KR100963414B1 - Liquid Crystal Display Device And Fabricating Method thereof - Google Patents

Liquid Crystal Display Device And Fabricating Method thereof Download PDF

Info

Publication number
KR100963414B1
KR100963414B1 KR1020030038816A KR20030038816A KR100963414B1 KR 100963414 B1 KR100963414 B1 KR 100963414B1 KR 1020030038816 A KR1020030038816 A KR 1020030038816A KR 20030038816 A KR20030038816 A KR 20030038816A KR 100963414 B1 KR100963414 B1 KR 100963414B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
signal
link
gate
repair pattern
liquid crystal
Prior art date
Application number
KR1020030038816A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20040108075A (en
Inventor
신철상
김현태
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020030038816A priority Critical patent/KR100963414B1/en
Publication of KR20040108075A publication Critical patent/KR20040108075A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100963414B1 publication Critical patent/KR100963414B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1345Conductors connecting electrodes to cell terminals
    • G02F1/13452Conductors connecting driver circuitry and terminals of panels
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1306Details
    • G02F1/1309Repairing; Testing
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1345Conductors connecting electrodes to cell terminals
    • G02F1/13458Terminal pads

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명은 링크의 오픈시 용이하게 리페어 할 수 있는 액정표시소자 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same that can be easily repaired when the link is opened.

본 발명은 신호라인과; 상기 신호라인에 구동신호를 공급하는 신호패드와; The present invention is a signal line; A signal pad for supplying a driving signal to the signal line;

상기 신호패드와 상기 신호라인을 연결하며 그 접속위치에 따라 지그재그형태로 형성되는 신호링크와; 상기 신호링크와 절연막을 사이에 두고 상기 신호링크와 교차하게 형성되어 리페어시 광빔에 의해 신호링크와 접속되는 리페어 패턴을 구비하는 것을 특징으로 한다.
A signal link connecting the signal pad and the signal line and formed in a zigzag shape according to a connection position thereof; And a repair pattern formed to intersect the signal link with the signal link and the insulating layer interposed therebetween and connected to the signal link by a light beam during repair.

Description

액정표시소자 및 그 제조방법{Liquid Crystal Display Device And Fabricating Method thereof} Liquid crystal display device and its manufacturing method {Liquid Crystal Display Device And Fabricating Method             

도 1은 종래의 액정표시소자를 나타내는 평면도.1 is a plan view showing a conventional liquid crystal display device.

도 2는 도 1에 도시된 액정표시소자의 링크를 확대하여 나타내는 평면도.FIG. 2 is an enlarged plan view of a link of the liquid crystal display shown in FIG. 1; FIG.

도 3은 본 발명에 따른 액정표시소자를 나타내는 평면도. 3 is a plan view showing a liquid crystal display device according to the present invention.

도 4는 도 3에 도시된 데이터 링크부의 단면도를 나타내는 도면.4 is a cross-sectional view of the data link unit shown in FIG. 3;

도 5는 도 3에 도시된 게이트 링크부의 단면도를 나타내는 도면.FIG. 5 is a cross-sectional view of the gate link unit illustrated in FIG. 3. FIG.

도 6은 게이트 링크의 오픈시 리페어를 설명하기 위한 도면. 6 is a view for explaining the repair when the gate link is opened.

도 7은 데이터 링크의 오픈시 리페어를 설명하기 위한 도면.
7 is a view for explaining the repair when the data link is opened.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >        <Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

2,102 : 액정패널 4,104 :하부기판2,102: liquid crystal panel 4,104: lower substrate

6,106 : 상부기판 8,108 : 박막트랜지스터6,106: Upper substrate 8,108: Thin film transistor

10,110 : 게이트패드 12,112 : 데이터패드
10,110: gate pad 12,112: data pad

본 발명은 액정표시소자 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히 링크부의 오픈시 용이하게 리페어할 수 있는 액정표시소자 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same that can be easily repaired when the link unit is opened.

통상, 액정표시장치는 소형 및 박형화와 저전력 소모의 장점을 갖는 평판 표시장치이다. 이러한 액정표시장치는 노트북 PC, 사무 자동화 기기, 오디오/비디오 기기 등으로 이용되고 있다. 특히, 스위치 소자로서 박막트랜지스터(Thin Film Transistor : 이하 "TFT"라 함)가 이용되는 액티브 매트릭스 타입의 액정표시장치는 동적인 이미지를 표시하기에 적합하다. In general, liquid crystal displays are flat panel displays having advantages of small size, thinness, and low power consumption. Such liquid crystal displays are used as notebook PCs, office automation devices, audio / video devices, and the like. In particular, an active matrix type liquid crystal display device using a thin film transistor (hereinafter referred to as "TFT") as a switch element is suitable for displaying a dynamic image.

액티브 매트릭스(Active Matrix) 타입의 액정표시장치는 화소들이 게이트 라인들과 데이터 라인들의 교차부들 각각에 배열되어진 화소매트릭스(Picture Element Matrix 또는 Pixel Matrix)에 텔레비전 신호와 같은 비디오 신호에 해당하는 화상을 표시하게 된다. An active matrix type liquid crystal display device displays an image corresponding to a video signal such as a television signal on a pixel element (Picture Element Matrix or Pixel Matrix) in which pixels are arranged at intersections of gate lines and data lines, respectively. Done.

화소들 각각은 데이터 라인으로부터의 데이터 신호의 전압레벨에 따라 투과 광량을 조절하는 액정셀을 포함한다. Each of the pixels includes a liquid crystal cell that adjusts the amount of transmitted light according to the voltage level of the data signal from the data line.

박막트랜지스터는 게이트 라인들과 데이터 라인들의 교차부에 설치되어 게이트 라인으로부터의 스캔신호에 응답하여 액정셀 쪽으로 전송될 데이터 신호를 절환하게 된다.The thin film transistor is installed at the intersection of the gate lines and the data lines to switch the data signal to be transmitted toward the liquid crystal cell in response to the scan signal from the gate line.

도 1은 종래의 액정표시소자를 나타내는 평면도이다.1 is a plan view of a conventional liquid crystal display device.

도 1을 참고하면, 액정패널은 액정셀 매트릭스를 갖는 화상표시부의 외곽에 위치하는 비표시부를 구비한다. 화상표시부의 하부기판(4) 상에는 데이터 신호가 인가되는 데이터라인(45)들과 게이트신호가 인가되는 게이트라인들(35)이 서로 교차하여 배치되고, 그 교차부에 형성된 박막트랜지스터(도시하지 않음)와, 박막트랜지스터에 접속되는 액정셀이 형성된다. Referring to FIG. 1, the liquid crystal panel includes a non-display portion positioned outside the image display portion having the liquid crystal cell matrix. On the lower substrate 4 of the image display unit, data lines 45 to which a data signal is applied and gate lines 35 to which a gate signal is applied are arranged to cross each other, and a thin film transistor (not shown) formed at an intersection thereof. ) And a liquid crystal cell connected to the thin film transistor are formed.

화상표시부의 상부기판(6)에는 블랙매트릭스에 의해 셀영역별로 분리되어 도포된 칼라필터들과, 칼라필터들의 표면에 공통전극이 형성된다. 이러한 상/하부기판(6,4)은 스페이서에 의해 이격되어 셀갭이 마련되고, 그 셀갭에는 액정물질로 채워져 있다. On the upper substrate 6 of the image display unit, color filters separated and applied to each cell region by a black matrix and a common electrode are formed on the surface of the color filters. The upper and lower substrates 6 and 4 are spaced apart by spacers to provide a cell gap, and the cell gap is filled with a liquid crystal material.

비표시부의 하부기판(4)에는 게이트패드(10)와 데이터패드(12)가 마련된다. The lower substrate 4 of the non-display portion is provided with a gate pad 10 and a data pad 12.

게이트패드(10)는 게이트 구동집적회로(도시하지 않음)로부터 공급되는 게이트신호를 게이트링크(33)를 통해 게이트라인(35)들에 공급한다. 게이트링크(33)는 게이트 패드(10)와 게이트라인(35)들의 연결부로서 게이트 패드(10) 및 게이트라인(35)들과 함께 형성된다. The gate pad 10 supplies a gate signal supplied from a gate driving integrated circuit (not shown) to the gate lines 35 through the gate link 33. The gate link 33 is formed together with the gate pad 10 and the gate lines 35 as a connection portion of the gate pad 10 and the gate lines 35.

데이터패드(12)는 데이터 구동 집적회로(도시하지 않음)로부터 공급되는 데이터신호를 데이터링크(43)를 통해 데이터라인(45)들에 공급한다. 데이터링크(43)는 데이터패드(12)와 데이터라인(45)들의 연결부로서 데이터패드(12) 및 데이터라인(45)들과 함께 형성된다.The data pad 12 supplies a data signal supplied from a data driving integrated circuit (not shown) to the data lines 45 through the data link 43. The data link 43 is formed together with the data pad 12 and the data lines 45 as a connection portion of the data pad 12 and the data lines 45.

고해상도의 화상을 구현하기 위해 액정셀의 수가 증가됨에따라 게이트라인(35) 및 데이터라인(45)들의 폭 및 간격이 미세해진다. 또한, 소형액정표시장치에서는 소형화를 위해 구동회로의 집적도가 높아짐에 따라 패드(10,12) 간 의 간격이 현저하게 줄어들게 된다. 이에 따라, 패드(10,12)와 신호라인사이에 접속되는 링크(33,43)는 그의 위치에 따라 서로 다른 길이를 가지도록 설정된다. 즉, 상대적으로 좁은 간격을 갖는 패드(10,12)와 상대적으로 넓은 간격을 갖는 신호라인을 접속시키기 위해서 링크(33,43)는 그의 위치에 따라 서로 다른 길이를 가지게 된다. 그러나, 링크(33,43)가 서로 다른 길이를 갖게 됨으로써 각 링크(33,43)간에 저항차가 발생된다. 이러한, 저항차를 보상하기 위해 도 2에 도시된 바와 같이 상대적으로 길이가 짧은 중앙링크(LKc)가 지그재그 형태를 갖는 지그재그형 링크(33,43)가 제안되었다. As the number of liquid crystal cells is increased to realize a high resolution image, the widths and spacings of the gate lines 35 and the data lines 45 become minute. In addition, in the small liquid crystal display device, the spacing between the pads 10 and 12 is remarkably reduced as the integration degree of the driving circuit increases for miniaturization. Accordingly, the links 33 and 43 connected between the pads 10 and 12 and the signal lines are set to have different lengths according to their positions. That is, in order to connect the pads 10 and 12 having relatively narrow spacing and the signal lines having a relatively wide spacing, the links 33 and 43 have different lengths according to their positions. However, since the links 33 and 43 have different lengths, resistance differences are generated between the links 33 and 43. In order to compensate for such a resistance difference, as shown in FIG. 2, zigzag-shaped links 33 and 43 in which a relatively short central link LKc has a zigzag shape have been proposed.

그러나, 데이터 구동회로 및 게이트 구동회로의 채널수가 증가함에 따라 링크(33,43)의 패드 피치(Pad Pitch)가 감소된다. 링크(33,43)의 패드 피치(Pad Pitch)가 감소됨에 따라 발생할 수 있는 각 링크(33,43) 간의 단락(short)을 방지하기 위해 링크(33,43)의 선폭 또한 점차 감소된다. 그러나, 링크(33,43)의 선폭이 감소됨으로써 링크 전극의 오픈(Open) 등의 불량(A)이 빈번히 발생한다.
However, as the number of channels of the data driving circuit and the gate driving circuit increases, the pad pitch of the links 33 and 43 decreases. As the pad pitch of the links 33 and 43 is reduced, the line widths of the links 33 and 43 are also gradually reduced to prevent a short between each link 33 and 43 which may occur. However, as the line widths of the links 33 and 43 are reduced, defects A such as opening of the link electrodes frequently occur.

따라서, 본 발명의 목적은 링크의 오픈시 용이하게 리페어 할 수 있는 액정표시소자 및 그 제조방법을 제공하는데 있다.
Accordingly, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, which can be easily repaired when a link is opened.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 액정표시소자는 신호라인과; 상기 신호라인에 구동신호를 공급하는 신호패드와; 상기 신호패드와 상기 신호라인을 연결하며 그 접속위치에 따라 지그재그형태로 형성되는 신호링크와; 상기 신호링크와 절연막을 사이에 두고 상기 신호링크와 교차하게 형성되어 리페어시 광빔에 의해 신호링크와 접속되는 리페어 패턴을 구비하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자. In order to achieve the above object, the liquid crystal display device according to the present invention comprises a signal line; A signal pad for supplying a driving signal to the signal line; A signal link connecting the signal pad and the signal line and formed in a zigzag shape according to a connection position thereof; And a repair pattern formed to intersect the signal link with the signal link and the insulating layer interposed therebetween and connected to the signal link by a light beam during repair.

상기 신호라인은 게이트 라인인 것을 특징으로 한다.The signal line is characterized in that the gate line.

상기 신호라인은 데이터 라인인 것을 특징으로 한다.The signal line is characterized in that the data line.

상기 데이터 라인의 하부에 형성되는 활성층 및 오믹접촉층을 추가로 포함하는 것을 특징으로 한다. And an active layer and an ohmic contact layer formed under the data line.

상기 리페어 패턴은 게이트 라인과 동일 물질로 형성되는 것을 특징으로 한다.The repair pattern may be formed of the same material as the gate line.

상기 리페어 패턴은 데이터 라인과 동일 물질로 형성되는 것을 특징으로 한다.The repair pattern may be formed of the same material as the data line.

상기 리페어 패턴의 하부에 형성되는 활성층 및 오믹접촉층을 추가로 포함하는 것을 특징으로 한다.The method may further include an active layer and an ohmic contact layer formed under the repair pattern.

상기 신호링크 및 리페어 패턴을 덮도록 형성된 보호막을 추가로 구비하는 것을 특징으로 한다.And a protective film formed to cover the signal link and the repair pattern.

본 발명에 따른 액정표시패널의 제조방법은 게이트 라인들 및 데이터 라인들을 포함하는 신호라인과, 상기 신호라인에 구동신호를 공급하는 신호패드와, 상기 신호패드와 상기 신호라인을 연결하는 신호링크를 구비하는 액정표시소자의 제조방 법에 있어서, 상기 신호링크와 절연됨과 아울러 상기 신호링크와 교차하게 형성되어 리페어시 광빔에 의해 신호링크와 접속되어질 리페어 패턴를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.A method of manufacturing a liquid crystal display panel according to the present invention includes a signal line including gate lines and data lines, a signal pad for supplying a driving signal to the signal line, and a signal link connecting the signal pad and the signal line. A method of manufacturing a liquid crystal display device, the method comprising: forming a repair pattern that is insulated from the signal link and intersects with the signal link to be connected to the signal link by a light beam during repair.

상기 리패어 패턴은 게이트 라인과 동시에 형성하는 것을 특징으로 한다.The repair pattern is formed at the same time as the gate line.

상기 리페어 패턴은 데이터 라인과 동시에 형성하는 것을 특징으로 한다.The repair pattern may be formed at the same time as the data line.

상기 리페어 패턴을 형성하는 단계는 상기 리페어 패턴의 하부에 활성층 및 오믹접촉층을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 한다.The forming of the repair pattern may further include forming an active layer and an ohmic contact layer under the repair pattern.

상기 신호링크는 게이트 라인과 동시에 형성하는 것을 특징으로 한다.The signal link is formed at the same time as the gate line.

상기 신호링크는 데이터 라인과 동시에 형성하는 것을 특징으로 한다.The signal link is formed at the same time as the data line.

상기 목적들 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부한 도면들을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and features of the present invention in addition to the above objects will become apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

이하, 도 3 내지 도 7을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 to 7.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시소자를 나타내는 평면도이다.3 is a plan view illustrating a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3을 참고하면, 본 발명의 실시예에 따른 액정패널은 액정셀 매트릭스를 갖는 화상표시부의 외곽에 위치하는 비표시부를 구비한다. 화상표시부의 하부기판(104) 상에는 비디오신호가 인가되는 데이터라인(145)들과 게이트신호가 인가되는 게이트라인(135)들이 서로 교차하여 배치되고, 그 교차부에 형성된 박막트랜지스터(도시하지 않음)와, 박막트랜지스터에 접속되는 액정셀들이 형성된다. Referring to FIG. 3, the liquid crystal panel according to the exemplary embodiment of the present invention includes a non-display unit positioned outside the image display unit having the liquid crystal cell matrix. On the lower substrate 104 of the image display unit, data lines 145 to which a video signal is applied and gate lines 135 to which a gate signal is applied are arranged to cross each other, and a thin film transistor (not shown) formed at an intersection thereof. And liquid crystal cells connected to the thin film transistor.

화상표시부의 상부기판(106)에는 블랙매트릭스에 의해 셀영역별로 분리되어 도포된 칼라필터들과, 칼라필터들의 표면에 공통전극이 형성된다. 이러한 상/하부기판(106,104)은 스페이서에 의해 이격되어 셀갭이 마련되고, 그 셀갭에는 액정물질로 채워져 있다. On the upper substrate 106 of the image display unit, color filters separated and applied to each cell region by a black matrix are formed, and a common electrode is formed on the surface of the color filters. The upper and lower substrates 106 and 104 are spaced apart by spacers to provide a cell gap, and the cell gap is filled with a liquid crystal material.

비표시부에는 게이트 라인(135)에서 신장된 게이트패드(110)와, 데이터라인(145)에서 신장된 데이터패드(112)가 마련된다. The non-display portion includes a gate pad 110 extending from the gate line 135 and a data pad 112 extending from the data line 145.

게이트패드(110)는 게이트 구동집적회로(도시하지 않음)로부터 공급되는 게이트신호를 게이트 링크부(85)에 포함된 게이트링크(85)를 통해 게이트라인(135)들에 공급한다. The gate pad 110 supplies a gate signal supplied from a gate driving integrated circuit (not shown) to the gate lines 135 through the gate link 85 included in the gate link unit 85.

게이트링크부(85)는 도 4에 도시된 바와 같이 게이트링크(133)와, 그 게이트링크(133)와 게이트절연막(67)을 사이에 두고 중첩되게 형성되는 게이트 리페어 패턴(83)을 구비한다. 게이트링크부(85)는 게이트 리페어 패턴(83)의 하부에 활성층(27)과 오믹접촉층(28)을 더 구비한다. 게이트 리페어 패턴(83)상에는 보호막(69)이 형성된다. As shown in FIG. 4, the gate link unit 85 includes a gate link 133 and a gate repair pattern 83 formed to overlap the gate link 133 and the gate insulating layer 67 therebetween. . The gate link unit 85 further includes an active layer 27 and an ohmic contact layer 28 under the gate repair pattern 83. The passivation layer 69 is formed on the gate repair pattern 83.

게이트링크(133)는 게이트 구동 집적회로(도시하지 않음)의 출력단자와 대응되는 위치에 따라 다른 형태로 형성된다. 즉, 게이트 구동 집적회로의 외곽 출력단자와 대응되는 게이트링크(133)는 직선형태로 형성되고 게이트 구동 집적회로의 중앙 출력단자와 대응되는 게이트링크(133)는 게이트 리페어 패턴(83)과 교차구조를 갖는 지그재그 형태로 형성된다.The gate link 133 is formed in a different form according to a position corresponding to an output terminal of a gate driving integrated circuit (not shown). That is, the gate link 133 corresponding to the outer output terminal of the gate driving integrated circuit is formed in a straight line shape, and the gate link 133 corresponding to the central output terminal of the gate driving integrated circuit crosses the gate repair pattern 83. It is formed in a zigzag form.

게이트 리페어 패턴(83)은 게이트 링크(133)에 오픈 등의 불량이 발생되는 경우 게이트 링크(133)의 오픈을 리페어 하는 역할을 한다. 즉, 게이트 링크(133) 에 오픈이 발생하여 리페어(repair)가 필요한 경우 도 6에 도시된 바와 같이 레이저를 게이트 리페어 패턴(83)에 조사하여 게이트 링크(133)와 게이트 리페어 패턴(83)이 단락된다.The gate repair pattern 83 repairs the opening of the gate link 133 when a defect such as an open occurs in the gate link 133. That is, when a repair is necessary due to an opening occurring in the gate link 133, as shown in FIG. 6, the laser beam is irradiated to the gate repair pattern 83 to generate the gate link 133 and the gate repair pattern 83. Short circuit.

데이터패드(112)는 데이터 구동 집적회로(도시하지 않음)로부터 공급되는 데이터신호를 데이터 링크부(75)에 포함된 데이터링크(143)를 통해 데이터라인(145)들에 공급한다. The data pad 112 supplies a data signal supplied from a data driving integrated circuit (not shown) to the data lines 145 through the data link 143 included in the data link unit 75.

데이터링크부(75)는 도 5에 도시된 바와 같이 데이터링크(143)와, 그 데이터링크(143)와 게이트절연막(67)을 사이에 두고 중첩되게 형성되는 데이터 리페어 패턴(73)을 구비한다. 데이터링크부(75)는 데이터링크(143)의 하부에 활성층(27)과 오믹접촉층(28)을 더 구비한다. 데이터링크(143)위에는 보호막(69)이 형성된다. As illustrated in FIG. 5, the data link unit 75 includes a data link 143 and a data repair pattern 73 formed to overlap each other with the data link 143 and the gate insulating layer 67 interposed therebetween. . The data link unit 75 further includes an active layer 27 and an ohmic contact layer 28 under the data link 143. The passivation layer 69 is formed on the data link 143.

데이터링크(143)는 데이터 구동 집적회로(도시하지 않음)의 출력단자와 대응되는 위치에 따라 다른 형태로 형성된다. 즉, 데이터 구동 집적회로의 외곽 출력단자와 대응되는 데이터링크(143)는 직선형태로 형성되고 데이터 구동 집적회로의 중앙 출력단자와 대응되는 데이터링크(143)는 데이터 리페어 패턴(73)과 교차구조를 갖는 지그재그 형태로 형성된다. The data link 143 is formed in a different form depending on a position corresponding to an output terminal of a data driving integrated circuit (not shown). That is, the data link 143 corresponding to the outer output terminal of the data driving integrated circuit is formed in a straight line shape, and the data link 143 corresponding to the central output terminal of the data driving integrated circuit crosses the data repair pattern 73. It is formed in a zigzag form.

데이터 리페어 패턴(73)은 데이터 링크(143)에 오픈 등의 불량이 발생되는 경우 데이터 링크(143)의 오픈을 리페어 하는 역할을 한다. 즉, 데이터 링크(143)에 오픈이 발생하여 리페어(repair)가 필요한 경우 도 7에 도시된 바와 같이 데이터 링크(143)에 레이저를 조사하여 데이터 리페어 패턴(73)과 데이터 링크(143)가 단락된다. The data repair pattern 73 repairs the opening of the data link 143 when a defect such as an open occurs in the data link 143. That is, in the case where an open occurs in the data link 143 and a repair is required, the data repair pattern 73 and the data link 143 are short-circuited by irradiating a laser on the data link 143 as shown in FIG. 7. do.                     

이러한 게이트 링크부(85) 및 데이터 링크부(75)의 제조방법을 도 4 및 5를 결부하여 설명하면 다음과 같다. A method of manufacturing the gate link unit 85 and the data link unit 75 will be described with reference to FIGS. 4 and 5 as follows.

기판 상에 스퍼터링 방법 등의 증착방법을 통해 게이트 금속층이 형성된다. 이어서, 마스크를 이용한 포토리쏘그래피 공정과 식각공정으로 게이트 금속층이 패터닝된다. 이로써, 데이터 리페어 패턴(73)과 게이트 링크(133)가 형성된다. 게이트 금속으로는 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 알루미늄계 금속 등이 단일층 또는 이중층 구조로 이용된다.The gate metal layer is formed on the substrate through a deposition method such as a sputtering method. Subsequently, the gate metal layer is patterned by a photolithography process and an etching process using a mask. As a result, the data repair pattern 73 and the gate link 133 are formed. As the gate metal, chromium (Cr), molybdenum (Mo), aluminum-based metal, etc. are used in a single layer or a double layer structure.

데이터 리페어 패턴(73)과 게이트 링크(GLK)가 형성된 기판 상에 게이트 절연막(67)이 전면 증착된다. 게이트 절연막(67)의 재료로는 산화 실리콘(SiOx) 또는 질화 실리콘(SiNx) 등의 무기 절연물질이 이용된다.The gate insulating layer 67 is entirely deposited on the substrate on which the data repair pattern 73 and the gate link GLK are formed. As the material of the gate insulating film 67, an inorganic insulating material such as silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx) is used.

게이트 절연막(67)이 형성된 기판 상에 비정질 실리콘층, n+ 비정질 실리콘층, 그리고 소스/드레인 금속층이 순차적으로 형성된다. 이후, 소스/드레인 금속층 위에 마스크를 이용한 포토리쏘그래피 공정 및 식각 공정에 의해 데이터 링크(143)와 게이트 리페어 패턴(83)이 형성된다. 소스/드레인 금속으로는 몰리브덴(Mo), 티타늄, 탄탈륨, 몰리브덴 합금(Mo alloy) 등이 이용된다. An amorphous silicon layer, an n + amorphous silicon layer, and a source / drain metal layer are sequentially formed on the substrate on which the gate insulating layer 67 is formed. Thereafter, the data link 143 and the gate repair pattern 83 are formed on the source / drain metal layer by a photolithography process and an etching process using a mask. Molybdenum (Mo), titanium, tantalum, molybdenum alloy (Mo alloy), etc. are used as a source / drain metal.

이와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시패널은 링크(133,143)의 상부 및 하부 중 적어도 어느 하나에 리페어 패턴(73,83)을 형성한다. 이로써, 링크(133,143)의 오픈이 발생하는 경우 리페어 패턴(73,83)과 링크(133,143)를 단락시켜 도통시킴으로써 불량이 방지된다.
As described above, the liquid crystal display panel according to the exemplary embodiment of the present invention forms the repair patterns 73 and 83 on at least one of the upper and lower portions of the links 133 and 143. Thus, when the opening of the links 133 and 143 occurs, the repair is prevented by short-circuiting the repair patterns 73 and 83 and the links 133 and 143.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 액정표시소자 및 그 제조방법은 링크의 상부 및 하부 중 적어도 어느 하나에 리페어 패턴을 형성하고 링크에 오픈이 발생하는 경우 레이저를 조사하여 리페어 패턴과 링크를 단락시킴으로서 용이하게 리페어 할 수 있게 된다. As described above, the liquid crystal display device according to the present invention and a method of manufacturing the same by forming a repair pattern on at least one of the upper and lower portions of the link, and when the link is open, irradiates a laser to short-circuit the repair pattern and the link. It can be repaired easily.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be defined by the claims.

Claims (14)

다수의 신호라인을 구비하여 화상을 표시하는 표시부와 상기 표시부의 가장자리에 위치하며 화상을 표시하지 않는 비표시부로 구분되는 액정패널;A liquid crystal panel comprising a display unit for displaying an image having a plurality of signal lines and a non-display unit positioned at an edge of the display unit and not displaying an image; 상기 비표시부에 위치하며 상기 다수의 신호라인에 구동신호를 공급하는 신호패드와; A signal pad positioned on the non-display unit and supplying driving signals to the plurality of signal lines; 상기 비표시부에 위치하며 상기 신호패드와 상기 신호라인을 연결하고 그 접속위치에 따라 지그재그형태로 형성되는 신호링크와;A signal link positioned in the non-display portion and connected to the signal pad and the signal line and formed in a zigzag shape according to a connection position thereof; 상기 신호링크와 절연막을 사이에 두고 상기 신호링크와 교차하게 형성되어 리페어시 광빔에 의해 신호링크와 접속되는 리페어 패턴을 구비하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자. And a repair pattern formed to intersect the signal link with the signal link and the insulating layer interposed therebetween and connected to the signal link by a light beam during repair. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 다수의 신호라인은 게이트 라인인 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And the signal lines are gate lines. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 다수의 신호라인은 데이터 라인인 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And the plurality of signal lines are data lines. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 데이터 라인의 하부에 형성되는 활성층 및 오믹접촉층을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자. And an active layer and an ohmic contact layer formed under the data line. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 리페어 패턴은 게이트 라인과 동일 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And the repair pattern is formed of the same material as the gate line. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 리페어 패턴은 데이터 라인과 동일 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.The repair pattern is formed of the same material as the data line. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 리페어 패턴의 하부에 형성되는 활성층 및 오믹접촉층을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.The liquid crystal display device further comprises an active layer and an ohmic contact layer formed under the repair pattern. 삭제delete 게이트 라인들 및 데이터 라인들을 포함하는 다수의 신호라인들이 배열되어 화상을 표시하는 표시부와 상기 표시부의 가장자리에 위치하며 화상을 표시하지 않는 비표시부로 구분되는 액정패널과, 상기 비표시부에 위치하며 상기 다수의 신호라인에 구동신호를 공급하는 다수의 신호패드와, 상기 비표시부에 위치하며 상기 신호패드와 상기 신호라인을 연결하고 그 접속 위치에 따라 지그재그 형태로 형성된 신호링크를 구비하는 액정표시소자의 제조방법에 있어서, A plurality of signal lines including gate lines and data lines arranged therein, the liquid crystal panel divided into a display unit displaying an image and a non-display unit positioned at an edge of the display unit and not displaying an image; And a plurality of signal pads for supplying a driving signal to a plurality of signal lines, and a signal link positioned in the non-display portion and connected to the signal pads and the signal lines and formed in a zigzag shape according to the connection position thereof. In the manufacturing method, 상기 신호링크와 절연됨과 아울러 상기 신호링크와 교차하게 형성되어 리페어시 광빔에 의해 신호링크와 접속되어질 리페어 패턴를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법. And forming a repair pattern that is insulated from the signal link and intersects with the signal link to be connected to the signal link by a light beam during repair. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 리페어 패턴은 게이트 라인과 동시에 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.And the repair pattern is formed at the same time as the gate line. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 리페어 패턴은 데이터 라인과 동시에 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.And the repair pattern is formed at the same time as the data line. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 리페어 패턴을 형성하는 단계는 Forming the repair pattern is 상기 리페어 패턴의 하부에 활성층 및 오믹접촉층을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.And forming an active layer and an ohmic contact layer under the repair pattern. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 신호링크는 게이트 라인과 동시에 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.And the signal link is formed at the same time as the gate line. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 신호링크는 데이터 라인과 동시에 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.And the signal link is formed at the same time as the data line.
KR1020030038816A 2003-06-16 2003-06-16 Liquid Crystal Display Device And Fabricating Method thereof KR100963414B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030038816A KR100963414B1 (en) 2003-06-16 2003-06-16 Liquid Crystal Display Device And Fabricating Method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030038816A KR100963414B1 (en) 2003-06-16 2003-06-16 Liquid Crystal Display Device And Fabricating Method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040108075A KR20040108075A (en) 2004-12-23
KR100963414B1 true KR100963414B1 (en) 2010-06-14

Family

ID=37382065

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030038816A KR100963414B1 (en) 2003-06-16 2003-06-16 Liquid Crystal Display Device And Fabricating Method thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100963414B1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015008697A1 (en) * 2013-07-19 2015-01-22 堺ディスプレイプロダクト株式会社 Display panel and display device
WO2015008696A1 (en) * 2013-07-19 2015-01-22 堺ディスプレイプロダクト株式会社 Display panel and display device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970028986A (en) * 1995-11-01 1997-06-26 김광호 Matrix display with repairable repair structure in units of pixels
KR20000031473A (en) * 1998-11-06 2000-06-05 구본준 Lcd and manufacturing method thereof
KR20010061270A (en) * 1999-12-28 2001-07-07 윤종용 Thin film transistor for liquid crystal display and repairing methods the same
JP2003005670A (en) * 2001-06-20 2003-01-08 Toshiba Corp Planar display device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970028986A (en) * 1995-11-01 1997-06-26 김광호 Matrix display with repairable repair structure in units of pixels
KR20000031473A (en) * 1998-11-06 2000-06-05 구본준 Lcd and manufacturing method thereof
KR20010061270A (en) * 1999-12-28 2001-07-07 윤종용 Thin film transistor for liquid crystal display and repairing methods the same
JP2003005670A (en) * 2001-06-20 2003-01-08 Toshiba Corp Planar display device

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015008697A1 (en) * 2013-07-19 2015-01-22 堺ディスプレイプロダクト株式会社 Display panel and display device
WO2015008696A1 (en) * 2013-07-19 2015-01-22 堺ディスプレイプロダクト株式会社 Display panel and display device
JPWO2015008697A1 (en) * 2013-07-19 2017-03-02 堺ディスプレイプロダクト株式会社 Display panel and display device
JPWO2015008696A1 (en) * 2013-07-19 2017-03-02 堺ディスプレイプロダクト株式会社 Display panel and display device
US9853062B2 (en) 2013-07-19 2017-12-26 Sakai Display Products Corporation Display panel and display apparatus
US10088722B2 (en) 2013-07-19 2018-10-02 Sakai Display Products Corporation Display panel and display apparatus which include repair wiring for repairing a disconnection in lead-out wiring

Also Published As

Publication number Publication date
KR20040108075A (en) 2004-12-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100456151B1 (en) Thin film transistor array substrate and method of manufacturing the same
US7688414B2 (en) Method for fabricating a liquid crystal display device and an LCD device thereby
US6833882B2 (en) Liquid crystal display device and fabricating method thereof and method of repairing pixel using the same
US8730418B2 (en) Array substrate and method for manufacturing the same
JPH0740101B2 (en) Thin film transistor
US7944516B2 (en) Liquid crystal display device having a dummy pattern for repairing data lines
US7936424B2 (en) Liquid crystal display panel with light leakage prevention film and method for manufacturing the same
KR100498543B1 (en) array circuit board of LCD and fabrication method of thereof
US20110025939A1 (en) Liquid crystal display device and its manufacturing method
US8294862B2 (en) Liquid crystal display device and method of fabricating the same
KR100963414B1 (en) Liquid Crystal Display Device And Fabricating Method thereof
KR20010103431A (en) method for fabricating liquid crystal display device
JPH10268346A (en) Active matrix type liquid crystal display device
KR0120399Y1 (en) Liquid crystal display device
JP2851305B2 (en) Liquid crystal display
KR100920372B1 (en) Method and apparatus for driving of liquid crystal display
JP2008032855A (en) Liquid crystal display
KR20070061976A (en) Liquid crystal display device and manufacturing for thereof
KR100621857B1 (en) Liquid Crystal Display Device
KR20040031513A (en) Thin film transistor array substrate for protecting loading effect and manufacturing method thereof
US20080252834A1 (en) Thin film transistor, method for fabricating same and liquid crystal display using same
JPH11271808A (en) Array substrate for display, plane display equipped therewith, and manufacture of the same array substrate
KR20050060374A (en) Liquid crystal display device and method for manufacturing thereof
KR20090105318A (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
KR100798311B1 (en) Wire structure of display device and liquid crystal display device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150528

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160530

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180515

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190515

Year of fee payment: 10