KR100925783B1 - 형상 측정장치 및 그 방법 - Google Patents
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- 빔을 생성하고 상기 생성된 빔 중에서 특정 주파수의 빔을 방출하며, 상기 생성된 빔의 파장을 검출하기 위한 간섭신호를 출력하는 복수의 레이저 장치;피검체의 표면에 상기 방출된 빔을 투사시켜 상기 피검체의 간섭무늬를 생성하는 광학 장치부;상기 방출된 빔이 상기 광학 장치부로 조사되거나 차단되도록 하는 복수의 셔터;상기 생성된 간섭무늬를 촬상하는 촬상부; 및상기 출력된 간섭신호로부터 상기 생성된 빔의 파장을 검출하고, 상기 검출된 파장과 생성된 간섭무늬를 기초로 복수의 상기 레이저 장치를 제어하는 제어부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정장치.
- 제 1항에 있어서,상기 레이저 장치는 2개인 것을 특징으로 하는 형상 측정장치.
- 제 1항에 있어서,상기 레이저 장치는,상기 빔을 생성하는 반도체 레이저;상기 생성된 빔의 파장을 검출하기 위한 간섭신호를 생성하여 출력하는 간섭신호 생성부;상기 특정 주파수를 공진 주파수로 가지며, 상기 생성된 빔을 조사받고 상기 조사된 빔의 주파수와 상기 공진 주파수가 동일한 경우에는 상기 조사된 빔을 상기 반도체 레이저로 피드백하는 외부반사체; 및상기 외부 반사체가 상기 조사된 빔을 피드백한 경우에는 상기 생성된 빔을 외부로 방출하는 광전달부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제어부는 복수의 상기 레이저 장치를 교대로 가동하는 것을 특징으로 하는 형상 측정장치.
- 제 4항에 있어서,상기 제어부는 상기 가동되는 레이저 장치가 4개의 특정 주파수의 빔을 방출하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 형상 측정장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제어부는 상기 레이저 장치의 온도 또는 상기 레이저 장치로 인가되는 전류를 조절하여 상기 레이저 장치를 제어하는 것을 특징으로 하는 형상 측정장치.
- 삭제
- 제 1항에 있어서,상기 제어부는 상기 복수의 셔터 중에서 어느 하나의 셔터를 개방하여 상기 방출된 빔을 상기 광학 장치부로 조사되게 하는 것을 특징으로 하는 형상 측정장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제어부는 상기 특정 주파수의 빔 각각에 대한 상기 촬상된 간섭무늬를 획득하는 것을 특징으로 하는 형상 측정장치.
- 제 9항에 있어서,상기 제어부는 상기 특정 주파수 및 상기 특정 주파수의 빔 각각에 대해 상기 획득된 간섭무늬를 기초로 상기 피검체의 형상 정보를 산출하는 것을 특징으로 하는 형상 측정장치.
- 복수의 레이저 장치를 이용하여 형상을 측정하는 방법에 있어서,상기 복수의 레이저 장치 중에서 어느 하나의 레이저 장치를 가동하는 제 1가동단계;상기 가동된 레이저 장치로부터 복수의 특정 주파수의 빔을 각각 방출시키고, 상기 방출된 특정 주파수의 빔 각각을 피검체에 투사시켜 상기 특정 주파수 각각에 대한 상기 피검체의 간섭무늬를 획득하는 간섭무늬 획득단계; 및상기 가동된 레이저 장치를 정지시키고 복수의 레이저 장치 중에서 다른 하나의 레이저 장치를 가동하는 제 2가동단계; 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정방법.
- 제 11항에 있어서,상기 제 1가동단계는,상기 복수의 레이저 장치 중에서 어느 하나의 레이저 장치에 전류를 인가하는 단계; 및상기 전류가 인가된 레이저 장치로부터 방출되는 빔을 차단하는 셔터를 개방하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정방법.
- 제 11항에 있어서,상기 간섭무늬 획득단계는,상기 가동된 레이저 장치를 통해 특정 주파수의 빔을 방출하는 빔방출단계; 및상기 방출된 빔을 피검체의 표면에 투사시켜 상기 피검체의 간섭무늬를 획득하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정방법.
- 제 13항에 있어서,상기 빔방출단계는,상기 가동된 레이저 장치가 생성한 빔의 파장을 검출하는 단계;상기 검출된 파장을 기초로 상기 레이저 장치로 인가되는 전류를 조절하는 단계;상기 빔의 공명 주파수를 검출하는 단계; 및상기 빔의 공명 주파수가 검출된 경우에는 상기 빔을 상기 특정 주파수의 빔으로 방출하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정방법;
- 제 11항에 있어서,상기 제 2가동단계는,상기 가동된 레이저 장치로부터 방출되는 빔을 차단하는 셔터를 폐쇄하는 단계;상기 가동된 레이저 장치로 인가되는 전류의 공급을 중단하는 단계;상기 복수의 레이저 장치 중에서 다른 하나의 레이저 장치에 전류를 인가하는 단계; 및상기 전류가 인가된 레이저 장치로부터 방출되는 빔을 차단하는 셔터를 개방하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정방법.
- 제 11항에 있어서,상기 형상 측정방법은,상기 특정 주파수 및 상기 특정 주파수의 빔으로부터 획득된 간섭무늬를 기초로 상기 피검체의 형상정보를 산출하는 단계:를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정방법.
- 제 11항에 있어서,상기 레이저 장치는상기 빔을 생성하는 반도체 레이저;상기 생성된 빔의 파장을 검출하기 위한 간섭신호를 생성하여 출력하는 간섭신호 생성부;상기 특정 주파수를 공진 주파수로 가지며, 상기 생성된 빔을 조사받고 상기 조사된 빔의 주파수와 상기 공진 주파수가 동일한 경우에는 상기 조사된 빔을 상기 반도체 레이저로 피드백하는 외부반사체; 및상기 외부 반사체가 상기 조사된 빔을 피드백한 경우에는 상기 생성된 빔을 외부로 방출하는 광전달부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정방법.
- 제 11항에 있어서,상기 레이저 장치는 2개인 것을 특징으로 하는 형상 측정방법.
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CN105371777B (zh) * | 2015-10-29 | 2018-03-09 | 北京交通大学 | 实时测量物体变形的方法和系统 |
EP3621293B1 (en) * | 2018-04-28 | 2022-02-09 | Guangdong Oppo Mobile Telecommunications Corp., Ltd. | Image processing method, apparatus and computer-readable storage medium |
US11846574B2 (en) | 2020-10-29 | 2023-12-19 | Hand Held Products, Inc. | Apparatuses, systems, and methods for sample capture and extraction |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5077748A (en) * | 1991-04-01 | 1991-12-31 | International Business Machines Corporation | Laser system and method |
JP2002071327A (ja) * | 2000-09-01 | 2002-03-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 表面形状測定方法及び表面形状測定器 |
WO2004038873A2 (en) | 2002-10-22 | 2004-05-06 | Inplane Photonics, Inc. | Kink free operation of pump lasers having diffraction grating for providing wavelength stabilization |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63311104A (ja) * | 1987-06-15 | 1988-12-19 | Olympus Optical Co Ltd | 半導体レ−ザ−干渉計 |
US4907237A (en) * | 1988-10-18 | 1990-03-06 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce | Optical feedback locking of semiconductor lasers |
JP2808136B2 (ja) * | 1989-06-07 | 1998-10-08 | キヤノン株式会社 | 測長方法及び装置 |
JP2838171B2 (ja) * | 1991-03-27 | 1998-12-16 | 株式会社ミツトヨ | 位相シフトマイクロフィゾー干渉計 |
JPH05206561A (ja) * | 1992-01-27 | 1993-08-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光帰還型光周波数オフセットロック装置 |
JP3441508B2 (ja) * | 1994-05-12 | 2003-09-02 | ペンタックス株式会社 | 半導体レーザ位相シフト干渉計における位相検出方法 |
JPH10215027A (ja) * | 1997-01-29 | 1998-08-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 光周波数可変動作方法及び装置 |
JPH11218411A (ja) * | 1998-02-02 | 1999-08-10 | Fuji Xerox Co Ltd | 干渉計測方法および干渉計測装置 |
JP3410051B2 (ja) * | 1999-08-20 | 2003-05-26 | 理化学研究所 | 形状測定方法及び装置 |
JP2002214049A (ja) * | 2001-01-17 | 2002-07-31 | Ando Electric Co Ltd | 波長モニタ |
US6717679B2 (en) * | 2001-11-15 | 2004-04-06 | Zygo Corporation | Dispersive null-optics for aspheric surface and wavefront metrology |
JP4469951B2 (ja) * | 2005-03-23 | 2010-06-02 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 干渉縞による形状・段差測定方法 |
-
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5077748A (en) * | 1991-04-01 | 1991-12-31 | International Business Machines Corporation | Laser system and method |
JP2002071327A (ja) * | 2000-09-01 | 2002-03-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 表面形状測定方法及び表面形状測定器 |
WO2004038873A2 (en) | 2002-10-22 | 2004-05-06 | Inplane Photonics, Inc. | Kink free operation of pump lasers having diffraction grating for providing wavelength stabilization |
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