KR100953560B1 - Apparatus for supporting test of terahertz device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 테라헤르츠파 소자의 테스트 지원 장치에 관한 것으로, 테스트할 테라헤르츠파 소자를 실장한 소자 기판을 고정하는 지지대; 상기 지지대의 상부에 위치되어 폴더 방식으로 개폐되는 브라켓; 및 상기 브라켓상에 고정 배치되며, 상기 브라켓이 닫힘 상태일 때 상기 소자 기판에 접촉하여 상기 테라헤르츠파 소자와 전기적으로 연결되는 프로브 핀들을 구비하는 프로브 기판을 포함하여 구성되며, 이에 의하여 보다 용이하고 간편하게 테스트를 수행하고 테스트 수행 후에도 재사용될 수 있도록 지원한다. The present invention relates to a test support apparatus for terahertz wave devices, comprising: a support for fixing a device substrate on which a terahertz wave device to be tested is mounted; A bracket positioned on the support and opened and closed in a folder manner; And a probe substrate fixedly disposed on the bracket, the probe substrate having probe pins electrically connected to the terahertz wave element in contact with the element substrate when the bracket is in a closed state. It makes it easy to run tests and reuse them after they run.
테라헤르츠파, 테스트 Terahertzpa, test
Description
본 발명은 테라헤르츠파 소자의 테스트 지원 장치에 관한 것으로, 특히 테라헤르츠파 소자를 보다 용이하고 간편하게 테스트할 수 있도록 하기 위한 테라헤르츠파 소자의 테스트 지원 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a test support apparatus for terahertz wave devices, and more particularly, to a test support apparatus for terahertz wave devices for enabling easier and simpler testing of terahertz wave devices.
본 발명은 정보통신부 및 정보통신연구진흥원의 IT원천기술개발사업의 일환으로 수행한 연구로부터 도출된 것이다[과제관리번호: 2006-S-005-02, 과제명: THz-파 발진/변환/검출기 및 신호원 기술 개발].The present invention is derived from the research conducted as part of the IT source technology development project of the Ministry of Information and Communication and the Ministry of Information and Communication Research and Development. And signal source technology development].
테라헤르츠(THz) 파는 마이크로파와 적외선 사이에 놓여 있는 0.1 내지 10 테라헤르츠파 범위의 주파수를 가진 전자기파로 기존의 전파와 광 영역 사이에 위치한다. 이 영역은 전파와 광학기술의 기술적 한계영역에 속하게 되어 전자기 스펙트럼 중 가장 접근하기 어려운 영역의 하나로 알려져 왔다. Terahertz (THz) waves are electromagnetic waves with a frequency in the range of 0.1 to 10 terahertz waves lying between microwaves and infrared light, and are located between conventional radio and light domains. This area is known as one of the most inaccessible areas of the electromagnetic spectrum because it belongs to the technical limits of radio and optical technologies.
그러나 펨토초 레이저의 상용화와 함께 재료기술의 발전과 초미세 공정기술의 발달로 고출력 테라헤르츠파 소스들이 등장하여 이 분야의 발달이 획기적으로 이루어졌다. However, with the commercialization of femtosecond lasers, the development of materials technology and the development of ultra-fine process technologies have led to the emergence of high-power terahertz wave sources, which marked the development of this field.
이로 인해 테라헤르츠파에 대한 관심이 전 세계적으로 고조되고 있는데 테라헤르츠파의 특성상 향후 다양한 응용 분야에 사용될 가능성이 크기 때문이다.As a result, there is a growing interest in terahertz waves all over the world, because of the nature of terahertz waves, they are likely to be used in various applications in the future.
테라헤르츠파가 가진 고유한 특성을 이용한 분광 및 이미징 기술은 신물질, 의료, 바이오, 보안, 국방, 환경, 우주 및 통신 등과 같은 다양한 고부가가치 서비스 및 첨단 산업 부문에서 관심을 갖고 있을 만큼 매력적인 연구 분야로 성장하고 있다.The unique characteristics of terahertzpa spectroscopy and imaging technology make it an attractive area of research that is of interest to many high value-added services and high-tech industries such as new materials, healthcare, biotechnology, security, defense, environment, space and communications. Growing.
또한 선진 각국에서 테라헤르츠파 관련 기술을 중요한 미래 기술의 하나로 포함시키고 있는 것만 보아도 향후 그 응용성과 파급효과가 상당할 것으로 예상된다. In addition, it is expected that the applicability and ripple effect will be significant in the future even if advanced countries include terahertz wave-related technologies as one of the important future technologies.
테라헤르츠파는 그 발생 방법에 따라서 연속형과 펄스형으로 나눌 수 있는데 펨토초 레이저에 의한 테라헤르츠파의 발생은 펄스형에 속하며 피코초 이하의 짧은 주기의 펄스 형태이므로 주파수 영역으로 변환하면 수백 GHz 에서 수(십) 테라헤르츠파 에 이르는 초광대역의 주파수를 갖는 전자기파를 얻을 수 있다.The terahertz waves can be divided into continuous and pulse types according to their generation method.The terahertz waves generated by the femtosecond laser belong to the pulse type and are short pulses of picoseconds. (10) It is possible to obtain an electromagnetic wave having an ultra-wide frequency of up to terahertz wave.
이러한 펄스형 테라헤르츠파의 발생은 주로 광전도 안테나법(Photoconductive Antenna, PCA)과 광정류법(Optical Rectification: OR) 그리고 반도체 표면 전계 (Surface-Field of Semiconductor)에 의해 이루어진다.The generation of such pulsed terahertz waves is mainly performed by a photoconductive antenna (PCA), an optical rectification (OR), and a surface-field of semiconductor.
도1은 광전도 안테나를 이용한 테라헤르츠파의 발생 개념을 설명하기 위한 도시한 도면이다. 1 is a diagram illustrating a concept of generation of terahertz waves using a photoconductive antenna.
도1에 도시된 바와 같이, 광전도 안테나는 반절연성 갈륨비소(Semiinsulator GaAs) 기판(10) 위에 광전도성 박막(11)을 증착하고, 다시 그 위에 중앙 돌출 부위 를 갖는 금속 평행 전송선로(전극도 겸함)(12)를 형성함으로써 구현된다. As shown in FIG. 1, the photoconductive antenna deposits a photoconductive
그리고 금속 평행 전송선로(12)의 중앙 영역에 돌출된 부위는 소형 다이폴 안테나(dipole antenna)로서 작용한다. The portion protruding in the central region of the metal
이러한 금속 평행 전송선로(12)에 바이어스 전압(Vb)을 가한 상태에서 시간폭이 100 펨토초 이하인 레이저 펄스광(fs)을 사용하여 간헐적으로 여기(excitation)시키면, 광흡수에 의한 캐리어(전자와 정공)가 생성되어 순간적으로 금속 평행 전송선로(12)를 통해 전류가 흐르고, 이 전류의 시간 미분값에 비례하는 테라헤르츠파(쌍극자 방사)가 발생한다. Intermittent excitation using a laser pulsed light (fs) having a time width of 100 femtoseconds or less with a bias voltage (Vb) applied to the metal
즉, In other words,
여기서, E는 원거리(방향)에서의 방사전기장이고, i(t)는 광전도전류이고, P(t)는 분극이다.Where E is a radiated electric field at a distance (direction), i (t) is a photoconductive current, and P (t) is polarization.
테라헤르츠파는 유전율이 큰 기판 표면에서 강하게 방사된다. 방사되는 테라헤르츠파의 펄스폭은 1ps 이하로써 범용인 ~30fs 이상의 레이저 펄스를 사용하여 광 여기시킬 경우, 푸리에(Fourier) 변환하여 얻게 되는 스펙트럼은 0~수 테라헤르츠파까지의 넓은 스펙트럼을 갖게 된다. Terahertz waves are strongly radiated from the substrate surface with high dielectric constant. The pulse width of the emitted terahertz wave is 1ps or less, and when optically excited using a laser pulse of ~ 30 fs or more, the spectrum obtained by Fourier transform has a broad spectrum from 0 to several terahertz waves. .
소형 다이폴 안테나의 간격은 5μm로서 수백μm로 방사되는 테라헤르츠파의 파장에 비해 충분히 작아서 광펄스에 의해 여기되는 전류가 흐를 때, 캐리어는 집단으로 같은 위상으로 움직인다고 생각되므로 발생되는 테라헤르츠파는 가간섭 방사가 된다.The spacing of the small dipole antennas is 5 μm, which is small enough for the wavelength of terahertz waves radiated at hundreds of μm, so that when the current excited by the light pulses flows, the carriers are considered to move in the same phase in a group. Radiation.
상기와 같이 반도체 표면에서 테라헤르츠파가 방사되는 경우는, 크게 반도체 표면에 존재하는 빌트인(built-in) 전계에 의해 순간적으로 전류가 발생하는 경우와 여기 된 전하가 확산으로 이동하는 광덴버 효과에 의한 경우가 있는데, 이는 반도체 재료와 여기 조건에 따라 변화한다. When terahertz waves are emitted from the semiconductor surface as described above, the current is generated instantaneously by the built-in electric field present on the semiconductor surface, and the optical denver effect in which the excited charges move to diffusion. There is a case, which varies depending on the semiconductor material and the excitation conditions.
그러나 상기와 같이 반도체 표면에서 전자파가 방사되기 위해서는 고정도 정렬기술이 수반되어야하는 데, 이는 본 발명의 원천적인 필요성이라 할 수 있다. However, in order to radiate electromagnetic waves on the surface of the semiconductor as described above, a high-precision alignment technique must be accompanied, which is a fundamental necessity of the present invention.
도2는 일반적인 광전도 안테나를 이용한 테라헤르츠파 소자의 전면도로, 도2를 참조하면, 테라헤르츠파 소자(20)는 GA/AS 기판상에 패터닝되는 광전도 안테나형의 금속 패턴(21)과 금속 패턴(21)의 양단에 형성된 전극 패드(22)를 통해 형성됨을 알 수 있다. FIG. 2 is a front view of a terahertz wave element using a conventional photoconductive antenna. Referring to FIG. 2, the
이에 도2의 테라헤르츠파 소자는 앞서 설명한 바와 같이 100 펨토초 이하인 레이저 펄스광(fs)을 인가받아 테라헤르츠파(THz)를 발생하여 외부로 방사하게 된다. Accordingly, the terahertz wave device of FIG. 2 generates a terahertz wave THz by emitting laser pulsed light fs of 100 femtoseconds or less as described above, and radiates to the outside.
그러나 이와 같이 구성되는 테라헤르츠파 소자는 완전한 디바이스로써 패키징되지 못해, 소자의 특성을 테스트하기 위해서는 테라헤르츠파 소자에 직접 전도성 접착제나 인듐 접합을 수행하여 테스트 시스템과 전기적 또는 기구적으로 결합하여야 하였다. 즉, 고전계를 인가하는 파워 공급기와 테스트 시스템의 콘텍터에 연결된 전선을 테라헤르츠파 소자의 금속 패턴(21)에 집적 연결하여야 했다.However, the terahertz wave device configured as described above was not packaged as a complete device, and in order to test the characteristics of the device, the terahertz wave device had to be electrically or mechanically coupled to the test system by performing a conductive adhesive or an indium bonding directly on the terahertz wave device. That is, the power supply to which the high field is applied and the wire connected to the contactor of the test system had to be integratedly connected to the
이에 테라헤르츠파 소자의 특성을 테스트하기가 매우 번거롭고 까다로워지는 단점이 있었다. As a result, it was very cumbersome and difficult to test the characteristics of terahertz wave devices.
또한 테스트가 완료된 후에는 다시 전도성 접착제나 인듐 접합을 통하여 접합된 신호라인들을 제거하여야 하므로, 소자의 정렬이 흐트러지고 오염되어 재사용할 수 없게 되는 문제가 있었다. In addition, after the test is completed, the signal lines bonded through the conductive adhesive or the indium junction must be removed again, so that there is a problem that the alignment of the device is disturbed and contaminated and cannot be reused.
이에 본 발명에서는 테라헤르츠파 소자를 보다 용이하고 간편하게 테스트하며 테스트 후에도 재사용될 수 있도록 할 수 있도록 하는 테라헤르츠파 소자의 테스트 지원 장치를 제공하고자 한다. Accordingly, the present invention provides a test support apparatus for terahertz wave devices that can be used to test the terahertz wave devices more easily and conveniently and to be reused after testing.
본 발명의 일측면에 따르면 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 수단으로써, 테스트할 테라헤르츠파 소자를 실장한 소자 기판을 고정하는 지지대; 상기 지지대의 상부에 위치되어 폴더 방식으로 개폐되는 브라켓; 및 상기 브라켓상에 고정 배치되며, 상기 브라켓이 닫힘 상태일 때 상기 소자 기판에 접촉하여 상기 테라헤르츠파 소자와 전기적으로 연결되는 프로브 핀들을 구비하는 프로브 기판을 포함하는 테라헤르츠파 소자의 테스트 지원 장치를 제공한다. According to an aspect of the present invention as a means for solving the above problems, a support for fixing a device substrate mounted with a terahertz wave device to be tested; A bracket positioned on the support and opened and closed in a folder manner; And a probe substrate fixedly disposed on the bracket, the probe substrate having probe pins electrically connected to the terahertz wave element in contact with the element substrate when the bracket is in a closed state. To provide.
그리고 상기 지지대는 중앙 영역이 개구되는 판 형태로 구현되며, 양측면의 내측에는 상기 소자 기판을 수렴하는 지지판; 및 상기 지지판을 공중으로부터 부양시키도록 상기 지지판의 외곽 영역에 설치되며, 상기 소자 기판의 위치를 고정시키는 볼 플런저들을 포함한다. And the support is implemented in the form of a plate opening the central region, both sides of the support plate for converging the element substrate; And a ball plunger installed at an outer region of the support plate to support the support plate from the air and fixing the position of the device substrate.
상기 브라켓은 상기 지지판의 개구 영역에 대응되는 영역은 개구되고 전측면은 상기 소자 기판이 삽입 또는 제거될 수 있도록 개방되는 "ㄷ"형태로 구현되어, 상기 지지판의 상부에 고정 배치되는 하부 브라켓; 및 상기 지지판의 개구 영역에 대응되는 영역이 개구되도록 구현되며, 후측면이 상기 하부 브라켓의 후측면이 결합된 후 상기 하부 브라켓의 후측면을 기준으로 소정 각도 회전되는 상부 브라켓를 포함한다. The bracket may include a lower bracket that is formed in a "c" shape in which an area corresponding to the opening area of the support plate is opened and a front side of the bracket is opened to allow the device substrate to be inserted or removed; And an upper bracket configured to open an area corresponding to the opening area of the support plate, the rear side of which is rotated a predetermined angle with respect to the rear side of the lower bracket after the rear side of the lower bracket is coupled.
이때의 상기 하부 브라켓은 상기 하부 브라켓의 양측면의 상부에 배치되어 상기 상부 브라켓과의 결합 압력을 균일하게 조정하는 고정용 자석; 상기 하부 브라켓의 양측면의 상부에 배치되어 상기 상부 브라켓의 개폐를 유도하는 열림 버튼; 및 상기 하부 브라켓의 후측면에 형성되어 상기 상부 브라켓과의 결합을 유도하는 상부 브라켓 결합홀을 포함한다. At this time, the lower bracket is disposed on the upper side of both sides of the lower bracket fixing magnet for uniformly adjusting the coupling pressure with the upper bracket; An opening button disposed on both sides of the lower bracket to induce opening and closing of the upper bracket; And an upper bracket coupling hole formed at a rear side of the lower bracket to induce coupling with the upper bracket.
그리고 상기 상부 브라켓은 상기 상부 브라켓의 양측면의 하부에 배치되어 상기 하부 브라켓과의 결합 압력을 균일하게 조정하는 고정용 자석; 및 상기 하부 브라켓의 상부 브라켓 결합홀에 결합되는 회전축이 삽입될 수 있도록 상기 상부 브라켓의 후측면을 관통하여 형성된 하부 브라켓 결합축을 포함한다. And the upper bracket is disposed on the lower side of both sides of the upper bracket fixing magnet for uniformly adjusting the coupling pressure with the lower bracket; And a lower bracket coupling shaft formed through the rear surface of the upper bracket so that a rotation shaft coupled to the upper bracket coupling hole of the lower bracket can be inserted therein.
상기 프로브 기판은 기판; 상기 소자 기판의 제2 접촉 패드들에 전기적으로 연결되도록 상기 기판상에 고정 배치된 제1 프로브 핀들; 상기 외부 단자가 결합될 수 있도록 상기 기판상에 고정 배치된 제2 프로브 핀들; 및 상기 제1 프로브 핀들과 제2 프로브 핀간을 전기적으로 연결하도록 상기 기판에 패터닝된 신호 라인을 포함한다. The probe substrate is a substrate; First probe pins fixedly disposed on the substrate to be electrically connected to second contact pads of the device substrate; Second probe pins fixedly disposed on the substrate such that the external terminals can be coupled; And a signal line patterned on the substrate to electrically connect the first and second probe pins.
그리고 상기 소자 기판은 상기 테라헤르츠파 소자가 레이저 펄스광을 수신하거나 테라헤르츠파를 방사하는 영역에 대응되는 위치가 개구된 적층형 보드; 상기 테라헤르츠파 소자의 접촉 단자에 대응되는 위치를 가지도록 상기 적층형 보드에 형성되는 제1 접촉 패드들; 상기 프로브 기판의 프로브 핀들에 대응되는 위치를 가 지도록 상기 적층형 보드에 형성되는 제2 접촉 패드들; 및 상기 제1 접촉 패드들과 상기 제2 접촉 패드들간을 전기적으로 연결하도록 상기 적층형 보드에 패터닝된 신호 라인을 포함한다. The device substrate may further include a stacked board having a position corresponding to an area in which the terahertz wave element receives laser pulse light or emits terahertz wave; First contact pads formed on the stacked board to have positions corresponding to the contact terminals of the terahertz wave element; Second contact pads formed on the stacked board to have positions corresponding to probe pins of the probe substrate; And a signal line patterned on the stacked board to electrically connect the first contact pads and the second contact pads.
이와 같이 본 발명의 테라헤르츠파 소자의 테스트 지원 장치는 테라헤르츠파 소자와 연결되는 프로브 핀들을 구비하고, 이에 테스트 시스템과 연결되는 외부 단자가 결합될 수 있도록 함으로써, 별도의 전도성 접착제나 인듐 접합 작업 없이도 외부의 테스트 시스템이 테라헤르츠파 소자의 동작 특성을 테스트 할 수 있도록 한다. As described above, the test support apparatus of the terahertz wave device of the present invention includes probe pins connected to the terahertz wave device, and an external terminal connected to the test system can be coupled thereto, thereby providing a separate conductive adhesive or indium bonding operation. Without it, an external test system can test the operating characteristics of terahertz wave devices.
따라서 본 발명의 테라헤르츠파 소자의 테스트 지원 장치는 테라헤르츠파 소자의 테스트가 보다 용이하고 간편하게 수행될 뿐 만 아니라 테스트 후에도 재사용될 수 있도록 지원한다.Therefore, the test support apparatus of the terahertz wave device of the present invention not only makes the test of the terahertz wave device easier and more convenient, but also supports re-use after the test.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있는 바람직한 실시 예를 상세히 설명한다. 다만, 본 발명의 바람직한 실시 예에 대한 동작 원리를 상세하게 설명함에 있어 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, in describing in detail the operating principle of the preferred embodiment of the present invention, if it is determined that the detailed description of the related known function or configuration may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.
또한, 도면 전체에 걸쳐 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 사용한다.In addition, the same reference numerals are used for parts having similar functions and functions throughout the drawings.
도3 및 도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 테라헤르츠파 소자의 테스트 지원 장치를 도시한 사시도 및 사시 분해도이다. 3 and 4 are perspective and exploded views showing a test support apparatus for a terahertz wave device according to an embodiment of the present invention.
도3 및 도4를 참조하면, 본 발명의 테스트 장치는 테스트할 테라헤르츠파 소자(20)를 실장한 소자 기판(40)을 지지하는 지지대(31), 지지대(31)의 상부에 위치되어 소자 기판(40)을 고정시키는 하부 브라켓(32), 일측면이 하부 브라켓(32)과 결합되어 하부 브라켓(32)과 결합된 일측면을 기준으로 폴더 방식으로 개폐되는 상부 브라켓(33), 상부 브라켓(33)상에 고정 배치되며, 상부 브라켓(33)이 닫힘 상태일 때 소자 기판(40)에 접촉하여 테라헤르츠파 소자(20)와 전기적으로 연결되는 제1 및 제2 프로브 핀(35-1,35-2)들을 구비하는 프로브 기판(34)을 포함한다. 3 and 4, the test apparatus of the present invention is located on the
이때, 프로브 기판(34)에 고정 배치된 소정개의 프로브 핀(35)들은 외부의 테스트 시스템에 연결된 외부 단자(50)와 결합될 수 있도록 한다. In this case, the predetermined probe pins 35 fixedly disposed on the
즉, 외부의 테스트 시스템은 자신에 연결된 외부 단자(50)를 프로브 기판(34)에 고정 배치된 제2 프로브 핀(35-2)에 결합시킴으로써, 테스트하고자 하는 테라헤르츠파 소자(20)와 전기적으로 연결된다. That is, the external test system is electrically connected to the
따라서 본 발명의 테라헤르츠파 소자의 테스트 지원 장치는 테스트 시스템이 별도의 전도성 접착제나 인듐 접합 작업 없이 단순히 외부 단자(50)만을 이용하여 테라헤르츠파 소자(20)와 전기적으로 연결되어 소자 특성을 테스트 할 수 있도록 지원한다. Therefore, in the test support apparatus of the terahertz wave device of the present invention, the test system is electrically connected to the
도5는 본 발명의 일실시예에 따른 소자 기판의 구조를 설명하기 위한 사시도이다. 5 is a perspective view for explaining the structure of a device substrate according to an embodiment of the present invention.
도5를 참조하면, 테스트할 테라헤르츠파 소자(20)가 레이저 펄스광을 수신하거나 테라헤르츠파를 방사하는 영역에 대응되는 위치가 개구된 적층형 보드(41), 테라헤르츠파 소자(20)의 접촉 단자에 대응되는 위치를 가지도록 적층형 보드(41)에 형성된 제1 접촉 패드(42)들, 프로브 기판(34)의 프로브 핀(35)들에 대응되는 위치를 가지도록 적층형 보드(41)에 형성된 제2 접촉 패드(43)들, 제1 접촉 패드(42)들과 제2 접촉 패드(43)들 간을 전기적으로 연결하도록 적층형 보드(41)에 패터닝된 신호 라인(44)들을 포함한다. Referring to FIG. 5, a stacked
또한 소자 기판(40)의 외곽 영역에는 볼 플런저 체결공(45)이 다수개 형성되어, 차후에 볼 플런저 체결공(45)에 체결되는 지지대(31)의 볼 플런저(미도시)에 의해 소자 기판(40)이 유동되지 않고 고정될 수 있도록 한다. In addition, a plurality of ball plunger fastening
이와 같이 소자 기판(40)은 테라헤르츠파 소자(20)와 전기적으로 접촉되는 제1 접촉 패드(42)들과 프로브 기판(34)의 프로브 핀(35)들이 전기적으로 접촉되는 제2 접촉 패드(43)들을 구비하고 이들을 신호라인(44)으로 연결시켜준다. As such, the
이에 테라헤르츠파 소자(20)가 실장되어 테라헤르츠파 소자(20)의 접촉 단자가 제1 접촉 패드(42)들에 접촉되면, 제2 접촉 패드(43)들도 테라헤르츠파 소자(20)와 전기적으로 연결된다. When the
그 결과, 프로브 기판(34)의 프로브 핀(35)이 제2 접촉 패드(43)들에 접촉함으로써 테라헤르츠파 소자(20)와 전기적으로 연결될 수 있다. As a result, the probe pin 35 of the
도6은 본 발명의 일실시예에 따른 지지대의 구조를 설명하기 위한 사시도이다. Figure 6 is a perspective view for explaining the structure of the support according to an embodiment of the present invention.
도6을 참조하면, 지지대(31)는 중앙 영역이 개구되는 판 형태로 구현되며, 양측면의 내측에는 소자 기판(40)을 수렴하는 홈(31-11)들이 형성된 지지판(31-1)과, 지지판(31-1)을 공중으로부터 부양시키며, 지지판(31-1)의 외곽 영역에 설치된 볼 플런저(31-2)들을 포함한다. Referring to FIG. 6, the
그리고 지지판(31-1)의 외곽 영역에는 하부 브라켓(32)과의 결합을 유도하는 하부 브라켓 체결공(31-12)들이 더 형성될 수 있다. In addition, lower bracket fastening holes 31-12 for inducing coupling with the
이때, 볼 플런저(31-2)는 플런저 몸체의 홈부내에 압축 스프링이 설치되고, 압축 스프링에 볼이 설치되어서, 이 볼이 상기 소자 기판(40)의 볼 플런저 체결공(45)에 체결되어 소자 기판(40)의 위치를 고정한다. At this time, the ball plunger (31-2) is provided with a compression spring in the groove portion of the plunger body, the ball is installed in the compression spring, the ball is fastened to the ball
도7a 및 도7b는 본 발명의 일실시예에 따른 상부 및 하부 브라켓의 구조를 설명하기 위한 사시도이다. 7A and 7B are perspective views illustrating the structure of upper and lower brackets according to an embodiment of the present invention.
도7a 및 도7b를 참조하면, 하부 브라켓(32)은 지지대(31)의 개구 영역에 대응되는 영역은 개구되고 전측면은 소자 기판(40)이 삽입 또는 제거될 수 있도록 개방되는 "ㄷ"형태로 구현된다. 그리고 상부 브라켓(33)은 지지대(31)의 개구 영역에 대응되는 영역이 개구되도록 구현되며, 상부 브라켓(33)의 후측면과 하부 브라켓(32)의 후측면이 결합된 후 하부 브라켓(32)의 후측면을 기준으로 소정 각도 회전된다. 7A and 7B, the
더욱 상세하게는 하부 브라켓(32)의 양측면의 상부에 배치되어 상부 브라켓(33)과의 결합 압력을 균일하게 조정하는 고정용 자석(32-1), 하부 브라켓(32)의 양측면의 상부에 배치되어 상부 브라켓(33)의 개폐를 유도하는 열림 버튼(32-2), 하부 브라켓(32)의 후측면에 형성되어 상부 브라켓(33)과의 결합을 유도하는 상부 브라켓 결합홀(32-3), 및 상기의 지지대(31)의 하부 브라켓 체결공(31-12)들에 대응되는 위치에 형성되어 지지대(31)와의 체결을 유도하는 지지대 체결공(32-4)을 포함한다. More specifically, the fixing magnet 32-1 disposed on the upper side of both sides of the
이때, 열림 버튼(32-2)은 하부 브라켓(32)의 양측면 중 하나의 측면 상부에 위치하도록 배치되어 하부 브라켓(32)의 상부에 결합된 상부 브라켓(33)을 지렛대 원리를 통해 개폐하도록 한다. At this time, the open button 32-2 is arranged to be positioned on the upper side of one of the two sides of the
상부 브라켓(33)은 상부 브라켓(33)의 양측면의 하부에 배치되어 하부 브라켓(32)과의 결합 압력을 균일하게 조정하는 고정용 자석(미도시), 하부 브라켓(32)의 상부 브라켓 결합홀(32-3)에 결합되는 회전축(36)이 삽입될 수 있도록 상부 브라켓(33)의 후측면을 관통하여 형성된 하부 브라켓 결합축(33-2)을 포함한다. The
이때, 서로 대응되는 위치에 배치되어 상부 브라켓(33)이 닫힘 상태일 때에 서로 결합되는 상부 브라켓(33)의 고정용 좌석과 하부 브라켓(32)의 고정용 좌석자석(32-1)은 서로 상보되는 극성을 가지도록 하여, 닫힘 상태의 상부 브라켓(33)은 하부 브라켓(32)에 일정한 압력을 가지며 하부 브라켓(32)과 결합될 수 있도록 한다. At this time, the fixing seat of the
이는 상부 브라켓(33)에 실장된 프로브 기판(34)에 고정 배치된 프로브 핀들도 일정한 압력으로 소자 기판(40)의 접촉 패드(42)에 접촉될 수 있도록 하기 위함이다. This is to allow the probe pins fixed to the
이와 같은 구조를 가지는 하부 브라켓(32)과 상부 브라켓(33)은 일측이 결합 되어 폴더 방식으로 개폐하면서, 프로브 기판(34)에 결합된 외부 단자(50)와 테라헤르츠파 소자(20)간이 전기적으로 연결될 수 있도록 하여 준다.One side of the
예를 들어, 테라헤르츠파 소자(20)의 테스트 시에는 상부 브라켓(33)을 닫아 상부 브라켓(33)과 하부 브라켓(32)을 결합시키고, 이에 따라 상부 브라켓(33)에 고정 배치된 프로브 기판(34)의 제1 프로브 핀(35)들이 테라헤르츠파 소자(20)를 실장한 소자 기판(40)의 제2 접촉 패드(43)에 접촉되도록 한다. For example, when testing the
그러면 테스트 시스템은 자신과 연결된 외부 단자(50)는 제1 프로브 핀(35-1)들과 전기적으로 연결된 제2 프로브 핀(35-2)에 결합시킴으로써, 테라헤르츠파 소자(20)와의 전기적 연결을 수행하고, 그에 따라 테라헤르츠파 소자(20)의 특성을 테스트할 수 있게 된다. Then, the test system is electrically connected to the
반면, 테라헤르츠파 소자(20)의 테스트전후에는 상부 브라켓(33)을 열어, 하부 브라켓(32)과 지지대(31)사이에 소자 기판(40)을 삽입하거나 기 삽입되어 있던 소자 기판(40)을 제거하여 준다. On the other hand, before and after the test of the
이때, 하부 브라켓(32)에 결합된 상부 브라켓(33)을 보다 용이하게 열기 위해서는, 하부 브라켓(32)에 설치되어 있는 열림 버튼(32-2)의 일측을 눌려, 이 열림 버튼(32-2)이 지렛대 원리를 이용하여 상부 브라켓(33)을 하부 브라켓(32)로부터 이격시키도록 한다. At this time, in order to more easily open the
도8은 본 발명의 일실시예에 따른 프로브 기판의 구조를 설명하기 위한 정면도 및 사시도이다.8 is a front view and a perspective view for explaining the structure of the probe substrate according to an embodiment of the present invention.
도8의 (a) 및 (b)을 참조하면, 프로브 기판(34)은 기판(34-1), 기판(34-1)의 일측에는 소자 기판(40)의 제2 접촉 패드들(42)에 대응되는 위치를 가지도록 패터닝된 제1 프로브 핀 접합 패드(34-1), 제1 프로브 핀 접합 패드(34-1)들에 인접되는 기판(34-1) 나머지 측에는 외부 단자(50)의 핀 배치에 대응되도록 패터닝된 제2 프로브 핀 접합 패드(34-2), 제1 프로브 핀 접합 패드(34-1)와 제2 프로브 핀 접합 패드(34-2)간을 전기적으로 연결하도록 기판(34-1)에 패터닝된 신호 라인(34-3)들을 포함한다. Referring to FIGS. 8A and 8B, the
그리고 프로브 기판(34)의 제1 프로브 핀 접합 패드(34-1)에는 소자 기판(40)의 제2 접촉패드(43)에 접촉되는 제1 프로브 핀들(35-1)이 고정 배치되고, 제2 프로브 핀 접합 패드(34-2)에는 외부 단자(50)가 결합되는 제2 프로브 핀들(35-2)이 고정 배치된다. The first probe pins 35-1 contacting the
이에 제1 프로브 핀들(35-1)과 제2 프로브 핀들(35-2)은 프로브 기판(34)의 제1 프로브 핀 접합 패드(34-1), 제2 프로브 핀 접합 패드(34-2) 및 신호 라인(34-3)들에 의해 전기적으로 연결된다. Accordingly, the first probe pins 35-1 and the second probe pins 35-2 are connected to the first probe pin bonding pad 34-1 and the second probe pin bonding pad 34-2 of the
그 결과, 도3에서와 같이 외부 단자(50)를 프로브 기판(34)에 고정 배치된 제2 프로브 핀들(35-2)에 결합시킴으로써 테스트 시스템은 테라헤르츠파 소자(20)와 전기적으로 연결될 수 있다. As a result, the test system can be electrically connected to the
따라서 본 발명의 테라헤르츠파 소자의 테스트 지원 장치를 이용하면, 종래에서와 같이 신호라인 접합 작업을 필요로 하지 않을 뿐 만 아니라 테스트 동작에 의해 소자의 정렬이 흐트러지고 오염되는 문제 또한 발생하지 않게 된다. Therefore, when the test support apparatus for the terahertz wave device of the present invention is used, not only does the signal line joining work be required as in the related art, but also the problem that the arrangement of the device is disturbed and contaminated by the test operation does not occur. .
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시 예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경할 수 있다는 것은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 당업자에게 있어 명백할 것이다. The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and it is common in the art that various substitutions, modifications, and changes can be made without departing from the technical spirit of the present invention. It will be apparent to those skilled in the art.
도1은 광전도 안테나를 이용한 테라헤르츠파의 발생 개념을 설명하기 위한 도시한 도면,1 is a diagram illustrating a concept of generation of terahertz waves using a photoconductive antenna;
도2는 일반적인 광전도 안테나를 이용한 테라헤르츠파 소자의 전면도, 2 is a front view of a terahertz wave device using a conventional photoconductive antenna,
도3 및 도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 테라헤르츠파 소자의 테스트 지원 장치를 도시한 사시도 및 사시 분해도,3 and 4 are a perspective view and a perspective exploded view showing a test support apparatus for a terahertz wave device according to an embodiment of the present invention;
도5는 본 발명의 일실시예에 따른 소자 기판의 구조를 설명하기 위한 사시도,5 is a perspective view for explaining the structure of a device substrate according to an embodiment of the present invention;
도6은 본 발명의 일실시예에 따른 지지대의 구조를 설명하기 위한 사시도,Figure 6 is a perspective view for explaining the structure of the support according to an embodiment of the present invention,
도7a 및 도7b는 본 발명의 일실시예에 따른 상부 및 하부 브라켓의 구조를 설명하기 위한 사시도들, 그리고7a and 7b are perspective views for explaining the structure of the upper and lower brackets according to an embodiment of the present invention, and
도8은 본 발명의 일실시예에 따른 프로브 기판의 구조를 설명하기 위한 정면도 및 사시도이다.8 is a front view and a perspective view for explaining the structure of the probe substrate according to an embodiment of the present invention.
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