시키지만 입사광(40)의 편광 방향과 직각을 이루는 방향으로 편광된 반사광(41)은 회절을 시킴으로써 반사광(41)이 광원으로 입사되는 것을 방지하는 것을 목적으로 한다.According to the present invention, the incident light 40 of the linearly polarized light polarized in one direction passes through without diffraction, but the reflected light 41 polarized in the direction perpendicular to the polarization direction of the incident light 40 is diffracted so that the reflected light 41 is diffracted. It aims at preventing incident to a light source.

따라서 입사광(40)은 회절격자(25)를 인지할 수 없고 반사광(41)만이 회절격자(25)를 인지하도록 하여야 하는데, 이는 투광성 기판(22)의 굴절률을 조절함으로써 이룰 수 있다. Therefore, the incident light 40 cannot recognize the diffraction grating 25 and only the reflected light 41 should recognize the diffraction grating 25, which can be achieved by adjusting the refractive index of the light transmissive substrate 22.

투광성 기판(22)의 굴절률이 액정편광층(24)의 상광굴절률과 동일한 상태에서 보통광선의 특성을 갖는 입사광(40)이 입사된다면 입사광(40)의 입장에서는 투 광성 기판(22)과 액정편광층(24)의 굴절률이 동일하므로 회절격자(25)를 인지하게 못하게 되고 그 결과 회절이 발생하지 않고 그대로 투과를 하게 된다. 그러나 반사광(41)은 입사광(40)의 편광 방향과 직각을 이루는 방향으로 편광된 광으로서 이상광선의 특성을 갖게 된다. 따라서 반사광(41)의 입장에서는 액정편광층(24)의 굴절률은 이상광굴절률의 값을 갖게 되므로 액정편광층(24)과 투광성 기판(22)의 굴절률이 달라지게 되므로 반사광(41)은 회절격자(25)를 인지하게 되고 그 결과 회절이 발생된다.If the incident light 40 having the characteristic of normal light is incident when the refractive index of the light transmissive substrate 22 is the same as the normal refractive index of the liquid crystal polarization layer 24, the light transmissive substrate 22 and the liquid crystal polarization are in view of the incident light 40. Since the refractive indices of the layers 24 are the same, the diffraction grating 25 may not be recognized, and as a result, the diffraction does not occur and the transmission is performed as it is. However, the reflected light 41 is polarized light in a direction perpendicular to the polarization direction of the incident light 40 and has the characteristic of the abnormal light beam. Therefore, since the refractive index of the liquid crystal polarization layer 24 has an abnormal light refractive index in the position of the reflected light 41, the refractive indexes of the liquid crystal polarization layer 24 and the light transmissive substrate 22 are different, so that the reflected light 41 has a diffraction grating. (25) is recognized, and as a result diffraction occurs.

이때 상기에서 설명한 바와 같이 투과성 기판(22)의 굴절률은 상광굴절률과 동일한 값을 갖는 것이 이상적이지만, 투광성 기판(22) 및 액정편광층(24)으로 사용될 수 있는 물질의 종류는 제한적일 수 밖에 없으므로 투광성 기판(22)과 액정편광층(24)의 굴절률을 일치시키는 것은 많은 노력이 요구된다. 따라서 해당 기술분야에서 요구되는 사양이 만족되는 범위 내에서 굴절률을 조절할 필요가 있다. 이하에서는 투광성 기판(22)의 굴절률을 1.51로 가정한 상태에서 입사광(40)의 95% 이상을 통과시킬 수 있는 액정편광층(24)의 상광 굴절률의 범위를 한정하도록 한다. In this case, as described above, the refractive index of the transparent substrate 22 is ideal to have the same value as the ordinary refractive index, but the type of materials that can be used as the transparent substrate 22 and the liquid crystal polarizing layer 24 is limited, and thus is transparent. Matching the refractive indices of the substrate 22 and the liquid crystal polarizing layer 24 requires much effort. Therefore, it is necessary to adjust the refractive index within the range that the specifications required in the art. Hereinafter, the range of the normal light refractive index of the liquid crystal polarization layer 24 which can pass 95% or more of the incident light 40 under the assumption that the refractive index of the light transmissive substrate 22 is 1.51 is defined.

도 9는 투광성 기판(22)의 굴절률이 1.51이며, 액정편광층(24)의 상광 굴절률은 1.523인 경우 입사광(40)의 투과율을 오목부의 깊이(d1)에 따라 나타낸 그래프이며, 도 10은 상광 굴절률이 1.522인 경우의 그래프이다. 이때 오목부의 깊이(d1)는 상기에서 설명한 바와 같이 제품의 양산성 확보를 위하여 4μm 이하로 유지하였다.FIG. 9 is a graph showing the transmittance of the incident light 40 according to the depth d1 of the concave portion when the refractive index of the light transmissive substrate 22 is 1.51 and the image refractive index of the liquid crystal polarization layer 24 is 1.523. This is a graph when the refractive index is 1.522. At this time, the depth (d1) of the recessed portion was maintained at 4 μm or less to ensure mass productivity of the product as described above.

도 10에 나타난 바와 같이 상광 굴절률이 1.523인 경우에는 오목부의 깊 이(d1)가 2.2μm을 초과하게 되면 입사광(40)의 투과율은 95% 미만으로 감소되는 것을 알 수 있다. 그러나 도 11에 나타난 바와 같이 상광 굴절률을 더욱 작게 하여 1.522가 되도록 하여 투광성 기판(22)과의 굴절률 차이가 0.012가 되도록 하면 오목부의 깊이(d1)가 0.1 ~ 4μm인 범위에서 입사광(40)의 투과율은 95% 이상이 되는 것을 알 수 있다. 따라서 입사광(40)의 95% 이상이 투과될 수 있도록 하기 위해서는 투광성 기판(22)의 굴절률과 액정편광층(24)의 상광 굴절률의 차이는 0.012 이하이어야 함이 바람직하다.As shown in FIG. 10, when the normal refractive index is 1.523, when the depth d1 of the concave portion exceeds 2.2 μm , the transmittance of the incident light 40 decreases to less than 95%. However, as shown in FIG. 11, when the image refractive index is further reduced to 1.522 so that the difference in refractive index from the light transmissive substrate 22 is 0.012, the incident light 40 in the range where the depth d1 of the concave portion is 0.1 to 4 μm . It is seen that the transmittance of 95% or more. Therefore, in order to allow 95% or more of the incident light 40 to be transmitted, the difference between the refractive index of the light transmissive substrate 22 and the normal light refractive index of the liquid crystal polarizing layer 24 should be 0.012 or less.

이상에서는 입사광(40)의 95% 이상을 투과시키는 상광굴절률의 범위를 한정하였다. 그런데 편광성 회절 소자(21)는 그 목적상 입사광(40)에 대해 높은 투과율을 보임과 동시에 반사광(41)은 효율적으로 회절시킬 수 있어야 하는바 이하에서는 반사광(41)의 95% 이상을 회절시킬 수 있는 액정편광층(24)의 이상광굴절률의 범위를 한정하도록 한다.In the above, the range of the normal refractive index which transmits 95% or more of incident light 40 is limited. However, the polarization diffraction element 21 must exhibit high transmittance with respect to the incident light 40 for the purpose, and at the same time, the reflected light 41 should be able to be diffracted efficiently. Hereinafter, 95% or more of the reflected light 41 will be diffracted. The range of the abnormal light refractive index of the liquid crystal polarizing layer 24 which can be made is limited.

도 11은 반사광(41)의 투과율(%)을 회절격자(25)의 오목부의 깊이(d1)에 따라 나타낸 그래프로서, 액정편광층(24)의 이상광굴절률은 투광성 기판(22)의 굴절률과 0.07의 차이를 갖는 경우를 나타낸 것이다.FIG. 11 is a graph showing the transmittance (%) of the reflected light 41 according to the depth d1 of the concave portion of the diffraction grating 25. The abnormal refractive index of the liquid crystal polarization layer 24 is determined by the refractive index of the light transmissive substrate 22. The case with a difference of 0.07 is shown.

도 11에 나타난 바와 같이 반사광(41)의 투과율은 오목부의 깊이(d1)가 깊어질수록 감소된다. 그러나 투과율이 최소인 경우, 즉, 반사광(41)의 회절이 최대인 d1=4μm의 경우에도 투과율은 약 6%에 이르게 되므로 이는 반사광(41)의 약 94%만이 회절에 의해 차단된다는 것을 의미하므로, 편광성 회절 소자(21) 분야에서 일반 적으로 요구되는 회절률인 95%에는 이르지 못한다. 따라서 회절률이 95% 이상이 되기 위해서는 굴절률의 차이가 0.07을 초과하여야 함을 알 수 있다.As shown in FIG. 11, the transmittance of the reflected light 41 decreases as the depth d1 of the recess increases. However, even when the transmittance is minimum, i.e., when the diffraction of the reflected light 41 is d1 = 4 μm , the transmittance reaches about 6%, indicating that only about 94% of the reflected light 41 is blocked by diffraction. Therefore, the diffraction rate generally required in the field of the polarization diffraction element 21 does not reach 95%. Therefore, it can be seen that the difference in refractive index must exceed 0.07 in order for the diffraction rate to be 95% or more.

도 12는 굴절률의 차이가 0.08인 경우의 반사광(41)의 투과율을 나타낸 그래프이며, 도 13과 도 14는 각각 굴절률의 차이가 0.2 및 0.3인 경우의 그래프이다.12 is a graph showing the transmittance of the reflected light 41 when the difference in refractive index is 0.08, and FIGS. 13 and 14 are graphs when the difference in refractive index is 0.2 and 0.3, respectively.

도 12에 나타난 바와 같이 굴절률의 차이가 0.08인 경우에는 오목부의 깊이(d1)가 3.56 ~ 4μm인 범위에서 5% 이하의 투과율을 보였는바 95% 이상의 반사광(41)이 회절되고 있음을 알 수 있다. 따라서 투광성 기판(22)의 굴절률과 액정편광층(24)의 이상광굴절률은 0.08 이상 차이가 나는 것이 바람직함을 알 수 있다.As shown in FIG. 12, when the difference in refractive index was 0.08, the transmittance of the concave portion (d1) showed a transmittance of 5% or less in the range of 3.56 to 4 μm , indicating that 95% or more of the reflected light 41 was diffracted. Can be. Therefore, it can be seen that the refractive index of the light transmissive substrate 22 and the abnormal light refractive index of the liquid crystal polarization layer 24 are different by 0.08 or more.

도 13에서는 오목부의 깊이(d1)가 1.38 ~ 2μm인 범위에서 5% 이하의 투과율을 보였는바, 굴절률의 차이가 커질수록 반사광(41)의 95% 이상을 회절시킬 수 있는 오목부의 깊이(d1)의 범위가 늘어나는바 회절격자(25)의 제작의 용이성이 증대됨을 알 수 있다.In FIG. 13, the depth d1 of the concave portion showed a transmittance of 5% or less in the range of 1.38 to 2 μm. As the difference in refractive index increases, the depth of the concave portion that can diffract 95% or more of the reflected light 41 ( As the range of d1) increases, it can be seen that the ease of fabrication of the diffraction grating 25 is increased.

도 14는 굴절률의 차이가 0.3 이상인 경우로서 오목부의 깊이(d1)가 0.9 ~ 1.3μm인 범위 및 3.11 ~ 3.55μm인 범위에서 요구되는 투과율을 보임을 알 수 있다. 14 shows that the difference in refractive index is 0.3 or more, and the depth d1 of the concave portion shows the required transmittance in the range of 0.9 to 1.3 μm and the range of 3.11 to 3.55 μm .

이상에서 설명한 바와 같이 반사광(41)의 95% 이상을 회절시키기 위해서는 투광성 기판(22)의 굴절률과 액정편광층(24)의 이상광굴절률의 차이는 0.08 ~ 0.3인 것이 바람직하다.As described above, in order to diffract 95% or more of the reflected light 41, the difference between the refractive index of the translucent substrate 22 and the abnormal light refractive index of the liquid crystal polarizing layer 24 is preferably 0.08 to 0.3.

이상에서는 입사광(40)이 보통광선의 특징을 갖고 반사광(41)은 이상광선의 특징을 갖는 경우를 기준으로 설명하였으나, 이는 입사광(40)이 이상광선의 특성을 갖고 반사광(41)이 보통광선의 특성을 갖는 경우에도 동일하게 발생된다. 다만 이 경우에는 투광성 기판(22)의 굴절률과 액정편광층(24)의 상광 굴절률의 차이는 0.08 _ 0.3인 것이 바람직하며, 액정편광층(24)의 이상광굴절률과 투광성 기판(22)의 굴절률의 차이는 0.012 이하인 것이 바람직하다.In the above description, the incident light 40 has the characteristics of the normal light and the reflected light 41 has the characteristic of the abnormal light. However, the incident light 40 has the characteristic of the abnormal light, and the reflected light 41 has the normal light. The same also occurs in the case of having the characteristics of. In this case, however, the difference between the refractive index of the light transmissive substrate 22 and the normal light refractive index of the liquid crystal polarization layer 24 is preferably 0.08 _ 0.3, and the abnormal light refractive index of the liquid crystal polarization layer 24 and the refractive index of the light transmissive substrate 22 are preferable. The difference is preferably 0.012 or less.

이하에서는 본 발명에 따른 편광성 회절 소자(21)의 제작 방법에 대하여 설명하도록 한다. 도 15는 본 발명에 따른 편광성 회절 소자(21)의 제작 방법을 나타낸 순서도이다. Hereinafter, a method of manufacturing the polarizing diffraction element 21 according to the present invention will be described. 15 is a flowchart illustrating a method of manufacturing the polarizing diffraction element 21 according to the present invention.

편광성 회절 소자(21)의 제작 과정은 회절격자 형성과정(S11), 배향막 코팅과정(S12), 배향처리 과정(S13), 액정편광층 형성과정(S14), 액정편광층 경화과정(S15) 및 AR코팅층 형성과정(S16)을 포함한다. The fabrication process of the polarization diffraction element 21 is performed by forming a diffraction grating (S11), by coating an alignment layer (S12), by an alignment treatment (S13), by forming a liquid crystal polarization layer (S14), and by curing a liquid crystal polarization layer (S15). And AR coating layer forming process (S16).

회절격자(25)는 도 15에 도시된 바와 같이 회절격자(25)의 형상에 대응되는 격자성형패턴이 형성된 마스터(50)로 투광성 기판(22)을 가압하여 형성하게 된다(S11). 이와 같이 마스터(50)로 가압하는 방식으로 회절격자(25)를 제작하게 되면 포토 리소그래피 공정을 통해 액정층을 에칭하던 종래의 방식에 비해 고가의 장비를 사용하지 않으면서 간단하게 회절격자(25)를 형성할 수 있게 된다.As shown in FIG. 15, the diffraction grating 25 is formed by pressing the light transmissive substrate 22 to the master 50 having the lattice forming pattern corresponding to the shape of the diffraction grating 25 (S11). When the diffraction grating 25 is manufactured in such a manner as to press the master 50, the diffraction grating 25 can be easily used without using expensive equipment compared to the conventional method of etching the liquid crystal layer through a photolithography process. Can be formed.

회절격자(25)가 형성되면 회절격자(25)상에 배향막(23)을 박막 코팅하고(S12), 러빙롤(51)로 배향막(23)을 러빙하여 배향처리를 한다(S13). 이때 상기에서 설명한 바와 같이 배향막(23)을 사용하지 않고 회절격자(25)의 표면을 직접 러 빙하여 배향처리를 할 수도 있다.When the diffraction grating 25 is formed, a thin film of the alignment layer 23 is coated on the diffraction grating 25 (S12), and the alignment layer 23 is rubbed with a rubbing roll 51 to perform alignment treatment (S13). In this case, as described above, the alignment process may be performed by directly rubbing the surface of the diffraction grating 25 without using the alignment layer 23.

배향처리가 완료되면 회절격자(25) 상에 액체상태의 액정을 도포하여 액정편광층(24)을 형성한다(S14). 이때 입사광(40)이 액정편광층(24)에서 과도하게 흡수되는 것을 방지하기 위하여 회절격자(25)의 볼록부 상에 형성되는 액정편광층의 두께(d2)는 3μm 이하가 가 되도록 하는 것이 바람직하다.When the alignment process is completed, a liquid crystal in a liquid state is coated on the diffraction grating 25 to form a liquid crystal polarizing layer 24 (S14). In this case, in order to prevent the incident light 40 from being excessively absorbed by the liquid crystal polarization layer 24, the thickness d2 of the liquid crystal polarization layer formed on the convex portion of the diffraction grating 25 is 3 μm or less. It is preferable.

도포된 액정편광층(24)은 UV 또는 열 등을 사용하여 경화시키게 되며(S15), 액정편광층(24)의 경화가 완료되면 투광성 기판(22)의 하면 및 액정편광층(24)의 상면에 AR코팅층을 형성한다(S16).The coated liquid crystal polarization layer 24 is cured using UV or heat (S15), and when curing of the liquid crystal polarization layer 24 is completed, the lower surface of the light transmissive substrate 22 and the upper surface of the liquid crystal polarization layer 24 are applied. An AR coating layer is formed on (S16).

도 1은 광헤드장치의 개략적인 구성도.1 is a schematic configuration diagram of an optical head device.

도 2는 종래의 편광성 회절 소자의 단면도.2 is a cross-sectional view of a conventional polarizing diffraction element.

도 3은 종래의 편광성 회절 소자의 제작과정의 순서도.Figure 3 is a flow chart of the manufacturing process of the conventional polarizing diffraction element.

도 4는 본 발명에 따른 편광성 회절 소자의 단면도.4 is a cross-sectional view of the polarizing diffraction element according to the present invention.

도 5는 본 발명에 따른 편광성 회절 소자의 단면도.5 is a cross-sectional view of the polarizing diffraction element according to the present invention.

도 6은 오목부의 깊이에 따른 회절 특성의 균일도를 나타내는 그래프.6 is a graph showing uniformity of diffraction characteristics with depth of a recess.

도 7은 본 발명에 따른 편광성 회절 소자의 단면도.7 is a cross-sectional view of the polarizing diffraction element according to the present invention.

도 8은 본 발명에 따른 편광성 회절 소자의 단면도.8 is a cross-sectional view of the polarizing diffraction element according to the present invention.

도 9는 내지 도 14는 편광성 회절 소자의 광 투과율을 도시한 그래프.9 to 14 are graphs showing the light transmittance of the polarization diffraction element.

도 15는 본 발명에 따른 편광성 회절 소자의 제작 과정을 도시한 순서도.15 is a flowchart illustrating a manufacturing process of the polarization diffraction element according to the present invention.

<도면의 주요 부호에 대한 간단한 설명><Brief description of the major symbols in the drawings>

21 : 편광성 회절 소자 22 : 투광성 기판21 polarizing diffraction element 22 light transmitting substrate

23 : 배향막 24 : 액정편광층23 alignment film 24 liquid crystal polarizing layer

25 : 회절격자 26 : AR코팅층25 diffraction grating 26 AR coating layer

30 : 글래스 기판 31 : 고분자레진층30 glass substrate 31 polymer resin layer

40 : 입사광 41 : 반사광40: incident light 41: reflected light

50 : 마스터 51 : 러빙롤50: master 51: rubbing roll

Claims (8)

투광성　기판과　상기 투광성 기판 상에 배치되며 교호적으로 형성된 오목부와 볼록부로 구성되는 회절격자가 형성된 등방성 재질의 고분자레진층 및 상기 회절격자 상에 형성된 복굴절성 액정편광층을 포함하는 편광성 회절 소자에 있어서, A polarizing diffraction element comprising a light-transmissive substrate and a polymer resin layer of an isotropic material having a diffraction grating composed of concave and convex portions alternately formed on the light-transmissive substrate and a birefringent liquid crystal polarizing layer formed on the diffraction grating. To 상기 회절격자의 표면은 상기 액정편광층의 액정의 장축이 상기 회절격자의 길이 방향과 평행하게 배열될 수 있도록 배향처리되어 있으며,The surface of the diffraction grating is aligned so that the major axis of the liquid crystal of the liquid crystal polarization layer may be arranged in parallel with the longitudinal direction of the diffraction grating. 상기 오목부의 깊이는 0.5μm ~ 4μm인 것을 특징으로 하는 편광성 회절소자. The depth of the concave portion is a polarizing diffraction element, characterized in that 0.5μm ~ 4μm. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 액정편광층의 상광굴절률과 상기 투광성 기판의 굴절률의 차이는 0.012 이하이며, 상기 액정편광층의 이상광굴절률과 상기 투광성 기판의 굴절률의 차이는 0.08 ~ 0.3인 것을 특징으로 하는 편광성 회절 소자.The difference between the refractive index of the normal light refractive index of the liquid crystal polarizing layer and the light transmissive substrate is 0.012 or less, the difference between the refractive index of the abnormal light refractive index of the liquid crystal polarizing layer and the light transmissive substrate is 0.08 ~ 0.3. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 액정편광층의 이상광굴절률과 상기 투광성 기판의 굴절률의 차이는 0.012 이하이며, 상기 액정편광층의 상광굴절률과 상기 투광성 기판의 굴절률의 차이는 0.08 ~ 0.3인 것을 특징으로 하는 편광성 회절 소자.The difference between the refractive index of the abnormal light refractive index of the liquid crystal polarizing layer and the light transmissive substrate is 0.012 or less, and the difference between the normal light refractive index of the liquid crystal polarizing layer and the refractive index of the light transmissive substrate is 0.08 to 0.3. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,4. The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 투광성 기판은 글래스 기판 및 상기 글래스 기판 상에 배치되며 상기 회절격자가 형성된 등방성 재질의 고분자레진층으로 구성되며,The light transmissive substrate is composed of a glass substrate and a polymer resin layer of isotropic material formed on the glass substrate and the diffraction grating is formed, 상기 글래스 기판의 열팽창계수(TG), 고분자레진층의 열팽창계수(TR) 및 액정편광층의 열팽창계수(TLC)는 TR > TLC > TG의 관계를 갖는 것을 특징으로 하는 편광성 회절 소자. The thermal expansion coefficient (T G ) of the glass substrate, the thermal expansion coefficient (T R ) of the polymer resin layer, and the thermal expansion coefficient (T LC ) of the liquid crystal polarization layer are T R. > T LC > A polarizing diffraction element having a relationship of T G. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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